KR20060124864A - Underwater plasma discharging apparatus and discharging method using it - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수중 플라즈마 방전장치를 도시한 도면,1 is a view showing an underwater plasma discharge device according to an embodiment of the present invention,
도 2 내지 도 4는 도 1에 도시된 수중 플라즈마 방전장치에 있어서 전극과 다공이 형성된 산기관의 변형가능한 설치예를 보인 도면.2 to 4 is a view showing a deformable installation example of the diffuser formed with electrodes and pores in the underwater plasma discharge device shown in FIG.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
100...반응기 101...유입부100
102...유출부 110...산기관102
120...송풍기 131,132...방전극,접지극(전극)120 ... Blower 131,132 ... discharge electrode, ground electrode (electrode)
140...전원인가유닛140.Power supply unit
본 발명은 수중에서 플라즈마 방전을 일으킬 수 있도록 된 수중 플라즈마 방전장치 및 그것을 이용한 수중 방전방법에 관한 것이다. The present invention relates to an underwater plasma discharge device that is capable of causing plasma discharge in water and an underwater discharge method using the same.
최근 재래식 산화처리 공정의 한계를 극복하기 위한 방안으로서 고급산화법(AOP:Advanced Oxidation Process)에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다. Recently, research on advanced oxidation process (AOP) has been actively conducted to overcome the limitations of the conventional oxidation treatment process.
고급산화법이란 오존 및 OH라디칼, 과산화수소, UV 등을 이용하여 수중 오염물질인 유기물을 산화처리하는 진보된 수처리 기술로, 기존의 산화제인 염소, 이산화염소, 과망간산칼륨 등 보다 훨씬 강한 산화력을 갖고 있어 산업 폐수 뿐만 아니라 상수처리에도 점차 확대 적용되고 있는 추세이다. Advanced Oxidation is an advanced water treatment technology that oxidizes organic substances, such as ozone, OH radicals, hydrogen peroxide and UV, to oxidize pollutants in water, and has much stronger oxidation power than chlorine, chlorine dioxide and potassium permanganate. In addition to wastewater, it is gradually being applied to water treatment.
수처리에 적용되고 있는 고급산화법은 다양하게 개발되고 있으나, 실제 적용되고 있는 대부분은 오존과 과산화수소, 오존과 UV AOP, 과산화수소와 UV AOP 등으로 병행하여 적용하는 경우이다. Advanced oxidation methods applied to water treatment have been developed in various ways, but most of them are applied in parallel with ozone and hydrogen peroxide, ozone and UV AOP, hydrogen peroxide and UV AOP.
이중에서 오존처리는 오존의 강력한 산화력을 이용하는 것으로서, 살균효과가 우수하여 소량의 접촉에 의해서도 대부분의 세균을 사멸시키는 등 정수처리 공정에 살균제로서 사용되고 있다. 그리고, 원수 중에 있는 미량의 유기물질의 성상을 변화시켜 제거하거나 악취 물질 등의 제거에 효과적이며, 인공합성 유기물 등의 산화처리에 널리 이용되어지고 있다. Among them, ozone treatment utilizes the strong oxidizing power of ozone, and has excellent sterilization effect and is used as a disinfectant in water purification processes such as killing most bacteria even by a small amount of contact. In addition, it is effective for removing and removing odorous substances and the like by changing the properties of trace organic substances in raw water and widely used for oxidation treatment of artificial synthetic organic substances and the like.
그러나, 오존은 대다수 유기물과의 반응이 느리거나 어떤 유기물과는 전혀 반응을 하지 않는 등 매우 선택적인 반응을 한다는 단점을 가지고 있다.However, ozone has the disadvantage of being highly selective, such as slow reaction with most organic materials or no reaction with any organic materials.
