KR20070022651A - Variable capacitor and process for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

양단측에 선로부(35a, 35a) 및 중앙측에 커패시터부(35b)를 가지는 하부가동전극(35)과 양단측에 선로부(37a, 37a) 및 중앙측에 커패시터부(37b)를 가지는 하부가동전극(37)을, 커패시터부(35b, 37b)가 대향하도록 배치하고, 하부가동전극(35)을 구동하는 하부가동전극용 액츄에이터(27a, 27b, 27c, 27d) 및 상부가동전극(37)을 구동하는 상부가동전극용 액츄에이터(29a, 29b, 29c, 29d)의 구동전극을, 하부가동전극(35) 및 상부가동전극(37)과 전기적으로 분리해서 설치한다. 이들 액츄에이터(27a-27d) 및/또는 (29a-29d)에 의해, 하부가동전극(35) 및/또는 상부가동전극(37)을 이동시켜서, 양 커패시터부(35b, 37b)간의 거리를 조정해서 정전용량을 제어한다. A lower movable electrode 35 having line portions 35a and 35a at both ends and a capacitor portion 35b at the center side, and a lower portion having line portions 37a and 37a at both ends and a capacitor portion 37b at the center side. The movable electrodes 37 are disposed so that the capacitor portions 35b and 37b face each other, and the lower movable electrode actuators 27a, 27b, 27c, 27d and the upper movable electrode 37 which drive the lower movable electrode 35 are provided. The drive electrodes of the upper movable electrode actuators 29a, 29b, 29c, and 29d for driving the electrical electrodes are electrically separated from the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37. These actuators 27a-27d and / or 29a-29d move the lower movable electrode 35 and / or the upper movable electrode 37 to adjust the distance between both capacitor sections 35b and 37b. Control the capacitance.

가변 커패시터, MEMS, 가동전극, 액츄에이터, 정전용량 Variable Capacitors, MEMS, Moving Electrodes, Actuators, Capacitance

Description

가변 커패시터 및 그 제조 방법{VARIABLE CAPACITOR AND PROCESS FOR FABRICATING THE SAME}Variable Capacitor and Manufacturing Method Thereof {VARIABLE CAPACITOR AND PROCESS FOR FABRICATING THE SAME}

본 발명은, 가변 커패시터 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 기술을 이용한 대향하는 가동전극을 가지는 가변 커패시터 및 그 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a variable capacitor and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a variable capacitor having an opposing movable electrode using MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology and a method of manufacturing the same.

가변 커패시터는, 가변 주파수 발진기, 동조 증폭기, 위상 천이기(Phase shifter), 임피던스 정합 회로 등을 포함하는 전기 회로에 있어서 중요한 부품이며, 최근, 휴대기기에의 탑재가 늘어나고 있다. 현재 주로 사용되고 있는 버랙터(Varactor) 다이오드에 비해, MEMS 기술을 이용해서 제작된 가변 커패시터는, 손실이 적고 Q값을 높게 할 수 있다고 하는 이점이 있으며, 그 개발을 서두르고 있다. The variable capacitor is an important component in an electric circuit including a variable frequency oscillator, a tuning amplifier, a phase shifter, an impedance matching circuit, and the like, and mounting in portable devices is increasing recently. Compared with varactor diodes, which are currently used mainly, variable capacitors manufactured using MEMS technology have the advantage of low loss and high Q value, and hastened their development.

도 1(a), (b)는, 종래의 가변 커패시터의 구성을 나타내는 단면도, 평면도이다(예를 들면, 비특허문헌 Jan Y. Park, et al., "MICROMACHINED RF MEMS TUNABLE CAPACITORS USING PIEZOELECTRIC ACTUATORS" IEEE International Microwave Symposium, 2001 참조). 이 가변 커패시터는, 유니모프(Unimorph)형의 압전 액츄에이터(Actuator)(12) 및 가동 전극(13)을 가지는 가동 전극용 기판(11)과, 고정 전극(16)을 설치한 고정 전극용 기판(15)을, 가동 전극(13) 및 고정 전극(16)이 대향하도록, 솔더 범프(Solder Bump)(14)로 접합시킨 구성을 하고 있다. 압전 액츄에이터(12)의 구동에 의해서 가동 전극(13)을 이동시켜, 가동 전극(13) 및 고정 전극(16)간의 거리를 변동시켜서 커패시터의 용량을 제어한다. 1 (a) and 1 (b) are cross-sectional views and plan views showing the structure of a conventional variable capacitor (e.g., non-patent document Jan Y. Park, et al., "MICROMACHINED RF MEMS TUNABLE CAPACITORS USING PIEZOELECTRIC ACTUATORS"). IEEE International Microwave Symposium, 2001). The variable capacitor includes a movable electrode substrate 11 having a unimorph piezoelectric actuator 12 and a movable electrode 13, and a fixed electrode substrate provided with a fixed electrode 16 ( 15 is bonded to a solder bump 14 so that the movable electrode 13 and the fixed electrode 16 face each other. The capacitance of the capacitor is controlled by moving the movable electrode 13 by driving the piezoelectric actuator 12 to vary the distance between the movable electrode 13 and the fixed electrode 16.

<발명이 해결하고자 하는 과제>Problems to be Solved by the Invention

그러나, 상술한 종래의 가변 커패시터에는, 이하와 같은 문제가 있다. 가동 전극(13)과 고정 전극(16)을 솔더 범프(14)로 접합시키고 있기 때문에, 양 전극간의 거리가 솔더 범프(14)로 제어되는 것이 되어, 그 거리를 0에 가까운 상태까지 작게 하는 것이 불가능하며, 압전 액츄에이터(12)가 초기 상태일 때의 커패시터의 정전 용량은 커지지 않는다. However, the above-mentioned conventional variable capacitor has the following problems. Since the movable electrode 13 and the fixed electrode 16 are joined by the solder bumps 14, the distance between both electrodes is controlled by the solder bumps 14, and the distance is reduced to a state close to zero. It is impossible, and the capacitance of the capacitor when the piezoelectric actuator 12 is in the initial state does not increase.

커패시터의 정전 용량 C와 커패시터를 구성하는 전극간의 거리 d와의 사이에는, C=ε0εrS/d(ε0:진공중의 유전율, εr:비유전율, S:전극의 면적)의 관계가 있으며, 정전 용량 C 및 전극간 거리 d와의 관계를 도 2에 나타낸다. 도 2에는, 종축 및 횡축의 눈금을 초기 상태 C 및 d로 규격화하고 있다. 압전 액츄에이터의 변화량이 일정할 경우, 양 전극이 떨어져 있는 상태보다도, 근접해 있는 상태가 정전 용량의 변화의 비율이 크게 된다. 따라서, 초기 상태일 때의 정전 용량이 크게 되지않는다(작다)는 것은, 정전 용량의 변화도 크게 되지 않는다(작다)는 것이 된다.Between the capacitance C of the capacitor and the distance d between the electrodes constituting the capacitor, the relationship between C = ε 0 ε r S / d (ε 0 : permittivity in vacuum, ε r : relative dielectric constant, S: area of electrode) And a relationship between the capacitance C and the distance d between the electrodes is shown in FIG. 2. In FIG. 2, the scales of the vertical axis and the horizontal axis are normalized to initial states C and d. When the change amount of the piezoelectric actuator is constant, the ratio of the change in the capacitance becomes larger in the state in which it is closer than in the state where both electrodes are separated. Therefore, the fact that the capacitance in the initial state does not become large (small) means that the change in the capacitance does not become large (small).

이 종래예의 가변 커패시터에서는, 도 1(b)에 보이는 바와 같이, 가동 전극(13)과 압전 액츄에이터(12)가 토션바(Torsion Bar)(17)로 접속되어 있으며, 가동 전극(13)과 압전 액츄에이터(12)용의 구동 전극과는 일체적으로 구성되어 전기적으로 접속되어 있다. 커패시터를 구성하는 가동 전극(13)까지의 선로에, 폭이 좁은 토션바(17)가 포함되어 있기 때문에, 이 부분이 등가직열저항(ESR: Equivalent Series Resistance)으로 되어 저항 손실이 발생하고, 게다가 가변 커패시터에 전기적으로 접속되는 신호선로와 압전 액츄에이터(12)용의 구동 전극이 겸용되고 있기 때문에, 이 신호선로는 고유전체인 압전소자와 접속해서 유전손실이 발생하며, Q값이 매우 작게 되는 문제가 있다. 또한 가동 전극(13)까지의 선로는 임피던스 정합이 행하여지지 않고 입력된 에너지의 손실, 즉 삽입손실도 발생한다. 그래서 본 발명자는, 이 문제를 해결하기 위한 기술개발을 추진하고 있다.In the variable capacitor of this conventional example, as shown in Fig. 1 (b), the movable electrode 13 and the piezoelectric actuator 12 are connected by a torsion bar 17, and the movable electrode 13 and the piezoelectric element are connected. The drive electrode for the actuator 12 is integrally formed and electrically connected. Since the narrow torsion bar 17 is included in the line to the movable electrode 13 constituting the capacitor, this portion becomes an equivalent series resistance (ESR), resulting in a loss of resistance. Since the signal line electrically connected to the variable capacitor and the drive electrode for the piezoelectric actuator 12 are used together, the signal line is connected to a piezoelectric element, which is a high dielectric material, resulting in a dielectric loss and a very small Q value. There is. In addition, the line to the movable electrode 13 is not subjected to impedance matching, but also loses input energy, that is, insertion loss. Therefore, the present inventors are pushing for technical development to solve this problem.

또한 본 발명자는 대향하는 2개의 전극을 어느 쪽도 전압 액츄에이터로 구동가능한 구성으로 한 가변 커패시터를 제안하고 있다(일본국 특개2004-127973호 공보 참조). 이와 같은 2개의 가동 전극을 대향시킨 구성을 이루는 가변 커패시터에서는, 범프(Bump)가 설치되어 있지 않기 때문에, 양 전극간의 거리를 용이하게 작게 할 수 있기 때문에 소형의 구성이더라도 큰 정전 용량이 얻어지는 것과 함께 정전 용량의 변화를 크게 할 수 있는 효과를 가져온다. The present inventor also proposes a variable capacitor in which two opposing electrodes are configured to be driven by a voltage actuator (see Japanese Patent Laid-Open No. 2004-127973). In the variable capacitor having the configuration in which the two movable electrodes are opposed to each other, since no bump is provided, the distance between the two electrodes can be easily reduced, so that a large capacitance can be obtained even with a small configuration. This brings about the effect of large change in capacitance.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 안출된 것으로, 소형의 구성이더라도 정전 용량을 크게 할 수 있는 것과 함께 정전 용량의 변화의 비율을 크게 할 수 있어 정전 용량의 미조정도 가능하며, 게다가 Q값이 높은 가변 커패시터 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised in view of such a situation. Even in a small configuration, the capacitance can be increased, the rate of change in capacitance can be increased, and the capacitance can be fine-tuned, and the Q value is high. An object of the present invention is to provide a variable capacitor and a method of manufacturing the same.

