KR20060114620A - Wave front aberration measuring device - Google Patents

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KR20060114620A
KR20060114620A KR1020057009749A KR20057009749A KR20060114620A KR 20060114620 A KR20060114620 A KR 20060114620A KR 1020057009749 A KR1020057009749 A KR 1020057009749A KR 20057009749 A KR20057009749 A KR 20057009749A KR 20060114620 A KR20060114620 A KR 20060114620A
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KR
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wavefront aberration
optical system
coherent light
beam splitter
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Application number
KR1020057009749A
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Inventor
유끼오 에다
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올림푸스 가부시키가이샤
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    • G—PHYSICS
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    • G01M11/0271—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by using interferometric methods

Abstract

A wave front aberration measuring device, wherein laser beam sources (1-1, 1-2) outputting laser beams with wavelengths of (lambda1, lambdai) are installed in a lighting system (1), and either of the laser beam sources (1-1, 1-2) is selected according to the wavelengths (lambda1, lambdai) of an inspected optical system (8) analyzing wave front aberration. In a wave front aberration analyzing device (2), the wave front aberration of the inspected optical system (8) is analyzed based on the wavelengths (lambda 1, lambdai) of the laser beam selected by the lighting system (1) and interference fringe image data.

Description

파면 수차 측정 장치{WAVE FRONT ABERRATION MEASURING DEVICE}Wavefront Aberration Measuring Device {WAVE FRONT ABERRATION MEASURING DEVICE}

본 발명은, 렌즈 등의 피검 광학계의 파면 수차를 측정하는 파면 수차 측정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a wavefront aberration measuring apparatus for measuring wavefront aberration of a test optical system such as a lens.

예를 들어 현미경의 대물 렌즈 등의 피검 광학계의 광학 성능으로서 예를 들어 투과 성능을 평가하는 방법이 있다. 이 방법은, 예를 들어 피검 광학계에 레이저 빔 등의 코히어런트광을 투과시키고, 이 피검 광학계를 투과한 물체광과 참조광을 간섭계에 의해 간섭시켜 서로 위상이 다른 복수의 간섭 무늬를 생성하고, 이들 간섭 무늬를 기초로 하여 피검 광학계의 파면 수차를 해석한다. 이러한 파면 수차의 측정 방법은, 예를 들어 일본 특허 공개 평10-96679호 공보에 개시되어 있다. For example, there is a method of evaluating transmission performance, for example, as optical performance of a test optical system such as an objective lens of a microscope. In this method, for example, a coherent light such as a laser beam is transmitted to the test optical system, and the object light and the reference light transmitted through the test optical system are interfered by an interferometer to generate a plurality of interference fringes having different phases. Based on these interference fringes, wavefront aberration of the test optical system is analyzed. The measuring method of such a wave front aberration is disclosed, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 10-96679.

복수의 간섭 무늬의 위상 차는, 사용하는 레이저 광원으로부터 출력되는 레이저 빔의 파장을 기준으로 하고 있다. 이렇게 사용하는 레이저 광원은 피검 광학계를 설계하였을 때에 정한 파장의 레이저 빔을 출력하는 것이다. 예를 들어 He-Ne 레이저가 가장 일반적이고, 그 파장은 0.633 ㎛이다. The phase difference of several interference fringes is based on the wavelength of the laser beam output from the laser light source to be used. The laser light source used in this way outputs a laser beam of a wavelength determined when the test optical system is designed. He-Ne lasers are the most common, for example, with a wavelength of 0.633 μm.

이러한 레이저 광원의 파장은 고정되어 있다. 따라서, 간섭계를 구성하는 빔 스플리터 및 참조 미러 등의 각 광학 소자는 레이저 광원으로부터 출력되는 레이저 빔의 파장에 최적화된 코팅 등이 실시되어 있다. 또한, 피검 광학계의 파면 수차를 해석하는 간섭 무늬 해석 장치에 있어서도 특정 파장의 레이저 광원을 사용하는 것을 전제로 해석 프로그램이 조립되어 있다. The wavelength of this laser light source is fixed. Therefore, each optical element such as a beam splitter and a reference mirror constituting the interferometer is subjected to a coating optimized for the wavelength of the laser beam output from the laser light source. Moreover, the analysis program is assembled on the premise that the laser light source of a specific wavelength is used also in the interference fringe analyzer which analyzes the wave front aberration of a test optical system.

최근, 자외선(UV)으로부터 근적외선(NIR)까지의 파장 0.633 ㎛ 이외의 파장 영역 내에 있는 파장의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원이 나타나고 있다. 이 레이저 광원의 출현에 의해 UV로부터 NIR의 파장 영역 내에 있는 파장에 최적 설계된 고정밀도인 대물 렌즈 등의 피검 광학계가 증가 경향이 있다. 이러한 점으로부터 UV로부터 NIR의 파장 영역 내에 있는 파장에 최적 설계된 피검 광학계에 대해서도 파면 수차를 해석하는 것이 요구되고 있다. In recent years, the laser light source which outputs the laser beam of the wavelength which exists in wavelength range other than 0.633 micrometers of wavelengths from ultraviolet (UV) to near-infrared (NIR) has appeared. The appearance of this laser light source tends to increase the number of inspection optical systems, such as high-precision objective lenses, which are optimally designed for wavelengths within the wavelength range of UV to NIR. From this point of view, it is required to analyze wavefront aberration even for a test optical system designed optimally for the wavelength within the wavelength range of NIR from UV.

UV로부터 NIR의 파장 영역 내에 있는 파장에 최적 설계된 피검 광학계의 파면 수차를 해석하기 위해 간섭계는, 피검 광학계를 최적 설계하였을 때의 파장에 최적화된 코팅 등이 실시된 빔 스플리터 및 참조 미러 등의 각 광학 소자를 이용한 것을 준비해야 한다. In order to analyze the wavefront aberration of the inspection optical system optimally designed for the wavelength within the wavelength region of the NIR from the UV, the interferometer is used for each optical such as a beam splitter and a reference mirror with a coating optimized for the wavelength when the inspection optical system is optimally designed. You must prepare the one using the device.

이로 인해 통상의 레이저 광원 및 간섭계는 피검 광학계를 최적 설계하였을 때의 파장마다 복수 준비해야 한다. 이 중 간섭계는 1대라도 고가이며, 복수대 준비하기 위해서는 상당한 비용이 든다.For this reason, a normal laser light source and an interferometer must prepare two or more wavelengths for the optimal design of a test optical system. Among these, even one interferometer is expensive, and it requires a considerable cost to prepare a plurality of interferometers.

