KR20070036046A - Semiconductor device and programming method - Google Patents
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Abstract
본 발명의 반도체 장치는 동일 워드선(WL)상에 배치된 소정 개수씩의 메모리 셀로 이루어지는 페이지를 선택 단위로 하여 복수의 페이지에 다비트의 데이터를 써넣을 때에, 인접하지 않는 페이지를 선택하고, 선택한 페이지의 메모리 셀에 동시에 비트의 써넣기를 실시하는 칼럼 디코더(선택 써넣기 회로)(7)를 구비하고 있다. The semiconductor device of the present invention selects non-adjacent pages when writing multi-bit data into a plurality of pages by using pages of predetermined number of memory cells arranged on the same word line WL as a selection unit. A column decoder (selection write circuit) 7 which writes bits simultaneously to a memory cell of a page is provided.
동시에 써넣기를 실시하는 메모리 셀의 간격을 넓힘으로써, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 써넣기에 의한 불필요한 스트레스를 주지 않는다. By widening the interval of memory cells to write at the same time, unnecessary stress caused by writing to the memory cells not writing is avoided.
프로그램, 메모리, 복수비트, 페이지 Program, memory, multi-bit, page
Description
본 발명은 동시에 다비트의 데이터를 써넣을 수 있는 반도체 장치 및 그 써넣기 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a semiconductor device capable of writing multi-bit data at the same time and a writing method thereof.
불휘발성 반도체 기억장치 등의 반도체 장치는 프로세스 기술의 진보에 의하여 대용량화를 꾀하고 있다. 대용량화에 따라 써넣기, 소거의 고속화에 대한 요구가 커지고 있다. BACKGROUND Semiconductor devices, such as nonvolatile semiconductor memory devices, have increased in capacity due to advances in process technology. As the capacity increases, the demand for faster writing and erasing increases.
플래쉬 메모리에 있어서는 소거 전에 모든 비트를 써넣을 필요가 있기 때문에, 써넣기 속도를 높이는 것이 소거 속도를 높이는 것과도 연결된다. 그 때문에 1 바이트(8비트), 1 워드(16비트) 등의 써넣기 단위로 동시에 복수의 데이터의 써넣기를 실시되어 왔다. In flash memory, it is necessary to write all bits before erasing, so increasing the writing speed is also connected to increasing the erasing speed. Therefore, a plurality of data has been simultaneously written in writing units such as one byte (8 bits) and one word (16 bits).
그러나, 동일 워드선 상에 인접하는 메모리 셀의 비트선을 서로 공유하는 가상 접지형 불휘발성 반도체 기억장치에 있어서는, 다비트를 동시에 써넣는 메모리 셀의 간격이 너무 가까우면, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에까지 써넣기의 스트레스가 인가되는 문제가 발생한다. However, in a virtual ground type nonvolatile semiconductor memory device which shares bit lines of adjacent memory cells on the same word line with each other, if the distance between memory cells for writing multiple bits is too close, no memory cell is written. There is a problem that the stress of writing until applied.
도 1에는 동일 워드선 상에 접속되고, 비트선을 서로 공유하는 가상 접지형의 메모리 셀 0 내지 4과 메모리 셀 0 내지 4의 드레인 영역 또는 소스 영역에 접속하는 메탈 비트선 MBL0 내지 MBL5과 메탈 비트선 MBL0 내지 MBL5의 각각을 그라운드선에 접속하는 선택 스위치 Sse10 내지 Sse15와 메탈 비트선 MBL0 내지 MBL5의 각각을 데이터선에 접속하는 선택 스위치 Dse10-Dse15가 도시되어 있다. 또한, 이 도 1에 도시한 것은 불휘발성 반도체 기억장치의 일부분이며, 설명을 위하여 필요한 주요부만을 도시하였다. In FIG. 1, metal bit lines MBL0 to MBL5 and metal bits connected to the same word line and connected to the
예를 들면, 도 1에 나타내는 메모리 셀 0에 데이터를 써넣기 위하여 메탈 비트선 MBL0를 로 레벨로, 메탈 비트선 MBL1을 하이 레벨로 설정하였다고 한다. 이 써넣기와 동시에 메모리 셀 2에도 데이터를 써넣기 위하여 메탈 비트선 MBL2를 로 레벨로, 메탈 비트선 MBL3를 하이 레벨로 설정하였다고 한다. 이 때, 메모리 셀 0과 메모리 셀 2의 사이에 끼워진 메모리 셀 1은 메모리 셀 0, 메모리 셀 2와 공통의 워드선(WL)에 게이트를 접속하고, 메탈 비트선 MBL1이 하이 레벨로, 메탈 비트선 MBL2가 로 레벨로 설정되어 있기 때문에, 메모리 셀 1에도 데이터가 써넣어진다. 즉, 데이터를 써넣을 필요가 없는 메모리 셀에까지 써넣기의 스트레스를 주게 된다.For example, it is assumed that the metal bit line MBL0 is set at low level and the metal bit line MBL1 is set at high level in order to write data into
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 다비트의 동시 써넣기를 안정적으로 실시할 수 있는 반도체 장치 및 써넣기 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor device and a writing method capable of stably performing multi-bit simultaneous writing.
이러한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 복수의 워드선과, 복수의 비트선과, 각 워드선에 대하여 복수의 페이지가 정의되고, 각 페이지는 소정수의 불휘발성 메모리를 가지고, 상기 워드선과 상기 비트선에 접속된 복수의 불휘발성 메모리 셀과 인접하지 않는 페이지를 선택하고, 상기 선택된 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 동시에 프로그램하는 선택 써넣기 회로를 포함하는 반도체 장치이다. 동시에 써넣기를 실시하는 메모리 셀의 간격을 넓힘으로써, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 써넣기에 의한 불필요한 스트레스를 주지 않게 된다. In order to achieve this object, in the present invention, a plurality of word lines, a plurality of bit lines, and a plurality of pages are defined for each word line, each page has a predetermined number of nonvolatile memories, and the word lines and the bit lines. A semiconductor device including a selection write circuit for selecting a page which is not adjacent to a plurality of nonvolatile memory cells connected to the plurality of nonvolatile memory cells, and simultaneously programming the nonvolatile memory cells of the selected page. By widening the interval between the memory cells to write at the same time, unnecessary stress caused by writing to the memory cells not to write is avoided.