본 발명의 또 다른 목적은, 외부로부터 입력된 신호의 에너지 손실(삽입 손실)을 방지할 수 있는 가변 커패시터 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Still another object of the present invention is to provide a variable capacitor capable of preventing energy loss (insertion loss) of a signal input from the outside and a method of manufacturing the same.

본 발명의 또 다른 목적은, 압전 액츄에이터의 구동 전압이 적어도 큰 정전 용량과 정전 용량의 큰 변화를 얻을 수 있는 가변 커패시터 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다. It is still another object of the present invention to provide a variable capacitor capable of obtaining a large change in capacitance and a large change in capacitance at which the driving voltage of the piezoelectric actuator is at least.

<과제를 해결하기 위한 수단>Means for solving the problem

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 대향하는 전극이 이동가능한 가변 커패시터에 있어서, 기판과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극과, 상기 가동 전극을 구동하는 복수의 압전 액츄에이터를 구비하며, 상기 가동 전극이 대향해서 커패시터를 구성하고 있으며, 상기 가동 전극과 신호 패드를 도전 접속하고 있는 것을 특징으로 한다. A variable capacitor according to the present invention is a variable capacitor in which an opposite electrode is movable, comprising a substrate, a movable electrode having a first electrode portion and a second electrode portion, and a plurality of piezoelectric actuators for driving the movable electrode. The movable electrodes face each other to form a capacitor, and the movable electrodes and the signal pad are electrically connected to each other.

본 발명에 있어서는, 가동 전극과 가동 전극을 구동하는 전압 액츄에이터를 동일의 기판에 설치하고 있기 때문에, 소형의 구성이다. 또한, 각 가동 전극을 이동할 수 있기 때문에, 양 가동 전극간의 거리를 작게 할 수 있으며, 큰 정전 용량과 정전 용량의 큰 변화를 실현하며, 정전 용량의 미조정도 용이하다. 또한, 커패시터를 구성하는 제2 전극부까지의 선로(신호선)에 상당하는 제1 전극부와, 압전 액츄에이터를 구동하기 위한 구동 전극이 전기적으로 분리하고 있기 때문에, 제1 전극부가 압전 액츄에이터의 압전체(고유전체)와 접촉하지 않으며, 삽입 손실을 억제하여 Q값의 향상을 꾀할 수 있다. In this invention, since the voltage actuator which drives a movable electrode and a movable electrode is provided in the same board | substrate, it is a compact structure. Moreover, since each movable electrode can be moved, the distance between both movable electrodes can be made small, large capacitance and large change of an electrostatic capacitance are realized, and fine adjustment of an electrostatic capacitance is also easy. In addition, since the first electrode portion corresponding to the line (signal line) to the second electrode portion constituting the capacitor and the driving electrode for driving the piezoelectric actuator are electrically separated from each other, the first electrode portion of the piezoelectric element of the piezoelectric actuator ( High dielectric constant), and the insertion loss can be suppressed to improve the Q value.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 가동 전극은, 상기 제1 전극부와 제2 전극부를 가지고 있으며, 상기 가동 전극을 상하로 배치하고 있는 것을 특징으로 한다.In the variable capacitor according to the present invention, the movable electrode has the first electrode portion and the second electrode portion, and the movable electrode is disposed up and down.

본 발명에 있어서는, 커패시터를 구성하는 제2 전극부로의 선로에 상당하는 제1 전극부에는, 종래예와 같은 폭이 좁은 토션바가 포함되어 있지 않으며, 등가직렬저항을 작게 할 수 있기 때문에, Q값의 향상을 꾀할 수 있다. In the present invention, the first electrode portion corresponding to the line to the second electrode portion constituting the capacitor does not include the narrow torsion bar as in the conventional example, and since the equivalent series resistance can be reduced, the Q value Can improve.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 복수의 압전 액츄에이터 각각은, 구동 전극과, 그 구동 전극간에 설치된 압전 소자를 포함하고 있으며, 상기 구동 전극과 상기 가동 전극과는 별체(別體)인 것을 특징으로 한다. In the variable capacitor according to the present invention, each of the plurality of piezoelectric actuators includes a drive electrode and a piezoelectric element provided between the drive electrodes, and is separate from the drive electrode and the movable electrode. It is done.

본 발명에 있어서는, 커패시터용의 가동 전극과 전압 액츄에이터용의 구동 전극을 별체로 구성하고 있기 때문에, 종래예와 같이 선로부가 압전 소자(고유전체)에 접촉하는 것이 없어져, Q값의 향상을 꾀할 수 있다. In the present invention, since the movable electrode for the capacitor and the driving electrode for the voltage actuator are configured separately, the line portion does not come into contact with the piezoelectric element (dielectric) as in the conventional example, so that the Q value can be improved. have.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 가동 전극의 제1 전극부의 양측에 상기 압전 액츄에이터를 설치하고 있으며, 상기 제1 전극부와 상기 전압 액츄에이터의 구동 전극에 의해 CPW형 선로를 구성하고 있는 것을 특징으로 한다.In the variable capacitor according to the present invention, the piezoelectric actuators are provided on both sides of the first electrode portion of the movable electrode, and a CPW line is formed by the first electrode portion and the drive electrode of the voltage actuator. It is done.

본 발명에 있어서는, CPW형 선로에 있어서의 제1 전극부의 폭과 제1 전극부 및 전압 액츄에이터의 구동 전극의 간격을 조정함으로써 임피던스 정합을 용이하게 행할 수 있기 때문에, 삽입 손실이 없어져 Q값의 향상을 꾀할 수 있다.In the present invention, impedance matching can be easily performed by adjusting the width of the first electrode portion and the distance between the driving electrode of the first electrode portion and the voltage actuator in the CPW line, so that insertion loss is eliminated and the Q value is improved. Can be designed.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 가동 전극의 대향하는 상기 제2 전극부간에 유전체층을 설치하고 있는 것을 특징으로 한다.The variable capacitor according to the present invention is characterized in that a dielectric layer is provided between the second electrode portions of the movable electrode that face each other.

본 발명에 있어서는, 커패시터를 구성하는 제2 전극부간에 유전체층을 설치하고 있기 때문에, 정전 용량 및 그 변화량의 증대를 꾀할 수 있다.In the present invention, since the dielectric layer is provided between the second electrode portions constituting the capacitor, the capacitance and the amount of change thereof can be increased.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 가동 전극의 적어도 한 쪽이 접지전극에 접속되어 있는 것을 특징으로 한다.In the variable capacitor according to the present invention, at least one of the movable electrodes is connected to a ground electrode.

본 발명에 있어서는, 한쪽의 가동 전극을 접지 전극에 접속시킴으로써, 부유용량을 억제한다. In the present invention, the stray capacitance is suppressed by connecting one movable electrode to the ground electrode.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 상기 가동 전극의 어느 한쪽의 상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부의 경계부 근방이 전기적으로 분리되어 있는 것을 특징으로 한다.In the variable capacitor according to the present invention, the vicinity of the boundary between the first electrode portion and the second electrode portion of one of the movable electrodes is electrically separated.

본 발명에 있어서는, 한쪽의 가동 전극이 제1 전극부와 제2 전극부와의 경계부 근방에서 전기적으로 분리되어 있기 때문에, 한쪽의 제1 전극부에 입력된 신호가 제2 전극부를 통과해서 다른 쪽의 제1 전극부의 단(端)까지 도착하며, 거기에서 반사하는 것과 같은 것이 없어져, 입력 신호의 에너지 손실(삽입 손실)을 저감한다. In the present invention, since one movable electrode is electrically separated near the boundary between the first electrode portion and the second electrode portion, the signal inputted to the first electrode portion passes through the second electrode portion and the other side thereof. It reaches to the stage of the 1st electrode part, and there is no thing reflecting there, and the energy loss (insertion loss) of an input signal is reduced.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터는, 그 대향 방향이 이동가능한 가동 전극과, 그 가동 전극을 구동하는 복수의 압전 액츄에이터를 구비한 가변 커패시터에 있어서, 상기 가동전극간에 전압을 인가하는 전압인가수단을 구비하고 있으며, 상기 압전 액츄에이터의 구동에서 상기 가동 전극을 접근시킨 상태에서, 상기 전압인가수단에서 상기 가동 전극간에 전압을 인가하도록 구성하고 있는 것을 특징으로 한다. A variable capacitor according to the present invention is a variable capacitor having a movable electrode which is movable in an opposite direction and a plurality of piezoelectric actuators for driving the movable electrode, comprising a voltage applying means for applying a voltage between the movable electrodes. The voltage application means is adapted to apply a voltage between the movable electrodes in a state in which the movable electrode is brought close in driving the piezoelectric actuator.

본 발명에 있어서는, 압전 액츄에이터의 구동에 의해 한 쌍의 가동 전극을 접근시킨 상태에서, 한 쌍의 가동 전극간에 전압을 인가함으로써, 한 쌍의 가동 전극간에 발생하는 정전 인력에 의해서 양 가동 전극간의 거리를 더더욱 작게 한다.In the present invention, the distance between the two movable electrodes due to the electrostatic attraction generated between the pair of movable electrodes by applying a voltage between the pair of movable electrodes in a state in which the pair of movable electrodes is approached by driving the piezoelectric actuator. Make it even smaller.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터의 제조방법은, 전극이, 압전 액츄에이터의 구동에 의해, 이동가능한 가변 커패시터를 제조하는 방법에 있어서, 기판에 복수의 상기 압전 액츄에이터를 형성하는 공정과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극을 상기 기판에 형성하는 공정과, 상기 가동 전극간에 간극을 형성하기 위한 희생층(Sacrificial Layer)을 형성하는 공정과, 상기 희생층을 제거하는 제거공정과, 상기 복수의 상기 압전 액츄에이터의 단부 및 상기 가동 전극의 제1 전극부의 단부를 제외한 부분을 상기 기판으로부터 잘라내는 절리(切離)공정을 가지는 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a variable capacitor according to the present invention, a method of manufacturing a variable capacitor in which an electrode is movable by driving a piezoelectric actuator, the method comprising: forming a plurality of the piezoelectric actuators on a substrate; And forming a movable electrode having a second electrode portion on the substrate, forming a sacrificial layer for forming a gap between the movable electrodes, removing the sacrificial layer, and removing the plurality of sacrificial layers. And a cutting step of cutting off portions of the piezoelectric actuator of the piezoelectric actuator from the substrate except for an end portion of the piezoelectric actuator and an end portion of the first electrode portion of the movable electrode.

