KR20070031453A - Dental compositions containing oxirane monomers - Google Patents

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KR20070031453A
KR20070031453A KR1020077003400A KR20077003400A KR20070031453A KR 20070031453 A KR20070031453 A KR 20070031453A KR 1020077003400 A KR1020077003400 A KR 1020077003400A KR 20077003400 A KR20077003400 A KR 20077003400A KR 20070031453 A KR20070031453 A KR 20070031453A
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epoxy
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dental
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로저 에이. 마더
드와이트 더블유. 제이콥스
아드리안 에스. 엑케르트
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
3엠 에에스페에 악티엔 게젤샤프트
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Abstract

옥시란 기재 치과용 조성물에 사용하기 위한 에폭시 관능성 에테르 단량체(즉, 옥시란 단량체).Epoxy Functional Ether Monomers (ie, oxirane monomers) for use in oxirane based dental compositions.

에폭시 관능성 에테르 단량체, 옥시란 단량체, 옥시란 기재 치과용 조성물Epoxy functional ether monomers, oxirane monomers, oxirane based dental compositions

Description

옥시란 단량체를 함유하는 치과용 조성물{DENTAL COMPOSITIONS CONTAINING OXIRANE MONOMERS}Dental composition containing an oxirane monomer {DENTAL COMPOSITIONS CONTAINING OXIRANE MONOMERS}

본 발명은 옥시란 단량체를 포함하는 치과용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a dental composition comprising an oxirane monomer.

현재 유리 이오노머를 제외한 모든 유기물 기재 치과용 수복물은 과도하게 높은 중합 수축으로 인해 경화시 허용가능하지 않게 높은 응력을 나타내는 메타크릴레이트/아크릴레이트 화학물질을 기재로 하고 있다. 옥시란 화학물질은 가장 우수한 시판 메타크릴레이트 기재 물질보다 낮은 수축 및 낮은 중합 응력을 나타내는 것으로 밝혀졌다.Currently all organic based dental restorations, except glass ionomers, are based on methacrylate / acrylate chemicals that exhibit unacceptably high stresses upon curing due to excessively high polymerization shrinkage. Oxirane chemicals have been found to exhibit lower shrinkage and lower polymerization stresses than the best commercial methacrylate based materials.

그러나, 현재 특정한 옥시란계의 굴절율은 바람직한 충전제(석영/방사선 불투과성 용융 유리/방사선 불투과성 졸 겔 충전제)의 굴절율(RI)과 이상적으로 일치되지 않는다. 그 결과, 이러한 옥시란계를 사용하여 제조된 복합체의 반투명성(미관)은 원하는 만큼 높지 않다.However, the refractive index of certain oxirane systems currently does not ideally match the refractive index (RI) of the preferred filler (quartz / radiation impermeable molten glass / radiation impermeable sol gel filler). As a result, the translucency (aesthetics) of the composites prepared using this oxirane system is not as high as desired.

또한, 특정한 옥시란 수복물계의 중합 응력 및 겔후 수축(Post Gel Shrinkage)(변형률 게이지 방법)은 현재 시판되는 최저 수축 메타크릴레이트 기재 수복 물질의 대략 절반밖에 안 된다.In addition, the polymerization stress and Post Gel Shrinkage (strain gauge method) of a particular oxirane restoration system is only about half of the lowest shrinking methacrylate based restorative materials currently available.

따라서, 옥시란 기재 치과용 조성물에 첨가되거나, 또는 단독으로 사용될 수 있는 우수한 미관, 우수한 기계적 성질 및 낮은 수축률을 갖는 신규한 성분에 대한 요구가 여전히 존재한다.Accordingly, there is still a need for novel ingredients with good aesthetics, good mechanical properties and low shrinkage that can be added to oxirane based dental compositions or used alone.

발명의 개요Summary of the Invention

본 발명은 치과용 조성물에서 사용하기 위한 에폭시 관능성 에테르 단량체(즉, 옥시란 단량체)를 제공한다. 유의하게도, 본 발명의 단량체 중 1종 이상은 다른 옥시란 화합물과 병용된 경우 수축 또는 복합체의 다른 물리적 성질에 악영향을 미치지 않으면서 개선된 미관, 개선된 기계적 강도 및 높은 전환도 중 하나 이상을 제공할 수 있다.The present invention provides an epoxy functional ether monomer (ie oxirane monomer) for use in a dental composition. Significantly, at least one of the monomers of the present invention, when combined with other oxirane compounds, provides one or more of improved aesthetics, improved mechanical strength and high degree of conversion without adversely affecting contraction or other physical properties of the composite. can do.

바람직하게는, 에폭시 관능성 에테르 단량체는 하기 화학식 I을 갖는다. Preferably, the epoxy functional ether monomer has the general formula (I).

Figure 112007013004212-PCT00001
Figure 112007013004212-PCT00001

상기 식 중, A는 각각 1-30개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌, 시클로알킬렌, 아릴알킬렌 또는 아릴시클로알킬렌을 나타내며, 여기서 하나 이상의 탄소 및/또는 수소 원자는 임의적으로 하나 이상의 Br, Cl, N 또는 O 원자 또는 이들의 조합에 의해 치환되고, 각각의 R은 독립적으로 알킬, 아릴 또는 에폭시알킬을 나타내고, n은 0-4이고, a는 2-4이다.Wherein A represents a straight or branched chain alkylene, cycloalkylene, arylalkylene or arylcycloalkylene having 1-30 carbon atoms each, wherein one or more carbon and / or hydrogen atoms are optionally one Substituted by any of the above Br, Cl, N or O atoms or a combination thereof, each R independently represents alkyl, aryl or epoxyalkyl, n is 0-4 and a is 2-4.

상기 단량체는 치과용 조성물 중에 수지계로서 단독으로, 또는 방향족 기, 지방족 기, 지환족 기 및 이들의 조합을 포함하는 에폭시 화합물과 같은 옥시란 기재 계에 전형적으로 사용되는 다른 수지계 반응성 성분과 함께 사용될 수 있다.The monomers may be used alone or in combination with other resin-based reactive components typically used in oxirane based systems such as epoxy compounds comprising aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, and combinations thereof in the dental composition. have.

또한, 전형적으로 조성물은 개시제계를 포함한다. 개시제계는 1종 이상의 개시제를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 이러한 개시제는 양이온성 개환 중합 반응을 유도할 수 있다. In addition, the compositions typically include an initiator system. The initiator system may comprise one or more initiators. Preferably such initiators can induce cationic ring-opening polymerization reactions.

특정한 실시양태에서, 또한 치과용 조성물은 충전제계를 포함한다. 다른 임의적인 성분은 예를 들면, 착색제, 계면활성제, 향미제, 의약, 안정화제, 점도 개질제, 희석제, 흐름 조절제, 요변성제, 항균제 및 중합체 증점제를 포함한다.In certain embodiments, the dental composition also includes a filler system. Other optional ingredients include, for example, colorants, surfactants, flavors, medicaments, stabilizers, viscosity modifiers, diluents, flow regulators, thixotropic agents, antibacterial agents, and polymer thickeners.

원하는 효과를 위해 본 명세서에 나열된 성분들 각각의 다양한 조합을 사용할 수 있다.Various combinations of each of the components listed herein can be used for the desired effect.

용어 "포함하다" 및 이의 변형은 상세한 설명 및 청구항에 사용되는 경우 제한적인 의미를 갖지 않는다.The term "comprises" and variations thereof do not have a limiting meaning when used in the description and claims.

본 명세서에 사용된, 부정 관사 "a," "an," 정관사 "the," "적어도 하나" 및 "1종 이상"은 상호교환적으로 사용된다. 따라서, 예를 들면, "한" 옥시란 함유 단량체를 포함하는 치과용 조성물은 "1종 이상의" 옥시란 함유 단량체를 포함하는 치과용 조성물을 의미하는 것으로 해석될 수 있다. 유사하게, "한" 충전제를 포함하는 조성물은 조성물이 "1종 이상의" 유형의 충전제를 포함한다는 의미로 해석될 수 있다.As used herein, the indefinite articles "a," "an," the definite article "the," "at least one" and "at least one" are used interchangeably. Thus, for example, a dental composition comprising "one" oxirane containing monomer may be interpreted to mean a dental composition comprising "one or more" oxirane containing monomers. Similarly, a composition comprising "one" filler may be interpreted to mean that the composition comprises a filler of "one or more" types.

또한, 본 명세서에서, 종점에 의한 수치 범위 표현은 그 범위 내에 포함되는 모든 수들을 포함한다(예를 들면, 1 내지 5는 1, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4, 5 등 포함).In addition, in this specification, the numerical range representation by the endpoint includes all the numbers included in the range (eg, 1 to 5 includes 1, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4, 5, etc.). .

상기 본 발명의 개요는 각각의 개시된 실시양태 또는 본 발명의 모든 실시를 기재하기 위한 것이 아니다. 후술하는 설명은 예시적인 실시양태를 더욱 구체적으로 예시한다. 본 출원을 통틀어 몇 군데에서, 다양한 조합으로 사용될 수 있는 예들의 목록을 통해 안내를 제공한다. 각각의 경우, 언급된 목록은 오직 대표적인 군으로 작용하며, 배타적인 목록으로 해석되지 않아야 한다.The above summary of the present invention is not intended to describe each disclosed embodiment or every implementation of the present invention. The following description more particularly exemplifies illustrative embodiments. In several places throughout the application, guidance is provided through a list of examples that can be used in various combinations. In each case, the list mentioned serves only as a representative group and should not be construed as an exclusive list.

예시적인 실시양태의 상세한 설명 Detailed Description of Exemplary Embodiments

본 발명은 치과용 조성물에서 사용하기 위한 에폭시 관능성 에테르 단량체를 제공한다. 이 단량체는 치과용 조성물 중에 수지계로서 단독으로, 또는 방향족 기, 지방족 기, 지환족 기 및 이들의 조합을 포함하는 에폭시 화합물과 같은 옥시란 기재 계에 전형적으로 사용되는 다른 수지계 반응성 성분과 함께 사용될 수 있다.The present invention provides an epoxy functional ether monomer for use in a dental composition. These monomers can be used alone or in combination with other resin-based reactive components typically used in oxirane based systems such as epoxy compounds comprising aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, and combinations thereof in dental compositions. have.

에폭시 관능성 에테르 단량체 및 그의 제조Epoxy Functional Ether Monomers and Their Preparation

본 발명의 바람직한 에폭시 관능성 에테르 단량체는 하기 화학식 I을 갖는다. Preferred epoxy functional ether monomers of the present invention have formula (I)

<화학식 I><Formula I>

Figure 112007013004212-PCT00002
Figure 112007013004212-PCT00002

상기 식 중, A는 각각 1-30개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌, 시클로알킬렌, 아릴알킬렌 또는 아릴시클로알킬렌을 나타내며, 여기서 하나 이상의 탄소 및/또는 수소 원자는 임의적으로 하나 이상의 Br, Cl, N 또는 O 원자 또는 이들의 조합에 의해 치환되고, 각각의 R은 독립적으로 알킬, 아릴 또는 에폭시알킬을 나타내고(n = 0이고 R이 존재하지 않는 경우, 방향족 고리의 개방 탄소는 H 원자로 치환됨), n은 0-4이고, a는 2-4이다. 본 명세서에서, R기가 할로겐을 포함하지 않는다는 것은 당업자에게 명백할 것이다.Wherein A represents a straight or branched chain alkylene, cycloalkylene, arylalkylene or arylcycloalkylene having 1-30 carbon atoms each, wherein one or more carbon and / or hydrogen atoms are optionally one Substituted by at least Br, Cl, N or O atoms or a combination thereof, each R independently represents alkyl, aryl or epoxyalkyl (when n = 0 and R is absent, the open carbon of the aromatic ring is Substituted with H atoms, n is 0-4 and a is 2-4. In the present specification, it will be apparent to those skilled in the art that the R group does not include a halogen.

a는 바람직하게는 3, 더욱 바람직하게는 2이다. 바람직하게는, n은 0(이고, 모든 개방 탄소 원자는 H 원자로 치환됨)이다. 바람직하게는, A는 할로겐을 포함하지 않는다. 더욱 바람직하게는, A는 알킬렌을 나타낸다.a is preferably 3, more preferably 2. Preferably, n is 0 (where all open carbon atoms are substituted with H atoms). Preferably, A does not contain halogen. More preferably, A represents alkylene.

화학식 I에 따르면, 하기 화합물들이 에폭시 관능성 에테르 유도체의 바람직한 예이다.According to formula (I), the following compounds are preferred examples of epoxy functional ether derivatives.

Figure 112007013004212-PCT00003
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Figure 112007013004212-PCT00004
Figure 112007013004212-PCT00004

화합물의 제조Preparation of the compound

본 발명의 에폭시 관능성 에테르 단량체는 출발 물질로서 일반적으로 상업적으로 입수가능한(예를 들면, 미주리주 세인트 루이스 소재의 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich)로부터) 2-알릴페놀 및 그의 유도체, 및 MCPBA(m-클로로퍼벤조산)를 사용하여 올레핀 잔기를 에폭시드로 전환시킴으로써 하기 반응식에 의해 제조될 수 있다. 이 반응식은 하기 화학식 II(즉, a = 2인 화학식 I)로 나타낸 것과 같은 화합물의 일반적인 제조를 나타낸다.Epoxy functional ether monomers of the invention are generally commercially available as starting materials (e.g., from Sigma-Aldrich, St. Louis, MO), 2-allylphenol and derivatives thereof, and MCPBA ( m-chloroperbenzoic acid) can be prepared by the following scheme by converting the olefin moiety to an epoxide. This scheme represents the general preparation of a compound as represented by the following formula II (ie, formula I where a = 2).

Figure 112007013004212-PCT00005
Figure 112007013004212-PCT00005

실시예 단락 중 실시예 1-4(화합물 A-D)는 화학식 II(여기서, n = 0 및 A =(CH2)x(여기서, x = 각각 3, 5, 6 또는 10))의 제조를 상술한다.Examples 1-4 (Compound AD) in the Examples paragraph detail the preparation of Formula II (where n = 0 and A = (CH 2 ) x where x = 3, 5, 6 or 10, respectively). .

에폭시 관능성 에테르 단량체는 우수한 물리적 성질을 유지하면서 2.0% 이하의 총 부피 중합 수축(전형적으로, 1.0% 내지 2.0%의 수축)(여기서, %는 경화 전 조성물의 부피를 기준으로 함)을 나타내는 치과용 복합체로 제제화될 수 있다.Epoxy functional ether monomers exhibit dental qualities of up to 2.0% total volume polymerization shrinkage (typically between 1.0% and 2.0% shrinkage), where% is based on the volume of the composition before curing, while maintaining good physical properties. Can be formulated into a complex.

본 발명의 단량체는 조성물의 용도에 따라 치과용 조성물 중 100% 이하의 양으로 사용될 수 있다. 바람직하게는, 치과용 조성물 중 에폭시 관능성 에테르 단량체의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 1 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 3 중량% 이상, 가장 바람직하게는 5 중량% 이상이다. 바람직하게는, 에폭시 관능성 에테르 단량체의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 80 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 중량% 이하, 가장 바람직하게는 40 중량% 이하이다. The monomers of the present invention may be used in amounts up to 100% in dental compositions, depending on the use of the composition. Preferably, the total amount of epoxy functional ether monomers in the dental composition is at least 1% by weight, more preferably at least 3% by weight and most preferably at least 5% by weight, based on the total weight of the composition. Preferably, the total amount of epoxy functional ether monomer is 80% by weight or less, more preferably 60% by weight or less and most preferably 40% by weight or less, based on the total weight of the composition.

옥시란 수지계Oxirane resin

본 발명의 에폭시 관능성 에테르 단량체는 치과용 조성물 중에 수지계로서 단독으로, 또는 방향족 기, 지방족 기, 지환족 기 및 이들의 조합을 포함하는 에폭시 화합물과 같은 옥시란 기재 계에 전형적으로 사용되는 다른 수지계 반응성 성분과 함께 사용될 수 있다.The epoxy functional ether monomers of the present invention can be used alone or as resins in dental compositions, or other resin systems typically used in oxirane based systems such as epoxy compounds comprising aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, and combinations thereof. Can be used with reactive components.

적합한 수지계 반응성 성분(즉, 광중합성 물질 및 조성물)은 에폭시 수지(양이온성 활성 에폭시기 함유), 비닐 에테르 수지(양이온성 활성 비닐 에테르 기 함유), 에틸렌성 불포화 화합물(자유 라디칼 활성 불포화 기 함유) 및 이들의 조합물을 포함할 수 있다. 유용한 에틸렌성 불포화 화합물의 예는 아크릴산 에스테르, 메타크릴산 에스테르, 히드록시 관능성 아크릴산 에스테르, 히드록시 관능성 메타크릴산 에스테르 및 이들의 조합물을 포함한다. 단일 화합물로 양이온성 활성 관능기 및 자유 라디칼 활성 관능기 모두를 함유하는 중합성 물질도 적합하다. 그 예는 에폭시 관능성 아크릴레이트, 에폭시 관능성 메타크릴레이트 및 이들의 조합물을 포함한다.Suitable resin-based reactive components (ie photopolymerizable materials and compositions) include epoxy resins (containing cationic active epoxy groups), vinyl ether resins (containing cationic active vinyl ether groups), ethylenically unsaturated compounds (containing free radically active unsaturated groups), and Combinations thereof. Examples of useful ethylenically unsaturated compounds include acrylic esters, methacrylic esters, hydroxy functional acrylic esters, hydroxy functional methacrylic esters and combinations thereof. Also suitable are polymerizable materials which contain both cationic and free radically active functional groups in a single compound. Examples include epoxy functional acrylates, epoxy functional methacrylates, and combinations thereof.

수지계 반응성 성분은 단량체, 올리고머, 및 하나 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 중합체를 비롯한 자유 라디칼 활성 관능기를 갖는 화합물을 포함할 수 있다. 적합한 화합물은 하나 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 함유하고, 첨가 중합을 수행할 수 있다. 이러한 자유 라디칼성 중합성 화합물은 예를 들면, (메트)아크릴레이트(즉, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트) 및 (메트)아크릴아미드(즉, 아크릴아미드 및 메타크릴아미드)를 포함한다. 구체적인 예는 미국 특허 6,187,836(Oxman et al.)에 기재된 것과 같은 모노-, 디- 또는 폴리-아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 포함한다. Resin-based reactive components can include compounds having free radically active functional groups, including monomers, oligomers, and polymers having one or more ethylenically unsaturated groups. Suitable compounds contain one or more ethylenically unsaturated bonds and can carry out additive polymerization. Such free radically polymerizable compounds include, for example, (meth) acrylates (ie acrylates and methacrylates) and (meth) acrylamides (ie acrylamides and methacrylamides). Specific examples include mono-, di- or poly-acrylates and methacrylates such as those described in US Pat. No. 6,187,836 to Oxman et al.

수지계 반응성 성분은 양이온성 활성 관능기를 갖는 화합물, 예를 들면 양이온성 중합성 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 이러한 중합성 물질은 개환에 의해 중합가능한 옥시란 고리를 갖는 유기 화합물을 포함한다. 상기 물질은 단량체성 에폭시 화합물 및 중합체 유형의 에폭시드를 포함하고, 지방족, 지환족, 방향족 또는 헤테로시클릭일 수 있다. 일반적으로, 상기 화합물은 평균적으로, 분자당 1개 이상, 일부 실시양태에서 약 1.5개 이상, 다른 실시양태에서 약 2개 이상의 중합성 에폭시기를 갖는다. 중합체성 에폭시드는 말단 에폭시기를 갖는 선형 중합체(예를 들면, 폴리옥시알킬렌 글리콜의 디글리시딜 에테르), 골격 옥시란 단위를 갖는 중합체(예를 들면, 폴리부타디엔 폴리에폭시드), 및 부속 (pendant) 에폭시기를 갖는 중합체(예를 들면, 글리시딜 메타크릴레이트 중합체 또는 공중합체)를 포함한다. 에폭시드는 순수한 화합물이거나 분자당 하나, 2개 또는 그 이상의 에폭시기를 함유하는 화합물의 혼합물일 수 있다. 분자당 에폭시기의 "평균" 수는 에폭시 함유 물질 중 에폭시기의 총 수를 존재하는 에폭시 함유 분자의 총 수로 나눔으로써 결정된다. The resin-based reactive component may include a compound having a cationic active functional group, for example, a cationic polymerizable epoxy resin. Such polymerizable materials include organic compounds having an oxirane ring polymerizable by ring opening. The materials include monomeric epoxy compounds and epoxides of polymer type and may be aliphatic, cycloaliphatic, aromatic or heterocyclic. In general, the compounds have, on average, at least one polymer per molecule, in some embodiments at least about 1.5, and in other embodiments at least about two polymerizable epoxy groups. Polymeric epoxides are linear polymers having terminal epoxy groups (eg, diglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols), polymers having skeletal oxirane units (eg, polybutadiene polyepoxides), and accessory ( pendant) polymers having epoxy groups (eg, glycidyl methacrylate polymers or copolymers). The epoxide can be a pure compound or a mixture of compounds containing one, two or more epoxy groups per molecule. The “average” number of epoxy groups per molecule is determined by dividing the total number of epoxy groups in the epoxy containing material by the total number of epoxy containing molecules present.

이러한 에폭시 함유 물질은 저 분자량 단량체 물질 내지 고 분자량 중합체일 수 있고, 그들의 골격 및 치환기의 성질이 크게 다양할 수 있다. 허용가능한 치환기의 예는 할로겐, 에스테르 기, 에테르, 술포네이트기, 실록산기, 카르보실란기, 니트로기, 포스페이트기 등을 포함한다. 에폭시 함유 물질의 분자량은 약 58 내지 약 100,000 이상일 수 있다.Such epoxy containing materials can be low molecular weight monomer materials to high molecular weight polymers, and the properties of their backbones and substituents can vary widely. Examples of acceptable substituents include halogens, ester groups, ethers, sulfonate groups, siloxane groups, carbosilane groups, nitro groups, phosphate groups and the like. The molecular weight of the epoxy containing material may be about 58 to about 100,000 or more.

본 발명에서 수지계 반응성 성분으로 유용한 적합한 에폭시 함유 물질은 미 국 특허 6,187,836(Oxman et al.) 및 6,084,004(Weinmann et al.)에 나열되어 있다.Suitable epoxy containing materials useful as resin-based reactive components in the present invention are listed in US Pat. Nos. 6,187,836 (Oxman et al.) And 6,084,004 (Weinmann et al.).

수지계 반응성 성분으로 유용한 다른 적합한 에폭시 수지는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-2-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-2-메틸시클로헥산 카르복실레이트 및 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸) 아디페이트로 예시되는 에폭시시클로헥산카르복실레이트와 같은 시클로헥센 산화물 기를 함유하는 것들을 포함한다. 이 특성을 갖는 유용한 에폭시드의 보다 상세한 목록에 대해서는 미국 특허 6,245,828(Weinmann et al.) 및 5,037,861(Crivello et al.), 및 미국 특허 출원 2003/035899(Klettke et al.)를 참조할 수 있다. 본 발명의 조성물에 유용할 수 있는 다른 에폭시 수지는 글리시딜 에테르 단량체를 포함한다. 그 예로는 다가 페놀을 과량의 클로로히드린, 예를 들면 에피클로로히드린과 반응시킴으로써 수득할 수 있는 다가 페놀의 글리시딜 에테르(예를 들면, 2,2-비스-(2,3-에폭시프로폭시페놀)프로판의 디글리시딜 에테르)가 있다. 이 유형의 에폭시드의 추가예는 미국 특허 3,018,262(Schroeder) 및 문헌["Handbook of Epoxy Resins" by Lee and Neville, McGraw-Hill Book Co., New York(1967)]에 기재되어 있다.Other suitable epoxy resins useful as resin-based reactive components include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2 And those containing cyclohexene oxide groups such as epoxycyclohexanecarboxylate exemplified by -methylcyclohexane carboxylate and bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate. For a more detailed list of useful epoxides having this property, see US Pat. Nos. 6,245,828 (Weinmann et al.) And 5,037,861 (Crivello et al.), And US patent application 2003/035899 (Klettke et al.). Other epoxy resins that may be useful in the compositions of the present invention include glycidyl ether monomers. Examples include glycidyl ethers of polyhydric phenols (eg, 2,2-bis- (2,3-epoxy) which can be obtained by reacting polyhydric phenols with excess chlorohydrin, for example epichlorohydrin. Propoxyphenol) diglycidyl ether of propane). Further examples of this type of epoxide are described in US Pat. No. 3,018,262 to Schroeder and in "Handbook of Epoxy Resins" by Lee and Neville, McGraw-Hill Book Co., New York (1967).

수지계 반응성 성분으로 유용한 특히 적합한 에폭시드는 규소를 함유하는 것들이며, 이의 유용한 예는 국제 특허 공보 WO 01/51540(Klettke et al.)에 기재되어 있다.Particularly suitable epoxides useful as resin-based reactive components are those containing silicon, useful examples of which are described in international patent publication WO 01/51540 (Klettke et al.).

다수의 상업적으로 입수가능한 에폭시드를 비롯한 수지계 반응성 성분으로 유용한 추가의 적합한 에폭시드는 2005년 5월 26일 공개된 미국 공보 2005-0113477 A1에 제공된다.Further suitable epoxides useful as resin-based reactive components, including many commercially available epoxides, are provided in US Publication 2005-0113477 A1, published May 26, 2005.

다양한 에폭시 함유 물질의 블렌드도 고려된다. 이러한 블렌드의 예는 저 분자량(200 미만), 중간 분자량(약 200 내지 10,000) 및 고 분자량(약 10,000 초과)과 같이 에폭시 함유 화합물의 2개 이상의 중량 평균 분자량 분포를 포함한다. 별법으로 또는 부가적으로, 에폭시 수지는 상이한 화학적 특성, 예를 들면 지방족 및 방향족, 또는 상이한 관능가, 예를 들면 극성 및 비극성을 갖는 에폭시 함유 물질의 블렌드를 함유할 수 있다.Blends of various epoxy containing materials are also contemplated. Examples of such blends include two or more weight average molecular weight distributions of epoxy containing compounds, such as low molecular weight (less than 200), medium molecular weight (about 200 to 10,000) and high molecular weight (greater than about 10,000). Alternatively or additionally, the epoxy resin may contain blends of epoxy containing materials having different chemical properties, for example aliphatic and aromatic, or different functionalities, for example polar and nonpolar.

양이온성 활성 관능기를 갖는 다른 유형의 유용한 수지계 반응성 성분은 비닐 에테르, 옥세탄, 스피로-오르토카보네이트, 스피로-오르토에스테르 등을 포함한다.Other types of useful resin-based reactive components with cationic active functionalities include vinyl ethers, oxetane, spiro-orthocarbonates, spiro-orthoesters, and the like.

필요에 따라, 양이온성 활성 관능기 및 자유 라디칼 활성 관능기는 한 분자 중에 함유될 수 있다. 이러한 분자는 예를 들면, 디- 또는 폴리-에폭시드를 1 당량 이상의 에틸렌성 불포화 카르복실산과 반응시킴으로써 수득될 수 있다. 이러한 물질을 예로는 UVR-6105(유니온 카바이드(Union Carbide)로부터 입수가능)와 1 당량의 메타크릴산의 반응 생성물이 있다. 에폭시 및 자유 라디칼 활성 관능가를 갖는 상업적으로 입수가능한 물질은 시클로머(CYCLOMER) 계열, 예를 들면 일본 다이셀 케미칼(Daicel Chemical)로부터 입수가능한 시클로머 M-100, M-101, 또는 A-200, 및 조지아주 애틀란타 소재의 유씨비 케미칼스(UCB Chemicals) 라드큐어 스페셜티스(Radcure Specialties)로부터 입수가능한 EBECRYL-3605를 포함한다.If desired, cationic active functional groups and free radical active functional groups may be contained in one molecule. Such molecules can be obtained, for example, by reacting di- or poly-epoxides with one or more equivalents of ethylenically unsaturated carboxylic acid. An example of such a material is the reaction product of UVR-6105 (available from Union Carbide) with one equivalent of methacrylic acid. Commercially available materials having epoxy and free radical active functionality are the cyclomer family, for example cyclomer M-100, M-101, or A-200, available from Daicel Chemical, Japan. And EBECRYL-3605 available from UCB Chemicals Radcure Specialties, Atlanta, GA.

양이온성 경화성인 수지계 반응성 성분은 히드록실 함유 유기 물질을 추가로 포함할 수 있다. 적합한 히드록실 함유 물질은 1 이상, 바람직하게는 2 이상의 히드록실 관능가를 갖는 임의의 유기 물질일 수 있다. 바람직하게는, 히드록실 함유 물질은 2개 이상의 1차 또는 2차 지방족 히드록실기를 함유한다(즉, 히드록실기가 비방향족 탄소 원자에 직접 결합됨). 히드록실기는 말단에 위치하거나, 중합체 또는 공중합체로부터 부속될 수 있다. 히드록실 함유 유기 물질의 분자량은 극저(예를 들면, 32) 내지 극고(예를 들면, 백만 이상)일 수 있다. 적합한 히드록실 함유 물질은 저 분자량, 즉 약 32 내지 약 200, 중간 분자량, 즉 약 200 내지 약 10,000, 또는 고 분자량, 즉 약 10,000 초과의 분자량을 가질 수 있다. 본 명세서에 사용된 모든 분자량은 중량 평균 분자량이다.The cationic curable resin-based reactive component may further comprise a hydroxyl containing organic material. Suitable hydroxyl containing materials can be any organic material having at least one, preferably at least two, hydroxyl functionalities. Preferably, the hydroxyl containing material contains at least two primary or secondary aliphatic hydroxyl groups (ie, the hydroxyl groups are bonded directly to the nonaromatic carbon atoms). The hydroxyl group may be located at the end or appended from the polymer or copolymer. The molecular weight of the hydroxyl containing organic material can be very low (eg 32) to very high (eg more than one million). Suitable hydroxyl containing materials may have a low molecular weight, i.e., about 32 to about 200, a medium molecular weight, i.e., about 200 to about 10,000, or a high molecular weight, i.e., greater than about 10,000. All molecular weights used herein are weight average molecular weights.

히드록실 함유 물질은 본래 비방향족일 수 있거나 방향족 관능가를 함유할 수 있다. 히드록실 함유 물질은 분자 골격에 헤테로원자, 예를 들면 질소, 산소, 황 등을 임의로 함유할 수 있다. 히드록실 함유 물질은 예를 들면, 천연 발생 또는 합성 제조된 셀룰로오스 물질로부터 선택될 수 있다. 히드록실 함유 물질은 열 또는 광분해에 불안정할 수 있는 기를 실질적으로 함유하지 않아야 한다. 즉 상기 물질은 약 100℃ 미만의 온도에서 또는 중합성 조성물에 바람직한 광중합 조건 동안 직면할 수 있는 화학선광의 존재 하에서 분해되거나 휘발성 성분을 방출하지 않아야 한다.The hydroxyl containing material may be non-aromatic in nature or contain aromatic functionalities. The hydroxyl containing material may optionally contain heteroatoms such as nitrogen, oxygen, sulfur and the like in the molecular backbone. The hydroxyl containing material can be selected, for example, from naturally occurring or synthetically produced cellulosic materials. The hydroxyl containing material should be substantially free of groups that may be unstable to heat or photolysis. That is, the material should not decompose or release volatile components at temperatures below about 100 ° C. or in the presence of actinic beneficiation that may be encountered during the photopolymerization conditions desired for the polymerizable composition.

본 발명에 유용한 적합한 히드록실 함유 물질은 미국 특허 6,187,836(Oxman et al.)에 나열되어 있다. Suitable hydroxyl containing materials useful in the present invention are listed in US Pat. No. 6,187,836 to Oxman et al.

중합성 조성물에 사용되는 히드록실 함유 유기 물질의 양은 히드록실 함유 물질과 양이온성 및/또는 자유 라디칼성 중합성 성분의 상용성, 히드록실 함유 물질의 당량 중량 및 관능가, 최종 조성물에서 원하는 물리적 성질, 원하는 중합 속도 등과 같은 요인에 따라 광범위하게 변할 수 있다.The amount of hydroxyl-containing organic material used in the polymerizable composition is determined by the compatibility of the hydroxyl-containing material with the cationic and / or free radically polymerizable component, the equivalent weight and functionality of the hydroxyl-containing material, the desired physical properties in the final composition, It can vary widely depending on factors such as the desired rate of polymerization and the like.

다양한 히드록실 함유 물질의 블렌드도 사용할 수 있다. 이러한 블렌드의 예는 저 분자량(약 200 미만), 중간 분자량(약 200 내지 약 10,000) 및 고 분자량(약 10,000 초과)과 같이 히드록실 함유 화합물의 2개 이상의 분자량 분포를 포함한다. 별법으로 또는 부가적으로, 히드록실 함유 물질은 상이한 화학적 특성, 예를 들면 지방족 및 방향족, 또는 상이한 관능가, 예를 들면 극성 및 비극성을 갖는 히드록실 함유 물질의 블렌드를 함유할 수 있다. 추가예로서, 2종 이상의 다관능성 히드록시 물질 또는 1종 이상의 일관능성 히드록시 물질과 다관능성 히드록시 물질의 혼합물을 사용할 수 있다.Blends of various hydroxyl containing materials can also be used. Examples of such blends include two or more molecular weight distributions of hydroxyl containing compounds such as low molecular weight (less than about 200), medium molecular weight (about 200 to about 10,000) and high molecular weight (greater than about 10,000). Alternatively or additionally, the hydroxyl containing material may contain blends of hydroxyl containing materials having different chemical properties, for example aliphatic and aromatic, or with different functionalities, for example polar and nonpolar. As a further example, it is possible to use two or more polyfunctional hydroxy materials or a mixture of one or more monofunctional hydroxy materials and a multifunctional hydroxy material.

또한, 수지계 반응성 성분(들)은 단일 분자 중에 히드록실기 및 자유 라디칼 활성 관능기를 함유할 수 있다. 이러한 물질의 예는 히드록시알킬아크릴레이트 및 히드록시알킬메타크릴레이트, 예를 들면 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시에틸메타크릴레이트; 글리세롤 모노- 또는 디-(메트)아크릴레이트; 트리메틸올프로판 모노- 또는 디-(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 모노-, 디- 및 트리-(메트)아크릴레이트, 소르비톨 모노-, 디-, 트리-, 테트라-, 또는 펜타-(메트)아크릴레이트; 및 2,2-비스[4-(2-히드록시-3 메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판을 포함한다.The resin-based reactive component (s) may also contain hydroxyl groups and free radical active functional groups in a single molecule. Examples of such materials include hydroxyalkyl acrylates and hydroxyalkyl methacrylates such as hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate; Glycerol mono- or di- (meth) acrylates; Trimethylolpropane mono- or di- (meth) acrylate, pentaerythritol mono-, di- and tri- (meth) acrylate, sorbitol mono-, di-, tri-, tetra-, or penta- (meth) Acrylates; And 2,2-bis [4- (2-hydroxy-3 methacryloxypropoxy) phenyl] propane.

또한, 수지계 반응성 성분(들)은 단일 분자 중에 히드록실기 및 양이온성 활 성 관능기를 함유할 수 있다. 그 예로는 히드록실기 및 에폭시기 모두를 포함하는 단일 분자가 있다.The resin-based reactive component (s) may also contain hydroxyl groups and cationic active functional groups in a single molecule. Examples include single molecules containing both hydroxyl and epoxy groups.

개시제계Initiator system

본 발명의 조성물은 개시제계, 즉 옥시란 수지계의 경화(예를 들면, 중합 및/또는 가교)에 적합한 1종의 개시제 또는 2종 이상의 개시제의 혼합물을 포함한다.The composition of the present invention comprises one initiator or a mixture of two or more initiators suitable for curing (e.g., polymerization and / or crosslinking) of an initiator system, ie an oxirane resin system.

이러한 개시제는 광 경화 또는 화학적 경화 또는 산화환원 경화를 할 수 있다. 이러한 개시제의 예로는 루이스산 또는 브뢴스테드산, 또는 중합을 개시하는 이러한 산을 방출하는 화합물, 예를 들면, BF3 또는 이의 에테르 부가물(BF3·THF, BF3·Et2O 등), AlCl3, FeCl3, HPF6, HAsF6, HSbF6, 또는 HBF4, 또는 UV 또는 가시광선 조사 후 또는 열 및/또는 압력에 의해 중합을 개시하는 물질, 예를 들면 (η6-쿠멘)(η5-시클로펜타디에닐)철 헥사플루오로포스페이트, (η6-쿠멘)(η5-시클로펜타디에닐)철 테트라플루오로보레이트, (η6-쿠멘)(η5-시클로펜타디에닐)철 헥사플루오로안티모네이트, 치환된 디아릴요오도늄 염 및 트리아릴술포늄 염이 있다. 사용할 수 있는 촉진제로는 퍼에스테르, 디아실 퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트 및 히드로퍼옥사이드 유형의 과산화 화합물이 있다. 바람직하게는, 히드로퍼옥사이드가 사용된다. 쿠멘 중 대략 70% 내지 90% 용액으로 쿠멘 히드로퍼옥사이드가 특히 바람직한 촉진제로 사용된다. 광개시제 대 쿠멘 히드로퍼옥사이드의 비는 1:0.001 내지 1:10의 광범위한 비 내에서 변할 수 있지만, 바람직하게는 1:0.1 내지 1:6, 가장 바람직하게는 1:0.5 내지 1:4의 비가 사용된다. 착화제, 예를 들면 옥살산, 8-히드록시퀴놀린, 에틸렌디아민테트라아세트산 및 방향족 폴리히드록시 화합물을 사용하는 것도 가능하다.Such initiators may be photocured or chemically cured or redox cured. Examples of such initiators are Lewis acids or Bronsted acids, or compounds that release these acids to initiate polymerization, such as BF 3 or ether adducts thereof (BF 3 · THF, BF 3 · Et 2 O, etc.). , AlCl 3 , FeCl 3 , HPF 6 , HAsF 6 , HSbF 6 , or HBF 4 , or a substance which initiates polymerization after UV or visible light irradiation or by heat and / or pressure, for example (η 6 -cumene) (η 5 -cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, (η 6 -cumene) (η 5 -cyclopentadienyl) iron tetrafluoroborate, (η 6 -cumene) (η 5 -cyclopentadienyl ) Iron hexafluoroantimonate, substituted diaryliodonium salts and triarylsulfonium salts. Accelerators that can be used include peroxides, diacyl peroxides, peroxydicarbonates and peroxide compounds of the hydroperoxide type. Preferably, hydroperoxide is used. Cumene hydroperoxide is used as a particularly preferred promoter in approximately 70% to 90% solution in cumene. The ratio of photoinitiator to cumene hydroperoxide can vary within a wide range of ratios from 1: 0.001 to 1:10, but preferably a ratio of 1: 0.1 to 1: 6, most preferably 1: 0.5 to 1: 4 is used. do. It is also possible to use complexing agents such as oxalic acid, 8-hydroxyquinoline, ethylenediaminetetraacetic acid and aromatic polyhydroxy compounds.

양이온성 광중합성 조성물을 중합하는 데 적합한 광개시제는 2원계 및 3원계를 포함한다. 전형적인 3원 광개시제는 EP 0 897 710(Weinmann et al), 미국 특허 5,856,373(Kaisaki et al.), 6,084,004(Weinmann et al.), 6,187,833(Oxman et al.), 및 6,187,836(Oxman et al.), 미국 공보 2003/0166737(Dede et al.), 및 2005년 5월 26일 공개된 미국 공보 2005-0113477 A1에 기재된 바와 같은 요오도늄 염, 감광제, 및 전자 공여 화합물을 포함한다.Suitable photoinitiators for polymerizing cationic photopolymerizable compositions include binary and ternary systems. Typical ternary photoinitiators are EP 0 897 710 (Weinmann et al), US Pat. Iodonium salts, photosensitizers, and electron donating compounds as described in US Publication 2003/0166737 (Dede et al.), And US Publication 2005-0113477 A1 published May 26, 2005.

적합한 요오도늄 염은 톨릴쿠밀요오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 톨릴쿠밀요오도늄 테트라키스(3,5-비스(트리플루오로메틸)-페닐)보레이트, 및 디아릴 요오도늄 염, 예를 들면 디페닐요오도늄 클로라이드, 디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄 헥사플루오로안티모네이트 및 디페닐요오도늄 테트라플루오로보레이트를 포함한다. 적합한 감광제로는 약 450 나노미터(nm) 내지 약 520 nm(바람직하게는, 약 450 nm 내지 약 500 nm) 범위 내의 광을 일부 흡수하는 모노케톤 및 디케톤이 있다. 더욱 적합한 화합물은 약 450 nm 내지 약 520 nm(더욱더 바람직하게는, 약 450 nm 내지 약 500 nm) 범위 내의 광을 일부 흡수하는 알파 디케톤이다. 바람직한 화합물은 캄포르퀴논, 벤질, 푸릴, 3,3,6,6-테트라메틸시클로헥산디온, 페난트라퀴논 및 다른 시클릭 알파 디케톤이다. 캄포르퀴논이 가장 바람직하다. 적합한 전자 공여 화합물은 치환된 아민, 예를 들면 에틸 4- (디메틸아미노)벤조에이트 및 2-부톡시에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 및 중축합 방향족 화합물(예를 들면 안트라센)을 포함한다. Suitable iodonium salts include tolyl cumyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tolyl cumyliodonium tetrakis (3,5-bis (trifluoromethyl) -phenyl) borate, and diaryl iodo Nium salts such as diphenyliodonium chloride, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate and diphenyliodonium tetrafluoroborate. Suitable photosensitizers include monoketones and diketones that partially absorb light in the range of about 450 nanometers (nm) to about 520 nm (preferably between about 450 nm and about 500 nm). More suitable compounds are alpha diketones that partially absorb light in the range from about 450 nm to about 520 nm (more preferably, from about 450 nm to about 500 nm). Preferred compounds are camphorquinone, benzyl, furyl, 3,3,6,6-tetramethylcyclohexanedione, phenanthraquinone and other cyclic alpha diketones. Camphorquinone is most preferred. Suitable electron donating compounds include substituted amines such as ethyl 4- (dimethylamino) benzoate and 2-butoxyethyl 4- (dimethylamino) benzoate, and polycondensed aromatic compounds (eg anthracene) .

개시제계는 원하는 경화(예를 들면, 중합 및/또는 가교)율을 제공하기에 충분한 양으로 존재한다. 광개시제의 경우, 이 양은 부분적으로 광원, 복사 에너지에 노출되는 층의 두께 및 광개시제의 흡광 계수에 달려있다. 바람직하게는, 개시제계의 총량은 조성물의 중량을 기준으로 0.01 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 중량% 이상, 가장 바람직하게는 0.05 중량% 이상으로 존재한다. 바람직하게는, 개시제계의 총량은 조성물의 중량을 기준으로 10 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 5 중량% 이하, 가장 바람직하게는 2.5 중량% 이하로 존재한다.The initiator system is present in an amount sufficient to provide the desired rate of cure (eg, polymerization and / or crosslinking). In the case of photoinitiators, this amount depends in part on the light source, the thickness of the layer exposed to radiant energy and the extinction coefficient of the photoinitiator. Preferably, the total amount of initiator system is present at least 0.01% by weight, more preferably at least 0.03% by weight and most preferably at least 0.05% by weight based on the weight of the composition. Preferably, the total amount of initiator system is present at 10 wt% or less, more preferably at most 5 wt%, most preferably at most 2.5 wt%, based on the weight of the composition.

충전제계Filler system

본 발명의 조성물은 충전제계(즉, 1종 이상의 충전제)를 임의로 포함할 수 있다. 충전제계에 사용되는 충전제는 수지계에 혼입되는 광범위한 통상적인 충전제로부터 선택할 수 있다. 바람직하게는, 충전제계는 현재 치과용 수복물 조성물에 사용되는 충전제와 같이 의료 분야에 사용되는 조성물에 혼입하기에 적합한 1종 이상의 통상적인 물질을 포함한다. 따라서, 본 발명의 조성물에 사용되는 충전제계는 수지계에 혼입된다.The composition of the present invention may optionally comprise a filler system (ie, one or more fillers). Fillers used in filler systems can be selected from a wide variety of conventional fillers incorporated into resin systems. Preferably, the filler system comprises one or more conventional materials suitable for incorporation into compositions used in the medical field, such as fillers currently used in dental restoration compositions. Therefore, the filler system used in the composition of the present invention is incorporated in the resin system.

충전제는 본래 미립자 또는 섬유질일 수 있다. 일반적으로, 미립자 충전제는 20:1 이하, 더욱 통상적으로 10:1 이하의 길이 대 폭 비, 또는 종횡비를 갖는 것으로 정의될 수 있다. 섬유는 20:1 초과, 또는 더욱 통상적으로 100:1 초과의 종횡비를 갖는 것으로 정의될 수 있다. 입자의 형상은 구 내지 타원형이거나, 또 는 평면형, 예를 들면 플레이크 또는 디스크일 수 있다. 거시적 성질은 충전제 입자의 형상, 특히 형상의 균일성에 크게 좌우될 수 있다.The filler may be particulate or fibrous in nature. In general, the particulate filler may be defined as having a length to width ratio, or aspect ratio, of 20: 1 or less, more typically 10: 1 or less. Fibers can be defined as having aspect ratios greater than 20: 1, or more typically greater than 100: 1. The shape of the particles may be spherical to elliptical, or may be planar, for example flakes or discs. The macroscopic properties can depend largely on the shape of the filler particles, in particular the uniformity of the shape.

바람직한 미립자 충전제는 미분되고, 10 마이크로미터(즉, 미크론) 미만의 평균 입도(바람직하게는, 직경)를 갖는다.Preferred particulate fillers are finely divided and have an average particle size (preferably diameter) of less than 10 micrometers (ie, microns).

바람직한 마이크로미터-크기 미립자 충전제는 0.2 마이크로미터 이상 내지 1 마이크로미터 이하의 평균 입도를 갖는다. 나노 입자는 200 nm(0.2 마이크로미터) 미만의 평균 일차 입도를 갖는다. 충전제는 단봉 또는 다봉(예를 들면, 이봉) 입도 분포를 가질 수 있다. Preferred micrometer-sized particulate fillers have an average particle size of at least 0.2 micrometers and at most 1 micrometer. Nanoparticles have an average primary particle size of less than 200 nm (0.2 micrometers). The filler may have a single or multimodal (eg bimodal) particle size distribution.

마이크로미터-크기 입자는 경화후 마모(post-cure wear) 성질을 개선하는 데 매우 효과적이다. 이에 반하여, 나노 충전제는 통상 점도 개질제 및 요변성제로 사용된다. 이러한 물질들은 그들의 작은 크기, 높은 표면적 및 회합된 수소 결합으로 인해 응집된 망상구조로 조립되는 것으로 알려져 있다. 이 유형의 물질("나노" 물질)은 1000 나노미터(nm) 이하의 평균 일차 입도(즉, 비-응집 물질의 최장 치수, 예를 들면 직경)를 갖는다. 바람직하게는, 나노 미립자 물질은 2 나노미터(nm) 이상, 바람직하게는 7 nm 이상의 평균 일차 입도를 갖는다. 바람직하게는, 나노 미립자 물질은 50 nm 이하, 더욱 바람직하게는 20 nm 이하의 평균 일차 입도를 갖는다. 이러한 충전제의 평균 표면적은 바람직하게는 1 그램 당 20 제곱 미터(㎡/g) 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎡/g 이상, 가장 바람직하게는 100 ㎡/g 이상이다.Micrometer-sized particles are very effective in improving post-cure wear properties. In contrast, nano fillers are commonly used as viscosity modifiers and thixotropic agents. These materials are known to assemble into agglomerated networks due to their small size, high surface area and associated hydrogen bonds. This type of material (“nano” material) has an average primary particle size (ie, the longest dimension of the non-agglomerated material, eg diameter) of 1000 nanometers (nm) or less. Preferably, the nanoparticulate material has an average primary particle size of at least 2 nanometers (nm), preferably at least 7 nm. Preferably, the nanoparticulate material has an average primary particle size of 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. The average surface area of such fillers is preferably at least 20 square meters (m 2 / g) per gram, more preferably at least 50 m 2 / g and most preferably at least 100 m 2 / g.

충전제계는 무기 물질을 포함할 수 있다. 또한, 이는 중합가능한 수지 중에 불용성이고, 임의적으로 무기 충전제로 충전된 가교된 유기 물질을 포함할 수 있다. 바람직하게는 일반적으로, 충전제계는 비독성이고, 구강에 사용하기 적합하다. The filler system may comprise an inorganic material. It may also comprise crosslinked organic materials which are insoluble in the polymerizable resin and optionally filled with an inorganic filler. Preferably, in general, the filler system is non-toxic and suitable for use in the oral cavity.

적합한 충전제는 방사선 불투과성, 방사선 반투과성 또는 방사선 투과성일 수 있다. 전형적으로, 치과 분야에 사용되는 충전제는 본래 세라믹이다. 적합한 무기 충전제의 예로는 천연 발생 또는 합성 물질, 예를 들면 석영, 질화물(예를 들면, 질화규소), 예를 들면, Ce, Sb, Sn, Zr, Sr, Ba 또는 Al로부터 유도된 유리, 콜로이드성 실리카, 장석, 붕규산염 유리, 카올린, 탈크, 티타니아, 및 아연 유리, 지르코니아-실리카 충전제, 및 낮은 모스(Mohs) 경도 충전제, 예를 들면 미국 특허 4,695,251(Randklev)에 기재된 것들이 있다. 적합한 유기 충전제 입자의 예는 충전 또는 비충전 분쇄 폴리카보네이트, 폴리에폭시드 등을 포함한다. 바람직한 충전제 입자로는 석영, 서브마이크로미터 실리카, 및 미국 특허 4,503,169(Randklev)에 기재된 유형의 비유리질 마이크로입자가 있다. 이 충전제들의 혼합물, 뿐만 아니라 유기 물질 및 무기 물질로부터 제조된 충전제의 조합물도 사용할 수 있다.Suitable fillers may be radiopaque, radiopaque or radiopaque. Typically, fillers used in the dental field are inherently ceramic. Examples of suitable inorganic fillers are glass, colloidal, derived from naturally occurring or synthetic materials such as quartz, nitrides (eg silicon nitride), such as Ce, Sb, Sn, Zr, Sr, Ba or Al. Silica, feldspar, borosilicate glass, kaolin, talc, titania, and zinc glass, zirconia-silica fillers, and low Mohs hardness fillers, such as those described in US Pat. No. 4,695,251 (Randklev). Examples of suitable organic filler particles include filled or unfilled ground polycarbonates, polyepoxides and the like. Preferred filler particles are quartz, submicron silica, and non-glass microparticles of the type described in US Pat. No. 4,503,169 (Randklev). Mixtures of these fillers, as well as combinations of fillers made from organic and inorganic materials, can be used.

적합한 충전제의 예로는 방사선 불투과를 위한 삼불화이트륨을 갖는 IOTA-6 충전제(노쓰 캐롤라이나주 스프루스 파인 소재의 유니민 코퍼레이션(Unimin Corp.))(밀링된 석영)가 있다. 또한, 양이온성 중합성 조성물에 유용한 방사선 불투과 충전제, 방사선 불투과 충전제의 조합물, 및 방사선 불투과 충전제와 방사선 투과 충전제의 조합물에 대한 기재는 미국 특허 6,465,641(Bretscher et al.)에 제공되어 있다.Examples of suitable fillers are IOTA-6 fillers (Unimin Corp., Spruce Pine, NC) (milled quartz) with yttrium trifluoride for radiopacity. In addition, descriptions of radiopaque fillers, combinations of radiopaque fillers, and combinations of radiopaque fillers and radiopaque fillers useful in cationic polymerizable compositions are provided in US Pat. No. 6,465,641 (Bretscher et al.). have.

임의적으로, 충전제계와 수지계 간의 결합을 강화시키기 위해 충전제 입자의 표면을 실란-커플링제와 같은 표면 처리제로 처리할 수 있다. 커플링제는 반응성 경화 기, 예를 들면 에폭시, (메트)아크릴레이트 등으로 관능화될 수 있다. Optionally, the surface of the filler particles may be treated with a surface treatment agent such as a silane-coupling agent to enhance the bond between the filler system and the resin system. The coupling agent may be functionalized with reactive curing groups such as epoxy, (meth) acrylates and the like.

다른 적합한 충전제는 미국 특허 6,387,981(Zhang et al.) 및 6,572,693(Wu et al.) 뿐만 아니라 국제 공보 WO 01/30305(Zhang et al.), WO 01/30306(Windisch et al.), WO 01/30307(Zhang et al.) 및 WO 03/063804(Wu et al.)에 개시되어 있다. 이 문헌들에 기재된 충전제 성분은 나노크기 실리카 입자, 나노크기 금속 산화물 입자 및 이들의 조합을 포함한다. 또한, 나노충전제는 모두 2004년 5월 17일 출원된 "Dental Compositions Containing Nanozirconia Fillers" 표제의 미국 특허 출원 10/847,782, "Dental Compositions Containing Nanofillers and Related Methods" 표제의 미국 특허 출원 10/847,781, 및 "Use of Nanoparticles to Adjust Refractive Index of Dental Compositions" 표제의 미국 특허 출원 10/847,803에 기재되어 있다.Other suitable fillers are US Pat. Nos. 6,387,981 (Zhang et al.) And 6,572,693 (Wu et al.), As well as international publications WO 01/30305 (Zhang et al.), WO 01/30306 (Windisch et al.), WO 01 /. 30307 (Zhang et al.) And WO 03/063804 (Wu et al.). Filler components described in these documents include nanosize silica particles, nanosize metal oxide particles, and combinations thereof. In addition, the nanofillers are all US Patent Application 10 / 847,782, entitled "Dental Compositions Containing Nanofillers and Related Methods," filed May 17, 2004, and US Patent Application 10 / 847,781, and " US Patent Application 10 / 847,803 entitled "Use of Nanoparticles to Adjust Refractive Index of Dental Compositions".

바람직하게는, 충전제계의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 50 중량% 초과, 더욱 바람직하게는 60 중량% 초과, 가장 바람직하게는 70 중량% 초과이다. 바람직하게는, 충전제계의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 95 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 80 중량% 이하이다.Preferably, the total amount of filler system is greater than 50 weight percent, more preferably greater than 60 weight percent and most preferably greater than 70 weight percent based on the total weight of the composition. Preferably, the total amount of filler system is 95% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, based on the total weight of the composition.

임의적인 첨가제Optional additives

조성물은 임의 성분, 예를 들면 착색제(예를 들면, 음영 조정에 통용되는 안료 또는 염료), 계면활성제, 향미제, 의약, 안정화제(예를 들면, BHT), 점도 개질 제, 희석제, 흐름 조절제, 요변성제, 항균제, 중합체 증점제 등을 추가로 포함한다. 이러한 임의적인 첨가제의 다양한 조합물을 필요에 따라 사용할 수 있다. 임의적으로, 이러한 성분은 수지와 공중합되도록 반응성 관능가를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 임의적인 성분의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 5.0 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 약 2.5 중량% 이하, 가장 바람직하게는 약 1.5 중량% 이하이다.The composition may contain any ingredients such as colorants (eg pigments or dyes commonly used in shading adjustments), surfactants, flavors, medicines, stabilizers (eg BHT), viscosity modifiers, diluents, flow control agents , Thixotropic agents, antibacterial agents, polymer thickeners, and the like. Various combinations of these optional additives can be used as needed. Optionally, such components may include reactive functionality to copolymerize with the resin. Preferably, the total amount of optional components is no greater than 5.0 weight percent, more preferably no greater than about 2.5 weight percent, most preferably no greater than about 1.5 weight percent based on the total weight of the composition.

사용 방법How to use

상기 옥시란 함유 단량체는 경화성인 치과용 조성물 중 성분으로 사용될 수 있다. 본 발명의 치과용 조성물은 예를 들면, 치과용 수복물 또는 보철 장치 또는 치열교정 기구(예를 들면, 브라켓 및 밴드)용 접착제로 사용될 수 있다. 수복물의 예는 치과용 복합체, 충전 물질, 실란트, 접착제 및 치근관 충전 물질을 포함한다. 보철 장치의 예는 크라운(특히, 예비성형된(preformed) 화학적 크라운), 브리지(bridge), 베니어(veneer), 인레이(inlay), 온레이(onlay), 포스트(post), 핀 등을 포함한다.The oxirane-containing monomer may be used as a component in the curable dental composition. The dental compositions of the invention can be used, for example, as adhesives for dental restorations or prosthetic devices or orthodontic appliances (eg brackets and bands). Examples of restorations include dental composites, filler materials, sealants, adhesives, and root canal filler materials. Examples of prosthetic devices include crowns (particularly preformed chemical crowns), bridges, veneers, inlays, onlays, posts, pins, and the like. .

본 발명의 목적 및 이점을 하기 실시예에 의해 추가로 설명하지만, 이 실시예에 언급된 특정 물질 및 그의 양, 뿐만 아니라 다른 조건 및 상세는 본 발명을 과도하게 제한하는 것으로 해석되지 않아야 한다. 달리 언급이 없으면, 모든 부 및 %는 중량 기준이며, 모든 물은 탈이온수이고, 모든 분자량은 중량 평균 분자량이다.Although the objects and advantages of the present invention are further illustrated by the following examples, the specific materials and amounts thereof referred to in these examples, as well as other conditions and details, should not be construed as overly limiting the present invention. Unless stated otherwise, all parts and percentages are by weight, all water is deionized water, and all molecular weights are weight average molecular weights.

시험 방법 Test Methods

압축 강도(CS) 시험 방법Compressive Strength (CS) Test Method

시험 샘플의 압축 강도를 변형된 미국 규격 협회(American National Standard Institute/American Standard Association; ANSI/ASA) 기준 27(1993)에 따라 측정하였다. 샘플을 3.2-밀리미터(mm)(내경) 플렉시글라스(Plexiglas)관에 충전하고, 관을 실리콘 고무 플러그로 막고, 대략 0.28 메가 파스칼(Mpa)로 5분 동안 축방향으로 압축시켰다. 그 다음, 샘플을 두 개의 마주보게 배치된 비실룩스 모델(Model) 2500 청색 광 총(미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠 캄파니(3M Co.))에 노출시킴으로써 90초 동안 광경화시켰다. 경화된 샘플을 다이아몬드 톱으로 절단하여 압축 강도의 측정을 위한 6-7 mm 길이의 원통형 플러그를 형성하였다. 플러그를 시험 전 24시간 동안 37℃에서 증류수에 저장하였다. 인스트론(Instron) 시험기(인스트론 4505, 메사추세츠주 칸톤 소재의 인스트론 코퍼레이션(Instron Corp.))에서 10 킬로뉴튼(kN) 하중 셀을 사용하여 1 mm/분의 크로스헤드 속도로 측정을 수행하였다. 5개의 경화된 샘플 실린더를 제조하고, 측정하여 결과를 5회 측정값의 평균으로서 MPa 단위로 기록하였다.The compressive strength of the test samples was measured according to the American National Standard Institute / American Standards Association (ANSI / ASA) Standard 27 (1993). The sample was filled into a 3.2-mm (inner diameter) Plexiglas tube, the tube was plugged with a silicone rubber plug and axially compressed for 5 minutes with approximately 0.28 mega Pascals (Mpa). The samples were then photocured for 90 seconds by exposing them to two opposingly arranged Visilux Model 2500 blue light guns (3M Co., St. Paul, Minn.). The cured sample was cut with a diamond saw to form a 6-7 mm long cylindrical plug for measuring compressive strength. The plug was stored in distilled water at 37 ° C. for 24 hours before testing. Measurements were performed at a crosshead speed of 1 mm / min using an 10 kilonewton (kN) load cell on an Instron tester (Instron 4505, Instron Corp., Canton, Mass.). . Five cured sample cylinders were prepared, measured and the results were reported in MPa as the average of five measurements.

경화후 휨 강도(FS) 및 휨 모듈러스(FM) 시험 방법Post-curing flexural strength (FS) and flexural modulus (FM) test methods

휨 강도 및 휨 모듈러스를 하기 시험 절차에 따라 측정하였다. 페이스트 샘플을 5분 동안 실온에서 델린(Delrin) 주형에서 1 제곱인치 당 10,000 파운드(kpsi)(69 MPa)로 가압하여 2 mm × 2 mm × 25 mm 시험 막대를 형성시켰다. 시험 막대를 상부의 세 중첩되는 위치에서 총 120초 동안 두 비실룩스(Visilux) 2500 치 과용 경화광(쓰리엠 캄파니)을 사용하여 즉시 경화시키고, 하부의 두 중첩되는 위치에서 총 추가 60초 동안 두 비실룩스 2500 치과용 경화광을 사용하여 추가 경화시켰다.Flexural strength and flexural modulus were measured according to the following test procedure. The paste sample was pressurized at 10,000 pounds per square inch (kpsi) (69 MPa) in a Delrin mold for 5 minutes at room temperature to form a 2 mm × 2 mm × 25 mm test rod. The test rods were immediately cured using two Visilux 2500 dental curing light (threem campani) for a total of 120 seconds at the top three overlapping positions, and a total of two additional 60 seconds at the bottom two overlapping positions. Further curing was performed using a Visillux 2500 dental curing light.

그 다음, 막대를 600-그릿 샌드페이퍼로 가볍게 샌딩하여 성형 공정으로부터 플래쉬(flash)를 제거하였다. 37℃에서 24시간 동안 증류수에 저장한 후, ANSI/ADA(미국 규격/미국 치료 협회; American National Standard/American Dental Association) 기준 27(1993)에 따라 인스트론 시험기(인스트론 4505, 메사추세츠주 칸톤 소재의 인스트론 코퍼레이션) 상에서 0.75 mm/분의 크로스헤드 속도로 막대의 휨 강도 및 휨 모듈러스를 측정하였다. 5개의 경화된 페이스트 복합체 막대를 제조하고, 측정하여 결과를 5회 측정값의 평균으로서 MPa 단위로 기록하였다. The rod was then lightly sanded with 600-grit sandpaper to remove flash from the molding process. After storage in distilled water at 37 ° C. for 24 hours, an Instron tester (Instron 4505, Canton, MA) in accordance with ANSI / ADA (American National Standard / American Dental Association) Standard 27 (1993) The flexural strength and flexural modulus of the rods were measured at a crosshead speed of 0.75 mm / min. Five cured paste composite rods were prepared and measured and the results were reported in MPa as the average of five measurements.

겔 시간 시험 방법Gel time test method

샘플이 스파튤라(spatula) 팁으로 용이하게 수동으로 파이지 않게 페이스트 샘플이 고체로 변환되는 데 필요한 최단 시간을 겔 시간으로 정의하였다. 시험 절차는 다음과 같았다.The gel time was defined as the shortest time required for the paste sample to convert to a solid so that the sample did not easily be manually piped into a spatula tip. The test procedure was as follows.

시험 페이스트 샘플(50-70 밀리그램(mg))을 백색 왁스지 시트에 위치시키고, 혼합 스틱을 사용하여 구형으로 말았다. 그 다음, 샘플이 겔화될 때까지 샘플을 엘리파 트리라이트(Elipar Trilight) 치과용 경화광(쓰리엠 캄파니) 상에서 타이머를 사용하여 연속적 2초 선량(dose)에 노출시켰다. 광을 접촉하지 않고 최대한 샘플에 근접하게 위치시켰다. 페이스트가 처음으로 겔화되는(용이하게 파이지 않게 경화되는) 시간을 겔 시간으로 기록하였다.Test paste samples (50-70 mg) were placed on white wax paper sheets and rolled into spheres using a mixing stick. The sample was then exposed to a continuous 2 second dose using a timer on Elipar Trilight Dental Cured Light (Three M Company) until the sample gelled. The light was placed as close to the sample as possible without contact. The time that the paste first gelled (easily cured without pie) was recorded as gel time.

겔후 수축 시험 방법Post-gel shrinkage test method

시험 페이스트 샘플(대략 20 mg)을 스파튤라 또는 치과용 도포 기구를 사용하여 중복 코팅지 패드 상에 굴림으로서 공의 형상으로 만들었다. 구형 페이스트 샘플을 모델 2120 신호 컨디셔너(노쓰 캐롤라이나 랄레이 소재의 마이크로-메져먼츠 그룹 인크.(Micro-Measurements Group Inc.))에 배선된 비결합 이축 변형률 게이지(CEA-06-032WT-120)에 위치시켰다. 페이스트를 약간 편평하게 하고, 페이스트가 변형률 게이지 능동 회로 소자에 잘 접착하도록 조작하였다. XL-2500 광 도파관(쓰리엠 캄파니)의 팁을 최대한 샘플에 근접하면서 페이스트에 닿지 않게 위치시켰다(대략 1-mm 거리). 페이스트 샘플을 XL-2500 도파관을 사용하여 60초 동안 경화시키고, 조사 후 1시간 후 변형률 게이지에 의해 등록된 미세변형률 수축을 기록하였다.Test paste samples (approximately 20 mg) were made into the shape of a ball by rolling on a duplicate coated paper pad using a spatula or dental applicator. Spherical paste samples are placed in an uncoupled biaxial strain gauge (CEA-06-032WT-120) wired to a Model 2120 signal conditioner (Micro-Measurements Group Inc., Raleigh, North Carolina) I was. The paste was slightly flattened and manipulated so that the paste adhered well to the strain gauge active circuit device. The tip of the XL-2500 optical waveguide (Three M Company) was placed as close to the sample as possible without touching the paste (approximately 1-mm distance). The paste sample was cured for 60 seconds using an XL-2500 waveguide and the microstrain shrinkage registered by the strain gauge was recorded 1 hour after irradiation.

에폭시 당량 중량(EEW g/mole) 시험 방법 Epoxy Equivalent Weight (EEW g / mole) Test Method

페이스트 또는 수지 샘플을 0.0001 그램(g) 정확도로 중량을 재어 적정 비이커에 넣었다. 200-300 EEW를 갖는 수지의 경우, 0.2 g의 샘플을 사용하고, 충전제 또는 고충전 페이스트의 경우, 4.0 g의 샘플을 사용하였다. 샘플의 중량을 조정하여 빙초산 중 0.1 노르말(N) 과염소산으로 적정하는 동안 변곡점에서 1 내지 9 밀리리터(ml) 부피가 분배되게 하였다. 피펫을 사용하여 아세토니트릴(25 ml)을 적정 비이커에 첨가한 다음, 이를 파라필름(Parafilm)으로 덮고, 실온에서 2분 동안 초음파 처리하였다. 소니케이터(sonicator) 액체 수위는 샘플 용액 높이였다. 빙초산(25 ml) 및 빙초산(20 ml) 중의 20% 테트라부틸암모늄 브로마이드를 피펫을 사용하여 순차적으로 비이커에 첨가하였다. 생성되는 용액을 교반 막대를 사용하여 2분 동안 혼합시킨 다음, 메틀러(Mettler) DL21 적정기 및 메틀러 DG 111-SC 전극을 사용하여 빙초산 중 0.1N 과염소산 용액으로 적정하였다. 샘플의 EEW를 다음과 같이 계산하였다: EEW = 샘플 mg/((총 ml- 블랭크 ml)×HClO4 적정제의 노르말농도).Paste or resin samples were weighed with 0.0001 gram (g) accuracy and placed in a suitable beaker. 0.2 g samples were used for resins with 200-300 EEW and 4.0 g samples were used for fillers or high filling pastes. The weight of the sample was adjusted to distribute 1 to 9 milliliters (ml) volume at the inflection point during titration with 0.1 normal (N) perchloric acid in glacial acetic acid. Acetonitrile (25 ml) was added to a titration beaker using a pipette, which was then covered with Parafilm and sonicated for 2 minutes at room temperature. The sonicator liquid level was the sample solution height. 20% tetrabutylammonium bromide in glacial acetic acid (25 ml) and glacial acetic acid (20 ml) was added sequentially to the beaker using a pipette. The resulting solution was mixed for 2 minutes using a stir bar and then titrated with 0.1N perchloric acid solution in glacial acetic acid using a Mettler DL21 titrator and a METTLER DG 111-SC electrode. The EEW of the sample was calculated as follows: EEW = sample mg / ((total ml-blank ml) × normal concentration of HClO 4 titrant).

ACTA 3체 마모 시험 방법 ACTA three-piece wear test method

FILTEK Z250 유니버셜 레스토레이티브(Universal Restorative)(쓰리엠 캄파니)와 비교한 시험 샘플에 대한 ACTA 3체 마모 시험을 정확하게 문헌[Influence of Shearing Action of Food on Contact Stress and Subsequent Wear of Stress-bearing Composites, P. Pallav, et al., Journal of Dental Research, Jan. 1993]에 기재된 바와 같이 수행하였다.Accurately describe the ACTA three-piece wear test on test samples compared to the FILTEK Z250 Universal Restorative (Three M Company) .Influence of Shearing Action of Food on Contact Stress and Subsequent Wear of Stress-bearing Composites, P Pallav, et al., Journal of Dental Research, Jan. 1993].

광 시차 주사 열량계(DSC) 시험 방법Optical Differential Scanning Calorimeter (DSC) Test Method

수지(10 mg) 또는 페이스트(25 mg)로 된 시험 샘플의 중량을 재어 DSC 팬에 넣고, 중량을 ±0.00001 g으로 기록하였다. 미경화된 샘플을 샘플 셀에 위치시키고, 동일한 공칭 중량의 경화전 샘플을 티에이 인스트루먼츠(TA Instruments) 2920 광 DSC(독일 뉴 캐슬 소재의 티에이 인스트루먼츠)의 기준 셀 상의 동일한 유형의 DSC 팬에 위치시켰다. 광 DSC 프로그램을 37℃에서 느린 질소 퍼지를 사용하여 5분 동안 평형화시키고, 조사 시간은 1시간 동안 37℃에서 느린 질소 퍼지를 사용하도록 설정하였다. 생성되는 열 흐름(그램 당 와트(Watts/g)) 대 시간 곡선으로부 터, 최대 반응 속도의 시간(피크 최대 시간), 반응의 개시 시간(유도 시간) 및 반응의 엔탈피(1시간 조사 동안 곡선 아래 면적)를 기록하였다. Test samples of resin (10 mg) or paste (25 mg) were weighed and placed in a DSC pan and the weight was recorded as ± 0.00001 g. The uncured sample was placed in a sample cell and the same nominal weight of pre-cured sample was placed in the same type of DSC pan on a reference cell of TA Instruments 2920 Light DSC (TA Instruments, New Castle, Germany). The light DSC program was equilibrated for 5 minutes using a slow nitrogen purge at 37 ° C. and the irradiation time was set to use a slow nitrogen purge at 37 ° C. for 1 hour. From the resulting heat flow (Watts / g per gram) versus time curve, the time of maximum reaction rate (peak maximum time), the start time of reaction (induction time) and enthalpy of reaction (curve during 1 hour irradiation) Area below).

