KR20070029899A - Array substrate and display panel having the same - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 69
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 24
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 101150037603 cst-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136213—Storage capacitors associated with the pixel electrode
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
- G02F2201/121—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode common or background
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- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
- G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel
Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.1 is a plan view schematically illustrating a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 표시패널을 나타낸 평면도이다. FIG. 2 is a plan view illustrating the display panel of FIG. 1.
도 3은 도 2에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시패널을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 5는 도 4에 도시된 화소전극에 제공되는 데이터 신호를 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a data signal provided to the pixel electrode illustrated in FIG. 4.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for main parts of drawings *
100 : 표시장치 200 : 표시패널100: display device 200: display panel
500 : 어레이 기판 510 : 제1 TFT500: array substrate 510: first TFT
520 : 제2 TFT 530 : 화소전극520: second TFT 530: pixel electrode
532 : 메인 화소전극 534 : 서브 화소전극532: main pixel electrode 534: sub pixel electrode
540 : 제1 스토리지 커패시터 550 : 제2 스토리지 커패시터540: first storage capacitor 550: second storage capacitor
560 : 스토리지 라인560: storage line
본 발명은 어레이 기판 및 이를 갖는 표시패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 표시품질을 향상시키기 위한 어레이 기판 및 이를 갖는 표시패널에 관한 것이다.The present invention relates to an array substrate and a display panel having the same, and more particularly, to an array substrate for improving display quality and a display panel having the same.
일반적으로, 액정표시장치는 전기장을 형성하기 위해 상호 소정 간격 이격된 제1 전극, 제2 전극, 상기 전극들을 형성하기 위한 1매 또는 2매의 기판 및 상기 전극들 사이에 배치된 액정층을 포함한다.In general, a liquid crystal display device includes a first electrode, a second electrode, one or two substrates for forming the electrodes, and a liquid crystal layer disposed between the electrodes to form an electric field. do.
상기 제1 및 제2 전극에 전압이 인가됨으로써, 제1 및 제2 전극 사이에는 전기장이 형성된다. 상기 전기장에 의하여 액정층의 액정 분자들은 재배열되고, 이로 인해, 액정층을 투과하는 광의 광투과율이 변경되고, 액정표시장치로부터 영상이 표시된다.By applying voltage to the first and second electrodes, an electric field is formed between the first and second electrodes. The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are rearranged by the electric field, thereby changing the light transmittance of light passing through the liquid crystal layer and displaying an image from the liquid crystal display.
액정표시장치는 음극선관 표시장치(Cathode Ray Tube type display device)와 비교하였을 때, 박형으로 만들 수 있는 장점을 갖는다. 하지만, 액정표시장치는 음극선관 표시장치에 비하여 시야각(viewing angle)이 좁은 단점을 갖는다. The liquid crystal display device has an advantage of being thin in comparison with a cathode ray tube type display device. However, the liquid crystal display has a disadvantage in that the viewing angle is narrower than that of the cathode ray tube display.
상기 액정표시장치의 좁은 시야각를 개선하기 위하여, 최근에는 보다 시야각이 넓어진 PVA(Patterned Vertical Alignment) 모드, MVA(Multi-domain Vertical Alignment) 모드, IPS(In-Plane Switching) 모드의 액정표시장치가 개발되고 있다.In order to improve the narrow viewing angle of the liquid crystal display device, a liquid crystal display device having a patterned vertical alignment (PVA) mode, a multi-domain vertical alignment (MVA) mode, and an in-plane switching (IPS) mode have been developed. have.
상기 PVA 모드 액정표시장치는 단위 화소 영역 내에서 상기 액정층의 도메인(Domain)을 복수개로 분할하기 위한 개구 패턴을 갖는 투명전극을 포함한다. 여기서, 상기 복수개로 분할된 액정층의 도메인 사이에서는 상기 액정 분자들이 각각 서로 다른 방향으로 배열되고, 이에 따라 시야각이 향상된다.The PVA mode liquid crystal display includes a transparent electrode having an opening pattern for dividing a plurality of domains of the liquid crystal layer in a unit pixel area. Here, the liquid crystal molecules are arranged in different directions between the domains of the plurality of divided liquid crystal layers, thereby improving the viewing angle.
최근에는 영상의 시인성을 향상시키기 위하여 상기 PVA 모드 액정표시장치보다 넓은 SPVA(Super Patterned Vertical Alignment) 모드 액정표시장치가 개발되었다. 상기 SPVA 모드 액정표시장치는 하나의 화소 내에 형성된 메인 화소전극 및 서브 화소전극을 포함한다. 이때, 상기 메인 화소전극 및 상기 서브 화소전극에 서로 다른 레벨을 갖는 데이터 신호를 제공함에 따라 상기 영상을 표시한다. 상기 메인 화소전극과 상기 서브 화소전극의 형성 면적비는 약 1:2이다.Recently, in order to improve the visibility of an image, a SPVA (Super Patterned Vertical Alignment) mode liquid crystal display wider than the PVA mode liquid crystal display has been developed. The SPVA mode liquid crystal display includes a main pixel electrode and a sub pixel electrode formed in one pixel. In this case, the image is displayed by providing data signals having different levels to the main pixel electrode and the sub pixel electrode. An area ratio of the main pixel electrode and the sub pixel electrode is about 1: 2.
이처럼, 메인 화소전극과 서브 화소전극의 형성면적이 차이에 의해 메인 화소전극에 대응하는 영역과 서브 화소전극에 대응하는 영역에서의 킥백 전압이 서로 다르다. 따라서, 상기 킥백 전압을 제거하기 어려운 문제가 발생한다.As described above, the kickback voltage is different in the region corresponding to the main pixel electrode and the region corresponding to the sub pixel electrode due to the difference in the formation area of the main pixel electrode and the sub pixel electrode. Thus, a problem arises that it is difficult to eliminate the kickback voltage.
따라서, 본 발명의 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 메인 화소영역 및 서브 화소영역에서의 킥백 전압의 편차를 줄이기 위한 어레이 기판을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an array substrate for reducing the variation of kickback voltage in the main pixel region and the sub pixel region.
본 발명의 다른 목적은 상기 어레이 기판을 갖는 표시패널을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a display panel having the array substrate.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 어레이 기판은 다수의 메인 게이트 라인, 다수의 데이터 라인, 화소전극, 제1 및 제2 스토리지 커패시터를 포함한다. 상기 화소전극은 상기 메인 게이트 라인들 및 상기 데이터 라인들에 의해 정의된 화소영역에 형성되고, 제1 화소전극부 및 상기 제1 화소전극부보다 작은 형성면적 을 갖는 제2 화소전극부를 갖는다. 상기 제1 스토리지 커패시터는 상기 제1 화소전극부에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 스토리지 커패시터는 상기 제1 스토리지 커패시터보다 큰 형성면적을 가지고, 상기 제2 화소전극부에 전기적으로 연결된다.An array substrate for achieving the above object of the present invention includes a plurality of main gate lines, a plurality of data lines, pixel electrodes, first and second storage capacitors. The pixel electrode is formed in a pixel region defined by the main gate lines and the data lines, and has a first pixel electrode portion and a second pixel electrode portion having a formation area smaller than that of the first pixel electrode portion. The first storage capacitor is electrically connected to the first pixel electrode part, and the second storage capacitor has a larger formation area than the first storage capacitor and is electrically connected to the second pixel electrode part.
상기 어레이 기판은 상기 화소영역 내에서 상기 메인 게이트 라인들에 평행하도록 형성된 다수의 서브 게이트 라인, 상기 메인 게이트 라인에 전기적으로 연결된 제1 TFT 및 상기 서브 게이트 라인에 전기적으로 연결된 제2 TFT를 더 포함한다. 상기 제1 스토리지 커패시터는 상기 제1 TFT와 전기적으로 연결되고, 상기 제2 스토리지 커패시터는 상기 제2 TFT와 전기적으로 연결된다.The array substrate further includes a plurality of sub gate lines formed to be parallel to the main gate lines in the pixel area, a first TFT electrically connected to the main gate line, and a second TFT electrically connected to the sub gate line. do. The first storage capacitor is electrically connected to the first TFT, and the second storage capacitor is electrically connected to the second TFT.
이러한 어레이 기판 및 이를 갖는 표시패널에 따르면, 제1 및 제2 화소전극부의 형성면적 차이에 따른 킥백 전압의 편차를 스토리지 커패시터의 형성면적을 조절함에 따라 제거할 수 있어, 킥백 전압을 보다 효율적으로 제거할 수 있다. According to such an array substrate and a display panel having the same, the deviation of the kickback voltage due to the difference in the formation area of the first and second pixel electrode parts can be eliminated by adjusting the formation area of the storage capacitor, thereby more efficiently removing the kickback voltage. can do.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 표시패널을 나타낸 평면도이다. 또한, 도 3은 도 2에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도이다.1 is a plan view schematically illustrating a display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view illustrating the display panel shown in FIG. 1. 3 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(100)는 표시패널(200),데이터 구동부(300) 및 게이트 구동부(400)를 포함한다. 1 to 3, the
상기 표시패널(200)은 어레이 기판(500), 어레이 기판(500)과 마주하는 컬러필터 기판(600) 및 어레이 기판(500)과 컬러필터 기판(600)과의 사이에 개재된 액 정층(700)으로 이루어진다. 또한, 표시패널(200)은 영상을 표시하는 표시영역(DA), 표시영역(DA)의 외측에 구비된 제1 주변영역(PA1) 및 제2 주변영역(PA2)으로 이루어진다.The
상기 어레이 기판(500)은 표시영역(DA)에 대응하여 제1 방향(D1)으로 연장되어 형성된 다수의 메인 게이트 라인(GL-M)과 상기 제1 방향(D1)과 직교하는 제2 방향(D2)으로 연장되어 형성된 다수의 데이터 라인(DL)을 포함한다. 이때, 메인 게이트 라인(GL-M) 및 데이터 라인(DL) 중 인접하는 2개의 메인 게이트 라인(GL-M)과 데이터 라인(DL)에 의해 다수의 화소영역(PA)이 정의된다. 상기 다수의 화소영역(PA)은 매트릭스 형상을 갖는다. 또한, 어레이 기판(500)은 화소영역(PA) 내에서 메인 게이트 라인(GL-M)에 평행하도록 형성된 서브 게이트 라인(GL-S)을 포함한다.The
상기 화소영역(PA)에는 제1 TFT(510), 제2 TFT(520) 및 화소전극(530)이 구비된다. 상기 제1 TFT(510)의 제1 게이트 전극(512)은 대응하는 메인 게이트 라인(GL-M)으로부터 분기되고, 제1 소오스 전극(514)은 대응하는 데이터 라인(DL)으로부터 분기된다. 상기 제2 TFT(520)의 제2 게이트 전극(522)은 대응하는 서브 게이트 라인(GL-S)으로부터 분기되고, 제2 소오스 전극(524)은 대응하는 데이터 라인(DL)으로부터 분기된다.The pixel area PA includes a
또한, 화소영역(PA)은 화소전극(530) 및 화소전극(530)에 대향하는 컬러필터 기판(600) 상의 공통전극(620)에 의해 다수의 도메인(Domain)으로 나누어진다.In addition, the pixel area PA is divided into a plurality of domains by the
즉, 화소전극(530)은 메인 화소전극(532) 및 서브 화소전극(534)으로 이루어진다. 상기 메인 화소전극(532)은 중앙에서 제1 방향(D1)으로 절곡된 'V'자 형상을 갖는다. 상기 서브 화소전극(534)은 메인 화소전극(534)을 감싸도록 형성된다. 따라서, 화소영역(PA)은 메인 화소전극(532)에 대응하는 메인 화소영역 및 서브 화소전극(534)에 대응하는 서브 화소영역으로 구분된다.That is, the pixel electrode 530 includes the
본 실시예에서 메인 화소전극(532)과 서브 화소전극(534)은 서로 다른 형성면적비를 갖는다. 바람직하게, 메인 화소전극(532)과 서브 화소전극(534)의 형성면적비는 약 1:2이다. In the present exemplary embodiment, the
상기 컬러필터 기판(600) 상에는 R,G,B 색화소들로 이루어진 컬러필터(610) 및 공통전극(620)이 형성된다. 상기 공통전극(620)에는 메인 화소전극(532)의 중앙에서 일부가 제거된 제1 개구부(622) 및 서브 화소전극(534)의 중앙에서 일부가 제거된 제2 개구부(624)가 형성된다.The
또한, 화소영역(PA)의 중앙에는 액정층(700)에 인가된 제1 데이터 신호 및 제2 데이터 신호를 일정시간 유지하기 위한 제1 스토리지 커패시터(Cst1) 및 제2 스토리지 커패시터(Cst2)가 형성된다. 상기 제1 스토리지 커패시터(Cst1)는 메인 화소전극(532)과 전기적으로 연결되고, 제2 스토리지 커패시터(Cst2)는 서브 화소전극(534)과 전기적으로 연결된다.In addition, a first storage capacitor Cst1 and a second storage capacitor Cst2 are formed in the center of the pixel area PA to hold the first data signal and the second data signal applied to the
상기 제1 스토리지 커패시터(Cst1)는 스토리지 라인(560) 및 스토리지 라인(560) 상에 형성된 제1 전극(542)으로 이루어진다. 상기 제2 스토리지 커패시터(Cst2)는 스토리지 라인(560) 및 스토리지 라인(560) 상에 형성된 제2 전극(552)으로 이루어진다. 이때, 스토리지 라인(550)은 화소영역(PA)의 중앙에서 메인 게이트 라인(GL-M)에 평행한 방향으로 연장되고, 메인 게이트 라인(GL-M) 형성시 동일 물 질로 이루어진다. The first storage capacitor Cst1 includes a
상기 제1 전극(542)은 메인 화소전극(532)에 대응하는 스토리지 라인(560) 상부에 형성되고, 제2 전극(552)은 서브 화소전극(534)에 대응하는 스토리지 라인(560) 상부에 형성된다. 또한, 제1 전극(542)은 제1 TFT(510)의 제1 소오스 전극(514) 및 제1 드레인 전극(516) 형성시 동일 물질로 이루어진다. 상기 제2 전극(552)은 제2 TFT(520)의 제2 소오스 전극(524) 및 제2 드레인 전극(526) 형성시 동일 물질로 이루어진다. 상기 제1 전극(542)은 제1 TFT(520)의 제1 드레인 전극(516)과 연결되고, 제2 전극(552)은 제2 TFT(210)의 제2 드레인 전극(526)과 연결된다.The
상기 제1 전극(540)은 제1 콘택홀(545)을 통해 메인 화소전극(532)과 전기적으로 연결되고, 제2 전극(550)은 제2 콘택홀(555)을 통해 서브 화소전극(534)과 전기적으로 연결된다. 따라서, 메인 화소전극(532)은 제1 TFT(510)가 스위칭 동작됨에 따라 대응하는 데이터 라인(DL)으로부터의 제1 데이터 신호를 제공받는다. 한편, 서브 화소전극(534)은 제2 TFT(520)가 스위칭 동작됨에 따라 데이터 라인(DL)으로부터 제2 데이터 신호를 제공받는다. 상기 제1 데이터 신호는 상기 제2 데이터 신호보다 소정 신호 레벨 큰 값을 가진다. The
이때, 제1 스토리지 커패시터(540)는 메인 화소전극(532)에 제공된 상기 제1 데이터 신호를 일정시간 유지하고, 제2 스토리지 커패시터(550)는 서브 화소전극(534)에 제공된 상기 제2 데이터 신호를 일정시간 유지한다.In this case, the
이처럼, 메인 화소전극(532)과 서브 화소전극(534)에 서로 다른 전압 레벨을 갖는 상기 제1 및 제2 데이터 신호가 각각 제공됨에 따라 서로 다른 액정의 특성 분포를 가진다. 이로 인해, 표시패널(200)의 측면 시인성이 개선된다.As such, the first and second data signals having different voltage levels are respectively provided to the
또한, 본 실시예에서 제1 전극(542)은 제2 전극(552)에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 갖는다. 즉, 제1 전극(542)은 제1 형성길이(L1)를 가지고, 제2 전극(552)은 제1 형성길이(L1) 보다 짧은 제2 형성길이(L2)를 갖는다. 따라서, 제1 스토리지 커패시터(540)는 제2 스토리지 커패시터(550)에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 갖는다.In addition, in the present embodiment, the
이처럼, 제1 스토리지 커패시터(540)를 제2 스토리지 커패시터(550)에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 가지도록 형성함에 따라 메인 화소영역과 서브 화소영역에서 동일한 킥백 전압(Vkb)을 갖는다.As such, since the
여기서, Cgs는 TFT의 게이트 전극과 소오스 전극간에 발생하는 기생 커패시터를 나타내고, Clc는 액정 커패시터이며, Cst는 스토리지 커패시터이다.Here, Cgs represents a parasitic capacitor generated between the gate electrode and the source electrode of the TFT, Clc is a liquid crystal capacitor, and Cst is a storage capacitor.
수학식 1에서와 같이, 킥백 전압(Vkb)은 기생 커패시터, 액정 커패시터 및 스토리지 커패시터에 의해 그 값이 정의된다.As in
본 실시예에서 서브 화소전극(534)이 메인 화소전극(532)에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 가지므로, 서브 화소전극(534)에 대응하는 서브 화소영역에서 액정 커패시터가 메인 화소전극(532)에 대응하는 메인 화소영역보다 상대적으로 크 다. 따라서, 상기 서브 화소영역에서의 킥백 전압이 상기 메인 화소영역에서 보다 작다.In the present exemplary embodiment, since the
그러나, 본 실시예에서 메인 화소전극(532)에 전기적으로 연결된 제1 스토리지 커패시터(540)가 서브 화소전극(534)에 전기적으로 연결된 제2 스토리지 커패시터(550) 보다 큰 형성면적으로 갖는다. 그러므로, 상기 메인 화소영역에서 상기 서브 화소영역보다 큰 스토리지 커패시터 값을 갖는다. However, in the present exemplary embodiment, the
따라서, 메인 화소전극(532)과 서브 화소전극(534)의 형성면적의 차이에 의한 킥백 전압의 편차가 발생하더라도, 제1 스토리지 커패시터(540) 및 제2 스토리지 커패시터(550)의 형성면적을 조절함에 따라 상기 메인 화소영역과 상기 서브 화소영역에서의 킥백 전압이 균일해진다. 이로 인해, 킥백 전압의 제거를 보다 효율적으로 수행할 수 있다.Therefore, even if the kickback voltage is varied due to the difference between the formation areas of the
상기 제1 주변영역(PA1)에서 어레이 기판(410)은 컬러필터 기판(500)의 제2 기판(510)보다 길게 연장되고, 제1 주변영역(PA1)에 대응하여 어레이 기판(410) 상에는 칩 형태로 이루어진 데이터 구동부(200)가 실장된다. 여기서, 제1 주변영역(PA1)은 데이터 라인(DL)의 일단부와 인접하는 영역이다. 상기 데이터 구동부(200)는 표시영역(DA)에 형성된 데이터 라인(DL)과 전기적으로 연결된다. 따라서, 데이터 구동부(200)로부터 출력된 상기 제1 및 제2 데이터 신호는 데이터 라인(DL)으로 인가된다.In the first peripheral area PA1, the array substrate 410 extends longer than the
한편, 제2 주변영역(PA2)에서 어레이 기판(500)에는 게이트 구동부(300)가 상기 복수의 박막 트랜지스터와 동일한 공정을 통해 동일한 시간상에서 형성된다. 여기서, 제2 주변영역(PA2)은 메인 게이트 라인(GL-M) 및 서브 게이트 라인(GL-S)의 일단부와 인접하는 영역이다. 상기 게이트 구동부(300)는 표시영역(DA)에 형성된 메인 게이트 라인(GL-M) 및 서브 게이트 라인(GL-S)과 전기적으로 연결된다. 따라서, 게이트 구동부(300)로부터 출력된 게이트 신호는 메인 게이트 라인(GL-M) 및 서브 게이트 라인(GL-S)으로 인가된다.In the second peripheral area PA2, the
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시패널을 나타낸 평면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 화소전극에 제공되는 데이터 신호를 나타낸 도면이다. 여기서, 본 발명의 일 실시예와 동일한 구성에는 동일번호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.4 is a plan view illustrating a display panel according to another exemplary embodiment. FIG. 5 is a diagram illustrating a data signal provided to the pixel electrode illustrated in FIG. 4. Here, the same configuration as the embodiment of the present invention is given the same number, and detailed description thereof will be omitted.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시패널은 어레이 기판(500), 어레이 기판(500)과 마주하는 컬러필터 기판(600), 어레이 기판(500)과 컬러필터 기판(600)과의 사이에 개재된 액정층(미도시)으로 이루어진다. As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the display panel according to another exemplary embodiment of the present invention includes an
상기 어레이 기판(500)의 표시영역(DA)에는 다수의 메인 게이트 라인(GL-M), 다수의 데이터 라인(DL) 및 다수의 서브 게이트 라인(GL-S)이 형성된다. 상기 메인 게이트 라인(GL-M) 및 데이터 라인(DL)에 의해 정의된 화소영역(PA)에는 제1 TFT(510), 제2 TFT(520) 및 화소전극(530)이 형성된다. A plurality of main gate lines GL-M, a plurality of data lines DL, and a plurality of sub gate lines GL-S are formed in the display area DA of the
상기 화소전극(530)은 메인 화소전극(532) 및 서브 화소전극(534)으로 이루어진다. 이때, 서브 화소전극(534)은 메인 화소전극(532)에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 갖는다.The pixel electrode 530 includes a
또한, 화소영역(PA)의 중앙에는 제1 스토리지 커패시터(570) 및 제2 스토리지 커패시터(580)가 형성된다. 상기 제1 스토리지 커패시터(570)는 제1 콘택홀(545)을 통해 메인 화소전극(532)에 전기적으로 연결되고, 제2 스토리지 커패시터(580)는 제2 콘택홀(555)을 통해 서브 화소전극(534)에 대응하도록 형성된다.In addition, a
상기 제1 스토리지 커패시터(570)는 스토리지 라인(560) 및 스토리지 라인(560) 상부에 형성된 제1 전극(572)으로 이루어진다. 상기 제1 전극(572)은 제2 TFT(520)의 제2 드레인 전극(526)과 연결된다. 따라서, 제2 TFT(520)가 스위칭 동작됨에 따라 대응하는 데이터 라인(DL)으로부터 제1 데이터 신호(VH)를 제공받는다.The
또한, 제2 스토리지 커패시터(580)는 스토리지 라인(560) 및 스토리지 라인(560) 상부에 형성된 제2 전극(582)으로 이루어진다. 상기 제2 전극(582)은 제1 TFT(510)의 제1 드레인 전극(516)과 연결된다. 따라서, 제1 TFT(510)가 스위칭 동작됨에 따라 대응하는 데이터 라인(DL)으로부터 제2 데이터 신호(VL)를 제공받는다. 이때, 상기 제1 데이터 신호(VH)는 상기 제2 데이터 신호(VL) 보다 소정 신호 레벨 큰 값을 가진다.In addition, the
상기에서 서브 게이트 라인(GL-S)에 연결된 제2 TFT(520)가 먼저 턴온 되고, 이후에 메인 게이트 라인(GL-M)에 연결된 제1 TFT(510)가 턴온된다. 따라서, 메인 화소전극(532)에 제1 데이터 신호(VH)가 먼저 충전된 후 서브 화소전극(534)에 제2 데이터 신호(VL)가 충전된다. In the above, the
이처럼, 상대적으로 큰 신호레벨을 갖는 제1 데이터 신호(VH)에 의해 메인 화소전극(532)이 충전된 후, 상대적으로 작은 신호레벨을 갖는 제2 데이터 신호(VL)에 의해 서브 화소전극(534)이 충전된다. 이로 인해, 충전 마진(Margin)이 증가된다.As such, after the
본 실시예에 따르면, 서브 화소전극(534)이 메인 화소전극(532) 보다 상대적으로 큰 형성면적을 가짐에 따라 서브 화소영역에서의 킥백 전압(Vkb)이 상기 메인 화소영역에서보다 작다.According to the present exemplary embodiment, as the
그러나, 메인 화소전극(532)에 전기적으로 연결된 제1 스토리지 커패시터(570)가 서브 화소전극(534)에 전기적으로 연결된 제2 스토리지 커패시터(580) 보다 큰 형성면적으로 갖는다. 그러므로, 상기 메인 화소영역에서 상기 서브 화소영역보다 큰 스토리지 커패시터 값을 갖는다. However, the
따라서, 메인 화소전극(532)과 서브 화소전극(534)의 형성면적의 차이에 의한 킥백 전압의 편차가 발생하더라도, 제1 스토리지 커패시터(570) 및 제2 스토리지 커패시터(580)의 형성면적을 조절함에 따라 상기 메인 화소영역과 상기 서브 화소영역에서의 킥백 전압이 균일해진다.Therefore, even if the kickback voltage is varied due to the difference between the formation areas of the
또한, 본 실시예에서는 상대적으로 큰 신호레벨을 갖는 제1 데이터 신호에 의해 메인 화소전극(532)이 먼저 충전된 후 상대적으로 작은 신호레벨을 갖는 제2 데이터 신호에 의해 서브 화소전극(534)이 충전되므로, 충전 마진이 증가된다.In addition, in the present exemplary embodiment, the
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 메인 화소전극에 전기적으로 연결된 제1 스토리지 커패시터 및 서브 화소전극에 전기적으로 연결된 제2 스토리지 커패 시터를 갖는다. 상기 제1 스토리지 커패시터는 제2 스토리지 커패시터에 비하여 상대적으로 큰 형성면적을 갖는다.As described above, the present invention has a first storage capacitor electrically connected to a main pixel electrode and a second storage capacitor electrically connected to a sub pixel electrode. The first storage capacitor has a larger formation area than the second storage capacitor.
그러므로, 본 발명은 메인 화소전극과 서브 화소전극의 형성면적 차이에 따른 킥백 전압의 편차를 스토리지 커패시터의 형성면적을 조절함에 따라 제거한다.Therefore, the present invention eliminates the variation in the kickback voltage according to the difference between the formation area of the main pixel electrode and the sub pixel electrode by adjusting the formation area of the storage capacitor.
따라서, 본 발명은 스토리지 커패시터의 형성면적을 조절함에 따라 메인 화소영역과 서브 화소영역에서의 킥백 전압 편차를 제거할 수 있어, 킥백 전압을 보다 효율적으로 제거할 수 있다. 이로 인해, 표시장치의 표시품질을 향상시킬 수 있다.Therefore, according to the present invention, the kickback voltage deviation in the main pixel area and the sub pixel area can be eliminated by adjusting the formation area of the storage capacitor, so that the kickback voltage can be more efficiently removed. As a result, the display quality of the display device can be improved.
또한, 본 발명은 상대적으로 큰 레벨의 데이터 신호에 의해 메인 화소전극을 먼저 충전시킨 후 상대적으로 작은 레벨의 데이터 신호에 의해 서브 화소전극을 충전시킴에 따라 충전 마진을 향상시킬 수 있는 효과도 있다.In addition, the present invention has an effect of improving the charging margin by first charging the main pixel electrode with a relatively large level of data signal and then charging the sub pixel electrode with a relatively small level of data signal.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary skill in the art will be described in the claims to be described later It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050084519A KR20070029899A (en) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | Array substrate and display panel having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050084519A KR20070029899A (en) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | Array substrate and display panel having the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070029899A true KR20070029899A (en) | 2007-03-15 |
Family
ID=38101823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050084519A KR20070029899A (en) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | Array substrate and display panel having the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20070029899A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8477253B2 (en) | 2008-12-09 | 2013-07-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
CN103576398A (en) * | 2013-07-19 | 2014-02-12 | 友达光电股份有限公司 | Pixel structure |
-
2005
- 2005-09-12 KR KR1020050084519A patent/KR20070029899A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8477253B2 (en) | 2008-12-09 | 2013-07-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
US9500898B2 (en) | 2008-12-09 | 2016-11-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
CN103576398A (en) * | 2013-07-19 | 2014-02-12 | 友达光电股份有限公司 | Pixel structure |
CN103576398B (en) * | 2013-07-19 | 2016-01-13 | 友达光电股份有限公司 | Pixel structure |
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