상기 반도체 장치에 있어서, 하나의 워드선에 관한 상기 복수의 페이지는 짝수 페이지와 홀수 페이지를 포함하고, 상기 선택 써넣기 회로는 짝수 페이지와 홀수 페이지의 어느 한쪽 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하고, 그 후 다른 한쪽 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하는 구성으로 할 수 있다. 짝수 페이지에의 데이터 써넣기과 홀수 페이지에의 데이터 써넣기를 차례로 실시함으로써, 메모리 셀 어레이의 구성이나 비트선 선택의 디코딩을 변경하지 않고 다비트의 동시 써넣기를 실현할 수 있다. In the semiconductor device, the plurality of pages associated with one word line include an even page and an odd page, and the selection write circuit programs the nonvolatile memory cells of any one of the even and odd pages. The nonvolatile memory cell of the other page can be programmed later. By writing data on even pages and data writing on odd pages in sequence, multi-bit simultaneous writing can be realized without changing the configuration of the memory cell array and the decoding of bit line selection.
상기 선택 써넣기 회로는 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 페이지의 상기 불휘발성 메모리 셀에 접속된 비트선을 플로팅 상태로 하면 좋다. 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 페이지의 메모리 셀의 비트선을 플로팅 상태로 함으로써, 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 비트선을 통하여 셀 전류가 흘러들어가는 경우가 없다. 따라서, 메모리 셀에 불필요한 데이터가 써넣어지거나, 메모리 셀에 스트레스를 가하는 문제가 발생하지 않는다. The selective writing circuit may be a floating state in which the bit lines connected to the nonvolatile memory cells of the page where data is not written. By making the bit line of the memory cell of the page not writing data into the floating state, no cell current flows through the bit line into the memory cell not writing data. Therefore, unnecessary data is not written into the memory cell or stress is not applied to the memory cell.
상기 반도체 장치는 하나의 워드선에 관하여 복수의 블록을 가지고, 각 블록은 소정수의 페이지를 가지며,The semiconductor device has a plurality of blocks with respect to one word line, each block having a predetermined number of pages,
상기 반도체 장치는 각 블록에 있어서 1개의 페이지가 동시에 프로그램되는 제1 모드와, 각 블록에 대하여 홀수 또는 짝수 페이지가 동시에 프로그램되는 제2 모드를 가지고, The semiconductor device has a first mode in which one page is programmed simultaneously in each block, and a second mode in which odd or even pages are simultaneously programmed for each block.
상기 반도체 장치는 외부로부터의 커맨드에 따라서, 상기 선택 써넣기 회로를 상기 제1 모드 또는 제2 모드의 어느 쪽으로 동작시키는 제어 회로를 포함하는 구성으로 할 수 있다. 복수의 써넣기 모드로 데이터를 써넣을 수 있으므로, 써넣기의 속도를 조정하는 것이 가능하게 되고, 조작자의 희망에 맞춘 데이터 써넣기를 실시할 수 있다. The semiconductor device can be configured to include a control circuit for operating the selection write circuit in either the first mode or the second mode in response to a command from the outside. Since data can be written in a plurality of write modes, the speed of the write can be adjusted, and data can be written according to the operator's wishes.
상기 반도체 장치의 내부에서, 상기 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하기 위한 고전압을 발생하는 고압 발생 회로를 가지고, 상기 선택 써넣기 회로는 상기 고압 발생 회로가 생성한 상기 고전압을 사용하여 선택된 비트선을 활성화시키는 구성으로 할 수 있다. 외부 장치로부터 전원의 공급을 받을 필요가 없어져, 반도체 장치만으로 데이터를 메모리 셀에 써넣을 수 있다. And a high voltage generation circuit for generating a high voltage for programming the nonvolatile memory cell, wherein the selection write circuit is configured to activate a selected bit line using the high voltage generated by the high voltage generation circuit. You can do Since the power supply from the external device does not need to be supplied, data can be written into the memory cell using only the semiconductor device.
또한, 상기 반도체 장치의 내부에서, 상기 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하기 위한 고전압을 발생하는 고전압 발생 회로와, 상기 제1 모드에서 상기 고전압 발생 회로가 발생한 상기 고전압을 선택하고, 상기 제2 모드에서 외부로부터의 다른 고전압을 선택하는 선택 회로를 가지고, 선택된 고전압은 상기 선택 써넣기 회로에 부여되는 데이터의 써넣기 모드에 따라서 고전압의 공급원을 변경함으로써, 내부의 고압 발생 회로의 공급 전압으로는 실현할 수 없는 써넣기 모드가 실현 가능하게 되고, 동시에 써넣을 수 있는 비트수를 늘릴 수 있다. Also, a high voltage generation circuit for generating a high voltage for programming the nonvolatile memory cell and the high voltage at which the high voltage generation circuit is generated in the first mode are selected inside the semiconductor device, and external in the second mode. Has a selection circuit for selecting a different high voltage from the write mode, wherein the selected high voltage cannot be realized with the supply voltage of the internal high-voltage generating circuit by changing the source of the high voltage in accordance with the data write mode given to the selection write circuit. Can be realized and the number of bits that can be written at the same time can be increased.
상기 구성에 있어서, 동시에 데이터의 써넣기가 가능한 상기 불휘발성 메모리 셀 중에서, 써넣기를 실시하지 않는 상기 불휘발성 메모리 셀의 수에 상당하는 더미의 프로그래밍 전류를 생성하는 써넣기 레벨 일정화 회로를 포함하는 구성으로 할 수 있다. 데이터 써넣기시의 전원의 전압 강하를 일정하게 유지할 수 있으므로, 메모리 셀에 써넣는 데이터의 써넣기 레벨을 일정하게 할 수 있다. In the above configuration, among the nonvolatile memory cells in which data can be written at the same time, a write level scheduling circuit for generating a dummy programming current corresponding to the number of the nonvolatile memory cells that are not written is included. can do. Since the voltage drop of the power supply at the time of data writing can be kept constant, the writing level of data written to the memory cell can be made constant.