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실시예 1Example 1

1,10-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시)데칸(화합물 A)의 합성Synthesis of 1,10-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy) decane (Compound A)

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150 ml의 메틸 에틸 케톤(MEK) 중의 35 g의 2-알릴페놀(시그마-알드리치), 39 g의 1,10-디브로모데칸(시그마-알드리치) 및 36 g의 탄산칼륨을 함유하는 혼합물을 8O℃로 24시간 동안 가열한 후, 200 ml의 물 및 200 ml의 헥산을 첨가하였다. 생성되는 혼합물을 유기상 및 수상으로 분리시켰다. 유기상을 물로 세척한 다음, 황산나트륨으로 건조시켰다. 용매를 제거하고, 잔여 액체를 진공 하에서 증류시켰다. 210-215℃(0.1 mm Hg, 13 Pascals)에서 비등하는 물질을 수집하여 26 g의 액체를 수득하였고, 이는 기체 크로마토그래피/질량 분광 분석(GC/MS)에 의한 특성화로 1,10-비스(2-알릴페녹시)헥산인 것으로 밝혀졌다.A mixture containing 35 g 2-allylphenol (Sigma-Aldrich), 39 g 1,10-dibromodecane (Sigma-Aldrich) and 36 g potassium carbonate in 150 ml methyl ethyl ketone (MEK) After heating to 80 ° C. for 24 hours, 200 ml of water and 200 ml of hexane were added. The resulting mixture was separated into an organic phase and an aqueous phase. The organic phase was washed with water and then dried over sodium sulfate. The solvent was removed and the remaining liquid was distilled off under vacuum. The boiling material was collected at 210-215 ° C. (0.1 mm Hg, 13 Pascals) to give 26 g of liquid, which was characterized by gas chromatography / mass spectrometry (GC / MS) to characterize 1,10-bis ( 2-allylphenoxy) hexane.

210 ml의 염화메틸렌 중 1,10-비스(2-알릴페녹시)헥산(21 g)의 용액에 41.6 g의 77% m-클로로퍼벤조산(시그마-알드리치)을 첨가하였다. m-클로로퍼벤조산을 용해시킴으로써 초기 냉각시킨 후, 약간의 발열 반응이 있었고, 반응 온도를 냉수조에 의해 25-26℃로 유지시켰다. 혼합물을 6시간 동안 교반하였다. 기체 크로마 토그래피에 의한 반응 혼합물의 분석은 92%의 원하는 생성물을 나타내었다. 반응 혼합물을 150 ml의 물 및 200 ml의 헥산 중 40 g의 수산화나트륨을 함유하는 용액에 부었다. 생성되는 혼합물을 교반하고, 빙조를 사용하여 1O℃로 냉각시켰다. 유기층을 제거하고, 100 ml의 5% 히드로아황산나트륨 용액으로 세척하고, 100 ml의 10% 염화칼륨 용액으로 3회 세척하였다. 용매를 제거하고, 잔여물을 75% 헥산 25% 에틸 아세테이트로 용리되는 실리카 겔 칼럼에 통과시켜 색상의 대부분을 제거하였다. 얻어진 오일을 헥산 중 100 ml의 10% 에틸 아세테이트에 용해시키고, 추가 색상을 제거하기 위해 교반하면서 3 g의 염기성 산화알루미늄으로 처리하였다. 산화알루미늄을 여과에 의해 제거하고, 용매를 제거하여 13 g의 액체를 얻었고, 이를 핵 자기 공명 분광법(NMR)에 의해 특성화한 결과 1,10-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]데칸(화합물 A)으로 밝혀졌다.To a solution of 1,10-bis (2-allylphenoxy) hexane (21 g) in 210 ml methylene chloride was added 41.6 g of 77% m-chloroperbenzoic acid (Sigma-Aldrich). After initial cooling by dissolving m-chloroperbenzoic acid, there was some exothermic reaction and the reaction temperature was maintained at 25-26 ° C. by cold water bath. The mixture was stirred for 6 hours. Analysis of the reaction mixture by gas chromatography showed 92% of the desired product. The reaction mixture was poured into a solution containing 40 g of sodium hydroxide in 150 ml of water and 200 ml of hexane. The resulting mixture was stirred and cooled to 10 ° C. using an ice bath. The organic layer was removed, washed with 100 ml of 5% sodium hydrosulfite solution and three times with 100 ml of 10% potassium chloride solution. Solvent was removed and the residue was passed through a silica gel column eluted with 75% hexane 25% ethyl acetate to remove most of the color. The resulting oil was dissolved in 100 ml of 10% ethyl acetate in hexanes and treated with 3 g of basic aluminum oxide while stirring to remove further color. The aluminum oxide was removed by filtration and the solvent was removed to give 13 g of liquid, which was characterized by nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR) to find 1,10-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy C] decane (Compound A).

실시예 2Example 2

1,3-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]프로판(화합물 B)의 합성Synthesis of 1,3-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] propane (Compound B)

1,3-비스[2-(2,3~에폭시프로필)페녹시]프로판(화합물 B)을 1,10-디브로모데칸을 1,3-디브로모프로판(시그마-알드리치)으로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에 기재된 절차에 의해 합성하였다. 양쪽 단계에 대한 전체 수율은 48%이고, 화합물 B의 구조를 NMR에 의해 확인하였다.Replacing 1,3-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] propane (Compound B) with 1,10-dibromodecane with 1,3-dibromopropane (Sigma-Aldrich) Synthesis was carried out by the procedure described in Example 1 except that. The overall yield for both steps is 48% and the structure of Compound B was confirmed by NMR.

실시예 3Example 3

1,5-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]펜탄(화합물 C)의 합성Synthesis of 1,5-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] pentane (Compound C)

1,3-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]펜탄(화합물 C)을 1,10-디브로모데칸 을 1,5-디브로모펜탄(시그마-알드리치)으로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에 기재된 절차에 의해 합성하였다. 양쪽 단계에 대한 전체 수율은 38%이고, 화합물 C의 구조를 NMR에 의해 확인하였다.1,3-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] pentane (Compound C) with 1,10-dibromodecan replaced with 1,5-dibromopentane (Sigma-Aldrich) Synthesis was carried out by the procedure described in Example 1 except that. The overall yield for both steps is 38% and the structure of Compound C was confirmed by NMR.

실시예 4Example 4

1,6-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]헥산(화합물 D)의 합성 Synthesis of 1,6-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] hexane (Compound D)

1,3-비스[2-(2,3-에폭시프로필)페녹시]헥산(화합물 D)을 1,10-디브로모데칸을 1,6-디브로모헥산(시그마-알드리치)로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에 기재된 절차에 의해 합성하였다. 양쪽 단계에 대한 전체 수율은 25%이고, 화합물 D의 구조를 NMR에 의해 확인하였다.Replacing 1,3-bis [2- (2,3-epoxypropyl) phenoxy] hexane (Compound D) with 1,10-dibromodecan with 1,6-dibromohexane (Sigma-Aldrich) Synthesis was carried out by the procedure described in Example 1 except that. The overall yield for both steps is 25% and the structure of Compound D is confirmed by NMR.

제조용 화합물 1(화합물 E)Preparative Compound 1 (Compound E)

Figure 112007013004212-PCT00011
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50 g의 비스페놀 A, 42.4 g의 에틸렌 카보네이트 및 24 g의 트리에틸아민을 함유하는 혼합물을 105℃로 24시간 동안 가열하였다. 물 흡입기 진공을 가하고, 혼합물을 110℃로 가열시켜 트리에틸아민의 대부분을 제거하였다. 혼합물을 냉각시키고, 300 ml의 에틸 아세테이트에 용해시키고, 100 ml의 5% HCl 수용액으로 세척하였다. 그 다음, 유기층을 100 ml 물, 100 ml 5% 탄산칼륨 및 100 ml 염화칼륨 용액으로 세척하였다. 유기상을 황산나트륨을 사용하여 세척하고, 용매를 제거하여 오일을 얻었고, 이는 정치시 부분적으로 결정화되었다. 부분적으로 결정화된 오일을 100 ml의 에틸 아세테이트에 재용해시키고, 탁해질 때까지 헥산을 첨가하였다. 2일간 정치시, 물질은 결정화되고, 이를 여과시켜 25.8 g의 2-(4-{1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-1-메틸-에틸}-페녹시)에탄올을 얻었다.The mixture containing 50 g bisphenol A, 42.4 g ethylene carbonate and 24 g triethylamine was heated to 105 ° C. for 24 hours. A water inhaler vacuum was added and the mixture was heated to 110 ° C. to remove most of the triethylamine. The mixture was cooled, dissolved in 300 ml of ethyl acetate and washed with 100 ml of 5% aqueous HCl solution. The organic layer was then washed with 100 ml water, 100 ml 5% potassium carbonate and 100 ml potassium chloride solution. The organic phase was washed with sodium sulphate and the solvent was removed to give an oil which was partially crystallized upon standing. The partially crystallized oil was redissolved in 100 ml of ethyl acetate and hexane was added until cloudy. Upon standing for 2 days, the material crystallises and is filtered to give 25.8 g of 2- (4- {1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) ethanol Got.

11 g의 앞서 제조된 2-(4-{1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-1-메틸-에틸}-페녹시)에탄올, 11.8 g의 1-(7-옥사-바이시클로[4.1.0]헵트-3-일)-에탄온, (ERL414, 미시간주 미드랜드 소재의 다우 케미칼) 및 0.3 g의 아세트산나트륨을 함유하는 혼합물을 교반하면서 질소 퍼지 하에서 120℃로 가열하여 메탄올의 제거를 보조하였다. 3시간 후, 박층 크로마토그래피에 의해 시사되는 바와 같이 반응이 완결되었다. 혼합물을 에틸 아세테이트 중에 취하고, 물로 세척하였다. 용매를 진공 하에서 제거하고, 잔여물을 고온 헥산을 사용하여 4시간 동안 추출하였다. 잔여 용매를 제거하고, 잔여물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 1:5 에틸 아세테이트/염화메틸렌으로 용리되는 실리카 겔 상에서 정제하여 10.6 g의 생성물을 투명한 점성질 액체로 얻었다. 화합물 E의 구조를 NMR에 의해 확인하였다. 11 g of previously prepared 2- (4- {1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) ethanol, 11.8 g of 1- (7-oxa A mixture containing -bicyclo [4.1.0] hept-3-yl) -ethanone, (ERL414, Dow Chemical, Midland, Mich.) And 0.3 g sodium acetate was heated to 120 ° C. under nitrogen purge with stirring To assist in the removal of methanol. After 3 hours, the reaction was complete as suggested by thin layer chromatography. The mixture was taken up in ethyl acetate and washed with water. The solvent was removed under vacuum and the residue was extracted for 4 hours using hot hexanes. The residual solvent was removed and the residue was purified by column chromatography on silica gel eluting with 1: 5 ethyl acetate / methylene chloride to give 10.6 g of the product as a clear viscous liquid. The structure of compound E was confirmed by NMR.

실시예 5-19 및 비교예 1-4(C1-C4) Example 5-19 and Comparative Examples 1-4 (C1-C4)

옥시란 단량체를 비롯한 단량체의 혼합물 Mixtures of monomers, including oxirane monomers

옥시란 단량체를 다른 옥시란 단량체와 함께 또는 규소 함유 옥시란 단량체와 함께 함유하는 일련의 단량체 혼합물을 제조하였다. 목적은 석영 충전제(대략 1.54)와 근사한 굴절율(RI)값을 갖는 단량체 혼합물을 형성하는 것이었다. 단량체 혼합물에 대한 표적화된 RI값은 1.535에 근사하였으며, 중합시 예상되는 RI보다 대략 0.01 증가한 것이었다. A series of monomer mixtures were prepared containing the oxirane monomer with other oxirane monomers or with the silicon containing oxirane monomer. The purpose was to form a monomer mixture with a quartz filler (approximately 1.54) and an approximate refractive index (RI) value. The targeted RI value for the monomer mixture was close to 1.535 and was approximately 0.01 increase over the RI expected for polymerization.

제조된 단량체 혼합물 각각에 광개시제계를 첨가하여 중량% 단위의 다음의 성분을 포함하는 수지 조성물을 제공하였다: EDMAB(0.3%), CPQ(0.5%), 로도실 2074(3.0%), 폴리-THF(3.0%), 키라큐어 UVR6105(2.2%) 및 옥시란 단량체 혼합물(91.0%). 생성되는 수지 조성물 각각에 에폭시 관능성 실란 처리 석영 충전제(IOTA-6, 1 마이크로미터 평균 입도, 노쓰 캐롤라이나주 스프루스 파인 소재의 유니민 코퍼레이션)를 첨가하여 페이스트-유사 광경화성인(중합가능한) 조성물을 30% 수지 조성물 및 70% 충전제의 중량비로 얻었다. 수지 및 충전제 성분의 혼합을 DAC 150 FVZ 속도 믹서(Mixer)(사우쓰 캐롤라이나 랜드럼 소재의 플라크텍(Flakteck))를 사용하여 1분 당 3000 회전(rpm)에서, 혼합 동안 과다한 열 생성을 피하기 위해 짧은 혼합 주기를 사용하여 수행하였다. 생성되는 중합가능한 페이스트 조성물을 실시예 5-19로 명명하였고, 기준 화합물만을 함유한 비교예 C1-C4와 함께 하기 표 1에 나열한다. 실시예 16-19 및 비교예 C1은 광개시제계의 CPQ 및 EDMAB 성분에 용매로 사용된 키라큐어 UVR6105가 아닌 단일 에폭시 관능성 단량체(각각의 화합물 A-D 및 화합물 F)만을 함유하였다는 점이 주목된다. 하기 표 1은 조성물에 사용된 단량체의 상대량 및 광개시제계의 첨가 후 충전제 첨가 전 혼합물의 대응하는 RI값을 제공한다. (대응하는 수지 조성물을 실시예 5R-19R 및 비교예 C1-R 내지 C4-R이라 명명한다.) A photoinitiator was added to each of the prepared monomer mixtures to provide a resin composition comprising the following components in weight percent: EDMAB (0.3%), CPQ (0.5%), Rhodosil 2074 (3.0%), poly-THF (3.0%), Chiracure UVR6105 (2.2%) and oxirane monomer mixture (91.0%). To each of the resulting resin compositions was added an epoxy functional silane treated quartz filler (IOTA-6, 1 micron average particle size, Unimin Corporation, Spruce Pine, North Carolina) to form a paste-like photocurable (polymerizable) composition. It was obtained by the weight ratio of% resin composition and 70% filler. Mixing of the resin and filler components was performed at 3000 revolutions per minute (rpm) using a DAC 150 FVZ Speed Mixer (Flacteck, Landland, South Carolina) to avoid excessive heat generation during mixing. It was performed using a short mixing cycle. The resulting polymerizable paste composition was named Example 5-19 and listed in Table 1 below with Comparative Examples C1-C4 containing only the Reference Compound. It is noted that Examples 16-19 and Comparative Example C1 contained only a single epoxy functional monomer (Compounds A-D and Compound F, respectively) and not the Chiracure UVR6105 used as solvent in the CPQ and EDMAB components of the photoinitiator system. Table 1 below provides the relative amounts of monomers used in the composition and the corresponding RI values of the mixture after addition of the photoinitiator system and before filler addition. (The corresponding resin composition is named Examples 5R-19R and Comparative Examples C1-R to C4-R.)

Figure 112007013004212-PCT00012
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평가evaluation

에임즈 변이원성(Ames Mutagenicity)Ames Mutagenicity

칸자스 시티 소재의 유니버시티 오브 미주리(University of Missouri at Kansas City; UMKC)의 약대가 화합물 A-D의 에임즈 변이원성 평가를 수행하였다. 지금까지의 결과는 화합물 A, C 및 D가 균주 TA1OO 및 TA97A에서 음성임을 보여주었다. 화합물 B는 균주 TA1OO, TA1535, TA98, TA102에서 음성이고, 균주 TA97A에서는 난외로 양성이었다.Pharmacopeia of the University of Missouri at Kansas City (UMKC), Kansas City, performed Ames mutagenicity assessment of Compound A-D. The results so far have shown that compounds A, C and D are negative in strains TA10 and TA97A. Compound B was negative in strains TA100, TA1535, TA98, TA102, and out of the egg in strain TA97A.

경화도(광 시차 주사 열량계(DSC))Degree of cure (optical differential scanning calorimeter)

실시예 5-19 및 비교예 1-4에 대한 광 DSC 결과를 표 2(충전제가 없는 수지 조성물로서의 실시예) 및 표 3(충전제를 갖는 중합가능한 페이스트 조성물로서의 실시예)에 나타낸다. 또한, 하기 표 2 및 표 3에 다음을 나타낸다:The photo DSC results for Examples 5-19 and Comparative Examples 1-4 are shown in Table 2 (Examples as Filler-Free Resin Compositions) and Table 3 (Examples as Polymerizable Paste Compositions with Fillers). In addition, the following Tables 2 and 3 show the following:

1. 에폭시기 몰당 물질의 g 단위의 측정된 수지 및 페이스트 에폭시 등가 중량(EEWs), 및1. measured resin and paste epoxy equivalent weights (EEWs) in g of material per mole of epoxy group, and

2. 물질 중 에폭시기의 몰당 주울(Joule)(J/mole) 단위의 계산된 수지 및 페이스트 엔탈피.2. Calculated resin and paste enthalpy in Joule (J / mole) units per mole of epoxy groups in the material.

EEW = 에폭시기(적정 측정으로부터)의 몰당 그램EEW = grams per mole of epoxy group (from titration measurement)

에폭시기의 J/mole = (J/g)×(g/mole) = J/g×EEWJ / mole of epoxy group = (J / g) x (g / mole) = J / g × EEW

J/mole 값은 저밀도 방사(제곱 센티미터 당 대략 3 밀리와트(mw/c㎡), 세인트 폴 소재의 3M ESPE의 특징, TA 2920 광 DSC)에서 얻을 수 있는 반응의 상대적인 정도(전환도)를 나타낸다.The J / mole value represents the relative degree of conversion (conversion) achievable at low density radiation (approximately 3 milliwatts per square centimeter (mw / cm2), characteristic of 3M ESPE from St. Paul, TA 2920 light DSC). .

기계적 성질Mechanical properties

실시예 5-19 및 비교예 1-4(충전제를 갖는 중합가능한 페이스트 조성물로서의 실시예)를 본 명세서에 기재된 시험 방법에 따라 압축 강도, 휨 강도 및 휨 모듈러스에 대해 평가하였고, 시험 결과를 하기 표 4에 나타낸다.Examples 5-19 and Comparative Examples 1-4 (Examples as polymerizable paste compositions with fillers) were evaluated for compressive strength, flexural strength and flexural modulus according to the test methods described herein, and the test results are shown in the following table. 4 is shown.

겔 시간, 겔후 수축 및 ACTA 3체 마모Gel time, post-gel shrinkage and ACTA triple wear

실시예 5-19 및 비교예 1-4(충전제를 갖는 중합가능한 페이스트 조성물로서의 실시예)를 본 명세서에 기재된 시험 방법에 따라 겔 시간, 겔후 수축, 및 ACTA 3체 마모에 대해 평가하였고, 시험 결과를 하기 표 4에 나타낸다. Examples 5-19 and Comparative Examples 1-4 (Examples as polymerizable paste compositions with fillers) were evaluated for gel time, post-gel shrinkage, and ACTA three wear according to the test methods described herein, and the test results. Is shown in Table 4 below.

Figure 112007013004212-PCT00013
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Figure 112007013004212-PCT00014
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Figure 112007013004212-PCT00015
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본 명세서에 인용된 특허, 특허 문서 및 공보의 전체 개시내용은 각각 개별적으로 인용되더라도 그 전문이 참고문헌으로 인용된다. 본 발명에 대한 다양한 변형 및 변화는 본 발명의 범위 및 실시사상으로부터 벗어남이 없이 당업자에게 자명할 것이다. 본 명세서에 나타낸 예시적인 실시양태 및 실시예는 본 발명을 과도하게 제한하려는 것이 아니며, 이러한 실시예 및 실시양태는 오직 하기 나타낸 청구범위에 의해서만 제한되는 본 발명의 범위의 단지 예로써 존재하는 것임을 이해해야 한다. The entire disclosures of patents, patent documents, and publications cited herein are each incorporated by reference in their entirety, even if individually cited. Various modifications and variations to the present invention will be apparent to those skilled in the art without departing from the scope and spirit of the invention. It is to be understood that the exemplary embodiments and examples shown herein are not intended to be excessively limiting of the invention, and that these examples and embodiments are present only as examples of the scope of the invention, which are limited only by the claims set out below. do.

Claims (10)

하기 화학식 I을 갖는 에폭시 관능성 에테르 단량체 및 개시제계를 포함하는 치과용 조성물. A dental composition comprising an epoxy functional ether monomer having the general formula (I) and an initiator system. <화학식 I><Formula I>
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(상기 식 중, A는 각각 1-30개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌, 시클로알킬렌, 아릴알킬렌 또는 아릴시클로알킬렌을 나타내며, 여기서 하나 이상의 탄소 및/또는 수소 원자는 임의적으로 하나 이상의 Br, Cl, N 또는 O 원자 또는 이들의 조합에 의해 치환되고, Wherein A represents a straight or branched chain alkylene, cycloalkylene, arylalkylene or arylcycloalkylene having 1-30 carbon atoms each, wherein one or more carbon and / or hydrogen atoms are optionally Substituted by one or more Br, Cl, N or O atoms or a combination thereof, 각각의 R은 독립적으로 알킬, 아릴 또는 에폭시알킬을 나타내고, Each R independently represents alkyl, aryl or epoxyalkyl, n은 0-4이고, n is 0-4, a는 2-4임)a is 2-4)
제1항에 있어서, 상기 a가 3인 치과용 조성물. The dental composition of claim 1 wherein a is 3. 제1항에 있어서, 상기 a가 2인 치과용 조성물. The dental composition of claim 1 wherein a is 2. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 A가 알킬렌을 나타내는 것인 치과용 조성물. The dental composition according to any one of claims 1 to 3, wherein A represents alkylene. 제4항에 있어서, 상기 A가 3-10개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌을 나타내는 것인 치과용 조성물. The dental composition of claim 4 wherein A represents alkylene having 3-10 carbon atoms. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 n이 0인 치과용 조성물. The dental composition according to any one of claims 1 to 5, wherein n is zero. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 기, 지방족 기, 지환족 기 및 이들의 조합을 포함하는 에폭시 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 2차 수지계 반응물을 추가로 포함하는 치과용 조성물. 7. The dental composition of claim 1, further comprising a secondary resin-based reactant selected from the group consisting of epoxy compounds comprising aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, and combinations thereof. 제7항에 있어서, 상기 2차 수지계가 규소 함유 반응물을 추가로 포함하는 것인 치과용 조성물. The dental composition of claim 7 wherein the secondary resin system further comprises a silicon containing reactant. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 충전제계를 추가로 포함하는 치과용 조성물. The dental composition of claim 1 further comprising a filler system. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 착색제, 계면활성제, 향미제, 의 약, 안정화제, 점도 개질제, 희석제, 흐름 조절제, 요변성제, 항균제, 중합체 증점제 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택된 첨가제를 추가로 포함하는 치과용 조성물. 10. The composition according to any one of claims 1 to 9, consisting of colorants, surfactants, flavoring agents, medicaments, stabilizers, viscosity modifiers, diluents, flow regulators, thixotropic agents, antibacterial agents, polymer thickeners and combinations thereof. Dental composition further comprising an additive selected from the group.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20190099480A (en) * 2017-01-10 2019-08-27 스미토모 세이카 가부시키가이샤 Epoxy resin composition

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