KR20070063134A - Method of producing hard coat and anti-reflection glaring film with conductive/magnetic particle - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 제조방법에 의해 제조된 하드코트 및 방현성 반사 방지 필름의 단면도. 1 is a cross-sectional view of the hard coat and anti-glare antireflection film produced by the manufacturing method according to the present invention.
도 2는 자성인가체를 이용하여 도전성/자성 미립자를 투명 기재 필름 쪽으로 편재시키기 위한 공정 흐름도. FIG. 2 is a process flow diagram for localizing conductive / magnetic fine particles toward a transparent base film using a magnetic applicator. FIG.
도 3은 롤 내측이 매트릭스 배열로 이루어진 자성인가체에 의해서 필름이 코팅 되는 공정 흐름도. 3 is a process flow chart in which a film is coated by a magnetic applicator consisting of a matrix arrangement inside a roll.
도 4는 자성인가체가 매트릭스 배열로 이루어진 롤의 내측 구성도. 4 is an inner configuration diagram of a roll in which the magnetic injector is formed in a matrix arrangement.
도 5는 자성인가체의 매트릭스 배열에 의해 동일한 배열로 투명 기재 필름 위에 코팅된 도전성/자성 미립자의 배열도. FIG. 5 is an arrangement diagram of conductive / magnetic fine particles coated on a transparent base film in the same arrangement by the matrix arrangement of the magnetic applicator. FIG.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명> <Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 투명 기재 필름 2 : 하드 코트 층 1: Transparent base film # 2: Hard coat layer
3 : 도전성/자성 미립자 4 : 롤 3: conductive / magnetic fine particles 4: roll
5 : 자성 인가체 6 : 자성 인가체의 매트릭스 구조 5: Magnetic Applicator X6: Matrix Structure of Magnetic Applicator
7 : 매트릭스 구조로 코팅 된 도전입자 7: conductive particles coated with matrix structure
본 발명은 상기 하드 코트층 중에 도전성/자성 미립자의 상기 투명 기재 필름 쪽으로 편재된 분포가 기재 전체에 대하여 규칙성을 갖도록 롤 내측에 매트릭스 구조로 된 자성 인가체를 배열함으로써, 기존의 제조방법보다 도전성/자성 미립자가 상기 투명 기재 필름 쪽으로 보다 규칙적으로 편재되며, 도전성/자성 미립자를 자성인가체로 조절 가능한 범위에 들 수 있게 하는 것을 특징으로 한다.The present invention is more conductive than the conventional manufacturing method by arranging a magnetic applying body having a matrix structure inside the roll such that the distribution unevenly distributed toward the transparent base film of conductive / magnetic fine particles in the hard coat layer has regularity with respect to the entire substrate. It is characterized in that the magnetic fine particles are more regularly localized toward the transparent base film, so that the conductive / magnetic fine particles can be contained in the range that can be controlled by the magnetic applying agent.
일반적으로 액정 디스플레이는, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 판넬을 형성하는 유리 기판의 양측으로 편광자를 배치하는 것이 필요 불가결하고, 편광자의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 투명 보호필름을 구비한 편광판이 이용된다. 시인 측에 이용되는 상기 편광판용 투명 보호 필름은 스크레치의 관점에서 취약한 면이 있다. 그 때문에, 투명 보호 필름은 내찰상성의 향상을 목적으로, 아크릴(acryl)계 수지나 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate)계 수지 등의 투명 수지층에 의해 하드 코트층을 형성한 하드 코트 필름을 사용한다. Generally, it is indispensable to arrange | position a polarizer on both sides of the glass substrate which forms a liquid crystal panel from the image forming system, and the polarizing plate provided with the transparent protective film in one side or both sides of a polarizer is used. The transparent protective film for polarizing plates used on the viewer's side is vulnerable in terms of scratching. Therefore, the transparent protective film uses the hard coat film which formed the hard-coat layer by transparent resin layers, such as an acrylic resin and urethane acrylate resin, for the purpose of the improvement of abrasion resistance. .
또 액정 디스플레이 등의 표시체의 표면에는 정전기가 발생하기 쉽고, 그 정전기에 의해 겉 표면에 먼지 등의 이물질이 부착하기 쉽고, 더욱이 상기 정전기에 의해서 표시체의 기능 자체를 저해하는 경우도 있다. 그 때문에, 편광판 등에 이용되는 상기 하드 코트 필름에는, 대전 방지성을 부여하기 위한 목적으로, 투명 보호 필름과 하드 코트층 사이에 투명 도전층을 마련해 정전기에 의한 폐해를 방지하고 있다. 상기 투명 도전층은 투명 수지 중에 도전성 미립자를 분산 함유시킨 투명 도전층 형성재에 의해 형성된다. In addition, static electricity is likely to be generated on the surface of a display such as a liquid crystal display, foreign matter such as dust is likely to adhere to the surface by the static electricity, and furthermore, the function itself of the display may be hindered by the static electricity. Therefore, the said hard coat film used for a polarizing plate etc. provides the transparent conductive layer between a transparent protective film and a hard coat layer in order to provide antistatic property, and prevents the damage by static electricity. The said transparent conductive layer is formed of the transparent conductive layer forming material which disperse | distributed electroconductive fine particles in transparent resin.
그러나, 정전기에 의한 폐해를 해소할 수 있기에 충분한 양의 도전성 미립자를 투명 도전층에 함유시키면, 해당 투명 도전층상에 형성하는 하드 코트층과의 밀착성이 불충분하게 되는 문제가 있다. 또 상기 밀착성을 향상시키기 위해서, 투명 도전층을 하프 큐어(half cure)인 채 하드 코트층을 형성하는 법도 생각할 수 있지만, 투명 도전층에 스크래치 등이 들어갈 우려가 있어 채용하기 어려운 문제가 있다. However, there is a problem in that adhesion to the hard coat layer formed on the transparent conductive layer is insufficient when the transparent conductive layer contains a sufficient amount of the conductive fine particles so as to eliminate the damage caused by static electricity. Moreover, in order to improve the said adhesiveness, although the method of forming a hard-coat layer with a half-cure (half cure) can also be considered, there exists a possibility that a scratch etc. may enter in a transparent conductive layer, and there exists a problem which is difficult to employ | adopt.
또한 투명 도전층에 함유된 도전성 미립자는 일본 특허(特願2002-19206)에서와 같이 투명 수지와의 비중차를 이용하여 도전성 미립자를 투명 기재 필름 쪽에 편재 시킬 수 있다. 하지만 이와 같은 방법은 비중차에 의해서 도전성 미립자가 침강할 때까지 기다려야 하는 시간적 손실이 발생하며, 이는 필름의 생산력과 가격 경쟁력을 약화시키는 요인이 되어 왔다. 또한 도전성 미립자의 기재 위에서의 규칙성 또한 중요한 고려 대상이라 할 수 있기 때문에 이의 고려가 필요한 실정이다. In addition, the conductive fine particles contained in the transparent conductive layer can localize the conductive fine particles to the transparent base film side by using a specific gravity difference with the transparent resin as in Japanese Patent (JP 2002-19206). However, such a method causes a time loss of waiting for the conductive fine particles to settle due to the specific gravity difference, which has been a factor in weakening the productivity and price competitiveness of the film. In addition, since the regularity on the substrate of the conductive fine particles can also be regarded as an important object of consideration, this situation needs to be considered.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 하드 코트층을 구성하는 투명 수지와 도전성 미립자의 비중 차이를 이용하여 투명 기재 필름 쪽으로 편재 시키는 방법이 아닌, 도전성 미립자를 도전성/자성을 함께 지닌 미립자로 대체하고 투명 기재 필름 위에 규칙적인 형태로 편재시키는 방법을 고안하였다. 이러 한 방법으로 종래 비중차를 이용한 하드 코트층의 도전성 미립자를 투명 기재 필름쪽으로 편재 방법의 단점인 시간적 손실을 극복함은 물론 보다 규칙적인 형태로 도전성 미립자를 투명 기재 필름 위에 배열함으로써, 필름 생산에 있어서 생산력과 코스트 경쟁력을 높임과 동시에 투명 기재 필름 위의 도전성 미립자의 분포 및 배열을 한층 규칙적인 형태로 디자인 하는데 본 발명의 목적이 있다. The present invention has been made to solve the above problems, and the fine particles having both the conductive fine particles and the conductive fine particles, rather than a method of ubiquitous toward the transparent base film by using the difference in specific gravity of the transparent resin and the conductive fine particles constituting the hard coat layer. And a method of ubiquitous in a regular form on the transparent substrate film was devised. In this way, the conductive fine particles of the hard coat layer using the specific specific gravity difference are not only overcome the time loss, which is a disadvantage of the ubiquitous method, but also the conductive fine particles are arranged on a transparent substrate film in a more regular form, thereby producing the film. It is an object of the present invention to design the distribution and arrangement of the conductive fine particles on the transparent substrate film in a more regular form while increasing productivity and cost competitiveness.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 첨부 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다. The above and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of the preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 하드코트 및 방현성 반사 방지 필름의 제조방법은 투명 기재 필름 상에, 투명 수지로 이루어지는 하드 코트층을 갖는 하드코트 및 방현성 반사 방지 필름을 제조하는 방법에 있어서, 상기 투명 수지에 도전성/자성 미립자를 함유하는 단계; 상기 도전성/자성 미립자를 함유한 투명 수지를 투명 기재 필름 상에 도포하여 하드 코트층을 형성하는 단계; 상기 하드 코트층의 도전성/자성 미립자를 자성 인가체를 이용하여 상기 투명 기재 필름 쪽으로 편재시키되, 상기 하드 코트층 중에 도전성/자성 미립자의 상기 투명 기재 필름 쪽으로 편재된 분포가 기재 전체에 대하여 규칙성을 갖도록 롤 내측에 매트릭스 구조로 된 자성 인가체를 배열하여 편재시키는 단계 및 상기 투명 수지를 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Method for producing a hard coat and anti-glare antireflection film according to the present invention for achieving the above object is a method for producing a hard coat and anti-glare anti-reflection film having a hard coat layer made of a transparent resin on a transparent base film The method comprising the steps of: containing conductive / magnetic fine particles in the transparent resin; Applying a transparent resin containing the conductive / magnetic fine particles on a transparent base film to form a hard coat layer; The conductive / magnetic fine particles of the hard coat layer are localized toward the transparent base film by using a magnetic applicator, and the distribution of the conductive / magnetic fine particles toward the transparent base film in the hard coat layer has regularity with respect to the entire substrate. And arranging the magnetic application body having a matrix structure inside the roll so as to have a localization, and hardening the transparent resin.
바람직하게는 상기 하드 코트층의 상기 도전성/자성 미립자는 두께 방향으로 농도 분포로 편재되어 있고, 상기 도전성/자성 미립자의 농도는 상기 투명 기재 필 름 쪽으로 갈수록 높은 것을 특징으로 한다. 보다 바람직하게는, 상기 도전성/자성 미립자를 상기 자성 인가체를 이용하여 상기 투명 기재 필름 쪽으로 편재시키는 단계는 함유된 도전성/자성 미립자의 70% 이상이 상기 하드 코트층의 전체 두께에 대해 상기 투명 기재 필름으로부터의 0.7 이하의 두께에 편재되어 있는 것을 특징으로 한다.Preferably, the conductive / magnetic fine particles of the hard coat layer are unevenly distributed in a concentration distribution in the thickness direction, and the concentration of the conductive / magnetic fine particles is higher toward the transparent base film. More preferably, the step of ubiquitous the conductive / magnetic fine particles toward the transparent substrate film using the magnetic applicator may include at least 70% of the conductive / magnetic fine particles contained in the transparent substrate relative to the total thickness of the hard coat layer. It is ubiquitous in thickness of 0.7 or less from a film, It is characterized by the above-mentioned.
또한 도전성/자성 미립자가 롤 내측의 매트릭스 구조로 된 자성 인가체의 영향에 의해 뭉침 현상이 발생하지 않고 규칙적이고 일정한 분포로 편재된 것을 특징으로 한다.In addition, it is characterized in that the conductive / magnetic fine particles are ubiquitous in a regular and constant distribution without agglomeration due to the influence of the magnetic application body having the matrix structure inside the roll.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .
본 발명에 따른 제조방법은 투명 기재 필름(1) 상에, 투명 수지에 의하여 형성되는 하드 코트층(2)을 가지는 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름에 있어서, 하드 코트층 중에 도전성/자성을 함께 지니는 미립자(3)가 두께 방향에 농도 분포를 가지고 편재되고 있고, 또한 투명 기재 필름(1)측으로 도전성/자성 미립자의 농도가 높아지고 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 및 방현성 필름의 제조방법에 관한 것이다. 특히 도전성/자성 미립자의 기재 쪽으로 편재된 분포가 기재 전체에 대하여 규칙성을 갖기 위하여 롤(5) 내측에 매트릭스 구조(6)로 된 자성 인가체가 배열된 것을 특징으로 한다. In the production method according to the present invention, in the hard coat having the hard coat layer 2 formed of the transparent resin on the
본 발명에서는, 하드 코트층(2) 중의 투명 기재 필름(1) 측에 도전성/자성 미립자(3)를 편재시키고 있고, 하드 코트층(2)에 있어서, 투명 기재 필름(1)측은, 외관상의 투명 도전층(이하, 외관 투명 도전층이라고 한다)을 형성하고 있다. 그 결과, 투명 기재 필름(1)측의 하드 코트 층(2)에 있어서 외관 투명 도전층에 의하여 도전 특성을 확보하는 것과 동시에, 그 반대 측의 하드 코트층에서는 내찰상성을 확보하고 있다. 도전 특성과 내찰상성을 단일의 하드 코트층에 의하여 일시에 형성할 수 있기 때문에, 밀착 불량의 문제도 없다. 또한, 하드 코트층(2) 중에 도전성/자성 미립자(3)가 균일하게 분포하고 있다면, 도전성/자성 미립자(3)의 밀도가 작아지기 때문에 도전성이 발현하기 어려워진다. In this invention, electroconductive / magnetic microparticles | fine-
하드 코트층(2) 안의 도전성/자성 미립자(3)의 편재의 정도는, TEM 등에 의한 단면 관찰에 의하여 행할 수 있다. 편재의 정도는, 예를 들어, 도 1 과 같이, 하드 코트층(2)의 두께(L1)에 대한, 투명 기재 필름(1)측에서의 하드 코트층(2)의 두께(L2)의 비(L2/L1)가 0.7 이하가 되는 두께(L2)의 범위에, 하드 코트층(2) 중의 도전성/자성 미립자(3)의 40 % 이상, 또 70 % 이상을 포함하는 것 같은 경우를 말한다. 두께의 비(L2/L1)는, 한층 더 바람직하게는 0.5 이하이다. The degree of localization of the electroconductive / magnetic
상기 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름에 대해, 도전성/자성 미립자(3)를 투명 기재 필름(1)측에 편재시키는데 바람직하다. 이를 위해서 도전성/자성을 함께 지닌 미립자(3)를 수지 내에 분산시킨 용액을 제조 한 후, 도 2 와 같이, 자성 인가체(5)을 이용하여 미립자를 투명 기재 필름(1)측으로 편재 시킬 수 있다. 이 때, 자성 인가체(5)의 과도한 자력에 의해 도전성/자성 미립자(3)가 투명 기채 필름(1) 의 어느 한 부분으로 지나치게 편재되지 않도록 적당한 자력을 인가해야 한다. 또한 도전성/자성 미립자(3)를 함유한 수지의 점도가 지나치게 크지 않아야 자성 인가체(3)의 자력에 도전성/자성 미립자(3)가 투명 기재 필름(1)쪽에 균일하게 편재 될 수 있다. With respect to the hard coat and the anti-glare antireflection film, the conductive / magnetic
여기서, 자성 인가체(5)는 투명 기재 필름(1)과 접촉하는 면은 일반적인 롤의 형태와 같으나 그 롤의 내측의 자성인가체(6)가 매트릭스 구조로 이루어진 것을 특징으로 한다. 이 매트릭스 구조로 이루어진 자성인가체(6)에 의해서 마이크로 그라비아(4)에 의해 기 코팅된 도전성/자성 미립자(3)가 투명 기재 필름(1)쪽으로 편재되는 형태가 자성인가체(6)의 매트릭스 구조와 동일하게 형성됨으로써 기존 도전성 입자를 코팅하는 방법 보다 투명 기재 필름(1)쪽에 정확하고 규칙적으로 배열(7)할 수 있다. 상기의 기술은 투명 기재 필름(1) 위에 도전성/자성 입자를 정확하고 규칙적으로 배열된 형태로 코팅이 가능함으로써, 기존 코팅 방법에서의 미립자 간의 뭉침 현상이 발생할 수 있는 문제점을 해소 할 수 있으며 또한 배열은 전자파 차폐 기능에도 응용할 수 있다.Here, the
상기 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름에 대해, 하드 코트(2)층이, 2종이상의 투명 수지에 의해 형성되고 있는 것이 바람직하다. 하드 코트층(2)의 형성에는, 특히, 비중이 다른 2종이상의 투명 수지를 이용하는 것으로, 외관 투명 도전층을 보다 용이하게 형성할 수가 있다. It is preferable that the hard-coat (2) layer is formed of 2 or more types of transparent resin about the said hard coat and anti-glare antireflection film. In the formation of the hard coat layer 2, in particular, by using two or more kinds of transparent resins having different specific gravity, the external appearance transparent conductive layer can be formed more easily.
또한 본 발명은, 상기 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름의 하드 코트층(2)상에, 반사 방지층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름에 관한 다. 상기 본 발명의 하드코트 및 방현성 반사 방지 필름은, 반사 방지층을 형성하는 것에 의해, 저반사율의 반사 방지 하드 코트 필름으로서 이용할 수 있다. Moreover, this invention relates to the hard coat film characterized by the reflection prevention layer being formed on the hard coat layer 2 of the said hard coat and anti-glare antireflection film. The hard coat and anti-glare antireflection film of the present invention can be used as an antireflection hard coat film having a low reflectance by forming an antireflection layer.
또한 본 발명은, 광학 소자의 편면 또는 양면에, 상기 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 광학소자에 관한다. 또한 본 발명은, 상기 하드 코트 필름 또는 광학 소자를 탑재한 화상 표시 장치에 관한다. 본 발명의 하드 코트 및 방현성 반사 방지 필름을 이용한 편광판 등의 광학 소자는 내찰상성, 도전 특성이 우수하고, 또한 밀착 불량도 문제가 없다. 또, 광학 특성에도 뛰어나다. 또 광학소자는, 각종의 용도에 이용할 수 있고, 이것을 탑재한 액정 표시장치 등의 화상 표시장치는 표시 품위가 좋다. Moreover, this invention relates to the optical element characterized by the said hard-coat and anti-glare antireflection film provided in the single side | surface or both surfaces of an optical element. Moreover, this invention relates to the image display apparatus which mounted the said hard coat film or optical element. Optical elements, such as a polarizing plate using the hard-coat and anti-glare antireflection film of this invention, are excellent in abrasion resistance and electrically conductive characteristics, and there is no problem also in inadequate adhesion. Moreover, it is excellent also in an optical characteristic. Moreover, an optical element can be used for various uses, and image display apparatuses, such as a liquid crystal display device in which this is mounted, has good display quality.
상기 투명 기재 필름(1)으로서는, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 가림성, 등방성 등이 뛰어난 것이 바람직하다. 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트(olyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate) 등의 폴리에스테르(polyester)계 폴리머(polymer), 트리아세틸 셀룰로오스(triacetyl cellulose) 등의 셀룰로오스(cellulose)계 폴리머(polymer), 폴리카보네이트(polycarbonate)계 폴리머(polymer), 폴리 메틸 메타크릴레이트(poly methyl methacrylate)등의 아크릴(acryl)계 폴리머(polymer), 등의 투명 폴리머(polymer)로부터 되는 필름(film)을 들 수 있다. 또 폴리스티렌(polystyrene), 아크릴로니트릴(acrylonitrile)·스틸렌(stylene) 공중합체등의 스틸렌(stylene)계 폴리머(polymer), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(polypropylene), 노르보르넨 구조를 가지는 폴리오레핀(polyolefin), 에틸렌(ethylene)·프로필렌(propylene) 공중합체 등의 올레핀(olefine)계 폴리머(polymer), 염화비닐계 폴리머(polymer), 나일론(nylon)이나 방향족 폴리아미드(polyamide) 등의 아미드(aminde)계 폴리머(polymer) 등의 투명 폴리머(polymer)로부터 되는 필름(film)도 언급된다. 또한 아미드계 폴리머(polymer), 술폰(sulfone)계 폴리머(polymer), 폴리 에테르 술폰계 폴리머(polymer), 폴리 에테르 에테르 케톤(poly ether ether ketone)계 폴리머(polymer), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide)계 폴리머(polymer), 비닐 알코올(vinyl alcohol)계 폴리머(polymer), 염화 비닐리덴(vinylidene)계 폴리머(polymer), 비닐 부티랄계 폴리머(polymer), 아릴레이트(allylate)계 폴리머(polymer), 폴리 옥시 메틸렌(polyoxy methylene)계 폴리머(polymer), 에폭시(epoxy)계 폴리머(polymer)나 상기 폴리머(polymer)의 브렌드물등의 투명 폴리머(polymer)로부터 되는 필름(film)등도 언급된다. 투명 보호 필름(film)은, 위상 차등의 광학적이 방성성이 적을 정도 바람직한 경우가 많다. As the said
상기 투명 기재 필름(1)의 두께는, 적당하게 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 관점으로부터 10~300㎛ 정도이다. 특별히 20~300㎛ 가 바람직하고, 30~300㎛가 보다 바람직하다. 투명기재 필름(1)의 굴절률은 1.43~1.60 정도, 바람직한 것은 1.45~1.50 정도이다. Although the thickness of the said
상기 하드 코트층(2)을 형성하는 투명 수지로는 하드 코트성이 뛰어나고(JISK5400의 연필 경도 시험으로 H 이상의 경도를 나타내는 것), 충분한 강도를 가지고, 광선 투과율이 우수한 것이면 특별히 제한은 없다. 예를 들면, 열경화형 수지, 열가소형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2액 혼합형 수지 등 을 들 수 있다. 이러한 속에서도 자외선 조사에 의한 경화 처리에서, 간단한 가공 조작에서 효율적으로 광확산층을 형성할 수가 있는 자외선 경화형 수지가 매우 적합하다. 자외선 경화형 수지로서는, 폴리에스테르(polyester)계, 아크릴(acryl)계, 우레탄(urethane)계, 아미드(amide)계, 실리콘(silicone)계, 에폭시(epoxy)계 등을 들 수 있고, 자외선 경화형태의 모노머(monomer), 올리고머(oligomer), 폴리머(polymer)등이 포함된다. 바람직하게 사용되는 자외선 경화형 수지는, 예를 들면 자외선 중합성의 관능기를 가지는 것, 그 중에서도 해당 관능기를 2개 이상, 특히 3~6 개 가지는 아크릴(acryl)계의 모노머(monomer)나 올리고머(oligomer)의 성분을 포함하는 것이 들 수 있다. 또 자외선 경화형 수지에는, 자외선 중합 개시제가 배합되고 있다. The transparent resin for forming the hard coat layer 2 is not particularly limited as long as it is excellent in hard coat properties (having a hardness of H or higher by the pencil hardness test of JISK5400), has sufficient strength, and is excellent in light transmittance. For example, thermosetting resin, thermoplastic resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, two-component mixed resin, etc. are mentioned. Among these, an ultraviolet curable resin which can form a light diffusion layer efficiently in a simple processing operation in a curing treatment by ultraviolet irradiation is very suitable. Examples of the ultraviolet curable resin include polyester based, acryl based, urethane based, amide based, silicone based, epoxy based, and the like. Monomers, oligomers, polymers and the like. UV-curable resins that are preferably used include, for example, those having an ultraviolet polymerizable functional group, and among them, an acrylic monomer or oligomer having two or more, particularly three to six, functional groups. The thing containing the component of the is mentioned. Moreover, an ultraviolet polymerization initiator is mix | blended with ultraviolet curable resin.
그 외에, 하드 코트층(2)을 형성하는 투명 수지로서는, 알콕시 실란 알콕시 티탄(alkoxy silane alkoxy titan) 등의 금속 알콕시드(alkoxide)를 이용한 졸(sol)-겔(gel)계재료 등을 들 수 있다. 이러한 속에서도 알콕시 실란(alkoxy silane)이 바람직하다. 이것들에 의해 폴리실록산(polysiloxane)구조가 형성된다. 알콕시 실란(alkoxy silane)의 구체적인 예는, 테트라 메톡시 실란(tetra methoxy silane), 테트라 에톡시 실란(tetra ethoxy silane), 테트라 프로폭시 실란(tetra propoxy silane), 테트라 이소 프로폭시 실란(tetra iso propoxy silane), 테트라 부톡시 실란(tetra butoxy silane) 등의 테트라 알콕시 실란(tetra alkoxy silane)류, 메틸 트리 메톡시 실란(methoxy silane), 메틸 트리 프포폭시 실란(propoxy silane), 메티 트리 부톡시 실란(butoxy silane), 에틸 트리 메톡시 실란(methoxy silane), n-프로필 트리 메톡시 실란(methoxy silane), 이소프로필 트리 메톡시 실란(methoxy silane), 비닐 트리 메톡시 실란(methoxy silane), 3-글리시독시 프로필 트리 메톡시 실란(methoxy silane), 페닐 트리 메톡시 실란(methoxy silane) 등의 트리 알콕시 실란(alkoxy silane)류, 디메틸 디메톡시 실란(dimethyl dimethoxy silane), 디메틸 디에톡시 실란(dimethyl diethoxy silane), 디에틸 디메톡시 실란(diethyl dimethoxy silane), 디에틸 디에톡시 실란(diethyl diethoxy silane) 등을 들 수 있다. 이런 알콕시 실란(alkoxy silane)은 그 부분 축합물 등으로서 이용할 수 있다. 이러한 속에서도 테트라 알콕시 실란(tetra alkoxy silane)류 또는 이러한 부분 축합물 등이 바람직하다. 테트라 메톡시 실란(tetra methoxy silane), 테트라 에톡시 실란(tetra ethoxy silane) 또는 이러한 부분 축합물이 바람직하다. In addition, examples of the transparent resin for forming the hard coat layer 2 include sol-gel-based materials using metal alkoxides such as alkoxy silane alkoxy titan. Can be. Among these, alkoxy silane is preferable. By these, a polysiloxane structure is formed. Specific examples of alkoxy silanes include tetra methoxy silane, tetra ethoxy silane, tetra propoxy silane and tetra iso propoxy silane. tetra alkoxy silanes such as silane, tetra butoxy silane, methyl trimethoxy silane, methyl tripropoxy silane, methyl tributoxy silane butoxy silane, ethyl trimethoxy silane, n-propyl trimethoxy silane, isopropyl trimethoxy silane, vinyl trimethoxy silane, 3-gly Trialkoxy silanes such as propyl trimethoxysilane, phenyl trimethoxy silane, dimethyl dimethoxy silane, dimethyl diethoxy silane oxy silane), diethyl dimethoxy silane, diethyl diethoxy silane, and the like. Such alkoxy silane can be used as the partial condensate and the like. Among these, tetra alkoxy silanes or such partial condensates are preferred. Tetra methoxy silane, tetra ethoxy silane or such partial condensates are preferred.
또한 투명 수지를 2종 이상 이용하는 경우에는, 외관 투명 도전층을 형성하는 투명 수지로서 알콕시 실란(alkoxy silane)등의 금속 알콕시드(alkoxide)를 선택하고, 그 밖의 하드 코트층을 형성하는 투명 수지로서, 아크릴(acryl)계, 아크릴 우레탄(acryl urethane)계 등의 자외선 경화형의 수지를 선택하는 것이 바람직하다. Moreover, when using 2 or more types of transparent resins, as a transparent resin which forms an externally transparent conductive layer, metal alkoxides, such as an alkoxy silane, are selected, and it is transparent resin which forms another hard-coat layer. It is preferable to select an ultraviolet curable resin such as acryl or acryl urethane.
상기 도전성/자성 미립자(3)로는, Ferrite와 같은 초미립자를 들 수 있다. 도전성/자성 초미립자의 평균입자 지름은 통상 0.1㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다. 도전성/자성 미립자(3)의 사용량은, 외관 투명 도전층이, 대전 방지성을 발휘할 수 있는 양으로 있으면 특히 제한은 없다. 통상, 전기 투명 수지(고형분) 100 중량부에 대해서, 5 ~95 중량부, 또 10~ 90 중량부 배합하는 것이 바람직하다. Examples of the conductive / magnetic
상기 하드 코트층(2)의 형성법은, 도전성/자성 미립자(3)이 투명기재 필름(1) 측에 편재되는 상태의 것을 형성하면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 투명기재 필름(1)에, 도전성/자성 미립자(3)을 함유 하는 투명 수지 용액을 도포하고, 도 2 와 같이 자성 인가체(5)를 이용하여 도전성/자성 미립자(3)를 투명기재 필름(1)측에 편재 시킨 후, 투명 수지를 경화해 하드 코트층(2)를 형성하는 방법을 채용할 수 있다. 도전성/자성 미립자(3)가 편재하고 있을 때, 도전성 미립자(3)의 밀도가 높아져, 그 결과, 도전성이 발현해 표면 저항값은 작아진다. The formation method of the said hard-coat layer 2 will not be restrict | limited especially if the electroconductive / magnetic microparticles | fine-
매트릭스 구조의 자성인가체(5)의 구조에서 선의 폭은 5~25㎛, 선간 폭은 200~400㎛ 정도, 특히 선의 폭은 7~14㎛, 선간 폭은 250~350㎛의 것이 바람직하다. 또한, 선과 선의 크로스 되는 부분의 각도는 900이 바람직하다. In the structure of the
또한 상기 투명 수지 용액의 도공은, 와이어 바(wire bar)등의 바 코터(bar coater), 마이크로그라비아 코터(microgravure coater), 다이코터(die coater), 캐스팅(casting), 스핀 코트(spin coat), 등의 적절한 방식으로 도공된다. 또한, 상기 투명 수지를 용해하는 용제로서는, 톨루엔(toluene), 초산에틸(ethyl), 초산 부틸, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone), 메틸 이소 부틸 케톤(methyl iso butyl ketone), 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol), 에틸 알코올(ethyl alcohol) 등의 일반적인 용제를 들 수 있다. 도전성/자성 미립자(3)의 침강의 확인은 TEM 관찰에 의해 실시할 수가 있다. In addition, the coating of the transparent resin solution is a bar coater such as a wire bar, a microgravure coater, a die coater, a casting, a spin coat. And coating in a suitable manner. As the solvent for dissolving the transparent resin, toluene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl iso butyl ketone, and isopropyl alcohol common solvents such as alcohol) and ethyl alcohol. The sedimentation of the electroconductive / magnetic
한편, 하드 코트층(2)의 두께는 특히 제한되지 않지만, 1~10㎛ 정도, 특히 3~5㎛의 것이 바람직하다. 하드 코트층(2)의 굴절률은, 광학 특성의 관점에서, 투 명기재 필름(1)의 굴절률보다 높게 조정하는 것이 바람직하다. 또한 하드 코트층(2)에는, 고굴절률의 금속이나 금속 산화물의 초미립자를 첨가해, 고굴절률에 조정할 수가 있다. 고굴절률의 초미립자로서는, TiO2, SnO2, ZnO2, ZrO2, 산화 알루미늄 등의 금속 산화물의 초미립자를 들 수 있다. 이러한 초미립자의 평균 입자 지름은 통상 0.1㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다. 고굴절률의 초미립자는, 하드 코트층(2)중에, 대부분 균일하게 분산시킬 수가 있다. 하드 코트층(2)의 굴절률은, 외관 투명 도전층 보다 높게 조정하는 것이 반사 방지 기능의 향상의 점으로써 바람직하다. 외관 투명 도전층의 굴절률은 1.50~1.65, 또 1.57~1.63, 그 이외의 하드 코트층 굴절률은 1.55~1.85, 또 1.65~1.75 인 것이 바람직하다. 하드 코트층(2)의 표면은 미세 요철 구조로 해 방현성을 부여할 수가 있다. 하드코트층의 표면을 요철 형상과 하는 것으로써 광확산에 의한 방현성을 부여할 수가 있다. 광확산성의 부여는 반사율을 저감하는데도 바람직하다. On the other hand, the thickness of the hard coat layer 2 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 10 µm, particularly preferably 3 to 5 µm. It is preferable to adjust the refractive index of the hard-coat layer 2 higher than the refractive index of the
표면에 미세 요철 구조를 형성하는 방법은 특히 제한되지 않고, 적당한 방식을 채용할 수 있다. 예를 들면, 상기 하드 코트층(2)의 형성에 이용한 투명기재 필름(1)의 표면을, 미리 샌드 블레스트(sand blast)나 엠보스 롤(emboss roll), 화학 에칭(etching)등의 적당한 방식으로 조면화 처리하고 필름 표면에 미세 요철 구조를 부여하는 방법 등에 의해, 하드 코트층(2)를 형성하는 재료 그 자체의 표면을 미세 요철 구조에 형성할 방법을 들 수 있다. 또, 하드 코트층(2)상에 다른 방법 하드 코트층(2)을 도공 부가해, 해당 수지 피막층 표면에, 금형에 의한 전사 방식 등에 의하여 미세 요철 구조를 부여할 방법을 들 수 있다. 또, 하드 코트층(2)에, 무기 또는 유기의 구형 혹은 부정형의 필러(filler)를 분산 함유 시켜 미세 요철 구조를 부여하는 방법 등을 들 수 있다. 이것들 미세 요철 구조의 형성 방법은, 2종이상의 방법을조합시키고, 다른 상태의 미세 요철 구조 표면을 복합시킨 층으로서 형성해도 좋다. The method for forming the fine concavo-convex structure on the surface is not particularly limited, and an appropriate method can be adopted. For example, the surface of the
미세 요철 구조 표면의 하드 코트층(2)의 형성 방법으로서는, 형성성 등의 관점으로부터, 무기 또는 유기의 구형 혹은 부정형의 필러(filler)를 분산 함유 하는 하드 코트층(2)을 마련하는 방법이 바람직하다. 무기 또는 유기의 구형 혹은 부정형의 필러(filler)로서는, 예를 들면, PMMA (폴리 메틸 메타크릴레이트(poly methyl methacrylate)) , 폴리우레탄(polyurethane), 폴리스티렌(polystyrene), 멜라민 수지등의 각종 폴리머(polymer)로 되는 가교 또는 미가교의 유기계 미립자, 유리(glass), 실리카(silica), 알루미나(alumina), 산화 칼시움, 이산화티타늄(titania), 산화 지르코늄(zirconium), 산화 아연등의 무기계 입자나, 산화 주석, 산화 인듐(indium), 산화 카드뮴(cadmium), 산화 안티몬(antimon) 또는 이러한 복합물등의 도전성 무기계 입자 등을 들 수 있다. 상기 필러의 평균 입자 지름은 0.5~10㎛ , 나아가서는 1~4㎛ 것이 바람직하다. 미립자에 의해 미세 요철 구조를 형성하는 경우, 미립자의 사용량은 수지 100 중량부에 대해서, 1~30 중량부 정도로 하는 것이 바람직하다. As a method of forming the hard coat layer 2 on the surface of the fine uneven structure, a method of providing the hard coat layer 2 containing dispersion of inorganic or organic spherical or irregular fillers from the viewpoint of formability or the like is provided. desirable. As the inorganic or organic spherical or amorphous filler, for example, various polymers such as PMMA (poly methyl methacrylate), polyurethane, polystyrene, melamine resin ( inorganic particles such as crosslinked or uncrosslinked organic fine particles made of polymer, glass, silica, alumina, calcium oxide, titanium dioxide, zirconium oxide, zinc oxide, And conductive inorganic particles such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, antimony oxide, or a composite thereof. It is preferable that the average particle diameter of the said filler is 0.5-10 micrometers, Furthermore, 1-4 micrometers. When forming a fine uneven structure by microparticles | fine-particles, it is preferable that the usage-amount of microparticles | fine-particles shall be about 1-30 weight part with respect to 100 weight part of resin.
또한, 하드 코트층(방현층)(2)의 형성에는, 레벨링(leveling)제, 대전 방지제 등의 첨가제를 함유시킬 수 있다. 하드 코트층(방현층)(2)의 형성에 있어, 치크 소트로피제(0.1㎛ 이하의 실리카, 마이카 등)을 함유시키는 것에 의해, 방현층 표면에 있어서, 돌출 입자에 의해 미세 요철 구조를 용이하게 형성할 수가 있다. In addition, additives, such as a leveling agent and an antistatic agent, can be contained in formation of the hard-coat layer (anti-glare layer) 2. In the formation of the hard coat layer (anti-glare layer) 2, by containing a cheek sotropy agent (silica, mica, etc. of 0.1 µm or less), fine concavo-convex structure is easily formed by the protruding particles on the anti-glare layer surface. Can be formed.
반사 방지층의 형성법은, 특히 제한되지 않지만, 하드 코트층(2)의 굴절률보다 낮은 굴절율의 저굴절률 재료를 이용한 습식 도공법이, 진공 증착법등에 비해 간단하고 쉬운 방법이고 바람직하다. 반사 방지층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면, 자외선 경화형 아크릴 수지 등의 수지계 재료, 수지 중에 콜로이달 실리카(colloidal silica)등의 무기 미립자를 분산시킨 하이브리드(hybrid)계 재료, 테트라 에톡시 실란(tetra ethoxy silane) 등의 금속알콕시드(alkoxide)를 이용한 졸(sol)-겔(gel)계 재료 등을 들 수 있다. 또, 각각의 재료는, 표면의 방오성을 부여하기 위해 불소기 함유 화합물이 사용된다. 내찰상성의 측면에서는 무기 성분 함유량이 많은 저굴절률층 재료가 우수한 경향이 있어, 특별히 졸(sol)-겔(gel)계 재료가 바람직하다. 졸(sol)-겔(gel)계 재료는 부분 축합 하여 이용할 수가 있다. Although the formation method of an antireflection layer is not restrict | limited, The wet coating method using the low refractive index material of refractive index lower than the refractive index of the hard-coat layer 2 is a simple and easy method compared with the vacuum vapor deposition method etc., and is preferable. Examples of the material for forming the antireflection layer include resin materials such as an ultraviolet curable acrylic resin, hybrid materials in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, and tetraethoxy silane (tetra). sol-gel-based materials using metal alkoxides such as ethoxy silane. In addition, a fluorine group containing compound is used for each material in order to provide the antifouling property of the surface. From the standpoint of scratch resistance, the low refractive index layer material having a high inorganic component content tends to be excellent, and a sol-gel material is particularly preferable. The sol-gel-based material can be partially condensed and used.
본 발명에 따르면, 하드코트층(2)을 구성하는 투명 수지와 도전성 미립자의 비중 차이를 이용하여 투명 기재 필름 쪽으로 편재 시키는 방법이 아닌, 도전성 미립자를 도전성/자성을 함께 지닌 미립자(3)로 대체하고, 상기 도전성/자성 미립자를 자성(5)을 이용하여 투명 기재 필름(1)쪽으로 편재시키는 방법으로서 종래 비중차를 이용한 하드 코트층의 도전성 미립자를 투명 기재 필름쪽으로 편재 방법의 단점인 시간적 손실을 극복함은 물론, 기재와 접촉하는 롤 내측의 자성인가체를 매트릭스 구조로 배열함으로써, 도전성/자성 미립자의 기재쪽 편재를 자성인가체와 같 은 매트릭스 형태로 규칙적이고 정확하게 할 수 있어 상기 도전성/자성 미립자가 뭉치는 현상이 발생하지 않고 규칙적이고 일정한 분포로 편재될 수 있는 등의 효과를 가진다. According to the present invention, the conductive fine particles are replaced by the
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