상기 레벨 일정화 회로는 복수의 써넣기 레벨 일정화 서브 회로를 가지고, 각 레벨 일정화 서브 회로는 동시에 프로그램되지 않는 인접하는 2 페이지에 1개씩 설치되어 있는 구성으로 할 수 있다. 선택된 비트선으로부터 메모리 셀에 흘러들어가는 셀 전류와 거의 동등한 전류를 써넣기 레벨 일정화 회로로 흘려보냄으로써 데이터 써넣기시의 전원의 전압 강하를 일정하게 유지할 수 있다. 따라서 메모리 셀에 써넣어지는 데이터의 써넣기 레벨을 일정하게 할 수 있다. 또한, 동시에 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 인접하는 2 페이지에서 써넣기 레벨 일정화 회로를 공용할 수 있으므로, 회로수를 저감시켜, 장치 구성을 축소시킬 수 있다. The above level leveling circuit has a plurality of writing level leveling subcircuits, and each level leveling subcircuit can be configured to be provided on each of two adjacent pages which are not programmed at the same time. The voltage drop of the power supply at the time of data writing can be kept constant by flowing a current almost equal to the cell current flowing into the memory cell from the selected bit line to the writing level constant circuit. Therefore, the write level of the data written to the memory cell can be made constant. In addition, since two write-level constant circuits can be shared by two adjacent pages which do not write data at the same time, the number of circuits can be reduced and the device configuration can be reduced.
상기 써넣기 레벨 일정화 서브 회로 각각은 프로그램시에 1개의 불휘발성 메모리 셀에 흐르는 프로그램 전류에 거의 동등한 전류를 생성할 수 있으면 좋다. Each of the write level constant sub-circuits needs to be able to generate a current almost equal to a program current flowing through one nonvolatile memory cell during programming.
또한, 상기 불휘발성 메모리 셀은 인접하는 불휘발성 메모리 셀이 비트선을 공유하는 가상 접지형의 불휘발성 메모리 셀이면 좋다. 가상 접지형의 메모리 셀에 있어서, 많은 메모리 셀에 동시에 데이터를 써넣는 경우, 써넣기를 실시하는 메모리 셀끼리의 간격이 너무 가까우면, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에까지 써넣기의 스트레스가 인가되어 버리지만, 상기 구성의 반도체 장치에 의하여 다비트의 동시 써넣기를 안정적으로 실시할 수 있다. The nonvolatile memory cell may be a virtual ground type nonvolatile memory cell in which adjacent nonvolatile memory cells share a bit line. In a virtual ground type memory cell, when data is written to many memory cells at the same time, if the distance between the memory cells to write is too close, the stress of writing is applied to the memory cells not to write. By the semiconductor device of the above structure, multi-bit simultaneous writing can be performed stably.
본 발명은 소정수의 불휘발성 메모리 셀을 포함하고, 하나의 워드선에 관하여 인접하지 않는 페이지를 선택하는 단계와, 상기 선택된 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 동시에 프로그램하는 단계를 포함하는 불휘발성 메모리의 써넣기 방법을 포함한다. 동시에 써넣기를 실시하는 메모리 셀의 간격을 넓힘으로써, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에, 써넣기에 의한 불필요한 스트레스를 주지 않게 된다. The present invention includes a non-volatile memory cell including a predetermined number of nonvolatile memory cells, comprising selecting a non-contiguous page with respect to one word line, and simultaneously programming the nonvolatile memory cells of the selected page. Include writing methods. By widening the interval between the memory cells to write at the same time, it is possible not to give unnecessary stress to the memory cells not to write.
이 경우, 하나의 워드선에 관하여 상기 복수의 페이지는 짝수 페이지와 홀수 페이지를 포함하고, 상기 프로그램하는 단계는 상기 선택 써넣기 회로는 짝수 페이지와 홀수 페이지의 어느 한쪽 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하고, 그 후 다른 한쪽 페이지의 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하는 구성으로 할 수 있다. 짝수 페이지에의 데이터 써넣기과 홀수 페이지에의 데이터 써넣기를 차례로 실시함으로써, 메모리 셀 어레이의 구성이나 비트선 선택의 디코딩을 변경하지 않고 다비트의 동시 써넣기를 실현할 수 있다. In this case, with respect to one word line, the plurality of pages include an even page and an odd page, and in the programming, the selective writing circuit may program a nonvolatile memory cell of any one of the even and odd pages. After that, the nonvolatile memory cell of the other page can be programmed. By writing data on even pages and data writing on odd pages in sequence, multi-bit simultaneous writing can be realized without changing the configuration of the memory cell array and the decoding of bit line selection.
상기 써넣기 단계는 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 페이지의 상기 불휘발성 메모리 셀의 비트선을 플로팅 상태로 하는 단계를 포함하고 있으면 좋다. 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 페이지의 메모리 셀의 비트선을 플로팅 상태로 함으로써, 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 비트선을 통하여 셀 전류가 흘러들어가는 경우가 없어진다. 따라서, 메모리 셀에 불필요한 데이터가 써넣어지거나 메모리 셀에 스트레스를 주는 문제가 발생하지 않는다. The writing step may include a step of floating a bit line of the nonvolatile memory cell of a page in which data is not written. By making the bit line of the memory cell of the page not writing data into the floating state, the cell current flows through the bit line into the memory cell not writing data. Therefore, there is no problem in that unnecessary data is written into the memory cell or stressed in the memory cell.
상기 선택하는 단계와 상기 프로그램하는 단계는 제1 모드에 관한 것이고, 상기 방법은 하나의 워드선에 관한 각 블록 내에 포함되는 소정수의 페이지 중 하나의 페이지가 동시에 프로그램되는 제2 모드에서 불휘발성 메모리 셀을 프로그램하는 단계와, 외부 커맨드에 따라, 상기 제1 모드 또는 상기 제2 모드의 어느 하나를 선택하는 단계를 포함하고 있으면 좋다. 복수의 써넣기 모드로 데이터를 쓸 수 있기 때문에, 써넣기의 속도를 조정하는 것이 가능하게 된다. The selecting and the programming are related to a first mode, and the method is a nonvolatile memory in a second mode in which one page of a predetermined number of pages included in each block relating to one word line is programmed simultaneously. And programming the cell and selecting either the first mode or the second mode according to an external command. Since data can be written in multiple write modes, it is possible to adjust the writing speed.
발명의 효과Effects of the Invention
본 발명은 다비트의 동시 써넣기를 안정적으로 실시할 수 있다. The present invention can stably perform multi-bit simultaneous writing.
