KR20070017770A - Apparatus for correcting toenail - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈을 갖는 발톱을 교정하는 발톱 교정기에 관한 것으로서, 발톱의 상부 일 영역을 지지하는 베이스판과; 베이스판의 일측 가장자리로부터 소정의 간격을 두고 절곡 연장된 한 쌍의 연장부와; 각 연장부의 말단부로부터 베이스판의 저부를 향해 절곡 연장되어, 발톱의 발톱눈의 하부를 지지하는 한 쌍의 발톱눈 지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 발톱의 기형성장을 정상성장으로 유도하여 발톱을 교정할 수 있으며, 발톱의 성장에 의한 통증을 줄일 수 있다. The present invention relates to a toenail corrector for correcting a toenail exposed from the skin of the toe and positioned in the central region, and a toenail positioned at both edges of the toenail and contacting the skin, wherein the toenail corrector is supported. And base plate; A pair of extension portions bent and extended at a predetermined distance from one edge of the base plate; It extends from the distal end of each extension toward the bottom of the base plate, characterized in that it comprises a pair of toenail support that supports the lower part of the toenail of the toenail. As a result, it is possible to correct the toenails by inducing the tonal growth of the toenails to normal growth, and to reduce the pain caused by the growth of the toenails.

Description

발톱 교정기{APPARATUS FOR CORRECTING TOENAIL}Claw Corrector {APPARATUS FOR CORRECTING TOENAIL}

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 발톱 교정기의 사시도,1 is a perspective view of a claw brace according to a first embodiment of the present invention,

도 2는 도 1의 측면도,2 is a side view of FIG. 1;

도 3은 도 1의 발톱 교정기가 발톱에 장착된 상태를 도시한 도면,3 is a view showing a state in which the toenail corrector of FIG. 1 is mounted to the toenail,

도 4는 도 3의 발톱 교정기와 발톱의 분해사시도,4 is an exploded perspective view of the claw brace and toenail of FIG. 3,

도 5는 도 3의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 단면도,5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 3;

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기의 사시도,6 is a perspective view of a claw brace according to a second embodiment of the present invention,

도 7은 도 6의 측면도,7 is a side view of FIG. 6;

도 8은 도 6의 발톱 교정기가 발톱에 장착된 상태를 도시한 도면,8 is a view showing a state in which the toenail corrector of FIG. 6 is mounted to the toenail,

도 9는 도 8의 발톱 교정기와 발톱의 분해사시도,9 is an exploded perspective view of the claw brace and toenail of FIG. 8, FIG.

도 10은 도 8의 Ⅹ-Ⅹ선에 따른 단면도이다.10 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 8.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 발톱 5 : 발톱판1: toenail 5: toenail

7 : 발톱눈 10,10' : 발톱 교정기7: claw eye 10,10 ': claw brace

11 : 베이스판 15 : 관통공11: base plate 15: through hole

21 : 연장부 23 : 연결부21: extension part 23: connection part

25 : 발톱눈 지지부 27 : 발톱판 지지부25: claw eye support 27: claw plate support

31 : 볼트31: Bolt

본 발명은 발톱 교정기에 관한 것이다.The present invention relates to a toenail brace.

발톱은 피부 표피 속에서 생겨 표피의 표면에서 각질화한 것으로서, 발가락 등쪽(背側)으로 약간 돌출한 판 모양이며, 발가락의 선단을 보호한다.A toenail is formed in the epidermis of the skin and keratinized on the surface of the epidermis. It is a plate shape slightly protruding toward the dorsal toe and protects the tip of the toe.

발톱의 전체 모양은 대체로 사각형이며, 노출되어 있는 부분을 조판(爪板) 또는 조체(爪體)라 하고, 조판의 하층을 조상(爪床)이라 한다.The overall shape of the toenail is generally rectangular, and the exposed part is called typesetting or body, and the lower layer of typesetting is called an ancestor.

발톱의 앞쪽 가장자리를 발톱판 또는 자유연(自由緣), 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈 또는 외측연(外側緣), 피부에 묻혀 있는 뿌리 쪽의 가장자리를 잠입연(潛入緣)이라 한다.The front edge of the toenail is located on the toenails or free edges, on both edges of the toenail plate, and infiltrates the edges of the toenails or lateral margins that contact the skin, and the edges of the roots buried in the skin. This is called.

