KR20070034652A - Column Redundancy Circuit and Semiconductor Column Repair Method of Semiconductor Memory Device - Google Patents

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KR20070034652A KR1020050089076A KR20050089076A KR20070034652A KR 20070034652 A KR20070034652 A KR 20070034652A KR 1020050089076 A KR1020050089076 A KR 1020050089076A KR 20050089076 A KR20050089076 A KR 20050089076A KR 20070034652 A KR20070034652 A KR 20070034652A
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김두응
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김혜진
조백형
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Abstract

복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치에서의 컬럼 리던던시 회로가 개시된다. 그러한 컬럼 리던던시 회로는 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 퓨징하기 위한 컬럼 퓨즈 박스부 및 상기 결함 셀에 연결되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에 연결된 로컬 비트라인을 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인으로 대체하기 위해, 상기 컬럼 퓨즈 박스부로부터 인가되는 신호에 의해 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시키며 상기 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시키기 위한 로컬 와이패스부를 구비한다. 그리하여, 본 발명은 개선된 컬럼 리던던시 회로를 제공하여, 글로벌 비트라인에 연결된 복수 개의 로컬 비트라인 단위로 리페어함으로써 반도체 메모리 장치에 있어서의 리페어 효율성을 증가시킬 수 있다.A column redundancy circuit in a semiconductor memory device having at least one subblock having memory cells connected to a plurality of local bit lines is disclosed. Such a column redundancy circuit includes a column fuse box portion for fusing when a defective cell exists among memory cells and a local bit line connected to the defective cell and a local bit line connected to a global bit line corresponding to the defective cell. In order to replace with a redundancy bit line, a local wi-pass unit is provided for disabling the local bit line connected to the defective cell by a signal applied from the column fuse box unit and enabling the local redundancy bit line. Thus, the present invention can provide an improved column redundancy circuit, thereby increasing repair efficiency in a semiconductor memory device by repairing a plurality of local bit line units connected to a global bit line.

리던던시, 컬럼, 글로벌, 로컬, 퓨즈 Redundancy, Column, Global, Local, Fuse

Description

반도체 메모리 장치의 컬럼 리던던시 회로 및 그에 의한 컬럼 리페어 방법{Column redundancy circuit in semiconductor memory device and column repair method thereof}Column redundancy circuit in semiconductor memory device and column repair method according to the present invention

도 1은 종래의 블록 레벨에서의 컬럼 리던던시 회로의 일례를 간략히 보인 구성도.1 is a configuration diagram schematically showing an example of a column redundancy circuit at a conventional block level.

도 2는 도 1에서의 하나의 서브 블록을 확대하여 I/O 레벨에서의 컬럼 리던던시 구조를 보인 구성도.FIG. 2 is a diagram illustrating a column redundancy structure at an I / O level by enlarging one sub-block in FIG. 1; FIG.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬럼 리던던시 회로를 간략히 보인 구성도.Figure 3 is a schematic diagram showing a column redundancy circuit according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3에서의 하나의 서브 블록을 확대하여 I/O 레벨에서의 컬럼 리던던시 구조를 보인 구성도.FIG. 4 is a diagram illustrating a column redundancy structure at an I / O level by enlarging one sub-block in FIG. 3. FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 컬럼 퓨즈 박스 102 : 컬럼 디코더100: column fuse box 102: column decoder

104 : 글로벌 와이패스 106 : 로컬 와이패스104: Global Wipaths 106: Local Wipaths

108 : 섹션 디코더 120 : 서브 블록108: section decoder 120: sub block

110 : 리던던시 글로벌 비트라인 디코더110: redundancy global bitline decoder

122 : 메인 디코더 RPT1~RPT4 : 리던던시 패스 트랜지스터122: main decoder RPT1 to RPT4: redundancy pass transistor

YPT21~YPT28, YPT31~YPT38 : 와이패스 트랜지스터 YPT21 ~ YPT28, YPT31 ~ YPT38: Wipass Transistor

GBL0~GBL3 : 글로벌 비트라인 LBL0~LBL3 : 로컬 비트라인GBL0 ~ GBL3: Global bitline LBL0 ~ LBL3: Local bitline

RLBL0~RLBL3 : 로컬 리던던시 비트라인RLBL0 ~ RLBL3: Local Redundancy Bitline

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 메모리 장치에서의 불량 셀을 구제하기 위한 리던던시 회로 및 그에 의한 리페어 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a redundancy circuit for repairing defective cells in a semiconductor memory device and a repair method thereof.

반도체 메모리 장치 내의 수많은 메모리 셀들 중 한 개라도 결함이 있는 경우에는 반도체 메모리 장치로서의 제 기능을 하지 못하게 되어 불량품으로 처리된다. 하지만, 반도체 메모리 장치의 집적도가 증가함에 따라 확률적으로는 소량의 메모리 셀에만 결함이 발생할 확률이 높은데도 이를 불량품으로 폐기한다는 것은 양품의 획득율(yield)을 낮추게 되는 비효율적인 처리 방식이다. If any one of the numerous memory cells in the semiconductor memory device is defective, it will not function as the semiconductor memory device and will be treated as defective. However, as the degree of integration of semiconductor memory devices increases, there is a high probability that defects may occur only in a small amount of memory cells, but discarding them as defective products is an inefficient processing method that lowers the yield of good products.

따라서, 이 경우 미리 반도체 메모리 장치 내에 배치해둔 예비 메모리 셀을 이용하여 불량 셀을 대체시킴으로써 양품의 획득율을 높이는 방식이 채용되어져 왔다. Therefore, in this case, a method of increasing the acquisition rate of a good product has been adopted by replacing a defective cell by using a preliminary memory cell disposed in a semiconductor memory device.

이와 같이, 반도체 메모리 장치의 제조 중에 랜덤하게 발생할 수 있는 결함 셀을 구제하기 위해 배치되는 것이 리던던시(redundancy) 회로이다. In this way, the redundancy circuit is arranged to rescue defective cells which may occur randomly during the manufacture of the semiconductor memory device.

그러나, 리던던시 회로를 배치함에 따라 칩의 면적이 증가하며 리페어(repair)에 필요한 테스트의 증가 등이 문제로 되어 고밀도 집적 회로(LSI;Large Scale Integrated Circuit)에서는 그다지 실용화되지 않았지만, 특히 디램(DRAM;Dynamic Random Access Memory)에서는 칩의 면적 증가가 상대적으로 적어 64K ~ 256K 디램에서부터 본격적으로 채용되어져 왔다. However, as the redundancy circuit is disposed, the area of the chip increases, and the increase in the test required for the repair is a problem, which is not practical in a large scale integrated circuit (LSI), but particularly, a DRAM (DRAM); Dynamic Random Access Memory) has been adopted in earnest from 64K to 256K DRAM due to the relatively small increase in chip area.

보다 구체적으로 살펴보면, 반도체 메모리 장치에서 리던던시 회로는 실질적인 반도체 메모리 장치의 용량(예를 들어, n x n) 외에 추가로 여분의 셀을 더 배치하고(예를 들어 (n+m) x (n+m')을 배치; 여기서, m, m'은 리던던시 셀의 싸이즈를 나타내는 수에 해당함), 불량 메모리 셀이 존재하는가를 분석한 후 하나 또는 그 이상의 결함 셀을 포함하는 로우(row) 또는 컬럼(column)의 연결을 끊고 리던던시 셀 쪽으로 연결되게 하여, 결과적으로 용량이 n x n 이 되도록 하여 결함 없는 반도체 메모리 장치로 제조하기 위한 회로이다.More specifically, in a semiconductor memory device, the redundancy circuit further arranges extra cells in addition to the actual capacity of the semiconductor memory device (eg, nxn) (eg, (n + m) x (n + m '). Where m and m 'correspond to a number representing the size of the redundancy cell), a row or column containing one or more defective cells after analyzing whether a bad memory cell is present Is a circuit for fabricating a defect-free semiconductor memory device by disconnecting and connecting to the redundancy cell, resulting in a capacity of nxn.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여, 반도체 메모리 장치의 컬럼 리던던시 회로에 관해 살펴보도록 한다.Hereinafter, a column redundancy circuit of a semiconductor memory device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 블록 레벨에서의 컬럼 리던던시 회로의 일례를 간략히 보인 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing an example of a column redundancy circuit at a conventional block level.

도 1을 참조하면, 복수 개의 서브 블록들(sub blocks;SB, 20)을 구비하며, 상기 복수 개의 서브 블록들(20)에 대한 리페어 단위(repair unit)가 글로벌 비트 라인(Global Bit Line;GBL) 구조로 되어 있는 반도체 메모리 장치가 도시되어 있다. 참조부호 20은 메인 로우 디코더(MD)를 나타내고, 참조부호 18은 상기 메인 로우 디코더(MD)에 연결된 섹션 로우 디코더(SD)를 나타내는데, 본 발명과 밀접한 부분이 아니므로 이들에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIG. 1, a plurality of sub blocks (SB) 20 is provided, and a repair unit for the plurality of sub blocks 20 is a global bit line (GBL). A semiconductor memory device having a structure of) is shown. Reference numeral 20 denotes a main row decoder MD, and reference numeral 18 denotes a section row decoder SD connected to the main row decoder MD, which is not closely related to the present invention, and thus a detailed description thereof is omitted. do.

상기 서브 블록들(SB) 각각은 워드라인(word line)과 비트라인(bit line)의 교차점에 형성된 복수 개의 메모리 셀을 구비한다.Each of the sub-blocks SB includes a plurality of memory cells formed at intersections of a word line and a bit line.

상기 글로벌 비트라인(GBL)은 복수로(n개의 글로벌 비트라인, 예를 들면, n=16) 구비될 수 있고, 각각의 글로벌 비트라인(GBL)에는 복수 개(예를 들면, 4개의)의 로컬 비트라인(Local Bit Line;LBL)이 연결되어진다. 그리고, 상기 글로벌 비트라인(GBL)은 컬럼 디코더(DEC, 12)에 의해 디코딩된 신호를 수신하는 글로벌 와이패스(Global Y Pass;GYP, 14)에 의해 선택적으로 인에이블된다. 그리하여, 선택된 글로벌 비트라인(GBL)에 의해 억세싱된 서브 블록(20)에 라이트 드라이버(W/D)를 통해 데이터를 쓰거나, 억세싱된 서브 블록(20)으로부터 센스 앰프(S/A)를 통해 증폭되어 외부로 출력된다. 상기 데이터는 복수 개의 섹션 데이터 라인(SDL)(예를 들면, 16개)을 통해 송수신된다. 도 2를 통하여 이를 보다 상세히 설명한다.The global bit lines GBL may be provided in plural (n global bit lines, for example, n = 16), and each of the global bit lines GBL may include a plurality of (eg, four). Local Bit Line (LBL) is connected. The global bit line GBL is selectively enabled by a global Y pass GYP 14 that receives a signal decoded by the column decoder DEC 12. Thus, data is written to the sub-block 20 accessed by the selected global bit line GBL through the write driver W / D, or the sense amplifier S / A from the accessed sub-block 20 is written. Amplified through and output to the outside. The data is transmitted and received via a plurality of section data lines SDL (eg, 16). This will be described in more detail with reference to FIG. 2.

도 2는 도 1에서의 하나의 서브 블록을 확대하여 I/O 레벨에서의 컬럼 리던던시 구조를 보인 구성도이다.FIG. 2 is a block diagram illustrating a column redundancy structure at an I / O level by enlarging one subblock of FIG. 1.

도 2를 참조하면, 하나의 서브 블록(20) 내에는 복수 개의 글로벌 비트라인(GBL0~ GBL15) 각각에 연결된 네 개의 로컬 비트라인(LBL0~LBL3)이 구비된다. 그리고, 하나의 리던던시 글로벌 비트라인(RGBL)에도 네 개의 리던던시 로컬 비트라인 (RLBL0~RLBL3)이 연결되어져 있다. 여기서, 복수 개의 글로벌 비트라인(GBL0~ GBL15) 각각에 연결된 네 개의 로컬 비트라인(LBL0~LBL3) 각각에는 복수 개의 메모리 셀들(미도시)이 연결되어져 있고, 하나의 리던던시 글로벌 비트라인(RGBL)에 연결된 네 개의 리던던시 로컬 비트라인(RLBL)에도 복수 개의 리던던시 메모리 셀들(미도시)이 연결되어져 있다. Referring to FIG. 2, four local bit lines LBL0 to LBL3 connected to each of the plurality of global bit lines GBL0 to GBL15 are provided in one sub block 20. Four redundancy local bit lines RLBL0 to RLBL3 are also connected to one redundancy global bit line RGBL. Here, a plurality of memory cells (not shown) are connected to each of the four local bit lines LBL0 to LBL3 connected to each of the plurality of global bit lines GBL0 to GBL15, and to one redundancy global bit line RGBL. A plurality of redundancy memory cells (not shown) are also connected to the four redundant local bit lines RLBL.

서브 블록(20)을 지정하는 컬럼 어드레스가 인가되면 글로벌 비트라인들(GBL0~GBL15) 중 임의의 글로벌 비트라인이 선택되어지고, 디코딩된 신호들(B7_Y0~B7_Y3)에 의해 와이패스 트랜지스터들(YPT1~YPT16)이 턴온된다. 그리하여, 로컬 비트라인들(LBL0~LBL3)들 중 억세싱하고자 하는 메모리 셀에 연결된 로컬 비트라인이 인에이블된다. When a column address specifying the sub block 20 is applied, an arbitrary global bit line among the global bit lines GBL0 to GBL15 is selected, and the Wi-Fi transistors YPT1 are decoded by the decoded signals B7_Y0 to B7_Y3. ~ YPT16) is turned on. Thus, the local bit line connected to the memory cell to be accessed among the local bit lines LBL0 to LBL3 is enabled.

만약, 복수 개의 서브 블록(20) 중 어느 하나의 서브 블록 또는 그 이상의 서브 블록 내의 하나 또는 그 이상의 결함 셀이 발생될 경우, 서브 블록(20) 단위로 배치된 컬럼 퓨즈 박스(column fuse box;RCP, 도 1의 10)가 사용되어진다.If one or more defective cells in any one or more subblocks of the plurality of subblocks 20 are generated, a column fuse box (RCP) arranged in units of the subblocks 20 may be used. 10 of FIG. 1 is used.

결함 셀이 존재하는 그에 대응되는 컬럼 퓨즈 박스(10)가 퓨징되어져, 결함 셀을 지정하는 어드레스가 입력되는 경우에 그에 대응되는 글로벌 비트라인(GBL)이 선택되지 않고 리던던시 글로벌 비트라인(RGBL)이 선택되어짐으로써, 반도체 메모리 장치가 정상적으로 동작되도록 한다.The column fuse box 10 corresponding to the defective cell is fused, so that when the address specifying the defective cell is input, the corresponding global bit line GBL is not selected and the redundancy global bit line RGBL is selected. By being selected, the semiconductor memory device is allowed to operate normally.

그러나, 상기한 바와 같이 종래의 반도체 메모리 장치에 있어서는, 리페어 단위가 글로벌 비트라인으로 되어 있음으로 인해, 한 번 리페어 할 경우, 복수 개의 로컬 비트라인이 동시에 리페어되어, 리페어 효율성을 저하시키는 문제점을 갖 는다. However, as described above, in the conventional semiconductor memory device, since the repair unit is a global bit line, when one repair is performed, a plurality of local bit lines are repaired at the same time, resulting in a problem of deteriorating repair efficiency. It is.

따라서, 본 발명의 목적은 종래의 반도체 메모리 장치에 있어서의 리페어 효율성이 저하되는 문제점을 개선하기 위한 컬럼 리던던시 회로를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a column redundancy circuit for improving the problem that the repair efficiency of the conventional semiconductor memory device is lowered.

본 발명의 다른 목적은 글로벌 비트라인에 연결된 복수개의 로컬 비트라인 단위로 리페어하기 위한 컬럼 퓨즈 박스를 갖는 컬럼 리던던시 회로를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a column redundancy circuit having a column fuse box for repairing a plurality of local bit line units connected to a global bit line.

본 발명의 또 다른 목적은 반도체 메모리 장치의 서브 블록 내의 로컬 비트라인 단위로 리페어하기 위한 컬럼 리페어 방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a column repair method for repairing a local bit line in a sub block of a semiconductor memory device.

상기의 목적들을 달성하기 위하여 본 발명의 일 양상에 따른 복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치에서의 컬럼 리던던시 회로는, 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 퓨징하기 위한 컬럼 퓨즈 박스부; 및 상기 결함 셀에 연결되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에 연결된 로컬 비트라인을 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인으로 대체하기 위해, 상기 컬럼 퓨즈 박스부로부터 인가되는 신호에 의해 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시키며 상기 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시키기 위한 로컬 와이패스부를 구비함을 특징으로 한다.In order to achieve the above objects, a column redundancy circuit in a semiconductor memory device having at least one sub block having memory cells connected to a plurality of local bit lines according to an aspect of the present invention is characterized in that a defective cell of the memory cells includes: A column fuse box portion for fusing when present; And replacing the local bitline connected to the defective cell and the global bitline corresponding to the defective cell with a local redundancy bitline connected to a redundant memory cell by the signal applied from the column fuse box unit. And disabling a local bit line connected to the local bit line and enabling a local redundancy bit line.

여기서, 상기 컬럼 퓨즈 박스부는 상기 서브 블록의 열에 대응되게 배치될 수 있다.The column fuse box unit may be disposed to correspond to a column of the sub block.

또한, 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인은 상기 반도체 메모리 장치의 동작시 상기 결함 셀을 지정하는 어드레스가 입력되는 경우에 글로벌 와이패스부에 의해 인에이블될 수 있다.In addition, the global bit line corresponding to the defective cell may be enabled by the global wi-pass unit when an address specifying the defective cell is input during the operation of the semiconductor memory device.

또한, 상기 리던던시 메모리 셀은 상기 글로벌 비트라인 각각에 대응되고 상기 서브 블록마다 배치될 수 있다. In addition, the redundancy memory cells may correspond to each of the global bit lines and may be disposed for each sub block.

상기의 목적들을 달성하기 위하여 본 발명의 일 양상에 따른 복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치의 컬럼 리페어 방법은, 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시키며, 상기 결함 셀을 대체하기 위한 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시키기 위해, 상기 서브 블록마다 배치된 컬럼 퓨즈 박스부를 선택적으로 퓨징하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a column repair method of a semiconductor memory device including at least one sub block having memory cells connected to a plurality of local bit lines, wherein a defective cell is present among the memory cells. Selectively disables a local bit line connected to the defective cell and selectively enables a column fuse box unit disposed in each sub block to enable a local redundancy bit line connected to a redundant memory cell for replacing the defective cell. It is characterized by fusing.

여기서, 상기 로컬 리던던시 비트라인은, 상기 반도체 메모리 장치의 동작시 상기 결함 셀에 대응되는 어드레스가 입력되는 경우에 인에이블되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에, 연결된 복수 개의 로컬 비트라인에 대응되게 상기 서브 블록마다에 배치될 수 있다.Here, the local redundancy bit line is enabled when an address corresponding to the defective cell is input during operation of the semiconductor memory device, and corresponds to a plurality of local bit lines connected to a global bit line corresponding to the defective cell. Each sub block may be arranged.

이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한 다. 실시예에서의 설명들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게 본 발명에 대한 이해를 돕기 위한 의도로 예를 들어 도시되고 한정된 것에 불과하므로, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 사용되어서는 아니 될 것이다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The descriptions in the embodiments are only shown and limited by way of example, for the purpose of helping those skilled in the art to understand the present invention, and thus used to limit the scope of the present invention. Would not be.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬럼 리던던시 회로를 간략히 보인 구성도이다.3 is a schematic diagram illustrating a column redundancy circuit according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 복수 개의 로컬 비트라인(도 4를 참조하면, 도 4의 LBL0~LBL3)에 연결된 메모리 셀(미도시)을 갖는 서브 블록(SB, 120)을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치에서의 컬럼 리던던시 회로는 컬럼 퓨즈 박스부(RCP, 100) 및 로컬 와이패스부(YP)를 구비한다.Referring to FIG. 3, a semiconductor memory including at least one subblock SB 120 having memory cells (not shown) connected to a plurality of local bit lines (refer to FIG. 4 and LBL0 to LBL3 of FIG. 4). The column redundancy circuit in the apparatus includes a column fuse box portion RCP 100 and a local wipath portion YP.

상기 컬럼 퓨즈 박스부(100)는 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 퓨징된다. 상기 컬럼 퓨즈 박스부(100)는 상기 복수 개의 서브 블록(120)의 열에 대응되게 배치된다.The column fuse box unit 100 is fused when a defective cell exists among the memory cells. The column fuse box unit 100 is disposed to correspond to the columns of the plurality of sub blocks 120.

상기 로컬 와이패스부(YP)는 퓨징된 상기 컬럼 퓨즈 박스부(100)로부터 인가되는 신호에 의해 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시킨다. 그리고, 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시킨다.The local wipe path YP disables the local bit line connected to the defective cell by a signal applied from the fused column fuse box unit 100. And enable the local redundancy bitline.

그리하여, 상기 결함 셀에 연결되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인(GBL)에 연결된 로컬 비트라인을 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인으로 대체한다.Thus, a local bit line connected to the defective cell and connected to a global bit line (GBL) corresponding to the defective cell is replaced with a local redundancy bit line connected to a redundant memory cell.

상기 반도체 메모리 장치에 대한 리페어가 완료된 후, 상기 반도체 메모리 장치의 동작시, 상기 결함 셀을 지정하는 어드레스가 입력되는 경우에는 리던던시 글로벌 비트라인 디코더(RGD, 110)에 의해 디코딩된 신호가 글로벌 와이패스부(104)로 인가되어진다. 그리고, 상기 글로벌 와이패스부(GYP, 104)에 의해 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인(GBL)이 인에이블되고, 불량 로컬 비트라인을 대체하는 로컬 리던던시 비트라인이 활성화됨으로써 상기 반도체 메모리 장치가 정상적으로 동작된다.After the repair of the semiconductor memory device is completed, when an address for designating the defective cell is input during operation of the semiconductor memory device, a signal decoded by the redundant global bit line decoder (RGD) 110 may be globally wiped. Applied to the unit 104. In addition, the semiconductor memory device may be enabled by enabling the global bit line GBL corresponding to the defective cell by the global wi-pass unit GYP 104 and activating a local redundancy bit line that replaces a defective local bit line. It works normally.

상기 로컬 리던던시 비트라인에는 불량 로컬 비트라인에 연결된 복수 개의 메모리 셀들을 대체하기 위한 리던던시 메모리 셀이 연결되어져 있다. 상기 리던던시 메모리 셀(미도시)은 상기 글로벌 비트라인 각각에 대응되고 상기 서브 블록마다 배치된다.A redundancy memory cell is connected to the local redundancy bit line to replace a plurality of memory cells connected to the bad local bit line. The redundancy memory cells (not shown) correspond to each of the global bit lines and are disposed for each sub block.

도 4는 도 3에서의 하나의 서브 블록을 확대하여 I/O 레벨에서의 컬럼 리던던시 구조를 보인 구성도이다.FIG. 4 is a block diagram illustrating a column redundancy structure at an I / O level by enlarging one sub-block in FIG. 3.

도 4를 참조하면, 글로벌 비트라인들(GBL0~GBL3)에 연결된 로컬 비트라인들(LBL0~LBL3)에 대응되는 로컬 리던던시 비트라인들(RLBL0~RLBL3)이 배치되어져 있다. 참조부호 YPT21~YPT28, YPT31~YPT38은 디코딩된 컬럼 어드레스 신호(B7_Y0~B7_Y3)에 의해 상기 로컬 비트라인들(LBL0~LBL3) 중 선택하고자 하는 로컬 비트라인을 인에이블시키기 위한 와이패스 트랜지스터들이다. 그리고, 참조부호 RPT1~RPT4는 반도체 메모리 장치가 리페어될 경우, 불량 메모리 셀에 연결된 로컬 비트라인들을 대체할 수 있도록 하기 위해 컬럼 퓨즈 박스(RCP)의 퓨징에 의해 로컬 리던던시 비트라인들(RLBL0~RLBL3)을 선택적으로 인에이블시기키 위한 리던던시 패스 트랜지스터들이다.Referring to FIG. 4, local redundancy bit lines RLBL0 to RLBL3 corresponding to local bit lines LBL0 to LBL3 connected to the global bit lines GBL0 to GBL3 are disposed. Reference numerals YPT21 to YPT28 and YPT31 to YPT38 are Wi-Fi transistors for enabling a local bit line to be selected among the local bit lines LBL0 to LBL3 by the decoded column address signals B7_Y0 to B7_Y3. In addition, reference numerals RPT1 to RPT4 denote local redundancy bit lines RLBL0 to RLBL3 by fusing the column fuse box RCP to replace the local bit lines connected to the defective memory cells when the semiconductor memory device is repaired. Are redundant pass transistors for selectively enabling.

본 발명은 불량 메모리 셀을 지정하는 컬럼 어드레스가 입력되는 경우에 상기 불량 메모리 셀에 연결된 로컬 비트라인은 디스에이블시키고, 이에 대응되는 로컬 리던던시 비트라인이 인에이블되도록 컬럼 퓨즈 박스(도 3의 RCP)가 퓨징된다. 그리하여, 리페어된 반도체 메모리 장치가 정상적으로 동작될 수 있게 된다. According to the present invention, when a column address specifying a bad memory cell is input, a local fuse line connected to the bad memory cell is disabled, and a corresponding column redundancy bit line is enabled so that the column fuse box (RCP of FIG. 3) is enabled. Is fused. Thus, the repaired semiconductor memory device can be operated normally.

종래 글로벌 비트라인 단위로 리페어하는 경우에 있어서, 불량 메모리 셀에 대응되는 하나의 글로벌 비트라인이 리던던시 비트라인에 의해 대체된 후에는, 동일 서브 블록 내의 다른 글로벌 비트라인을 리페어하는 것이 불가능하다. 그러나, 본 발명에서는 로컬 비트라인 단위로 리페어함으로써, 하나의 서브 블록 내에서 하나의 글로벌 비트라인에 연결된 로컬 비트라인이 리페어된 경우라도, 또 다른 글로벌 비트라인에 연결된 로컬 비트라인을 리페어할 수도 있게 되어 리페어 효율이 높아지는 이점이 있다In the case of the conventional global bit line repair, after one global bit line corresponding to the bad memory cell is replaced by the redundancy bit line, it is impossible to repair another global bit line in the same sub block. However, in the present invention, by repairing in a local bit line unit, even if a local bit line connected to one global bit line is repaired in one sub block, the local bit line connected to another global bit line may be repaired. There is an advantage that repair efficiency becomes high

본 발명의 일 실시예에 따라 복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치의 컬럼 리페어 방법은 상기 서브 블록의 열에 대응되게 배치된 컬럼 퓨즈 박스부를 선택적으로 퓨징하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, a column repair method of a semiconductor memory device having at least one sub block having memory cells connected to a plurality of local bit lines may include a column fuse box unit selectively disposed corresponding to a column of the sub block. It is characterized by fusing.

상기 서브 블록의 열에 대응되게 배치된 컬럼 퓨즈 박스부를 선택적으로 퓨징함으로써, 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인이 디스에이블된다. 그리고, 상기 결함 셀을 대체하기 위한 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인은 인에이블된다.By selectively fusing the column fuse box unit corresponding to the column of the sub block, the local bit line connected to the defective cell is disabled when the defective cell is present among the memory cells. The local redundancy bit line coupled to the redundancy memory cell for replacing the defective cell is enabled.

도 4를 참조하면, 상기 로컬 리던던시 비트라인은 상기 반도체 메모리 장치 의 동작시 상기 결함 셀에 대응되는 어드레스가 입력되는 경우에 인에이블되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에, 연결된 네 개의 로컬 비트라인에 대응되게 상기 서브 블록마다에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 4, the local redundancy bit line is enabled when an address corresponding to the defective cell is input during operation of the semiconductor memory device, and four local bits connected to a global bit line corresponding to the defective cell. Each sub block may be disposed to correspond to a line.

본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 컬럼 리던던시 회로 및 그에 의한 리페어 방법은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기본 원리를 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 설계되고, 응용될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게는 자명한 사실이라 할 것이다.The column redundancy circuit and the repair method thereof of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention are not limited to the above embodiments, and various designs and applications can be made without departing from the basic principles of the present invention. It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

상술한 바와 같이 본 발명은 개선된 컬럼 리던던시 회로를 제공함으로써, 반도체 메모리 장치에 있어서의 리페어 효율성을 증가시키는 효과를 갖는다.As described above, the present invention provides an improved column redundancy circuit, thereby increasing the repair efficiency in the semiconductor memory device.

또한, 본 발명은 개선된 컬럼 리던던시 회로를 제공함으로써, 글로벌 비트라인에 연결된 복수개의 로컬 비트라인 단위로 리페어할 수 있는 효과를 갖는다. In addition, the present invention provides an improved column redundancy circuit, so that the repair can be performed in units of a plurality of local bit lines connected to the global bit lines.

또한, 본 발명은 개선된 컬럼 리페어 방법을 제공함으로써, 반도체 메모리 장치에 있어서의 리페어 효율성을 증가시키는 효과를 갖는다. In addition, the present invention has an effect of increasing the repair efficiency in a semiconductor memory device by providing an improved column repair method.

Claims (6)

복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치에서의 컬럼 리던던시 회로에 있어서:A column redundancy circuit in a semiconductor memory device having at least one sub block having memory cells connected to a plurality of local bit lines, the column redundancy circuit comprising: 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 퓨징하기 위한 컬럼 퓨즈 박스부; 및A column fuse box unit for fusing when a defective cell is present among the memory cells; And 상기 결함 셀에 연결되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에 연결된 로컬 비트라인을 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인으로 대체하기 위해, 상기 컬럼 퓨즈 박스부로부터 인가되는 신호에 의해 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시키며 상기 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시키기 위한 로컬 와이패스부를 구비함을 특징으로 하는 컬럼 리던던시 회로.In order to replace a local bit line connected to the defective cell and a global bit line corresponding to the defective cell with a local redundancy bit line connected to a redundancy memory cell, the defective cell is connected to the defective cell by a signal applied from the column fuse box unit. And a local wipath portion for disabling the connected local bitline and for enabling the local redundancy bitline. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 컬럼 퓨즈 박스부는 상기 서브 블록의 열에 대응되게 배치됨을 특징으로 하는 컬럼 리던던시 회로.And the column fuse box portion is disposed to correspond to a column of the sub block. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인은 상기 반도체 메모리 장치의 동 작시 상기 결함 셀을 지정하는 어드레스가 입력되는 경우에 글로벌 와이패스부에 의해 인에이블됨을 특징으로 하는 컬럼 리던던시 회로.And a global bit line corresponding to the defective cell is enabled by a global wi-pass unit when an address specifying the defective cell is input during operation of the semiconductor memory device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리던던시 메모리 셀은 상기 글로벌 비트라인 각각에 대응되고 상기 서브 블록마다 배치됨을 특징으로 하는 컬럼 리던던시 회로.And the redundancy memory cell corresponds to each of the global bit lines and is disposed in each of the sub-blocks. 복수 개의 로컬 비트라인에 연결된 메모리 셀을 갖는 서브 블록을 적어도 하나 이상 구비한 반도체 메모리 장치의 컬럼 리페어 방법에 있어서:A method of repairing a column of a semiconductor memory device having at least one sub block having memory cells connected to a plurality of local bit lines, the method comprising: 상기 메모리 셀들 중 결함 셀이 존재하는 경우에 상기 결함 셀에 연결된 로컬 비트라인을 디스에이블시키며, 상기 결함 셀을 대체하기 위한 리던던시 메모리 셀에 연결된 로컬 리던던시 비트라인을 인에이블시키기 위해, 상기 서브 블록의 열에 대응되게 배치된 컬럼 퓨즈 박스부를 선택적으로 퓨징하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 컬럼 리페어 방법.In order to disable a local bit line connected to the defective cell when a defective cell exists among the memory cells, and to enable a local redundancy bit line connected to a redundant memory cell for replacing the defective cell. A method of repairing a column of a semiconductor memory device, the method comprising selectively fusing a column fuse box unit corresponding to a column. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 로컬 리던던시 비트라인은,The local redundancy bit line, 상기 반도체 메모리 장치의 동작시 상기 결함 셀에 대응되는 어드레스가 입력되는 경우에 인에이블되며 상기 결함 셀에 대응되는 글로벌 비트라인에, 연결된 복수 개의 로컬 비트라인에 대응되게 상기 서브 블록마다에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 컬럼 리페어 방법.It is enabled when an address corresponding to the defective cell is input during operation of the semiconductor memory device, and is disposed in each of the subblocks corresponding to a plurality of local bitlines connected to a global bitline corresponding to the defective cell. A method of repairing a column of a semiconductor memory device.
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KR20120037655A (en) * 2010-10-12 2012-04-20 에스케이하이닉스 주식회사 Redundancy circuit

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