도 1은 종래의 반도체 장치의 써넣기 방법을 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a method of writing a conventional semiconductor device.
도 2는 본 발명의 반도체 장치의 구성을 나타내는 블록도이다. 2 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor device of the present invention.
도 3은 데이터 입출력(I/0) 회로의 구성을 나타내는 도면이다. 3 is a diagram illustrating a configuration of a data input / output (I / 0) circuit.
도 4는 셀 어레이와 칼럼 게이트, 데이터 입출력(I/O) 장치의 대응 관계를 나타내는 도면이다. 4 is a diagram illustrating a correspondence relationship between a cell array, a column gate, and a data input / output (I / O) device.
도 5는 64 비트 동시 써넣기시의 타이밍 차트이다. 5 is a timing chart at the time of 64-bit simultaneous writing.
도 6은 16비트 동시 써넣기시의 타이밍 차트이다. Fig. 6 is a timing chart during 16-bit simultaneous writing.
도 7은 GEL 신호를 생성하는 논리 게이트를 나타내는 도면이다. 7 illustrates a logic gate for generating a GEL signal.
도 8은 셀 어레이(5)와 칼럼 게이트의 구성을 나타내는 도면이다. 8 is a diagram showing the configuration of the
도 9는 써넣기 레벨 일정화 회로의 구성을 나타내는 도면이다. 9 is a diagram illustrating a configuration of a write level constant circuit.
도 10은 전류 보상 회로의 구성을 나타내는 도면이다. 10 is a diagram illustrating a configuration of a current compensation circuit.
이하, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명을 실시하기 위한 최선의 상태를 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the best state for implementing this invention is demonstrated, referring an accompanying drawing.
도 2에 본 실시예의 반도체 장치의 구성을 나타낸다. 도 2에 나타내는 반도체 장치는 불휘발성 반도체 기억장치(1)의 실시예이며, 제어 회로(2), 칩 인에이블/출력 인에이블 회로(3), 입출력 버퍼(4), 셀 어레이(5), 로우 디코더(6), 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7), 어드레스 래치(8), 칼럼 게이트(9), 데이터 입출력(I/O) 회로(10), 써넣기 회로(11), 읽어내기 회로(12), 소거 회로(13), 전원 공급부(20)을 구비하고 있다. 또한, 전원 공급부(20)에는 드레인용 고전압 발생부(21), 실렉터(22), 레귤레이터(23), 게이트용 고전압 발생부(24) 등이 구비되어 있다. 2 shows a configuration of a semiconductor device of this embodiment. The semiconductor device shown in FIG. 2 is an embodiment of the nonvolatile
제어 회로(2)는 라이트 인에이블(/WE)나 칩 인에이블(/CE) 등의 제어 신호, 어드레스 신호, 데이터 신호를 외부로부터 받아, 신호에 기초하여 스테이트 머신으로서 동작하고, 불휘발성 반도체 기억장치(1)의 각부를 제어한다. The
입출력 버퍼(4)는 외부로부터 데이터를 받아, 이 데이터를 제어 회로(2) 및 데이터 입출력(I/0) 회로(10)에 공급한다. The input /
칩 인에이블/출력 인에이블 회로(3)는 장치 외부로부터 제어 신호로서 칩 인에이블 신호(/CE) 및 아웃풋 인에이블 신호(/OE)를 받아, 입출력 버퍼(4) 및 셀 어레이(5)의 동작/비동작을 제어한다. The chip enable / output enable
읽어내기 회로(12)는 제어 회로(2)의 제어 하에서 동작하고, 셀 어레이(5)의 읽기 어드레스로부터 데이터를 읽어내기 위하여, 셀 어레이(5), 로우 디코더(6), 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7) 등을 제어한다. The
써넣기 회로(11)는 제어 회로(2)의 제어하에서 동작하고, 셀 어레이(5)의 써넣기 어드레스에 데이터를 써넣기 위하여, 셀 어레이(5), 로우 디코더(6), 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7) 등을 제어한다. 또한 소거 회로(13)는 제어 회로(2) 하에서 동작하고, 셀 어레이(5)의 지정된 영역을 소정 단위로 일괄 소거하기 위하여, 셀 어레이(5), 로우 디코더(6), 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7) 등을 제어한다. The
셀 어레이(5)는 가상 접지형의 메모리 어레이이며, 메모리 셀의 배열, 워드선, 비트선 등을 포함하고, 각 메모리 셀에 2 비트의 데이터를 기억한다. 컨트롤 게이트와 기반과의 사이에, 산화막, 질화막, 산화막의 순서로 적층한 막을 형성하고, 이 질화막에 전하를 트랩시킴으로써 문턱값을 변화시켜서, 데이터 "0"과“1"을 구별한다. 질화막 등의 트랩층은 절연막이기 때문에, 전하는 이동하지 않는다. 트랩층의 양단에 전하를 축적함으로써 1 셀에 2 비트를 기록할 수 있다. 1 셀에 2 비트를 기록하는 방식을 미러비트 방식이라 부르기도 한다. 또한, 셀 어레이(5)는 전하를 축적하는 층으로서 다결정 실리콘으로 이루어지는 플로팅 게이트를 사용하는 메모리 셀이어도 좋다.The
데이터 읽기 시에는 활성화된 워드선으로 지정되는 메모리 셀로부터의 데이터가 비트선에 읽어내진다. 써넣기(이하, 프로그램이라고 부른다) 또는 이레이즈시에는 워드선 및 비트선을 각각의 동작에 따른 적당한 전위로 설정함으로써, 메모리 셀에 대한 전하 주입 또는 전하 방출 동작을 실행한다. In reading data, data from a memory cell designated as an activated word line is read out to the bit line. At the time of writing (hereinafter referred to as a program) or erasing, the word line and the bit line are set to appropriate potentials according to the respective operations, thereby performing charge injection or charge release operations for the memory cells.