표피 속에 묻혀 있는 조판의 뿌리 쪽을 조근(爪根)이라 하고, 조근의 아래쪽 부분은 조모(爪母)라 하는데, 조모는 발톱의 신생에 중요한 부분이다.The root of the typeset buried in the epidermis is called the root (爪 根), the lower part of the root is called grandmother (爪 母), grandmother is an important part of the new toenails.

발톱은 바로 이 조모세포군에 의해 형성되고 자라나게 된다. 즉, 발톱은 뼈의 연장으로 착각 할 수도 있지만, 피부의 연장으로 표피가 변화해 각층이 분화된 것이다.The toenail is formed and grows by this group of hematopoietic cells. In other words, the toenail may be mistaken for the extension of the bone, but the extension of the skin causes the epidermis to change, resulting in different layers of each layer.

조판의 뿌리 근처에 반달 모양으로 희게 보이는 부분을 조반월(爪半月)이라 한다. 조반월은 조모에서 만들어져 나온 조판이 아직 각질화되지 않은 부분으로, 이 곳이 희게 보이는 것은 투과광선의 반사 때문이라고 알려져 있다. The half-moon-shaped area near the root of the typeset is called the breakfast moon. It is known that the typeset produced by the grandmother is not yet keratinized, and the whiteness of the place is due to the reflection of transmitted light.

조판의 조직은 편평형, 다각형, 타원형 등의 각질세포를 품고 있는 조각화층(爪角化層)이 변해서 된 것이다. 조상은 표피의 배아층(胚芽層)에 상당하는 조배아층과 진피층으로 되어 있다.The typesetting tissue is a change in the fragmentation layer containing keratinocytes such as squamous, polygonal and elliptical. Ancestors are composed of a crude embryonic layer and a dermis layer corresponding to the epidermal embryonic layer.

한편, 발톱의 발생은 대개 출생 3개월부터 시작하여 출생 5개월 정도면 대체로 그 형태가 잡히게 된다.On the other hand, the occurrence of the toenail usually begins at 3 months of birth and is usually about 5 months in its form.

생후의 생장속도는 여러 가지 조건에 따라 영향을 받으나 대체로 하루에 0.1mm 정도 자란다. 계절적으로는 여름에 가장 잘 자라고, 하루 중에서는 밤보다 낮에 잘 자란다. 또한, 연령면에서는 30세까지는 연령과 함께 생장속도가 증가하나 그 이후는 속도가 감소된다.Postnatal growth rate is affected by various conditions, but usually grows about 0.1 mm per day. Seasonally, it grows best in summer, and it grows better during the day than at night. In addition, the growth rate increases with age until age 30, but decreases after that.

이러한 발톱은 일정한 길이가 되면 통상 지렛대의 원리를 이용하여 제작된 손톱깎이를 이용하여 잘라주게 된다.These toenails are cut to a certain length using a nail clipper manufactured using the principle of the lever.

그런데, 발톱은 손톱깎이 등으로 잘못 절단하거나, 발톱의 외측연이 기형성장하는 경우, 발톱의 외측연이 피부에 파고들어 통증을 유발하는 경우가 있다.By the way, when a toenail is cut | disconnected incorrectly with a nail clipper or the outer edge of a toenail deforms, the outer edge of a toenail penetrates into skin and may cause pain.

따라서, 본 발명의 목적은, 발톱의 기형성장을 정상성장으로 유도하여 발톱을 교정할 수 있으며, 발톱의 성장에 의한 통증을 줄일 수 있는 발톱 교정기를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a toenail corrector that can induce a toasted growth of the toenail to normal growth and correct the toenail, thereby reducing the pain caused by the growth of the toenail.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 상기 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞 닿는 발톱눈을 갖는 발톱을 교정하는 발톱 교정기에 있어서, 상기 발톱의 상부 일 영역을 지지하는 베이스판과; 상기 베이스판의 일측 가장자리로부터 소정의 간격을 두고 절곡 연장된 한 쌍의 연장부와; 상기 각 연장부의 말단부로부터 상기 베이스판의 저부를 향해 절곡 연장되어, 상기 발톱의 발톱눈의 하부를 지지하는 한 쌍의 발톱눈 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, in the toenail corrector for correcting the toenail exposed to the skin of the toe and located in the central region, the toenail having a toenail located on both edges of the toe board and in contact with the skin A base plate supporting the upper one region of the toenail; A pair of extension portions bent and extended at a predetermined distance from one edge of the base plate; It extends from the distal end of each extension toward the bottom of the base plate, to provide a toenail corrector comprising a pair of toenail support for supporting the lower part of the toenail of the toenail.

여기서, 상기 베이스판과 상기 연장부와 상기 발톱눈 지지부는 탄성재질로 이루어지는 것이 바람직하다.Here, the base plate, the extension portion and the toenail support portion is preferably made of an elastic material.

한편, 상기 목적은, 본 발명의 다른 실시예로서, 발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 상기 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈을 갖는 발톱을 교정하는 발톱 교정기에 있어서, 적어도 하나의 관통공이 형성되고, 상기 발톱판의 상부에 배치되는 베이스판과; 상기 베이스판과 소정의 간격을 두고 이격하며, 상기 발톱판의 하부를 지지하는 발톱판 지지부와; 상기 베이스판과 상기 발톱판 지지부를 상호 연결하는 연결부와; 상기 베이스판의 관통공에 관통 결합되어, 상기 발톱판의 상부를 가압하는 볼트를 포함하는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기에 의해서도 달성된다.On the other hand, the above object, as another embodiment of the present invention, a toenail corrector for correcting the toenail exposed to the skin of the toe and located in the central area, the toenail having a toenail positioned on both edges of the toenail contact the skin In the at least one through-hole is formed, the base plate disposed on the top of the toe plate; A claw plate support part spaced apart from the base plate at a predetermined interval and supporting a lower portion of the claw plate; A connecting portion interconnecting the base plate and the toenail support; It is also achieved by a toenail straightener, characterized in that it comprises a bolt penetratingly coupled to the through-hole of the base plate to press the upper portion of the toenail plate.

여기서, 상기 베이스판과 상기 발톱판 지지부는 일정 간격을 두고 이격하며, 소정의 곡률반경으로 만곡 형성되어 있는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the base plate and the claw plate support portion are spaced apart at a predetermined interval, and are formed curved at a predetermined radius of curvature.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

설명에 앞서, 본 발명의 종래의 기술에서 언급한 바와 같이, 발톱은 발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈을 가진다. 이러한 발톱은 하향 만곡된 판형상을 가지며, 발가락의 선단부를 보호한다.Prior to the description, as mentioned in the prior art of the present invention, the toenail is exposed from the skin of the toe and has a toenail positioned in the central region, and a toenail positioned on both edges of the toenail plate and contacting the skin. This toenail has a downwardly curved plate shape and protects the tip of the toe.

도 1 내지 도 5에는 본 발명의 제1실시예에 따른 발톱 교정기가 도시되어 있다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 발톱 교정기(10)는, 베이스판(11)과, 베이스판(11)의 일측 가장자리로부터 절곡 연장된 한 쌍의 연장부(21)와, 각 연장부(21)의 말단부로부터 베이스판(11)의 저부를 향해 절곡 연장된 한 쌍의 발톱눈 지지부(25)를 가진다.1 to 5 show a toenail corrector according to a first embodiment of the present invention. As shown in these figures, the claw straightener 10 according to the first embodiment of the present invention, the base plate 11, and a pair of extension portions 21 extending from one side edge of the base plate 11 ) And a pair of toenail support portions 25 that extend from the distal end of each extension portion 21 toward the bottom of the base plate 11.

베이스판(11)은 직선상의 판형상을 가지며, 발톱(1)의 상부를 지지한다.The base plate 11 has a straight plate shape and supports the upper part of the toenail 1.

한 쌍의 연장부(21)는 베이스판(11)의 일측 가장자리로부터 베이스판(11)의 길이방향에 대해 가로로 소정의 간격을 두고 절곡 연장되어 있다.The pair of extension parts 21 are bent and extended from the one side edge of the base plate 11 at a predetermined interval horizontally with respect to the longitudinal direction of the base plate 11.

한 쌍의 발톱눈 지지부(25)는 각 연장부(21)의 말단부로부터 베이스판(11)의 저부를 향해 소정의 각도를 이루며 절곡 연장되어 있다. 이에, 한 쌍의 발톱눈 지지부(25)는 발톱(1)의 발톱눈(7)의 하부를 지지한다. 여기서, 발톱눈 지지부(25)의 각 말단부는 발가락의 선단 단면형상에 대응하여 소정의 곡률반경을 가지며, 라운드 가공되어 있다.The pair of toenail support portions 25 extend from the distal end of each extension portion 21 at a predetermined angle toward the bottom of the base plate 11. Thus, the pair of toenail supporters 25 support the lower part of the toenail 7 of the toenail 1. Here, each end portion of the toenail support portion 25 has a predetermined radius of curvature corresponding to the tip cross-sectional shape of the toe and is rounded.

여기서, 베이스판(11)과 연장부(21)와 발톱눈 지지부(25)는 탄성재질로 이루어지는 것이 바람직하며, 이에 베이스판(11)은 발톱(1)의 발톱판(5) 및 발톱눈(7)에 대해 탄성부세하고, 발톱눈 지지부(25)는 발톱(1)의 발톱눈(7)에 대해 탄성부세하여, 발톱(1)은 전체적으로 직선상의 단면형상을 가진다.Here, the base plate 11, the extension portion 21 and the toenail support portion 25 is preferably made of an elastic material, the base plate 11 is a toenail plate 5 and toenail 7 of the toenail 1 The toenail support portion 25 is elastically biased relative to the toenail 7 of the toenail 1, so that the toenail 1 has a linear cross-sectional shape as a whole.

이러한 구성에 의하여, 본 발명의 제1실시예에 따른 발톱 교정기(10)를 이용 하여 발톱(1)을 교정하는 과정을 설명하면 다음과 같다.By such a configuration, a process of calibrating the toenail 1 using the toenail corrector 10 according to the first embodiment of the present invention is as follows.

도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 하향 만곡되어 상향 돌출된 발톱판(5)의 상부에 발톱 교정기(10)의 베이스판(11)을 밀착시킴과 동시에, 한 쌍의 발톱눈 지지부(25)가 발톱눈(7)의 하부에 밀착 지지하도록, 발가락의 선단으로부터 발톱(1)을 향해 발톱 교정기(10)를 삽입하여 발톱(1)에 장착한다.As shown in FIGS. 3 to 5, the base plate 11 of the toenail corrector 10 is brought into close contact with the top of the toenail plate 5 which is curved downward and upwardly protruded, and a pair of toenail supports 25 The toenail corrector 10 is inserted into the toenail 1 from the tip of the toe toward the toenail 1 so as to be closely attached to the lower part of the toenail 7.

이 때, 베이스판(11)은 발톱(1)의 발톱판(5)에 대해 탄성부세하고, 발톱눈 지지부(25)는 발톱(1)의 발톱눈(7)에 대해 탄성부세한다.At this time, the base plate 11 is elastically biased with respect to the toenail 5 of the toenail 1, and the toenail support portion 25 is elastically biased with respect to the toenail 7 of the toenail 1.

이에, 본 발명의 제1실시예에 따른 발톱 교정기(10)를 기형성장하는 발톱(1)에 장착한 후 일정 시간이 경과하면, 발톱(1)의 발톱판(5)의 상부 및 발톱눈(7)의 하부에서 작용하는 베이스판(11) 및 발톱눈 지지부(25)의 탄성력에 의해 발톱(1) 자체가 탄성 변형하여, 발톱(1)은 당초 하향 만곡된 곡선상의 단면형상에서 대략 직선상의 단면형상으로 변형하게 된다.Thus, after a predetermined time has elapsed after the toenail corrector 10 according to the first embodiment of the present invention is mounted on the toenail 1 that has been deformed, the upper part of the toenail 5 of the toenail 1 and the toenail 7 The toenail 1 itself is elastically deformed by the elastic force of the base plate 11 and the toenail support part 25 acting at the bottom of the crest. Will be transformed into.

이로써, 발톱(1)의 발톱눈(7)이 기형적으로 성장하여 발가락의 피부에 파고 드는 것을 방지하여, 발톱(1)의 성장에 의한 통증을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 발톱(1)을 교정할 수 있게 된다.As a result, the toenails 7 of the toenails 1 grow deformed to prevent their penetration into the skin of the toes, so as to reduce the pain caused by the growth of the toenails 1 and to correct the toenails 1. do.

도 6 내지 도 10에는 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기가 도시되어 있다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기(10')는, 발톱(1)의 발톱판(5)의 상부에 배치되는 베이스판(11)과, 베이스판(11)과 소정의 간격을 두고 이격하는 발톱판 지지부(27)와, 베이스판(11)과 발톱판 지지부(27)를 상호 연결하는 연결부(23)와, 베이스판(11)에 결합되어 발톱(1)의 발톱판 (5)의 상부를 가압하는 볼트(31)를 가진다.6 to 10 show a toenail corrector according to a second embodiment of the present invention. As shown in these drawings, the toenail corrector 10 'according to the second embodiment of the present invention includes a base plate 11 and a base plate disposed on the top of the toenail plate 5 of the toenail 1; 11 and the nail plate support part 27 spaced apart from each other at predetermined intervals, the connection part 23 which interconnects the base plate 11 and the nail plate support part 27, and the base plate 11 are coupled to the claw ( It has the bolt 31 which presses the upper part of the toenail board 5 of 1).

베이스판(11)은 직선상의 판형상을 가지며, 베이스판(11)의 대략 중앙영역에는 후술할 볼트(31)가 관통 결합되는 관통공(15)이 형성되어 있다. 관통공(15)에는 볼트(31)가 결합되도록 나사가 형성되어 있다.The base plate 11 has a straight plate shape, and a through hole 15 through which a bolt 31 to be described later is penetrated is formed in a substantially central region of the base plate 11. The through hole 15 is formed with a screw so that the bolt 31 is coupled.

발톱판 지지부(27)는 베이스판(11)과 소정의 간격을 두고 이격 배치되어, 발톱판(5)의 하부를 지지한다.The toenail support 27 is spaced apart from the base plate 11 at a predetermined interval to support the bottom of the toenail 5.

한편, 베이스판(11)과 발톱판 지지부(27)는 상호 일정 간격을 두고 이격하고, 소정의 곡률반경으로 만곡 형성되어 있다. 여기서, 베이스판(11)과 발톱판 지지부(27)의 각 말단부는 손가락 및 발가락의 선단 단면형상에 대응하여 소정의 곡률반경을 가지며, 라운드 가공되어 있다.On the other hand, the base plate 11 and the claw plate support portion 27 are spaced apart from each other at regular intervals, and are formed curved by a predetermined radius of curvature. Here, each distal end portion of the base plate 11 and the claw plate support portion 27 has a predetermined radius of curvature corresponding to the tip cross-sectional shape of the fingers and toes and is rounded.

이에, 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기(10')의 베이스판(11)과 연결부(23)와 발톱판 지지부(27)는 전체적으로 대략 'ㄷ'자 단면형상을 가진다.Thus, the base plate 11, the connecting portion 23 and the toenail support portion 27 of the toenail corrector 10 'according to the second embodiment of the present invention has a substantially' C 'cross-sectional shape.

볼트(31)는 베이스판(11)의 관통공(15)에 관통 결합되어, 발톱(1)의 발톱판(5)의 상부를 가압한다.The bolt 31 is coupled to the through hole 15 of the base plate 11 to press the upper portion of the toenail 5 of the toenail 1.

이러한 구성에 의하여, 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기(10')를 이용하여 발톱(1)을 교정하는 과정을 설명하면 다음과 같다.By such a configuration, a process of correcting the toenail 1 using the toenail corrector 10 'according to the second embodiment of the present invention will be described.

먼저, 도 8 내지 도 10에 도시된 바와 같이 하향 만곡되어 상향 돌출된 발톱판(5)의 하부에 발톱 교정기(10')의 발톱판 지지부(27)를 밀착시킴과 동시에, 베이스판(11)이 발톱판(5)의 상부에 위치하도록, 발가락의 선단으로부터 발톱(1)을 향해 발톱 교정기(10')를 삽입한다.First, as shown in FIGS. 8 to 10, the base plate 11 is brought into close contact with the toe plate support part 27 of the toenail corrector 10 ′ at the lower portion of the toe plate 5 protruding downwardly and upwardly protruding. The toenail corrector 10 'is inserted from the tip of the toe toward the toenail 1 so as to be located above the toenail plate 5.

다음, 베이스판(11)의 관통공(15)에 볼트(31)를 관통 결합하여, 발톱(1)의 발톱판(5)의 상부를 가압함과 동시에, 발톱 교정기(10')를 발톱(1)에 장착한다.Next, the bolt 31 is coupled to the through hole 15 of the base plate 11 to press the upper portion of the toenail plate 5 of the toenail 1, and at the same time, the toenail corrector 10 ' Mount on 1).

이 때, 볼트(31)는 발톱(1)의 발톱판(5)의 중앙영역에 외력을 가하고, 발톱판 지지부(27)는 발톱(1)의 발톱판(5)과 발톱눈(7)의 경계영역에 외력을 가한다.At this time, the bolt 31 exerts an external force on the center region of the toenail 5 of the toenail 1, and the toenail support 27 is the boundary between the toenail 5 and the toenail 7 of the toenail 1. Apply external force to the area.

이에, 본 발명의 제2실시예에 따른 발톱 교정기(10')를 기형성장하는 발톱(1)에 장착한 후 일정 시간이 경과하면, 발톱(1)의 발톱판(5)의 상부 및 하부에서 작용하는 외력에 의해 발톱(1) 자체가 탄성 변형하여, 발톱(1)은 당초 하향 만곡된 곡선상의 단면형상에서 대략 직선상의 단면형상으로 변형하게 된다.Thus, after a predetermined time has elapsed after the toenail corrector 10 'according to the second embodiment of the present invention is mounted on the toenail 1 that is preformed, the upper and lower portions of the toenail 5 of the toenail 1 The toenail 1 itself is elastically deformed by the external force acting, so that the toenail 1 is deformed from a curved cross-sectional shape initially curved downward to a substantially straight cross-sectional shape.

이로써, 발톱(1)의 발톱눈(7)이 기형적으로 성장하여 발가락의 피부에 파고드는 것을 방지하여, 발톱(1)의 성장에 의한 통증을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 발톱(1)을 교정할 수 있게 된다.As a result, the toenails 7 of the toenails 1 grow deformed to prevent their penetration into the skin of the toes, thereby reducing the pain caused by the growth of the toenails 1 and correcting the toenails 1. do.

한편, 전술한 실시예들에서의 발톱 교정기는 발톱에 대해 교정하는 것으로 설명하고 있지만, 손톱에 대해서도 교정할 수 있음은 물론이다.On the other hand, the toenail corrector in the above embodiments has been described as correcting for the toenails, but of course can also be corrected for the nail.

또한, 전술한 제2실시예에서는 베이스판에 하나의 관통공이 형성되어 있는 것으로 설명하고 있지만, 베이스판에는 복수의 관통공이 형성되어, 복수의 볼트가 발톱의 발톱판의 상부를 가압할 수도 있다.In addition, in the second embodiment described above, one through hole is formed in the base plate, but the plurality of through holes are formed in the base plate, and the plurality of bolts may press the upper part of the toenail plate of the toenail.

한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.On the other hand, the present invention is not limited to the described embodiments, it is apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, such modifications or variations will have to be belong to the claims of the present invention.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 발톱의 기형성장을 정상성장으로 유도하여 발톱을 교정할 수 있으며, 발톱의 성장에 의한 통증을 줄일 수 있는 발톱 교정기가 제공된다.As described above, according to the present invention, a toenail corrector can be corrected by inducing the toeformation field of the toenail to normal growth, and reducing the pain caused by the growth of the toenail.

Claims (4)

발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 상기 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈을 갖는 발톱을 교정하는 발톱 교정기에 있어서,In the toenail corrector for correcting the toenail exposed from the skin of the toe and located in the central region, the toenail having a toenail located on both edges of the toenail and in contact with the skin, 상기 발톱의 상부 일 영역을 지지하는 베이스판과;A base plate supporting the upper one region of the toenail; 상기 베이스판의 일측 가장자리로부터 소정의 간격을 두고 절곡 연장된 한 쌍의 연장부와;A pair of extension portions bent and extended at a predetermined distance from one edge of the base plate; 상기 각 연장부의 말단부로부터 상기 베이스판의 저부를 향해 절곡 연장되어, 상기 발톱의 발톱눈의 하부를 지지하는 한 쌍의 발톱눈 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기.And a pair of toenail supporters that extend from the distal end of each extension toward the bottom of the base plate and support the lower part of the toenail of the toenail. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스판과 상기 연장부와 상기 발톱눈 지지부는 탄성재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기.Toenail corrector, characterized in that the base plate, the extension portion and the toenail support portion made of an elastic material. 발가락의 피부로부터 노출되며 중앙영역에 위치하는 발톱판과, 상기 발톱판의 양쪽 가장자리에 위치하며 피부와 맞닿는 발톱눈을 갖는 발톱을 교정하는 발톱 교정기에 있어서,In the toenail corrector for correcting the toenail exposed from the skin of the toe and located in the central region, the toenail having a toenail located on both edges of the toenail and in contact with the skin, 적어도 하나의 관통공이 형성되고, 상기 발톱판의 상부에 배치되는 베이스판 과;A base plate having at least one through hole formed thereon and disposed above the toenail plate; 상기 베이스판과 소정의 간격을 두고 이격하며, 상기 발톱판의 하부를 지지하는 발톱판 지지부와;A claw plate support part spaced apart from the base plate at a predetermined interval and supporting a lower portion of the claw plate; 상기 베이스판과 상기 발톱판 지지부를 상호 연결하는 연결부와;A connecting portion interconnecting the base plate and the toenail support; 상기 베이스판의 관통공에 관통 결합되어, 상기 발톱판의 상부를 가압하는 볼트를 포함하는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기.The toenail straightener coupled to the through-hole of the base plate, characterized in that it comprises a bolt for pressing the upper portion of the toenail plate. 제3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 베이스판과 상기 발톱판 지지부는 일정 간격을 두고 이격하며, 소정의 곡률반경으로 만곡 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 발톱 교정기.The base plate and the claw plate support is spaced apart at a predetermined interval, the toenail braces, characterized in that formed in a curvature radius.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200471630Y1 (en) * 2013-05-15 2014-03-07 박종봉 Device for correcting toenail
KR20220003180A (en) 2020-07-01 2022-01-10 주식회사 비에스케어 A lifting apparatus for correcting ingrown toenail

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756079B1 (en) 2006-09-28 2007-09-11 김재영 The corrective device for ingrown toenail and incurvated toenail
JP5068786B2 (en) * 2008-12-02 2012-11-07 株式会社鹿浜製作所 Spring-shaped nail corrector
KR101640500B1 (en) 2014-09-04 2016-07-18 (주)지디코리아 Nail deformity correction device and Manufacturing method for nail deformity correction device
JP6682124B2 (en) * 2015-08-28 2020-04-28 丸山　政雄 Promotional heating tool for nail shaping
DE102016007820B4 (en) * 2016-06-24 2021-08-26 Alexander Reich Nail correction braces
JP7410354B2 (en) 2021-07-01 2024-01-09 マルホ発條工業株式会社 Deformed nail correction tool

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4068656A (en) 1976-09-30 1978-01-17 Barbara Ann Barmore Orthopedic toenail device
US5613503A (en) 1996-02-22 1997-03-25 Penner; Abe Device and method for treating ingrowing toe nails
US5850837A (en) * 1996-03-21 1998-12-22 Furukawa Electric Co., Ltd. Device for correcting an ingrown nail
JP2003010218A (en) * 2001-06-27 2003-01-14 Isao Maruoka Ingrown nail corrective device
KR20030010218A (en) * 2001-07-26 2003-02-05 엘지전자 주식회사 Interfacing Apparatus And Method Between The Switching System And Management Server

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200471630Y1 (en) * 2013-05-15 2014-03-07 박종봉 Device for correcting toenail
KR20220003180A (en) 2020-07-01 2022-01-10 주식회사 비에스케어 A lifting apparatus for correcting ingrown toenail

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