본 발명에 있어서는, 동일의 기판위에, 한 쌍의 가동 전극 및 이들을 구동하는 압전 액츄에이터를 용이하게 형성한다. In the present invention, a pair of movable electrodes and a piezoelectric actuator for driving these are easily formed on the same substrate.

본 발명에 관련하는 가변 액츄에이터의 제조방법은, 전극이, 압전 액츄에이터의 구동에 의해서 이동 가능한 가변 커패시터를 제조하는 방법에 있어서, 기판에 복수의 상기 압전 액츄에이터를 형성하는 공정과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극을 상기 기판에 형성하는 공정과, 상기 가동 전극간에 유전체층을 형성하는 공정과, 상기 가동 전극의 어느 한쪽 및 상기 유전체층간에 간극을 형성하기 위한 희생층을 형성하는 공정과, 상기 희생층을 제거하는 제거공정과, 상기 복수의 상기 압전 액츄에이터의 단부 및 상기 가동 전극의 제1 전극부의 단부를 제외한 부분을 상기 기판으로부터 잘라내는 절리공정을 가지는 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a variable actuator according to the present invention, there is provided a method of manufacturing a variable capacitor in which an electrode is movable by driving a piezoelectric actuator, the method comprising: forming a plurality of the piezoelectric actuators on a substrate; Forming a movable electrode having a second electrode portion on the substrate, forming a dielectric layer between the movable electrodes, forming a sacrificial layer for forming a gap between any one of the movable electrodes and the dielectric layer; And a removing step of removing the sacrificial layer, and a cutting step of cutting off portions of the plurality of piezoelectric actuators, excluding end portions of the first electrode portion of the movable electrode, from the substrate.

본 발명에 있어서는, 동일의 기판위에, 한 쌍의 가동 전극, 이들을 구동하는 전압 액츄에이터 및 한 쌍의 가동 전극간의 유전체층을 용이하게 형성한다. In the present invention, a dielectric layer between a pair of movable electrodes, a voltage actuator for driving them, and a pair of movable electrodes is easily formed on the same substrate.

본 발명에 관련하는 가변 커패시터의 제조방법은, 상기 제거공정 및 상기 절리공정을 동시적으로 행하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the variable capacitor which concerns on this invention is characterized by performing the said removal process and the said cutting process simultaneously.

본 발명에 있어서는, 희생층의 제거공정과, 단부를 제외한 가동 전극 및 전압 액츄에이터의 기판으로부터의 절리공정을 동시에 행하므로써, 작업효율이 향상된다. In the present invention, the work efficiency is improved by simultaneously performing the step of removing the sacrificial layer and the step of cutting the movable electrode and the voltage actuator from the substrate excluding the end.

<발명의 효과>Effect of the Invention

본 발명에서는, 소형의 구성이더라도 정전 용량을 크게 할 수 있는 것과 함께 정전용량의 변화의 비율을 크게하는 것이 가능하며, 정전용량의 미조정도 가능하며, 내충격성이 우수한 가변 커패시터를 제공하는 것이 가능하다. 또한, 가동 전극과 압전 액츄에이터를 전기적으로 분리해서, 등가직렬저항의 원인이 되는 토션바의 구조를 없애고, 커패시터 형성부(제2 전극부)까지의 폭넓은 선로부(제1 전극부)를 확보했기 때문에 높은 Q값을 얻을 수 있다.In the present invention, even in a small configuration, it is possible to increase the capacitance and to increase the rate of change of the capacitance, to fine-tune the capacitance, and to provide a variable capacitor excellent in impact resistance. . In addition, by electrically separating the movable electrode and the piezoelectric actuator, the structure of the torsion bar causing the equivalent series resistance is eliminated, and a wide line portion (first electrode portion) to the capacitor forming portion (second electrode portion) is secured. As a result, a high Q value can be obtained.

또한, 본 발명에서는, 커패시터 형성부분 및 그 주위부분을 기판으로부터 공기중에 뜬 상태로 하였기 때문에, 기판 등의 유전율의 영향이 없어지고, 높은 Q값을 얻을 수가 있다.In addition, in the present invention, since the capacitor formation portion and the peripheral portion thereof are floated in the air from the substrate, the influence of the dielectric constant of the substrate or the like is eliminated, and a high Q value can be obtained.

또한 본 발명에서는, 제1 전극부와 제2 전극부의 경계 근방에서 한쪽의 가변 전극을 전기적으로 분리하도록 하였기 때문에, 외부로부터 입력된 신호의 에너지 손실(삽입손실)을 방지하는 것이 가능하다.In the present invention, since one of the variable electrodes is electrically separated near the boundary between the first electrode portion and the second electrode portion, it is possible to prevent energy loss (insertion loss) of the signal input from the outside.

또한 본 발명에서는, 압전 액츄에이터의 구동에 의해서 한쌍의 가동 전극을 접근시킨 상태에서, 한쌍의 가동 전극간에 전압을 인가하도록 하였기 때문에, 한쌍의 가동 전극간에 발생하는 정전인력에 의해서 양 가동 전극간의 거리를 더더욱 작게 하는 것이 가능하여, 큰 정전용량과 정전용량의 큰 변화를 얻을 수 있다. 또한, 전압 액츄에이터의 구동에 의해서 한쌍의 가동 전극을 접근시킨 상태에서, 정전인력을 발생시키기 때문에, 작은 구동전압으로 큰 정전인력을 발생시킬 수 있다.In addition, in the present invention, the voltage is applied between the pair of movable electrodes while the pair of movable electrodes is approached by driving the piezoelectric actuator. It is possible to make it even smaller, so that a large capacitance and a large change in capacitance can be obtained. In addition, since the electrostatic attraction is generated in a state where the pair of movable electrodes are brought close by the driving of the voltage actuator, a large electrostatic attraction can be generated with a small driving voltage.

도 1은 종래의 가변 커패시터의 구성을 나타내는 단면도, 평면도.1 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional variable capacitor, a plan view.

도 2는 커패시터의 정전용량과 전극간 거리의 관계를 나타내는 그래프.2 is a graph showing the relationship between the capacitance of a capacitor and the distance between electrodes.

도 3은 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 투시도.3 is a perspective view of a variable capacitor according to the first embodiment.

도 4는 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 분해투시도.4 is an exploded perspective view of the variable capacitor according to the first embodiment.

도 5는 도 3의 B-B선 및 C-C선에서의 단면도.FIG. 5 is a sectional view taken along line B-B and line C-C in FIG. 3; FIG.

도 6은 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view illustrating a process for manufacturing the variable capacitor according to the first embodiment.

도 7은 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도.7 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing the variable capacitor according to the first embodiment.

도 8은 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정의 변형예를 나타내는 단면도.8 is a cross-sectional view showing a modification of the manufacturing process of the variable capacitor according to the first embodiment.

도 9는 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 변형예의 분해투시도.9 is an exploded perspective view of a modification of the variable capacitor according to the first embodiment.

도 10은 제2 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 분해 투시도.10 is an exploded perspective view of a variable capacitor according to a second embodiment.

도 11은 제2 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도.11 is a cross-sectional view illustrating a process for manufacturing the variable capacitor according to the second embodiment.

도 12는 제2 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도.12 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing a variable capacitor according to the second embodiment.

도 13은 제3 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터(가동전극 및 전압 액츄에이터만)의 분해 투시도.Fig. 13 is an exploded perspective view of a variable capacitor (only movable electrode and voltage actuator) according to the third embodiment.

도 14는 제3 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정의 한 예를 나타내는 단면도.14 is a cross-sectional view showing an example of a process of manufacturing a variable capacitor according to the third embodiment.

도 15는 제3 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 제조공정의 다른 예를 나타내는 단면도.15 is a cross-sectional view showing another example of the process of manufacturing the variable capacitor according to the third embodiment.

도 16은 제3 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터에 있어서의 유전체층의 효과를 설명하기 위한 도.Fig. 16 is a diagram for explaining the effect of a dielectric layer on a variable capacitor according to the third embodiment.

도 17은 제4 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 상면도 및 확대도.17 is a top view and an enlarged view of a variable capacitor according to a fourth embodiment.

도 18은 제5 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 상면도.18 is a top view of a variable capacitor according to a fifth embodiment.

도 19는 바이모프형의 압전 액츄에이터를 설명하기 위한 도.19 is a diagram for explaining a bimorph piezoelectric actuator.

<부호의 설명><Description of the code>

21 기판21 boards

23 절연층23 insulation layer

27, 27a, 27b, 27c, 27d 하부가동전극용 액츄에이터27, 27a, 27b, 27c, 27d actuator for lower movable electrode

29, 29a, 29b, 27c, 27d 상부가동전극용 액츄에이터29, 29a, 29b, 27c, 27d actuator for upper movable electrode

31 액츄에이터용 하부전극31 Lower electrode for actuator

33 액츄에이터용 상부전극33 Upper electrode for actuator

34 압전층34 Piezoelectric Layer

35 하부가동전극35 Lower movable electrode

37 상부가동전극37 Upper movable electrode

35a, 37a 선로부(제1 전극부)35a, 37a line part (first electrode part)

35b, 37b 커패시터부(제2 전극부)35b, 37b capacitor section (second electrode section)

40 개구40 openings

41 희생층41 Sacrifice

44 접지전극44 Grounding Electrode

45 신호패드45 signal pad

46 유전체층46 dielectric layers

47 캐비티47 cavity

48 전원회로48 power supply circuit

50 공간50 spaces

51 제2 희생층51 Second Sacrificial Layer

본 발명을 그 실시의 형태를 나타내는 도면을 참조해서 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시의 형태에 한정되는 것은 아니다.The present invention will be specifically described with reference to the drawings showing the embodiments thereof. In addition, this invention is not limited to the following embodiment.

(제1 실시의 형태) (1st embodiment)

도 3은 제1 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 투시도, 도 4는 마찬가지로 그 분해 투시도이다. 도면중 21은, 실리콘, 화합물 반도체 등으로 형성되는 기판이다. 기판(21)의 중앙부에 십자형의 개구(開口)(40)가 구비되어 있으며, 기판(21)의 윗면에는 절연층(23)이 구비되어 있다. 3 is a perspective view of the variable capacitor according to the first embodiment, and FIG. 4 is an exploded perspective view thereof. 21 is a board | substrate formed with silicon, a compound semiconductor, etc. In FIG. The cross-shaped opening 40 is provided in the center part of the board | substrate 21, and the insulating layer 23 is provided in the upper surface of the board | substrate 21. As shown in FIG.

도면중 35, 37은 어느 쪽도 A1(알루미늄)으로 된 하부가동전극, 상부가동전극이다. 하부가동전극(35)은, 제1 전극부으로서의 양단측의 선로부(35a, 35a)와 제2 전극부로서의 중앙의 커패시터부(35b)로 구성되며, 한쪽의 선로부(35a)의 단부는 외부의 고주파신호원(미도시)으로부터 신호가 입력되는 신호패드(45)에 접속되며, 다른 쪽의 선로부(35a)의 단부는 절연층(23)위에 접속되어 접지전극(44)과는 전기적으로 분리되어 있다. 이들 단부에서 하부가동전극(35)은 기판(21)에 지지되며, 이들의 단부를 제외한 하부가동전극(35)의 다른 부분은 개구(40)위에 위치하고 있다. 또한, 상부가동전극(37)은, 제1 전극부로서의 양단측의 선로부(37a, 37a)와 제2 전극부로서의 중앙의 커패시터부(37b)로 구성되며, 양쪽의 선로부(37a, 37a)의 단부는 어느쪽 이나 접지전극(44)에 접속되어 있다. 이들의 단부에서 상부가동전극(37)은 기판(21)에 지지되며, 이들의 단부를 제외한 상부가동전극(37)의 다른 부분은 개구 (40)위에 위치하고 있다.In the drawings, 35 and 37 are the lower movable electrodes and the upper movable electrodes made of A1 (aluminum). The lower movable electrode 35 is composed of line portions 35a and 35a on both ends as the first electrode portion and a capacitor portion 35b in the center as the second electrode portion, and an end portion of one line portion 35a is formed. It is connected to a signal pad 45 to which a signal is input from an external high frequency signal source (not shown), and an end of the other line portion 35a is connected to the insulating layer 23 to be electrically connected to the ground electrode 44. Separated by. At these ends, the lower movable electrode 35 is supported by the substrate 21, and other portions of the lower movable electrode 35 except for the ends thereof are located on the opening 40. As shown in FIG. Moreover, the upper movable electrode 37 is comprised from the line part 37a, 37a of the both ends as a 1st electrode part, and the capacitor part 37b of the center as a 2nd electrode part, and both the line part 37a, 37a. Both ends are connected to the ground electrode 44. At their ends, the upper movable electrode 37 is supported on the substrate 21, and other portions of the upper movable electrode 37 except for the ends thereof are located on the opening 40. As shown in FIG.

이들 하부가동전극(35) 및 상부가동전극(37)은, 기판(21)의 개구(40)에 맞추어 십자형으로 배치되어 있으며, 하부가동전극(35)의 커패시터부(35b)와 상부가동전극(37)의 커패시터부(37b)가 공기층을 통해서 대향하고 있다. 이 대향하는 커패시터부(35b) 및 커패시터부(37b)에서 커패시터로서 기능한다. 또한 서로 전기적으 로 분리된 하부가동전극(35) 및 상부가동전극(37), 어느 쪽도 지면에서 뜬 상태로 사용해도 좋으나, 부유용량을 억제할 목적으로부터, 상부가동전극(37)을 접지전극(44)에 접속하고 있다. The lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 are arranged crosswise in accordance with the opening 40 of the substrate 21, and the capacitor portion 35b of the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode ( The capacitor portion 37b of 37 is opposed through the air layer. It functions as a capacitor in the opposing capacitor section 35b and capacitor section 37b. In addition, although the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 which are electrically separated from each other may be used in a state of being floated from the ground, the upper movable electrode 37 may be grounded for the purpose of suppressing floating capacitance. (44).

하부가동전극(35) 및 상부가동전극(37)은, 각각 4개의 하부가동전극용 액츄에이터(27a, 27b, 27c, 27d) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29a, 29b, 29c, 29d)로 구동된다. 이들 하부가동전극용 액츄에이터(27a, 27b, 27c, 27d) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29a, 29b, 29c, 29d)는, 기판(21)의 개구(40)에 면하고 있다. 하부가동전극용 액츄에이터(27)(대표로서 하나의 하부가동전극용 액츄에이터를 설명하는 경우에는, 간단히 참조부호 27을 이용한다) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29)(대표로서 하나의 하부가동전극용 액츄에이터를 설명하는 경우에는, 간단히 참조부호 29를 이용한다)는 압전 액츄에이터이며, 절연층(23)과 액츄에이터용 하부전극(31)과 압전층(34)과 액츄에이터용 상부전극(33)이 이 순서로 아래 쪽으로부터 적층된 유니모프형의 구성을 하고 있다. 액츄에이터용 하부전극(31)은 Pt/Ti(백금/티타늄)으로 형성되며, 액츄에이터용 상부전극(33)은 Pt로부터 형성되어 있으며, 어느 쪽도 하부가동전극(35), 상부가동전극(37)과는 별체(別體)의 것이다. 고주파신호원(미도시)으로부터 신호패드(45)로 입력된 신호는, 하부가동전극(35) 선로부(35a)를 통해서 커패시터부(35b)로부터 공기층을 통해서, 커패시터부(35b)에 대향한 상부가동전극(37)의 커패시터부(37b), 선로부(37a)를 경유해서 접지전극(44)으로 흘러든다. 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29) 각각의 압전층(34)의 분극방향을 거꾸로 함으로써, 액츄에이터 구동시의 이 동방향을 상반되도록 한다. The lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 are driven by four lower movable electrode actuators 27a, 27b, 27c, 27d and upper movable electrode actuators 29a, 29b, 29c, 29d, respectively. . These lower movable electrode actuators 27a, 27b, 27c, 27d and the upper movable electrode actuators 29a, 29b, 29c, and 29d face the opening 40 of the substrate 21. Actuator 27 for the lower movable electrode (in the case of describing an actuator for one lower movable electrode as a representative, reference numeral 27 is simply used) and actuator 29 for the upper movable electrode (actuator for the lower movable electrode as a representative) In the following description, reference numeral 29 is simply used to indicate a piezoelectric actuator, and the insulating layer 23, the lower electrode 31 for the actuator, the piezoelectric layer 34, and the upper electrode 33 for the actuator are in this order below. The unimorph type laminated | stacked from the side is comprised. The actuator lower electrode 31 is formed of Pt / Ti (platinum / titanium), the actuator upper electrode 33 is formed from Pt, and the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 are both. Is different from the other. The signal input to the signal pad 45 from the high frequency signal source (not shown) is opposed to the capacitor portion 35b through the air layer from the capacitor portion 35b through the line portion 35a of the lower movable electrode 35. It flows into the ground electrode 44 via the capacitor portion 37b and the line portion 37a of the upper movable electrode 37. By inverting the polarization directions of the piezoelectric layers 34 of the lower movable electrode actuator 27 and the upper movable electrode actuator 29, the movement direction at the time of actuator driving is reversed.

하부가동전극용 액츄에이터(27)의 액츄에이터용 상부전극(33)에 하부가동전극구동용 전원(미도시)으로부터 하부가동전극구동패드(42)에 전압을 가함으로써, 하부가동전극(35)은 상부가동전극(37)쪽으로, 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 액츄에이터용 상부전극(33)에 상부가동전극구동용 전원(미도시)으로부터 상부가동전극구동패드(43)에 전압을 가함으로써, 상부가동전극(37)은 하부가동전극(35)쪽으로, 각각 독립적으로 이동한다. 따라서, 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및/또는 상부가동전극용 액츄에이터(29)를 구동함으로써, 상부가동전극(37)(커패시터부(37b))과 하부가동전극(35)(커패시터부(35b))과의 거리를 변화시킬 수가 있으므로, 원하는 정전용량을 얻을 수가 있다. By applying a voltage to the lower movable electrode driving pad 42 from the lower movable electrode driving power supply (not shown) to the upper electrode 33 for the actuator of the lower movable electrode actuator 27, the lower movable electrode 35 is A voltage is applied to the upper movable electrode driving pad 43 from the upper movable electrode driving power supply (not shown) to the upper electrode 33 for the actuator of the upper movable electrode actuator 29 toward the movable electrode 37. The movable electrodes 37 move independently of the lower movable electrodes 35, respectively. Therefore, by driving the lower movable electrode actuator 27 and / or the upper movable electrode actuator 29, the upper movable electrode 37 (capacitor portion 37b) and the lower movable electrode 35 (capacitor portion 35b). Since the distance with)) can be changed, the desired capacitance can be obtained.

본 발명에서는, 고주파 신호원으로부터의 신호가 흐르는 선로부 및 커패시터부와, 액츄에이터를 구동하기 위한 구동전극이 전기적으로 분리되어 있다. 그 때문에, 선로부 및 커패시터부가 액츄에이터 중의 압전층(고유전체)과 접촉하는 일이 없고, 게다가 주위가 공기이기 때문에 유전손실이 없어서 Q값을 높게 할 수 있다. 도 5는, 도 3의 B-B선 및 C-C선에서의 단면을 표시하고 있다. 하부가동전극(35)의 선로부(35a) 및 상부가동전극(37)의 선로부(37a)는, 접지전극(44)에 접속된 액츄에이터용 하부전극(31)에 끼워지도록 되어있다. 즉, 이들 선로부(35a) 및 선로부(37a)는, CPW형의 선로로 되며, 액츄에이터용 하부전극(31) 및 선로부(35a) 또는 선로부(37a)의 간격 w1과, 선로부(35a) 또는 선로부(37a)의 폭 w2를 조절함으로써, 선로부(35a) 또는 선로부(37a)의 임피던스를 50Ω으로 하여, 삽입손실을 없애고 있 다. In the present invention, the line portion and the capacitor portion through which signals from the high frequency signal source flow, and the drive electrode for driving the actuator are electrically separated. Therefore, since the line portion and the capacitor portion do not come into contact with the piezoelectric layer (dielectric) in the actuator, and because the surrounding is air, there is no dielectric loss and the Q value can be increased. FIG. 5 shows cross sections taken along lines B-B and C-C in FIG. 3. The line portion 35a of the lower movable electrode 35 and the line portion 37a of the upper movable electrode 37 are fitted to the actuator lower electrode 31 connected to the ground electrode 44. That is, these line portions 35a and 37a become CPW-type lines, and the interval w1 between the actuator lower electrode 31 and the line portion 35a or the line portion 37a and the line portion ( By adjusting the width w2 of the line portion 35a or the line portion 37a, the impedance of the line portion 35a or the line portion 37a is set to 50? To eliminate insertion loss.