데이터 입출력(I/O) 회로(10)는 제어 회로(2)의 제어하에서 동작하고, 셀 어 레이(5)에의 데이터의 써넣기과 읽어내기를 실시한다. 데이터 입출력(I/O) 회로(10)의 상세를 도 3을 참조하면서 설명한다. 도 3에 나타내는 바와 같이 데이터 입출력(I/O) 회로(10)는 그라운드 회로(31), 쓰기 드라이버(32), 데이터 래치(33), 센스 증폭기(검증 회로)(34)를 구비하고 있다. The data input / output (I / O)
그라운드 회로(31)는 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)에 의하여 선택된 비트선을 칼럼 게이트(9)를 거쳐 그라운드 레벨로 설정하는 회로이다. 데이터 래치(33)는 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)의 출력 신호를 받아 입출력 버퍼(4)로부터 입력되는 데이터를 래치한다. 쓰기 드라이버(32)는 데이터 래치(33)에 써넣은 데이터를, 칼럼 게이트(9)를 거쳐 셀 어레이(5) 내의 비트선에 전달한다. The ground circuit 31 is a circuit for setting the bit line selected by the column decoder (selective writing means) 7 to the ground level via the
센스 증폭기(검증 회로)(34)는 비트선에 읽어내진 데이터를 증폭하고, 디지털 레벨로서 취급이 가능하게 되는 레벨까지 증폭한다. 데이터 써넣기시에는 쓰기 드라이버(32)가 써넣기 상태가 되어 비트선에 접속되고, 읽어내기 시에는 센스 증폭기(검증 회로)(34)가 비트선에 접속되어 비트 선상의 데이터가 증폭된다. 또한, 페이지가 선택되고 써넣기를 하면, 이 페이지에 인접하는 페이지의 비트선은 플로 팅 상태가 된다. The sense amplifier (verification circuit) 34 amplifies the data read in the bit line and amplifies it to a level at which it can be handled as a digital level. At the time of data writing, the
또한 센스 증폭기(검증 회로)(34)는 읽어낸 데이터의 판정을 실시한다. 로우 디코더(6) 및 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)에 의한 지정에 따라 셀 어레이(5)로부터 공급되는 데이터의 전류를 기준 전류와 비교함으로써, 데이터가 0인 지 1인 지를 판정한다. 기준 전류는 도시하지 않는 레퍼런스 셀로부터 공급되는 전류이다. 판정 결과는 읽어내기 데이터로서 입출력 버퍼(4)에 공급된다. In addition, the sense amplifier (verification circuit) 34 judges the read data. The current of the data supplied from the
또한 프로그램 동작 및 이레이즈 동작에 동반하는 검증 동작은 로우 디코더(6) 및 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)의 지정에 따라서, 셀 어레이(5)로부터 공급되는 데이터의 전류를, 프로그램 검증용 및 이레이즈 검증용의 기준 전류와 비교함으로써 이루어진다. 이 기준 전류도 프로그램 검증용 및 이레이즈 검증용 레퍼런스 셀로부터 공급된다. In addition, the verify operation accompanying the program operation and the erase operation is performed for program verifying the current of the data supplied from the
로우 디코더(6)는 데이터 써넣기시, 소거시 및 읽어내기시에, 각각의 어드레스에 기초하여 복수의 워드선(WL)를 선택 구동하는 것이고, 그 워드선 드라이버(도시하고 있지 않음)에는 도 2에 나타내는 게이트용 고전압 발생부(24)로부터 소정의 고전압이 공급된다. The
칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)은 어드레스 래치(8)에 유지된 어드레스를 기초로 칼럼 게이트(9)를 제어한다. 칼럼 게이트(9)가 칼럼 디코더(7)에 의하여 선택됨으로써, 데이터 입출력(I/O) 회로(10) 내의 대응하는 센스 증폭기(검증 회로)(34)가 선택된다. The column decoder (selective writing means) 7 controls the
예를 들면, 셀 어레이(5)의 소망하는 메모리 셀로부터 데이터를 읽어내는 경우는 칼럼 게이트에 의하여, 이 메모리 셀에 접속된 비트선이 대응하는 센스 증폭기(검증 회로)(34)에 접속된다. For example, when reading data from a desired memory cell of the
또한, 셀 어레이(5)의 소망하는 메모리 셀에 데이터를 써넣는 경우에는 외부로부터 입력된 어드레스 데이터에 의하여 소망하는 메모리 셀이 활성화되고, 입력된 써넣기 데이터는 대응하는 데이터 래치(33)로부터 칼럼 게이트(9)를 거쳐 비트선에 출력되어, 셀 어레이(5)의 소망하는 메모리 셀에 써넣어진다. In addition, when data is written into a desired memory cell of the
전원 공급부(20)는 불휘발성 반도체 기억장치(1)의 내부에 설치된 드레인용고전압 발생부(21)에 의하여 발생하는 고전압을 데이터 입출력(I/O) 회로(10)에 공급하고, 게이트용 고전압 발생부(24)에 의하여 발생하는 고전압을 로우 디코더(6), 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7) 등에 공급한다. 전원 공급부(20)에 의하여 공급되는 전원은 써넣기 동작이나 소거 동작에 필요한 디코드용 전원으로서 사용된다. 또한, 본 실시예에서는 불휘발성 반도체 기억장치(1)의 내부의 고전압 발생부(21)에서 고전압을 생성하여 데이터 입출력(I/0) 회로(10)에 공급하는 이외에, 외부로부터 입력한 고전압을 디코드용 전원으로서 사용할 수 있다. 보다 많은 데이터를 고속으로 써넣기 위하여는 전류 공급 능력이 높은 전원이 필요하다. 근래에는 전원 전압의 저전압화에 의하여, 불휘발성 반도체 기억장치(1) 내부의 고압 발생 회로(21)의 전류 공급 능력으로는 동시에 써넣는 비트수에 한계가 발생하고 있다. 이 때문에 동시에 써넣는 비트수가 많은 경우(후술하는 64 비트 동시 써넣기 모드)에는 외부에서 고전압의 공급을 받고, 이 고전압을 디코드용 전원으로 한다. 외부로부터의 전압은 도 2에 나타내는 가속화 핀(ACC 핀)으로부터 입력한다. 실렉터(22)는 써넣기 모드가 64 비트 써넣기 모드일 때에는 외부 입력한 전압을 레귤레이터(23)에 출력한다. 또한, 16비트 써넣기 모드일 때에는 내부의 드레인용 고전압 발생부(21)에서 생성한 고전압을 레귤레이터(23)에 출력한다. 또한, 써넣기 모드의 지시는 도 2에 나타내는 써넣기 회로(11)로부터의 써넣기 모드 지시 신호로 통지된다. 레귤레이터(23)는 공급된 고전압을 평활, 정전압화하여 전원선(VPROG)에 출력한다. 또한, 전원 공급부(20)의 전류 공급 능력이 높은 경우에는 외부로부터의 전 원 공급을 받지 않고, 전원 공급부(20)로부터 공급되는 고전압만으로 동작시켜도 된다. The
