KR20070063853A - A fluorene-based compound, an organic light emitting device comprising an organic layer comprising the same and a method for preparing the organic light emitting device - Google Patents

A fluorene-based compound, an organic light emitting device comprising an organic layer comprising the same and a method for preparing the organic light emitting device Download PDF

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Abstract

Provided is a fluorene-based compound, which has improved film formability, and thus allows formation of an organic layer useful for an organic light emitting device, having a uniform thickness and causing no crystallization via a heat transfer process. The fluorene-based compound is represented by the following chemical formula 1. In chemical formula 1, each of R1-R6 independently represents H, a substituted or non-substituted C1-C20 alkyl, a substituted or non-substituted C6-C30 aryl; each of R7 and R8 independently represents H, a halogen atom, CN, OH, NH2, a substituted or non-substituted C1-C20 alkyl, a substituted or non-substituted C1-C20 alkoxy, a substituted or non-substituted C6-C30 aryl, a substituted or non-substituted C2-C30 heteroaryl, a substituted or non-substituted C5-C20 cycloalkyl, or a substituted or non-substituted C5-C30 heterocycloalkyl; each of A and B independently represents H, a substituted or non-substituted linear, branched or cyclic C1-C20 alkyl, or a substituted or non-substituted C6-C30 aryl; each of n1 and n2 independently represents 0 or an integer of 1-3; and n is an integer of 1-5, wherein when n is 2, R7s and R8s in each fluorene group are the same or different from each other, and As and Bs in each fluorene group are the same or different.

Description

플루오렌계 화합물, 이를 포함한 유기막을 구비한 유기 발광 소자 및 상기 유기 발광 소자의 제조 방법{A fluorene-based compound, an organic light emitting device comprising an organic layer comprising the same and a method for preparing the organic light emitting device}Fluorene-based compound, an organic light emitting device comprising an organic layer comprising the same and a method for preparing the organic light emitting device}

도 1a 내지 1c는 본 발명을 따르는 유기 발광 소자의 구조를 간략하게 나타낸 단면도이고,1A to 1C are cross-sectional views briefly illustrating a structure of an organic light emitting diode according to the present invention.

도 2는 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물의 구현예의 TGA 그래프이고,2 is a TGA graph of an embodiment of a fluorene-based compound according to the present invention,

도 3은 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물의 구현예의 UV 흡수 스펙트럼 및 PL 스펙트럼을 나타낸 그래프이다. Figure 3 is a graph showing the UV absorption spectrum and PL spectrum of the embodiment of the fluorene-based compound according to the present invention.

본 발명은 플루오렌계 화합물(fluorene-based compound), 상기 화합물을 포함한 유기막을 구비한 유기 발광 소자 및 상기 유기 발광 소자의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플루오렌 모이어티에 막 형성 능력을 향상시킬 수 있는 측쇄가지를 갖는 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함한 유기막을 구비한 유기 발광 소자 및 상기 유기 발광 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물을 이용하면, 습식 공정 또는 습식 공정을 포함하는 열 전사 방법을 이용하여, 균일한 막두께를 가지며 결정화가 일어나지 않는 유기막을 얻을 수 있다.The present invention relates to a fluorene-based compound, an organic light emitting device having an organic film including the compound, and a method of manufacturing the organic light emitting device, and more particularly, to improve a film forming ability of a fluorene moiety. The present invention relates to a fluorene compound having a side chain branch, an organic light emitting device having an organic film containing the fluorene compound, and a method of manufacturing the organic light emitting device. By using the fluorene-based compound according to the present invention, an organic film having a uniform film thickness and no crystallization can be obtained using a heat transfer method including a wet process or a wet process.

발광 소자(light emitting device)는 자발광형 소자로 시야각이 넓으며 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답시간이 빠르다는 장점을 가지고 있다. 상기 발광 소자에는 발광층(emitting layer)에 무기 화합물을 사용하는 무기 발광 소자와 유기 화합물을 사용하는 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Deveice : OLED)가 있는데, 유기 발광 소자는 무기 발광 소자에 비하여 휘도, 구동전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 점에서 많은 연구가 이루어지고 있다. 예를 들어, 미국 특허 제3,873,311호에는 유기 발광 소자에 이용될 수 있는 화합물로서, 톨루엔에 용해가능한 1,4-비스[2-[4-N,N-디(p-톨일)아미노]페닐 비닐]벤젠 (BTAPVB)이 개시되어 있다.A light emitting device is a self-luminous device, and has a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response time. The light emitting device includes an inorganic light emitting device using an inorganic compound and an organic light emitting device using an organic compound (OLED) in the light emitting layer, and the organic light emitting device has higher luminance and driving than the inorganic light emitting device. Much research has been conducted in that the voltage and response speed characteristics are excellent and multicoloring is possible. For example, US Pat. No. 3,873,311 discloses 1,4-bis [2- [4-N, N-di (p-tolyl) amino] phenyl vinyl that is soluble in toluene as a compound that can be used in organic light emitting devices. ] Benzene (BTAPVB) is disclosed.

유기 발광 소자는 발광층을 이루는 물질의 분자량에 따라 저분자 OLED(Small Molecular OLED : SMOLED)와 고분자 OLED(Polymer LED : PLED)로 구분할 수 있다.Organic light emitting devices may be classified into small molecule OLEDs (SMOLED) and polymer OLEDs (PLED) according to the molecular weight of the light emitting layer.

저분자 OLED의 적어도 발광층을 포함하는 유기막은 정공 및 전자가 효율적으로 이동할 수 있도록, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층 및/또는 전자 주입층 등을 더 포함하는 다층 구조를 갖는 경우가 많다. 상기 층들은 진공 열증착법 또는 기상 증착법 등을 이용하여 형성되는 경우가 대부분인데, 이 때, 상기 층들을 이루는 물질들의 사용 효율이 비교적 낮아 제조 단가 상승의 원인이 되고 있다. 또한, 대화면 적용을 위한 증착 장비 개발이 아직 만족스러운 정도는 아닌 상태이 다.The organic film including at least the light emitting layer of the low molecular OLED often has a multilayer structure further including a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and / or an electron injection layer so that holes and electrons can be efficiently moved. In most cases, the layers may be formed using a vacuum thermal evaporation method or a vapor deposition method. At this time, the use efficiency of the materials forming the layers is relatively low, which causes manufacturing cost. In addition, the development of deposition equipment for large screen applications is not yet satisfactory.

이에 반하여, 고분자 OLED는 저분자 OLED에 비하여 제1전극 및 제2전극 사이에 개재된 유기막의 기계적 강도 및 열적 안정성 등이 높으며, 구동 전압이 낮고, 발광 고분자의 다양한 분자 구조에 따른 다양한 발광 색상을 가질 수 있다는 장점을 갖는다. 이러한 고분자 OLED의 유기막은, 발광 고분자를 적절한 유기 용매에 용해시킨 용액을 스핀 캐스팅(spin casting), 잉크젯 프린팅(ink jet printing), 스프레이 프린팅 (spray printing) 등과 같은 습식 공정을 이용하여 형성될 수 있다. 상기 습식 공정은 대화면 적용에 유리하며 제조 단가가 낮아, 습식 공정을 이용한 유기막 형성 방법에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.On the contrary, the polymer OLED has higher mechanical strength and thermal stability of the organic layer interposed between the first electrode and the second electrode than the low molecular OLED, and has a low driving voltage and various light emission colors according to various molecular structures of the light emitting polymer. Has the advantage that it can. The organic film of the polymer OLED may be formed by using a wet process such as spin casting, ink jet printing, spray printing, or the like, in which a solution of the light emitting polymer is dissolved in a suitable organic solvent. . The wet process is advantageous for the application of a large screen and the manufacturing cost is low, and research on the method of forming an organic layer using the wet process has been actively conducted.

그러나, 습식 공정을 이용하여 유기막을 형성할 경우, 유기막의 막두께가 균일하지 않거나, 유기막 중 일부 이상에 결정화가 일어날 수 있는 등 막 특성이 불량할 수 있다. 따라서, 습식 공정을 이용하여 막을 형성하기에 적합한 신규 물질의 개발이 요구된다.However, when the organic film is formed by using a wet process, the film characteristics may be poor, such as an uneven film thickness of the organic film or crystallization of some or more of the organic films. Thus, there is a need for the development of new materials suitable for forming films using wet processes.

상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 습식 공정 및 습식 공정을 포함한 열 전사 방법에 적합하도록 막 형성 능력이 향상된 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함한 유기막을 포함한 유기 발광 소자 및 상기 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art, the present invention provides a fluorene-based compound having an improved film-forming ability to be suitable for the heat transfer method including a wet process and a wet process, an organic light emitting device including an organic film containing the fluorene-based compound and It is an object to provide a method for producing the organic light emitting device.

상기 본 발명의 과제를 이루기 위하여, 본 발명의 제1태양은, 하기 화학식 1 로 표시되는 플루오렌계 화합물을 제공한다In order to achieve the above object of the present invention, a first aspect of the present invention provides a fluorene compound represented by the following formula (1)

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112005073501599-PAT00002
Figure 112005073501599-PAT00002

상기 화학식 1 중, In Formula 1,

R1 내지 R6는 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기이고;R 1 to R 6 are each independently of the other hydrogen; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group;

R7 및 R8 서로 독립적으로, 수소; 할로겐 원자; 시아노기; 히드록실기; 아미노기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 C1-C20알킬기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알콕시기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C2-C30헤테로아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C20 사이클로알킬기; 또 는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C30헤테로사이클로알킬기이고; R 7 and R 8 Independently of each other, hydrogen; Halogen atom; Cyano group; Hydroxyl group; Amino group; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group, amino group or C 6 -C 30 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 6 -C 30 aryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 2 -C 30 heteroaryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 5 -C 20 cycloalkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 5 -C 30 heterocycloalkyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group;

A 및 B는 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 선형, 분지형 또는 환형 C1-C20 알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기이고; A and B are, independently from each other, hydrogen; Linear, branched or cyclic C 1 -C 20 alkyl groups which are unsubstituted or substituted with halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, amino groups or C 6 -C 30 aryl groups; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group;

n1 및 n2는 서로 독립적으로, 0 또는 1~3의 정수이고; n1 and n2, independently of each other, are 0 or an integer of 1 to 3;

n은 1 내지 5의 정수이며;n is an integer from 1 to 5;

n이 2 이상인 경우, 각각의 플루오렌에 치환된 R7 및 R8들은 서로 동일하거나 상이할 수 있고, 각각의 플루오렌에 치환된 A 및 B들은 서로 동일하거나 상이할 수 있다.When n is 2 or more, R 7 and R 8 substituted in each fluorene may be the same or different from each other, and A and B substituted in each fluorene may be the same or different from each other.

상기 본 발명의 다른 과제를 이루기 위하여, 본 발명의 제2태양은, 상기 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.In order to achieve the another object of the present invention, the second aspect of the present invention provides an organic light emitting device comprising an organic film containing a fluorene-based compound represented by the formula (1).

상기 본 발명의 또 다른 과제를 이루기 위하여, 본 발명의 제3태양은, 기판 상부에 제1전극을 형성하는 단계와, 상기 제1전극 상부에 상기 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 형성하는 단계와 상기 유기막 상부에 제2전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, a third aspect of the present invention comprises the step of forming a first electrode on the substrate, and the fluorene-based compound represented by the formula (1) on the first electrode It provides a method of manufacturing an organic light-emitting device comprising forming an organic film and forming a second electrode on the organic film.

상기 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물은, 습식 공정 및/또는 습식 공정을 포함한 열 전사 방법을 이용하여 막을 형성할 경우, 우수한 막 형성 능력을 가질 수 있다.The fluorene-based compound represented by Chemical Formula 1 may have excellent film forming ability when forming a film using a heat transfer method including a wet process and / or a wet process.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물은, 상기 화학식 1로 표시된다. 상기 화학식 1 중, 말단 플루오렌에 치환된 실릴기는 상기 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물의 막 형성 능력, 특히 습식 공정 및/또는 습식 공정을 포함한 열 전사 방법을 이용한 경우의 막 형성 능력을 향상시키는 역할을 한다. 상기 실릴기에 의하여 막 형성시 막 두께를 균일하게 유지할 수 있고, 결정화가 방지되기 때문이다. 또한, A나 B의 치환기 조절로 입체효과(Steric hindrance)와 함께 분자의 패킹(Packing)을 조절하여 색순도를 조절할 수 있다.The fluorene-based compound according to the present invention is represented by the formula (1). In the formula (1), the silyl group substituted with terminal fluorene improves the film-forming ability of the fluorene-based compound represented by the formula (1), particularly in the case of using a thermal transfer method including a wet process and / or a wet process. It plays a role. This is because the film thickness can be kept uniform during film formation by the silyl group, and crystallization is prevented. In addition, by controlling the substituents of A or B, the color purity can be controlled by controlling the packing of the molecule together with the steric hindrance.

상기 R1 내지 R6 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기일 수 있다.R 1 to R 6 are Independently of each other, hydrogen; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group.

상기 R7 및 R8 서로 독립적으로, 수소; 할로겐 원자; 시아노기; 히드록실기; 아미노기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 C1-C20알킬기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록 실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알콕시기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C2-C30헤테로아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C20사이클로알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C30헤테로사이클로알킬기이고, 상기 C2-C30헤테로아릴기에 포함된 헤테로 원자는 N, O, S 및 P 중 하나 이상일 수 있다.R 7 and R 8 are Independently of each other, hydrogen; Halogen atom; Cyano group; Hydroxyl group; Amino group; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group, amino group or C 6 -C 30 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 6 -C 30 aryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 2 -C 30 heteroaryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 5 -C 20 cycloalkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 5 -C 30 heterocycloalkyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group, and the hetero atoms included in the C 2 -C 30 heteroaryl group are N, O, S and P It may be one or more of.

상기 A 또는 B는 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 선형, 분지형 또는 환형 C1-C20알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기일 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 A 및 B를 서로 독립적으로, 수소; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 선형, 분지형 또는 환형 C1-C20알킬기일 수 있다.A or B is independently of each other, hydrogen; Linear, branched or cyclic C 1 -C 20 alkyl groups which are unsubstituted or substituted with halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, amino groups or C 6 -C 30 aryl groups; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group. More preferably, A and B are independently of each other, hydrogen; Or a linear, branched or cyclic C 1 -C 20 alkyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group, amino group or C 6 -C 30 aryl group.

화학식 1 중, n1 및 n2는 치환기 R7 및 R8의 개수를 나타낸 것으로서, 서로 독립적으로, 0 또는 1~3의 정수이다.In Formula 1, n1 and n2 are The number of substituents R 7 and R 8 is shown, and each independently represents an integer of 0 or 1-3.

상기 n1 및 n2가 2 이상인 경우, 복수의 R7은 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 이는 R8에 대해서도 동일하게 적용됨은 물론이다.When n1 and n2 are two or more, a plurality of R 7 may be the same as or different from each other, and of course, the same applies to R 8 .

한편, n 은 플루오렌 반복 단위의 개수로서 1 내지 5의 정수이다. 이 때, n이 2 이상인 경우 각각의 플루오렌 반복 단위에 치환된 R7 및 R8들은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. 또한, n이 2 이상인 경우, 각각의 플루오렌 반복 단위에 치환된 A 및 B도 서로 동일하거나 상이할 수 있다. On the other hand, n is an integer of 1 to 5 as the number of fluorene repeat units. In this case, when n is 2 or more, R 7 and R 8 substituted in each fluorene repeat unit may be the same or different from each other. In addition, when n is 2 or more, A and B substituted in each fluorene repeat unit may also be the same or different from each other.

본 발명을 따르는 일 구현예에서, 상기 플루오렌계 화합물은 하기 화학식 2, 3 또는 4를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In one embodiment according to the present invention, the fluorene-based compound may have the following Formula 2, 3 or 4, but is not limited thereto.

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112005073501599-PAT00003
Figure 112005073501599-PAT00003

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112005073501599-PAT00004
Figure 112005073501599-PAT00004

<화학식 4><Formula 4>

Figure 112005073501599-PAT00005
Figure 112005073501599-PAT00005

<화학식 5><Formula 5>

Figure 112005073501599-PAT00006
Figure 112005073501599-PAT00006

상기 플루오렌계 화합물은 통상의 유기 화합물 제조 방법을 이용하여 합성할 수 있다.The fluorene-based compound can be synthesized using a conventional organic compound production method.

전술한 바와 같은 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물은 유기 발광 소자에 적용될 수 있다. 본 발명을 따르는 유기 발광 소자는 제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 적어도 한 층의 유기막을 포함하되, 상기 유기막은 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 유기막은 발광층 또는 정공수송층일 수 있다.The fluorene-based compound according to the present invention as described above can be applied to the organic light emitting device. An organic light emitting device according to the present invention comprises a first electrode; Second electrode; And at least one layer of an organic film between the first electrode and the second electrode, wherein the organic film may include a fluorene-based compound represented by Formula 1 as described above. More specifically, the organic layer may be a light emitting layer or a hole transport layer.

본 발명을 따르는 유기 발광 소자의 유기막은 정공주입층, 정공수송층, 전자저지층, 정공저지층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 층을 더 포함할 수 있다. The organic film of the organic light emitting device according to the present invention may further include at least one layer selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a hole blocking layer, an electron transport layer and an electron injection layer.

보다 구체적으로, 본 발명을 따르는 유기 발광 소자의 구현예는 도 1a, 1b 및 1c를 참조한다. 도 1a의 유기 발광 소자는 제1전극/정공주입층/발광층/전자수송층/전자주입층/제2전극으로 이루어진 구조를 갖고, 도 1b의 유기 발광 소자는 제1전극/정공주입층/정공수송층/발광층/전자수송층/전자주입층/제2전극으로 이루어진 구조를 갖는다. 또한, 도 1c의 유기 발광 소자는 제1전극/정공주입층/정공수송층/발광층/정공저지층/전자수송층/전자주입층/제2전극의 구조를 갖는다. 이 때, 상기 발광층은 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물을 포함할 수 있다.More specifically, an embodiment of the organic light emitting device according to the present invention refers to Figures 1a, 1b and 1c. The organic light emitting device of FIG. 1A has a structure consisting of a first electrode / hole injection layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / second electrode, and the organic light emitting device of FIG. 1B includes a first electrode / hole injection layer / hole transport layer. / Light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / second electrode. In addition, the organic light emitting device of FIG. 1C has a structure of a first electrode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer / second electrode. At this time, the light emitting layer may include a fluorene-based compound according to the present invention.

이하, 본 발명을 따르는 유기 발광 소자의 제조 방법을 도 1c에 도시된 유기 발광 소자를 참조하여, 살펴보기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing an organic light emitting diode according to the present invention will be described with reference to the organic light emitting diode illustrated in FIG. 1C.

먼저 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 제1전극용 물질을 증착법 또는 스퍼터링법 등에 의해 형성하여 제1전극을 형성한다. 상기 제1전극은 애노드 또는 캐소드일 수 있으며, 바람직하게는 애노드일 수 있다. 여기에서 기판으로는 통상적인 유기 발광 소자에서 사용되는 기판을 사용하는데 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. 제1전극용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등을 사용한다.First, a first electrode material having a high work function on the substrate is formed by a deposition method or a sputtering method to form a first electrode. The first electrode may be an anode or a cathode, and preferably may be an anode. Herein, a substrate used in a conventional organic light emitting device is used, and a glass substrate or a transparent plastic substrate having excellent mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofness is preferable. Indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), and the like, which are transparent and have excellent conductivity, are used as the material for the first electrode.

다음으로, 상기 제1전극 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 공지된 다양한 방법을 이용하여 정공주입층(HIL)을 형성할 수 있다.Next, the hole injection layer HIL may be formed on the first electrode by using various known methods such as vacuum deposition, spin coating, casting, and LB.

진공증착법에 의하여 정공주입층을 형성하는 경우, 그 증착 조건은 정공주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적으로 하는 정공주입층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착온도 100 내지 500℃, 진공도 10-8 내지 10-3torr, 증착속도 0.01 내지 100Å/sec, 막 두께는 통상 10Å 내지 5㎛ 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.In the case of forming the hole injection layer by vacuum deposition, the deposition conditions vary depending on the compound used as the material of the hole injection layer, the structure and thermal properties of the hole injection layer, and the like. It is preferable that a vacuum degree of 10 -8 to 10 -3 torr, a deposition rate of 0.01 to 100 mW / sec, and a film thickness are usually appropriately selected in the range of 10 mV to 5 m.

스핀코팅법에 의하여 정공주입층을 형성하는 경우, 그 코팅 조건은 정공주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 하는 정공주입층의 구조 및 열적 특성에 따라 상이하지만, 약 2000rpm 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도는 약 80℃ 내지 200℃의 온도 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.In the case of forming the hole injection layer by spin coating, the coating conditions vary depending on the compound used as the material of the hole injection layer, the structure and the thermal properties of the desired hole injection layer, but the coating speed is about 2000 rpm to 5000 rpm. , The heat treatment temperature for removing the solvent after coating is preferably selected in the temperature range of about 80 ℃ to 200 ℃.

상기 정공주입층 물질로는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 미국특허 제4,356,429호에 개시된 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 Advanced Material, 6, p.677(1994)에 기재되어 있는 스타버스트형 아민 유도체류인 TCTA, m-MTDATA, m-MTDAPB, 용해성이 있는 전도성 고분자인 Pani/DBSA (Polyaniline/Dodecylbenzenesulfonic acid:폴리아닐린/도데실벤젠술폰산) 또는 PEDOT/PSS (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/Poly(4-styrenesulfonate):폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌술포네이트)), Pani/CSA (Polyaniline/Camphor sulfonic acid:폴리아닐린/캠퍼술폰산) 또는 PANI/PSS (Polyaniline)/Poly(4-styrenesulfonate):폴리아닐린)/폴리(4-스티렌술포네이트)) 등을 사용할 수 있다.The hole injection layer material is not particularly limited, and for example, a phthalocyanine compound such as copper phthalocyanine disclosed in U.S. Patent No. 4,356,429 or a starburst amine derivative described in Advanced Material, 6, p.677 (1994). Residual TCTA, m-MTDATA, m-MTDAPB, Pani / DBSA (Polyaniline / Dodecylbenzenesulfonic acid: polyaniline / dodecylbenzenesulfonic acid) or PEDOT / PSS (Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / Poly () 4-styrenesulfonate): poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (4-styrenesulfonate)), Pani / CSA (Polyaniline / Camphor sulfonic acid: polyaniline / camphorsulfonic acid) or PANI / PSS (Polyaniline) / Poly (4-styrenesulfonate): polyaniline) / poly (4-styrenesulfonate)) and the like can be used.

Figure 112005073501599-PAT00007
Figure 112005073501599-PAT00007

PEDOT/PSS          PEDOT / PSS

상기 정공주입층의 두께는 약 100Å 내지 10000Å, 바람직하게는 100Å 내지 1000Å일 수 있다. 상기 정공주입층의 두께가 100Å 미만인 경우, 정공주입 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공주입층의 두께가 10000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole injection layer may have a thickness of about 100 kPa to 10000 kPa, preferably 100 kPa to 1000 kPa. This is because when the thickness of the hole injection layer is less than 100 kV, the hole injection characteristic may be lowered, and when the thickness of the hole injection layer exceeds 10000 kV, the driving voltage may increase.

다음으로 상기 정공주입층 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 다양한 방법을 이용하여 정공수송층(HTL)을 형성할 수 있다. 진공증착법 및 스핀팅법에 의하여 정공수송층을 형성하는 경우, 그 증착조건 및 코팅조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.Next, a hole transport layer (HTL) may be formed on the hole injection layer by using various methods such as vacuum deposition, spin coating, cast, and LB. When the hole transport layer is formed by the vacuum deposition method or the spinning method, the deposition conditions and the coating conditions vary depending on the compound used, but are generally selected from a range of conditions almost the same as that of the formation of the hole injection layer.

상기 정공수송층 물질은 특별히 제한되지는 않으며, 정공수송층에 사용되고 있는 공지의 것에서 임의의 것을 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들면, N-페닐카 르바졸, 폴리비닐카르바졸 등의 카르바졸 유도체, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD), N,N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐 벤지딘(α-NPD) 등의 방향족 축합환을 가지는 통상적인 아민 유도체 등이 사용된다.The hole transport layer material is not particularly limited and may be selected from any of known ones used in the hole transport layer. For example, carbazole derivatives such as N-phenylcarbazole and polyvinylcarbazole, N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- [1,1-biphenyl]- Conventional amine derivatives having aromatic condensed rings such as 4,4'-diamine (TPD), N, N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl benzidine (α-NPD), and the like Used.

상기 정공수송층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 정공수송층의 두께가 50Å 미만인 경우, 정공수송 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공수송층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole transport layer may have a thickness of about 50 kPa to 1000 kPa, preferably 100 kPa to 600 kPa. This is because when the thickness of the hole transport layer is less than 50 kV, hole transport characteristics may be degraded, and when the thickness of the hole transport layer exceeds 1000 kW, the driving voltage may increase.

다음으로 상기 정공수송층 상부에 다음으로, 상기 제1전극 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 공지된 다양한 방법을 이용하여 발광층(EML)을 형성할 수 있다. 진공증착법 및 스핀코팅법에 의해 발광층을 형성하는 경우, 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.Next, the light emitting layer EML may be formed on the hole transport layer by using various known methods such as vacuum deposition, spin coating, casting, and LB on the first electrode. When the light emitting layer is formed by the vacuum deposition method or the spin coating method, the deposition conditions vary depending on the compound used, but are generally selected from the ranges of conditions substantially the same as those of forming the hole injection layer.

상기 발광층은 전술한 바와 같이 본 발명을 따르는 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물을 포함할 수 있다. 이 때, 상기 플루오렌계 화합물은 단독으로 사용되거나, 적합한 공지의 호스트 재료와 함께 사용될 수 있다. 호스트 재료의 경우, 예를 들면, Alq3 또는 CBP(4,4'-N,N'-디카바졸-비페닐), PVK(폴리(n-비닐카바졸)), TFB(2,5,2',5'-테트라(9,9'-디헥실플루오레닐)비페닐) : 2,5,2',5'-tetra(9,9'-dihexylfluorenyl)biphenyl), 3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센(3-tert-butyl-9,10-di(naphth-2-yl)anthracene) 등을 이용할 수 있다.As described above, the emission layer may include a fluorene-based compound represented by Formula 1 according to the present invention. At this time, the fluorene-based compound may be used alone or in combination with a suitable known host material. For host materials, for example, Alq 3 or CBP (4,4'-N, N'-dicarbazole-biphenyl), PVK (poly (n-vinylcarbazole)), TFB (2,5,2 ', 5'-tetra (9,9'-dihexylfluorenyl) biphenyl): 2,5,2', 5'-tetra (9,9'-dihexylfluorenyl) biphenyl), 3-tert-butyl- 9,10-di (naphth-2-yl) anthracene (3-tert-butyl-9,10-di (naphth-2-yl) anthracene) and the like can be used.

Figure 112005073501599-PAT00008
Figure 112005073501599-PAT00008

3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센 3-tert-butyl-9,10-di (naphth-2-yl) anthracene

상기 플루오렌계 화합물을 포함한 유기막 형성 단계는 특히, 습식 공정을 이용하여 수행될 수 있다.The organic film forming step including the fluorene-based compound may be particularly performed using a wet process.

본 명세서에 있어서, "습식 공정"이란 소정의 화합물을 포함하는 막을 소정의 기판 상부에 형성함에 있어서, 상기 화합물이 포함된 용액을 각종 공지의 방법을 이용하여 상기 기판 상부에 코팅 또는 프린팅함으로써 유기막을 형성하는 공정을 가리킨다. 즉, "습식 공정"을 이용하여 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 소정의 기판 상부에 형성할 경우, 상기 플루오렌계 화합물이 포함된 용액을 각종 공지의 방법을 이용하여 상기 기판 상부에 코팅 또는 프린팅함으로써 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 형성할 수 있다. 이러한 습식 공정에는, 전술한 바와 같은 습식 공정의 개념을 만족시키는 공지된 모든 방법이 포함된다. 예를 들면, 스핀코팅법, 캐스트법, 잉크젯 프린팅법, 컨택 프린팅법(contact printing) 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the term "wet process" refers to the formation of a film containing a predetermined compound on a predetermined substrate, wherein the organic film is coated or printed on the substrate by using various known methods. It points to the process of forming. That is, when the organic film containing the fluorene-based compound is formed on a predetermined substrate by using a "wet process", the solution containing the fluorene-based compound is coated on the substrate by various known methods. Alternatively, the organic film including the fluorene-based compound may be formed by printing. Such wet processes include all known methods that satisfy the concept of wet processes as described above. For example, spin coating, casting, inkjet printing, contact printing, etc. may be included, but are not limited thereto.

한편, 발광층 형성 재료로서 본 발명을 따르는 플루오렌계 화합물 외에도 공지된 다양한 도펀트를 사용할 수 있다. 예를 들면, 형광 도펀트로서는 이데미츠 (Idemitsu)사에서 구입 가능한 IDE102, IDE105 및 하야시바라사에서 구입 가능한 C545T 등을 사용할 수 있으며, 인광 도펀트로서는 적색 인광 도펀트 PtOEP, UDC사의 RD 61, 녹색 인광 도판트 Ir(PPy)3(PPy=2-phenylpyridine), 청색 인광 도펀트인 F2Irpic 등을 사용할 수 있다.On the other hand, in addition to the fluorene-based compound according to the present invention as a light emitting layer forming material it can be used a variety of known dopants. For example, as the fluorescent dopant, IDE102, IDE105, and C545T, available from Hayashibara, may be used. PPy) 3 (PPy = 2-phenylpyridine), F2Irpic, a blue phosphorescent dopant, and the like can be used.

도핑 농도는 특별히 제한 되지 않으나 통상적으로 호스트 100 중량부를 기준으로 하여 상기 도펀트의 함량은 0.01 ~ 15 중량부이다.Doping concentration is not particularly limited, but the content of the dopant is generally 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the host.

상기 발광층의 두께는 약 10Å 내지 1000Å, 바람직하게는 10Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 10Å 미만인 경우, 발광 특성이 저하될 수 있으며, 상기 발광층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The thickness of the light emitting layer may be about 10 kPa to 1000 kPa, preferably 10 kPa to 600 kPa. This is because, when the thickness of the light emitting layer is less than 10 kW, the light emission characteristics may be degraded.

발광층에 인광 도펀트와 함께 사용할 경우에는 삼중항 여기자 또는 정공이 전자수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여, 상기 정공수송층 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법을 이용하여 정공저지층(HBL)을 형성할 수 있다. 진공증착법 및 스핀코팅법에 의해 정공저지층을 형성하는 경우, 그 조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다. 사용가능한 공지의 정공저지재료, 예를 들면 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 또는 JP 11-329734(A1)에 기재되어 있는 정공저지재료, BCP 등을 들 수 있다.When used with a phosphorescent dopant in the light emitting layer, in order to prevent the triplet excitons or holes from diffusing into the electron transport layer, holes such as vacuum deposition, spin coating, cast, LB, etc. are formed on the hole transport layer. The blocking layer HBL may be formed. In the case of forming the hole blocking layer by vacuum deposition or spin coating, the conditions vary depending on the compound used, but are generally selected from the ranges of conditions almost the same as that of forming the hole injection layer. Known hole blocking materials that can be used include, for example, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, phenanthroline derivatives, hole blocking materials described in JP 11-329734 (A1), BCP and the like.

상기 정공저지층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 300Å일 수 있다. 상기 정공저지층의 두께가 50Å 미만인 경우, 정공저지 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공저지층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole blocking layer may have a thickness of about 50 kPa to 1000 kPa, preferably 100 kPa to 300 kPa. This is because when the thickness of the hole blocking layer is less than 50 kV, the hole blocking property may be deteriorated. When the thickness of the hole blocking layer is more than 1000 kV, the driving voltage may increase.

다음으로 전자수송층(ETL)을 진공증착법, 또는 스핀코팅법, 캐스트법 등의 다양한 방법을 이용하여 형성한다. 진공증착법 및 스핀코팅법에 의해 전자수송층을 형성하는 경우, 그 조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다. 상기 전자수송층 재료는 전자주입전극(Cathode)로부터 주입된 전자를 안정하게 수송하는 기능을 하는 것으로서 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리노레이트)알루미늄(Alq3), TAZ, BAlq 등과 같은 공지의 재료를 사용할 수도 있다.Next, the electron transport layer (ETL) is formed using various methods such as vacuum deposition, spin coating, and casting. When the electron transport layer is formed by the vacuum deposition method or the spin coating method, the conditions vary depending on the compound used, but are generally selected from the ranges of conditions almost the same as that of the formation of the hole injection layer. The electron transport layer material functions to stably transport electrons injected from an electron injection electrode (Cathode), and known materials such as quinoline derivatives, especially tris (8-quinolinorate) aluminum (Alq 3 ), TAZ, and BAlq. You can also use

Figure 112005073501599-PAT00009
Figure 112005073501599-PAT00009

상기 전자수송층의 두께는 약 10Å 내지 1000Å, 바람직하게는 10Å 내지 500Å일 수 있다. 상기 전자수송층의 두께가 10Å 미만인 경우, 전자수송 특성이 저하될 수 있으며, 상기 전자수송층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The electron transport layer may have a thickness of about 10 kPa to 1000 kPa, preferably 10 kPa to 500 kPa. This is because, when the thickness of the electron transport layer is less than 10 kW, the electron transport characteristic may be degraded, and when the thickness of the electron transport layer exceeds 1000 kW, the driving voltage may increase.

또한 전자수송층 상부에 음극으로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자주입층(EIL)이 적층될 수 있으며 이는 특별히 재료를 제한하지 않는다.In addition, an electron injection layer (EIL), which is a material having a function of facilitating injection of electrons from the cathode, may be stacked on the electron transport layer, which does not particularly limit the material.

전자 주입층으로서는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등과 같은 전자주입층 형성 재료로서 공지된 임의의 물질을 이용할 수 있다. 상기 전자주입층의 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.As the electron injection layer, any material known as an electron injection layer forming material such as LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, or the like can be used. The deposition conditions of the electron injection layer vary depending on the compound used, but are generally selected from the range of conditions almost the same as the formation of the hole injection layer.

상기 전자주입층의 두께는 약 1Å 내지 100Å, 바람직하게는 1Å 내지 50Å일 수 있다. 상기 전자주입층의 두께가 1Å 미만인 경우, 전자주입 특성이 저하될 수 있으며, 상기 전자주입층의 두께가 100Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The electron injection layer may have a thickness of about 1 kPa to 100 kPa, preferably 1 kPa to 50 kPa. This is because, when the thickness of the electron injection layer is less than 1 kW, the electron injection characteristic may be deteriorated, and when the thickness of the electron injection layer exceeds 100 kW, the driving voltage may increase.

마지막으로 전자주입층 상부에 진공증착법이나 스퍼터링법 등의 방법을 이용하여 제2전극을 형성할 수 있다. 상기 제2전극은 캐소드 또는 애노드일 수 있으며, 바람직하게는 캐소드일 수 있다. 상기 제2전극 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag)등을 들 수 있다. 또한 전면 발광소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투과형 캐소드를 사용할 수도 있다.Finally, the second electrode may be formed on the electron injection layer by using a vacuum deposition method or a sputtering method. The second electrode may be a cathode or an anode, and preferably may be a cathode. As the metal for forming the second electrode, a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a low work function, and a mixture thereof may be used. Specific examples include lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), and the like. Can be mentioned. In addition, a transmissive cathode using ITO and IZO may be used to obtain the front light emitting device.

본 발명의 유기 발광 소자는 도 1c에 도시된 제1전극, 정공주입층(HIL), 정 공수송층(HTL), 발광층(EML), 정공저지층(HBL), 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL), 제2전극 구조의 유기 발광 소자뿐만 아니라, 다양한 구조를 갖는 유기 발광 소자(예를 들면, 이하 실시예에서 보다 상세히 설명할 도 1a에 도시된 유기 발광 소자)를 포함함은 물론이다.The organic light emitting device of the present invention includes a first electrode, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), a light emitting layer (EML), a hole blocking layer (HBL), an electron transport layer (ETL), an electron injection shown in FIG. In addition to the layer EIL, the organic light emitting device having the second electrode structure, as well as an organic light emitting device having various structures (for example, the organic light emitting device shown in FIG. to be.

이하에서, 합성예 및 실시예를 통하여 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 하기의 합성예 및 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through synthesis examples and examples, but the present invention is not limited to the following synthesis examples and examples.

합성예Synthesis Example 1 One : 화학식 2를 갖는 화합물(이하, "화합물 2"라 함)의 합성 Synthesis of Compound Having Chemical Formula 2 (hereinafter referred to as "Compound 2")

먼저, 하기 반응식 2a에 따라 중간체 A를 준비하였다:First, Intermediate A was prepared according to Scheme 2a:

Figure 112005073501599-PAT00010
Figure 112005073501599-PAT00010

A-1 A-2 A-3A-1 A-2 A-3

Figure 112005073501599-PAT00011
Figure 112005073501599-PAT00011

A-4 중간체 AA-4 intermediate A

중간체 A의 합성Synthesis of Intermediate A

A-1 (2 g, 6.17 mmol), t-BuOK (1.7 g, 15.42 mmol)과 2-에틸헥실 브로마이드를 DMF 10 mL에 녹였다. 이 혼합물을 40℃에서 18시간 교반한 다음, 에테르로 추출하고 마그네슘 설페이트로 건조한 후, 2-에틸헥실 브로마이드를 진공 상태에서 증류하여 제거하였다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을, n-헥산 : 메틸렌 클로라이드(9 : 1)를 전개용매로 사용하는 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결과, A-2 를 흰색의 고체로서 2.7 g(수율 80%) 수득하였다. 상기 A-2를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:A-1 (2 g, 6.17 mmol), t-BuOK (1.7 g, 15.42 mmol) and 2-ethylhexyl bromide were dissolved in 10 mL of DMF. The mixture was stirred at 40 ° C. for 18 hours, then extracted with ether and dried over magnesium sulfate, then 2-ethylhexyl bromide was distilled off in vacuo. The reaction mixture obtained therefrom was purified by column chromatography using n-hexane: methylene chloride (9: 1) as a developing solvent. As a result, 2.7 g (yield 80%) of A-2 was obtained as a white solid. The A-2 was confirmed by using NMR, and it was as follows:

1H NMR (δin CDCl3): 0.4-0.6 (m, 9H), 0.62-0.98 (m, 27H). 1.87-1.98 (d, 4H, J=9.5 Hz), 7.42-7.58 (m, 6H). 1 H NMR (δ in CDCl 3 ): 0.4-0.6 (m, 9H), 0.62-0.98 (m, 27H). 1.87-1.98 (d, 4H, J = 9.5 Hz), 7.42-7.58 (m, 6H).

A-2 (11.1 g, 23.9 mmol)을 무수 THF 3mL에 질소 분위기 하에서 용해시키고, -78℃ 로 냉각시켰다. 이 혼합물에 n-부틸리튬 9.8 mL (24.5 mmol)를 30분 동안 한방울씩 첨가하고, 1시간동안 교반하였다. 그 후, Me3SiCl 3.4 mL (26.8 mmol)를 -78℃ 에서 첨가하고 밤새 교반하였다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을 에테르로 추출하고, 마그네슘 설페이트로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결과, A-3를 흰색 고체로서 11.5 g (수율 95%) 수득하였다. 상기 A-3를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:A-2 (11.1 g, 23.9 mmol) was dissolved in 3 mL of anhydrous THF under nitrogen atmosphere and cooled to -78 ° C. To this mixture was added 9.8 mL (24.5 mmol) of n-butyllithium dropwise for 30 minutes and stirred for 1 hour. Then 3.4 mL (26.8 mmol) of Me 3 SiCl were added at −78 ° C. and stirred overnight. The reaction mixture obtained from this was extracted with ether, dried over magnesium sulfate and purified using column chromatography. As a result, 11.5 g (95% yield) of A-3 was obtained as a white solid. The A-3 was confirmed by using NMR, which was as follows:

1H NMR (δin CDCl3): 0.3-0.39 (m, 9H), 0.4-0.59 (m, 9H), 0.61-0.98 (m, 26H), 1.82-2.1 (m, 4H), 7.42-7.71 (m, 6H). 1 H NMR (δ in CDCl 3 ): 0.3-0.39 (m, 9H), 0.4-0.59 (m, 9H), 0.61-0.98 (m, 26H), 1.82-2.1 (m, 4H), 7.42-7.71 (m , 6H).

A-3 (0.45 g, 8.3 mmol)을 무수 THF 3mL에 질소 분위기 하에서 용해시키고, -78 ℃ 로 냉각시켰다. 이 혼합물에 n-부틸리튬 3.6 mL (9.04 mmol) 를 30분 동안 한방울씩 첨가하고, 1시간동안 교반하였다. 그 후, 트리-이소프로필 보레이트 0.5 mL (8.9 mmol) 을 -78 ℃ 에서 첨가하고 밤새 교반하였다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을 에테르로 추출하고, 마그네슘 설페이트로 건조한 후, 페트롤늄 에테르 /에틸 아세테이트(2 / 1) 를 전개용매로 사용하는 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결과, A-4를 흰색 고체로서 0.34 g (수율 75%) 수득하였다. 상기 A-4를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:A-3 (0.45 g, 8.3 mmol) was dissolved in 3 mL of anhydrous THF under nitrogen atmosphere and cooled to -78 ° C. 3.6 mL (9.04 mmol) of n-butyllithium was added dropwise to the mixture for 30 minutes, followed by stirring for 1 hour. Then 0.5 mL (8.9 mmol) of tri-isopropyl borate was added at -78 ° C and stirred overnight. The reaction mixture thus obtained was extracted with ether, dried over magnesium sulfate and purified by column chromatography using petroleum ether / ethyl acetate (2/1) as the developing solvent. As a result, 0.34 g (yield 75%) of A-4 was obtained as a white solid. The A-4 was confirmed using NMR, and it was as follows:

1H NMR (δin CDCl3): 0.3-0.39 (m, 9H), 0.45-1.1 (m, 38H), 2.03-2.21 (m, 4H), 7.51-7.53 (d, 1H, J=1.9 Hz), 7.6(s, 1H), 7.77-7.79 (d, 1H, J=0.9 Hz), 7.89-7.86 (d, 1H, J=0.5 Hz), 8.25-8.26(d, 2H, J=5.7 Hz). 1 H NMR (δ in CDCl 3 ): 0.3-0.39 (m, 9H), 0.45-1.1 (m, 38H), 2.03-2.21 (m, 4H), 7.51-7.53 (d, 1H, J = 1.9 Hz), 7.6 (s, 1H), 7.77-7.79 (d, 1H, J = 0.9 Hz), 7.89-7.86 (d, 1H, J = 0.5 Hz), 8.25-8.26 (d, 2H, J = 5.7 Hz).

A-4 (0.73 g, 1.4 mmol)과 피나콜(pinacol) (0.24 g, 2.1 mmol)을 톨루엔 40mL에 용해시키고, 4시간동안 환류교반시켰다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을 냉각시키고, 반응 혼합물을 에테르로 추출한 다음, 마그네슘 설페이트로 건조 후, 페트롤늄 에테르 /메틸렌 클로라이드(1 / 3) 를 전개용매로 사용하여 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결과, 중간체 A를 흰색 고체로서 0.52 g (수율 71%) 수득하였다. 상기 중간체 A를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:A-4 (0.73 g, 1.4 mmol) and pinacol (0.24 g, 2.1 mmol) were dissolved in 40 mL of toluene and stirred under reflux for 4 hours. The reaction mixture thus obtained was cooled, the reaction mixture was extracted with ether, dried over magnesium sulfate and purified by column chromatography using petroleum ether / methylene chloride (1/3) as the developing solvent. As a result, 0.52 g (71% yield) of intermediate A was obtained as a white solid. The intermediate A was identified using NMR, which was as follows:

1H NMR (CDCl3): 0.34 (s, 9H), 0.50-0.58 (m, 8H). 0.78-0.98 (m, 27H), 1.42 (s, 13H), 2.03-2.15 (d, 4H, J=2.4 Hz), 7.48-7.52 (d, 1H, J= 1.2 Hz), 7.58-7.60 (s, 1H), 7.70-7.74 (d, 2H, J=0.8 Hz), 7.81-7.85 (d, 1H, J=2.4 Hz), 7.89-7.92 (d, 2H, J=0.2 Hz). 1 H NMR (CDCl 3 ): 0.34 (s, 9H), 0.50-0.58 (m, 8H). 0.78-0.98 (m, 27H), 1.42 (s, 13H), 2.03-2.15 (d, 4H, J = 2.4 Hz), 7.48-7.52 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.58-7.60 (s, 1H), 7.70-7.74 (d, 2H, J = 0.8 Hz), 7.81-7.85 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.89-7.92 (d, 2H, J = 0.2 Hz).

이어서, 하기 반응식 2b에 따라 화합물 2를 합성하였다:Subsequently, compound 2 was synthesized according to Scheme 2b:

Figure 112005073501599-PAT00012
Figure 112005073501599-PAT00012

중간체 A 중간체 BIntermediate A Intermediate B

중간체 A (0.883 g, 1.5 mmol) 와 중간체 B (0.122 g, 0.375 mmol)를 30 ml의 톨루엔에 녹이고, Pd(PPh3)4 (10 mg)와 2.0M Na2CO3 용액 (6.0 mL, 12.0 mmol)를 첨가한 후 90 ℃에서 24시간동안 교반하였다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을 냉각시키고, 페트롤늄 에테르로 추출한 다음, 마그네슘 설페이트로 건조시키고, 용매를 제거하고 남은 물질을 페트롤늄 에테르 /메틸렌 클로라이드 (9 / 1) 를 전개용매로 사용하는 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결과, 화합물 2를 흰색 고체로서 0.285 g (수율 70%) 수득하였다. 상기 화합물 2를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:Intermediate A (0.883 g, 1.5 mmol) and Intermediate B (0.122 g, 0.375 mmol) were dissolved in 30 ml of toluene, Pd (PPh 3 ) 4 (10 mg) and 2.0M Na 2 CO 3 solution (6.0 mL, 12.0 mmol) was added and stirred at 90 ° C for 24 h. The reaction mixture obtained is cooled, extracted with petroleum ether, dried over magnesium sulfate, the solvent is removed and the remaining material is subjected to column chromatography using petroleum ether / methylene chloride (9/1) as the developing solvent. Purified using. As a result, 0.285 g (yield 70%) of compound 2 was obtained as a white solid. Compound 2 was identified by using NMR, and it was as follows:

1H NMR (300 MHz, CDCl3):δ 0.28-0.33 (s, 18H), 0.45-0.57 (m, 28H), 0.64-0.90 (m, 32H), 2.06-2.08 (m, 8H), 4.04 (s, 2H), 7.47-7.50 (d, 2H, J=1.38Hz), 7.54 (s, 2H), 7.61-7.71(m, 10H), 7.76-7.78 (d, 2H, J=2.1Hz),7.78 (s, 2H), 7.88-7.90 (d, 2H, J=0.9Hz). 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ 0.28-0.33 (s, 18H), 0.45-0.57 (m, 28H), 0.64-0.90 (m, 32H), 2.06-2.08 (m, 8H), 4.04 ( s, 2H), 7.47-7.50 (d, 2H, J = 1.38 Hz), 7.54 (s, 2H), 7.61-7.71 (m, 10H), 7.76-7.78 (d, 2H, J = 2.1 Hz), 7.78 (s, 2H), 7.88-7.90 (d, 2H, J = 0.9 Hz).

합성예Synthesis Example 2 2 : 화학식 3을 갖는 화합물(이하, "화합물 3"이라 함)의 합성Synthesis of Compound Having Chemical Formula 3 (hereinafter referred to as "Compound 3")

하기 반응식 3b에 따라, 화합물 3을 합성하였다:According to Scheme 3b, compound 3 was synthesized:

Figure 112005073501599-PAT00013
Figure 112005073501599-PAT00013

중간체 A 중간체 A-2 화학식 3Intermediate A Intermediate A-2 Formula 3

합성예 1에서 제조한 중간체 A (0.883 g, 1.5 mmol) 와 중간체 A-2(0.206 g, 0.375 mmol)를 30 ml의 톨루엔에 녹이고, Pd(PPh3)4 (10 mg)와 2.0M Na2CO3 용액 (6.0 mL, 12.0 mmol)를 첨가한 후 90 ℃에서 24시간동안 교반하였다. 이로부터 얻은 반응 혼합물을 냉각시켜 페트롤늄 에테르로 추출한 다음, 마그네슘 설페이트로 건조시키고, 용매를 제거하고 남은 물질을 페트롤늄 에테르 /메틸렌 클로라이드 (9 / 1) 를 전개용매로 사용하는 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 정제하였다. 그 결 과, 화합물 3을 흰색의 고체로서 0.246 g (수율 50%) 수득하였다. 상기 화합물 3를 NMR을 이용하여 확인하였더니, 다음과 같았다:Intermediate A (0.883 g, 1.5 mmol) and Intermediate A-2 (0.206 g, 0.375 mmol) prepared in Synthesis Example 1 were dissolved in 30 ml of toluene, Pd (PPh 3 ) 4 (10 mg) and 2.0M Na 2 CO 3 solution (6.0 mL, 12.0 mmol) was added and stirred at 90 ° C. for 24 h. The reaction mixture was cooled and extracted with petroleum ether, dried over magnesium sulfate, the solvent was removed and the remaining material was subjected to column chromatography using petroleum ether / methylene chloride (9/1) as the developing solvent. Purification by As a result, 0.246 g (50% yield) of compound 3 was obtained as a white solid. Compound 3 was identified by using NMR, and it was as follows:

1H NMR (300 MHz, CDCl3):δ 0.25-0.39 (s, 18H), 0.45-0.91 (m, 90H), 2.00-2.08(m, 12H), 7.4-7.52 (d, 2H, J=2.46Hz), 7.52-7.65(m, 10H), 7.69-7.71 (d, 2H, J=0.61Hz ), 7.74-7.8 (m, 4H). 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ 0.25-0.39 (s, 18H), 0.45-0.91 (m, 90H), 2.00-2.08 (m, 12H), 7.4-7.52 (d, 2H, J = 2.46 Hz), 7.52-7.65 (m, 10H), 7.69-7.71 (d, 2H, J = 0.61 Hz), 7.74-7.8 (m, 4H).

평가예Evaluation example 1 One - 화합물 2 및 3의 열 안정성 평가 -Thermal stability evaluation of compounds 2 and 3

상기 화합물 2와 3의 열 안정성을 각 화합물의 Tg(유리 전이 온도) 및 Tm(융점)을 측정함으로써 평가하였다. Tg 및 Tm는 TGA(Thermo Gravimetric Analysis) 및 DSC(Differential Scanning Calorimetry)를 이용한 열분석(N2 분위기, 온도구간 : 상온~ 600℃(10℃/min)-TGA ,상온에서 400℃까지-DSC, Pan Type : Pt Pan in 일회용 Al Pan(TGA) , 일회용 Al pan(DSC))을 수행하였다.The thermal stability of the compounds 2 and 3 was evaluated by measuring the Tg (glass transition temperature) and Tm (melting point) of each compound. Tg and Tm are thermal analysis using TGA (Thermo Gravimetric Analysis) and DSC (Differential Scanning Calorimetry) (N 2 atmosphere, temperature range: room temperature ~ 600 ℃ (10 ℃ / min)-TGA, from room temperature to 400 ℃ -DSC, Pan Type: Pt Pan in Disposable Al Pan (TGA), Disposable Al pan (DSC)).

상기 화합물 2와 3은 400℃까지 열분해되지 않으므로 유기 발광 소자의 유기막으로서 사용되기 적합한 열 안정성을 가짐을 확인할 수 있다. 특히, 화합물 2의 TGA 데이터는 도 2를 참조한다.Compounds 2 and 3 do not thermally decompose to 400 ° C., and thus may have thermal stability suitable for use as an organic film of an organic light emitting device. In particular, see TGA data for Compound 2.

평가예Evaluation example 2 2 : 화합물 2 및 3의 발광 특성 평가 Evaluation of Luminescence Properties of Compounds 2 and 3

화합물 2와 3의 흡수 스펙트럼 및 PL(photoluminescence) 스펙트럼을 평가함으로써, 발광 특성을 평가하였다. 먼저, 화합물 2를 톨루엔에 0.2mM의 농도로 희 석시켜, 시마즈 유브이-350 스펙트로메터(Shimadzu UV-350 Spectrometer)를 이용하여, 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 한편, 화합물 2를 톨루엔에 10mM 농도로 희석시켜, 제논(Xenon) 램프가 장착되어 있는 ISC PC1 스펙트로플로로메터 (Spectrofluorometer)를 이용하여, PL(Photoluminecscence)스펙트럼을 측정하였다. 그 결과를 도 3에 나타내었으며, 최대 흡수 파장, 최대 발광 파장을 각각 정리하여 표 1에 나타내었다. 화합물 3도 동일한 방법으로 평가하여, 흡수 스펙트럼 및 PL 스펙트럼을 도 3에 나타내고, 최대 흡수 파장, 최대 발광 파장을 각각 정리하여 표 1에 나타내었다:The luminescence properties were evaluated by evaluating absorption spectra and PL (photoluminescence) spectra of compounds 2 and 3. First, Compound 2 was diluted in toluene at a concentration of 0.2 mM, and the absorption spectrum was measured using a Shimadzu UV-350 Spectrometer. Meanwhile, Compound 2 was diluted in toluene at a concentration of 10 mM and the PL (Photoluminecscence) spectrum was measured using an ISC PC1 Spectrofluorometer equipped with a Xenon lamp. The results are shown in FIG. 3, and the maximum absorption wavelength and maximum emission wavelength are summarized in Table 1, respectively. Compound 3 was also evaluated in the same manner, and the absorption spectrum and PL spectrum are shown in FIG. 3, and the maximum absorption wavelength and maximum emission wavelength are summarized in Table 1, respectively:

ε(M-1cm-1)ε (M -1 cm -1 ) λabs/max (nm)λabs / max (nm) λflu/max (nm)λflu / max (nm) Δν(cm-1)Δν (cm -1 ) 화합물 2Compound 2 102637102637 353353 394394 2947.882947.88 화합물 3Compound 3 143197143197 353353 397397 3139.683139.68

* 1-cm path, 1 x 10-5M* 1-cm path, 1 x 10 -5 M

도 3 및 표 1로부터, 화합물 2와 3은 유기 발광 소자에 적합한 발광 특성을 가짐을 알 수 있다.3 and Table 1, it can be seen that the compounds 2 and 3 have a light emission characteristic suitable for the organic light emitting device.

실시예Example 1 One

화합물 2를 발광층 형성 재료로 사용하여, 다음과 같은 구조를 갖는 유기 발광 소자를 제작하였다: ITO/PEDOT(500Å)/화합물 2(500Å)/Alq(200Å)/LiF(10Å)/Al(2000Å).Using compound 2 as a light emitting layer forming material, an organic light emitting device was manufactured having the following structure: ITO / PEDOT (500 mV) / Compound 2 (500 mV) / Alq (200 mV) / LiF (10 mV) / Al (2000 mV). .

애노드는 코닝사(corning) 제품인 15Ω/cm2 (1200Å) ITO 유리 기판을 50mm x 50mm x 0.7mm크기로 잘라서 이소프로필 알콜과 순수물 속에서 각 5분 동안 초음파 세정한 후, 30분 동안 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 기판 상부에 Bayer사의 PEDOT-PSS (AI4083)을 코팅하여 120℃에서 5시간동안 열처리하여 500Å의 정공주입층을 형성하였다. 상기 정공주입층 상부에, 톨루엔 중 1중량%의 화합물 2를 포함하는 혼합물을 스핀 코팅한 다음 110℃로 30분 동안 열처리하여, 500Å두께의 발광층을 형성하였다. 이 후, 상기 발광층 상부에 Alq 화합물을 진공 증착하여, 200Å두께의 전자수송층을 형성하였다. 상기 전자수송층 상부에 LiF 10Å(전자주입층)과 Al 2000Å(캐소드)을 순차적으로 진공증착하여, 도 1a에 도시된 바와 같은 유기 발광 소자를 제조하였다. 이를 샘플 1이라고 한다.Anode cuts Corning's 15Ω / cm 2 (1200Å) ITO glass substrate into 50mm x 50mm x 0.7mm sizes, ultrasonically cleans for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, and then UV ozone cleansing for 30 minutes Was used. Bayer's PEDOT-PSS (AI4083) was coated on the substrate and heat-treated at 120 ° C. for 5 hours to form a hole injection layer of 500 μs. On top of the hole injection layer, a mixture containing 1% by weight of compound 2 in toluene was spin coated and then heat-treated at 110 ° C. for 30 minutes to form a light emitting layer having a thickness of 500 μs. Thereafter, an Alq compound was vacuum-deposited on the emission layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs. LiF 10Å (electron injection layer) and Al 2000Å (cathode) were sequentially vacuum deposited on the electron transport layer, thereby manufacturing an organic light emitting device as shown in FIG. 1A. This is called sample 1.

실시예Example 2 2

화합물 2를 발광층 형성 재료로 사용하여, 다음과 같은 구조를 갖는 유기 발광 소자를 제작하였다: ITO/PEDOT(500Å)/5wt% 화합물 2 : 3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센(500Å)/Alq(200Å)/LiF(10Å)/Al(2000Å).Using compound 2 as the light emitting layer forming material, an organic light emitting device having the following structure was manufactured: ITO / PEDOT (500 kcal) / 5 wt% Compound 2: 3-tert-butyl-9,10-di (naphth- 2-yl) anthracene (500 Hz) / Alq (200 Hz) / LiF (10 Hz) / Al (2000 Hz).

발광층 형성을 위하여, 톨루엔 중 1중량%의 화합물 2를 포함하는 혼합물을 스핀 코팅 및 열처리하는 사용하는 대신, 톨루엔 중 1중량%의 화합물 2와 화합물 2의 5wt% 해당하는 도펀트(3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센)를 포함하는 혼합물을 스핀 코팅 및 열처리하였다는 점을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유기 발광 소자를 제조하였다. 이를 샘플 2라고 한다. Instead of spin coating and heat-treating a mixture comprising 1% by weight of Compound 2 in toluene, to form a light emitting layer, 5% by weight of a dopant (3-tert-butyl) of 1% by weight of Compound 2 and Compound 2 in toluene An organic light-emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the mixture including -9,10-di (naphth-2-yl) anthracene) was spin coated and heat treated. This is called sample 2.

실시예Example 3 3

화합물 2를 발광층 형성 재료로 사용하여, 다음과 같은 구조를 갖는 유기 발광 소자를 제작하였다: ITO/PEDOT(500Å)/10 wt% 화합물 2 : 3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센(500Å)/Alq(200Å)/LiF(10Å)/Al(2000Å).Using compound 2 as the light emitting layer forming material, an organic light emitting device having the following structure was manufactured: ITO / PEDOT (500 kcal) / 10 wt% Compound 2: 3-tert-butyl-9,10-di (naphth -2-yl) anthracene (500 Hz) / Alq (200 Hz) / LiF (10 Hz) / Al (2000 Hz).

발광층 형성을 위하여, 톨루엔 중 1중량%의 화합물 2를 포함하는 혼합물을 스핀 코팅 및 열처리하는 사용하는 대신, 톨루엔 중 1중량%의 화합물 2와 화합물 2의 10wt% 해당하는 도펀트(3-tert-부틸-9,10-디(나프트-2-일)안트라센)를 포함하는 혼합물을 스핀 코팅 및 열처리하였다는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기 발광 소자를 제조하였다. 이를 샘플 3이라고 한다. Instead of spin coating and heat treating a mixture comprising 1% by weight of compound 2 in toluene to form a light emitting layer, 10% by weight of a dopant (3-tert-butyl) of 1% by weight of compound 2 and compound 2 in toluene An organic light-emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the mixture including -9,10-di (naphth-2-yl) anthracene) was spin coated and heat treated. This is called sample 3.

평가예Evaluation example 3 3 : 샘플 1 내지 3의 특성 평가 : Characterization of Samples 1 to 3

샘플 1 내지 3에 대하여, PR650 (Spectroscan) Source Measurement Unit.를 이용하여 구동전압, 색순도 및 효율을 각각 평가하였다.For samples 1 to 3, driving voltage, color purity, and efficiency were respectively evaluated using a PR650 (Spectroscan) Source Measurement Unit.

샘플 No.Sample No. 구동전압/최대전압(100cd/m2)Driving voltage / maximum voltage (100cd / m 2 ) 색좌표Color coordinates 효율(cd/A)Efficiency (cd / A) 1One 3.8/5.63.8 / 5.6 (0.15, 0.16)(0.15, 0.16) 9V에서 0.310.31 at 9 V 22 2.8/3.82.8 / 3.8 (0.15, 0.23)(0.15, 0.23) 3.6V에서 1.071.07 at 3.6 V 33 2.8/4.02.8 / 4.0 (0.15, 0.21)(0.15, 0.21) 3.6V에서 0.960.96 at 3.6 V

상기 표 2에서 기재된 바와 같이 본 발명을 따르는 샘플 1 내지 3의 소자 특성이 우수함을 알 수 있다.As described in Table 2, it can be seen that the device characteristics of Samples 1 to 3 according to the present invention are excellent.

본 발명에 따라 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물은 습식 공정 및/또는 습식 공정을 포함한 열 전사 방법을 이용하여 막으로 형성되기에 적합하다. 또한, 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 구비한 유기 발광 소자는 낮은 구동전압, 우수한 색순도, 고효율, 및 고휘도를 갖는다.According to the present invention, the fluorene-based compound represented by Formula 1 is suitable for being formed into a film by using a thermal transfer method including a wet process and / or a wet process. In addition, the organic light emitting device including the organic film including the fluorene-based compound has low driving voltage, excellent color purity, high efficiency, and high brightness.

Claims (9)

하기 화학식 1로 표시되는 플루오렌계 화합물:Fluorene compound represented by the following formula <화학식 1><Formula 1>
Figure 112005073501599-PAT00014
Figure 112005073501599-PAT00014
상기 화학식 1 중, In Formula 1, R1 내지 R6는 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기이고;R 1 to R 6 are each independently of the other hydrogen; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; R7 및 R8 서로 독립적으로, 수소; 할로겐 원자; 시아노기; 히드록실기; 아미노기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 C1-C20알킬기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C1-C20알콕시기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아 노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C2-C30헤테로아릴기; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C20사이클로알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C5-C30헤테로사이클로알킬기이고; R 7 and R 8 Independently of each other, hydrogen; Halogen atom; Cyano group; Hydroxyl group; Amino group; C 1 -C 20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group, amino group or C 6 -C 30 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 6 -C 30 aryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 2 -C 30 heteroaryl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; C 5 -C 20 cycloalkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; Or a C 5 -C 30 heterocycloalkyl group unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; A 및 B는 서로 독립적으로, 수소; 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 선형, 분지형 또는 환형 C1-C20 알킬기; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기 또는 아미노기로 치환된 C6-C30아릴기이고; A and B are, independently from each other, hydrogen; Linear, branched or cyclic C 1 -C 20 alkyl groups which are unsubstituted or substituted with halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, amino groups or C 6 -C 30 aryl groups; Or a C 6 -C 30 aryl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group or amino group; n1 및 n2는 서로 독립적으로, 0 또는 1~3의 정수이고; n 1 and n 2 are each independently an integer of 0 or 1 to 3; n은 1 내지 5의 정수이며;n is an integer from 1 to 5; n이 2 이상인 경우, 각각의 플루오렌에 치환된 R7 및 R8들은 서로 동일하거나 상이할 수 있고, 각각의 플루오렌에 치환된 A 및 B들은 서로 동일하거나 상이할 수 있다.When n is 2 or more, R 7 and R 8 substituted in each fluorene may be the same or different from each other, and A and B substituted in each fluorene may be the same or different from each other.
제1항에 있어서, A 및 B는 서로 독립적으로, 수소; 또는 비치환된 또는 할로겐 원자, 시아노기, 히드록실기, 아미노기 또는 C6-C30아릴기로 치환된 선형, 분지형 또는 환형 C1-C20알킬기인 것을 특징으로 하는 플루오렌계 화합물.The compound of claim 1, wherein A and B, independently of each other, are hydrogen; Or a linear, branched or cyclic C 1 -C 20 alkyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, cyano group, hydroxyl group, amino group or C 6 -C 30 aryl group. 제1항에 있어서, 하기 화학식 2, 3, 4 또는 5를 갖는 것을 특징으로 하는 플루오렌계 화합물:The fluorene-based compound of claim 1 having the formula 2, 3, 4 or 5 <화학식 2><Formula 2>
Figure 112005073501599-PAT00015
Figure 112005073501599-PAT00015
<화학식 3><Formula 3>
Figure 112005073501599-PAT00016
Figure 112005073501599-PAT00016
<화학식 4><Formula 4>
Figure 112005073501599-PAT00017
Figure 112005073501599-PAT00017
<화학식 5><Formula 5>
Figure 112005073501599-PAT00018
Figure 112005073501599-PAT00018
제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 적어도 한 층의 유기막을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기막이 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 플루오렌계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.A first electrode; Second electrode; And an organic light emitting device comprising at least one organic film between the first electrode and the second electrode, wherein the organic film comprises the fluorene-based compound according to any one of claims 1 to 3. Organic light emitting device. 제4항에 있어서, 상기 유기막이 정공주입층, 정공수송층, 전자저지층, 발광층, 정공저지층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.The organic light emitting device of claim 4, wherein the organic layer comprises at least one layer selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. . 기판 상부에 제1전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode on the substrate; 상기 제1전극 상부에 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 플루오렌계 화합물을 포함하는 유기막을 형성하는 단계; 및Forming an organic layer including the fluorene-based compound of any one of claims 1 to 3 on the first electrode; And 상기 유기막 상부에 제2전극을 형성하는 단계;Forming a second electrode on the organic layer; 를 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법.Method for manufacturing an organic light emitting device comprising a. 제6항에 있어서, 상기 유기막 형성 단계를 습식 공정을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.The method of claim 6, wherein the forming of the organic layer is performed by using a wet process. 제6항에 있어서, 상기 유기막 형성 단계를 습식 공정을 포함하는 열 전사 방법을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.The method of claim 6, wherein the forming of the organic layer is performed by using a thermal transfer method including a wet process. 제7항 또는 8항에 있어서, 상기 습식 공정은 스핀코팅법, 캐스트법, 잉크젯 프린팅법 및 컨택 프린팅법(contact printing)으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.The method of claim 7, wherein the wet process is selected from a spin coating method, a casting method, an inkjet printing method, and a contact printing method.
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