다음에, 도 6 및 도 7을 참조해서, 상기의 구성을 가지는 가변 커패시터의 제조방법을 설명한다. 또한 도 6 및 도 7에서는 도 3의 A-A선에서의 단면을 나타내고 있다. Next, with reference to FIGS. 6 and 7, a method of manufacturing a variable capacitor having the above configuration will be described. 6 and 7 show cross sections taken along the line A-A in FIG.

실리콘을 재료로하는 기판(21)위에, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)법에 의해, 저응력의 질소 실리콘층(23a)을 형성하며, 그 후, Pt/Ti(예를 들면, 두께 0.5㎛/50nm)층(31a)과, 니오프산리튬(Lithium Niobate), 티탄산발륨(Barium Titanate), 티탄산납(Lead Titanate), 티탄산지르콘산납(Lead Zirconate Titanate), 티탄산비스마스(Bismuth Titanate) 등을 재료로하는 압전층(34a)(예를 들면, 두께 0.5㎛)을 순차 형성한다(도 6(a)).On the substrate 21 made of silicon, a low stress nitrogen silicon layer 23a is formed by LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) method, and thereafter, Pt / Ti (for example, 0.5 µm thick). / 50nm layer 31a, lithium niobate, barium titanate, lead titanate, lead zirconate titanate, bismuth titanate, and the like The piezoelectric layer 34a (for example, 0.5 micrometer in thickness) made of a material is formed sequentially (FIG. 6A).

그리고, 포토리소그래픽(Photolithographic)기술의 패터닝처리에 의해, 압전층(34a), Pt/Ti층(31a)으로부터 소정 형상의 압전층(34), 액츄에이터용 하부전극(31)을 형성한다(도 6(b), (c)). 이때의 패터닝처리에는 Cl2/Ar(염소/아르곤)계 가스를 사용한 RIE(Reactive Ion Etching)장치 또는 이온밀링장치 등을 사용한다. Then, by the patterning process of the photolithographic technique, a piezoelectric layer 34 having a predetermined shape and a lower electrode 31 for an actuator are formed from the piezoelectric layer 34a and the Pt / Ti layer 31a (Fig. 6 (b), (c)). In this case, a RIE (Reactive Ion Etching) device or an ion milling device using Cl 2 / Ar (chlorine / argon) -based gas is used.

포토리소그래픽(Photolithographic)기술에 의해, 압전층(34) 위에 Pt로 된 액츄에이터용 상부전극(33)을 형성함과 동시에(도 6(d)), 질화실리콘층(23a)을 패터닝해서 절연층(23)을 얻는다(도 6(e)). 또한, 절연층(23)으로서는, 질화실리콘층 이외에, 스퍼터링법, 열산화법, CVD법에 의해 형성한 산화실리콘층을 이용해도 된다. By the photolithographic technique, the upper electrode 33 for the actuator made of Pt is formed on the piezoelectric layer 34 (FIG. 6 (d)), and the silicon nitride layer 23a is patterned to form an insulating layer. (23) is obtained (Fig. 6 (e)). As the insulating layer 23, in addition to the silicon nitride layer, a silicon oxide layer formed by sputtering, thermal oxidation, or CVD may be used.

다음에, 소정 형상의 Al로 된 하부가동전극(35)을 기판(21)위에 형성한 후(도 7(f)), 레지스터 재료(resist material)로 된 소정 형상의 희생층(41)을 형성하고(도 7(g)), 하부가동전극(35)에 대향하는 위치에 소정 형상의 Al로 된 상부가동전극(37)을 형성한다(도 7(h)). Next, a lower movable electrode 35 made of Al having a predetermined shape is formed on the substrate 21 (FIG. 7 (f)), and then a sacrificial layer 41 of a predetermined shape made of a resist material is formed. 7 (g), an upper movable electrode 37 made of Al having a predetermined shape is formed at a position opposite to the lower movable electrode 35 (FIG. 7 (h)).

그리고, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)과 하부가동전극용 액츄에이터(27)와 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 주변의 기판(21)을, 그 배면으로부터 DRIE(Deep Reactive Ion Etching)장치에 의해서 에칭하여, 개구(40)를 형성한다.(도 7(i)). 이 에칭에 의해서, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 각 선로부(35a) 및 선로부(37a)의 단부와 하부가동전극용 액츄에이터(27)와 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 각 단부를 제외한 나머지의 부분이, 기판(21)으로부터 잘려 나간다. 또한, 이 처리에서의 에칭가스는 예를 들면 SF6을 사용하며, 개구(40)를 형성하기 위한 마스크는 레지스터이다. The lower movable electrode 35, the upper movable electrode 37, the lower movable electrode actuator 27, and the substrate 21 around the upper movable electrode actuator 29 are removed from the rear surface thereof with a deep reactive ion. Etching to form an opening 40 (Fig. 7 (i)). By this etching, the end portions of the line portions 35a and the line portions 37a of the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37, the actuator 27 for the lower movable electrode and the actuator 29 for the upper movable electrode 29 The remaining part except for each end of) is cut out from the substrate 21. Further, the etching gas is a mask for forming the use of SF 6, and opening 40, for example in the process is a register.

마지막으로, 희생층(41)을 에칭 제거해서, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 사이에 간극(42)을 확보함으로써, 가변커패시터를 제작한다(도 7(j)).Finally, the sacrificial layer 41 is etched away to secure a gap 42 between the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37, thereby producing a variable capacitor (FIG. 7 (j)).

또한, 상술한 제조순서와는 달리, 도 7(h)의 공정후에, 우선 희생층(41)을 제거해서 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 사이에 간극(42)을 확보하고나서, 기판(21)을 에칭해서 개구(40)를 형성하도록 해도 된다. 또한 희생층(41)의 재료로서는, 상기 레지스터 이외에 MgO(산화마그네슘) 등의 산화물도 이용할 수 있으며, 그 경우의 에칭에는 초산(酢酸) 또는 초산(硝酸)을 사용하면 된다. Unlike the manufacturing procedure described above, after the process of FIG. 7H, the sacrificial layer 41 is first removed to secure the gap 42 between the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37. After that, the substrate 21 may be etched to form the opening 40. As the material of the sacrificial layer 41, oxides such as MgO (magnesium oxide) can also be used in addition to the above-described resistors. Acetic acid or acetic acid may be used for etching in this case.

도 8은, 가변커패시터의 제조방법의 변형례를 나타낸다. 이 변형례에 있어서의 전반의 제조공정은 상술한 예(도 6(a)-도 7(f))와 마찬가지이다. 기판(21)과 동일 재료인 실리콘으로 된 소정 형태의 희생층(41)을 형성하고(도 8(a)), 하부가동전극(35)에 대행하는 위치에 소정 형상의 Al로 된 상부가동전극(37)을 형성한다(도 8(b)).8 shows a modification of the manufacturing method of the variable capacitor. The manufacturing process of the first half in this modification is the same as the above-mentioned example (FIGS. 6 (a)-7 (f)). A sacrificial layer 41 of a predetermined type made of silicon of the same material as the substrate 21 is formed (Fig. 8 (a)), and the upper movable electrode made of Al having a predetermined shape at a position opposite to the lower movable electrode 35. 37 is formed (FIG. 8 (b)).

그리고, 기판(21)의 표면으로부터 예를 들면 SF6 가스를 사용해서, 희생층(41)과 기판(21)을 동시에 에칭해서, 캐비티(cavity)(47)를 형성한다(도 8(c)). 이 에칭에 의해서, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 각 선로부(35a) 및 선로부(37a)의 단부와 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 각 단부를 제외한 나머지 부분이, 기판(21)로부터 잘려 나가는 것은 상술한 예와 마찬가지이나, 기판(21)의 표면측으로 에칭하기 때문에, 상술한 예와 같이 개구(開口)로 되지 않고, 캐비티(47)가 형성된다. Then, for example, SF 6 from the surface of the substrate 21 Using the gas, the sacrificial layer 41 and the substrate 21 are simultaneously etched to form a cavity 47 (Fig. 8 (c)). By this etching, the end portions of the line portions 35a and the line portions 37a of the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37, the actuator for the lower movable electrode 27 and the actuator for the upper movable electrode 29 The remaining portion except for each end portion of) is cut out from the substrate 21 in the same manner as the above-described example. However, since the portion is etched toward the surface side of the substrate 21, the cavity is not opened as in the above-described example. 47 is formed.

이 변형례에 의해 제작된 가변커패시터의 분해투시도를 도 9에 나타낸다. 기판(21)의 중앙부에 십자(十字)형의 캐비티(47)가 설치되어 있다. 또한, 도 9에 있어서, 도 3, 도 4와 동일 부분에는 동일 부호를 붙여 설명을 생략한다.9 is an exploded perspective view of the variable capacitor manufactured by this modification. A cross-shaped cavity 47 is provided in the center of the substrate 21. 9, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as FIG. 3, FIG. 4, and description is abbreviate | omitted.

(제2 실시의 형태) (2nd embodiment)

도 10은 제2 실시의 형태에 관련하는 가변커패시터의 분해투시도, 도 11 및 도 12는 이 가변커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도이다. Fig. 10 is an exploded perspective view of the variable capacitor according to the second embodiment, and Figs. 11 and 12 are sectional views showing the manufacturing process of the variable capacitor.

제2 실시의 형태에서는, 하부가동전극(35), 상부가동전극(37), 하부가동전극 용 액츄에이터(27) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 주변에 있어서, 하부가동전극(35), 상부가동전극(37) 및 절연층(23)과 기판(21)의 사이에 공간(50)을 가지고 있다. 또한, 기판(21)은, 실리콘이 아닌, 유리, 사파이어, 알루미나, 글래스 세라믹스, 갈륨(gallium)비소 등의 재료로부터 형성되어 있다. 이들 이외의 구성은, 제1 실시의 형태와 마찬가지이며, 동일부분에는 동일 부호를 붙였다.In the second embodiment, the lower movable electrode 35 is provided around the lower movable electrode 35, the upper movable electrode 37, the lower movable electrode actuator 27, and the upper movable electrode actuator 29. The space 50 is provided between the upper movable electrode 37 and the insulating layer 23 and the substrate 21. The substrate 21 is formed of a material such as glass, sapphire, alumina, glass ceramics, gallium arsenide, or the like, rather than silicon. Configurations other than these are the same as that of 1st Embodiment, and the same code | symbol was attached | subjected to the same part.

예를 들면 유리를 재료로 하는 기판(21)위에, 스파터링법에 의한 실리콘의 제2 희생층(51)을 형성한 후, 제1 실시의 형태와 마찬가지로, 질소 실리콘층(23a), Pt/Ti층(31a), 압전층(34a)을 순차 형성한다(도 11(a)). 그리고, 제1 실시의 형태와 마찬가지로, 소정 형상의 압전층(34), 액츄에이터용 하부전극(31), 액츄에이터용 상부전극(33) 및 절연층(23)을 얻는다(도 11(b)-(e)).For example, after forming the second sacrificial layer 51 of silicon by the sputtering method on the substrate 21 made of glass, the nitrogen silicon layer 23a and Pt / like the first embodiment. The Ti layer 31a and the piezoelectric layer 34a are sequentially formed (FIG. 11 (a)). Then, similarly to the first embodiment, a piezoelectric layer 34 of a predetermined shape, an actuator lower electrode 31, an actuator upper electrode 33, and an insulating layer 23 are obtained (Fig. 11 (b)-( e)).

다음에, 소정 형상의 Al로 된 하부가동전극(35)을 제2 희생층(51)위에 형성한 후(도 12(f)), 레지스터재료로 된 희생층(41)을 전역에 형성하고(도 12(g)), 하부가동전극(35)에 대향하는 위치에 소정 형상의 Al로 된 상부가동전극(37)을 형성한다(도 12(h)).Next, after forming the lower movable electrode 35 made of Al having a predetermined shape on the second sacrificial layer 51 (FIG. 12 (f)), a sacrificial layer 41 made of a resist material is formed throughout ( 12 (g)), an upper movable electrode 37 made of Al having a predetermined shape is formed at a position opposite to the lower movable electrode 35 (FIG. 12 (h)).

그리고, 희생층(41)을 에칭 제거하여, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 사이에 간극(42)을 확보하며(도 12(i)), 또한, 제2 희생층(51)을 에칭 제거해서, 기판(21)과 하부가동전극(35) 및 절연층(23)과의 사이에 공간(50)을 확보함으로써, 가변커패시터를 제작한다(도 12(j)). 또한, 희생층(41)과 제2 희생층(51)의 재료를 동일하게 하여, 이 희생층(41)의 에칭 및 제2 희생층(51)의 에칭을 동시에 행해도 된다. Then, the sacrificial layer 41 is etched away to secure a gap 42 between the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 (FIG. 12 (i)), and the second sacrificial layer ( 51 is removed by etching to secure a space 50 between the substrate 21, the lower movable electrode 35, and the insulating layer 23, thereby producing a variable capacitor (Fig. 12 (j)). In addition, the material of the sacrificial layer 41 and the second sacrificial layer 51 may be made the same, and the etching of the sacrificial layer 41 and the etching of the second sacrificial layer 51 may be performed simultaneously.

제2 실시의 형태에서는, 제2 희생층(51)의 에칭에 의해 하부가동전극(35)을 기판(21)으로부터 공중에 띄울 수 있기 때문에, 기판(21)을 에칭할 필요가 없어져, 기판(21)으로서 사용할 수 있는 재료의 종류가 늘어나게 된다. 예를 들면, 유전율이 낮고, 에칭이 어려운 글래스 세라믹스 등의 재료도, 기판(21)으로서 이용이 가능하게 된다. 이로 인해, Q값을 보다 향상시키는 것이 가능하게 된다. In the second embodiment, since the lower movable electrode 35 can be lifted from the substrate 21 in the air by etching the second sacrificial layer 51, the substrate 21 does not need to be etched and thus the substrate ( 21, the kind of material which can be used increases. For example, materials such as glass ceramics having a low dielectric constant and difficulty in etching can also be used as the substrate 21. For this reason, it becomes possible to improve Q value further.

(제3 실시의 형태) (Third embodiment)

도 13은 제3 실시의 형태에 관련하는 가변커패시터(가동전극 및 전압 액츄에이터만)의 분해투시도, 도 14 및 도 15는 이 가변 커패시터의 제조공정을 나타내는 단면도이다. FIG. 13 is an exploded perspective view of the variable capacitor (only the movable electrode and the voltage actuator) according to the third embodiment, and FIG. 14 and FIG. 15 are sectional views showing the manufacturing process of this variable capacitor.

제3 실시의 형태에서는, 하부가동전극(35)(커패시터부(35b))과 상부가동전극(37)(커패시터부(37b))의 사이에 유전체층(46)을 설치하고 있다. 그 외의 구성은, 제1 실시의 형태와 마찬가지이며, 동일 부분에는 동일 부호를 붙여서 설명을 생략한다.In the third embodiment, the dielectric layer 46 is provided between the lower movable electrode 35 (capacitor portion 35b) and the upper movable electrode 37 (capacitor portion 37b). The other structure is the same as that of 1st Embodiment, and attaches | subjects the same code | symbol to the same part, and abbreviate | omits description.

이 유전체층(46)은, 도 13에서 나타내는 것과 같이 상부가동전극(37)(커패시터부(37b))측에 설치해도 좋으며, 도면으로 나타내지 않으나 하부가동전극(35)(커패시터부(35b))측에 설치해도 된다. 유전체층(46)의 설치에 의해서 가동부분의 질량이 증가하여, 공진주파수의 저하 또는 가동속도의 저하 등이 약간 일어나나, 뒤에서 기술하는 것과 같이 정전용량 및 그 변화율을 크게 증대하는 것이 가능하다. This dielectric layer 46 may be provided on the upper movable electrode 37 (capacitor portion 37b) side as shown in FIG. 13, and is not shown, but is shown on the lower movable electrode 35 (capacitor portion 35b) side. It may be installed in. The provision of the dielectric layer 46 increases the mass of the movable portion, resulting in a slight decrease in the resonant frequency or a decrease in the operating speed. However, as described later, the capacitance and its rate of change can be greatly increased.

도 16은, 유전체층(46)의 효과를 나타내는 도이다. 도 16(a)에 나타내는 것처럼, 상부가동전극(37)의 커패시터부(37b)측에 유전체층(46)을 설치하는 경우에 대해서 설명한다. 유전체층(46)의 두께를 d1, 유전체층(46)과 하부가동전극(35)의 커패시터부(35b)의 사이에 형성된 공기층의 두께를 d2라고 하면, 커패시터부(37b)와 커패시터부(35b)의 사이의 거리 d는, d=d1+d2로 된다.16 shows the effect of the dielectric layer 46. As shown in Fig. 16A, the case where the dielectric layer 46 is provided on the capacitor portion 37b side of the upper movable electrode 37 will be described. When the thickness of the dielectric layer 46 is d1 and the thickness of the air layer formed between the dielectric layer 46 and the capacitor portion 35b of the lower movable electrode 35 is d2, the thickness of the capacitor portion 37b and the capacitor portion 35b The distance d between them becomes d = d1 + d2.

도 16(b)은, 커패시터부(35b) 및/또는 커패시터부(37b)를 이동시켜서, 공기층의 두께 d2를 변화시킨 경우의 정전용량 C의 변화를 나타내는 그래프이다. 커패시터부(35b) 및 커패시터부(37b)는 정방형(한변:230㎛)이며, 초기상태의 전극간 거리 d 및 공기층의 두께 d2를 d=0.75㎛ 및 d2=0.3㎛(d2/d=0.4)로서, 유전층(46)은 유전손실이 작은 재료인 Al2O3(알루미나)(유전율ε=10)을 이용한다. 또한, 이와 같은 유전체층을 설치하지 않은 점만을 달리한 비교예에 있어서의 정전용량 C의 변화도 도 16(b)에 같이 나타낸다.FIG. 16B is a graph showing a change in capacitance C when the capacitor portion 35b and / or the capacitor portion 37b are moved to change the thickness d2 of the air layer. The capacitor portion 35b and the capacitor portion 37b are square (one side: 230 μm), and the distance d between the electrodes in the initial state and the thickness d 2 of the air layer are d = 0.75 μm and d2 = 0.3 μm (d2 / d = 0.4). As the dielectric layer 46, Al 2 O 3 (alumina) (dielectric constant? = 10), which is a material having a low dielectric loss, is used. In addition, the change of the capacitance C in the comparative example which differed only by not providing such a dielectric layer is also shown by FIG. 16 (b).

도 16(b)에 나타내는 것처럼, 유전체층(46)을 설치한 본 발명의 예의 가변 커패시터에 있어서는, 초기상태에서 약 1.36pF, 커패시터부(35b)가 유전체층(46)에 접한 상태에서 약 10.4pF의 정전용량을 가지고 있으며, 그 변화율은 약 7.6배이다. 이와 같이, 유전체층(46)을 설치함으로써, 정전용량 및 그 가변범위를 매우 크게 할 수 있다.As shown in Fig. 16B, in the variable capacitor of the example of the present invention in which the dielectric layer 46 is provided, about 1.36pF in the initial state and about 10.4pF in the state where the capacitor portion 35b is in contact with the dielectric layer 46. It has capacitance and the rate of change is about 7.6 times. Thus, by providing the dielectric layer 46, the capacitance and its variable range can be made very large.

도 14는 제3 실시의 형태의 가변 커패시터의 제조공정의 한 예(상부가동전극(37)(커패시터부(37b))측에 유전체층(46)을 설치)를 나타내는 단면도이다. 전반의 공정은, 앞서 기술한 제1 실시의 형태의 공정(도 6(a)-도 7(g))과 동일하다. FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the variable capacitor of the third embodiment (the dielectric layer 46 is provided on the upper movable electrode 37 (capacitor portion 37b) side). The process of the first half is the same as the process (FIG. 6 (a)-7 (g)) of 1st Embodiment mentioned above.

포토리소그래픽기술에 의해, Al2O3를 재료로 하는 유전체층(46)을 희생 층(41)위에 패턴 형성하고(도 14(a)), 하부가동전극(35)에 대향하는 위치에 소정 형상의 Al로 된 상부가동전극(37)을 형성한다(도 14(b)). 그리고, 하부가동전극(35)과, 상부가동전극(37)과, 하부가동전극용 액츄에이터(27)와, 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 주변의 기판(21)을, 그 배면으로부터 DRIE장치에 의해 에칭하여, 개구(40)를 형성하며(도 14(c)), 최후에, 희생층(41)을 에칭 제거해서, 하부가동전극(35)과 유전체층(46)의 사이에 간극(42)을 확보함으로써, 가변 커패시터를 제작한다(도 14(d)).By photolithographic technique, a dielectric layer 46 made of Al 2 O 3 is patterned on the sacrificial layer 41 (Fig. 14 (a)), and a predetermined shape is formed at a position opposite to the lower movable electrode 35. An upper movable electrode 37 made of Al is formed (Fig. 14 (b)). Then, the lower movable electrode 35, the upper movable electrode 37, the lower movable electrode actuator 27, and the substrate 21 around the upper movable electrode actuator 29 are removed from the rear surface of the DRIE apparatus. Etching to form an opening 40 (FIG. 14 (c)), and finally, the sacrificial layer 41 is etched away to remove the gap 42 between the lower movable electrode 35 and the dielectric layer 46. FIG. ), A variable capacitor is produced (Fig. 14 (d)).

도 15는 제3 실시의 형태의 가변 커패시터의 제조공정의 다른 예(상부가동전극(35)(커패시터부(35b))측에 유전체층(46)을 설치)를 나타내는 단면도이다. 전반의 공정은, 앞서 기술한 제1 실시의 형태의 공정(도 6(a)-도 7(f))과 동일하다. FIG. 15 is a cross-sectional view showing another example of the manufacturing process of the variable capacitor of the third embodiment (the dielectric layer 46 is provided on the upper movable electrode 35 (capacitor portion 35b) side). The process of the first half is the same as the process (FIGS. 6 (a)-7 (f)) of 1st Embodiment mentioned above.

포토리소그래픽기술에 의해, Al2O3를 재료로 하는 유전체층(46)을 하부가동전극(35)위에 패턴 형성한다(도 15(a)). 레지스터 재료 또는 MgO로 된 희생층(41)을 소정 형상으로 형성하고(도 15(b)), 하부가동전극(35)에 대향하는 위치에 소정 형상의 Al로 된 상부가동전극(37)을 형성한다(도 15(c)). 그리고, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)과, 하부가동전극용 액츄에이터(27)와, 상부가동전극용 액츄에이터(29)의 주변의 기판(21)을, 그 배면으로부터 DRIE장치에 의해 에칭하여, 개구(40)를 형성하며(도 15(d)), 최후에, 희생층(41)을 에칭 제거해서, 유전체층(46)과 상부가동전극(37)의 사이에 간극(42)을 확보함으로써, 가변 커패시터를 제작한다(도 15(e)).By photolithographic technology, a dielectric layer 46 made of Al 2 O 3 is patterned on the lower movable electrode 35 (Fig. 15 (a)). A sacrificial layer 41 made of a resistor material or MgO is formed into a predetermined shape (Fig. 15 (b)), and an upper movable electrode 37 made of Al of a predetermined shape is formed at a position opposite to the lower movable electrode 35. (FIG. 15 (c)). Then, the lower movable electrode 35, the upper movable electrode 37, the lower movable electrode actuator 27, and the substrate 21 around the upper movable electrode actuator 29 are moved from the rear surface to the DRIE apparatus. Etching to form an opening 40 (FIG. 15 (d)), and finally, the sacrificial layer 41 is etched away to remove the gap 42 between the dielectric layer 46 and the upper movable electrode 37. FIG. By ensuring that the variable capacitor is produced (Fig. 15 (e)).

또한, 상술한 도 14, 도 15의 제조순서와는 달리, 도 14(b), 도 15(c)의 공정후에, 우선 희생층(41)을 제거하여 간극(42) 확보한 뒤에, 기판(21)을 에칭해서 개구(40)를 형성하도록 해도 된다. 또한, 이 제3 실시의 형태에 있어서도, 앞서 기술한 것과 같이(도 8 참조), 희생층(41)의 재료를 기판(21)과 동일하게 하여, 희생층(41)과 기판(21)을 순번으로 또는 동시에 기판(21)의 배면측으로부터 에칭하도록 해도 된다.Unlike the manufacturing procedure of FIGS. 14 and 15 described above, after the processes of FIGS. 14B and 15C, the sacrificial layer 41 is first removed to secure the gap 42, and then the substrate ( 21 may be etched to form the opening 40. Also in this third embodiment, as described above (see FIG. 8), the material of the sacrificial layer 41 is the same as that of the substrate 21, and the sacrificial layer 41 and the substrate 21 are replaced with each other. You may make it etch from the back side of the board | substrate 21 sequentially or simultaneously.

(제4 실시의 형태) (4th embodiment)

도 17은 제4 실시의 형태를 나타내고 있으며, 도 17(a)는 제4 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 상면도, 도 17(b)는 도 17(a)의 D부에 있어서의 확대도이다. FIG. 17 shows a fourth embodiment, FIG. 17A is a top view of a variable capacitor according to the fourth embodiment, and FIG. 17B is an enlarged view at a portion D of FIG. 17A. It is also.

제4 실시의 형태에 있어서는, 한 쪽의 선로부(35a)가 신호패드(45)에 접속되어 있는 하부가동전극(35)에 있어서, 그 커패시터부(35b)와 다른 쪽의 선로부(35a)가, 전기적으로 분리되어 있다. 즉, 신호패드(45)로부터 봐서 하부가동전극(35)이, 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)이 대향해서 커패시터가 구성되어 있는 부분(커패시터부(35b) 및 커패시터부(37b)의 대향부분)을 지난 곳에서, 전기적으로 둘로 분리되어 있다. 또한, 분리된 선로부(35a)는, 접지전극(44)을 접속해서 그랜드(grand) 전위로 해도 된다.In the fourth embodiment, in the lower movable electrode 35 in which one line portion 35a is connected to the signal pad 45, the other line portion 35a is different from the capacitor portion 35b. Is electrically isolated. That is, the lower movable electrode 35 is viewed from the signal pad 45, and the lower movable electrode 35 and the upper movable electrode 37 face each other to form a capacitor (capacitor portion 35b and capacitor portion 37b). At the opposite side of), it is electrically separated in two. The separated line portion 35a may be connected to the ground electrode 44 to have a grand potential.

제4 실시의 형태에서는, 신호패드(45)로부터 들어온 신호가, 한 쪽의 선로부(35a)를 통해서 커패시터부(35b)를 통과해서 다른 쪽의 선로부(35a)의 신호패드(45)와 반대쪽의 끝에 도착하고, 거기에서 반사되는 것과 같은 일이 없어지고, 이와 같은 반사신호를 제거할 수 있기 때문에, 입력신호의 에너지 손실을 막는 것이 가능하다.In the fourth embodiment, a signal input from the signal pad 45 passes through the capacitor portion 35b through one line portion 35a, and with the signal pad 45 of the other line portion 35a. It is possible to prevent the energy loss of the input signal since it arrives at the opposite end, and there is no such thing as being reflected there, and this reflected signal can be eliminated.

(제5 실시의 형태) (5th embodiment)

도 18은 제5 실시의 형태에 관련하는 가변 커패시터의 상면도이다. 도 18에 있어서, 신호패드(45) 및 접지전극(44)간에 전원회로(48)가 설치되어 있으며, 신호패드(45)(하부가동전극(35)과 접지전극(44)(상부가동전극(37)의 사이에 전압을 인가할 수 있도록 되어 있다. 18 is a top view of a variable capacitor according to the fifth embodiment. In Fig. 18, a power supply circuit 48 is provided between the signal pad 45 and the ground electrode 44, and the signal pad 45 (the lower movable electrode 35 and the ground electrode 44) (the upper movable electrode) A voltage can be applied between 37).

제5 실시의 형태는, 하부가동전극(35)(커패시터부(35b))과 상부가동전극(37)(커패시터부(37b))의 간격을 조정하는 방법에 관한다. 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및/또는 상부가동전극용 액츄에이터(29)를 구동해서, 커패시터부(35b)와 커패시터부(37b)의 간격을 작게 한 후에, 전원회로(48)에 의해 하부가동전극(35)과 상부가동전극(37)의 사이에 전압을 인가하여, 양전극간에 발생하는 정전인력으로 양전극간의 거리를 더더욱 작게 한다.The fifth embodiment relates to a method of adjusting the distance between the lower movable electrode 35 (capacitor portion 35b) and the upper movable electrode 37 (capacitor portion 37b). After driving the lower movable electrode actuator 27 and / or the upper movable electrode actuator 29 to reduce the gap between the capacitor portion 35b and the capacitor portion 37b, the lower movable electrode 48 is operated by the power supply circuit 48. A voltage is applied between the electrode 35 and the upper movable electrode 37 to make the distance between the two electrodes even smaller by the electrostatic force generated between the two electrodes.

이와 같이 제5 실시의 형태에서는, 압전 액츄에이터 구동과 정전 액츄에이터(인력) 구동이라고 하는 2단계의 거리제어를 행하도록 하고 있으며, 양가동전극을 보다 접근시키는 것이 가능하여, 보다 정전용량이 큰 변화를 얻을 수 있게 된다. 압전 액츄에이터에서 양가동전극을 접근시킨 상태에서, 정전인력을 발생시키기 때문에, 큰 정전용량과 용량변화를 얻을 수 있다고 하는 효과를 가져온다. 또한, 압전 액츄에이터에 의해 양가동전극이 접근한 상태에서 정전인력을 발생시키기 때문에, 작은 구동전압으로 큰 정전인력을 발생시킬 수 있다. As described above, in the fifth embodiment, distance control in two stages, namely, piezoelectric actuator driving and electrostatic actuator (human force) driving, is performed. You can get it. Since the electrostatic attraction is generated in the state where the piezoelectric actuator approaches the positive electrode, a large capacitance and a change in capacitance can be obtained. In addition, since the electrostatic attraction is generated in the state where the positive electrode is approached by the piezoelectric actuator, it is possible to generate a large electrostatic attraction with a small driving voltage.

또한, 상술한 예에서는, 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29)가 유니모프형이었으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 도 19(a)에 나타내는 병렬접속형의 바이모프(bimorph), 또는, 도 19(b)에 나타내는 직렬접속형의 바이모프이어도 된다. 도 19(a), 19(b)에 있어서, 중간전극(63)의 상하에 도시하는 화살표방향으로 분극된 압전소자(54a, 54b)가 설치되어 있다. 압전소자(54a)에는 하부가동전극(53)이 설치되며, 압전소자(54b)에는 상부가동전극(55)이 설치되어 있다. 그리고 도시하는 것처럼, 직류전압 V를 인가함으로써, 바이모프는 변형한다. 하부가동전극용 액츄에이터(27) 및 상부가동전극용 액츄에이터(29)를 바이모프형으로 하는 경우에는, 상술한 각 실시의 형태에 있어서 액츄에이터용 하부전극(31)에 접하고 있는 절연층(23)은 필요하지 않다.In addition, in the above-mentioned example, although the lower movable electrode actuator 27 and the upper movable electrode actuator 29 were unimorph type, it is not limited to this. For example, the bimorph of the parallel connection type shown in FIG. 19A, or the bimorph of the series connection type shown in FIG. 19B may be sufficient. 19 (a) and 19 (b), piezoelectric elements 54a and 54b polarized in the direction of the arrow shown above and below the intermediate electrode 63 are provided. The lower movable electrode 53 is provided in the piezoelectric element 54a, and the upper movable electrode 55 is provided in the piezoelectric element 54b. And as shown, the bimorph deforms by applying the DC voltage V. As shown in FIG. When the lower movable electrode actuator 27 and the upper movable electrode actuator 29 are bimorphed, the insulating layer 23 in contact with the lower electrode 31 for the actuator in each of the above-described embodiments is It is not necessary.

본 발명은, 상술한 각 실시의 형태 또는 변형례에 한정되는 것은 아니며, 다른 여러 종류의 실시의 형태 또는 변형례를 포함한다. 예를 들면, 상술한 예에서는, 양가동전극간의 거리, 또는, 가동전극과 유전체층 간의 거리를 작게(정전용량이 커진다) 하도록 압전 액츄에이터를 구동하도록 하였으나, 이와는 반대로, 이들의 거리를 크게(정전용량이 작아진다) 하도록 압전 액츄에이터를 구동하도록 해도된다. 이 경우에는, 유니모프형의 압전 액츄에이터가 변형하는 방향이 역으로 되도록 하면 된다. 또한, 상술한 실시의 형태 또는 변형례에서의 가변커패시터를 세라믹제(製)의 패키지에 수용해도 된다. 이와 같은 경우, 패키지에 설치된 외부접속단자와 기판(21)에 설치된 신호패드(45) 등의 각종 패드를, 와이어 또는 범프 등의 접속부재로 접속한다.This invention is not limited to each embodiment or modification mentioned above, and includes other various types of embodiment or modification. For example, in the above-described example, the piezoelectric actuators are driven to reduce the distance between the positive electrodes or the distance between the movable electrode and the dielectric layer (the capacitance becomes large). The piezoelectric actuator may be driven. In this case, the direction in which the unimorph piezoelectric actuator deforms may be reversed. Moreover, you may accommodate the variable capacitor in embodiment or modification mentioned above in the ceramic package. In such a case, various pads such as an external connection terminal provided in the package and a signal pad 45 provided on the substrate 21 are connected by a connection member such as a wire or bump.

소형의 구성이더라도 정전 용량을 크게 할 수 있는 것과 함께 정전 용량의 변화의 비율을 크게 할 수 있어 정전 용량의 미조정도 가능하며, 게다가 Q값이 높은 가변 커패시터 및 그 제조방법을 제공할 수 있다. 또한, 외부로부터 입력된 신호의 에너지 손실(삽입 손실)을 방지할 수 있는 가변 커패시터 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.Even in a small configuration, the capacitance can be increased, the rate of change in capacitance can be increased, and the capacitance can be fine-tuned, and a variable capacitor having a high Q value and a manufacturing method thereof can be provided. In addition, a variable capacitor capable of preventing energy loss (insertion loss) of a signal input from the outside and a method of manufacturing the same can be provided.

Claims (11)

대향하는 전극이 이동가능한 가변 커패시터에 있어서, 기판과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극과, 상기 가동 전극을 구동하는 복수의 압전 액츄에이터를 구비하며, 상기 가동 전극이 대향해서 커패시터를 구성하고 있으며, 상기 가동 전극과 신호 패드를 도전 접속하고 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터. A variable capacitor capable of moving an opposite electrode, comprising: a substrate, a movable electrode having a first electrode portion and a second electrode portion, and a plurality of piezoelectric actuators for driving the movable electrode, wherein the movable electrode is opposed to the capacitor; And a movable capacitor and a signal pad are electrically connected to each other. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가동 전극은, 상기 제1 전극부와 제2 전극부를 가지고 있으며, 상기 가동 전극을 상하로 배치하고 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.The movable electrode has the first electrode portion and the second electrode portion, and the movable electrode is disposed up and down. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 복수의 압전 액츄에이터 각각은, 구동 전극과, 그 구동 전극간에 설치된 압전 소자를 포함하고 있으며, 상기 구동 전극과 상기 가동 전극과는 별체(別體)인 것을 특징으로 하는 가변 커패시터. Each of the plurality of piezoelectric actuators includes a drive electrode and a piezoelectric element provided between the drive electrodes, and the variable capacitor is separate from the drive electrode and the movable electrode. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 가동 전극의 제1 전극부의 양측에 상기 압전 액츄에이터를 설치하고 있으며, 상기 제1 전극부와 상기 전압 액츄에이터의 구동 전극에 의해 CPW형 선로를 구성하고 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.The piezoelectric actuators are provided on both sides of the first electrode portion of the movable electrode, and the variable capacitor comprises a CPW line formed by the first electrode portion and the drive electrode of the voltage actuator. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 가동 전극의 대향하는 상기 제2 전극부간에 유전체층을 설치하고 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.A variable capacitor, wherein a dielectric layer is provided between the second electrode portions facing the movable electrode. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 가동 전극의 적어도 한 쪽이 접지전극에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.At least one of the movable electrodes is connected to the ground electrode. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 가동 전극의 어느 한쪽의 상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부의 경계부 근방이 전기적으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.The vicinity of the boundary part of the said 1st electrode part and the said 2nd electrode part of the said movable electrode is electrically isolate | separated, The variable capacitor characterized by the above-mentioned. 그 대향 방향이 이동가능한 가동 전극과, 그 가동 전극을 구동하는 복수의 압전 액츄에이터를 구비한 가변 커패시터에 있어서, 상기 가동전극간에 전압을 인가하는 전압인가수단을 구비하고 있으며, 상기 압전 액츄에이터의 구동에서 상기 가동 전극을 접근시킨 상태에서, 상기 전압인가수단에서 상기 가동 전극간에 전압을 인가하도록 구성하고 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터. A variable capacitor having a movable electrode whose opposite direction is movable, and a plurality of piezoelectric actuators for driving the movable electrode, comprising a voltage applying means for applying a voltage between the movable electrodes, wherein the piezoelectric actuator is driven. And the voltage applying means is configured to apply a voltage between the movable electrodes in a state in which the movable electrode is brought close to each other. 전극이, 압전 액츄에이터의 구동에 의해, 이동가능한 가변 커패시터를 제조하는 방법에 있어서, 기판에 복수의 상기 압전 액츄에이터를 형성하는 공정과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극을 상기 기판에 형성하는 공정과, 상기 가동 전극간에 간극을 형성하기 위한 희생층(Sacrificial Layer)을 형성하는 공정과, 상기 희생층을 제거하는 제거공정과, 상기 복수의 상기 압전 액츄에이터의 단부 및 상기 가동 전극의 제1 전극부의 단부를 제외한 부분을 상기 기판으로부터 잘라내는 절리(切離)공정을 가지는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터의 제조방법. A method of manufacturing a variable capacitor in which an electrode is movable by driving a piezoelectric actuator, the method comprising: forming a plurality of the piezoelectric actuators on a substrate, and a movable electrode having a first electrode portion and a second electrode portion on the substrate. Forming a sacrificial layer; forming a sacrificial layer for forming a gap between the movable electrodes; removing the sacrificial layer; and end portions of the plurality of piezoelectric actuators; 1. A manufacturing method of a variable capacitor, comprising a cutting step of cutting off a portion except an end of an electrode portion from the substrate. 전극이, 압전 액츄에이터의 구동에 의해서 이동 가능한 가변 커패시터를 제조하는 방법에 있어서, 기판에 복수의 상기 압전 액츄에이터를 형성하는 공정과, 제1 전극부 및 제2 전극부를 가지는 가동 전극을 상기 기판에 형성하는 공정과, 상기 가동 전극간에 유전체층을 형성하는 공정과, 상기 가동 전극의 어느 한쪽 및 상기 유전체층간에 간극을 형성하기 위한 희생층을 형성하는 공정과, 상기 희생층을 제거하는 제거공정과, 상기 복수의 상기 압전 액츄에이터의 단부 및 상기 가동 전극의 제1 전극부의 단부를 제외한 부분을 상기 기판으로부터 잘라내는 절리공정을 가지는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터의 제조방법. A method of manufacturing a variable capacitor in which an electrode is movable by driving a piezoelectric actuator, the method comprising: forming a plurality of the piezoelectric actuators on a substrate, and forming a movable electrode having a first electrode portion and a second electrode portion on the substrate A step of forming a dielectric layer between the movable electrodes, a step of forming a sacrificial layer for forming a gap between one of the movable electrodes and the dielectric layer, a removing step of removing the sacrificial layer, and the plurality of And a cutting process of cutting off portions of the piezoelectric actuators of the piezoelectric actuator and the end portions of the first electrode portion of the movable electrode from the substrate. 제9항 또는 제10항에 있어서, The method of claim 9 or 10, 상기 제거공정 및 상기 절리공정을 동시적으로 행하는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터의 제조방법.A method of manufacturing a variable capacitor, characterized in that the removal step and the cutting step are performed simultaneously.
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