KR20070017949A - Chromium-free antitarnish adhesion promoting treatment composition - Google Patents

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KR20070017949A
KR20070017949A KR1020067004381A KR20067004381A KR20070017949A KR 20070017949 A KR20070017949 A KR 20070017949A KR 1020067004381 A KR1020067004381 A KR 1020067004381A KR 20067004381 A KR20067004381 A KR 20067004381A KR 20070017949 A KR20070017949 A KR 20070017949A
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zinc
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antirust
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레오나드 알. 하웰
쮸차인 에프. 천
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올린 코포레이션
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Abstract

본 발명은 아연 이온; 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온; 및 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물에 관한 것이며, 처리 조성물은 기판 상에 또는 물질 위에 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시키는 피막을 형성한다.The present invention is a zinc ion; Metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof; And any electrolyte that does not contain potassium or sodium ions, and which is substantially free of chromium, wherein the treatment composition relates to adhesion of a polymer to a material on a substrate or on a material. To form a film that improves.

방청성, 접착성, 수성 처리 조성물, 전해질, 기판, 피복물 Antirust, Adhesive, Aqueous Treatment Composition, Electrolyte, Substrate, Coating

Description

크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 처리 조성물{Chromium-free antitarnish adhesion promoting treatment composition}Chromium-free antitarnish adhesion promoting treatment composition

본 발명은 방청성의 접착 촉진 처리 조성물, 더욱 구체적으로는 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 처리 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a rust-preventive adhesion promoting treatment composition, and more particularly to a rust-preventive adhesion promoting treatment composition that is substantially free of chromium.

금속의 방청성과 금속과 중합체 사이의 강한 접착성은 인쇄 회로, 전자 패키지, 차량 본체의 트림(예를 들면, PVC 또는 ABS 플라스틱에 대한 알루미늄), 스틸 벨트 타이어 및 페인트 또는 기타의 중합체성 피복물과 같은 다양한 적용 분야에 있어서 익히 오래전부터 요청되어 왔다. 예를 들면, 인쇄 회로에 적용하기 위한 Cu 막의 방청성은 저장 수명을 위해 필요하고 인쇄 회로 공정에서 적층 및 납땜 중에 열에 노출되는 것을 견디기 위해 요구된다. 또한, 방청성 피복은 Cu의 산화를 방지하고 부품의 사용 수명 동안 습기 및 온도에 노출되면서 중합체 기판과의 반응을 방지한다. 이러한 기능은 Cu와 중합체 사이의 양호한 결합을 유지하기 위해 중요하다. 전자 패키지 적용 분야에 있어서, 양호한 접착성은 금속 잭과 이를 둘러싸는 성형 플라스틱 절연 외장 사이의 전기 접속기에 요구된다. 두 번째 예로서, 금속 리드 프레임의 내부 납은 전기 패키지의 어셈블리에서 중합체 성형 수지 내에 캡슐 피복되어 통합된 회로를 수용할 수 있다. The rust resistance of metals and the strong adhesion between the metals and polymers can be used in various applications such as printed circuits, electronic packages, trims of vehicle bodies (for example, aluminum to PVC or ABS plastic), steel belt tires and paint or other polymeric coatings. It has long been requested in the field of application. For example, the rust resistance of Cu films for application to printed circuits is required for shelf life and to withstand exposure to heat during lamination and soldering in printed circuit processes. In addition, the antirust coating prevents oxidation of Cu and prevents reaction with the polymer substrate while being exposed to moisture and temperature during the service life of the part. This function is important for maintaining good bonding between Cu and the polymer. In electronic package applications, good adhesion is required for the electrical connector between the metal jack and the molded plastic insulating sheath surrounding it. As a second example, the inner lead of the metal lead frame may be encapsulated in a polymer molding resin in the assembly of the electrical package to accommodate the integrated circuit.

중합체 수지와 금속 기판 사이의 접착성은 금속 기판을 중합체 수지에 대해 더욱 강하게 결합하는 제2 금속으로 피복함으로써 개선된다. 적합한 피복물은, 예를 들면, 니켈 및 니켈 합금과 같은 무반응성 산화물 형성 금속, 또는 예를 들면, 구리 기판상의 주석과 같은 금속간 형성 피복물을 포함한다. 이러한 피복물 뿐만 아니라 기타의 피복물은 전체적으로 본원에 참조 문헌으로 인용되는 미국 특허공보 제4,888,449호(Crane et al.)에 공지되어 있다. The adhesion between the polymer resin and the metal substrate is improved by covering the metal substrate with a second metal that bonds more strongly to the polymer resin. Suitable coatings include, for example, non-reactive oxide forming metals such as nickel and nickel alloys, or intermetallic forming coatings such as, for example, tin on copper substrates. Such coatings as well as other coatings are known in US Pat. No. 4,888,449 (Crane et al.), Which is incorporated herein by reference in its entirety.

최근에는 아연/크롬(ZnCr)을 함유하는 피복물이 전자 적용분야에서 구리 호일과 리드 프레임에 널리 사용되어, 방청성의 중합체 기판에 대한 금속의 결합 강도를 개선시킨다. 이러한 피복물은 전형적으로 NaOH, Zn 및 Cr(VI) 이온을 함유하는 알칼리성 용액에서 전착되어 방청성을 제공하는 Zn/Cr 산화물의 혼합물을 형성한다. Recently, coatings containing zinc / chromium (ZnCr) have been widely used in copper foils and lead frames in electronic applications, improving the bond strength of metals to rust resistant polymer substrates. Such coatings are typically electrodeposited in alkaline solutions containing NaOH, Zn and Cr (VI) ions to form a mixture of Zn / Cr oxides that provide rust resistance.

미국 특허공보 제4,387,006호에는 인쇄 와이어 보드에 사용되는 구리 호일의 표면 처리 방법이 기재되어 있다. 아연 이온 및 크롬(VI) 이온을 함유하는 크롬산아연의 수용액에서 구리 호일을 전해질 처리하고 아미노실란, 규산나트륨 및/또는 규산칼륨을 함유하는 수용액 속에 침지시킨다. US Patent No. 4,387,006 describes a method of surface treatment of copper foils used in printed wire boards. The copper foil is electrolyzed in an aqueous solution of zinc chromate containing zinc ions and chromium (VI) ions and immersed in an aqueous solution containing aminosilane, sodium silicate and / or potassium silicate.

미국 특허공보 제5,230,932호, 미국 특허공보 제5,098,796호 및 미국 특허공보 제5,022,968호에는 구리 및 구리계 합금 물질의 방청성 및 산화 방지성을 개선시키기 위한 기술 및 조성물이 기재되어 있다. NaOH, 아연 이온 및 크롬(VI) 이온 을 함유하는 수성 전해질에 물질을 침지함으로써 전해 피복시킨다. 피복물은 190℃ 이상에서 방청성을 나타낸다. U. S. Patent No. 5,230, 932, U. S. Patent No. 5,098, 796, and U. S. Patent No. 5,022, 968 describe techniques and compositions for improving the rust and oxidation resistance of copper and copper-based alloy materials. Electrolytic coating is performed by immersing the material in an aqueous electrolyte containing NaOH, zinc ions and chromium (VI) ions. The coating exhibits rust resistance at 190 ° C. or higher.

미국 특허공보 제5,250,363호(Chen)에는 금속 기판의 방청성 및 산화 방지성을 개선시키기 위한 기술이 기재되어 있다. NaOH, 아연 이온 및 크롬(VI) 이온을 함유하는 수용액에 기판을 침지시키고, 크롬-아연 피복물을 기판에 전해 피복시킨다. 피복물은 230℃ 이상에서 방청성을 나타내고, 황산에 침지함으로써 용이하게 제거할 수 있다. U.S. Patent No. 5,250,363 (Chen) describes techniques for improving the rust and oxidation resistance of metal substrates. The substrate is immersed in an aqueous solution containing NaOH, zinc ions and chromium (VI) ions, and the chromium-zinc coating is electrolytically coated on the substrate. The coating exhibits rust resistance at 230 ° C. or higher and can be easily removed by immersion in sulfuric acid.

또한 특정한 조건하에 이들 피복물 중의 일부는 리드 프레임과 성형 배합물 사이에서 습기 삼투를 감소시킬 수 있는 것이 요청된다. 이러한 효과는 디바이스가 납땜 온도(예를 들면, 약 230℃의 온도)에 적용될 때, 다이 부착 패들 하부에 포획되어 축적된 수분으로부터 수증기의 형성에 의해 기인하는 것으로 여겨지는 "팝 콘 효과(pop corn effect)"를 감소시킬 수 있다. 이러한 수증기의 생성은 균열 및 적층 분리로 인한 디바이스의 불량의 원인이 되는 것으로 여겨진다. 또한, 산업분야에서 커져 가는 환경 문제 및 엄격해지는 규율로 인해 납 및 기타의 유독성 원소를 함유하는 땜납으로부터 멀어지면서, 대안적인 땜납의 온도는 심지어 더욱 높아지는 경향이 있으며, 금속/중합체 접착성의 속성은 점점 더 중요해질 것이다. It is also desired that under certain conditions some of these coatings can reduce moisture osmosis between the lead frame and the molding formulation. This effect is believed to be caused by the formation of water vapor from the moisture trapped and accumulated under the die attach paddle when the device is applied at a soldering temperature (eg, a temperature of about 230 ° C.). effect) "can be reduced. The generation of such water vapor is believed to be responsible for the failure of the device due to cracking and stack separation. In addition, due to growing environmental issues and stricter disciplines in the industry, alternative solder temperatures tend to be even higher, with metal and polymer adhesive properties increasingly becoming more and more away from solders containing lead and other toxic elements. It will be more important.

금속과 중합체 기판 사이에 접착성을 제공하는 다수의 조성물이 공지되어 있다. 미국 특허공보 제5,573,845호(Parthasarathi et al.)에는 바람직하게 표면 처리된 금속 코어를 갖는 합성 물질이 기재되어 있다. 겉보기 두께가 275Å 미만인 침상(결절) 피복물 피복층이 금속 코어의 적어도 한 부분에 인접한다. 피복물 피 복층은 금속 코어 표면 처리에 대한 뚜렷한 변화 없이 금속 코어로부터 제거될 수 있다. Many compositions are known that provide adhesion between a metal and a polymer substrate. US Pat. No. 5,573,845 to Parthasarathi et al. Describes a synthetic material having a metal core, preferably surface treated. A needle-shaped (nodular) coating layer having an apparent thickness of less than 275 mm 3 is adjacent to at least one portion of the metal core. The coating coating layer can be removed from the metal core without any noticeable change to the metal core surface treatment.

미국 특허공보 제5,449,951호(Parthasarathi et al.)에는 중합체 수지에 대한 접착성이 향상된 리드 프레임이 기재되어 있다. 리드 프레임은 크롬, 아연 또는 크롬과 아연의 혼합물을 함유하는 박층으로 피복된다. 피복된 리드 프레임은 중합체 수지에 대해 향상된 접착성을 나타낸다. US Pat. No. 5,449,951 to Parthasarathi et al. Describes a lead frame with improved adhesion to polymer resins. The lead frame is covered with a thin layer containing chromium, zinc or a mixture of chromium and zinc. The coated lead frame shows improved adhesion to the polymer resin.

국재 공개공보 제00/74131 A1호(Lee et al.)에는 반도체 디바이스 패키지를 조립하는 방법이 기재되어 있으며, 이때 디바이스/리드 프레임 어셈블리를 형성한 다음, 접착성 향상 피복물을 디바이스/리드 프레임 어셈블리의 노출된 표면상에 침착시킨 후, 캡슐 피복시킨다. 피복물은 무기 Zn/Cr 피복물일 수 있는 금속 피복물이다. 상기 공개 문헌은 특히 본원에 전체적으로 참조 문헌으로 인용된다. Korean Patent Publication No. 00/74131 A1 (Lee et al.) Describes a method of assembling a semiconductor device package, in which a device / lead frame assembly is formed, and then an adhesive enhancement coating is applied to the device / lead frame assembly. After deposition on the exposed surface, the capsule is coated. The coating is a metal coating which may be an inorganic Zn / Cr coating. Said publication is in particular incorporated herein by reference in its entirety.

미국 특허공보 제5,252,855호(Ogawa)에는 기판을 양극 산화시킴으로써 침상 촉매의 응집물을 형성하여 구리계 금속 기판과 중합체 수지 사이의 접착성을 개선시키는 것이 기재되어 있다. 미국 특허공보 제4,939,316호(Mahulikar et al.)에는 알루미늄 합금 기판의 양극 처리에 의해 중합체 결합 강도를 향상시키는 것이 기재되어 있다. 기타의 만족스러운 피복물은 미국 특허공보 제5,192,995호(Yamazaki et al.)에 기재되어 있는 바와 같이 두께가 300 내지 5,000Å인 산화 방지 물질을 포함한다. US Patent No. 5,252,855 (Ogawa) describes the formation of aggregates of acicular catalysts by anodizing the substrate to improve the adhesion between the copper-based metal substrate and the polymer resin. U.S. Patent No. 4,939,316 to Mahulikar et al. Discloses improving polymer bond strength by anodizing aluminum alloy substrates. Other satisfactory coatings include antioxidant materials having a thickness of 300 to 5,000 mm 3 as described in US Pat. No. 5,192,995 (Yamazaki et al.).

상기 기술분야에 공지된 바와 같이, 나트륨(Na) 및/또는 칼륨(K) 이온은 침지욕에 자주 사용된다. 그러나, 나트륨과 칼륨 이온은 이들 이온이 잠재적으로 실 리콘 다이 속으로 확산될 수 있고 제작되는 디바이스에 불량을 일으킬 수 있다는 단점이 있다. 이러한 불량에 대해서는 익히 보고되어 있다[참조: 예를 들면, 2000년 4월 12일에 성형 배합물, 다이 피복물 및 다이 부착 피복물로부터 염화물 및 나트륨 오염을 규정한 "금속 피복 오염"[문헌 참조: Microelectronic Defects Database, CALCE Electronic Products and Systems Center, University of Maryland]; 및 이온성 오염의 구체적인 공급원으로서 다이 부착 접착제를 규정한 "디바이스의 수행시 다이 부착 접착제에서 이온성 불순물의 영향"[문헌 참조: Barnes and Robinson, Proceedings of 34th Electronics Components Conf., May, 1984, p. 68)].As is known in the art, sodium (Na) and / or potassium (K) ions are frequently used in immersion baths. However, sodium and potassium ions have the disadvantage that these ions can potentially diffuse into the silicon die and cause defects in the device being fabricated. Such defects are well reported [see, for example, "metal cladding", which defines chloride and sodium contamination from molding formulations, die coatings and die attach coatings on April 12, 2000. [Microelectronic Defects Database, CALCE Electronic Products and Systems Center, University of Maryland; And “The Effect of Ionic Impurities in Die Attach Adhesive in Performing Devices”, which defines die attach adhesive as a specific source of ionic contamination. See Barnes and Robinson, Proceedings of 34th Electronics Components Conf., May, 1984, p. . 68)].

또한, 도금 용액 중에 크롬(VI) 이온이 존재하는 경우 취급 및 폐기시의 환경 문제를 야기시킨다. 비록 크롬(VI)을 함유하는 도금 욕이 세계적으로 수십년간 사용되어 왔음에도 불구하고, Cr(VI)의 사용은 건강과 환경 영향과 관련된 염려가 증가함으로써 면밀한 검사가 증가되고 있다. 따라서, Cr(VI) 도금 욕을 유독성이 덜한 Cr(III) 욕으로 대체하거나, Cr을 완전히 제거하는 것이 요청될 것이다. In addition, the presence of chromium (VI) ions in the plating solution causes environmental problems in handling and disposal. Although plating baths containing chromium (VI) have been used around the world for decades, the use of Cr (VI) has increased due to increased concerns about health and environmental impacts. Therefore, it would be desirable to replace the Cr (VI) plating bath with a less toxic Cr (III) bath or to completely remove Cr.

따라서, 당해 기술 분야에는 실질적으로 크롬(VI)을 함유하지 않고 칼륨과 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 활용하는, 접착성 및 방청성을 촉진시키는 수성 처리 조성물을 제공하는 것이 요청되고 있다.Accordingly, there is a need in the art to provide an aqueous treatment composition that promotes adhesion and rust resistance, utilizing any electrolyte substantially free of chromium (VI) and free of potassium and sodium ions.

발명의 요지The gist of the invention

하나의 양태에서, 본 발명은 아연 이온; 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발 트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온; 및 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물에 관한 것이며, 처리 조성물은 물질 위에 피막을 형성할 수 있고, 피막은 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시킨다. In one embodiment, the present invention provides a zinc ion; Metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof; And an electrolyte that does not contain potassium or sodium ions, and which is substantially free of chromium, wherein the treatment composition can form a coating on the material, the coating on the material. Improves the adhesion of the polymer to

또 다른 양태에서, 본 발명은 아연 또는 산화아연 원자; 텅스텐, 몰리브덴, 코발트, 니켈, 지르코늄, 티탄, 망간, 바나듐, 철, 주석, 인듐, 은 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 또는 산화금속을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물로 피복된 물질에 관한 것이며, 피복물은 250℃에서 30분 이상 동안 방청성을 나타내며, 피복물은 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시키는 결절 구조물(nodular structure)을 함유한다. In another embodiment, the present invention provides a zinc or zinc oxide atom; Rustproof and substantially free of chromium, including metals or metal oxides selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, cobalt, nickel, zirconium, titanium, manganese, vanadium, iron, tin, indium, silver and combinations thereof A material coated with an adhesion promoting aqueous treatment composition, wherein the coating exhibits rust resistance for at least 30 minutes at 250 ° C., and the coating contains a nodular structure that enhances the adhesion of the polymer to the material.

또 다른 양태에서, 본 발명은 아연 이온; 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온; 및 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물을 물질과 접촉시키는 단계; 및 방청성의 접착 촉진 피복물을 상기 물질에 침착시켜 방청성의 접착 촉진 피복물(당해 피복물은 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시킨다)로 피복된 물질을 형성하는 조건하에, 처리 조성물을 통해 전류를 통과시키는 단계를 포함하여, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법에 관한 것이다. In another aspect, the invention provides zinc ions; Metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof; And contacting the material with an antirust adhesion promoting aqueous treatment composition comprising any electrolyte free of potassium or sodium ions and substantially free of chromium; And passing a current through the treatment composition under conditions which deposit a rustproof adhesion promoting coating on the material to form a material coated with the rustproof adhesion promoting coating (the coating enhances the adhesion of the polymer to the material). It relates to a method of forming a material coated with an antirust adhesion coating, comprising the step.

이러한 양태 및 기타의 양태는 이후 본 발명의 상세한 설명에서 더욱 자세하게 기술될 것이다. These and other aspects will be described in more detail later in the detailed description of the invention.

본 발명은 첨부되는 도면을 참조로 하여 이후의 상세한 설명으로부터 더욱 완전하게 이해될 것이다. The invention will be more fully understood from the following detailed description with reference to the accompanying drawings.

도 1(a), 도 1(b), 및 도 1(c)는 각각 도금 시간 2초, 5초 및 10초 후의, 본 발명의 조성물 및 방법에 따라 처리된 표면의 스캔 전자 마이크로그래프(SEM)이다.1 (a), 1 (b), and 1 (c) show scanning electron micrographs (SEM) of surfaces treated according to the compositions and methods of the present invention after 2, 5 and 10 seconds of plating time, respectively. )to be.

도 2는 다양한 표면 처리 및 성형 배합물과 처리된 표면 사이의 결합 강도에 대한 처리 효과를 나타내는 막대 그래프이다. 2 is a bar graph showing the effect of treatment on the bond strength between various surface treatments and molding blends and treated surfaces.

놀랍게도 본 발명은 금속과 중합체 사이의 강한 결합을 형성하고 조성물의 취급 및 폐기와 관련하여 환경 및 건강상 효과를 나타내는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물을 제조할 수 있음을 발견하였다. 본 발명에 따르면, 이제 본 발명은 중합체 물질과 금속 사이의 개선된 결합 접착성을 보유하고, 실질적으로 크롬(VI)을 함유하지 않아서 상기 용액을 취급함에 있어서 환경 및 건강상의 문제를 제거하는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물을 발견하였다. Surprisingly, the present invention has found that anti-rust adhesion promoting aqueous treatment compositions can be prepared that form strong bonds between metals and polymers and exhibit environmental and health effects with respect to handling and disposal of the compositions. According to the present invention, the present invention now has improved bond adhesion between the polymeric material and the metal and is substantially free of chromium (VI), thus preventing the environmental and health problems in handling the solution. Adhesion Promoting Aqueous Treatment Compositions were Found.

위에서 지적된 바와 같이, 본 발명은 (1) 아연 이온; (2) 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온; 및 (3) 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 처리 조성물에 관한 것이며, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물은 물질 또는 기판에 대한 중합체의 접착성을 향상시키는 피막을 물질 위에 또는 기판 상에 형성한다. 이들 각각의 조성물은 이후 더욱 상세히 기술된다.As pointed out above, the present invention provides a composition comprising (1) zinc ions; (2) metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof ; And (3) any electrolyte that does not contain potassium or sodium ions, and which is substantially free of chromium, wherein the anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition is characterized by the adhesion of a polymer to a material or a substrate. An improving film is formed on the material or on the substrate. Each of these compositions is described in more detail below.

본 발명의 처리 조성물의 아연 이온 성분은 수용액 중 충분한 양의 아연 이온을 형성하는 임의의 아연염으로부터 유도될 수 있다. 유용한 아연염의 예는 이에 한정되지 않지만 황산아연, 산화아연, 염화아연, 불화붕산아연, 아세트산아연 및 이의 배합물을 포함한다. 또한 상기 아연염의 수화물도 본 발명의 조성물에 단독으로 또는 배합물로 사용될 수 있는 것으로 이해된다. 바람직한 실시양태에 있어서, 예를 들면, 아연염은 황산아연 7수화물(ZnSO4ㆍ7H2O)이다. The zinc ion component of the treatment composition of the present invention may be derived from any zinc salt that forms a sufficient amount of zinc ions in an aqueous solution. Examples of useful zinc salts include, but are not limited to, zinc sulfate, zinc oxide, zinc chloride, zinc fluoride, zinc acetate, and combinations thereof. It is also understood that the hydrates of the zinc salts can also be used alone or in combination in the compositions of the present invention. In a preferred embodiment, for example, the zinc salt is zinc sulfate heptahydrate (ZnSO 4 7H 2 O).

바람직하게 아연 이온은 본 발명의 조성물에 조성물의 전체 용적을 기준으로 하여 약 0.1g/L 내지 약 100g/L, 더욱 바람직하게는 약 0.5g/L 내지 약 50g/L, 가장 바람직하게는 약 0.5g/L 내지 약 20g/L로 존재한다. 하나의 바람직한 실시양태에서 아연염은 황산아연 7수화물(ZnSO4ㆍ7H2O)이고, 조성물에 약 2g/L 내지 약 80g/L로 존재한다. Preferably zinc ions are present in the compositions of the present invention based on the total volume of the composition from about 0.1 g / L to about 100 g / L, more preferably from about 0.5 g / L to about 50 g / L, most preferably about 0.5 g / L to about 20 g / L. In one preferred embodiment the zinc salt is zinc sulfate heptahydrate (ZnSO 4 .7H 2 O) and is present in the composition at about 2 g / L to about 80 g / L.

본 발명의 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물은 아연과 함께 공침착물을 형성할 수 있고 물질 또는 기판의 표면에 침착되는 궁극적인 결절 구조물을 형성할 수 있는 금속 이온을 추가로 포함한다. 유용한 금속 이온은 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온 및 은 이온을 포함한다. 금속 이온은 본 발명의 처리 조성물에 단독으로 또는 배합물로 사용될 수 있다. The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition of the present invention further comprises metal ions that can form co-deposits with zinc and form the ultimate nodule structure deposited on the surface of the material or substrate. Useful metal ions include tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions and silver ions. Metal ions can be used alone or in combination in the treatment compositions of the present invention.

금속 이온은 상응하는 금속염 또는 이의 수화물 또는 금속 산으로부터 유도될 수 있다. 본 발명의 조성물에 유용한 금속염 또는 금속염 수화물의 예는 황산니켈 또는 황산니켈 수화물, 몰리브덴산암모늄, 산화몰리브덴, 과망간산칼륨, 황산망간, 및 이의 배합물을 포함한다. 금속 산의 예는 몰리브덴산, 텅스텐산, 텅스텐규산(tungstosilicic acid) 및 이의 배합물을 포함한다. 바람직한 실시양태에 있어서, 금속 이온은 몰리브덴 이온, 텅스텐 이온 또는 이의 배합물이다. 본 발명은 이들 예에 한정되지 않고, 기타의 금속염, 또는 이의 수화물, 또는 금속 산을 사용할 수 있다. Metal ions can be derived from the corresponding metal salt or hydrate or metal acid thereof. Examples of metal salts or metal salt hydrates useful in the compositions of the present invention include nickel sulfate or nickel sulfate hydrate, ammonium molybdate, molybdenum oxide, potassium permanganate, manganese sulfate, and combinations thereof. Examples of metal acids include molybdate, tungstic acid, tungstosilicic acid and combinations thereof. In a preferred embodiment, the metal ions are molybdenum ions, tungsten ions or combinations thereof. The present invention is not limited to these examples, and other metal salts, hydrates thereof, or metal acids may be used.

바람직하게 금속 이온은 본 발명의 조성물에서 조성물의 총 부를 기준으로 약 5 내지 약 20,000ppm, 더욱 바람직하게는 약 15 내지 약 2,000ppm, 가장 바람직하게는 약 25 내지 약 300ppm으로 존재한다. Preferably the metal ions are present in the composition of the present invention at about 5 to about 20,000 ppm, more preferably at about 15 to about 2,000 ppm, most preferably at about 25 to about 300 ppm, based on the total portion of the composition.

다수의 예에서, 아연염은 본 발명의 조성물에 충분한 전도도를 제공하여 물질 또는 기판 상에 아연 및 금속 이온의 침착을 허용한다. 그러나, 아연염의 농도가 낮은 경우 조성물의 적합한 전해 침착을 위한 충분한 전기 전도도가 존재하지 않을 수 있다. 이러한 경우, 처리 조성물에 추가의 전해질을 가하여 적합한 침착이 이루어질 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 전해질로서 임의의 수용성 염이 사용될 수 있지만, 상기 전해질은 나트륨 또는 칼륨을 함유하지 않는 것이 바람직하다. 국재 공개공보 제00/74131호에 기재된 바와 같이, 나트륨 또는 칼륨 이온이 수성 도금 조성물에 존재함으로써 국재 공개공보 제00/74131호가 교시하는 바에 따르면 이들 이온이 규소 다이 속으로 분산되어 전자 디바이스에서의 후속적인 불량을 유발하게 된다. 따라서 나트륨 또는 칼륨을 함유하지 않는 전해질이 바람직하다. In many instances, zinc salts provide sufficient conductivity to the compositions of the present invention to allow for the deposition of zinc and metal ions on the material or substrate. However, when the concentration of zinc salt is low, there may not be sufficient electrical conductivity for proper electrolytic deposition of the composition. In such cases, it is desirable to add additional electrolyte to the treatment composition so that a suitable deposition can be achieved. Any water soluble salt may be used as the electrolyte, but the electrolyte preferably contains no sodium or potassium. As described in WO 00/74131, the presence of sodium or potassium ions in an aqueous plating composition teaches that WO 00/74131 teaches that these ions are dispersed into silicon dies and subsequently It will cause bad defects. Therefore, electrolytes containing no sodium or potassium are preferred.

이에 한정되지 않는 유용한 전해질의 예는 황산암모늄, 붕산, 시트르산, 글루콘산, 수산화루비듐, 염화암모늄 및 이들의 배합물을 포함한다. 일반적으로 전해질 성분은 약 1g/L 내지 약 500g/L, 더욱 바람직하게는 약 5g/L 내지 약 200g/L, 가장 바람직하게는 약 10g/L 내지 약 50g/L를 포함한다. Examples of useful electrolytes including, but not limited to, ammonium sulfate, boric acid, citric acid, gluconic acid, rubidium hydroxide, ammonium chloride and combinations thereof. Generally, the electrolyte component comprises about 1 g / L to about 500 g / L, more preferably about 5 g / L to about 200 g / L, most preferably about 10 g / L to about 50 g / L.

위에서 지적된 바와 같이, 본 발명의 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물에는 실질적으로 크롬이 존재하지 않는다. 크롬이 존재하는 경우 화학물질 공급원 또는 환경으로부터 피할 수 없는 오염을 초래한다. 본원에서 정의되는 바와 같이, "실질적으로 크롬을 함유하지 않는다"는 일반적으로 크롬의 농도가 조성물의 전체 중량을 기준으로 약 0.001중량% 미만인 것을 의미한다. 크롬(VI)은 유독성인 것으로 알려져 왔고 환경, 건강 및 안전상 이롭지 못하다. 따라서, 실질적으로 크롬을 함유하지 않는 본 발명의 조성물은 이러한 단점에 해당되지 않는다. As noted above, substantially no chromium is present in the antirust adhesion promoting aqueous treatment composition of the present invention. The presence of chromium results in unavoidable contamination from chemical sources or the environment. As defined herein, “substantially free of chromium” generally means that the concentration of chromium is less than about 0.001% by weight, based on the total weight of the composition. Chromium (VI) has been known to be toxic and does not benefit the environment, health and safety. Thus, the compositions of the present invention that are substantially free of chromium do not fall under this disadvantage.

본 발명의 처리 조성물은 적합한 양의 아연과 금속 화합물 및 경우에 따라 전해질을 물에서 혼합하여 목적하는 농도의 각각의 성분을 수득함으로써 제조될 수 있다. 용액의 pH는 산(예를 들면, 붕산, 황산, 염산, 시트르산, 글루콘산 등) 또는 나트륨이나 칼륨을 함유하지 않는 염기(예를 들면, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화루비듐, 수산화암모늄 등)를 가하여 설정된다. 본 발명에 따른 처리 조성물의 바람직한 pH는 약 0.5 내지 약 14.0, 더욱 바람직한 pH 범위는 약 1.5 내지 약 13.5, 가장 바람직한 pH 범위는 약 2.5 내지 약 13.0이다. 또한, 본 발명에 따른 조성물의 pH가 중성 범위(예를 들면, pH 5 내지 9)인 경우, 시트르산 또는 글루콘산의 염과 같은 복합제제가 도금 용액 중 가용성 상태로 금속 이온을 유지시키기 위해 필요할 수 있다. The treating composition of the present invention may be prepared by mixing a suitable amount of zinc and metal compounds and optionally an electrolyte in water to obtain each component at the desired concentration. The pH of the solution is added by adding an acid (e.g. boric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, citric acid, gluconic acid, etc.) or a base that does not contain sodium or potassium (e.g., calcium hydroxide, magnesium hydroxide, rubidium hydroxide, ammonium hydroxide, etc.). Is set. Preferred pH of the treatment composition according to the present invention is about 0.5 to about 14.0, more preferred pH range is about 1.5 to about 13.5, most preferred pH range is about 2.5 to about 13.0. In addition, when the pH of the composition according to the invention is in the neutral range (eg, pH 5-9), a co-formulation, such as a salt of citric acid or gluconic acid, may be necessary to keep the metal ions in the soluble state in the plating solution. .

일반적으로, 본 발명에 따른 크롬을 함유하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물은 피복물을 도포하기 위해 공지된 공정에 제공될 수 있다. 예를 들면, 물질 또는 기판의 피복 전에, 물질 또는 기판을 임의의 잔류 윤활제, 오일, 먼지 또는 표면 산화물을 제거하기 위해 시판중인 알칼리성 클리너 또는 NaOH 속에서 전해 탈지할 수 있다. 클리너의 농도의 예는 전형적으로 욕 온도 130℉ 및 전류 밀도 30asf(ampere per square foot: A/ft2)에서 20초 동안 30g/l이다. 그러나, 임의의 목적하는 세척 매개변수가 기술분야에 공지된 바와 같이 사용될 수 있다. 세척 후, 샘플을 5%의 황산 용액 속에 침지하여 표면을 활성화한다. In general, the rust free adhesion promoting aqueous treatment composition according to the present invention may be provided in a known process for applying a coating. For example, prior to coating the material or substrate, the material or substrate may be electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner or NaOH to remove any residual lubricant, oil, dust or surface oxides. An example of the concentration of the cleaner is typically 30 g / l for 20 seconds at a bath temperature of 130 ° F. and a current density of 30 asf (ampere per square foot (A / ft 2 ). However, any desired wash parameters can be used as known in the art. After washing, the sample is immersed in 5% sulfuric acid solution to activate the surface.

침착 중에는 다음의 조건이 바람직하다. 침착 중 도금 욕의 온도는 바람직하게 약 100 내지 약 150℉, 더욱 바람직하게는 약 110 내지 약 140℉, 가장 바람직하게는 약 120 내지 약 140℉의 범위일 수 있다. 침착 중 전류 밀도는 약 2 내지 약 200asf, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 100asf, 가장 바람직하게는 약 5 내지 약 30asf의 범위일 수 있다. 침착 시간은 바람직하게 약 1 내지 약 200초, 더욱 바람직하게는 약 2 내지 약 50초, 가장 바람직하게는 약 2 내지 약 20초의 범위일 수 있다. The following conditions are preferable during deposition. The temperature of the plating bath during deposition may preferably range from about 100 to about 150 ° F., more preferably from about 110 to about 140 ° F., and most preferably from about 120 to about 140 ° F. The current density during deposition may range from about 2 to about 200 asf, more preferably from about 5 to about 100 asf, most preferably from about 5 to about 30 asf. Deposition time may preferably range from about 1 to about 200 seconds, more preferably from about 2 to about 50 seconds, most preferably from about 2 to about 20 seconds.

물질 또는 기판 상에 침착되면, 본 발명의 조성물은 도 1(a), 도 1(b) 및 도 1(c)에 나타낸 바와 같은 결절 구조물을 함유하는 피막을 형성한다. 피막의 두께는 침착 조건(이후 더욱 상세히 설명된다)에 따라, 바람직하게 약 15 내지 약 500Å의 범위이다. 평균적으로 바람직하게는 16㎛2 당 약 25 내지 약 1,000개의 결절 구조물, 가장 바람직하게는 결절 구조물의 평균 밀도가 1㎛2 당 약 50 내지 약 500이다. 각각의 구성 구조의 평균 길이는 바람직하게 약 0.01㎛ 내지 약 1㎛, 더욱 바람직하게는 평균 길이가 약 0.05㎛ 내지 약 0.5㎛이다. 바람직한 종횡비(길이 대 직경)는 약 1:1 내지 약 8:1이고 더욱 바람직하게는 약 2:1 내지 약 6:1이다. Once deposited on a material or substrate, the composition of the present invention forms a coating containing the nodular structure as shown in FIGS. 1 (a), 1 (b) and 1 (c). The thickness of the coating is preferably in the range of about 15 to about 500 mm 3, depending on the deposition conditions (described in more detail below). On average preferably about 25 to about 1,000 nodular structures per 16 μm 2 , and most preferably the average density of the nodule structures is about 50 to about 500 per μm 2 . The average length of each constituent structure is preferably from about 0.01 μm to about 1 μm, more preferably from about 0.05 μm to about 0.5 μm. Preferred aspect ratios (length to diameter) are about 1: 1 to about 8: 1 and more preferably about 2: 1 to about 6: 1.

대부분의 결절 구조물은 표면으로부터 수직으로 연장되지 않지만, 서로 교차하는 메쉬를 형성하면서 다양한 각도에서 표면으로부터 연장되는 것으로 여겨진다. 개별적인 결절 구조물들 사이의 틈 상에 흐르는 중합체는 간극들 사이의 굽은 경로를 따르고, 고체화되면서 중합체는 기계적으로 그 위치에서 로킹(locking)되는 것으로 나타난다. 또한, 피복 층은 중합체에 대한 물질 또는 기판의 접착성을 향상시킨다. 기판 표면상의 결절 구조물의 존재로 인해 결절 구조물이 없는 표면에 비해 중합체 접착제의 기계적 로킹이 향상된다. 예를 들면, 샘플을 85% RH/80 내지 85℃에서 168시간 동안 노출 및 이후의 약 260℃ 납땜에서 120초 동안 열 쇼크 후에 중합체 접착제의 종류에 따라 바람직하게는 1,000psi를 초과하는 범위, 더욱 바람직하게는 1,100 내지 2,400psi의 결합 강도가 수득될 수 있다. 피복 층은 금속 기판에 견고하게 결합되고 금속 기판과 피복 층 사이의 접촉면에서 또는 산화구리 피복물에서 전형적인 바와 같이 피복 층 자체 내에서 분리되지 않는다. 본 발명에 기술되는 바와 같이 결절 방청성 피복물이 아닌 경우, 금속과 중합체 사이의 결합 강도는 전형적으로 상기 기술된 강도의 절반 미만이다. Most nodular structures do not extend vertically from the surface, but are believed to extend from the surface at various angles, forming meshes that intersect each other. The polymer flowing on the gaps between the individual nodular structures follows the curved path between the gaps and, as it solidifies, the polymer appears to be mechanically locked in place. In addition, the coating layer improves the adhesion of the material or substrate to the polymer. The presence of the nodule structure on the substrate surface improves the mechanical locking of the polymer adhesive compared to the surface without the nodule structure. For example, after exposure of the sample at 85% RH / 80 to 85 ° C. for 168 hours and subsequent thermal shock at about 260 ° C. soldering for 120 seconds, preferably in the range exceeding 1,000 psi, moreover, depending on the type of polymer adhesive Preferably bond strengths of 1,100 to 2,400 psi can be obtained. The coating layer is firmly bonded to the metal substrate and does not separate in the coating layer itself as is typical at the contact surface between the metal substrate and the coating layer or in the copper oxide coating. In the absence of a nodular antirust coating as described herein, the bond strength between the metal and the polymer is typically less than half the strength described above.

피복 층은 복합 물질이 저장, 가공 또는 사용 중에 노출될 수 있는 온도에서 산화를 방지하는데 기여한다. 이들 온도는 전형적으로 약 250℃에 이른다. 피복 층이 불연속적인 틈과 간극을 갖기는 하지만, 피복 층 또는 산화 부위를 완전히 관통하는 연장은 발생하지 않는다. 산화 방지 이외에, 피복 층은 산업 환경에서 또는 작업자의 손가락에서 발견되는 염화물, 황화물 및 기타의 오염물 농도를 희석시키는 부식 방지 특성을 제공한다. The coating layer contributes to preventing oxidation at temperatures where the composite material may be exposed during storage, processing or use. These temperatures typically reach about 250 ° C. Although the coating layer has discrete gaps and gaps, no extension occurs completely through the coating layer or the oxidation site. In addition to anti-oxidation, the coating layer provides corrosion protection properties that dilute the chloride, sulfide and other contaminant concentrations found in industrial environments or on the operator's fingers.

본 발명에 기술되는 방청성의 접착 촉진 피복물 및 이의 도포 방법은 전기화학 원리에 기초하여 임의의 전도체에 임의의 공정 단계에서 적용될 수 있다. 예를 들면, 구리 및 구리 합금뿐만 아니라, 니켈, 철, 알루미늄, 강, 스테인레스 강, 아연, 주석, 은, 팔라듐, 금, 티탄, 탄소 및 전류를 통과시키기에 전도도가 충분한 기타의 임의의 물질 또는 기판이 전기도금될 수 있다. 또한, 금속화 비전도체도 자체로서 전기도금될 수 있다. 또 다른 예에서, 리드 프레임 제작 공정에서 은 도금 후에 본 발명의 방청성 피복물을 도포하는 것이 편리하다. 필요한 경우, 본 발명의 피복물은, 전형적으로 은의 배면 도금 또는 스필-오버 도금을 제거하기 위해 사용되는 후속적인 은 스트리핑 공정에서 마스크를 사용하여 와이어 결합이 필요한 위치에서 제거될 수 있다. 또는, 본 발명의 방청성 피복물은 IC 칩 부착 및 와이어 결합 후에 도포될 수 있다. 이러한 방식은 와이어 결합 영역에서 상기 피복물을 제거하는 것은 필요로 하지 않는다. The rust-preventing adhesion promoting coatings and methods of application thereof described herein can be applied at any process step to any conductor based on electrochemical principles. For example, copper and copper alloys, as well as nickel, iron, aluminum, steel, stainless steel, zinc, tin, silver, palladium, gold, titanium, carbon, and any other material with sufficient conductivity to pass electrical current or The substrate may be electroplated. In addition, metallized nonconductors can also be electroplated themselves. In another example, it is convenient to apply the anti-corrosive coating of the present invention after silver plating in a lead frame fabrication process. If desired, the coatings of the present invention may be removed at locations where wire bonding is needed using masks in subsequent silver stripping processes typically used to remove back plating or spill-over plating of silver. Alternatively, the antirust coating of the present invention may be applied after IC chip attachment and wire bonding. This approach does not require removing the coating at the wire bonding area.

본 발명은 다음의 실시예에 의해 더욱 상세하게 기술된다. 모든 부와 퍼센트는 중량에 의한 것이고, 모든 온도는 달리 구체적으로 언급하지 않는 한 섭씨 온도이다. The invention is described in more detail by the following examples. All parts and percentages are by weight and all temperatures are in degrees Celsius unless specifically stated otherwise.

실시예Example 1 One

C110 구리 호일(> 99.9% Cu 및 < 0.05% O)을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 세척된 구리 호일을 ZnSO4ㆍ7H2O 10g/L, (NH4)2SO4 10g/L 및 W(텅스텐규산으로서 텅스텐) 25ppm을 함유하는 용액 속에 침지시켰다. 도금 전류 10A/ft2(ASF)를 0.035ft2의 영역에 2, 5 및 10초 간격으로 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조시켰다. 도 1(a), 도 1(b) 및 도 1(c)는 세 시간 간격에서 처리된 표면의 스캔 전자 마이크로그래프(SEM)를 나타낸다. 각각의 경우, 결절 형태를 볼 수 있다. C110 copper foil (> 99.9% Cu and <0.05% O) was electrolytically degreased in commercial alkaline cleaners to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. The washed copper foil was immersed in a solution containing 10 g / L of ZnSO 4 7H 2 O, 10 g / L of (NH 4 ) 2 SO 4 and 25 ppm of W (tungsten as tungsten silicic acid). A plating electric current 10A / ft 2 (ASF) in the region of 0.035ft 2 was applied to the 2, 5 and 10 seconds. The sample was then washed and dried. 1 (a), 1 (b) and 1 (c) show scan electron micrographs (SEM) of the treated surfaces at three time intervals. In each case, nodular form is seen.

구리 호일 샘플을 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 먼저 테이프를 도금된 표면에 압착시킨 다음 표면으로부터 떼어 내었다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있고, 결절 구조물이 구리 호일 상에 침착된 것을 나타낸다. Copper foil samples were subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape was first pressed onto the plated surface and then peeled off from the surface. The adhesive remains visible on the plated sample, indicating that nodular structures are deposited on the copper foil.

샘플을 추가로 250℃에서 30분 동안 베이킹하였다. 샘플은 베이킹 후에도 전혀 산화를 나타내지 않는 반면, 미처리된 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 침착된 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. 베이킹된 샘플을 위에서 기술된 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 추가로 적용한다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있고, 이는 다시 구리 호일 상에 침착된 결절 구조물의 존재를 나타낸다. The sample was further baked at 250 ° C. for 30 minutes. The sample showed no oxidation even after baking, while the untreated portion was severely oxidized. These results indicate that the deposited coating provides good rust resistance. The baked sample is further subjected to a tape test using the Scotch 600 tape described above. The adhesive remains visible on the plated sample, which in turn indicates the presence of nodular structures deposited on the copper foil.

실시예Example 2 2

한쪽 면상에 순수한 구리 수지상 결정을 갖고 다른 한쪽 면은 그대로 드러난 C110 구리 호일 샘플을 5중량%의 H2SO4 중에 30초 동안 침지시켜 임의의 존재하는 표면 산화물을 제거하였다. ZnSO4ㆍ7H2O 10g/L, (NH4)2SO4 20g/L 및 W 25ppm을 함유하는 수성 도금 조성물에 한쪽 면만 노출시키는 디바이스에 샘플을 위치시키고, 도금 전류 10ASF를 0.104ft2의 영역에 5초 동안 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조시켰다. 반대쪽 표면을 동일한 용액과 도금 전류에 노출시키는 제2 샘플 상에 동일한 과정을 반복하였다. 샘플을 95℃/55% RH 시험에 60분 동안 추가로 적용시켜 뜨겁고 습한 조건에서 장기간 저장성을 촉진시켰다. 이어서, 샘플을 190℃ 에서 30분 동안 베이킹하고 산화를 나타내지 않는다. 미처리 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. A C110 copper foil sample with pure copper dendritic crystals on one side and exposed on the other side was immersed in 5% by weight of H 2 SO 4 for 30 seconds to remove any surface oxides present. The sample is placed in a device exposing only one side to an aqueous plating composition containing ZnSO 4 7H 2 O 10 g / L, (NH 4 ) 2 SO 4 20 g / L and W 25 ppm, and the plating current 10ASF is set to 0.104 ft 2 . Was applied for 5 seconds. The sample was then washed and dried. The same procedure was repeated on the second sample exposing the opposite surface to the same solution and plating current. Samples were further subjected to a 95 ° C./55% RH test for 60 minutes to promote long term shelf life in hot and humid conditions. The sample is then baked at 190 ° C. for 30 minutes and shows no oxidation. The untreated portion was heavily oxidized. These results indicate that the coating provides good rust resistance.

실시예Example 3 3

C110 구리 호일을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 5ASF를 0.035ft2의 영역에 5초 동안 ZnSO4ㆍ7H2O 5g/L, NiSO4ㆍ6H2O 3g/L 및 MITIQUE(몰리브덴산암모늄 1 내지 3%를 함유하는 무기산 조성물; Hubbard Hall, Waterbury, CT 제조) 2.5ml/l를 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조한 다음, 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 먼저 테이프를 도금된 표면에 압착시킨 다음 표면으로부터 떼어 내었다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있다. 이러한 결과는 결절 구조물이 침착된 것을 나타낸다. The C110 copper foil was electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. 5 ns of plating current 5ASF in a region of 0.035 ft 2 for 5 seconds ZnSO 4 .7H 2 O 5g / L, NiSO 4 .6H 2 O 3g / L and MITIQUE (Inorganic acid composition containing 1 to 3% ammonium molybdate; Hubbard Hall , Waterbury, CT) was applied in a solution containing 2.5 ml / l. The samples were then washed and dried and subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape was first pressed onto the plated surface and then peeled off from the surface. The adhesive remains visible on the plated sample. These results indicate that nodular structures are deposited.

샘플을 추가로 250℃에서 10분 동안 베이킹 시험에 적용시켰다. 샘플은 베이킹 후에도 전혀 산화를 나타내지 않는다. 미처리된 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. The sample was further subjected to a baking test at 250 ° C. for 10 minutes. The sample shows no oxidation at all after baking. The untreated portion was heavily oxidized. These results indicate that the coating provides good rust resistance.

실시예Example 4 4

두께가 0.03inch인 C7025 구리 호일(Cu 96.2%, Ni 3.0%, Si 0.65%, 및 Mg 0.15%)을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활 제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 10ASF를 0.035ft2의 영역에 10초 동안 ZnSO4ㆍ7H2O 10g/L 및 MITIQUE 1.5ml/l를 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조시켰다. 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험 결과, 접착제가 처리된 표면에 전달되고, 결절 표면 또는 거칠어진 표면이 수득되는 것을 나타낸다. 추가의 샘플을 도금하고, 수미콘(Sumicon) 6300 성형 배합물을 사용하여 캡슐 피복한 다음 시험 표준 IPC/JEDEC J-STD-020A에 기술되어 있는 바와 같이 168시간 동안 85% RH/85℃ 수분 시험에 적용하였다. 샘플을 약 260℃에서 120초 동안 납땜에 노출시킨 후, 접착 강도는 인장 강도 시험에서 측정되며, 이때 캡슐 피복된 금속 샘플을 성형 배합물로부터 떼어내고 분리력은 인스트론 인장 시험기를 사용하여 기록한다. 샘플은 온도/습도에 노출시키지 않은 샘플과 비교하는 경우 결합 강도의 손실이 발견되지 않는다. 대조해 보면, 결절 처리 없는 샘플은 전형적으로 이의 본래의 결합 강도의 50% 이상을 손실한다. A 0.03 inch thick C7025 copper foil (Cu 96.2%, Ni 3.0%, Si 0.65%, and Mg 0.15%) was electrolytically degreased in commercial alkaline cleaners to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. Plating current 10ASF was applied in a solution containing 10 g / L ZnSO 4 7H 2 O and 1.5 ml / l MITIQUE in the region of 0.035 ft 2 for 10 seconds. The sample was then washed and dried. Tape test using a Scotch 600 tape indicates that the adhesive is transferred to the treated surface and a nodular or roughened surface is obtained. Additional samples were plated, capsule coated using a Sumicon 6300 molding compound and then subjected to 85% RH / 85 ° C. moisture test for 168 hours as described in test standard IPC / JEDEC J-STD-020A. Applied. After exposing the sample to the solder for 120 seconds at about 260 ° C., the adhesive strength is measured in the tensile strength test, with the capsule coated metal sample removed from the molding formulation and the separation force recorded using an Instron tensile tester. No loss of bond strength is found when the sample is compared to a sample that is not exposed to temperature / humidity. In contrast, a sample without nodule treatment typically loses at least 50% of its original bond strength.

실시예Example 5 5

C110 구리 호일을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 10ASF를 0.035ft2의 영역에 10초 동안 ZnSO4ㆍ7H2O 10g/L 및 MoO3 45ppm을 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조한 다음, 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 먼저 테이프를 도금된 표면에 압착시킨 다음 표면으로부터 떼 어 내었다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있다. 이러한 결과는 결절 구조물이 침착된 것을 나타낸다. The C110 copper foil was electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. Plating current 10ASF was applied in a solution containing 10 g / L ZnSO 4 7H 2 O and 45 ppm MoO 3 in the region of 0.035 ft 2 for 10 seconds. The samples were then washed and dried and subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape was first pressed onto the plated surface and then removed from the surface. The adhesive remains visible on the plated sample. These results indicate that nodular structures are deposited.

샘플을 추가로 250℃에서 10분 동안 베이킹 시험에 추가로 적용시켰다. 샘플은 베이킹 후에도 전혀 산화를 나타내지 않는다. 미처리된 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. The sample was further subjected to a baking test at 250 ° C. for 10 minutes. The sample shows no oxidation at all after baking. The untreated portion was heavily oxidized. These results indicate that the coating provides good rust resistance.

실시예Example 6 6

두께가 0.03inch인 C7025 구리 호일을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 10ASF를 0.035ft2의 영역에 10초 동안 ZnSO4ㆍ7H2O 10g/L 및 Mo(몰리브덴산으로서) 30ppm을 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조한 다음, 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 테이프 시험 결과, 접착제가 처리된 표면에 전달되고, 결절 표면 또는 거칠어진 표면이 수득되는 것을 나타낸다. 추가의 샘플을 도금하고, 수미콘 6300 및 신에츠(Shinetsu) KMC-289-3ECS 성형 배합물을 사용하여 캡슐 피복한 다음, 시험 표준 IPC/JEDEC J-STD-020A에 기술되어 있는 바와 같이 168시간 동안 85% RH/85℃ 수분 시험에 적용하였다. 샘플을 약 260℃에서 120초 동안 납땜에 노출시킨 후, 접착 강도를 측정하였다. 도2에 나타낸 바와 같이, 결합강도는 노출되지 않은 샘플에 비교하는 경우 거의 손실이 발견되지 않는다. A 0.03 inch thick C7025 copper foil was electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. Plating current 10ASF was applied in a solution containing 10 g / L ZnSO 4 7H 2 O and 30 ppm Mo (as molybdate) in the region of 0.035 ft 2 for 10 seconds. The samples were then washed and dried and subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape test indicates that the adhesive is delivered to the treated surface and a nodular or roughened surface is obtained. Additional samples were plated, capsule coated using Sumicon 6300 and Shintsu KMC-289-3ECS molding formulations, and then 85 hours for 168 hours as described in test standard IPC / JEDEC J-STD-020A. Applied to the% RH / 85 ° C. moisture test. The sample was exposed to the solder for 120 seconds at about 260 ° C. and then the adhesive strength was measured. As shown in Fig. 2, the bond strength is hardly found to be lost when compared to an unexposed sample.

실시예Example 7 7

두께가 0.03inch인 C7025 구리 호일을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 10ASF를 0.035ft2의 영역에 5초 동안 ZnSO4ㆍ7H2O 15g/L, (NH4)2SO4 15g/L 및 W(텅스텐규산으로서) 25ppm을 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조한 다음, 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 먼저 테이프를 도금된 표면에 압착시킨 다음 표면으로부터 떼어 내었다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있다. 이러한 결과는 결절 구조물이 침착된 것을 나타낸다. A 0.03 inch thick C7025 copper foil was electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. Plating current 10ASF was applied in a solution containing ZnSO 4 7H 2 O 15 g / L, (NH 4 ) 2 SO 4 15 g / L and 25 ppm W (as tungsten silicic acid) in the region of 0.035 ft 2 for 5 seconds. The samples were then washed and dried and subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape was first pressed onto the plated surface and then peeled off from the surface. The adhesive remains visible on the plated sample. These results indicate that nodular structures are deposited.

샘플을 추가로 250℃에서 10분 동안 베이킹 시험에 추가로 적용시켰다. 샘플은 베이킹 후에도 전혀 산화를 나타내지 않는다. 미처리된 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. The sample was further subjected to a baking test at 250 ° C. for 10 minutes. The sample shows no oxidation at all after baking. The untreated portion was heavily oxidized. These results indicate that the coating provides good rust resistance.

추가의 샘플을 도금하고, 수미콘 6300 및 신에토(Shineto) KMC-289-3ECS 성형 배합물을 사용하여 캡슐 피복한 다음, 시험 표준 IPC/JEDEC J-STD-020A에 기술되어 있는 바와 같이 168시간 동안 85% RH/85℃ 수분 시험에 적용하였다. 샘플을 약 260℃에서 120초 동안 납땜에 노출시킨 후, 접착 강도를 측정하였다. 도2에 나타낸 바와 같이, 결합강도는 노출되지 않은 샘플에 비교하는 경우 전혀 손실이 발견되지 않는다. Additional samples were plated, capsule coated using Sumicon 6300 and Shinto KMC-289-3ECS molding formulations, and then 168 hours as described in test standard IPC / JEDEC J-STD-020A. During 85% RH / 85 ° C. moisture test. The sample was exposed to the solder for 120 seconds at about 260 ° C. and then the adhesive strength was measured. As shown in Figure 2, no bond strength was found to be lost when compared to an unexposed sample.

실시예Example 8 8

두께가 0.03inch인 C7025 구리 호일을 시판중인 알칼리성 클리너 속에서 전해 탈지시켜 표면으로부터 잔류 윤활제, 오염물 및 산화물을 제거하였다. 도금 전류 5ASF를 0.035ft2의 영역에 4초 동안 NaOH 12.5g/L, 아연 2.25g/L 및 W 0.65g/L를 함유하는 용액 속에 인가시켰다. 이어서, 샘플을 세정하고 건조한 다음, 스캇치 600테이프를 사용하는 테이프 시험에 적용하였다. 먼저 테이프를 도금된 표면에 압착시킨 다음 표면으로부터 떼어 내었다. 접착제가 도금된 샘플 상에 가시적으로 남아 있다. 이러한 결과는 결절 구조물이 침착된 것을 나타낸다. A 0.03 inch thick C7025 copper foil was electrolytically degreased in a commercial alkaline cleaner to remove residual lubricants, contaminants and oxides from the surface. Plating current 5ASF was applied in a solution containing 12.5 g / L NaOH, 2.25 g / L zinc and 0.65 g / L W for 4 seconds in the region of 0.035 ft 2 . The samples were then washed and dried and subjected to a tape test using Scotch 600 tape. The tape was first pressed onto the plated surface and then peeled off from the surface. The adhesive remains visible on the plated sample. These results indicate that nodular structures are deposited.

샘플을 추가로 250℃에서 30분 동안 베이킹 시험에 추가로 적용시켰다. 샘플은 베이킹 후에도 전혀 산화를 나타내지 않는다. 미처리된 부분은 심하게 산화되었다. 이러한 결과는 피복물이 양호한 방청성을 제공하는 것을 나타낸다. The sample was further subjected to a baking test at 250 ° C. for 30 minutes. The sample shows no oxidation at all after baking. The untreated portion was heavily oxidized. These results indicate that the coating provides good rust resistance.

Claims (43)

아연 이온, Zinc ions, 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온 및 Metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof; and 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, Includes any electrolyte that does not contain potassium or sodium ions, 실질적으로 크롬을 함유하지 않고, 물질 위에 피막을 형성할 수 있으며, 피막이 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시키는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.An antirust adhesion promoting aqueous treatment composition substantially free of chromium and capable of forming a coating on the material, the coating improving the adhesion of the polymer to the material. 제1항에 있어서, 아연 이온이 아연염으로부터 유도되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the zinc ions are derived from zinc salts. 제2항에 있어서, 아연염이 황산아연, 산화아연, 염화아연, 불화붕산아연, 아세트산아연, 이들의 수화물 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 2, wherein the zinc salt is selected from the group consisting of zinc sulfate, zinc oxide, zinc chloride, zinc fluoride, zinc acetate, hydrates thereof, and combinations thereof. 제1항에 있어서, 아연 이온이 약 0.1g/L 내지 약 100g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the zinc ion comprises about 0.1 g / L to about 100 g / L. 제1항에 있어서, 아연 이온이 약 0.5g/L 내지 약 50g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the zinc ion comprises about 0.5 g / L to about 50 g / L. 제1항에 있어서, 아연 이온이 약 0.5g/L 내지 약 20g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the zinc ion comprises about 0.5 g / L to about 20 g / L. 제1항에 있어서, 금속 이온이 상응하는 금속염 또는 금속 산으로부터 유도되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the metal ion is derived from a corresponding metal salt or metal acid. 제7항에 있어서, 금속염이 황산니켈, 몰리브덴산암모늄, 산화몰리브덴, 과망간산칼륨, 황산망간, 이들의 수화물 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 7, wherein the metal salt is selected from the group consisting of nickel sulfate, ammonium molybdate, molybdenum oxide, potassium permanganate, manganese sulfate, hydrates thereof, and combinations thereof. 제7항에 있어서, 금속 산이 몰리브덴산, 텅스텐산, 텅스텐규산으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 7, wherein the metal acid is selected from the group consisting of molybdic acid, tungstic acid, tungsten silicic acid. 제1항에 있어서, 금속 이온이 몰리브덴 및 텅스텐으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the metal ion is selected from the group consisting of molybdenum and tungsten. 제1항에 있어서, 금속 이온이, 처리 조성물의 총 부를 기준으로 하여, 약 5 내지 약 20,000ppm 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition of claim 1, wherein the metal ions comprise from about 5 to about 20,000 ppm based on the total portion of the treatment composition. 제1항에 있어서, 금속 이온이, 처리 조성물의 총 부를 기준으로 하여, 약 15 내지 약 2,000ppm 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition of claim 1 wherein the metal ions comprise from about 15 ppm to about 2,000 ppm based on the total portion of the treatment composition. 제1항에 있어서, 금속 이온이, 처리 조성물의 총 부를 기준으로 하여, 약 25 내지 약 300ppm 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the metal ions comprise from about 25 ppm to about 300 ppm based on the total portion of the treatment composition. 제1항에 있어서, 임의의 전해질이 황산암모늄, 붕산, 시트르산, 글루콘산, 수산화루비듐, 염화암모늄 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The antirust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the optional electrolyte is selected from the group consisting of ammonium sulfate, boric acid, citric acid, gluconic acid, rubidium hydroxide, ammonium chloride and combinations thereof. 제1항에 있어서, 전해질이 약 1g/L 내지 약 500g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the electrolyte comprises about 1 g / L to about 500 g / L. 제1항에 있어서, 전해질이 약 5g/L 내지 약 200g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the electrolyte comprises about 5 g / L to about 200 g / L. 제1항에 있어서, 전해질이 약 10g/L 내지 약 50g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물.The anti-rust adhesion promoting aqueous treatment composition according to claim 1, wherein the electrolyte comprises about 10 g / L to about 50 g / L. 아연 또는 산화아연 원자 및Zinc or zinc oxide atoms and 텅스텐, 몰리브덴, 코발트, 니켈, 지르코늄, 티탄, 망간, 바나듐, 철, 주석, 인듐, 은 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 또는 산화금속 원자를 포함하고,A metal or metal oxide atom selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, cobalt, nickel, zirconium, titanium, manganese, vanadium, iron, tin, indium, silver and combinations thereof, 실질적으로 크롬을 함유하지 않고, 250℃에서 30분 이상 동안 방청성을 제공하고, 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시키는 결절 구조물(nodular structure)을 함유하는, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.A material coated with an anticorrosive adhesive treatment coating that is substantially free of chromium and contains a nodular structure that provides rust resistance for at least 30 minutes at 250 ° C. and improves the adhesion of the polymer to the material. 제18항에 있어서, 물질이 구리, 구리 합금, 니켈, 철, 알루미늄, 강, 스테인레스 강, 아연, 주석, 은, 팔라듐, 금, 티탄, 탄소, 금속화 비전도체 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 물질을 포함하는, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.19. The method of claim 18, wherein the material is from the group consisting of copper, copper alloys, nickel, iron, aluminum, steel, stainless steel, zinc, tin, silver, palladium, gold, titanium, carbon, metallized nonconductors, and combinations thereof. A material coated with a rust preventive adhesive coating comprising a material of choice. 제18항에 있어서, 기판 상의 피복물의 두께가 약 15 내지 약 500Å의 범위인, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.19. The material coated with an antirust adhesive coating according to claim 18, wherein the thickness of the coating on the substrate is in the range of about 15 to about 500 mm 3. 제18항에 있어서, 피복물이 16㎛2 당 약 25 내지 약 1,000개의 결절 구조물을 함유하는, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.The material coated with a rust preventive adhesive coating of claim 18, wherein the coating contains from about 25 to about 1,000 nodular structures per 16 μm 2 . 제18항에 있어서, 결절 구조물의 평균 길이가 각각 약 0.01㎛ 내지 약 1㎛의 범위이고, 종횡비(길이 대 직경)가 약 1:1 내지 약 8:1인, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.19. The method of claim 18, wherein the average length of the nodule structures range from about 0.01 μm to about 1 μm, respectively, and the aspect ratio (length to diameter) is from about 1: 1 to about 8: 1, coated with an antirust adhesive coating. matter. 제18항에 있어서, 피복된 기판을 포함하는, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.19. The material coated with an antirust adhesive coating according to claim 18, comprising a coated substrate. 전자 디바이스를 포함하는, 제23항에 따르는 기판.A substrate according to claim 23 comprising an electronic device. 디바이스/리드 프레임 어셈블리를 포함하는 제23항에 따르는 기판.A substrate according to claim 23 comprising a device / lead frame assembly. 제18항에 있어서, 피복된 기판이, 85% RH/80 내지 85℃에서 168시간 동안 노출 및 이후의 약 260℃ 납땜에서 120초 동안 열 쇼크 후에 향상된 접착성이 1,000psi를 초과하는, 방청성의 접착 처리 피복물로 피복된 물질.The rust-resistant substrate of claim 18, wherein the coated substrate has improved adhesion greater than 1,000 psi after exposure to 168 hours at 85% RH / 80 to 85 ° C. and subsequent heat shock for 120 seconds at about 260 ° C. soldering. Material coated with an adhesive treatment coating. 아연 이온; 텅스텐 이온, 몰리브덴 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 지르코늄 이온, 티탄 이온, 망간 이온, 바나듐 이온, 철 이온, 주석 이온, 인듐 이온, 은 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 이온; 및 칼륨 또는 나트륨 이온을 함유하지 않는 임의의 전해질을 포함하고, 실질적으로 크롬을 함유 하지 않는 방청성의 접착 촉진 수성 처리 조성물을 물질과 접촉시키는 단계 및Zinc ions; Metal ions selected from the group consisting of tungsten ions, molybdenum ions, cobalt ions, nickel ions, zirconium ions, titanium ions, manganese ions, vanadium ions, iron ions, tin ions, indium ions, silver ions and combinations thereof; And contacting the material with an antirust adhesion promoting aqueous treatment composition comprising any electrolyte free of potassium or sodium ions and substantially free of chromium; and 방청성의 접착 촉진 피복물을 상기 물질에 침착시켜 방청성의 접착 촉진 피복물(당해 피복물은 물질에 대한 중합체의 접착성을 향상시킨다)로 피복된 물질을 형성하는 조건하에, 처리 조성물을 통해 전류를 통과시키는 단계를 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.Passing an electrical current through the treatment composition under conditions such that the antirust adhesion promoting coating is deposited on the material to form a material coated with the antirust adhesion promoting coating (the coating enhances the adhesion of the polymer to the material). A method for forming a material coated with an antirust adhesion promoting coating comprising a. 제27항에 있어서, 물질이 구리, 구리 합금, 니켈, 철, 알루미늄, 강, 스테인레스 강, 아연, 주석, 은, 팔라듐, 금, 티탄, 탄소, 금속화 비전도체 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 물질을 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법. The method of claim 27 wherein the material is from the group consisting of copper, copper alloys, nickel, iron, aluminum, steel, stainless steel, zinc, tin, silver, palladium, gold, titanium, carbon, metallized nonconductors, and combinations thereof A method of forming a material coated with an antirust adhesion promoting coating comprising a material of choice. 제27항에 있어서, 조건이 약 100 내지 약 150℉의 범위의 온도를 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the conditions include a temperature in the range of about 100 to about 150 ° F. 29. 제27항에 있어서, 전류가 약 2 내지 약 200asf의 범위인, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the current is in the range of about 2 to about 200 asf. 제27항에 있어서, 조건이 약 1 내지 약 200초 범위의 침착 시간을 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the conditions comprise a deposition time in the range of about 1 to about 200 seconds. 제27항에 있어서, 아연 이온이 황산아연, 산화아연, 염화아연, 불화붕산아연, 아세트산아연, 이들의 수화물 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 아연염으로부터 유도되는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.28. The antirust coating according to claim 27, wherein the zinc ion is derived from a zinc salt selected from the group consisting of zinc sulfate, zinc oxide, zinc chloride, zinc fluoride, zinc acetate, hydrates thereof and combinations thereof. A method of forming a coated material. 제27항에 있어서, 아연 이온이 약 0.1g/L 내지 약 100g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the zinc ion comprises about 0.1 g / L to about 100 g / L. 제27항에 있어서, 금속 이온이 황산니켈, 몰리브덴산암모늄, 산화몰리브덴, 과망간산칼륨, 황산망간, 이들의 수화물 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 상응하는 금속염; 또는 몰리브덴산, 텅스텐산, 텅스텐규산 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속 산으로부터 유도되는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The metal salt of claim 27 wherein the metal ion is selected from the group consisting of nickel sulfate, ammonium molybdate, molybdenum oxide, potassium permanganate, manganese sulfate, hydrates thereof and combinations thereof; Or a material coated with an antirust adhesion promoting coating derived from a metal acid selected from the group consisting of molybdic acid, tungstic acid, tungsten silicic acid and combinations thereof. 제27항에 있어서, 금속 이온이, 처리 조성물의 총 부를 기준으로 하여, 약 5 내지 약 20,000ppm 포함되는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the metal ions comprise from about 5 to about 20,000 ppm based on the total portion of the treatment composition. 제27항에 있어서, 전해질이 황산암모늄, 붕산, 시트르산, 글루콘산, 수산화루비듐, 염화암모늄 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방청성 의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the electrolyte is selected from the group consisting of ammonium sulfate, boric acid, citric acid, gluconic acid, rubidium hydroxide, ammonium chloride, and combinations thereof. 제36항에 있어서, 전해질이 약 1g/L 내지 약 500g/L 포함되는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 36, wherein the electrolyte comprises from about 1 g / L to about 500 g / L. 제27항에 있어서, 기판 상의 피복물의 두께가 약 15 내지 약 500Å의 범위인, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the coating on the substrate has a thickness in the range of about 15 to about 500 GPa. 제27항에 있어서, 피복된 기판이 16㎛2 당 약 25 내지 약 1,000개의 결절 구조물을 함유하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the coated substrate contains from about 25 to about 1,000 nodular structures per 16 μm 2 . 제27항에 있어서, 결절 구조물의 평균 길이가 각각 약 0.01㎛ 내지 약 1㎛의 범위이고, 종횡비(길이 대 직경)가 약 1:1 내지 약 8:1인, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.28. The method of claim 27, wherein the average length of the nodule structures range from about 0.01 μm to about 1 μm, respectively, and the aspect ratio (length to diameter) is from about 1: 1 to about 8: 1, coated with an antirust adhesion promoting coating. How to form a substance. 제27항에 있어서, 물질이 기판을 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.The method of claim 27, wherein the material comprises a substrate. 제41항에 있어서, 기판이 전자 디바이스를 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.42. The method of claim 41, wherein the substrate comprises an electronic device. 제41항에 있어서, 기판이 디바이스/리드 프레임 어셈블리를 포함하는, 방청성의 접착 촉진 피복물로 피복된 물질을 형성하는 방법.42. The method of claim 41, wherein the substrate comprises a device / lead frame assembly.
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