KR20070018074A - Film optical waveguide and method for manufacture thereof, and electronic instrument device - Google Patents
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Abstract
도 4에 도시하는 바와 같은 기를 포함하는 우레탄 모노머 및 우레탄 올리고머와 중합 개시제와의 혼합물로서, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하가 되는 일래스토머의 전구체를 클래드 재료로서 사용한다. 기판의 위에 이 클래드 재료를 도포하고, 위로부터 스탬퍼로 눌러서 클래드 재료를 얇게 눌러 편다. 이 클래드 재료가 경화하여 하부 클래드층이 형성된 후, 하부 클래드층의 위에 코어를 형성한다. 계속해서, 하부 클래드층의 위에 상기 클래드 재료를 도포하고, 위로부터 스탬퍼로 눌러서 클래드 재료를 얇게 펴고, 이 클래드 재료를 경화시켜서 상부 클래드층을 얻는다. 최후에, 기판을 제거하여 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 얻는다.As a mixture of the urethane monomer containing a group as shown in FIG. 4, a urethane oligomer, and a polymerization initiator, the precursor of the elastomer whose hardening modulus after hardening becomes 1,000 Mpa or less is used as a clad material. This clad material is applied onto the substrate, and the clad material is pressed thinly by pressing it with a stamper from above. After the clad material is cured to form a lower clad layer, a core is formed on the lower clad layer. Subsequently, the cladding material is applied onto the lower cladding layer, pressed from above with a stamper, the cladding material is spread out thinly, and the cladding material is cured to obtain an upper cladding layer. Finally, the substrate is removed to obtain a film optical waveguide that can be bent to a small radius of curvature.
필름 광 도파로, 전자 기기 장치 Film optical waveguide, electronic device device
Description
본 발명은, 필름 광 도파로 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 필름 광 도파로를 이용한 전자 기기 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to a film optical waveguide and its manufacturing method. Moreover, this invention relates to the electronic device apparatus using the said film optical waveguide.
근래에는, 고속이며 대용량의 데이터 통신이 가능한 광통신 기술의 진보가 현저하고, 그 광통신망도 확대를 계속하고 있다. 광통신 기술은, 국토를 횡단하는 장거리 통신이나 지역 내에서의 중거리 통신에도 이용되지만, 통신 거리가 짧은 곳에서는, 기기 내부나 기기 사이에서의 광신호 전송 등에도 이용되고 있다.In recent years, advances in the optical communication technology capable of high-speed and large-capacity data communication have been remarkable, and the optical communication network has continued to expand. Although optical communication technology is used for long-distance communication across a country or medium-distance communication in an area, it is used also for optical signal transmission, etc. in the inside of an apparatus or between apparatuses in a short communication distance.
휴대용 기기나 소형 기기 등에서는, 각종 부품이 조밀하게 배치되어 있기 때문에, 부품 사이의 좁은 간극을 잇도록 하여 배선하여야 한다. 그 때문에, 전기 배선으로서는 플렉시블 프린트 배선 기판이 널리 이용되고 있다. 마찬가지로, 기기 내부나 기기 사이 등의 단거리에서 광신호를 전송하기 위해서는, 플렉시블한 필름 광 도파로가 요망되고 있다. 특히, 휴대용 소형 기기의 내부에 광 도파로를 배선하는 경우에는, 스페이스 절약화를 위해 부품 표면을 기어가도록 하여 배선하는 경우도 많아지고, 작은 곡률 반경으로 굴곡 가능한, 폴리머 필름 광 도파로가 요구되고 있다.In portable apparatuses and small apparatuses, since various components are densely arranged, wiring should be performed with a narrow gap between the components. Therefore, flexible printed wiring boards are widely used as electrical wiring. Similarly, in order to transmit an optical signal in a short distance, such as inside an apparatus or between apparatuses, the flexible film optical waveguide is desired. In particular, in the case of wiring the optical waveguide inside the portable small apparatus, there are many cases where wiring is performed by crawling the surface of the component for space saving, and a polymer film optical waveguide that can be bent at a small curvature radius is required.
한편, 높은 굴곡 성능을 가지며, 변형이 용이한 재료로서는, 일래스토머(elastomer)를 들 수 있다. 일래스토머란, 상온에서 고무 모양 탄성을 갖는 고분자 재료의 총칭으로서, 일반적으로, 고무류와 같이 굽힘 탄성율이 낮은 것을 말한다. 여기서, 일래스토머의 굽힘 탄성율이 낮은 이유에 관해 기술한다. 일래스토머는, 유리 전이 온도가 낮고, 실온에서는, 그 폴리머 분자는 브라운 운동을 일으키고 있다. 즉, 일래스토머는, 유동성을 나타내고 있다. 한편, 일래스토머를 구성하는 폴리머 분자는, 그 분자쇄(分子鎖)끼리가 화학적으로 가교(架橋)되어 있기 때문에, 유동성을 나타내는 것이지만 그 유동성은 부분적이다. 따라서, 일래스토머는, 고체이면서 용이하게 굴곡 가능하다는 고무 모양의 성질을 갖고 있다.On the other hand, as a material having high bending performance and easy deformation, an elastomer may be mentioned. Elastomer is a general term for the polymer material which has rubber elasticity at normal temperature, and generally means that a bending elastic modulus is low like rubber | gum. Here, the reason why the bending elastic modulus of the elastomer is low is described. The elastomer has a low glass transition temperature, and at room temperature, the polymer molecule is causing Brownian motion. That is, the elastomer has shown fluidity. On the other hand, the polymer molecules constituting the elastomer exhibit fluidity because the molecular chains are chemically crosslinked, but the fluidity is partially. Therefore, the elastomer has a rubbery property of being solid and easily bent.
일래스토머는, 그 전구체(前驅體)인 모노머나 올리고머를, 에너지 조사에 의해 경화시킴에 의해 얻어진다. 일래스토머는, 모노머나 올리고머가 친수기 끼리의 수소 결합으로 연결되고 가교하여 있는 것이 많이, 그 전구체도 분자 중에 친수기를 포함하는 것이 많다. 전구체의 혼합물은, 그 친수기끼리가 수소 결합하기 때문에 유동성이 낮아지고, 고점도라는 성질을 나타낸다. 그리고, 이 전구체의 혼합물이, 에너지 조사되어 경화하면, 굽힘 탄성이 작은 고무 모양의 일래스토머가 되는 것이다.Elastomer is obtained by hardening the monomer and oligomer which are its precursor by energy irradiation. Elastomers often have monomers and oligomers linked and crosslinked by hydrogen bonds between hydrophilic groups, and their precursors often contain hydrophilic groups in the molecule. Since the hydrophilic groups are hydrogen-bonded, the mixture of precursors has low fluidity and exhibits the property of high viscosity. And when the mixture of this precursor is irradiated and hardened | cured, it will become a rubber-like elastomer with a small bending elasticity.
따라서, 일래스토머를 사용하면, 작은 곡률 반경으로 굴곡 가능한 필름 광 도파로를 제조할 수 있다고 생각된다. 도 1(a) 내지 도 1(g)는, 종래 제안되어 있는 필름 광 도파로의 제조 방법을 설명하는 개략 단면도이다. 이 제조 방법에서는, 우선 도 1(a)에 도시하는 바와 같이, 기판(11)의 위에 클래드 재료(12)를 적하한 다. 이 클래드 재료(12)는, 저굴절율의 일래스토머의 전구체인 모노머나 올리고머이다. 계속해서, 도 1(b)에 도시하는 바와 같이, 기판(11)의 위의 클래드 재료(12)를 스핀 코터에 의해 얇게 늘리고, 에너지 조사에 의해 클래드 재료(12)를 경화시켜서 하부 클래드층(13)을 얻는다. 이 후, 도 1(c)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(13)의 표면을 패터닝하여 오목홈(14)을 형성하고, 계속해서, 도 1(d)에 도시하는 바와 같이, 오목홈(14) 내에 하부 클래드층(13)보다 굴절율이 높은 코어 재료(15)를 충전시킨다. 이 코어 재료(15)는, 하부 클래드층(13)보다도 굴절율이 높은 폴리머의 전구체인 모노머나 올리고머이다. 이 코어 재료(15)에 에너지를 조사하면, 도 1(e)에 도시하는 바와 같이, 코어 재료(15)가 경화하여 오목홈(14) 내에 하부 클래드층(13)보다도 굴절율이 높은 코어(16)가 형성된다. 계속해서, 도 1(f)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(13) 및 코어(16)의 위에, 하부 클래드층(13)과 같은 클래드 재료(12)(일래스토머의 전구체)를 적하하고, 이것을 스핀 코트에 의해 얇게 편 후, 클래드 재료(12)에 에너지를 조사함에 의해 경화시켜서, 도 1(g)에 도시하는 바와 같이 클래드 재료(12)로 이루어지는 상부 클래드층(17)을 형성하여 필름 광 도파로(18)를 제조한다.Therefore, it is thought that the use of an elastomer can produce a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature. 1 (a) to 1 (g) are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a film optical waveguide that has been proposed in the past. In this manufacturing method, the
작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로로서는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 이와 같은 일래스토머의 전구체에서는, 점도가 1,000cP(=10Pa·s) 정도로 높아지기 때문에, 이러한는 일래스토머를 상부 클래드층(17)이나 하부 클래드층(13)에 사용하는 경우에는, 스핀 코트에 의해 얻어지는 클래드층의 막 두께는 기껏해야 600㎛ 정도까지밖 에 얇게 할 수가 없고, 두께가 1,200㎛ 이하의 얇은 필름 광 도파로를 얻는 것은 곤란하였었다. 그 때문에, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하였다고 하여도, 그 두께 때문에 작은 곡률 반경으로 구부릴 수는 없었다.As a film optical waveguide which can be bent at a small radius of curvature, it is preferable to use an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less. However, in the precursor of such an elastomer, since the viscosity is increased to about 1,000 cP (= 10 Pa · s), this is a spin when the elastomer is used for the
한편, 일래스토머의 전구체의 점도를 작게 하면, 스핀 코트에 의해 얻어지는 클래드층의 막 두께를 얇게 할 수 있다. 그러나, 일래스토머의 전구체의 점도를 작게 하면, 경화 후의 일래스토머(클래드층)의 굽힘 탄성율이 커저서, 결국, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 얻는 것은 곤란하였다.On the other hand, when the viscosity of the precursor of the elastomer is reduced, the film thickness of the clad layer obtained by spin coating can be reduced. However, when the viscosity of the precursor of the elastomer is reduced, the bending elastic modulus of the elastomer (clad layer) after curing is large, and eventually, it is difficult to obtain a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature.
따라서, 스핀 코트법을 이용하는 종래의 필름 광 도파로의 제조 방법에서는, 전구체의 점도가 큰 일래스토머를 사용하면, 클래드층의 막 두께를 얇게 할 수가 없고, 역으로, 전구체의 점도가 작은 일래스토머를 사용하면, 클래드층의 굽힘 탄성율이 커진다. 그 때문에, 어느 쪽으로서도 곡률 반경이 수㎜ 정도의 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제작할 수는 없었다.Therefore, in the conventional method for producing a film optical waveguide using the spin coat method, when the elastomer having a large viscosity of the precursor is used, the film thickness of the cladding layer cannot be reduced, and conversely, the elastomer having a small viscosity of the precursor When the mer is used, the bending elastic modulus of the clad layer becomes large. Therefore, neither of these films could produce a film optical waveguide that can bend to a small radius of curvature of about several millimeters.
이와 같은 제조 방법으로, 굳이 얇은 필름 광 도파로(18)를 얻을려고 하면, 하부 클래드층(13)의 경화 후나 상부 클래드층(17)의 경화 후에, 하부 클래드층(13)이나 상부 클래드층(17)을 연마 등으로 박편으로 하는 방법 밖에 없고, 얇은 필름 광 도파로(18)를 얻기 위해 많은 공정이 필요하게 되어, 생산성에 문제가 있었다.When the thin film
또한, 특허 문헌 1에는, 코어 재료로서 우레탄계 자외선 경화 수지를 사용한 것이 개시되어 있지만, 이 광 도파로에서는 한쪽의 클래드 기판의 두께만이라도 1. 5㎜이기에, 작은 곡률 반경으로 구부리는 것은 기대할 수 없다.Further,
특허 문헌 1 : 일본국 특개평10-90532호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-90532
본 발명은 상기한 바와 같은 기술적 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 점은, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로와 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.This invention is made | formed in view of the technical subject mentioned above, The objective is to provide the film optical waveguide which can be bent by a small curvature radius, and its manufacturing method.
본 발명에 관한 필름 광 도파로는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 하부 클래드층과 상부 클래드층 중 적어도 한쪽의 층이 형성되고, 상부 클래드층과 하부 클래드층의 막 두께의 합이 300㎛ 이하인 것을 특징으로 하고 있다.In the film optical waveguide according to the present invention, at least one of the lower cladding layer and the upper cladding layer is formed by an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less, and the sum of the thicknesses of the upper cladding layer and the lower cladding layer is 300. It is characterized by being less than micrometer.
본 발명의 필름 광 도파로에서는, 상부 클래드층 또는 하부 클래드층의 적어도 한쪽이, 굽힘 탄성율 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성되어 있고, 게다가, 상하부 클래드층의 막 두께의 합이 300㎛ 이하로 얇게 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로를 작은 곡률 반경(예를 들면, 수㎜ 이하)으로 구부리는 것이 가능해진다. 따라서, 휴대용 소형 기기 내 등에서, 필름 광 도파로를 부품의 표면에 따라, 또는, 부품의 간극을 이어서 배선하는 것이 가능해진다.In the film optical waveguide of the present invention, at least one of the upper cladding layer and the lower cladding layer is formed of an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less, and further, the sum of the thicknesses of the upper and lower cladding layers is 300 µm or less. As a result, the film optical waveguide can be bent at a small radius of curvature (for example, several mm or less). Therefore, in a portable small apparatus or the like, it is possible to wire the film optical waveguide along the surface of the component or to connect the gap of the component subsequently.
본 발명의 필름 광 도파로의 어느 실시 양태에서는, 상기 하부 클래드층과 상기 상부 클래드층 사이에, 양 클래드층보다도 굴절율이 높고, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 코어가 형성되어 있어도 좋다. 코어의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성되어 있으면, 코어도 구부러지기 쉽게 되기 때문에, 필름 광 도파로를 보다 작은 곡률 반경으로 구부리는 것이 가능해진다.In one embodiment of the film optical waveguide of the present invention, a core may be formed between the lower clad layer and the upper clad layer by an elastomer having a higher refractive index than both clad layers and a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less. If the bending elastic modulus of the core is formed of an elastomer having 1,000 MPa or less, the core also tends to bend, so that the film optical waveguide can be bent at a smaller radius of curvature.
본 발명의 필름 광 도파로의 다른 실시 양태에서는, 상기 코어의 굽힘 탄성율이 상기 상부 클래드층 및 상기 하부 클래드층의 굽힘 탄성율보다도 크게 되어 있다. 이러한 실시 양태에서는, 코어의 굽힘 탄성율이 상부 클래드층 및 하부 클래드층의 굽힘 탄성율보다도 크게 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로가 늘어나거나 비틀리거나 한 때라도, 코어의 변형을 작게 억제할 수 있어서, 코어를 전반(傳搬)하는 광의 손실을 작게 할 수 있다.In another embodiment of the film optical waveguide of the present invention, the bending elastic modulus of the core is larger than the bending elastic modulus of the upper clad layer and the lower clad layer. In this embodiment, since the bending elastic modulus of the core is larger than the bending elastic modulus of the upper cladding layer and the lower cladding layer, even when the film optical waveguide is stretched or twisted, the deformation of the core can be suppressed to be small, so that the core is propagated in the first half. (I) The loss of light can be made small.
본 발명의 제 1의 필름 광 도파로의 제조 방법은, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 기판에 공급하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 하부 클래드층을 형성하는 공정과, 상기 하부 클래드층의 위에 코어를 형성하는 공정과, 상기 하부 클래드층 및 코어의 위에 상부 클래드층을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하고 있다. 또한, 기판은 하부 클래드층을 성형하기 위한 유리 기판 등으로 한하지 않고, 하부 클래드층을 성형하기 위한 장치의 정반(定盤) 등이라도 좋다. 이 기판은 최후에 필름 광 도파로로부터 제거하는 것이 바람직하다.The manufacturing method of the 1st film optical waveguide of this invention is a process of supplying the board | substrate which supplies the precursor which consists of monomers or oligomers of the elastomer whose bending elastic modulus after hardening is 1,000 Mpa or less, and the stamper to the precursor of the said elastomer. Pressing to apply pressure to the precursor of the elastomer by a stamper to thin the film thickness of the precursor of the elastomer, curing the precursor of the elastomer to form a lower clad layer, and the lower clad And a step of forming a core on the layer, and a step of forming an upper clad layer on the lower clad layer and the core. In addition, the board | substrate is not limited to the glass substrate for shape | molding a lower clad layer, etc., but may be a table of the apparatus for shape | molding a lower clad layer, etc. This substrate is preferably removed last from the film optical waveguide.
굽힘 탄성율 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면, 일래스토머의 전구체의 점도가 비교적 커저서, 일래스토머에 의해 형성된 클래드층의 두께를 얇게 하는 것이 곤란해진다. 그러나, 본 발명의 제 1의 필름 광 도파로의 제조 방법에서는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 하부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.When an elastomer having a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less is used, the viscosity of the precursor of the elastomer is relatively large, making it difficult to reduce the thickness of the cladding layer formed by the elastomer. However, in the manufacturing method of the 1st film optical waveguide of this invention, even if it uses the elastomer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less, a thin film thickness (for example, pressurizing the precursor of an elastomer with a stamper and making it thin) A lower cladding layer of 150 탆 or less) can be obtained. Therefore, according to this invention, the bending cladding modulus is 1,000 Mpa or less, and a thin lower clad layer can be obtained, and the film optical waveguide which can be bent by a small curvature radius can be manufactured.
본 발명의 제 2의 필름 광 도파로의 제조 방법은, 하부 클래드층을 형성하는 공정과, 상기 하부 클래드층의 위에 코어를 형성하는 공정과, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 상기 하부 클래드층 및 상기 코어의 위에 공급하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 상부 클래드층을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.The manufacturing method of the 2nd film optical waveguide of this invention is a monomer of the elastomer of which the process of forming a lower clad layer, the process of forming a core on the said lower clad layer, and the bending elastic modulus after hardening are 1,000 Mpa or less. Or supplying a precursor made of an oligomer onto the lower clad layer and the core, pressing a stamper against the precursor of the elastomer, and applying a pressure to the precursor of the elastomer by a stamper to obtain a precursor of the elastomer. It is characterized by including the process of thinning a film thickness, and the process of hardening | curing the precursor of the said elastomer and forming an upper cladding layer.
본 발명의 제 2의 필름 광 도파로의 제조 방법에서는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.In the manufacturing method of the 2nd film optical waveguide of this invention, although using the elastomer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less, the thin film thickness (for example, 150 micrometers) is carried out by pressing the stamper of an elastomer with a stamper and making it thin. The upper cladding layer of the following film thickness can be obtained. Therefore, according to this invention, the upper cladding layer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less and a thin thickness can be obtained, and the film optical waveguide which can be bent by a small curvature radius can be manufactured.
본 발명의 제 3의 필름 광 도파로의 제조 방법은, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 제 1의 기판에 공급하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 상기 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 하부 클래드층을 형성하는 공정과, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 제 2의 기판에 공급하는 공정과, 제 2의 기판에 공급된 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 상기 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 제 2의 기판에 공급된 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 상부 클래드층을 형성하는 공정과, 상기 하부 클래드층 또는 상기 상부 클래드층에 형성된 코어를 끼워넣도록 하여, 상기 하부 클래드층과 상기 상부 클래드층을 접합하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하고 있다. 또한, 기판은 상부 클래드층이나 하부 클래드층을 성형하기 위한 유리 기판 등으로 한하지 않고, 상부 클래드층이나 하부 클래드층을 성형하기 위한 장치의 정반 등이라도 좋다. 이 기판은 최후에 필름 광 도파로로부터 제거하는 것이 바람직하다.The manufacturing method of the 3rd film optical waveguide of this invention is a process of supplying the precursor which consists of monomers or oligomers of the elastomer whose bending elastic modulus after hardening is 1,000 Mpa or less to a 1st board | substrate, and the precursor of the said elastomer Pressing the stamper to apply pressure to the precursor of the elastomer by the stamper to reduce the film thickness of the precursor of the elastomer; and curing the precursor of the elastomer to form the lower cladding layer; The step of supplying a precursor comprising a monomer or an oligomer of an elastomer having a bending elastic modulus after curing of 1,000 MPa or less to a second substrate, and pressing a stamper against the precursor of the elastomer supplied to the second substrate, Applying a pressure to the precursor of the elastomer by the stamper to reduce the film thickness of the precursor of the elastomer; Curing the precursor of the elastomer supplied to the plate to form an upper cladding layer, and inserting the lower cladding layer or a core formed in the upper cladding layer to form the lower cladding layer and the upper cladding layer. It is characterized by including the step of joining. The substrate is not limited to a glass substrate for forming an upper clad layer or a lower clad layer, but may be a surface plate of an apparatus for forming an upper clad layer or a lower clad layer. This substrate is preferably removed last from the film optical waveguide.
본 발명의 제 3의 필름 광 도파로의 제조 방법에서는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.In the manufacturing method of the 3rd film optical waveguide of this invention, even if it uses the elastomer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less, a thin film thickness (for example, 150 micrometers) is carried out by pressurizing and thinning the precursor of an elastomer with a stamper. The upper cladding layer and the lower cladding layer of the following film thickness) can be obtained. Therefore, according to the present invention, an upper cladding layer and a lower cladding layer having a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less and a thin thickness can be obtained, whereby a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature can be produced.
또한, 상부 클래드층이나 하부 클래드층을 성형할 때에는, 스탬퍼로부터의 압력에 의해 발생하는 내부 응력에 의해 상부 클래드층이나 하부 클래드층에 휘어짐이 발생하지만, 제 3의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 스탬퍼로 가압하여 상부 클래드층과 하부 클래드층을 각각 성형한 후, 상부 클래드층을 상하 반전시켜서 하부 클래드층의 위에 접합하고 있기 때문에, 상부 클래드층과 하부 클래드층의 휘어짐을 상쇄하여, 필름 광 도파로에 휘어짐이 발생하는 것을 억제할 수 있다.Further, when forming the upper clad layer or the lower clad layer, warpage occurs in the upper clad layer or the lower clad layer due to the internal stress generated by the pressure from the stamper, but according to the method of manufacturing the third film optical waveguide After pressing with a stamper to form the upper clad layer and the lower clad layer, respectively, the upper clad layer is inverted up and down to be bonded on the lower clad layer, so that the warpage of the upper clad layer and the lower clad layer is canceled, and the film light is offset. The occurrence of warpage in the waveguide can be suppressed.
본 발명의 제 4의 필름 광 도파로의 제조 방법은, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 제 1의 기판에 공급하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 상기 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 하부 클래드층을 형성하는 공정과, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머의, 모노머 또는 올리고머로 이루어지는 전구체를 제 2의 기판에 공급하는 공정과, 제 2의 기판에 공급된 상기 일래스토머의 전구체에 스탬퍼를 눌러대어서, 상기 스탬퍼에 의해 일래스토머의 전구체에 압력을 가하여 일래스토머의 전구체의 막 두께를 얇게 하는 공정과, 제 2의 기판에 공급된 상기 일래스토머의 전구체를 경화시켜서 상부 클래드층을 형성하는 공정과, 상기 하부 클래드층과 상기 상부 클래드층을 코어 재료로 접합함과 함께, 상기 하부 클래드층과 상기 상부 클래드층 사이에 상기 코어 재료에 의해 코어를 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.The manufacturing method of the 4th film optical waveguide of this invention is a process of supplying the precursor which consists of monomers or oligomers of the elastomer whose bending elastic modulus after hardening is 1,000 Mpa or less to a 1st board | substrate, and the precursor of the said elastomer Pressing the stamper to apply pressure to the precursor of the elastomer by the stamper to reduce the film thickness of the precursor of the elastomer; and curing the precursor of the elastomer to form the lower cladding layer; The step of supplying a precursor comprising a monomer or oligomer of an elastomer having a bending modulus of elasticity of 1,000 MPa or less to a second substrate, and pressing a stamper against the precursor of the elastomer supplied to the second substrate, Applying a pressure to the precursor of the elastomer by the stamper to reduce the film thickness of the precursor of the elastomer; Curing the precursor of the elastomer supplied to the plate to form an upper cladding layer; bonding the lower cladding layer and the upper cladding layer with a core material, and between the lower cladding layer and the upper cladding layer And a step of forming a core by the core material.
본 발명의 제 4의 필름 광 도파로의 제조 방법에서는, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.In the manufacturing method of the fourth film optical waveguide of the present invention, a thin film thickness (for example, 150 µm) is obtained by pressing the stamper of the elastomer with a stamper and making it thin while using an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less. The upper cladding layer and the lower cladding layer of the following film thickness) can be obtained. Therefore, according to the present invention, an upper cladding layer and a lower cladding layer having a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less and a thin thickness can be obtained, whereby a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature can be produced.
또한, 제 4의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 하부 클래드층과 상부 클래드층을 코어 재료로 접합함에 의해, 동시에, 코어 재료에 의해 코어를 성형하고 있기 때문에, 코어 재료에 의한 코어의 성형과, 코어 재료에 의한 상하부 클래드층의 접합 작업을 한번에 행할 수 있어서, 필름 광 도파로의 제조 공정을 줄이고, 제조 공정을 합리화할 수 있다.In addition, according to the fourth film optical waveguide manufacturing method, since the lower cladding layer and the upper cladding layer are bonded to the core material and the core is formed from the core material, the core material is formed from the core material. The bonding operation of the upper and lower cladding layers by the core material can be performed at once, so that the manufacturing process of the film optical waveguide can be reduced and the manufacturing process can be streamlined.
본 발명에 관한 필름 광 도파로 모듈은, 본 발명에 관한 필름 광 도파로와 투광소자 또는 수광 소자를 광학적으로 결합하도록 배치하여 일체화시킨 것을 특징으로 하고 있다.The film optical waveguide module according to the present invention is characterized in that the film optical waveguide and the light transmitting element or the light receiving element according to the present invention are arranged and integrated to each other.
본 발명에 관한 필름 광 도파로 모듈에 의하면, 광 도파로 부분의 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로 모듈을 얻을 수 있기 때문에, 이러한 필름 광 도파로 모듈을, 힌지부와 같은 회동 부분을 갖는 장치 내에 조립한 경우, 회동 부분을 반복하여 회동시키켜도 광 도파로 부분이 파손되기 어렵게 되어, 해당 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the film optical waveguide module according to the present invention, since the film optical waveguide module having a thin thickness of the optical waveguide portion and excellent in bending performance can be obtained, such a film optical waveguide module is assembled into an apparatus having a rotating portion such as a hinge portion. In one case, even if the rotating portion is repeatedly rotated, the optical waveguide portion is less likely to be damaged, and the durability of the apparatus can be improved.
본 발명에 관한 제 1의 전자 기기 장치는, 회동 부분에 의해 한쪽의 부재와 다른쪽의 부재를 회동 자유롭게 연결된 절첩식(折疊式)의 전자 기기 장치에 있어서, 상기 회동 부분을 통과시켜서 한쪽의 부재와 다른쪽의 부재 사이에 본 발명에 관한 필름 광 도파로를 배선한 것을 특징으로 하고 있다.The 1st electronic device apparatus which concerns on this invention is a folding electronic device which connected one member and the other member by the rotation part freely, WHEREIN: One member is made to pass the said rotation part. And the film optical waveguide according to the present invention are wired between the other member and the other member.
본 발명에 관한 전자 기기 장치에 의하면, 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로를 얻을 수 있기 때문에, 이러한 광 도파로 장치를, 힌지부와 같은 회동 부분을 갖는 전자 기기 장치에 이용한 경우, 회동 부분을 반복하여 회동시켜도 필름 광 도파로가 파손되기 어렵게 되어, 전자 기기 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the electronic device device according to the present invention, since the film optical waveguide having a thin thickness and excellent in bending performance can be obtained, when such an optical waveguide device is used in an electronic device device having a rotating part such as a hinge part, the rotating part is used. Even if it rotates repeatedly, a film optical waveguide becomes difficult to be damaged and the durability of an electronic device apparatus can be improved.
본 발명에 관한 제 2의 광 도파로 장치는, 기기 본체에 이동부를 구비한 전자 기기 장치에 있어서, 상기 이동부와 상기 기기 본체를 청구항 제 1항 또는 제 2항에 기재된 필름 광 도파로에 의해 광학적으로 결합시킨 것을 특징으로 하고 있다.A second optical waveguide device according to the present invention is an electronic device device including a moving part in an apparatus main body, wherein the moving part and the apparatus main body are optically formed by the film optical waveguide according to
본 발명에 관한 필름 광 도파로에 의하면, 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로를 얻을 수 있기 때문에, 이러한 광 도파로 장치를, 이동부를 갖는 전자 기기 장치에 이용한 경우, 이동부의 움직임에 수반하여 필름 광 도파로가 반복 변형시켜저도 파손되기 어렵게 되어, 전자 기기 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the film optical waveguide according to the present invention, since the film optical waveguide having a thin thickness and excellent in bending performance can be obtained, when such an optical waveguide device is used in an electronic device device having a moving part, the film optical wave is accompanied by the movement of the moving part. Even if the waveguide is repeatedly deformed, the waveguide is hardly damaged, and the durability of the electronic device device can be improved.
또한, 본 발명의 이상 설명한 구성요소는, 가능한 한 임의로 조합시킬 수 있다.In addition, the component demonstrated above of this invention can be combined arbitrarily as much as possible.
도 1(a) 내지 도 1(g)는 종래예에 의한 필름 광 도파로의 제조 방법을 설명하는 개략 단면도.1 (a) to 1 (g) are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a film optical waveguide according to a conventional example.
도 2(a) 내지 도 2(d)는 본 발명의 실시예 1에 의한 필름 광 도파로의 제조 공정을 순차로 설명한 개략 단면도.2 (a) to 2 (d) are schematic cross-sectional views sequentially illustrating the manufacturing steps of the film optical waveguide according to Example 1 of the present invention.
도 3(a) 내지 도 3(e)는 도 2(a) 내지 도 2(d)의 후에 계속되는 공정을 설명한 개략 단면도.3 (a) to 3 (e) are schematic cross-sectional views illustrating a process following the steps shown in Figs. 2 (a) to 2 (d).
도 4는 클래드 재료에 사용되고 있는 일래스토머의 전구체의 모노머 및 올리고머에 포함되는 기의 일부를 표시하는 화학식.4 is a chemical formula showing some of the groups included in the monomers and oligomers of the precursors of the elastomers used in the clad material.
도 5(a) 내지 도 5(d)는 본 발명의 실시예 2에서의 상부 클래드층의 제조 공정을 도시하는 개략 단면도.5 (a) to 5 (d) are schematic cross-sectional views showing the manufacturing process of the upper clad layer in Example 2 of the present invention.
도 6(a) 내지 도 6(e)는 본 발명의 실시예 2에서, 기판의 위에 형성된 하부 클래드층과, 다른 기판의 위에 형성된 상부 클래드층을 적층하여 필름 광 도파로를 제조하는 공정을 설명하는 개략 단면도.6 (a) to 6 (e) illustrate a process of manufacturing a film optical waveguide by laminating a lower clad layer formed on a substrate and an upper clad layer formed on another substrate in Example 2 of the present invention. Outline section.
도 7(a) 내지 도 7(e)는 본 발명의 실시예 3에서, 기판의 위에 형성된 하부 클래드층과, 다른 기판의 위에 형성된 상부 클래드층을 적층하여 필름 광 도파로를 제조하는 공정을 설명하는 개략 단면도.7 (a) to 7 (e) illustrate a process of manufacturing a film optical waveguide by laminating a lower clad layer formed on a substrate and an upper clad layer formed on another substrate in Example 3 of the present invention. Outline section.
도 8은 본 발명의 변형예를 설명하는 개략 단면도.8 is a schematic cross-sectional view illustrating a modification of the present invention.
도 9는 본 발명의 실시예 4에 의한 편방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈을 도시하는 평면도.Fig. 9 is a plan view showing a film optical waveguide module for unidirectional communication according to a fourth embodiment of the present invention.
도 10은 도 9에 도시한 필름 광 도파로 모듈의 일부를 확대하여 도시하는 개략 단면도.10 is a schematic cross-sectional view showing a part of the film optical waveguide module shown in FIG. 9 in an enlarged manner.
도 11(a)는 인장력에 의해 코어가 변형한 필름 광 도파로를 모식적으로 도시한 도면, 도 11(b)는 인장력에 의한 코어의 변형이 작아진 필름 광 도파로를 모식적으로 도시한 도면.Fig. 11A is a diagram schematically showing a film optical waveguide in which a core is deformed by a tensile force, and Fig. 11B is a diagram schematically showing a film optical waveguide in which a core is deformed by a tensile force.
도 12는 본 발명의 실시예 4에 의한 쌍방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈을 도시하는 평면도.Fig. 12 is a plan view showing a film optical waveguide module for bidirectional communication according to a fourth embodiment of the present invention.
도 13은 본 발명의 실시예 5인 휴대 전화기의 사시도.Fig. 13 is a perspective view of a mobile phone according to the fifth embodiment of the present invention.
도 14는 동상의 휴대 전화기의 회로 구성을 도시하는 개략도.Fig. 14 is a schematic diagram showing the circuit configuration of a cellular phone in phase.
도 15는 동상의 휴대 전화기의 표시부측과 조작부측을 필름 광 도파로로 연결하고 있는 양상을 모식적으로 도시한 사시도.Fig. 15 is a perspective view schematically showing a mode in which the display unit side and the operation unit side of the in-phase mobile phone are connected with a film optical waveguide.
도 16은 본 발명의 실시예 5에 의한 다른 휴대 전화기의 구조를 도시하는 개략도.Fig. 16 is a schematic diagram showing the structure of another mobile telephone according to the fifth embodiment of the present invention.
도 17(a)는 휴대 전화기 내의 필름 광 도파로가 비틀려 있는 양상을 도시하는 도면, 도 17(b)는 도17(a)의 X-X선에 따른 단면을 확대하여 도시하는 도면.Fig. 17 (a) is a diagram showing an aspect where the film optical waveguide in the mobile phone is twisted, and Fig. 17 (b) is an enlarged view showing a cross section taken along the line X-X in Fig. 17 (a).
도 18은 필름 광 도파로의 비틀린 영역의 길이(αW)를 도시하는 설명도.18 is an explanatory diagram showing a length αW of a twisted region of a film optical waveguide;
도 19는 필름 광 도파로의 폭에 대한 비틀린 영역의 길이의 비(α)와, 요구되는 탄성률의 한계치와의 관계를 도시하는 도면.FIG. 19 shows the relationship between the ratio α of the length of the twisted region to the width of the film optical waveguide and the required limit of elastic modulus.
도 20(a) 및 도 20(b)는 본 발명의 실시예 5에 의한 또다른 휴대 전화기의 구조를 도시하는 개략도로서, 도 20(a)는 2개로 절첩된 상태를 도시하는 도면, 도 20(b)는 펴진 상태를 도시하는 도면.20 (a) and 20 (b) are schematic diagrams showing the structure of another cellular phone according to the fifth embodiment of the present invention, and FIG. 20 (a) shows a state in which two folded states are shown. (b) is a figure which shows the expanded state.
도 21은 본 발명의 실시예 6인 프린터의 사시도.Fig. 21 is a perspective view of the printer according to the sixth embodiment of the present invention.
도 22는 동상의 프린터의 회로 구성을 도시하는 개략도.Fig. 22 is a schematic diagram showing the circuit configuration of a printer in phase.
도 23(a) 및 도 23(b)는 프린터의 인자 헤드가 이동한 때의 필름 광 도파로가 변형하는 양상을 도시하는 사시도.23A and 23B are perspective views showing aspects in which the film optical waveguide deforms when the print head of the printer moves.
도 24는 본 발명의 실시예 7인, 하드디스크 장치의 사시도.24 is a perspective view of a hard disk device according to a seventh embodiment of the present invention.
도 25는 전자 회로 기판에의 필름 광 도파로의 접속 형태의 한 예를 도시하는 도면.25 is a diagram illustrating an example of a connection form of a film optical waveguide to an electronic circuit board.
도 26은 전자 회로 기판에의 필름 광 도파로의 접속 형태의 다른 예를 도시하는 도면.It is a figure which shows another example of the connection form of the film optical waveguide to an electronic circuit board.
도 27은 전자 회로 기판에의 필름 광 도파로의 접속 형태의 또다른 예를 도시하는 도면.FIG. 27 is a diagram showing another example of a connection form of a film optical waveguide to an electronic circuit board. FIG.
도 28은 본 발명에 관한 필름 광 도파로의 다른 사용 방법을 도시하는 사시도.Fig. 28 is a perspective view showing another method of using the film optical waveguide according to the present invention.
도 29는 본 발명에 관한 필름 광 도파로와 플렉시블 프린트 배선 기판을 맞겹친 플렉시블 복합 전송로를 도시하는 측면도.It is a side view which shows the flexible composite transmission path which overlapped the film optical waveguide and flexible printed wiring board which concerns on this invention.
(부호의 설명)(Explanation of the sign)
21 : 기판21: substrate
22 : 클래드 재료22: cladding material
23 : 스탬퍼23: stamper
24 : 볼록형 패턴24: convex pattern
25 : 오목홈25: concave groove
26 : 하부 클래드층26: lower clad layer
27 : 코어 재료27: core material
28 : 코어28: core
29 : 스탬퍼29: stamper
30 : 상부 클래드층30: upper cladding layer
31 : 필름 광 도파로31: film optical waveguide
32 : 기판32: substrate
33 : 스탬퍼33: stamper
34 : 접착 수지34: adhesive resin
35 : 필름 광 도파로35: film optical waveguide
36 : 필름 광 도파로36: film optical waveguide
37 : 스탬퍼37: stamper
51 : 필름 광 도파로51: film optical waveguide
이하, 본 발명의 실시예를 도면에 따라 상세히 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예로 한정되는 것이 아님은 물론이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, of course, this invention is not limited to the following example.
[실시예 1]Example 1
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예 1에 의한 필름 광 도파로의 제조 방법을 설명하는 개략 단면도이다. 본 발명에 관한 필름 광 도파로의 제조에서는, 우선 유리 기판 등의 투광성을 갖는 평탄한 기판(21)을 준비한다. 이 기판(21)의 위에는, 도 2(a)에 도시하는 바와 같이, 클래드 재료(22)가 도포된다. 이 실시예 1에서 사용하는 클래드 재료(22)는, 도 4에 도시하는 바와 같은 기(基)를 포함하는 우레탄 모노머 및 우레탄 올리고머와, 중합 개시제와의 혼합물로서, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하가 되는 일래스토머의 전구체이다. 또한, 이 클래드 재료(22)는, 자외선 경화형으로 되어 있다.2 and 3 are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a film optical waveguide according to Example 1 of the present invention. In manufacture of the film optical waveguide which concerns on this invention, the
계속해서, 도 2(b)에 도시하는 바와 같이, 스탬퍼(성형틀)(23)를 위로부터 클래드 재료(22)에 눌러대어서, 스탬퍼(23)에 압력을 걸어 기판(21)과 스탬퍼(23) 사이에 클래드 재료(22)를 얇게 펴서, 클래드 재료(22)의 막 두께를 얇게 한다. 스탬퍼(23)의 하면에는, 하부 클래드층에 홈을 형성하기 위한 볼록형 패턴(24)이 형성되어 있기 때문에, 스탬퍼(23)에 의해 가압되어 있는 클래드 재료(22)의 상면에는, 오목홈(25)이 생긴다. 그리고, 도 2(c)에 도시하는 바와 같이, 기판(21)을 통과하여 하면에서부터 클래드 재료(22)에 자외선 에너지를 조사하여 클래드 재료(22)를 경화시킨다.Subsequently, as shown in FIG. 2 (b), the stamper (molding die) 23 is pressed against the
클래드 재료(22)가 경화하여 하부 클래드층(26)이 성형되면, 도 2(d)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(26)으로부터 스탬퍼(23)를 분리시킨다. 스탬퍼(23)를 분리하면, 하부 클래드층(26)의 상면에는, 볼록형 패턴(24)에 의해 오목홈(25)이 성형되어 있다.When the
계속해서, 도 3(a)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(26)의 오목홈(25) 내에 코어 재료(27)를 충전시킨다. 이 코어 재료(27)는, 하부 클래드층(26)보다 굴절율이 높은 폴리머의 전구체인 모노머나 올리고머로 이루어지는 것으로서, 자외선 경화형의 폴리머의 전구체이다. 물론, 이 코어 재료로서는, 하부 클래드층(26)보다도 굴절율이 높고, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하가 되는 일래스토머의 전구체를 사용하여도 좋다. 오목홈(25)에 코어 재료(27)를 충전하고, 적절한 방법에 의해 코어 재료(27)의 표면을 평활에 고른 후, 도 3(b)에 도시하는 바와 같이, 코어 재료(27)에 자외선 에너지를 조사하여 코어 재료(27)를 경화시켜서, 코어 재료(27)에 의해 코어(28)를 오목홈(25) 내에 성형한다.Subsequently, as shown in FIG. 3A, the
이 후, 도 3(c)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(26) 및 코어(28)의 위에, 하부 클래드층(26)의 경우에 사용한 것과 같은 클래드 재료(22)를 도포하고, 도 3(d)에 도시하는 바와 같이, 클래드 재료(22)의 위로부터 스탬퍼(29)를 눌러대어서 압력을 가하여 클래드 재료(22)의 막 두께를 얇게 한다. 계속해서, 클래드 재료(22)에 자외선 에너지를 조사함에 의해 클래드 재료(22)를 경화시켜서 상부 클래드층(30)을 성형한다. 그리고, 스탬퍼(29)를 상부 클래드층(30)으로부터 분리함과 함께, 기판(21)을 하부 클래드층(26)으로부터 벗겨서 필름화 하여, 도 3(e)와 같은 필름 광 도파로(31)를 얻는다.After that, as shown in FIG. 3C, the same
클래드층의 막 두께를 얇게 하기 위해서는, 클래드 재료(22)의 점도는 낮은 쪽이 바람직하다. 그러나, 이 필름 광 도파로(31)에서는, 하부 클래드층(26)이나 상부 클래드층(30)의 굽힘 탄성율이 1,000MPa로 작기 때문에, 그 일래스토머의 전 구체의 점도가 높아진다. 그러나, 실시예 1에서는, 스탬퍼(23)로 클래드 재료(22)를 눌러서 가압하고 있기 때문에, 클래드 재료(22)의 막 두께를 강제적으로 얇게 펼 수 있고, 점도가 30,000cP 정도 있어도 막 두께를 150㎛ 이하로 할 수 있다. 따라서, 필름 광 도파로(31)의 두께는, 300㎛ 이하가 되고, 필름 광 도파로(31)를 작은 곡률 반경으로 구부리는 것이 가능해진다.In order to reduce the thickness of the cladding layer, it is preferable that the viscosity of the
실제로, 굽힘 탄성율이 1,000MPa의 일래스토머를 사용한 실시예 1의 필름 광 도파로(31)에서는, 전구체의 점도가 30,000cP 이하인 일래스토머를 사용한 경우에도, 필름 광 도파로(31)의 두께는 250㎜ 정도로 얇게 할 수가 있었다. 이 결과, 필름 광 도파로(31)를 그 두께 방향으로 구부린 경우의 최소 곡률 반경은, 3㎜ 정도가 되었다. 그리고, 이보다도 작은 곡률 반경이 되도록 구부리면, 필름 광 도파로는 절곡되었다.In fact, in the film
또한, 굽힘 탄성율이 500MPa 이하인 일래스토머를 사용한 경우에는, 얻어진 필름 광 도파로는, 곡률 반경이 2㎜ 정도가 될 때까지 굴곡시킬 수가 있었다. 또한, 굽힘 탄성율이 200MPa 이하인 일래스토머를 사용한 경우에는, 얻어진 필름 광 도파로는, 곡률 반경이 1㎜ 정도가 될 때까지 굴곡시킬 수 있었다.In addition, when the elastomer with bending elastic modulus was 500 Mpa or less, the obtained film optical waveguide was able to bend until the curvature radius became about 2 mm. Moreover, when the elastomer with bending elastic modulus was 200 Mpa or less, the obtained film optical waveguide was able to be bent until the radius of curvature became about 1 mm.
또한, 상기 실시예 1에서는, 기판(21)의 위에 공급된 클래드 재료(22)나 하부 클래드층(26)의 위에 공급된 클래드 재료(22)를, 곧바로 스탬퍼(23, 29)로 가압하였지만, 공급된 클래드 재료(22)를 스핀 코터에 의해 얇게 한 후에 스탬퍼(23, 29)로 눌러서 얇게 하여도 좋다. 스핀 코터를 병용하면, 상하부 클래드층(30, 26)의 두께를 보다 얇게 할 수 있기 때문에, 필름 광 도파로의 최소 굽힘 곡률을 보다 작게 할 수 있다.In addition, in the said Example 1, although the
또한, 상기 실시예 1에서는, 상부 클래드층(30)과 하부 클래드층(26)의 쌍방을 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성하였지만, 상부 클래드층(30)과 하부 클래드층(26)중 어느 한쪽만을 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성하여도 좋다. 그 경우, 일래스토머를 사용하지 않은 측의 클래드층은, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 변성 아크릴레이트 수지 등을 이용할 수 있다.In addition, in Example 1, although both the
[실시예 2]Example 2
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예 2에 의한 필름 광 도파로의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 도 6(a)에 도시하는 하부 클래드층(26)은, 실시예 1의 도 2(a) 내지 도 3(b)와 동일한 공정에 의해, 기판(21)의 위에 제작된 하부 클래드층(26)이고, 그 상면에는 코어(28)가 형성되어 있다.5 and 6 are views for explaining a method for manufacturing a film optical waveguide according to Example 2 of the present invention. The lower
도 6(b)에 도시하는 상부 클래드층(30)은, 도 5(a) 내지 도 5(d)에 도시하는 공정에 의해, 기판(32)의 위에 제작된 것이다. 즉, 유리 기판 등의 투광성을 갖는 평탄한 기판(32)의 위에, 도 5(a)에 도시하는 바와 같이, 클래드 재료(22)를 도포한다. 이 클래드 재료(22)는, 도 4에 도시하는 바와 같은 기를 포함하는 우레탄 모노머 및 우레탄 올리고머와, 중합 개시제와의 혼합물로서, 경화 후의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하가 되는 일래스토머의 전구체이다. 계속해서, 도 5(b)에 도시하는 바와 같이, 평판 형상의 스탬퍼(33)를 클래드 재료(22)에 눌러대어서, 스탬퍼(33)에 압력을 걸어 기판(32)과 스탬퍼(33) 사이에 클래드 재료(22)를 얇게 펴서 막 두 께를 얇게 한다. 그리고, 도 5(c)에 도시하는 바와 같이, 기판(32)을 통과하여 클래드 재료(22)에 자외선 에너지를 조사하여 클래드 재료(22)를 경화시킨다. 클래드 재료(22)가 경화하여 상부 클래드층(30)이 성형되면, 도 2(d)에 도시하는 바와 같이, 상부 클래드층(30)으로부터 스탬퍼(33)를 분리시킨다. 스탬퍼(33)를 분리하면, 기판(32)의 위에는, 상면이 평탄한 상부 클래드층(30)이 성형된다.The upper clad
이 후, 도 6(c)에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(26) 및 코어(28)의 위에, 코어 재료(27)보다도 굴절율이 낮은 폴리머의 전구체인 모노머나 올리고머로 이루어지는 자외선 경화형의 접착 수지(34)를 도포하고, 기판(32)과 함께 상부 클래드층(30)을 상하 반전시켜서 접착 수지(34)의 위에 겹치고, 하부 클래드층(26)과 상부 클래드층(30)의 사이에 접착 수지(34)를 끼워넣어서 얇게 눌러 편다.Subsequently, as shown in FIG. 6 (c), the UV curable adhesive comprising a monomer or oligomer, which is a precursor of a polymer having a lower refractive index than the
계속해서, 도 6(d)에 도시하는 바와 같이, 기판(21 또는 32)를 통과하여 접착 수지(34)에 자외선 에너지를 조사하고, 접착 수지(34)를 경화시키고, 접착 수지(34)에 의해 상부 클래드층(30)과 하부 클래드층(26)을 접합시킨다. 최후에, 표면과 이면의 기판(32, 21)을 각각 상부 클래드층(30), 하부 클래드층(26)으로부터 벗겨서 필름화 하여, 도 6(e)와 같은 필름 광 도파로(35)를 얻는다.Subsequently, as shown in FIG. 6 (d), ultraviolet ray energy is irradiated to the
스탬퍼로 가압하여 막 두께를 얇게 한 도 6(a)와 같은 하부 클래드층(26)이나, 도 6(b)와 같은 상부 클래드층(30)에서는, 압력이 항상 동일 방향으로부터 작용하기 때문에, 각각 도 6(a) 및 도6(b)에 화살표로 도시하는 바와 같은 내부 응력(또는 잔류 모멘트)이 발생한다. 그 때문에, 하부 클래드층(26) 및 상부 클래드층(30)에는, 도 6(a) 및 도6(b)의 상면측으로 오목하게 되는 방향으로 휘어짐이 발 생한다. 이 하부 클래드층(26)과 상부 클래드층(30)을, 도 6(c)에 도시하는 바와 같이 상부 클래드층(30)을 상하 반전시켜서 접합하면, 상부 클래드층(30)에 발생하고 있는 내부 응력과 하부 클래드층(26)의 내부 응력이 서로 상쇄되기 때문에, 접합체인 필름 광 도파로(35)에 휘어짐이 발생하기 어렵게 된다.In the
[실시예 3]Example 3
도 7은 본 발명의 실시예 3에 의한 필름 광 도파로의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 도 7(a)에 도시하는 하부 클래드층(26)은, 실시예 1의 도 2(a) 내지 도 2(d)와 동일한 공정에 의해, 기판(21)의 위에 제작된 하부 클래드층(26)으로서, 그 상면에는 오목홈(25)이 형성되어 있다. 도 7(b)에 도시하는 상부 클래드층(30)은, 실시예 2의 도 5(a) 내지 도 5(d)와 동일한 공정에 의해, 기판(32)의 위에 제작된 상부 클래드층(30)이다.It is a figure explaining the manufacturing method of the film optical waveguide by Example 3 of this invention. The lower
실시예 3에서는, 도 7(c)에 도시하는 바와 같이, 도 7(a)의 하부 클래드층(26)의 상면의 오목홈(25)의 영역에 코어 재료(27)를 도포한다. 이 코어 재료(27)는, 하부 클래드층(26) 및 상부 클래드층(30)보다도 굴절율이 높은 폴리머의 전구체인 모노머나 올리고머로서, 자외선 경화형 수지로 되어 있다. 계속해서, 기판(32)과 함께 상부 클래드층(30)을 상하 반전시켜서 코어 재료(27)의 위에 겹치고, 하부 클래드층(26)과 상부 클래드층(30)의 사이에 코어 재료(27)를 끼워넣고, 코어 재료(27)를 오목홈(25) 내에 충전시킴과 함께 코어 재료(27)를 상하부 클래드층(30, 26) 사이의 전체로 얇게 눌러 편다.In Example 3, as shown in FIG.7 (c), the
계속해서, 도 7(d)에 도시하는 바와 같이, 기판(21 또는 32)를 통과하여 코 어 재료(27)에 자외선 에너지를 조사하고, 코어 재료(27)를 경화시키고, 코어 재료(27)에 의해 오목홈(25) 내에 코어(28)를 형성함과 함께 상부 클래드층(30)과 하부 클래드층(26)을 접합시킨다. 최후에, 표면과 이면의 기판(32, 21)을 각각 상부 클래드층(30), 하부 클래드층(26)으로부터 벗겨서 필름화 하여, 도 7(e)와 같은 필름 광 도파로(36)를 얻는다.Subsequently, as shown in FIG. 7 (d), ultraviolet energy is irradiated to the
실시예 3에 의하면, 코어 재료(27)에 의한 코어(28)의 성형과, 코어 재료(27)에 의한 상부 클래드층(30)과 하부 클래드층(26)의 접합 작업을 한번에 행할 수 있기 때문에, 필름 광 도파로(36)의 제조 공정을 줄일 수 있다. 따라서, 실시예 3에 의하면, 필름 광 도파로(36)의 제조 공정을 합리화할 수 있다.According to the third embodiment, the molding of the core 28 by the
또한, 실시예 1 내지 3의 경우에는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 하부 클래드층(26)에 마련한 오목홈(25)의 적어도 편측에, 코어 재료(27)가 빠져나가게 하기 위한 홈부(37)를 마련하여도 좋다. 하부 클래드층(26)의 오목홈(25) 내에 코어 재료(27)를 공급한 후, 코어 재료(27)를 스탬퍼(38) 또는 상부 클래드층(30)으로 눌러서 오목홈(25) 내에 코어(28)를 성형하는 경우, 오목홈(25) 내의 잉여의 코어 재료(27)가 오목홈(25)으로부터 압출된다. 이 때, 압출된 코어 재료(27)가 하부 클래드층(26)의 상면과 스탬퍼(38) 등의 사이에서 두터운 수지막으로 되면, 이 수지막을 통과하여 코어(28) 내의 광신호가 누설되어, 필름 광 도파로의 신뢰성이 저하된다.In addition, in the case of Examples 1-3, the
도 8에 도시하는 바와 같이, 오목홈(25)의 부근에 홈부(37)를 마련하고 있으면, 잉여의 코어 재료(27)는 신속하게 오목홈(25)으로부터 압출되고어홈부(37)로 빠져나가게 할 수 있기 때문에, 하부 클래드층(26)의 상면과 스탬퍼(38) 사이의 수지막을 단시간의 가압에 의해 충분히 얇게 할 수 있고, 필름 광 도파로의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 8, if the
또한, 코어 재료를 빠져나가게 하기 위한 홈부를 마련하는 개소는, 하부 클래드층(26)의 상면으로 한정하지 않고, 스탬퍼(38)나 상부 클래드층이라도 무방하다.In addition, the location which provides the groove part for letting out a core material is not limited to the upper surface of the
또한, 상기 각 실시예에서, 일래스토머에 의해 제작된 하부 클래드층(26)과 계면을 접하는 상부 클래드층(30) 또는 코어(28)에, 히드록시기(基), 카복시기, 카보닐기, 아미노기, 이미노기라는 수소 결합기를 포함하는 변성 아크릴레이트 수지를 사용하면, 하부 클래드층(26)과 접하는 계면의 밀착력을 향상시킬 수 있다. 마찬가지로, 일래스토머에 의해 제작된 상부 클래드층(30)과 계면을 접한 하부 클래드층(26) 또는 코어(28)에, 히드록시기, 카복시기, 카보닐기, 아미노기, 이미노기라는 수소 결합기를 포함하는 수지를 사용하면, 상부 클래드층(30)과 접하는 계면의 밀착력을 향상시킬 수 있다.In each of the above embodiments, a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl group, an amino group is formed on the
[실시예 4]Example 4
도 9는 본 발명의 실시예 4에 의한 편방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈을 도시하는 평면도, 도 10은 그 일부분을 확대하여 도시하는 개략 단면도이다. 이 필름 광 도파로 모듈(91)은, 한쪽의 배선 기판(92)의 위에 실장된 투광소자(93)와 다른쪽의 배선 기판(94)의 위에 실장된 수광 소자(95)에 본 발명에 관한 필름 광 도파로(96)의 양단을 접속함에 의해, 필름 광 도파로(96)로 양 배선 기판(92, 94)끼 리를 연결한 것이다.9 is a plan view showing a film optical waveguide module for one-way communication according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a portion thereof in an enlarged manner. The film
송신측의 배선 기판(92)의 위에는 구동용 IC(97)와 VCSEL과 같은 면발광형의 투광소자(93)가 실장되어 있다. 투광소자(93)의 광출사 방향은, 배선 기판(92)의 상면과 거의 수직한 방향으로 되어 있다. 필름 광 도파로(96)의 한쪽 단부는, 도 10에 도시하는 바와 같이 45°의 각도로 컷트되어 있고, 필름 광 도파로(96)의 해당 단부가 배선 기판(92)과 평행하게 되도록 하며, 또한, 45°로 컷트 된 면(100)이 경사 상방을 향하도록 하여 지지대(98)의 위에 고정되어 있다. 게다가, 코어(28)의 45°로 컷트 된 면(100)은, 투광소자(93)로부터 출사되는 광선의 광축상에 위치하고 있다.On the
또한, 수신측의 배선 기판(94)의 위에는 증폭용 IC(99)와 수광 소자(95)가 실장되어 있다. 필름 광 도파로(96)의 다른쪽 단부도 45°의 각도에 컷트되어 있고, 필름 광 도파로(96)의 해당 단부가 배선 기판(94)과 평행하게 되도록 하여, 또한, 45°로 컷트 된 면이 경사 상방을 향하도록 하여 지지대(도시 생략)의 위에 고정되어 있다. 수광 소자(95)는, 코어(28)의 45°로 컷트 된 면의 바로 아래에 위치하고 있다.The
따라서 구동용 IC(97)에 입력된 전기 신호가 광신호(변조광)로 변환되어 투광소자(93)로부터 광신호가 출사되면, 투광소자(93)로부터 나간 광은 필름 광 도파로(96)의 하면으로부터 코어(28) 내로 진입한다. 코어(28)에 진입한 광신호는, 코어(28)의 45°로 컷트 된 면어 전반사함에 의해 코어(28)의 길이 방향과 거의 평행한 방향으로 진행 방향이 구부러져서, 코어(28)와 결합시켜진다.Therefore, when the electric signal input to the
이렇게 하여, 필름 광 도파로(96)의 일단에 결합한 광신호는 코어(28) 내를 전반하고, 필름 광 도파로(96)의 타단에 달한다. 필름 광 도파로(96)의 타단에 달한 광은, 코어(28)의 45°로 컷트 된 면에서 전반사되어, 필름 광 도파로(96)의 타단에서 하방을 향하여 출사되고, 수광 소자(95)에서 수광된다. 수광 소자(95)에서 수광된 광신호는 전기 신호로 변환되고, 전기 신호는 증폭용 IC(99)에서 증폭된 후, 배선 기판(94)으로부터 외부로 출력된다.In this way, the optical signal coupled to one end of the film
이와 같은 필름 광 도파로 모듈(91)에서는, 반드시 배선 기판(92)과 배선 기판(94)은 동일 평면에 설치되는 것은 아니지만, 배선 기판(92 및 94)가 임의의 평면에 설치되어도 필름 광 도파로(96)가 유연하게 구부러짐에 의해 배선 기판(92)측으로부터 배선 기판(94)측으로 광신호를 전달시킬 수 있다.In such a film
그러나, 이와 같이 필름 광 도파로(96)를 통하여 접속된 배선 기판(92)과 배선 기판(94)을 제각기 설치할 때에는, 필름 광 도파로(96)에 기계적인 인장력이 가하여지는 일이 있다. 본 발명의 필름 광 도파로 모듈(91)에서는, 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하와 같이 작기 때문에, 도 11(a)에 도시하는 바와 같이 적은 인장력이 가하여질 뿐으로도 필름 광 도파로 모듈(91)이 늘어나서 필름 광 도파로 모듈(91)의 폭이 좁아진다. 이 때 코어(28)의 굽힘 탄성율과 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성 계수가 동등하면, 마찬가지로 코어(28)도 늘어나서 그 코어 지름이 가늘어지거나, 코어 단면이 변형하거나 하여 코어(28)를 전반하는 광신호의 모드가 변화하여, 광신호의 전송 특성이 열화된다.However, when the
그 때문에 이 필름 광 도파로 모듈(91)에서는, 코어(28)의 굽힘 탄성율을 상 하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율보다도 크게 하고 있다. 즉, 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율을 1,000MPa 이하로 함과 함께, 코어(28)의 굽힘 탄성율을 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율보다도 크게 하고 있다. 이 결과, 상하부 클래드층(30, 26)의 강성이 코어(28)보다도 낮아지고, 게다가, 코어(28)는 배선 기판(92, 94)에 직접 고정되어 있지 않기 때문에, 필름 광 도파로(96)에 기계적인 인장력 등이 가하여저도, 도 11(b)에 도시하는 바와 같이 인장력은 상하부 클래드층(30, 26)에서 흡수된다. 따라서, 코어(28)의 변형을 작게 할 수 있고, 필름 광 도파로(96)의 전송 특성의 열화를 억제할 수 있다.Therefore, in this film
또한, 필름 광 도파로(96)가 비틀린 경우에도, 코어 지름이나 코어 단면 형상에 의해 필름 광 도파로(96)의 전송 특성의 열화를 초래하는데, 이 점에 관해서는 휴대 전화기와의 관련에서 후술한다.In addition, even when the film
또한, 상기 실시예에서는, 편방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈(91)에 관해 설명하였지만, 쌍방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈이라도 좋다. 예를 들면, 도 12에 도시하는 쌍방향 통신용의 필름 광 도파로 모듈(101)은, 양 배선 기판(92, 94)이 모두, 구동용 IC 및 증폭용 IC의 기능을 구비한 구동겸 증폭용 IC(102)와, 투광소자(93)와, 수광 소자(95)를 실장하고 있다. 그리고, 필름 광 도파로로서 2심(芯)의 필름 광 도파로(103)를 이용하여, 한쪽의 코어(28)에서 배선 기판(92)의 투광소자(93)와 배선 기판(94)의 수광 소자(95)를 연결하고, 다른쪽의 코어에서 배선 기판(94)의 투광소자(93)와 배선 기판(92)의 수광 소자(95)를 연결하고 있다. 따라서, 이 필름 광 도파로 모듈(101)에 의하면, 어느 한쪽의 배선 기판(92 또는 94)에 입력된 전기 신호는, 필름 광 도파로 모듈(101)을 통하여 광신호로서 전반되고, 다른 쪽의 배선 기판(94 또는 92)으로부터 전기 신호로 복원되어 출력된다.Moreover, in the said Example, although the film
또한, 상기 실시예에서는, 발광 소자와 수광 소자를 필름 광 도파로로 연결한 필름 광 도파로 모듈에 관해 설명하였지만, 회로 기판에 실장한 광 커넥터에 양단을 접속함에 의해 회로 기판끼리를 연결하도록 한 것이라도 좋다.In the above embodiment, the film optical waveguide module in which the light emitting element and the light receiving element are connected by the film optical waveguide has been described. However, even when the circuit boards are connected to each other by connecting both ends to the optical connector mounted on the circuit board. good.
[실시예 5]Example 5
다음에, 본 발명에 관한 필름 광 도파로를 이용한 응용례(실시예 5)를 설명한다. 이하에서 이용되는 필름 광 도파로(51)는, 지금까지 도시한 바와 같은 1개의 코어를 갖는 것으로 한하지 않고, 복수개의 코어를 평행하게 배선한 것이나, 코어가 분기된 것이라도 좋다. 도 13은 둘로 접음으로 절첩 가능하게 된 절첩식의 휴대 전화기(41)를 도시하는 사시도, 도 14는 그 개략 구성도이다. 휴대 전화기(41)는, 액정 표시 패널(42)과 디지털 카메라(43)를 구비한 표시부(44)와, 텐 키 등의 키 패널(45)이나 안테나(46)를 구비한 조작부(47)를, 힌지부(48)에 의해 회동 자유롭게 연결시킨 구조로 되어 있다. 디지털 카메라(43)는, 액정 표시 패널(42)의 이면측에 마련되어 있다. 또한, 표시부(44) 내에는, 외부 메모리(49)가 탑재되어 있고, 조작부(47) 내에는 통신 기능이나 키 패널(45)로부터의 입력을 접수하여 각 기능을 실행시키기 위한 집적 회로(LSI)(50)가 탑재되어 있다.Next, the application example (Example 5) using the film optical waveguide which concerns on this invention is demonstrated. The film
따라서 조작부(47) 내의 집적 회로(50)와, 표시부(44) 내의 액정 표시 패널(42)이나 디지털 카메라(43), 표시부(44) 사이에서 신호의 송수신을 행하게 할 필요가 있다. 본 실시예 5의 휴대 전화기(41)에서는, 도 14에 도시하는 바와 같이, 조작부(47)측과 표시부(44)측을 연결하기 위해 본 발명에 관한 필름 광 도파로(51)를 이용하고 있다. 즉, 조작부(47) 내의 집적 회로(50)와, 표시부(44) 내의 액정 표시 패널(42), 디지털 카메라(43), 외부 메모리(49)를 필름 광 도파로(51)로 접속하고, 광신호로서 송수신을 행하도록 하고 있다.Therefore, it is necessary to allow signals to be transmitted and received between the
이와 같은 구조를 실현하기 위해서는, 필름 광 도파로(51)가 힌지부(48)를 통과할 필요가 있다. 이 실시예 5에서는, 그를 위한 구조로서, 도 15에 도시하는 바와 같이, 힌지부(48)에서 필름 광 도파로(51)를 스파이럴 모양으로 굴곡시킨 것을 이용하고 있다. 이와 같은 필름 광 도파로(51)를 제작하는데는, 플랫한 필름 광 도파로(51)를 제조한 후, 플랫한 필름 광 도파로(51)를 지시봉 등에 둘러감아서 감은 상태인 채로 하면 좋다. 본 발명에 관한 필름 광 도파로(51)는, 작은 곡률 반경이 되도록 구부릴 수 있기 때문에, 이와 같이 하여 스파이럴 모양으로 부형(賦形)하여도 필름 광 도파로(51)가 파손될 우려가 없다.In order to realize such a structure, the film
이렇게 하여, 이와 같은 실시예 5에 의하면, 휴대 전화기(41) 내의 한정된 공간에서 고속, 대용량 통신을 실현할 수 있다. 또한, 본 발명의 필름 광 도파로(51)는 굴곡 성능이 높기 때문에, 반복하여 휴대 전화기(41)를 개폐하여도 필름 광 도파로(51)가 파손될 우려는 작다. 또한, 필름 광 도파로(51)를 힌지부(48)에서 스파이럴 모양으로 형성하고 있기 때문에, 휴대 전화기(41)를 개폐하여도 힌지부(48)에서 필름 광 도파로(51)에 큰 부하가 걸리기 어렵고, 필름 광 도파로(51)의 내구성이 보다 한층 향상한다.In this manner, according to the fifth embodiment, high speed and large capacity communication can be realized in a limited space in the
또한, 휴대 전화기(41)는, 표시부(44)와 조작부(47)가 둘로 접음으로 된 것 으로 한하지 않고, 조작부(47)와 평행한 면내에서 표시부(44)가 회동하도록 되어서 절첩된 것이라도 좋다.In addition, the
도 16에 도시하는 것은, 휴대 전화기(111)의 다른 예를 도시하는 개략도이다. 이 휴대 전화기(111)는 2축 회전형의 휴대 전화기로 되어 있다. 즉, 표시부(44)와 조작부(47)는, 힌지부(48)에 의해 둘로 접절되어가 펴거나 할 수 있도록 되어 있다. 또한, 표시부(44)는, 그 힌지부(112)에 의해, 힌지부(48)의 축방향과 직교하는 축선 방향의 둘레로도 회동할 수 있도록 되어 있다.16 is a schematic diagram illustrating another example of the
휴대 전화기(111)의 내부에서는, 조작부(47) 내에 수납된 배선 기판(113)에 광 커넥터(114)가 마련되고, 표시부(44) 내에 수납된 배선 기판(115)에 광 커넥터(116)가 마련되어 있다. 필름 광 도파로(51)의 일단에 마련된 광 커넥터(117)는 광 커넥터(114)에 결합되고, 필름 광 도파로(51)의 타단에 마련된 광 커넥터(118)는 광 커넥터(116)에 결합되어 있고, 필름 광 도파로(51)를 통하여 조작부(47)의 배선 기판(113)과 표시부(44)의 배선 기판(115)이 접속되어 있다. 그리고, 표시부(44)와 조작부(47)를 연 상태에서는, 필름 광 도파로(51)는 배선 기판(113)과 배선 기판(115)의 사이를 거의 곧바르게 연결하고 있다.In the
이렇게 하여, 이 휴대 전화기(111)에서는 표시부(44)와 조작부(47)를 둘로 절첩하면 필름 광 도파로(51)가 만곡하여 구부러지고, 또한, 힌지부(112)에 의해 표시부(44)를 회동시키면 필름 광 도파로(51)가 비틀린다. 여기서, 필름 광 도파로(51)의 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율은 1,000MPa 이하로 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로(51)는 작은 외력으로 용이하게 구부러지거나, 비틀리거나 한 다.In this manner, in the
그러나, 코어(28)의 굽힘 탄성율은 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율보다도 크게 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로(51)가 인장되거나, 비틀려도, 코어 지름이나 코어 형상이 변화하기 어렵고, 필름 광 도파로(51)의 전송 특성은 열화되기 어렵다. 즉, 필름 광 도파로(51)가 도 17(a)와 같이 비틀리면, 도 17(b)에 도시하는 바와 같이 필름 광 도파로(51)에 변형이 생기고, 코어(28)도 변형하고, 그로 인해 필름 광 도파로(51)의 전송 특성이 열화될 우려가 있다. 그러나, 코어(28)의 굽힘 탄성율이 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율보다도 크게 되어 있으면, 필름 광 도파로(51)가 비틀려도 코어 형상이 변화하기 어려워지기 때문에, 필름 광 도파로(51)의 전송 특성이 열화되기 어려워진다(필름 광 도파로(51)가 인장되는 경우의 코어 형상의 변형 등에 의한 전송 특성의 열화 대해서는 이미 설명한 바와 같다).However, since the bending elastic modulus of the
도 18에 도시하는 바와 같은 비틀린 필름 광 도파로(51)를 생각하여, 필름 광 도파로(51)의 폭을 W, 필름 광 도파로(51)의 전체 길이중 비틀림이 생겨 있는 부분의 길이를 α×W라고 한다. 휴대 전화기(111) 내에서의 배선 스페이스를 고려하면, α의 값은 가능한 한 작은 것이 바람직하다. 그러나, α의 값이 거의 1보다도 작아지면, 비틀려 있는 필름 광 도파로(51)의 형상이 왜곡되어, 그 전송 특성이 열화되는 것을 알고 있다. 따라서, 가능한 한 α의 값이 1에 가까워지도록 하여 필름 광 도파로(51)가 차지하는 배선 스페이스를 작게 하는 것이 바람직하다.Considering the twisted film
α의 값과 상하부 클래드층(30, 26)에 요구되는 굽힘 탄성율의 한계치 사이 에는, 도 19에 도시하는 바와 같은 관계가 있다. 따라서, α의 값을 1에 가깝게 하기 위해서는, 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율을 거의 250MPa 이하로 하면 좋은 것을 알 수 있다.There is a relationship as shown in FIG. 19 between the value of α and the limit value of the bending elastic modulus required for the upper and lower
한편, α의 값을 작게 하면 비틀림의 반발력이 커지고, 이로 인해 양단의 커넥터(117, 118)가인장되어 배선 기판(113)의 광 커넥터(114)나 배선 기판(115)의 광 커넥터(116)로부터 벗겨질 우려가 있다. 통상 광 커넥터 등에서는, 0. 5kgf 이상의 부하를 걸지 않을 것이 요구되어 있고, 그를 위해서는 필름 광 도파로(51)의 굽힘 탄성율을 250MPa 이하로 하여 두면 충분하다. 따라서, 필름 광 도파로(51)의 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율을 250MPa 이하로 함에 의해, 광 커넥터(117, 118)의 접속 불량을 발생시키지 않고서 α의 값을 1에 가깝게 하여 작게 할 수 있다.On the other hand, when the value of α is reduced, the repulsive force of the torsion increases, thereby causing the
또한, 광케이블의 비틀림에 의한 응력을 작게 하기 위해서는, 광케이블에 여장부(余長部)를 마련하여 두는 방법도 있다. 그러나, 여장부를 마련하면, 힌지부에 여장부를 수납하기 위한 공간이 필요해지기 때문에, 힌지부가 커지고, 나아가서는 휴대 전화기의 소형화가 방해되는 문제가 있다. 이에 대해, 이 휴대 전화기(111)와 같은 구조라면, 필름 광 도파로(51)가 힌지부(112) 내에서 비틀리도록 하여도, 힌지부(112)가 굵어지지 않는다.Moreover, in order to reduce the stress by torsion of an optical cable, there is also the method of providing a female part in an optical cable. However, when the lid is provided, the hinge portion requires space for accommodating the lid, so that the hinge portion becomes large, and further, the miniaturization of the mobile telephone is hindered. On the other hand, if it is the same structure as this
또한, 필름 광 도파로(51)가 스파이럴 모양으로 감겨 있지 않고, 게다가 2축 회전형이 아닌 휴대 전화기의 경우에서는, 도 20(a) 및 도 20(b)에 도시하는 바와 같이 힌지부(48)를 보다 작게 할 수 있다. 이와 같은 휴대 전화기에서는, 도 20(b) 와 같이 표시부(44)와 조작부(47)를 폈던 상태인 때에는, 필름 광 도파로(51)는 느슨하지 않은 자연스러운 길이로 되어 있지만, 도 20(a)와 같이 표시부(44)를 접은 때에는 필름 광 도파로(51)가 힌지부(48)에 감고겨짐에 의해 필름 광 도파로(51)에 인장력이 가해진다. 그러나, 이 경우에도, 코어(28)의 굽힘 탄성율을 상하부 클래드층(30, 26)의 굽힘 탄성율보다도 작게 하여 두면, 도 11(a) 및 도11(b)의 개소에서 설명한 바와 같이, 코어(28)의 변형을 작게 하여 필름 광 도파로(51)의 전송 특성의 열화를 작게 할 수 있다.In addition, in the case of a mobile phone in which the film
[실시예 6]Example 6
도 21은 본 발명의 실시예 6인, 프린터(61)의 사시도이다. 잉크젯 방식의 프린터나 도트·임팩트토 방식의 프린터에서는, 인자(印字) 헤드(62)는 헤드(62)의 위에 고정되어 있고, 헤드(62)는 가이드 바(63)에 따라 좌우로 주행하도록 되어 있다. 또한, 인자 헤드(62)에는 프린터 본체(64)로부터 인자 정보가 보내지도록 되어 있다.Fig. 21 is a perspective view of a
상기 실시예 6에서는, 프린터 본체(64)로부터 인자 헤드(62)에 인자 정보를 송신하기 위해, 도 22에 도시하는 바와 같이, 프린터 본체(64) 내의 제어부(66)와 인자 헤드(62)를 본 발명에 관한 필름 광 도파로(51)로 연결하고 있다. 프린터의 인자 품질이 향상하여 도트 밀도(dpi)가 커지고, 또한 인자 속도가 고속으로 되면, 프린터 본체(64)로부터 인자 헤드(62)에 송신하는 신호량도 급송(急送)으로 증대하지만, 필름 광 도파로(51)를 이용함에 의해 인자 헤드(62)에 고속으로 대용량의 신호를 송신할 수 있다.In the sixth embodiment, in order to transmit the printing information from the printer
또한, 도 23(a) 및 도 23(b)에 도시하는 바와 같이, 인자 헤드(62)가 좌우로 고속으로 주행하면, 그에 수반하여 필름 광 도파로(51)는 절곡되어 있는 개소가 이동하고, 큰 부하가 가해지지만, 본 발명의 필름 광 도파로(51)에서는 굴곡 성능이 높기 때문에 필름 광 도파로(51)의 내구성을 높게할 수 있다.23 (a) and 23 (b), when the
[실시예 7]Example 7
도 24는 본 발명의 실시예 7인, 하드디스크 장치(71)의 사시도이다. 이 하드디스크 장치(71)에서는, 하드디스크(72)의 부근에 데이터 판독 헤드 구동 장치(73)가 마련되어 있고, 데이터 판독 헤드 구동 장치(73)로부터 연장하여 나온 판독 헤드(74)의 선단이 하드디스크(72)의 표면과 대향하고 있다. 또한, 제어회로가 탑재된 회로 기판(75)에는 필름 광 도파로(51)의 일단이 접속되고, 필름 광 도파로(51)의 타단부는 판독 헤드(74)의 기부(基部)를 통과하여 판독 헤드(74)의 선단의 광학 소자에 접속되어 있다. 이 필름 광 도파로(51)에는, 하드디스크(72)에 기억된 데이터를 판독할 때, 또는 기록할 때에, 회로 기판(75)과 판독 헤드(74) 사이에서 그 데이터(광신호)를 전송하는 기능을 갖고 있다.24 is a perspective view of a
하드디스크 장치(71)에 기억되는 데이터는 대용량화가 진행되고 있다. 그 한편으로, 종래 데이터 전송로로서 이용되고 있던 플렉시블 프린트 기판에서는, 전송 밀도에 한계가 있이서, 대용량화하는 하드디스크 장치의 데이터 전송로에 이용하기 위해서는 플렉시블 프린트 기판의 매수를 늘리던지, 대형화하든지 할 수밖에 수단이 없고, 그 때문에 굴곡 성능이나 사이즈에 문제가 있다. 그런데, 필름 광 도파로(51)를 이용하면, 굴곡성을 가지며, 게다가 소형으로 대용량의 데이터 전송로를 실현하는 것이 가능해진다.The data stored in the
[실시예 8]Example 8
도 25 내지 도 27에 도시하는 것은, 전자 회로 기판에의 필름 광 도파로(51)의 접속 형태를 도시하는 실시예이다. 즉, 도 25에 도시하는 형태에서는, 필름 광 도파로(51)를 굴곡시켜서 기기(81) 내의 각각의 전자 회로 기판(82, 83) 사이를 연결하고 있다. 또한, 도 26에 도시하는 형태에서는, 전자 회로 기판(82)의 표리를 필름 광 도파로(51)로 연결하고 있다. 도 27에 도시하는 형태에서는, 전자 회로 기판(82)과 커넥터(84)를 필름 광 도파로(51)로 연결하고 있다. 이들의 어느 접속 형태에서도, 한정된 공간 내에 위치하는 전자 회로 기판 사이의 고속, 대용량 통신을 실현할 수 있다.25-27 is an Example which shows the connection form of the film
[실시예 9]Example 9
도 28은 본 발명에 관한 필름 광 도파로(51)의 다른 사용 방법을 도시하는 실시예이다. 이 실시예 9에서는, 필름 광 도파로(51)를 요철부(85)를 갖는 전자 회로 기판(86), 예를 들면 전자부품 등이 실장되고 요철부(85)를 형성된 전자 회로 기판(86)에서, 요철부(85)의 표면에 따르게 하여 필름 광 도파로(51)를 설치하고 있다. 이러한 형태에 의하면, 전자부품이 실장된 전자 회로 기판 내를 연결하는 전송로 등에 이용할 수 있어서, 전자 회로 기판 내의 고속, 대용량 통신을 실현할 수 있다.28 is an embodiment showing another method of using the film
[실시예 10]Example 10
도 29는 본 발명에 관한 필름 광 도파로(51)의 또다른 사용 방법을 도시하는 실시예이다. 이 실시예 10에서는, 필름 광 도파로(51)를 플렉시블한 전자 회로 기판(86)의 위에 맞겹치고 있다. 이와 같은 형태에 의하면, 플렉시블한 전자 회로 기판(86)의 위에 맞겹처서 있다. 이와 같은 형태에 의하면, 플렉시블한 전자 회로 기판(86)에 의한 전력 전송이나 연산 기능을 가지며, 또한, 고속, 대용량 통신기능을 갖는 플렉시블 복합 전송로를 실현할 수 있다.29 is an embodiment showing another method of using the film
본 발명의 필름 광 도파로에 의하면, 상부 클래드층 또는 하부 클래드층의 적어도 한쪽이, 굽힘 탄성율 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성되어 있고, 게다가, 상하부 클래드층의 막 두께의 합이 300㎛ 이하로 얇게 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로를 작은 곡률 반경(예를 들면, 수㎜ 이하)으로 구부리는 것이 가능해진다. 따라서, 휴대용 소형 기기 내 등에서, 필름 광 도파로를 부품의 표면에 따라, 또는, 부품의 간극을 이어서 배선하는 것이 가능해진다.According to the film optical waveguide of the present invention, at least one of the upper cladding layer and the lower cladding layer is formed of an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less, and the sum of the thicknesses of the upper and lower cladding layers is 300 µm or less. Since it becomes thin, it becomes possible to bend the film optical waveguide with a small radius of curvature (for example, several mm or less). Therefore, in a portable small apparatus or the like, it is possible to wire the film optical waveguide along the surface of the component or to connect the gap of the component subsequently.
본 발명의 필름 광 도파로에 의하면, 상기 하부 클래드층과 상기 상부 클래드층 사이에, 양 클래드층보다도 굴절율이 높고, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 코어가 형성되어 있어도 좋다. 코어의 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머에 의해 형성되어 있으면, 코어도 구부러지기 쉽게 되기 때문에, 필름 광 도파로를 보다 작은 곡률 반경으로 구부리는 것이 가능해진다.According to the film optical waveguide of the present invention, a core may be formed between the lower cladding layer and the upper cladding layer by an elastomer having a higher refractive index than both cladding layers and a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less. If the bending elastic modulus of the core is formed of an elastomer having 1,000 MPa or less, the core also tends to bend, so that the film optical waveguide can be bent at a smaller radius of curvature.
본 발명의 필름 광 도파로에 의하면, 상기 코어의 굽힘 탄성율이 상기 상부 클래드층 및 상기 하부 클래드층의 굽힘 탄성율보다도 크게 되어 있다. 이러한 실시 양태에서는, 코어의 굽힘 탄성율이 상부 클래드층 및 하부 클래드층의 굽힘 탄 성율보다도 크게 되어 있기 때문에, 필름 광 도파로가 늘어나거나 비틀리거나 한 때라도, 코어의 변형을 작게 억제할 수 있어서, 코어를 전반(傳搬)하는 광의 손실을 작게 할 수 있다.According to the film optical waveguide of the present invention, the bending elastic modulus of the core is larger than the bending elastic modulus of the upper clad layer and the lower clad layer. In this embodiment, since the bending elastic modulus of the core is larger than the bending elastic modulus of the upper cladding layer and the lower cladding layer, even when the film optical waveguide is extended or twisted, the deformation of the core can be suppressed to be small, so that the core can be suppressed. The loss of light propagating can be made small.
본 발명의 제 1의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of the 1st film optical waveguide of this invention, the lower cladding layer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less and a thin thickness can be obtained, and the film optical waveguide which can be bent by a small curvature radius can be manufactured. have.
본 발명의 제 2의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.According to the method for manufacturing the second film optical waveguide of the present invention, a thin film thickness (for example, 150 is obtained by pressing the stamper of the elastomer with a stamper and making it thin while using an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less). Upper clad layer) having a thickness of not more than m. Therefore, according to this invention, the upper cladding layer whose bending elastic modulus is 1,000 Mpa or less and a thin thickness can be obtained, and the film optical waveguide which can be bent by a small curvature radius can be manufactured.
본 발명의 제 3의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.According to the third film optical waveguide manufacturing method of the present invention, a thin film thickness (e.g., 150) is obtained by pressing the stamper of the elastomer with a stamper to make it thin while using an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less. Upper clad layer and lower clad layer) can be obtained. Therefore, according to the present invention, an upper cladding layer and a lower cladding layer having a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less and a thin thickness can be obtained, whereby a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature can be produced.
또한, 제 3의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 스탬퍼로 가압하여 상 부 클래드층과 하부 클래드층을 각각 성형한 후, 상부 클래드층을 상하 반전시켜서 하부 클래드층의 위에 접합하고 있기 때문에, 상부 클래드층과 하부 클래드층의 휘어짐을 상쇄하여, 필름 광 도파로에 휘어짐이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, according to the third film optical waveguide manufacturing method, the upper cladding layer and the lower cladding layer are formed by pressing with a stamper, and then the upper cladding layer is inverted up and down to be bonded on the lower cladding layer. The deflection of the cladding layer and the lower cladding layer can be canceled to suppress the occurrence of warping in the film optical waveguide.
본 발명의 제 4의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하인 일래스토머를 사용하면서도, 일래스토머의 전구체를 스탬퍼로 가압하여 얇게 함으로써, 얇은 막 두께(예를 들면, 150㎛ 이하의 막 두께)의 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 굽힘 탄성율이 1,000MPa 이하이며, 또한, 두께가 얇은 상부 클래드층 및 하부 클래드층을 얻을 수가 있어서, 작은 곡률 반경으로 구부릴 수 있는 필름 광 도파로를 제조할 수 있다.According to the fourth film optical waveguide manufacturing method of the present invention, a thin film thickness (e.g., 150) is obtained by pressing the stamper of the elastomer with a stamper to make it thin while using an elastomer having a bending modulus of 1,000 MPa or less. Upper clad layer and lower clad layer) can be obtained. Therefore, according to the present invention, an upper cladding layer and a lower cladding layer having a bending elastic modulus of 1,000 MPa or less and a thin thickness can be obtained, whereby a film optical waveguide that can be bent at a small radius of curvature can be produced.
또한, 제 4의 필름 광 도파로의 제조 방법에 의하면, 하부 클래드층과 상부 클래드층을 코어 재료로 접합함에 의해, 동시에, 코어 재료에 의해 코어를 성형하고 있기 때문에, 코어 재료에 의한 코어의 성형과, 코어 재료에 의한 상하부 클래드층의 접합 작업을 한번에 행할 수 있어서, 필름 광 도파로의 제조 공정을 줄이고, 제조 공정을 합리화할 수 있다.In addition, according to the fourth film optical waveguide manufacturing method, since the lower cladding layer and the upper cladding layer are bonded to the core material and the core is formed from the core material, the core material is formed from the core material. The bonding operation of the upper and lower cladding layers by the core material can be performed at once, so that the manufacturing process of the film optical waveguide can be reduced and the manufacturing process can be streamlined.
본 발명에 관한 필름 광 도파로 모듈에 의하면, 광 도파로 부분의 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로 모듈을 얻을 수 있기 때문에, 이러한 필름 광 도파로 모듈을, 힌지부와 같은 회동 부분을 갖는 장치 내에 조립한 경우, 회동 부분을 반복하여 회동시키켜도 광 도파로 부분이 파손되기 어렵게 되어, 해당 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the film optical waveguide module according to the present invention, since the film optical waveguide module having a thin thickness of the optical waveguide portion and excellent in bending performance can be obtained, such a film optical waveguide module is assembled into an apparatus having a rotating portion such as a hinge portion. In one case, even if the rotating portion is repeatedly rotated, the optical waveguide portion is less likely to be damaged, and the durability of the apparatus can be improved.
본 발명에 관한 전자 기기 장치에 의하면, 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로를 얻을 수 있기 때문에, 이러한 광 도파로 장치를, 힌지부와 같은 회동 부분을 갖는 전자 기기 장치에 이용한 경우, 회동 부분을 반복하여 회동시켜도 필름 광 도파로가 파손되기 어렵게 되어, 전자 기기 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the electronic device device according to the present invention, since the film optical waveguide having a thin thickness and excellent in bending performance can be obtained, when such an optical waveguide device is used in an electronic device device having a rotating part such as a hinge part, the rotating part is used. Even if it rotates repeatedly, a film optical waveguide becomes difficult to be damaged and the durability of an electronic device apparatus can be improved.
본 발명에 관한 필름 광 도파로에 의하면, 두께가 얇고 굴곡 성능에 우수한 필름 광 도파로를 얻을 수 있기 때문에, 이러한 광 도파로 장치를, 이동부를 갖는 전자 기기 장치에 이용한 경우, 이동부의 움직임에 수반하여 필름 광 도파로가 반복 변형시켜저도 파손되기 어렵게 되어, 전자 기기 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the film optical waveguide according to the present invention, since the film optical waveguide having a thin thickness and excellent in bending performance can be obtained, when such an optical waveguide device is used in an electronic device device having a moving part, the film optical wave is accompanied by the movement of the moving part. Even if the waveguide is repeatedly deformed, the waveguide is hardly damaged, and the durability of the electronic device device can be improved.
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