이에, 도 4를 참조하면서 셀 어레이(5)와 데이터 입출력(I/O) 회로(10) 및 칼럼 게이트(9)와의 대응 관계에 대하여 설명한다. 1개의 셀 어레이(5)는 비트선에 따른 복수의 블록에 분할되어 있다. 본 실시예에서는 16개의 블록에 분할되어 있다. 각 블록에는 각각 데이터 입출력(I/0) 회로(10)와 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)가 각각 설치되어 있어, 블록의 개수분의 데이터를 병렬로 입출력할 수 있도록 하고 있다. 또한, 도 4에서는 데이터 입출력(I/O) 회로(10)를 I/O로 표기하고 있다. 또한 1 블록은 8개의 페이지로 분할되어 있다. 데이터 입출력(I/O) 회로(10)은 이 페이지 단위로 메모리 셀을 선택하고 데이터의 써넣기 및 읽어내기를 실시한다. 4, the correspondence between the
본 실시예의 불휘발성 반도체 기억장치(1)는 64 비트를 동시에 써넣는 64 비트 동시 써넣기 모드와 16비트를 동시에 써넣는 16 비트 써넣기 모드를 구비하고 있다. The nonvolatile
64 비트 동시 써넣기 모드에서는 셀 어레이(5)를 짝수 페이지와 홀수 페이지로 분할하고, 짝수 페이지 또는 홀수 페이지에 동시에 64 비트씩의 데이터를 써넣ㄴ는. 도 5에 64 비트 동시 써넣기 모드일 때에 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)로부터 출력되는 신호를 나타낸다. 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)는 도 5에 나타내는 바와 같이, 써넣기 허가를 나타내는 프로그램 신호(PGM)가 하이 레벨인 기간에, 짝수 페이지를 선택하는 짝수 페이지 선택 신호(PGM_E)와 홀수 페이지를 선 택하는 홀수 페이지 선택 신호(PGM_O)를 출력한다. 짝수 페이지 선택 신호(PGM_E)가 하이 레벨이 됨으로써, 0, 2, 4, 6의 짝수 페이지가 칼럼 게이트(9)에 의하여 선택된다. 마찬가지로 홀수 페이지 선택 신호(PGM_O)가 하이 레벨이 됨으로써, 1, 3, 5, 7의 홀수 페이지가 칼럼 게이트(9)에 의하여 선택된다. In the 64-bit simultaneous writing mode, the
또한, 도 5에 나타내는 GSEL 신호(GSEL0-GSEL7)는 선택된 비트선을 그라운드선에 접속하는 신호이다. GSEL0, 2, 4, 6의 신호가 하이 레벨인 기간에는 GSE L1, 3, 5, 7의 신호가 로 레벨이 된다. 반대로, GSEL1, 3, 5, 7의 신호가 하이 레벨인 기간에는 GSEL 0, 2, 4, 6의 신호가 로 레벨이 된다. 예를 들면, 데이터를 써넣는 짝수 페이지의 선택 비트선을 그라운드선에 접속함으로써, 이 비트선을 로 레벨로 설정한다. 이 때, 홀수 페이지에는 데이터 써넣기를 하지 않기 때문에, GSEL 신호가 로 레벨이 되고, 비트선을 플로팅 상태로 한다. 짝수 페이지에 데이터의 써넣기를 실시할 때에, 홀수 페이지의 비트선을 플로팅으로 설정해 둠으로써, 데이터의 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 비트선을 통하여서 셀 전류가 흘러들어가지 않는다. 즉, 프로그램되는 메모리 셀의 사이에는 프로그램되지 않는 메모리 셀이 개재하고 있다. 이 때문에, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 불필요한 데이터를 써넣어, 스트레스를 주지 않게 된다. 또한, 짝수 페이지와 홀수 페이지에 동시에 써넣지 않게 되기 때문에, 동시에 써넣는 메모리 셀의 간격을 넓혀, 써넣기를 실시하지 않는 메모리 셀에 불필요한 스트레스를 주지 않는다. 또한, 짝수 페이지에의 데이터 써넣기과 홀수 페이지에의 데이터 써넣기를 차례로 실시함으로써, 메모리 셀 어레이의 구성이나 비트선 선택의 디코딩을 변경하지 않고 다비트의 동시 써넣기를 실현할 수 있다. In addition, the GSEL signals GSEL0-GSEL7 shown in FIG. 5 are signals for connecting the selected bit line to the ground line. In the period in which the signals of GSEL0, 2, 4, and 6 are at the high level, the signals of GSE L1, 3, 5, and 7 are at the low level. In contrast, in the period where the signals of GSEL1, 3, 5, and 7 are at the high level, the signals of
16비트 동시 써넣기 모드에서는 도 4에 나타내는 16의 블록의 각각을 선택하고, 선택한 블록 내의 어느 페이지에 데이터를 써넣는다. 도 6에 타이밍 차트를 나타낸다. 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)은 도 6에 나타내는 바와 같이 써넣기 허가를 나타내는 프로그램 신호(PGM)가 하이 레벨인 기간에, 메모리 셀을 선택하는 셀 신호(WSEL0 내지 WSEL7)를 생성하고, 칼럼 게이트(9)에 출력한다. WSEL0 내지 WSEL7의 셀 신호는 각 블록의 페이지에 대응하고 있다. 즉, WSEL0가 하이 레벨일 때에는 페이지 O이 선택되고, 이 페이지 O내의 메모리 셀에 데이터가 써넣어진다. 마찬가지로 WSEL1가 하이 레벨일 때에는 페이지 1이 선택되어 이 페이지 1 내의 메모리 셀에 데이터가 써넣어진다. In the 16-bit simultaneous writing mode, each of the 16 blocks shown in Fig. 4 is selected, and data is written to any page in the selected block. 6 shows a timing chart. As shown in Fig. 6, the column decoder (selection writing means) 7 generates the cell signals WSEL0 to WSEL7 for selecting memory cells in a period in which the program signal PGM indicating the write permission is at a high level. Output to the
또한 64 비트 동시 써넣기 모드시와 마찬가지로, GSEL 신호(GSEL0 내지 GSEL7)가 출력되고, 써넣고 있는 페이지의 소스가 되는 비트선을 그라운드에 접속한다. 데이터를 써넣고 있는 페이지 이외의 페이지의 비트선을 플로팅 상태로 설정한다. In the same manner as in the 64-bit simultaneous write mode, the GSEL signals GSEL0 to GSEL7 are output, and the bit line serving as the source of the written page is connected to ground. Set the bit lines of pages other than the page to which data is written to the floating state.