따라서, 이러한 오존처리의 단점을 극복하기 위해 OH라디칼의 산화력을 이용하여 오존과 과산화수소, 오존과 UV AOP, 과산화수소와 UV AOP 등으로 병행하여 적용하게 되는데, 오존보다 산화력이 높은 OH라디칼을 중간생성물로 생성시켜 산화처리에 이용하는 방법이 연구되어 다양한 분야에 적용되고 있다. Therefore, in order to overcome the disadvantages of ozone treatment, oxidizing power of OH radicals is applied in parallel with ozone and hydrogen peroxide, ozone and UV AOP, hydrogen peroxide and UV AOP, and OH radicals with higher oxidation power than ozone are used as intermediate products. The method of producing and using for oxidation treatment has been studied and applied to various fields.
이러한 고급산화법의 분야 중 하나로 수중 고전압 플라즈마 방전이 연구되고 있는데, 수중 펄스스트리머 방전은 플라즈마에 의해 OH라디칼을 다량 발생시키며, 수중에서 OH라디칼의 상호반응에 의해 과산화수소가 생성되어 산화반응을 일으키게 한다. 이러한 플라즈마에 의해 생성된 활성라디칼(OH*, O*, O3)의 산화반응은 유기물 분해 등 수질정화에 폭 넓게 응용될 수 있다는 장점을 지니고 있다.Underwater high voltage plasma discharge is being studied as one of the field of advanced oxidation method. Underwater pulse streamer discharge generates large amount of OH radicals by plasma, and hydrogen peroxide is generated by OH radical interaction in water to cause oxidation reaction. . The oxidation reaction of the active radicals (OH *, O *, O 3 ) generated by the plasma has the advantage that it can be widely applied to water purification, such as decomposition of organic matter.
그런데, 수중방전에 대한 연구는 전극이 물속에 잠겨 있을 경우 매질 속에 있는 방전극에 전기를 하전하면 물에 의해 통전이 되어 플라즈마가 생성되지 않는 문제점을 가지고 있다. 이러한 이유로 침대침, 침대평판, 평판대평판, 침대원통, 다중침전극 등을 이용하여 수표면방전을 발생시켜 처리하는 방식이 많이 연구되었다. 그러나, 이러한 수표면 방전의 경우 처리가 이루어지는 공간이 수표면적으로 한정되어 매우 협소하여 비효율적인 처리방법이 되며, 방전 시 수표면과 방전극과의 간격이 일정하지 못하여 수표면에서 절연파괴가 일어나는 등 매우 불안정한 방전현상이 유발된다.However, the study on underwater discharge has a problem in that when the electrode is submerged in water, electricity is charged to the discharge electrode in the medium and the plasma is not generated by electricity. For this reason, many methods have been studied for generating and discharging water surface discharge using bed needles, bed plates, flat plate flat plates, bed cylinders, and multi needle electrodes. However, in the case of such water surface discharge, the space where the treatment is performed is limited to the surface area, which is very narrow, which is an inefficient treatment method. Unstable discharge phenomenon is caused.
최근에는 활성라디칼의 발생량을 증가시키기 위해 다양한 종류의 유전체를 이용하여 수중에서 방전시키기 위한 반응기들이 연구되고는 있으나, 매질이 물인 조건에서 안정된 방전을 지속적으로 유지하지 못하여 결국 절연파괴가 일어나거나 방전효율이 급격히 떨어지는 문제를 여전히 안고 있다. Recently, reactors for discharging in water by using various kinds of dielectrics to increase the amount of active radicals have been studied. However, failure to maintain a stable discharge under the condition that the medium is water causes insulation breakdown or discharge efficiency. The problem is still falling.
따라서, 이러한 문제를 해결할 수 있는 새로운 형태의 수중 플라즈마 방전방식이 요구되고 있다. Therefore, there is a need for a new type of underwater plasma discharge method that can solve this problem.
본 발명은 상기의 필요성을 감안하여 창출된 것으로서, 수중에서의 플라즈마 방전을 안정적으로 유지함으로써, 그때 발생되는 활성라디칼을 수질정화에 원활하게 활용할 수 있게 해주는 수중 플라즈마 방전장치 및 그 방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above necessity, and an object of the present invention is to provide an underwater plasma discharge apparatus and method for stably maintaining plasma discharge in water, thereby making it possible to smoothly utilize active radicals generated at the time for water purification. There is this.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기에 설명될 것이며, 본 발명의 실시예에 의해 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 청구 범위에 나타낸 수단 및 조합에 의해 실현될 수 있다.Other objects and advantages of the invention will be described below and will be appreciated by the embodiments of the invention. In addition, the objects and advantages of the invention may be realized by the means and combinations indicated in the claims.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 수중 플라즈마 방전장치는, 물이 유입되는 반응기 내에 설치된 적어도 한 쌍의 전극; 상기 반응기로 공기를 주입하여 상기 한 쌍의 전극 사이가 물과 공기의 2상공간이 되도록 유도하는 공기주입유닛; 상기 한 쌍의 전극에 전원을 인가하는 전원인가유닛;을 포함한다.Underwater plasma discharge apparatus of the present invention for achieving the above object, at least a pair of electrodes installed in the reactor to which water is introduced; An air injection unit for injecting air into the reactor to induce a two-phase space between water and air between the pair of electrodes; It includes; a power supply unit for applying power to the pair of electrodes.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 수중 플라즈마 방전방법은, 적어도 한 쌍의 전극이 설치된 반응기를 준비하는 단계; 상기 반응기 안에 물과 공기를 공급함으로써 상기 한 쌍의 전극 사이를 2상공간으로 만드는 단계; 상기 한 쌍의 전극에 펄스전원을 인가하여 플라즈마 방전을 유도하는 단계;를 포함한다.In addition, an underwater plasma discharge method for achieving the above object comprises the steps of preparing a reactor provided with at least a pair of electrodes; Making a two-phase space between the pair of electrodes by supplying water and air into the reactor; And inducing plasma discharge by applying a pulse power to the pair of electrodes.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석 되어야만 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수중 플라즈마 방전장치의 구조를 도시한 것이다. 1 illustrates a structure of an underwater plasma discharge apparatus according to an embodiment of the present invention.
도시된 바와 같이 본 실시예의 수중 플라즈마 방전장치는, 복수쌍의 전극(131)(132)들이 설치된 반응기(100)를 구비하고 있으며, 이 반응기(100)에는 처리 대상 원수(原水)인 물이 유입되는 유입부(101)와, 정화처리된 물이 빠져나가는 유출부(102)가 마련되어 있다. 그리고, 물 외에도 공기(또는 산소)를 반응기(100) 안으로 주입하기 위한 유닛이 구비되어 있는데, 반응기(100) 챔버 하부에 설치된 다공이 형성된 산기관(110)과, 그 산기관(110)의 미세한 구멍들을 통해 공기를 주입하는 송풍기(120)를 구비하고 있다. 즉, 반응기(100) 안으로 물과 함께 공기를 주입함으로써, 물만의 1상공간일 경우 바로 통전이 되어 버리던 현상을 방지하여 플라즈마의 방전이 안정적으로 유지되게 하는 것이다. As shown, the underwater plasma discharge apparatus of the present embodiment includes a
그리고, 상기 전극(131)(132)은 전원인가유닛(140)으로부터 전원이 인가되는 방전극(131) 및 접지상태인 접지극(132)으로 구성되는데, 내부식성의 금속봉 또는 금속메쉬 재질로 이루어지며, 표면은 유전체층으로 코팅하여 사용하는 것이 좋다. 이 방전장치에서 정화처리된 물은 오존수로서 반도체 세척작업 등 정밀가공에 유용하게 이용될 수 있는데, 전극에서 이물질이 떨어지면 그런 정밀분야에 사용할 수 없어지기 때문에 유전체층을 코팅하는 것이 바람직한 것이다. 작동 시에는 전원인가유닛(140)으로부터 고전압 펄스나 교류전원이 조건에 따라 인가된다. The
이와 같은 구성의 방전장치를 가동하게 되면, 상기 반응기(100) 안으로 처리 대상 원수(原水)인 물과 공기를 함께 주입한다. 그리고, 전원인가유닛(140)에서 방전극(131)에 고전압 펄스나 교류전원을 인가하면 플라즈마가 생성되면서 푸른색으로 발광하게 된다. 이때 전극(131)(132) 사이는 단순히 물만 매질로 존재하는 것이 아니라, 기포형태의 공기가 함께 공존하기 때문에, 기존처럼 바로 통전이 되면서 절연파괴가 일어나는 현상은 생기지 않게 된다. 즉, 물과 공기의 2상이 존재함으로써 절연파괴를 막아 안정적인 플라즈마 방전상태를 유지할 수 있는 것이다.When the discharge device having such a configuration is operated, water and air, which are raw water to be treated, are injected together into the
이와 같이 플라즈마 유지되면, 수중에서는 지속적으로 다량의 OH라디칼이 발생하게 된다. 이들은 일부 과산화수소를 생성하기도 하면서 물속에 함유된 유기물과 산화반응을 일으키게 된다. 즉, 종래처럼 수면에서만 활성라디칼이 작용하는 것이 아니라, 수중에서 다량의 활성 OH라디칼이 생성되면서 곧바로 내부의 유기물을 산화처리하여 분해시키기 때문에, 정화효율이 상당히 증가하게 된다. 그리고, 이러한 산화반응은 플라즈마가 안정적으로 유지되는 한 지속적으로 이루어지기 때문에, 그 처리속도도 상당히 빨라진다. 이후, 이렇게 정화처리된 물 또는 활성화된 물은 유출부(102)를 통해 배출되어 재사용이 가능한 상태로 돌아가게 된다.When plasma is maintained in this way, a large amount of OH radicals are continuously generated in water. They produce some hydrogen peroxide and cause oxidation reactions with organic matter in the water. That is, the active radicals do not act only on the water surface as in the prior art, but since a large amount of active OH radicals are generated in the water, the organic matters are oxidized and decomposed immediately, thereby greatly increasing the purification efficiency. In addition, since the oxidation reaction is continuously performed as long as the plasma is stably maintained, the processing speed is also considerably faster. Thereafter, the purified water or activated water is discharged through the
따라서, 물과 공기의 2상공간에서 플라즈마를 방전시킴으로써, 안정적인 플라즈마 방전상태를 유지할 수 있고, 그에 따라 수중에서 다량의 활성라디칼을 확보할 수 있어서 정수처리 효율을 높일 수 있는 것이다. 실험에 의하면, 기존의 수면 방전에 비해 동일 시간 동안 5배 용량의 물을 정화처리할 수 있는 것으로 나타났다. Therefore, by discharging the plasma in the two-phase space of water and air, it is possible to maintain a stable plasma discharge state, thereby securing a large amount of active radicals in water, thereby improving the water treatment efficiency. Experiments show that 5 times the volume of water can be purged for the same amount of time compared to conventional surface discharge.
한편, 공기가 주입되는 다공이 형성된 산기관(110)과 전극(131)(132)의 상대 위치는 도 1 과 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 산기관(110)(210)(410) 위에 방전극(131)(231)(431)과 접지극(132)(232)(432)이 모두 위치되도록 배치되게 할 수도 있지만, 도 3과 같이 두 전극(331)(332) 사이에 산기관(310)이 오도록 배치해도 무방하다. 즉, 전술한 제1실시예의 반응기(100) 구조 뿐 아니라, 도 2내지 도 4에 도시된 제2,3,4실시예로 보인 반응기(200)(300)(400)와 같은 전극의 배치 구조도 채용이 가능하다. 그리고, 전극도 도 1과 같이 다수개의 봉형 전극(131)(132)을 마주하게 해서 사용할 수도 있고, 도 4처럼 봉형 전극(431)(432)을 교대로 설치하여 2단 이상으로 사용할 수도 있다. 그리고, 도 2 및 도 3과 같이 메쉬형 전극을 사용할 수도 있다. 특히, 도 4의 구조는 방전극(431)과 접지극(432)을 교대로 평면배치하여 그 사이에서 방전이 일어나도록 한 것이며, 효율을 높이기 위해서 다단으로 배치한다. 즉, 필요에 따라 전극의 형태와 배치를 변형해서 선택해도 2상공간만 만들 수 있으면 본 발명의 효과를 무난하게 얻을 수 있다. On the other hand, the relative position of the
상술한 바와 같이 본 발명의 수중 플라즈마 방전장치는 다음과 같은 효과를 제공한다. As described above, the underwater plasma discharge device of the present invention provides the following effects.
첫째, 물과 공기의 2상공간에서 플라즈마를 방전시킴으로써, 안정적인 플라즈마 방전상태를 유지할 수 있고, 따라서 수중에서 다량의 활성라디칼을 확보할 수 있어서 정수처리 효율을 높일 수 있다.First, by discharging the plasma in the two-phase space of water and air, it is possible to maintain a stable plasma discharge state, thereby ensuring a large amount of active radicals in the water can increase the water treatment efficiency.
둘째, 수중에서 활성라디칼이 생성되면 바로 유기물과 산화반응을 일으키기 때문에, 활성라디칼의 소멸이 최소화되고 활용율이 높다.Second, since active radicals are produced in water, they cause oxidation reactions with organics, so the disappearance of active radicals is minimized and the utilization rate is high.
셋째, 비교적 간단한 구조의 반응기로 2상공간의 구현이 가능하기 때문에, 경제적 부담도 매우 적다. Third, since the two-phase space can be implemented with a relatively simple reactor, the economic burden is very small.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술 사상과 아래에 기재될 청구범위의 균등 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.As mentioned above, although this invention was demonstrated by the limited embodiment and drawing, this invention is not limited by this, The person of ordinary skill in the art to which this invention belongs, Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalents of the claims to be described.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100842435B1 (en) * | 2007-02-20 | 2008-07-01 | 주식회사 에스디알앤디 | Water purification system having electrical discharging equipment with filtering system and water purification method using thereof |
KR100866096B1 (en) | 2008-04-30 | 2008-10-30 | 고려공업검사 주식회사 | Wastes treating system comprising an apparatus for decomposing refractory organic substances with radioactive organic materials, and the process thereof |
US8425853B2 (en) | 2010-12-08 | 2013-04-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma generation method and apparatus |
KR102049469B1 (en) * | 2019-03-12 | 2019-11-27 | (주)퓨어플라텍 | Electrode structure for underwater plasma discharge and plasma processing apparatus |
CN112082902A (en) * | 2020-07-25 | 2020-12-15 | 东北电力大学 | Device for improving density of OH free radicals discharged in water and measuring method thereof |
-
2005
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100842435B1 (en) * | 2007-02-20 | 2008-07-01 | 주식회사 에스디알앤디 | Water purification system having electrical discharging equipment with filtering system and water purification method using thereof |
KR100866096B1 (en) | 2008-04-30 | 2008-10-30 | 고려공업검사 주식회사 | Wastes treating system comprising an apparatus for decomposing refractory organic substances with radioactive organic materials, and the process thereof |
US8425853B2 (en) | 2010-12-08 | 2013-04-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma generation method and apparatus |
US8668813B2 (en) | 2010-12-08 | 2014-03-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma generation method and apparatus |
KR102049469B1 (en) * | 2019-03-12 | 2019-11-27 | (주)퓨어플라텍 | Electrode structure for underwater plasma discharge and plasma processing apparatus |
CN112082902A (en) * | 2020-07-25 | 2020-12-15 | 东北电力大学 | Device for improving density of OH free radicals discharged in water and measuring method thereof |
CN112082902B (en) * | 2020-07-25 | 2024-02-13 | 东北电力大学 | Device for improving density of OH free radicals discharged in water and measuring method thereof |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |