KR20070054011A - Semiconductor memory chip including signature id circuit - Google Patents
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Abstract
본 발명은 시그네이쳐 아이디 회로를 포함하는 반도체 메모리 칩에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 메모리 칩은, 상기 반도체 메모리 칩의 내부 회로에 연결된 복수의 패드; 상기 복수의 패드 중에서 적어도 하나의 패드(이하, 제 1 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 기준 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 기준 시그네이쳐 ID 회로; 및 상기 제 1 패드들의 제외한 복수의 패드(이하, 제 2 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 상기 기준 시그네이쳐 ID 정보의 정수배에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 복수의 시그네이쳐 ID 회로를 포함한다. 본 발명에 의하면, 시그네이쳐 ID 회로 내의 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압에 관계 없이 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 얻을 수 있다.The present invention relates to a semiconductor memory chip including a signature ID circuit. A semiconductor memory chip according to the present invention includes a plurality of pads connected to internal circuits of the semiconductor memory chip; A reference signature ID circuit electrically connected to at least one pad of the plurality of pads (hereinafter, referred to as first pads) and storing reference signature ID information; And a plurality of signature ID circuits electrically connected to a plurality of pads (hereinafter referred to as second pads) except for the first pads and storing signature ID information corresponding to an integer multiple of the reference signature ID information. Include. According to the present invention, it is possible to obtain accurate signature ID information regardless of the threshold voltage of the NMOS transistor in the signature ID circuit.
Description
도 1은 종래 기술에 따른 시그네이쳐 ID 회로를 구비한 반도체 메모리 칩의 일부분을 보여준다. 1 shows a portion of a semiconductor memory chip having a signature ID circuit according to the prior art.
도 2는 도 1에 도시된 시그네이쳐 ID 회로를 보여주는 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram illustrating the signature ID circuit shown in FIG. 1.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 메모리 칩을 보여주는 블록도이다. 3 is a block diagram illustrating a semiconductor memory chip according to the present invention.
도 4는 도 3에 도시된 시그네이쳐 ID 회로 내의 퓨즈 컷팅에 따른 시그네이쳐 ID 정보를 보여주는 도표이다.FIG. 4 is a diagram illustrating signature ID information according to fuse cutting in the signature ID circuit shown in FIG. 3.
도 5는 본 발명에 따른 반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 정보를 테스트하는 방법을 보여주는 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a method of testing signature ID information of a semiconductor memory chip according to the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for main parts of drawings *
100, 200: 반도체 메모리 칩 110, 210: 내부회로100 and 200:
120, 220: 기준 시그네이쳐 ID 회로 120, 220: reference signature identification circuit
121~12n, 221~22n: 시그네이쳐 ID 회로121-12n, 221-22n: Signature ID circuit
본 발명은 반도체 메모리 칩에 관한 것으로서, 시그네이쳐 아이디 회로를 포함하는 반도체 메모리 칩에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory chip, and more particularly, to a semiconductor memory chip including a signature ID circuit.
반도체 메모리 칩은 데이터를 저장해 두고 필요할 때 꺼내어 읽어볼 수 있는 기억 장치이다. 반도체 메모리는 크게 RAM(Random Access Memory)과 ROM(Read Only Memory)으로 나눌 수 있다. ROM은 전원이 끊어지더라도 저장된 데이터가 소멸하지 않는 불휘발성 메모리(nonvolatile memory)이다. ROM에는 PROM(Programmable ROM), EPROM(Erasable PROM), EEPROM(Electrically EPROM), 플래시 메모리(Flash Memory ) 등이 있다. RAM은 전원이 끊어지면 저장된 데이터가 소멸하는 소위 휘발성 메모리(volatile memory)이다. RAM에는 Dynamic RAM(DRAM)과 Static RAM(SRAM) 등이 있다. A semiconductor memory chip is a memory device that stores data and can be read out when needed. Semiconductor memories can be broadly divided into random access memory (RAM) and read only memory (ROM). ROM is nonvolatile memory that does not lose its stored data even when its power supply is interrupted. The ROM includes PROM (Programmable ROM), EPROM (Erasable PROM), EEPROM (Electrically EPROM), Flash Memory, and the like. RAM is a so-called volatile memory that loses its stored data when the power is turned off. RAM includes Dynamic RAM (DRAM) and Static RAM (SRAM).
반도체 메모리 칩의 제조 방법은 통상적으로 매우 많은 공정으로 구성된다. 반도체 메모리 칩의 전형적인 제조 방법이 이하 간략하게 설명될 것이다. 먼저, 웨이퍼 처리 공정은 포토리소그래피(photolithography) 단계, 에칭 단계, 세정 단계 등으로 반복적으로 웨이퍼 표면에 이루어지며, 특정 반도체 메모리 칩들이 웨이퍼 상에 형성된다. 다음으로, 웨이퍼에 형성된 개별 칩의 양호/불량 판단을 위한 테스트가 프로브(probe) 장치를 사용하여 수행되어 매핑 데이터(mapping data)를 얻고, 이 데이터는 웨이퍼 조립 공정으로 보내진다.The manufacturing method of a semiconductor memory chip usually consists of a very large number of processes. A typical method of manufacturing a semiconductor memory chip will be briefly described below. First, the wafer processing process is repeatedly performed on the wafer surface by a photolithography step, an etching step, a cleaning step, and the like, and specific semiconductor memory chips are formed on the wafer. Next, a test for good / bad judgment of the individual chips formed on the wafer is performed using a probe device to obtain mapping data, which is sent to a wafer assembly process.
웨이퍼 조립 공정 중에, 웨이퍼는 다이싱(dicing) 단계에서 개별 다이로 분할된다. 다음에, 양호한 다이(die)는 매핑 데이터에 따라서 픽업(pickup)되어 본딩 단계에서 리드 프레임에 장착된다. 그리고 나서, 와이어 본딩 단계에서, 반도체 메 모리 칩용 리드-아웃 단자와 연결 전극이 와이어 본딩을 통하여 연결된다. 이후, 패키징(packaging) 공정에서, 몰드 성형이, 열 경화성 수지를 사용하여 반도체 메모리 칩에 수행되고 특정 정보가 패키지의 표면에 표시되어 반도체 메모리 칩을 완성한다.During the wafer assembly process, the wafer is divided into individual dies in a dicing step. Next, a good die is picked up according to the mapping data and mounted on the lead frame in the bonding step. Then, in the wire bonding step, the lead-out terminal for the semiconductor memory chip and the connection electrode are connected by wire bonding. Then, in a packaging process, mold molding is performed on the semiconductor memory chip using a thermosetting resin and specific information is displayed on the surface of the package to complete the semiconductor memory chip.
상술한 바와 같이, 반도체 메모리 칩을 완성하기 위해서는 많은 복잡한 공정이 실행되어야하고, 개별 공정에서 반도체 메모리 칩에 대한 정확한 정보를 관리하는 것이 필요하다. 종래 기술에 따른 반도체 제조 공정의 주요 주안점이 대량 생산을 이용하기 위하여 동일한 규격을 가진 반도체 메모리 칩을 대량으로 제조하는데 맞추어지기 때문에, 공정을 통해 분포된 반도체 메모리 칩에 대한 정보 관리는 비교적 용이하다. 즉, 종래 기술의 반도체 제조 방법에서, 동일한 제조 시스템을 통하여 처리된 반도체 메모리 칩은, 공정을 통하여 하나의 로트 단위로서 분포되고, 각 로트는 보통 동일 조건에서 처리되므로 정보 관리가 비교적 용이하다.As described above, in order to complete a semiconductor memory chip, many complicated processes must be executed, and it is necessary to manage accurate information about the semiconductor memory chip in individual processes. Since the main focus of the semiconductor manufacturing process according to the prior art is tailored to mass production of semiconductor memory chips with the same specifications in order to take advantage of mass production, information management on semiconductor memory chips distributed through the process is relatively easy. That is, in the semiconductor manufacturing method of the prior art, semiconductor memory chips processed through the same manufacturing system are distributed as one lot unit through the process, and each lot is usually processed under the same conditions so that information management is relatively easy.
그러나 최근에, 반도체 메모리 칩이 일반적인 상품과 부품 분야에서 매우 광범위하게 사용되면서, 에이직(ASIC;application specific integrated circuit)과 에스오에스(SOS; system on silicon)와 같은 다품종 소량 생산 반도체 메모리 칩에 대한 시장 요구가 높아지고 있다. 양적으로, 하나의 웨이퍼는 때때로 특정 적용을 위한 여러 종류의 반도체 메모리 칩을 생산하는데 충분한 양을 보장할 수도 있다. 동시에, 대용량 메모리 칩의 경우에서와 같이 칩의 일부가 양호하기만 하면 제품이 출하될 수 있는 상황이 존재하므로, 정보 관리를 주어진 웨이퍼 내의 각각의 칩에 개별적으로 실행하는 것이 필요하다.Recently, however, as semiconductor memory chips have become very widely used in general commodity and component fields, the market for small-volume, low-volume production semiconductor memory chips such as application specific integrated circuit (ASIC) and system on silicon (SOS) The demand is rising. Quantitatively, one wafer may sometimes ensure an amount sufficient to produce several types of semiconductor memory chips for a particular application. At the same time, as in the case of a large-capacity memory chip, there is a situation in which a product can be shipped as long as a part of the chip is good, and therefore, it is necessary to perform information management separately on each chip in a given wafer.
이러한 목적을 위하여, 종래 기술의 반도체 제조 방법에서, 다양한 공정을 통한 반도체 장치의 물류는, 수지로 봉착된 반도체 패키지 또는 웨이퍼 상의 반도체 메모리 칩의 표면에 숫자와 알파벳 문자와 같은 ID 정보를 마킹(marking)하여 관리된다. 그러나 알파벳 문자를 사용하여 기록될 수 있는 정보량은 한계가 있다. 또한, 문자/숫자식의 문자(alphanumeric character)를 판독할 때 에지 인식 처리를 수행하는 것이 필요한데, 이것이 어렵다. 이러한 방법에는, 상기 문자가 오염되거나 손상되기 쉽다는 문제가 추가된다.For this purpose, in the semiconductor manufacturing method of the prior art, the distribution of semiconductor devices through various processes, marking the ID information such as numbers and alphabet letters on the surface of the semiconductor memory chip on the semiconductor package or wafer sealed with resin. Is managed. However, the amount of information that can be recorded using alphabetic characters is limited. In addition, it is necessary to perform edge recognition processing when reading alphanumeric characters, which is difficult. This method adds the problem that the character is susceptible to contamination or damage.
도 1은 종래 기술에 따른 시그네이쳐 ID 회로를 구비한 반도체 메모리 칩의 일부분을 보여준다. 도 1을 참조하면, 패드(10)와 제 1 전원 전압(VDD) 사이에 그리고 패드(10)와 접지 전압(VSS) 사이에 보호 회로(ElectorStatic Diode; ESD)로서 다이오드들(D1, D2)이 각각 연결되어 있다. 패드(10)와 제 2 전원 전압(VDDQ) 사이에는 시그네이쳐 ID 회로(20)가 연결되어 있다. 1 shows a portion of a semiconductor memory chip having a signature ID circuit according to the prior art. Referring to FIG. 1, diodes D1 and D2 are provided as a protective circuit (ElectorStatic Diode (ESD)) between the
시그네이쳐 ID 회로(20)는, 잘 알려진 바와 같이, 전원 전압과 패드 사이에 직렬 연결된 다이오드들과 상기 다이오드들 각각의 양단에 연결되는 퓨즈들로 구성된다(도 2 참조). 도 1에서 알 수 있듯이, 반도체 메모리 칩의 전원은 제 1 전원 전압(VDD)과 제 2 전원 전압(VDDQ)으로 분리되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 보호 회로(ESD)가 구비되어 있는 경우에는 시그네이쳐 ID 회로(20)에 제 1 전원 전압(VDD) 대신에 제 2 전원 전압(VDDQ)을 사용하기도 한다.The
반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 회로를 이용하여 칩 정보를 확인할 때, 테스트 시의 특정 조건을 셋업함으로써 칩 정보를 검출할 수 있다. 정보 검출시 노 말 디바이스 기능(normal device function)에는 전혀 영향을 주지 않아야 하므로 통상 제 2 전원 전압(VDDQ)를 0V로 하고 패드(10)에 전류를 가하여(forcing) 퓨즈 컷팅으로 조절한 다이오드 수에 의해 결정된 레벨의 측정을 통해 패키지 정보를 확인하게 된다.When the chip information is confirmed using the signature ID circuit of the semiconductor memory chip, the chip information can be detected by setting up specific conditions during the test. Since the normal device function should not be affected at all when detecting information, the number of diodes adjusted by fuse cutting by forcing current of the second power supply voltage VDDQ to 0 V and
도 2는 도 1에 도시된 시그네이쳐 ID 회로를 보여주는 회로도이다. 도 2를 참조하면, 시그네이쳐 ID 회로(20)는 복수의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터(N1~N5), 복수의 퓨즈(F1~F4)로 구성되어 있으며, 도 2에 도시된 바와 같이 연결되어 있다. 퓨즈의 절단 유무에 따라 패키지 정보가 저장됨은 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 자명하다. FIG. 2 is a circuit diagram illustrating the signature ID circuit shown in FIG. 1. Referring to FIG. 2, the
시그네이쳐 ID 정보를 측정하기 위해서는 제 2 전원 전압(VDDQ)이 0V가 되도록 하고, 패드(10)에 적정 전류를 흐르게 해야 한다. 이때 패드(10)의 전압은 퓨즈 컷팅에 따라 1Vt에서 5Vt까지 구분 가능하며, 이를 통해 시그네이쳐 ID 정보를 저장하게 된다. 여기에서, Vt는 각각의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압이다.In order to measure the signature ID information, the second power supply voltage VDDQ should be 0V, and a proper current should flow through the
그러나 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압은 제조 공정에 따라 달라질 수 있다. NMOS 트랜지스터의 문턱 전압이 달라지면, 동일한 시그네이쳐 ID 정보를 저장하고 있지만, 다른 정보를 저장한 것으로 잘못 판단할 우려가 있다. However, the threshold voltage of diode-connected NMOS transistors can vary depending on the manufacturing process. If the threshold voltages of the NMOS transistors are different, the same signature ID information is stored, but there is a possibility that the NMOS transistor is stored differently.
예를 들면, 제 1 반도체 메모리 칩에 있는 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압은 1V이고, 제 2 반도체 메모리 칩에 있는 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압은 0.8V라고 가정하자. 제 1 내지 제 4 퓨즈(F1~F4)를 모두 컷팅한 경우에, 제 1 반도체 메모리 칩의 패드 전압은 5V이고, 제 2 반도체 메모리 칩의 패드 전압은 4V가 된다. 제 1 내지 제 4 퓨즈(F1~F4)를 모두 컷팅한 경우의 전압 섹션(Voltage Section)을 4.5V~5.5V라고 하면, 제 2 반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 정보는 제 1 내지 제 3 퓨즈(F1~F3)을 컷팅한 것으로 잘못 판단되는 문제점이 발생한다. 이는 반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 정보에 대한 신뢰성을 떨어뜨리는 요인이 된다.For example, assume that the threshold voltage of the NMOS transistor in the first semiconductor memory chip is 1V and the threshold voltage of the NMOS transistor in the second semiconductor memory chip is 0.8V. When all of the first to fourth fuses F1 to F4 are cut, the pad voltage of the first semiconductor memory chip is 5V and the pad voltage of the second semiconductor memory chip is 4V. If the voltage section in the case where all of the first to fourth fuses F1 to F4 are cut is 4.5 V to 5.5 V, the signature ID information of the second semiconductor memory chip is the first to third fuses. There is a problem that is incorrectly determined to have cut F1 ~ F3). This becomes a factor of reducing the reliability of the signature ID information of the semiconductor memory chip.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압에 관계없이 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 제공할 수 있는 반도체 메모리 칩 및 그 방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory chip capable of providing accurate signature ID information regardless of the threshold voltage of a diode-connected NMOS transistor, and a method thereof. have.
본 발명에 따른 반도체 메모리 칩은, 상기 반도체 메모리 칩의 내부 회로에 연결된 복수의 패드; 상기 복수의 패드 중에서 적어도 하나의 패드(이하, 제 1 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 기준 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 기준 시그네이쳐 ID 회로; 및 상기 제 1 패드들의 제외한 복수의 패드(이하, 제 2 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 상기 기준 시그네이쳐 ID 정보의 정수배에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 복수의 시그네이쳐 ID 회로를 포함한다.A semiconductor memory chip according to the present invention includes a plurality of pads connected to internal circuits of the semiconductor memory chip; A reference signature ID circuit electrically connected to at least one pad of the plurality of pads (hereinafter, referred to as first pads) and storing reference signature ID information; And a plurality of signature ID circuits electrically connected to a plurality of pads (hereinafter referred to as second pads) except for the first pads and storing signature ID information corresponding to an integer multiple of the reference signature ID information. Include.
이 실시예에 있어서, 상기 기준 시그네이쳐 ID 회로 및 상기 복수의 시그네이쳐 ID 회로는 각각 복수의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터를 포함한다. 상기 기준 시그네이쳐 ID 정보 및 상기 시그네이쳐 ID 정보는 상기 복수의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압에 따라 달라진다. 상기 기준 시그네이쳐 ID 회 로 및 상기 복수의 시그네이쳐 ID 회로는 퓨즈 컷팅에 따라 상기 복수의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압을 변경한다.In this embodiment, the reference signature ID circuit and the plurality of signature ID circuits each comprise a plurality of diode-connected NMOS transistors. The reference signature ID information and the signature ID information vary depending on threshold voltages of the plurality of diode-connected NMOS transistors. The reference signature ID circuit and the plurality of signature ID circuits change threshold voltages of the plurality of diode-connected NMOS transistors according to fuse cutting.
본 발명에 따른 반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 정보를 읽는 방법에 있어서, 상기 반도체 메모리 칩은 상기 반도체 메모리 칩의 내부 회로에 연결된 복수의 패드; 상기 복수의 패드 중에서 적어도 하나의 패드(이하, 제 1 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 기준 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 기준 시그네이쳐 ID 회로; 및 상기 제 1 패드들의 제외한 복수의 패드(이하, 제 2 패드들이라 함)에 전기적으로 연결되며, 상기 기준 시그네이쳐 ID 정보의 정수배에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장하는 복수의 시그네이쳐 ID 회로를 포함한다. A method of reading signature ID information of a semiconductor memory chip according to the present invention, the semiconductor memory chip comprising: a plurality of pads connected to an internal circuit of the semiconductor memory chip; A reference signature ID circuit electrically connected to at least one pad of the plurality of pads (hereinafter, referred to as first pads) and storing reference signature ID information; And a plurality of signature ID circuits electrically connected to a plurality of pads (hereinafter referred to as second pads) except for the first pads and storing signature ID information corresponding to an integer multiple of the reference signature ID information. Include.
상기 시그네이쳐 ID 정보를 읽는 방법은, 상기 반도체 메모리 칩에 시그네이쳐 ID 테스트 인에이블 신호를 제공하는 단계; 상기 복수의 패드에 전류를 공급하는 단계; 상기 복수의 패드에서 전압을 측정하는 단계; 상기 제 1 패드들의 전압 값을 기준으로 상기 제 2 패드들의 전압 값을 구하는 단계; 및 상기 제 2 패드들의 전압 값을 통해 상기 시그네이쳐 ID 정보를 파악하는 단계를 포함한다. 여기에서, 상기 테스트 인에이블 신호는 상기 복수의 패드 중에서 전원 패드에 제공하는 0V이다.The method of reading the signature ID information may include providing a signature ID test enable signal to the semiconductor memory chip; Supplying current to the plurality of pads; Measuring voltage at the plurality of pads; Obtaining voltage values of the second pads based on voltage values of the first pads; And identifying the signature ID information through the voltage values of the second pads. Here, the test enable signal is 0V provided to a power pad among the plurality of pads.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 메모리 칩을 보여주는 블록도이다. 도 3을 참 조하면, 예로서, 2개의 반도체 메모리 칩(100, 200)이 도시되어 있다. 각각의 반도체 메모리 칩은 내부 회로 및 시그네이쳐 ID 정보를 저장하기 위한 시그네이쳐 ID 회로를 포함하고 있다. 3 is a block diagram illustrating a semiconductor memory chip according to the present invention. Referring to FIG. 3, by way of example, two
여기에서, 설명의 편의를 위해 각각의 시그네이쳐 ID 회로는 도 2에 도시된 회로와 동일한 것으로 가정한다. 그리고 제 1 반도체 메모리 칩(100)의 시그네이쳐 ID 회로(120, 121, ..., 12n) 내의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압(Vta)은 1V라고 가정하고, 제 2 반도체 메모리 칩(200)의 시그네이쳐 ID 회로(220, 221, ..., 22n) 내의 다이오드-연결된 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압(Vtb)은 0.8V라고 가정한다.Here, for the convenience of explanation, it is assumed that each signature ID circuit is the same as the circuit shown in FIG. In addition, it is assumed that the threshold voltage Vta of the diode-connected NMOS transistor in the
도 3을 참조하면, 제 1 및 제 2 반도체 메모리 칩(100, 200)은 각각의 기준 시그네이쳐 ID 회로(120, 220)를 포함한다. 예를 들면, 각각의 기준 시그네이쳐 ID 회로(120, 220)는 도 2의 시그네이쳐 ID 회로(20)에서 퓨즈 컷팅을 하지 않은 것이다. 즉, 테스트 동작 시에, 제 1 기준 시그네이쳐 ID 회로(120)의 기준 패드(PAD_0, 130)는 Vta(1V)을 갖고, 제 2 기준 시그네이쳐 ID 회로(220)의 기준 패드(PAD_0, 230)는 Vtb(0.8V)를 갖는다. Referring to FIG. 3, the first and second
제 1 반도체 메모리 칩(100)의 복수의 시그네이쳐 ID 회로(121~12n) 및 제 2 반도체 메모리 칩(200)의 복수의 시그네이쳐 ID 회로(221~22n)는 퓨즈 컷팅 여부에 따른 시그네이쳐 ID 정보를 저장한다. 예를 들어, 제 1 반도체 메모리 칩(100)의 시그네이쳐 ID 회로(121)는 제 1 퓨즈(F1)가 컷팅되면 2Vta(2V)에 해당하는 정보를 저장하고, 제 1 내지 제 3 퓨즈(F1~F3)가 컷팅되면 4Vta(4V)에 해당하는 정보 를 저장한다. 마찬가지로, 제 2 반도체 메모리 칩(200)의 시그네이쳐 ID 회로(221)는 제 1 퓨즈(F1)가 컷팅되면 2Vtb(1.6V)에 해당하는 정보를 저장하고, 제 1 내지 제 3 퓨즈(F1~F3)가 컷팅되면 4Vtb(3.2V)에 해당하는 정보를 저장한다. The plurality of
도 4는 도 3에 도시된 시그네이쳐 ID 회로 내의 퓨즈 컷팅에 따른 시그네이쳐 ID 정보를 보여주는 도표이다. 도 4에서, 제 1 전압 섹션은 기준 시그네이쳐 ID 회로를 포함하지 않은 경우이고, 제 2 전압 섹션은 기준 시그네이쳐 ID 회로를 포함하는 경우를 보여준다.FIG. 4 is a diagram illustrating signature ID information according to fuse cutting in the signature ID circuit shown in FIG. 3. In FIG. 4, the first voltage section does not include a reference signature ID circuit, and the second voltage section includes a case with a reference signature ID circuit.
제 1 전압 섹션에 의하면, 제 1 내지 제 2 퓨즈(F1~F2), 제 1 내지 제 3 퓨즈(F1~F3), 제 1 내지 제 4 퓨즈(F1~F4)가 컷팅된 경우에, 제 2 반도체 메모리 칩에 저장된 시그네이쳐 ID 정보는 페일된다. 이는 기준 시그네이쳐 ID 정보 없이 측정된 전압 값으로 전압 섹션을 정하기 때문이다. 예를 들면, 제 1 반도체 메모리 칩(100)의 시그네이쳐 ID 회로 내의 제 1 내지 제 3 퓨즈(F1~F3)가 컷팅된 경우에, 시그네이쳐 ID 회로는 4V에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장한다. 그러나 제 2 반도체 메모리 칩(100)의 경우에는 3.2V에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장한다. 제 1 전압 섹션에 의하면, 제 1 내지 제 3 퓨즈가 컷팅된 경우에 3.5V~4.5V의 전압 값을 갖기 때문에 제 2 반도체 메모리 칩(200)은 페일된다.According to the first voltage section, when the first to second fuses F1 to F2, the first to third fuses F1 to F3, and the first to fourth fuses F1 to F4 are cut, the second The signature ID information stored in the semiconductor memory chip is failed. This is because voltage sections are determined by measured voltage values without reference signature ID information. For example, when the first to third fuses F1 to F3 in the signature ID circuit of the first
그러나 제 2 전압 섹션에 의하면, 기준 시그네이쳐 ID 정보를 기준으로 전압 섹션이 정해지기 때문에 시그네이쳐 ID 회로 내의 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압(Vt)이 달라져도 페일이 발생하지 않는다. 예를 들면, 제 1 반도체 메모리 칩(100)의 시그네이쳐 ID 회로 내의 제 1 내지 제 3 퓨즈가 컷팅된 경우에, 시그네이쳐 ID 회로는 4Vta에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장한다. 제 2 반도체 메모리 칩(200)의 시그네이쳐 ID 회로는 4Vtb에 해당하는 시그네이쳐 ID 정보를 저장한다. 제 2 전압 섹션에 의하면, 제 1 내지 제 3 퓨즈가 컷팅된 경우에 3.5Vt~4.5Vt의 전압 값을 갖기 때문에 제 2 반도체 메모리 칩(200)은 페일되지 않는다. 여기에서, Vt는 기준 시그네이쳐 ID 정보를 측정한 전압 값이다.However, according to the second voltage section, since the voltage section is determined based on the reference signature ID information, no fail occurs even when the threshold voltage Vt of the NMOS transistor in the signature ID circuit is changed. For example, when the first to third fuses in the signature ID circuit of the first
도 5는 본 발명에 따른 반도체 메모리 칩의 시그네이쳐 ID 정보를 테스트하는 방법을 보여주는 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a method of testing signature ID information of a semiconductor memory chip according to the present invention.
S100 단계에서는 반도체 메모리 칩에 시그네이쳐 ID 테스트 인에이블 신호를 인가한다. 여기에서, 인에이블 신호는 전원 단자(VDDQ)를 0V로 하는 것이다. S200 단계에서는 시그네이쳐 ID 패드들에 전류를 제공(forcing)한다. S300 단계에서는 모든 칩의 시그네이쳐 ID 패드들의 전압 값을 측정한다. S400 단계에서는 기준 시그네이쳐 ID 패드의 전압 값을 기준으로 전압 섹션을 셋팅한다. S500 단계에서는 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 파악한다.In step S100, the signature ID test enable signal is applied to the semiconductor memory chip. Here, the enable signal is to set the power supply terminal VDDQ to 0V. In step S200, current is provided to the signature ID pads. In operation S300, voltage values of signature ID pads of all chips are measured. In step S400, the voltage section is set based on the voltage value of the reference signature ID pad. At step S500, the correct signature ID information is identified.
본 발명에 따른 기준 시그네이쳐 ID 회로를 포함하는 반도체 메모리 칩 및 그것의 시그네이쳐 ID 정보를 테스트하는 방법에 의하면, 시그네이쳐 ID 회로 내의 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압이 달라지더라도 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 얻을 수 있다. 또한, 반도체 칩에 여분의 패드가 존재하면 여러 개의 기준 시그네이쳐 ID 회로를 구비하여 퓨즈 컷팅에 대한 문턱 전압 값을 계산하지 않고 측정한 값으로 전압 섹션을 셋팅할 수 있다. 이렇게 하면, 좀 더 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 얻을 수 있게 된다.According to the method of testing a semiconductor memory chip including a reference signature ID circuit and its signature ID information according to the present invention, even if the threshold voltage of an NMOS transistor in a signature ID circuit is changed, accurate signature ID information can be obtained. Can be. In addition, when an extra pad exists in the semiconductor chip, a plurality of reference signature ID circuits may be provided to set the voltage section to the measured value without calculating the threshold voltage value for the fuse cutting. This will give you more accurate signature ID information.
한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.On the other hand, in the detailed description of the present invention has been described with respect to specific embodiments, various modifications are of course possible without departing from the scope of the invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be defined by the equivalents of the claims of the present invention as well as the following claims.
본 발명에 의하면, 시그네이쳐 ID 회로 내의 NMOS 트랜지스터의 문턱 전압에 관계 없이 정확한 시그네이쳐 ID 정보를 얻을 수 있다. According to the present invention, it is possible to obtain accurate signature ID information regardless of the threshold voltage of the NMOS transistor in the signature ID circuit.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050111954A KR20070054011A (en) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | Semiconductor memory chip including signature id circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020050111954A KR20070054011A (en) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | Semiconductor memory chip including signature id circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20070054011A true KR20070054011A (en) | 2007-05-28 |
Family
ID=38276012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020050111954A KR20070054011A (en) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | Semiconductor memory chip including signature id circuit |
Country Status (1)
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-
2005
- 2005-11-22 KR KR1020050111954A patent/KR20070054011A/en not_active Application Discontinuation
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