GSEL 신호를 생성하는 논리 게이트를 도 7에 나타낸다. 논리 게이트는 캠 디코더(7)에 포함된다. 짝수 페이지용의 GSEL 신호(GSEL 0, 2, 4, 6)는 짝수 페이지 선택 신호(PGM_E)와 각 셀 신호 WSEL(WSEL0, 2, 4, 6)를 NOR 게이트(40)에 입력하고, NOR 게이트(40)의 출력을 인버터(41)에 의하여 반전시킴으로써 생성된다. 마찬가지로 홀수 페이지용의 GSEL 신호(GSEL1, 3, 5, 7)는 홀수 페이지 선택 신호(PGM_O)와 각 셀 신호 WSEL(WSEL1, 3, 5, 7)을 NOR 게이트(40)에 입력하고, NOR 게이트(40)의 출력을 인버터(41)에 의하여 반전시키는 것으로 생성된다. A logic gate for generating a GSEL signal is shown in FIG. The logic gate is included in the
도 8에 셀 어레이(5) 및 칼럼 게이트(9)의 상세한 구성을 나타낸다. 복수의 워드선(WL)(도 8에 있어서는 간략화를 위하여 1개의 WL만을 대표적으로 나타낸다)과, 복수의 메탈 비트선(MBL)과 워드선(WL)과 메탈 비트선(MBL)의 교차점 부근에 설치되어 매트릭스상으로 배열된 메모리 셀 MC를 구비하고 있다. 메모리 셀 MC는 2개의 메탈 비트선(MBL)의 사이에 2개 형성된다. 써넣기나 읽어내기의 단위가 되는 1 페이지에는 8개의 메모리 셀 MC가 설치되고(도 8에 나타내는 MC0 내지 MC7), 1개의 메모리 셀 MC에 2 비트를 기록할 수 있다. 2개의 메탈 비트선의 사이에 2개의 메모리 셀(MS)이 설치되어 있기 때문에, 메모리 셀 MC를 2개의 비트선에 접속하기 위한 서브 비트선(SBL)이 설치되어 있다. 서브 비트선(SBL)은 확산층으로 형성되고, 메탈 비트선(MBL)과 평행하게 설치되며, 칼럼 디코더(7)로부터의 디코드 신호를 게이트 입력으로 하는 선택 트랜지스터(도 8에 나타내는 STr)를 거쳐 메탈 비트선(MBL)에 접속되어 있다. 8 shows a detailed configuration of the
또한, 각 메탈 비트선(MBL)에는 메탈 비트선(MBL)을 그라운드 신호선(ARVSS)에 접속하거나 하지 않는 것을 전환하는 제1 트랜지스터(도 8에 나타내는 GTr)와, 메탈 비트선(MBL)을 드레인 신호선(DATAB)에 접속하거나 하지 않는 것을 전환하는 제2 트랜지스터(도 8에 나타내는 DTr)가 설치되어 있다. 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)로부터의 디코드 신호에 의하여, 제1 트랜지스터 GTr, 제2 트랜지스터 DTr의 개폐를 전환하고, 메탈 비트선(MBL)에 접속한다. 칼럼 디코더(선택 써넣기 수단)(7)에서 생성되는 신호가, 도 8에 나타내는 BSD, BSG의 신호이다. 이 BSD 신호 가 하이 레벨이 됨으로써, 제2 트랜지스터 DTr가 닫히고, 해당하는 비트선과 드레인 신호선(DATAB)이 접속된다. 또한, BSG 신호가 하이 레벨이 됨으로써, 제1 트랜지스터 GTr가 닫히고, 해당하는 비트선과 그라운드 신호선(ARVSS)가 접속된다. 그라운드선(ARVSSn)은 페이지마다 독립적으로 설치되어 있다.Further, each metal bit line MBL is drained with a first transistor (GTr shown in FIG. 8) and a metal bit line MBL for switching between connecting or not connecting the metal bit line MBL to the ground signal line ARVSS. A second transistor (DTr shown in Fig. 8) is provided which switches between connecting and not connecting to the signal line DATAB. The decoded signal from the column decoder (selective writing means) 7 switches the opening and closing of the first transistor GTr and the second transistor DTr, and connects it to the metal bit line MBL. The signals generated by the column decoder (selective writing means) 7 are the signals of BSD and BSG shown in FIG. 8. When the BSD signal becomes high, the second transistor DTr is closed and the corresponding bit line and drain signal line DATAB are connected. In addition, when the BSG signal becomes high, the first transistor GTr is closed, and the corresponding bit line and ground signal line ARVSS are connected. The ground line ARVSSn is provided independently for each page.
예를 들면, 전술한 64 비트 동시 써넣기 모드일 때에는 GSEL 신호 1, 3, 5, 7이 하이 레벨로 천이하면, GSEL 신호 0, 2, 4, 6은 로 레벨이 된다. 도 8에 나타내는 페이지 1이 써넣기에 선택되면, 그 옆의 페이지 2의 그라운드선은 도 8에 나타내는 GSEL(2)에 의하여 플로팅 상태로 설정된다. For example, in the aforementioned 64-bit simultaneous write mode, when the GSEL signals 1, 3, 5, and 7 transition to a high level, the GSEL signals 0, 2, 4, and 6 become low levels. When
이 때, 도 2에 나타내는 전원선 VPROG에 접속한 써넣기 레벨 일정화 회로(25)에 대하여 설명한다. 써넣기 레벨 일정화 회로(25)는, 도 9에 나타내는 바와 같이, 복수개의 전류 보상 회로(26)로 이루어진다. 전류 보상 회로(26)는 써넣기 레벨 일정화 서브 회로로서 기능하고, 전원선 VPROG로부터 소정량의 전류인 더미의 프로그래밍 전류를 흘려보내고, 데이터 써넣기시의 전압 강하를 일정하게 조정하는 회로이다. 메모리 셀에 써넣어지는 데이터의 써넣기 레벨을 일정하게 하기 위하여는 써넣기를 실시할 때에 전원 공급부(20)로부터 공급되는 전압의 강하 레벨을 일정하게 유지할 필요가 있다. 본 실시예의 불휘발성 반도체 기억장치(1)에서는「O」의 데이터가 써넣어질 때만, 데이터선에 고전압이 공급되고, 비트선이 선택되어 메모리 셀에 셀 전류가 흐른다. 따라서, 다비트의 데이터를 동시에 써넣을 때에 전압강하 레벨을 일정하게 유지하기 위하여는, 동시에 데이터를 써넣을 수 있는 수만큼 전류 보상 회로(26)을 설치하고, 이 전류 보상 회로(26)에서「0」의 데이터를 써넣 지 않는 메모리 셀 분의 셀 전류를 흘려보내도록 한다. 예를 들면, 16 비트 동시 써넣기의 경우에,「0」를 써넣는 페이지가 3개였다고 하면, 13 비트분의 써넣기 전류를 써넣기 레벨 일정화 회로(25)로부터 흘려보내도록 한다. 마찬가지로 64 비트 동시 써넣기의 경우에,「0」을 써넣는 페이지가 3개였다고 하면, 61 비트분의 써넣기 전류를 써넣기 레벨 일정화 회로(25)로부터 흘려보내도록 한다. At this time, the write level
그러나,도 4에 나타내는 16I/O, 8 페이지 구성의 셀 어레이(5)에서는 128개의 전류 보상 회로(26)가 필요하고, 회로수가 증가하여 회로 규모가 커지게 된다. 이에 본 실시예에서는 동시에는 써넣기를 하지 않는 인접하는 2 페이지 분의 메모리 셀에 1개씩 전류 보상 회로(26)를 설치하여, 회로 규모가 커지지 않게 하고 있다. However, in the
도 10에 전류 보상 회로(26)의 구체적인 구성을 나타낸다. 도 10에 나타내는 전류 보상 회로(26)는 페이지 0과 페이지 1에 대응하는 전류 보상 회로(26)이며, 전원선 VPROG에 저항(R1, R2, R3)과 스위치 트랜지스터(55, 56)가 직렬로 접속되어 있다. 스위치 트랜지스터(56)의 게이트에는 인버터(51)와 NAND 게이트(52)가 접속되어 있다. 이와 같이 스위치 트랜지스터(55)의 게이트에는 인버터(53)와 NAND 게이트(54)가 접속되어 있다. 10 shows a specific configuration of the
인버터(51)에는 페이지 0의 써넣기 데이터 P0PGMD 신호가 입력되어 있다. 인버터(51)의 출력은 NAND 게이트(52)에 입력된다. NAND 게이트(52)는 인버터(51)의 출력 신호와 GSEL0의 신호가 입력된다. GSEL0 신호는 페이지 0이 써넣기에 선택되었을 때에, 데이터에 따라 선택된 비트선을 그라운드선에 접속하는 신호이다. NAND 게이트(52)의 출력이 스위치 트랜지스터(56)의 게이트 입력이 된다. 마찬가지로, 인버터(53)에는 페이지 1의 써넣기 데이터 P1PGMD 신호가 입력되어 있다. 인버터(53)의 출력은 NAND 게이트(54)에 입력된다. NAND 게이트(54)는 인버터(53)로부터의 출력과 GSEL1의 신호가 입력된다. GSEL1 신호는 페이지 1이 써넣기에 선택되었을 때에, 데이터에 따라 선택된 비트선을 그라운드선에 접속하는 신호이다. NAND 게이트(54)의 출력이 스위치 트랜지스터(55)의 게이트 입력이 된다. The inverter 51 is input with the
「0」의 데이터가 써넣어질 때 이외에는, 스위치 트랜지스터(55, 56)가 ON되고, 전원선 VPROG로부터 소정량의 전류를 흘려보낸다. 이 소정량의 전류는 메모리 셀에「0」의 데이터를 써넣을 때에 흐르는 써넣기 전류와 거의 동일하게 설정되어 있다. 예를 들면, 페이지 1에 「0」이 써넣어지는 경우에는 P1PGMD 신호가 로 레벨이 된다. 또한 써넣기에 선택된 페이지는 GSEL 신호(여기서는 GSEL1)가 하이 레벨이 되기 때문에, NAND 게이트(54)에서는 PAPGMD 신호의 레벨에 따른 신호가, 스위치 트랜지스터(55)의 게이트에 입력된다. 또한, 써넣기에 선택되지 않는 경우에는 GSEL 신호(GSEL1)가 로 레벨이 되기 때문에, 항상 스위치 트랜지스터(55)에 하이 레벨의 신호가 출력된다. 따라서, 스위치 트랜지스터(55)가 온(ON)되고, 전원선VPROG로부터 저항(R1 , R2, R3)를 통하여 전류를 흘려보낸다. Except when the data of "0" is written, the
또한, 전술한 실시예는 본 발명의 적합한 실시예이다. 다만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에 있어 여러 가지로 변형하여 실시할 수 있다. 예를 들면, 전술한 실시예에서는 불휘발성 반도체 기억장치를 예를 들어 설명을 하였지만, 이 불휘발성 반도체 기억장치를 탑재한 반도체 장치에 대하여도 본 발명을 충분히 적용할 수 있다. In addition, the above-described embodiment is a suitable embodiment of the present invention. However, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the above-described embodiment, a nonvolatile semiconductor memory device has been described as an example. However, the present invention can be sufficiently applied to a semiconductor device on which the nonvolatile semiconductor memory device is mounted.
Claims (14)
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KR1020067024210A KR20070036046A (en) | 2006-11-17 | 2004-05-11 | Semiconductor device and programming method |
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- 2004-05-11 KR KR1020067024210A patent/KR20070036046A/en not_active Application Discontinuation
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |