KR20070057348A - 투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치 - Google Patents

Abstract

이멀전 리소그라피 공정을 수행하기 위한 노광 장치는, 광원, 조명부, 투영부 및 기판 스테이지를 포함한다. 상기 투영부는 상기 조명부를 통과한 조명광을 기판 상으로 축소 투영하기 위한 투영 렌즈 어레이와, 상기 투영 렌즈 어레이 하단에 고정되어 상기 기판 및 상기 투영 렌즈 어레이의 최종 투영 렌즈 사이로 유체를 플로우시켜 상기 유체를 퍼들(puddle) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재를 포함한다. 이때, 상기 기판 스테이지는 상기 기판을 지지하고 수직 방향으로 이동시켜 상기 퍼들의 수위를 조절한다. 여기서, 상기 유지 부재를 투영 렌즈 어레이 하단에 고정시키고, 상기 퍼들 크기를 기판 스테이지를 수직 방향으로 이동시켜 조절됨으로써, 종래에 발생하던 유지 부재 기울어짐 등의 문제점을 미연에 방지할 수 있다.

Description

투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치{Projecting apparatus and exposing apparatus having the same}

도 1은 종래 기술에 따른 이멀전 리소그라피 장치를 설명하기 위한 개략적인 부분 단면도이다.

도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.

도 3은 도 2에 도시된 노광 장치의 투영부를 설명하기 위한 개략적인 부분 단면도이다.

도 4는 도 3에 도시된 투영부의 유지 부재를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

200 : 광원 250: 조명부

300 : 레티클 스테이지 350 : 투영부

352 : 투영 렌즈 어레이 354 : 몸체

356 : 에어 커튼 358 : 퍼들

370 : 유지 부재 376 : 센서

본 발명은 투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 광학 투영 렌즈와 반도체 기판 사이에 유체를 제공하여 분해능을 향상된 이멀전 리소그라피(immersion lithography)에 사용되는 투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치에 관한 것이다.

근래에 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 발전에 따라 반도체 소자 제조 기술도 비약적으로 발전하고 있다. 상기 반도체 소자는 집적도, 미세화 및 동작 속도 등을 향상시키는 방향으로 기술이 발전하고 있다. 이에 따라 집적도 향상을 위한 사진 공정과 같은 미세 패턴 형성 기술에 대한 요구 특성 또한 엄격해지고 있다.

사진 공정은 마스크 상에 형성된 패턴을 기판으로 전사하는 기술로서, 반도체 소자의 미세화 및 고집적화를 주도하는 핵심 기술이다. 특히, 상기 사진 공정 중 노광 공정은 UV(ultraviolet) 램프를 광원으로 하는 436nm의 g-lime과, 365nm의 i-line을 거쳐, 현재는 DUV(deep ultraviolet) 영역의 248nm의 파장을 가지는 KrF 레이저와, 193nm의 파장을 가지는 ArF 레이저 같은 엑시머 레이저(excimer laser) 등을 사용한 단파장화를 통해 해상도 향상을 꾀하고 있다. 최근에는 157nm의 파장을 가지는 F₂ 레이저를 사용하는 노광 기술로 발전하고 있다.

이밖에 새로운 노광 기술로 이온빔 광원, 전자빔 광원, 근접 엑스선(X-ray) 광원을 이용한 장비가 개발되고 있으나, 상기 장비들은 고가인 문제가 있다.

이로 인하여, 기존의 광원을 사용하면서 해상도를 향상시키도록 변형된 이멀전 리소그라피(immersion lithography) 장치가 주목을 받고 있다.

이멀전 리소그라피는 반도체 기판과 투영 렌즈 사이에 굴절율이 1보다 큰 액체를 개재하여 액체의 굴절율에 비례하는 해상도(resolution) 증가 및 초점심도(depth of focus)의 향상을 기하는 새로운 사진 기술이다.

도 1은 종래 기술에 따른 이멀전 리소그라피 장치를 설명하기 위한 개략적인 부분 단면도이다.

상기 이멀전 리소그라피 장치는, 광원(도시되지 않음)으로부터 발생된 광은 반도체 기판(W) 상으로 투영시키기 위한 투영 렌즈 어레이(100)와, 상기 반도체 기판(W)을 지지하기 위한 기판 스테이지(104)와, 상기 투영 렌즈 어레이(100)의 최종 렌즈와 상기 반도체 기판(W) 사이에 유체를 제공하여 상기 반도체 기판(W) 상에 상기 유체를 퍼들(110) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재(102)와, 상기 반도체 기판(W) 상으로 제공된 유체의 가장자리를 따라 에어 커튼(108)을 형성하기 위한 에어 공급부(도시되지 않음)를 포함한다.

도 1에 도시된 바와 같이 상기 유지 부재(102)와 투영 렌즈 어레이(100)는 연결 부재(106)에 의해 연결되어 있다. 이때, 유지 부재(102)는 상기 연결 부재(106)를 통해 에어 공급부로부터 공급되는 에어량에 의해 상하 이동한다. 보다 상세하게 설명하면, 상기 연결 부재(106)에는 상기 유지 부재(102)가 상하 이동이 가능하도록 수직 방향으로 홈이 형성되어 있다. 또한, 상기 유지 부재(102) 하부에는 상기 반도체 기판(W) 상으로 에어를 공급하기 위한 에어 홀들이 형성되어 있다. 상 기 에어 홀들을 통해 에어가 분사되고 상기 분사된 에어량에 따라 유지 부재(102)와 반도체 기판(W) 사이의 간격을 조절할 수 있다.

상기 반도체 기판(W)과 유지 부재(102) 사이의 간격에 따라 형성되는 퍼들(110)의 수위가 변하게 되며, 이로써 퍼들(110)의 굴절률을 조절할 수 있다.

이때, 상기 에어량이 고르게 분사되지 않는 경우, 상기 유지 부재(102)가 일 측으로 기울어지게 된다. 이로써 상기 에어 커튼(108)의 균형이 흐트러져 상기 유체의 퍼들(110) 상태가 깨져 상기 에어 커튼(108) 외부로 누설될 수 있다. 또한, 심한 경우, 상기 유지 부재(102)의 일 측이 상기 반도체 기판(W)과 충돌할 수 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 반도체 기판 상에 형성된 퍼들 상태를 유지시키면서 상기 퍼들의 수위를 보다 용이하게 조절할 수 있는 투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치를 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 투영 장치는, 광원으로부터 발생된 광을 기판 상으로 축소 투영시키기 위한 투영 렌즈 어레이(projection lens array)와, 상기 투영 렌즈 어레이 하단에 고정되어, 상기 기판 및 상기 투영 렌즈 어레이의 최종 투영 렌즈 사이로 유체를 플로우(flow)시켜, 상기 유체를 퍼들(puddle) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재와, 상기 기판을 지지하고 수직 방향으로 이동시켜 상기 퍼들의 수위를 조절하기 위한 스테이지(stage)를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 유지 부재는, 상기 유체가 제공되는 오목부와 상기 오목부 중앙에 형성된 홀(hole)을 가지며, 상기 투영 렌즈 하단에 고정되어 상기 홀을 통해 상기 광을 통과시키기 위한 몸체와, 상기 오목부로 유체를 제공하기 위한 주입 노즐(supply nozzle)과, 상기 제공된 유체를 배출하기 위한 배출 노즐(recovery nozzle)과, 상기 몸체와 상기 기판 사이에서 상기 유체의 누설을 방지하며, 상기 유체를 퍼들 상태로 유지하기 위하여 상기 홀의 가장자리를 따라 하방으로 에어 커튼을 형성하기 위한 에어 공급부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 투영 장치는 상기 유지 부재 및 기판 사이의 거리를 감지하기 위한 센서를 더 포함할 수 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따르면, 노광 장치는, 광원과, 상기 광원으로부터 발생된 광을 패턴이 형성된 레티클(reticle)로 제공하기 위한 조명부와, 상기 레티클을 지지하기 위한 레티클 스테이지(reticle stage)와, 광원으로부터 발생된 광을 기판 상으로 축소 투영시키기 위한 투영 렌즈 어레이(projection lens array)와, 상기 투영 렌즈 어레이 하단에 고정되어, 상기 기판 및 상기 투영 렌즈 어레이의 최종 투영 렌즈 사이로 유체를 플로우(flow)시켜, 상기 유체를 퍼들(puddle) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재와, 상기 기판을 지지하고 수직 방향으로 이동시켜 상기 퍼들의 크기를 조절하기 위한 기판 스테이지(substrate stage)를 포함한다.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 유지 부재가 투영 렌즈 어레이에 고정되어, 상기 유지 부재 및 기판 스테이지 사이에 형성되는 퍼들의 수위를 상기 기판 스테이지를 상하 이동시켜 조절함으로써, 종래에 에어량에 의해 상기 퍼들의 수위를 조절하는 동안 발생될 수 있는 유지 부재의 기울어짐 등을 미연에 방지할 수 있다.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 따른 투영 장치 및 이를 포함하는 노광 장치에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.

반도체 기판(W) 상에는 포토레지스트 막이 형성되어 있으며, 상기 포토레지스트 막은 노광 공정 및 현상 공정을 통해 포토레지스트 패턴으로 형성된다. 상기 포토레지스트 막은 포토레지스트 조성물 코팅(coating) 공정 및 소프트 베이크(soft bake) 공정을 통해 상기 반도체 기판(W) 상에 형성되면, 상기 노광 공정 및 현상 공정을 통해 형성된 포토레지스트 패턴은 식각 마스크 또는 이온 주입 마스크 등으로 사용될 수 있다.

또한, 상기 반도체 기판(W) 상에는 다수의 샷(shot) 영역이 설정되어 있으며, 각각의 샷 영역은 적어도 하나의 다이(die) 영역을 포함한다. 상기 다이 영역의 크기는 목적하는 반도체 장치의 종류에 따라 변화될 수 있으며, 다이 영역의 크기에 따라 각각의 샷 영역의 크기 및 샷 영역들의 수량이 결정될 수 있다.

도 2를 참조하면, 노광 장치는, 광원(200)과, 상기 광원(200)으로부터 발생된 광을 패턴이 형성된 레티클로 제공하기 위한 조명부(250)와, 상기 레티클을 지지하고 이동시키기 위한 레티클 스테이지(300)와, 상기 레티클(R)을 통과한 조명광 을 반도체 기판(W) 상으로 축소 투영시키기 위한 투영부(350)와, 상기 반도체 기판(W)을 지지하고 이동시키기 위한 기판 스테이지(400)를 포함한다.

광원(200)으로는 248nm의 파장을 가지는 KrF 레이저와, 193nm의 파장을 가지는 ArF 레이저 같은 엑시머 레이저(excimer laser)와, 157nm의 파장을 가지는 F₂ 레이저를 사용할 수 있다.

여기서, 상기 광원(200)의 파장은 노광 장치의 분해능을 결정하는 중요한 요소가 된다. 즉, 분해능은 파장과 비례하고 광학계 개구수와 반비례하며, 상기 파장이 짧을수록 분해능이 향상된다. 따라서, 광원(200)으로써 상기 KrF 레이저에서 ArF 레이저, F₂ 레이저를 사용할수록 상기 노광 장치의 분해능이 향상된다.

상기 광원(200)은 빔 매칭 유닛(beam matching unit, 도시되지 않음)을 통해 조명부(250)와 연결된다. 상기 조명부(250)는 광원(200)으로부터 생성된 조명광을 레티클(R) 또는 광 투과 부재 상으로 전송하며, 상기 조명부(250)를 통해 상기 레티클(R) 또는 광 투과 부재 상으로 조명된 조명광은 사각 리본 형상의 단면을 갖는다.

이때, 레티클(R)의 이미지 패턴은 상기 반도체 기판(W) 상에 전사되기 위한 이미지와 실질적으로 동일하며, 상기 이미지는 목적하는 포토레지스트 패턴과 대응한다. 즉, 상기 레티클(R) 상으로 조명된 조명광은 상기 레티클(R)을 통해 이미지 정보를 포함하는 투영광으로 형성된다.

상기 조명부(illumination unit, 250)는, 외부 공기로부터 내부를 밀봉하기 위한 조명 시스템 하우징(illumination system housing, 202), 가변 빔 감쇠기(variable beam attenuator, 204), 빔 형상 최적화 시스템(beam shaping optical system, 206), 제1 플라이 아이 렌즈 시스템(first fly-eye lens system, 208), 진동 미러(vibrating mirror, 210), 콘덴서 렌즈(condenser lens, 212), 제1 미러(first mirror, 214), 제2 플라이 아이 렌즈 시스템(second fly-eye lens system, 216), 애퍼처 스톱 플레이트(aperture stop plate, 218), 빔 스플리터(beam splitter, 220), 제1 릴레이 렌즈(first relay lens, 222), 레티클 블라인드 기구(reticle blind mechanism, 224), 제2 릴레이 렌즈(second relay lens, 226), 제2 미러(second mirror, 228), 주 콘덴서 렌즈 시스템(main condenser lens system, 230) 등을 포함한다.

레티클 스테이지(reticle stage, 300)는 상기 레티클 스테이지(300)를 수평 방향으로 이동시키기 위하여 제1 구동 유닛(302)과 연결되고, 기판 스테이지(400)는 기판 스테이지(400)를 수평 방향 및 수직 방향으로 이동시키기 위하여 제2 구동 유닛(402)과 연결되어 있다.

상기 다수의 샷 영역들에 대한 노광 공정을 수행하는 동안, 상기 제1 구동 유닛(302)은 상기 레티클(R) 상으로 조명되는 조명광을 이미지 정보를 포함하는 투영광으로 형성하기 위해 상기 레티클 스테이지(300)를 수평 이동시키며, 상기 제2 구동 유닛(402)은 상기 투영광이 각각의 샷 영역을 스캔하도록 상기 레티클 스테이지(300)의 이동 방향에 대하여 반대 방향으로 상기 기판 스테이지(400)를 동시에 이동시킨다. 이때, 상기 레티클 스테이지(300)는 상기 조명광의 광축과 상기 조명 과의 단면 길이 방향에 대하여 수직하는 방향으로 이동되며, 상기 기판 스테이지(400)는 상기 투영광의 광축과 상기 투영광의 단면 길이 방향에 대하여 수직하여 상기 레티클 스테이지(300)의 이동 방향에 대하여 반대 방향으로 이동된다.

상기 레티클(R)을 통과함으로써 이미지 정보를 갖는 조명광은 투영부(350)를 통해 반도체 기판(W) 상으로 조사된다.

도 3은 도 2에 도시된 노광 장치의 투영부를 설명하기 위한 개략적인 부분 단면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 투영부의 유지 부재를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.

도 3을 참조하면, 투영부(350)는, 복수의 콘덴서 렌즈들(condenser lens)을 포함하는 투영 렌즈 어레이(projection lens array, 352)와, 상기 투영 렌즈 어레이(352) 하단에 고정되고 상기 반도체 기판(W)과 상기 최종 투영 렌즈 사이에 유체를 플로우시켜 상기 유체를 퍼들(puddle, 368) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재(370)를 포함한다.

상기 투영 렌즈 어레이(352) 및 반도체 기판(W) 사이에 형성된 유체 퍼들(368)은 공기보다 상기 광을 더 굴절시키고, 상기 굴절된 광은 원래 광원(200)의 파장보다 짧은 파장을 갖게 된다. 이로써, 전술한 바와 같이 파장이 짧아짐으로써 노광 공정의 분해능을 향상시킬 수 있다. 이와 같이 반도체 기판(W) 및 투영 렌즈 어레이(352) 사이에 유체 퍼들(368)을 사용함으로써 분해능을 향상시키는 기술을 이멀전 리소그라피(immersion lithography) 기술이라 한다.

한편, 상기 투영 렌즈 어레이(352)는 상기 레티클(R)을 통과한 광이 들어오 는 입사면과, 상기 광이 나가는 출사면을 갖는다. 도 4를 참조하면, 상기 유지 부재(370)는 상기 투영 렌즈 어레이(352) 출사면에 고정되어 구비된다. 상기 유지 부재(370)는 상기 투영 렌즈 어레이(352)의 출사면과 대응되는 형상을 가지며, 상기 유지 부재(370)와 상기 출사면 사이에 소정의 간격을 갖도록 고정된다.

또한, 상기 유지 부재(370)는, 상기 유체가 제공되는 오목부(356)와 상기 오목부(356) 중앙에 형성된 홀을 가지며 상기 투영 렌즈 하단에 고정되어 상기 홀(358)을 통해 상기 광을 통과시키기 위한 몸체(body, 354)와, 상기 오목부(356)로 상기 유체를 제공하기 위한 유입 노즐(supply nozzle, 360)과, 상기 제공된 유체를 배출시키기 위한 배출 노즐(recovery nozzle, 362)과, 상기 몸체(354)와 상기 반도체 기판(W) 사이에서 상기 유체의 누설을 방지하며 상기 유체를 퍼들(368) 상태로 유지하기 위하여 상기 홀(358)의 가장자리를 따라 하방으로 에어 커튼(air curtain, 366)을 형성하기 위한 에어 공급부(도시되지 않음)를 포함한다.

상기 유입 노즐(360)은 상기 유지 부재(370)의 일 측을 관통하여 상기 홀(358)과 연통되어 상기 홀(358)을 통해 상기 반도체 기판(W) 상으로 유체를 제공하며, 상기 배출 노즐(362)은 유지 부재(370)의 타 측을 관통하여 홀(358)과 연통되어 상기 반도체 기판(W) 상으로 제공된 유체를 배출시킨다. 상기 유입 노즐(360)과 상기 배출 노즐(362)을 이용함으로써 상기 반도체 기판(W) 상으로 유체를 플로우시킬 수 있다.

이때, 상기 유체로는 물(H₂O)을 사용할 수 있다. 상기 물은 굴절률이 1.44로 써 공기보다 굴절률이 커 상기 광원(200)으로부터 발생된 광을 공기보다 더 굴절시킨다. 따라서, 파장이 긴 ArF 및 KrF 엑시머 레이저를 광원(200)으로 이용하더라고, 상기 유체에 의해 더 굴절되어 F₂와 같이 파장이 짧은 광원(200)을 사용하는 노광 공정과 동일한 효과를 획득할 수 있다.

여기서, 상기 유체는 유체의 장력(tension)에 의해 퍼들(368) 상태를 유지할 수 있다. 그러나, 상기 퍼들(368) 상태는 외부 충격이나 조건에 의해 쉽게 깨질 수 있다. 따라서, 상기 유체 퍼들(368) 상태를 유지하기 위하여 상기 반도체 기판(W) 상으로 에어를 공급하여 상기 유체 퍼들(368) 주연 부위를 따라 에어 커튼(366)을 형성한다. 이를 위하여 상기 유지 부재(370)의 홀(358)의 가장 자리를 따라 다수의 에어 홀(도시되지 않음)들이 형성되며, 상기 에어 홀들을 통해 에어를 하방으로 방출하여 상기 유체 퍼들(368) 주연 부위에 에어 커튼(366)을 형성한다.

상기 에어 커튼(366)을 형성하기 위하여 상기 유지 부재(370)는 상기 반도체 기판(W) 상으로 에어를 공급하기 위한 에어 공급부와 연결되어 있다. 자세하게 도시되어 있지는 않지만, 에어 공급부는 에어를 보관하는 에어 탱크(air tank, 도시되지 않음)와, 상기 에어를 상기 반도체 기판(W) 상으로 제공하기 위하여 상기 유지 부재(370)를 관통하여 상기 에어 홀들과 각각 연결된 에어 주입 노즐(364)을 포함한다. 이때, 에어는 압축 공기로써 상기 에어 홀들을 관통하여 반도체 기판(W) 상으로 제공되는 동안 공기 유막을 형성하여 외부와 내부를 서로 차단한다.

반도체 기판(W)은 기판 스테이지(400) 상에 지지된다. 상기 기판 스테이지 (400)는 전술한 바와 같이 수평 방향 및 수직 방향으로 이동 가능하도록 제2 구동 유닛(402)과 연결되어 있다. 이때, 상기 기판 스테이지(400)를 수직 방향으로 이동시킴으로써 상기 유지 부재(370)와 상기 반도체 기판(W) 사이의 퍼들(368)의 수위를 조절할 수 있다.

따라서, 종래에 에어량으로 상기 반도체 기판(W)과 유지 부재(370) 사이에 형성된 퍼들(368)의 수위를 조절함으로써 발생하던 유지 부재(370)의 기울어짐과 같은 문제점을 미연에 방지할 수 있다.

또한, 상기 노광 장치는 상기 기판 스테이지(400) 및 유지 부재(370) 사이의 간격을 감지하기 위한 센서(376)를 더 포함한다. 상기 센서(376)는, 기판 스테이지(400) 일 측에 발광 소자(374)와, 상기 기판 스테이지(400)의 일 측과 대향하는 유지 부재(370) 일 측에 수광 소자(372)를 포함하는 광 센서일 수 있다. 한편, 상기 발광 소자(374) 및 수광 소자(372)가 일 측에 함께 구비된 반사형 광 센서일 수 있다.

상기 설명되어진 바와 같이, 유지 부재(370)를 투영 렌즈 어레이(352)에 고정시키고, 상기 유지 부재(370)와 반도체 기판(W) 사이에 형성된 퍼들(368)의 수위를 기판 스테이지(400)를 상하 이동시킴으로써 조절하여, 상기 유지 부재(370)가 일 측으로 기울어지는 현상을 미연에 억제할 수 있다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 유지 부재를 투영부의 투영 렌즈 어레이 하단에 고정시키고, 유지 부재와 반도체 기판 사이의 간격 을 센서를 통해 감지하여, 기판 스테이지를 상하 이동시킴으로써 상기 유지 부재 및 반도체 기판 사이에 형성되는 퍼들의 수위를 조절할 수 있다. 따라서, 종래에 상기 유지 부재를 이동시켜 상기 퍼들의 수위를 조절함으로써 발생하던 유지 부재의 기울어짐 현상 등을 미연에 방지할 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (4)

1. 광원으로부터 발생된 광을 기판 상으로 축소 투영시키기 위한 투영 렌즈 어레이(projection lens array);

   상기 투영 렌즈 어레이 하단에 고정되어, 상기 기판 및 상기 투영 렌즈 어레이의 최종 투영 렌즈 사이로 유체를 플로우(flow)시켜, 상기 유체를 퍼들(puddle) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재; 및

   상기 기판을 지지하고 수직 방향으로 이동시켜 상기 퍼들의 수위를 조절하기 위한 스테이지(stage)를 포함하는 투영 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 유지 부재는,

   상기 유체가 제공되는 오목부와 상기 오목부 중앙에 형성된 홀(hole)을 가지며, 상기 투영 렌즈 하단에 고정되어 상기 홀을 통해 상기 광을 통과시키기 위한 몸체;

   상기 오목부로 유체를 제공하기 위한 주입 노즐(supply nozzle);

   상기 제공된 유체를 배출하기 위한 배출 노즐(recovery nozzle); 및

   상기 몸체와 상기 기판 사이에서 상기 유체의 누설을 방지하며, 상기 유체를 퍼들 상태로 유지하기 위하여 상기 홀의 가장자리를 따라 하방으로 에어 커튼(air curtain)을 형성하기 위한 에어 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 유지 부재 및 기판 사이의 거리를 감지하기 위한 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 장치.
4. 광원;

   상기 광원으로부터 발생된 광을 패턴이 형성된 레티클(reticle)로 제공하기 위한 조명부;

   상기 레티클을 지지하기 위한 레티클 스테이지(reticle stage);

   상기 광을 기판 상으로 축소 투영시키기 위한 투영 렌즈 어레이(projection lens array);

   상기 투영 렌즈 어레이 하단에 고정되어, 상기 기판 및 상기 투영 렌즈 어레이의 최종 투영 렌즈 사이로 유체를 플로우(flow)시켜, 상기 유체를 퍼들(puddle) 상태로 유지시키기 위한 유지 부재; 및

   상기 기판을 지지하고 수직 방향으로 이동시켜 상기 퍼들의 수위를 조절하기 위한 기판 스테이지(substrate stage)를 포함하는 노광 장치.

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