본 발명의 주요한 관점에 따르면, 피검 광학계의 파면 수차를 측정하는 파면 수차 측정 장치에 있어서, 임의의 파장에 선택 가능한 코히어런트광을 출력하는 조명계와, 조명계로부터 출력된 코히어런트광을 피검 광학계에 통과시켜 피검 광학계의 광학 성능을 반영한 간섭 무늬를 생성하는 간섭계와, 조명계로부터 출력된 코히어런트광의 파장과 간섭계에 의해 생성된 간섭 무늬를 기초로 하여 피검 광학계의 파면 수차를 해석하는 해석부를 구비한 파면 수차 측정 장치가 제공된다. According to the main aspect of the present invention, in a wavefront aberration measuring apparatus for measuring the wavefront aberration of the optical system to be inspected, the illumination system for outputting the coherent light selectable to any wavelength, and the coherent light output from the illumination system to the test optical system An interferometer for generating an interference fringe passing through the optical system and reflecting the optical performance of the test optical system, and an analysis unit for analyzing wavefront aberration of the test optical system based on the wavelength of the coherent light output from the illumination system and the interference fringe generated by the interferometer. One wavefront aberration measuring apparatus is provided.

도1은 본 발명에 관계되는 파면 수차 측정 장치의 제1 실시 형태를 도시하는 구성도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a block diagram which shows 1st Embodiment of the wavefront aberration measuring apparatus which concerns on this invention.

도2는 상기 장치에 있어서의 조명계의 구성도이다. 2 is a configuration diagram of an illumination system in the above apparatus.

도3a는 상기 장치에 있어서의 평행 평면판의 빔 스플리터를 설명하기 위한 도면이다. 3A is a diagram for explaining a beam splitter of a parallel plane plate in the above apparatus.

도3b는 쐐기판의 빔 스플리터를 설명하기 위한 도면이다. 3B is a view for explaining the beam splitter of the wedge substrate.

도4는 피조형 간섭계의 구성도이다. 4 is a configuration diagram of a built interferometer.

도5는 본 발명의 장치에 있어서의 다른 조명계의 구성도이다.5 is a configuration diagram of another illumination system in the apparatus of the present invention.

도6은 본 발명의 장치에 있어서의 다른 조명계의 구성도이다.6 is a configuration diagram of another illumination system in the apparatus of the present invention.

도7은 본 발명의 장치에 있어서의 다른 조명계의 구성도이다. 7 is a configuration diagram of another illumination system in the apparatus of the present invention.

이하, 본 발명의 제1 실시 형태에 대해 도면을 참조하여 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, 1st Embodiment of this invention is described with reference to drawings.

도1은 파면 수차 측정 장치의 구성도이다. 조명계(1)는, 각각 다른 임의의 파장에 선택 가능한 레이저 빔을 출력한다. 이 레이저 빔의 파장은, 예를 들어 파장 0.633 ㎛ 또는 UV로부터 NIR의 파장 영역 내에 있어서의 임의의 파장이다. 이 조명계(1)로부터 출력되는 레이저 빔의 파장의 선택은, 수동 또는 후술하는 파면 수차 해석 장치(2)의 절환 제어에 의해 자동으로 행해진다. 이 조명계(1)로부터 출력된 레이저 빔(3)은 트와이만ㆍ그린 간섭계(이하, 간섭계라 생략)(4)에 유도된다. 1 is a configuration diagram of a wavefront aberration measuring apparatus. The illumination system 1 outputs a laser beam which can be selected to arbitrary arbitrary wavelengths, respectively. The wavelength of this laser beam is arbitrary wavelength in wavelength range of NIR from wavelength 0.633 micrometer or UV, for example. The selection of the wavelength of the laser beam output from this illumination system 1 is performed automatically by switching control of the wavefront aberration analyzer 2 which is mentioned later or manually. The laser beam 3 output from the illumination system 1 is guided to a Twiman-Green interferometer (hereinafter referred to as an interferometer) 4.

도2는 조명계(1)의 일예를 도시하는 구성도이다. 도2에 있어서, 2 이상(예로서는 n 종류인 것으로 함)의 파장 중, 1개의 파장을 λ1, 다른 파장을 λi(i = 2, 3, … n)로 한다. 파장 λ1의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-1)과, 파장 λi(i = 1, 2, 3, … n)의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-2)을 갖는다. 이들 레이저 광원(1-1, 1-2)의 각 출력 단부에는, 각각 광 파이버(1-3, 1-4)를 통해 각 출사부(1-5, 1-6)가 접속되어 있다. 이들 출사부(1-5, 1-6)는, 오퍼레이터의 작업에 의해 어느 한 쪽이 선택되어 조명 경통(1-7)의 입사 단부(1-8)에 대해 접속된다. 조명 경통(1-7) 내에는 콜리메이터 렌즈(1-9)가 설치되어 있다. 이 콜리메이터 렌즈(1-9)는 입사한 파장 λ1의 레이저 빔 또는 파장 λi의 레이저 빔을 평행광으로 정형하여 조명 경통(1-7)으로부터 출사한다. 콜리메이터 렌즈(1-9)에 단일 렌즈 등과 같이 세로의 색수차를 갖는 렌즈를 사용한 경우, 콜리메이터 렌즈(1-9)의 초점 거리는 파장 λi에 의해 변화한다. 이 대처책으로서 콜리메이터 렌즈(1-9)는 레이저 빔의 광축 방향으로 슬라이드 가능하게 설치해도 좋다. 또는, 각 출사부(1-5, 1-6)에 있어서의 파이버 입사 단부로부터 파이버 출사 단부까지의 거리를 가변 가능하게 구성하고, 이들 파이버 입사 단부와 파이버 출사 단부와의 거리를 가변하여 색수차를 보정해도 좋다. 콜리메이터 렌즈(1-9)는, 사용하는 파장 대역에서 초점 거리가 변화되지 않는 색지움 렌즈를 이용해도 좋다. 2 is a configuration diagram illustrating an example of the illumination system 1. In Fig. 2, one wavelength is lambda 1 and the other wavelength is lambda i (i = 2, 3, ... n) among two or more (eg, n kinds) wavelengths. The laser light source 1-1 which outputs the laser beam of wavelength (lambda) 1 , and the laser light source 1-2 which output the laser beam of wavelength (lambda) i (i = 1, 2, 3, ... n) are provided. Each output section 1-5, 1-6 is connected to each output end of these laser light sources 1-1, 1-2 via optical fibers 1-3, 1-4, respectively. Either one of these output parts 1-5 and 1-6 is selected by the operation of an operator, and is connected with respect to the incidence edge part 1-8 of the illumination barrel 1-7. The collimator lens 1-9 is provided in the illumination barrel 1-7. The collimator lens 1-9 forms an incident laser beam of wavelength lambda 1 or a laser beam of wavelength lambda i into parallel light and exits from the illumination barrel 1-7. When a lens having vertical chromatic aberration, such as a single lens, is used for the collimator lens 1-9, the focal length of the collimator lens 1-9 changes with the wavelength? I. As a countermeasure, the collimator lens 1-9 may be provided to be slidable in the optical axis direction of the laser beam. Alternatively, the distances from the fiber incidence ends to the fiber exit ends in the output units 1-5 and 1-6 are configured to be variable, and the distances between these fiber incidence ends and the fiber exit ends are varied to reduce chromatic aberration. You may correct it. The collimator lens 1-9 may use a color-decreased lens whose focal length does not change in the wavelength band used.

コ자 형상의 가대(5)의 아암(6)의 상면측에는 빔 스플리터(7)가 설치되어 있다. 아암(6)의 하면측에는, 예를 들어 현미경의 대물 렌즈 등의 피검 광학계(8)가 설치되어 있다. 이 피검 광학계(8)는 빔 스플리터(7)에 의해 하방에 반사하는 측정광(H)의 광축에 일치하여 설치되어 있다. 가대(5)의 베이스(9) 상에는 XYZ 스테이지(10)가 설치되어 있다. 이 XYZ 스테이지(10) 상에는 오목면 형상의 구면 미러(11)가 설치되어 있다. 이 구면 미러(11)는, 상기 구면 미러(11)의 곡률 중심(C)과 피검 광학계(8)의 초점 위치(S)를 일치시켜 설치되어 있다. 이들 구면 미러(11)의 곡률 중심(C)과 피검 광학계(8)의 초점 위치(S)는, XYZ 스테이지(10)의 구동에 의해 구면 미러(11)를 XYZ 방향으로 이동함으로써 얼라이먼트 조정된다. The beam splitter 7 is provided on the upper surface side of the arm 6 of the U-shaped mount frame 5. On the lower surface side of the arm 6, for example, a test optical system 8 such as an objective lens of a microscope is provided. This test optical system 8 is provided in correspondence with the optical axis of the measurement light H reflected below by the beam splitter 7. The XYZ stage 10 is provided on the base 9 of the mount 5. On this XYZ stage 10, a concave spherical mirror 11 is provided. This spherical mirror 11 is provided to match the center of curvature C of the spherical mirror 11 and the focal position S of the optical system 8 to be examined. The center of curvature C of these spherical mirrors 11 and the focal position S of the inspection optical system 8 are aligned by moving the spherical mirrors 11 in the XYZ direction by driving the XYZ stage 10.

구면 미러(11)는 Si(규소 : Silicon)에 의해 형성되는 것이 적합하다. 유리의 반사율은 4 ％ 정도이지만, Si의 반사율은 높고, 예를 들어 가시 영역에서 반사율 40 ％ 정도이다. 이와 같이 구면 미러(11)를 반사율이 높은 Si에 의해 형성하면, 도3a에 도시한 바와 같이 빔 스플리터(7)의 제2면(7b)으로부터의 불필요한 반사광의 광량을 상대적으로 감소할 수 있다.The spherical mirror 11 is preferably formed of Si (silicon: Silicon). Although the reflectance of glass is about 4%, the reflectance of Si is high, for example, is about 40% of reflectance in a visible region. If the spherical mirror 11 is formed of Si having high reflectance in this manner, the amount of unnecessary reflected light from the second surface 7b of the beam splitter 7 can be relatively reduced as shown in Fig. 3A.

빔 스플리터(7)의 투과광 노상에는, 평면형의 참조 미러(12)가 설치되어 있다. 구면 미러(11)를 Si에 의해 형성한 경우, 참조 미러(12)는 모든 파장 λi에 대해 최량의 콘트라스트의 간섭 무늬의 상을 얻기 위해 Si에 의해 형성하는 것이 이상이다. 참조 미러(12)는 반사율이 높고 광대역에 걸쳐 반사율이 편평한 알루미늄을 증착한 미러라도 충분히 실용 가능하다. The planar reference mirror 12 is provided in the transmitted light hearth of the beam splitter 7. When the spherical mirror 11 is formed of Si, the reference mirror 12 is ideally formed of Si in order to obtain an image of the interference fringe of the best contrast for all wavelengths? I. The reference mirror 12 can be sufficiently practical even if it is a mirror in which aluminum with high reflectance and flat reflectance over a wide band is deposited.

참조 미러(12)는 압전 소자(PZT)(13)를 이용한 스테이지에 설치되어 있다. 이 참조 미러(12)는 압전 소자(13)의 구동에 의해 빔 스플리터(7)를 투과하는 참조광(R)의 진행 방향과 동일 방향으로 스텝 이동한다. 이와 같이 참조 미러(12)를 스텝 이동시키는 것은, 위상이 다른 간섭 무늬 화상 데이터를 복수매 도입하고, 이들 간섭 무늬 화상 데이터의 파면 수차의 해석을 행한다는 위상 시프트법을 실현하기 때문이다. The reference mirror 12 is provided in the stage using the piezoelectric element (PZT) 13. The reference mirror 12 is stepped in the same direction as the traveling direction of the reference light R passing through the beam splitter 7 by driving the piezoelectric element 13. The step movement of the reference mirror 12 in this manner is because the phase shift method of introducing a plurality of pieces of interference fringe image data having different phases and analyzing the wave front aberration of these interference fringe image data is realized.

빔 스플리터(7)의 상방으로의 반사 광로 상에는, 릴레이 광학계를 구성하는 각 렌즈(L1, L2)와, 촬상 장치로서의 CCD를 이용한 CCD 촬상 장치(14)가 설치되어 있다. 이들 각 렌즈(L1, L2) 및 CCD 촬상 장치(14)에 의해 간섭 무늬의 촬상계(15)를 구성한다. CCD(12) 촬상 장치(14)는, 각 렌즈(L1, L2)에 의해 입사하는 간섭 무늬를 촬상하고, 이 간섭 무늬의 화상 신호를 출력한다. 이 CCD 촬상 장치(14)는 UV의 파장 영역에 대해 감도가 높은 것, 또는 NIR의 파장 영역에 대해 감도가 높은 것 등이 이용된다. 이렇게 사용하는 파장 λi에 맞는 감도를 갖는 CCD 촬상 장치(14)를 이용하면, SN비가 좋은 간섭 무늬 화상을 파면 수차 해석 장치(2)에 건네 줄 수 있게 된다. Each beam has a lens (L 1, L 2) and, CCD imaging device 14 using a CCD as an image capturing apparatus that formed on the reflection optical path of the upper, constituting the relay optical system of the splitter (7) is installed. Each of these lenses L 1 and L 2 and the CCD imaging device 14 constitute an imaging system 15 of an interference fringe. The CCD 12 imaging device 14 picks up the interference fringes incident by the lenses L 1 and L 2 , and outputs an image signal of the interference fringes. As the CCD imaging device 14, one having high sensitivity for the wavelength region of UV, one having high sensitivity for the wavelength region of NIR, or the like is used. By using the CCD imaging device 14 having the sensitivity corresponding to the wavelength [lambda] i used in this way, an interference fringe image having a good SN ratio can be passed to the wavefront aberration analyzer 2.

여기서, CCD 촬상 장치(14)는 피검 광학계(8)의 동공 위치와 공액 관계의 위치에 설치되어 있다. 릴레이 광학계를 구성하는 각 렌즈(L1, L2)는 CCD 촬상 장치(14)를 피검 광학계(128)의 동공 위치와 공액 관계의 위치에 설치하는 것을 실현하는 일예이다. 렌즈(L1)의 초점 위치는 피검 광학계(8)의 동공 위치에 있다. 렌즈 (L2)의 초점 위치는 CCD 촬상 장치(14)의 촬상면(14a) 상에 있다. Here, the CCD imaging device 14 is provided at the pupil position of the test optical system 8 and the conjugated position. Each of the lenses L 1 and L 2 constituting the relay optical system is an example in which the CCD imaging device 14 is provided at the pupil position of the test optical system 128 and in a conjugated position. The focal position of the lens L 1 is at the pupil position of the test optical system 8. The focal position of the lens L 2 is on the imaging surface 14a of the CCD imaging device 14.

빔 스플리터(7)는 조명계(1)로부터 출력된 레이저 빔(3)을 측정광(H)과 참조광(R)으로 분기한다. 빔 스플리터(7)는 분기한 참조광(R)을 참조 미러(12)에 입사된다. 빔 스플리터(7)는 분기한 측정광(H)을 피검 광학계(8)에 투과시켜 구면 미러(11)에 입사시킨다. 빔 스플리터(7)는 구면 미러(11)에서 반사하여 다시 피검 광학계(8)를 투과하여 복귀해 온 측정광(H)을 상방에 투과하고, 참조 미러(12)에 반사하여 복귀해 온 참조광(R)을 상방에 반사한다. The beam splitter 7 splits the laser beam 3 output from the illumination system 1 into the measurement light H and the reference light R. The beam splitter 7 enters the split reference light R into the reference mirror 12. The beam splitter 7 transmits the branched measurement light H through the optical system 8 to be incident on the spherical mirror 11. The beam splitter 7 transmits the measurement light H reflected from the spherical mirror 11 and passed through the optical system 8 and returned to the upper side upward, and is reflected by the reference mirror 12 and returned to the reference light ( R) is reflected upward.

통상, 간섭계에 있어서 빔 스플리터(7)는 도3a에 도시한 바와 같이 제2면(7b)으로부터의 불필요한 반사광을 CCD 촬상 장치(14)에 입사시키는 것을 방지하고 있다. 이로 인해 빔 스플리터(7)는, 도3b에 도시한 바와 같이 쐐기판(16)을 이용하는 것이 많다. 그러나, 쐐기판(16)은 파장 λi에 의해 굴절률이 다르기 때문에, 구면 미러(11)에서 반사하고 피검 광학계(8)를 투과하여 CCD 촬상 장치(14)에 입사하는 빛의 광축(Z)의 기울기가 파장 λi에 의해 변화한다. 이로 인해, 촬상계(15)의 기울기를 파장 λi마다 바꿀 필요가 있다. 이는 기구적으로 매우 복잡하고, 그 조작도 번잡하게 된다. 결국, 도3a에 도시한 바와 같은 평행 평면판이 이용된다.Normally, in the interferometer, the beam splitter 7 prevents unnecessary reflected light from the second surface 7b from entering the CCD imaging device 14 as shown in FIG. 3A. For this reason, as shown in FIG. 3B, the beam splitter 7 uses the wedge board 16 in many cases. However, since the wedge substrate 16 has a different refractive index depending on the wavelength λ i, the inclination of the optical axis Z of the light reflected by the spherical mirror 11 and transmitted through the optical system 8 to be incident on the CCD imaging device 14 is incident. Changes with the wavelength [lambda] i. For this reason, it is necessary to change the inclination of the imaging system 15 for every wavelength (lambda) i. It is mechanically very complicated and its operation is complicated. As a result, a parallel plane plate as shown in Fig. 3A is used.

평행 평면판의 빔 스플리터(7)는, 코히어런트광을 입사하는 제1면(7a)에 광대역의 광 분할 코트가 실시되어 있다. 빔 스플리터(7)의 제1면(7a)과 반대의 제2면(7b)은 광대역의 감반사 코트(반사 방지 코트 또는 AR 코트라 함)를 실시하는 것이 바람직하다. 또, 제1면(7a)의 광 분할 코트는 빛의 분할비를 50 ％ : 50 ％로 설정하는 것이 이상이다. In the beam splitter 7 of the parallel plane plate, a broadband light splitting coat is applied to the first surface 7a on which the coherent light is incident. The second surface 7b opposite to the first surface 7a of the beam splitter 7 is preferably subjected to a wideband antireflective coat (referred to as an antireflective coat or AR coat). Moreover, it is ideal for the light splitting coat of the first surface 7a to set the splitting ratio of light to 50%: 50%.

빔 스플리터(7)를 복수의 파장 λi에 대해 이용할 때는, 예를 들어 복수의 빔 스플리터(7)를 준비하고, 이들 빔 스플리터(7)에 각각 파장 대역 200 내지 350 ㎚, 350 내지 500 ㎚, 500 내지 700 ㎚, 700 내지 1000 ㎚ 등의 각 광대역 코트를 실시한 것을 제작한다. 그리고, 사용하는 파장 λi에 맞는 파장 대역의 광대역 코트를 실시한 빔 스플리터(7)가 선택되도록 교환 가능하게 한다. When the beam splitter 7 is used for a plurality of wavelengths? I, for example, a plurality of beam splitters 7 are prepared, and the beam splitters 7 have wavelength bands of 200 to 350 nm, 350 to 500 nm, and 500, respectively. The thing which performed each wideband coat, such as -700 nm and 700-1000 nm, is produced. Then, the beam splitter 7 having a wideband coat of a wavelength band corresponding to the wavelength?

파면 수차 해석 장치(2)는, 예를 들어 퍼스널 컴퓨터에 의해 이루어져 파면 수차 해석의 프로그램이 보존되어 있다. 이 파면 수차 해석 장치(2)는 파면 수차 해석의 프로그램을 실행함으로써, CCD 촬상 장치(14)로부터 출력된 간섭 무늬의 화상 신호를 간섭 무늬의 화상 데이터로서 도입하고, 이 간섭 무늬의 화상 데이터와 조명계(1)로부터 출력된 레이저 빔의 파장 λⅰ을 기초로 하여 피검 광학계(8)의 파면 수차를 해석하고, 이 해석 결과를 보존한다. The wavefront aberration analyzing apparatus 2 is formed by a personal computer, for example, and a program of wavefront aberration analysis is stored. The wavefront aberration analyzing apparatus 2 introduces the image signal of the interference fringe output from the CCD imaging device 14 as the image data of the interference fringe by executing the program of the wavefront aberration analysis, and the image data of this interference fringe and the illumination system. The wave front aberration of the optical system 8 to be examined is analyzed based on the wavelength λⅰ of the laser beam output from (1), and the analysis result is saved.

파면 수차 해석 장치(2)는 조명계(1)로부터 출사 가능한 레이저 빔의 복수의 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 복수의 스텝 이동량을 기억한다. 파면 수차 해석 장치(2)는, 예를 들어 오퍼레이터에 의해 사용하는 파장 λi가 수동에 의해 지시 입력된다. 파면 수차 해석 장치(2)는 오퍼레이터에 의해 지시된 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동량을 판독하고, 이 스텝 이동량에 따른 구동 명령을 압전 소자(13)에 발한다. The wavefront aberration analyzer 2 stores a plurality of step movement amounts of the reference mirror 12 corresponding to the plurality of wavelengths? I of the laser beam that can be emitted from the illumination system 1. As for the wavefront aberration analyzer 2, the wavelength lambda i used by an operator is inputted by manual instruction, for example. The wavefront aberration analyzing apparatus 2 reads the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to the wavelength [lambda] i instructed by the operator, and issues the drive command corresponding to this step movement amount to the piezoelectric element 13.

이와 같이 하여, 파면 수차 해석 장치(2)는 파장 λi의 레이저 빔의 출력 명령을 조명계(1)에 발하는 동시에, 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동 량의 구동 명령을 압전 소자(13)에 발한다. In this way, the wavefront aberration analyzing apparatus 2 issues an output command of the laser beam of wavelength lambda i to the illumination system 1, and sends a drive command of the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to the wavelength lambda i. 13).

조명계(1)로부터 출력되는 레이저 빔(3)의 파장 λi가 오퍼레이터의 수동에 의해 절환된 경우, 파면 수차 해석 장치(2)는 조명계(1)로 절환된 레이저 빔의 파장 λi를 판독하고, 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동량의 구동 명령을 압전 소자(13)에 발한다. When the wavelength λ i of the laser beam 3 output from the illumination system 1 is switched by the operator's manual, the wavefront aberration analyzer 2 reads the wavelength λ i of the laser beam switched to the illumination system 1, and the wavelength The piezoelectric element 13 issues a drive command for the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to [lambda] i.

파면 수차 해석 장치(2)는, 각각 다른 복수의 파장 λi의 각 레이저 빔을 피검 광학계(8)에 투과시켜 생성되는 복수의 간섭 무늬를 기초로 하여 파장 λi마다 피검 광학계(8)의 각 파면 수차를 구하고, 이들 파면 수차의 차분을 기초로 하여 세로의 색수차 및 가로의 색수차를 구한다. The wavefront aberration analyzer 2 performs wavefront aberration of the test optical system 8 for each wavelength? I based on a plurality of interference fringes generated by transmitting each laser beam having a plurality of different wavelengths? I through the test optical system 8. Then, vertical chromatic aberration and horizontal chromatic aberration are calculated based on the difference between these wavefront aberrations.

다음에, 상기와 같이 구성된 장치의 동작에 대해 설명한다. Next, the operation of the apparatus configured as described above will be described.

파장 λ1에 최적 설계된 피검 광학계(8)의 파면 수차의 해석을 행하는 경우, 피검 광학계(8)가 가대(5)의 아암(6)의 하면측에 설치된다. 이 때, XYZ 스테이지(10)의 구동에 의해 구면 미러(11)는 XYZ 방향으로 이동한다. 이에 의해, 구면 미러(11)의 곡률 중심(C)과 피검 광학계(8)의 초점 위치(S)가 일치하도록 얼라이먼트 조정된다. When analyzing the wave front aberration of the test optical system 8 optimally designed for the wavelength λ 1 , the test optical system 8 is provided on the lower surface side of the arm 6 of the mount 5. At this time, the spherical mirror 11 moves in the XYZ direction by driving the XYZ stage 10. Thereby, alignment is adjusted so that the center of curvature C of the spherical mirror 11 and the focal position S of the inspection optical system 8 may coincide.

조명계(1)에 있어서는, 도2에 도시한 바와 같이 파장 λ1의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-1)에 대응한 출사부(1-5)가 오퍼레이터의 작업에 의해 조명 경통(1-7)의 입사 단부(1-8)에 대해 접속된다. In the illumination system 1, as shown in FIG. 2, the emission part 1-5 corresponding to the laser light source 1-1 which outputs the laser beam of wavelength (lambda) 1 has the illumination barrel 1 by the operation of an operator. Connected to the incidence end 1-8 of -7).

이 작업과 동시에, 조명계(1)에 있어서 파장 λ1의 레이저 빔을 출력하는 레 이저 광원(1-1)으로 절환된 것이 파면 수차 해석 장치(2)에 수동에 의해 지시 입력된다. 파장 λi의 레이저 빔의 출력 명령이 자동 또는 수동으로 조명계(1)에 발생하면, 파면 수차 해석 장치(2)는 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동량의 구동 명령을 압전 소자(13)에 발한다. 또, 파면 수차 해석 장치(2)는 조명계(1)로 절환된 레이저 빔의 파장 λi를 자동적으로 판독하고, 상기 파장 λ1에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동량의 구동 명령을 압전 소자(13)에 발해도 된다. At the same time as this operation, it is switched to the laser light source (1-1) for outputting a laser beam of wavelength λ 1 in the illumination system 1 is indicated by a manual input to the wavefront aberration analyzer (2). When the output command of the laser beam of wavelength lambda i is automatically or manually generated in the illumination system 1, the wavefront aberration analyzer 2 issues a drive command of the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to the wavelength lambda i. ) On foot. Further, the wavefront aberration analyzer 2 automatically reads the wavelength λ i of the laser beam switched to the illumination system 1, and issues a drive command for the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to the wavelength λ 1 . 13) may be emitted.

이에 의해, 레이저 광원(1-1)은 파장 λ1의 레이저 빔을 출력한다. 이 파장 λ1의 레이저 빔은 광 파이버(1-3) 내를 통해 조명 경통(1-7) 내에 입사되고, 콜리메이터 렌즈(1-9)에 의해 평행광으로 정형되어 출사된다.Thereby, the laser light source 1-1 outputs the laser beam of wavelength (lambda) 1 . The laser beam of this wavelength [lambda] 1 enters into the illumination barrel 1-7 through the optical fiber 1-3, and is shaped and outputted in parallel light by the collimator lens 1-9.

이 평행광의 레이저 빔(3)은 빔 스플리터(7)에 입사한다. 이 빔 스플리터(7)는 입사한 레이저 빔을 측정광(H)과 참조광(R)으로 분기한다. 이 중 측정광(H)은 피검 광학계(8)를 투과하여 구면 미러(11)에 입사하고, 이 구면 미러(11)로 상방에 반사하고, 다시 피검 광학계(8)를 투과하여 빔 스플리터(7)에 입사한다. 참조광(R)은 참조 미러(12)에 반사하여 다시 빔 스플리터(7)에 입사한다. The laser beam 3 of this parallel light is incident on the beam splitter 7. The beam splitter 7 splits the incident laser beam into measurement light H and reference light R. Among them, the measurement light H is transmitted through the optical system 8 and enters the spherical mirror 11, is reflected upwardly by the spherical mirror 11, and again transmitted through the optical system 8 to the beam splitter 7. ). The reference light R is reflected by the reference mirror 12 and is incident on the beam splitter 7 again.

그리고, 측정광(H)은 빔 스플리터(7)를 투과하고, 촬상계(15)의 각 렌즈(L1, L2)를 통해 CCD 촬상 장치(14)에 입사한다. 이와 동시에 참조광(R)은 빔 스플리터(7)로 상방에 반사하고, 측정광(H)과 마찬가지로 촬상계(15)의 각 렌즈(L1, L2)를 통해 CCD 촬상 장치(14)에 입사한다. 이에 의해, 측정광(H)과 참조광(R)에 의한 간섭 무늬가 생기고, 이 간섭 무늬가 CCD 촬상 장치(14)의 촬상면(14a) 상에 결상된다. The measurement light H passes through the beam splitter 7 and enters the CCD imaging device 14 through the lenses L 1 and L 2 of the imaging system 15. At the same time, the reference light R is reflected upward by the beam splitter 7 and enters the CCD imaging apparatus 14 through the lenses L 1 and L 2 of the imaging system 15 similarly to the measurement light H. do. Thereby, the interference fringe by the measurement light H and the reference light R arises, and this interference fringe is image-formed on the imaging surface 14a of the CCD imaging device 14.

이 상태에서, 압전 소자(13)는 파면 수차 해석 장치(2)로부터 공급되는 스텝 이동량의 구동 명령에 따라서 각 미소 변위한다. 이에 의해, 참조 미러(12)는 압전 소자(13)의 미소 변위에 의해 참조광(R)의 진행 방향과 동일 방향으로 스텝 이동한다. 예를 들어 90°위상이 다른 4매의 간섭 무늬 화상 데이터를 취득하는 경우, 참조 미러(12)는 파장 λ1의 8분의 1의 스텝량으로 5 스텝 이동한다. 이 스텝 이동량은 파장 λ1의 2분의 1의 스텝량에 상당한다. In this state, the piezoelectric element 13 displaces each minute in accordance with the driving instruction of the step movement amount supplied from the wavefront aberration analyzer 2. As a result, the reference mirror 12 is stepped in the same direction as the traveling direction of the reference light R by the micro displacement of the piezoelectric element 13. For example, in the case of acquiring four pieces of interference fringe image data having different 90 ° phases, the reference mirror 12 is moved five steps at a step amount of one eighth of the wavelength lambda 1 . This step movement amount is corresponded to the half step amount of wavelength (lambda) 1 .

이와 같이 참조 미러(12)가 스텝 이동할 때마다, CCD 촬상 장치(14)는, 각 렌즈(L1, L2)에 의해 입사하는 각 간섭 무늬를 촬상하고, 그 각 화상 신호를 출력한다. In this way, each time the reference mirror 12 moves, the CCD imaging device 14 picks up each interference fringe incident by each of the lenses L 1 and L 2 , and outputs the respective image signals.

파면 수차 해석 장치(2)는 CCD 촬상 장치(14)로부터 출력된 각 화상 신호를 도입하고, 예를 들어 90°위상이 다른 4매의 간섭 무늬 화상 데이터를 저장한다. 이 때, CCD 촬상 장치(14)는 릴레이 광학계를 구성하는 각 렌즈(L1, L2)를 통해 피검 광학계(8)의 동공 위치와 공액 관계의 위치에 설치되어 있다. 이에 의해, 피검 광학계(8)의 동공의 윤곽이 CCD 촬상 장치(14)의 촬상면(14a) 상에 명확하게 투영된다. 이 결과, 파면 수차 해석 장치(2)는 피검 광학계(8)의 동공의 윤곽 경계까지 정확하게 파면 수차의 평가를 가능하게 한다. The wavefront aberration analyzer 2 introduces each image signal output from the CCD imaging device 14 and stores, for example, four pieces of interference fringe image data having different 90 ° phases. At this time, the CCD imaging device 14 is provided at the pupil position of the test optical system 8 and the conjugated position through the lenses L 1 and L 2 constituting the relay optical system. Thereby, the outline of the pupil of the test optical system 8 is clearly projected onto the imaging surface 14a of the CCD imaging device 14. As a result, the wavefront aberration analyzer 2 enables accurate evaluation of the wavefront aberration to the contour boundary of the pupil of the test optical system 8.

한편, 파장 λ1과 다른 파장 λi에 최적 설계된 피검 광학계(8)의 파면 수차의 해석을 행하는 경우, 조명계(1)에 있어서 파장 λi의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-2)에 대응한 출사부(1-6)가 오퍼레이터의 작업에 의해 조명 경통(1-7)의 입사 단부(1-8)에 대해 접속된다. 이 작업과 동시에, 조명계(1)에 있어서 파장 λi의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-2)으로 절환된 것이 파면 수차 해석 장치(2)에 수동에 의해 지시 입력된다. On the other hand, when analyzing the wave front aberration of the inspection optical system 8 optimally designed for a wavelength λ i different from the wavelength λ 1 , the illumination system 1 corresponds to a laser light source 1-2 that outputs a laser beam having a wavelength λ i. The exit part 1-6 is connected with respect to the incidence edge part 1-8 of the illumination barrel 1-7 by an operator's work. Simultaneously with this operation, what was switched to the laser light source 1-2 which outputs the laser beam of wavelength (lambda) i in the illumination system 1 is instructed and inputted manually by the wavefront aberration analyzer 2.

이 파면 수차 해석 장치(2)는 파장 λi의 레이저 빔의 출력 명령이 자동 또는 수동으로 조명계(1)에 발생하면, 상기 파장 λi에 대응하는 참조 미러(12)의 스텝 이동량의 구동 명령을 압전 소자(13)에 발한다. When the wavefront aberration analyzer 2 generates a laser beam output command of wavelength lambda i automatically or manually, the piezoelectric element generates a drive command for the step movement amount of the reference mirror 12 corresponding to the wavelength lambda i. I give it to (13).

이에 의해, 상기와 같이 참조 미러(12)는, 파장 λi에 대응하는 스텝량으로 스텝 이동한다. 이 참조 미러(12)가 스텝 이동할 때마다, CCD 촬상 장치(14)는 각 렌즈(L1, L2)에 의해 입사하는 각 간섭 무늬를 촬상하고, 그 각 화상 신호를 출력한다. 파면 수차 해석 장치(2)는 CCD 촬상 장치(14)로부터 출력된 각 화상 신호를 도입하고, 서로 위상이 다른 복수매의 간섭 무늬 화상 데이터를 저장한다. Thereby, the reference mirror 12 steps by the step amount corresponding to the wavelength (lambda) i as mentioned above. Each time the reference mirror 12 steps, the CCD imaging device 14 picks up each interference fringe incident by each of the lenses L 1 and L 2 , and outputs the respective image signals. The wavefront aberration analyzer 2 introduces each image signal output from the CCD imaging device 14 and stores a plurality of pieces of interference fringe image data having different phases from each other.

파면 수차 해석 장치(2)는, 각각 다른 복수의 파장 λi의 각 레이저 빔을 피검 광학계(8)에 투과시켜 생성되는 복수의 간섭 무늬 화상 데이터를 기초로 하여 파장 λi마다 피검 광학계(8)의 각 파면 수차를 구하고, 이들 파면 수차의 차분을 기초로 하여 세로의 색수차 및 가로의 색수차를 구한다. The wavefront aberration analyzing apparatus 2 transmits each laser beam of a plurality of wavelengths λi different from each other on the basis of the plurality of interference fringe image data generated by transmitting the laser beam of the plurality of wavelengths λi to the inspection optical system 8 for each wavelength of the inspection optical system 8. The wave front aberration is obtained, and the vertical chromatic aberration and the horizontal chromatic aberration are determined based on the difference between these wave front aberrations.

조명계(1)는, 각 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6)를 조명 경통(1-7)의 입사 단부(1-8)에 접속하기 때문에, 간단하게 파장 λi의 절환이 가능하고, 또한 파장 λi를 절환할 때마다 광축 조정을 할 필요가 없으며, 매우 단시간에 파장 λi의 절환을 할 수 있다. The illumination system 1 connects each exit part 1-5, 1-6 corresponding to each laser light source 1-1, 1-2 to the incidence edge part 1-8 of the illumination barrel 1-7. Because of the connection, the wavelength? I can be easily switched, and the optical axis does not need to be adjusted each time the wavelength? I is switched, and the wavelength? I can be switched in a very short time.

이와 같이 상기 제1 실시 형태에 따르면, 조명계(1)에 각 파장 λ1, λi의 레이저 빔을 출력하는 각 레이저 광원(1-1, 1-2)을 구비하고, 파면 수차의 해석을 행하는 피검 광학계(8)의 각 파장 λ1, λi에 맞춰 어느 한 쪽의 레이저 광원(1-1, 1-2)을 선택하고, 파면 수차 해석 장치(2)는 조명계(1)로 선택된 레이저 빔의 파장 λ1, λi와 간섭 무늬 화상 데이터를 기초로 하여 피검 광학계(8)의 파면 수차를 해석한다. In this manner provided with a respective laser light source (1-1, 1-2) to the first, according to the embodiment, the output of the laser beam of each wavelength λ 1, λi to illumination system (1), a test of performing the analysis of the wave front aberration One of the laser light sources 1-1, 1-2 is selected in accordance with each of the wavelengths λ 1 , λ i of the optical system 8, and the wavefront aberration analyzer 2 selects the wavelength of the laser beam selected by the illumination system 1. The wave front aberration of the optical system 8 under test is analyzed based on λ 1 , λ i and the interference fringe image data.

이에 의해, 통상 사용되는 피검 광학계(8)를 설계해 온 파장 0.633 ㎛ 이외의 UV로부터 NIR의 파장 영역 내의 어느 파장에 최적 설계된 고정밀도인 피검 광학계(8)의 파면 수차를 해석할 수 있다. Thereby, the wave front aberration of the high-precision test optical system 8 optimally designed for any wavelength in the wavelength range of NIR can be analyzed from UV other than the wavelength 0.633 micrometer which designed the test optical system 8 used normally.

즉, 레이저 빔의 파장 λ1, λi를 임의로 변경하고, 결정된 레이저 빔의 파장 λ1, λi에 따른 스텝량으로 참조 미러(12)를 스텝 이동한다는 위상 시프트법에 의해 복수의 간섭 무늬 화상 데이터를 취득하기 때문에, 임의의 파장 λ1, λi에서 피검 광학계(8)의 파면 수차를 해석할 수 있다. That is, a plurality of interference fringe image data by the laser beam wavelength λ 1, the phase shift method that changes the λi optionally and moving step the reference mirror 12 in the step amount of the wavelength λ 1, λi of the determined laser beam Since it acquires, the wave front aberration of the test optical system 8 can be analyzed in arbitrary wavelength (lambda) 1 , (lambda) i.

이 경우, 간섭계(4)는 피검 광학계(8)를 최적 설계하였을 때 파장 λ1, λi에 최적화된 코팅 등을 실시한 빔 스플리터 및 참조 미러 등의 각 광학 소자를 이 용한 그 파장 λ1, λi의 전용인 것을 준비하지 않아도 좋다. 이에 의해, 간섭계(4)는 1대 준비하면 좋고, 비용을 저감할 수 있다. In this case, the interferometer 4 of the wavelength λ 1, λi for each optical element such as the tested optical system (8) the Optimization hayeoteul when the wavelength λ 1, subjected to such an optimized coating on λi beam splitter and the reference mirror is yonghan You do not need to prepare for exclusive use. Thereby, just one interferometer 4 may be prepared, and the cost can be reduced.

CCD 촬상 장치(14)는 릴레이 광학계를 구성하는 각 렌즈(L1, L2)를 통해 피검 광학계(8)의 동공 위치와 공액 관계의 위치에 설치되어 있다. 이에 의해, 피검 광학계(8)의 동공의 윤곽이 CCD 촬상 장치(14)의 촬상면(14a) 상에 명확하게 투영되고, 피검 광학계(8)의 동공의 윤곽 경계까지 정확하게 파면 수차의 평가를 할 수 있다. The CCD imaging device 14 is provided at the position of the pupil position of the test optical system 8 and the conjugated position via each lens L 1 , L 2 constituting the relay optical system. Thereby, the outline of the pupil of the inspection optical system 8 is clearly projected on the imaging surface 14a of the CCD imaging device 14, and the wavefront aberration can be accurately evaluated to the outline boundary of the pupil of the inspection optical system 8. have.

파면 수차 해석 장치(2)는 피검 광학계(8)의 파면 수차의 해석 결과를 보존할 수 있고, 또한 각각 다른 복수의 파장 λi마다 피검 광학계(8)의 각 파면 수차의 차분을 기초로 하여 색수차를 구할 수 있다. The wavefront aberration analyzing apparatus 2 can save the analysis result of the wavefront aberration of the test optical system 8, and also adjust chromatic aberration based on the difference of each wavefront aberration of the test optical system 8 for each of a plurality of different wavelengths? I. You can get it.

트와이만ㆍ그린 간섭계(4)는 1대에서 복수의 파장 λi에 대응하기 위해서는 유리하다. 그 이유를 설명하면, 통상 사용되는 파장 0.633 ㎛의 He-Ne 레이저는 단색성이 높기 때문에 가간섭 거리가 길다. 이 He-Ne 레이저를 사용하면, 도4에 도시하는 측정광과 참조광과의 광로차가 큰 피조형 간섭계라도 충분한 콘트라스트를 갖는 간섭 무늬를 취득할 수 있다. The Twiman-Green interferometer 4 is advantageous to cope with a plurality of wavelengths? I in one unit. The reason for this is that the He-Ne laser having a wavelength of 0.633 µm, which is usually used, has a high monochromaticity and thus has a long interference distance. By using this He-Ne laser, an interference fringe having sufficient contrast can be obtained even with a built-in interferometer having a large optical path difference between the measurement light and the reference light shown in FIG.

도4는 피조형 간섭계의 구성도를 도시한다. 레이저 광원(20)으로부터 출력되는 레이저 빔의 광로 상에는 빔 스플리터(21)가 설치되어 있다. 이 빔 스플리터(21)의 투과광 노상에는 광 투과성의 참조 미러(22)와, 예를 들어 현미경의 대물 렌즈 등의 피검 광학계(8)와, 구면 미러(11)가 설치된다. 4 shows a configuration diagram of a built interferometer. The beam splitter 21 is provided on the optical path of the laser beam output from the laser light source 20. In the transmitted light hearth of the beam splitter 21, a light transmissive reference mirror 22, a test optical system 8 such as an objective lens of a microscope, and a spherical mirror 11 are provided.

빔 스플리터(21)의 반사 광로 상에는 CCD 촬상 장치(14)가 설치되어 있다. 레이저 광원(20)으로부터 출력되는 레이저 빔은 그 일부가 참조광으로서 참조 미러(22)에서 반사하여 빔 스플리터(21)에 입사한다. The CCD imaging device 14 is provided on the reflected optical path of the beam splitter 21. A part of the laser beam output from the laser light source 20 is reflected by the reference mirror 22 as a reference light and enters the beam splitter 21.

이와 함께 참조 미러(22)를 투과한 레이저 빔은 측정광으로서 피검 광학계(8)를 통해 구면 미러(11)에 입사하고, 이 구면 미러(11)에서 반사하여 다시 피검 광학계(8), 참조 미러(22)를 통해 빔 스플리터(21)에 입사한다. At the same time, the laser beam transmitted through the reference mirror 22 enters the spherical mirror 11 through the optical system 8 as the measurement light, is reflected by the spherical mirror 11, and is again reflected by the optical system 8 and the reference mirror. It enters into the beam splitter 21 via 22.

이에 의해, 참조광과 측정광에 의해 발생한 간섭 무늬의 상이 CCD 촬상 장치(14)에 결상된다. 따라서, 참조광의 광로는 빔 스플리터(21)로부터 참조 미러(22)에서 반사하고, 다시 빔 스플리터(21)에 입사할 때까지이다. 측정광의 광로는 빔 스플리터(21)로부터 참조 미러(22), 피검 광학계(8)를 통해 구면 미러(11)에서 반사하고, 다시 빔 스플리터(21)에 입사할 때까지이며, 측정광과 참조광과의 광로차가 크다. As a result, the image of the interference fringe generated by the reference light and the measurement light is imaged in the CCD imaging device 14. Therefore, the optical path of the reference light is reflected from the beam splitter 21 to the reference mirror 22 until it enters the beam splitter 21 again. The optical path of the measurement light is reflected from the beam splitter 21 to the spherical mirror 11 through the reference mirror 22 and the inspection optical system 8 and is incident on the beam splitter 21 again. The optical path difference of is large.

1대의 간섭계를 이용하여 복수의 파장 λi에 대응하는 경우, 사용하는 레이저 빔의 파장에 따라서는 피조 간섭계에 사용할 수 있는 가간섭 거리를 확보할 수 없는 레이저 광원도 있다. 예를 들어, 반도체 레이저이다. When one interferometer is used to cope with a plurality of wavelengths λ i, some laser light sources cannot secure an interference distance that can be used for the created interferometer depending on the wavelength of the laser beam to be used. For example, it is a semiconductor laser.

최근, 각 파장의 각 반도체 레이저가 실용화되어 있고, 반도체 레이저 전용의 고정밀도인 렌즈 등의 광학계 제품이 증가되어 있다. 따라서, 복수의 파장 λi에 대응하기 위해서는 트와이만ㆍ그린 간섭계(4)를 이용하는 편이 유리하다. 그러나, 당연한 일이지만 피조형 등의 여러 가지 간섭계에 대해 본 발명의 장치가 손상되지 않는 것은 아니다. 가간섭 거리가 큰 레이저와 다파장 투과 파면 수차 측정 장치를 구성할 수 있는 경우에는, 피조형이라도 되는 것은 물론이다. In recent years, each semiconductor laser of each wavelength is put into practical use, and optical products, such as a lens with high precision, dedicated for semiconductor lasers, are increasing. Therefore, it is advantageous to use the Twiman-Green interferometer 4 in order to correspond to the plurality of wavelengths? I. As a matter of course, however, the device of the present invention is not intact for various interferometers, such as a built object. If a laser having a large interference distance and a multi-wavelength transmission wave front aberration measuring apparatus can be configured, of course, it may be a model.

이하, 조명계(1)의 다른 구성에 대해 설명한다. 또, 도2와 동일 부분에는 동일 부호를 부여하여 그 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, the other structure of the illumination system 1 is demonstrated. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as FIG. 2, and the detailed description is abbreviate | omitted.

도5는 조명계(1)의 구성도이다. 파장 λ1의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-1)과, 파장 λi의 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원(1-2)이 설치되어 있다. 이들 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6)는 출사부 절환하여 유닛(30)에 부착되어 있다. 5 is a configuration diagram of the illumination system 1. The laser light source 1-1 which outputs the laser beam of wavelength (lambda) 1 , and the laser light source 1-2 which output the laser beam of wavelength (lambda) i are provided. Each of the output units 1-5 and 1-6 corresponding to the laser light sources 1-1 and 1-2 are switched to the output unit and attached to the unit 30.

이 출사부 절환 유닛(30)은, 예를 들어 원판형의 절환 부재(31)와, 이 절환부재(31)의 대략 중심부에 설치된 회전축(32)을 갖는다. 절환 부재(31)에는, 각 출사부(1-5, 1-6)를 부착하는 각 구멍부(33, 34)가 마련되어 있다. 절환 부재(31)는 회전축(32)을 중심으로 화살표 A 방향으로 회전함으로써 각 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6) 중 어느 한 쪽을 조명 경통(1-7)의 대응 위치에 위치 결정할 수 있다. This output part switching unit 30 has a disk-shaped switching member 31 and the rotating shaft 32 provided in the substantially central part of this switching member 31, for example. The switching member 31 is provided with each hole 33 and 34 for attaching the exit portions 1-5 and 1-6. The switching member 31 rotates in the direction of an arrow A about the rotation shaft 32, so that either one of the output units 1-5 and 1-6 corresponding to the respective laser light sources 1-1 and 1-2. Can be positioned at the corresponding position of the lighting barrel 1-7.

절환 부재(31)는 오퍼레이터의 수동에 의해 회전축(32)을 회전시켜 각 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6)를 조명 경통(1-7)에 대해 절환한다. 또는 절환 부재(31)는 모터 등의 축을 회전축(32)에 연결하여 전동에 의해 각 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6)를 조명 경통(1-7)에 대해 절환한다. The switching member 31 rotates the rotating shaft 32 by the operator's manual operation, and illuminates the light exit portions 1-5 and 1-6 corresponding to the respective laser light sources 1-1 and 1-2, respectively. Switch to -7). Alternatively, the switching member 31 connects a shaft such as a motor to the rotary shaft 32 to illuminate each output unit 1-5, 1-6 corresponding to each laser light source 1-1, 1-2 by electric transmission. Switch to the barrel (1-7).

절환 부재(31)는 파면 수차 해석 장치(2)로부터의 절환 지시를 받아 회전축 (32)에 연결된 모터를 구동하고, 자동적으로 각 레이저 광원(1-1, 1-2)에 대응하는 각 출사부(1-5, 1-6)를 조명 경통(1-7)에 대해 절환해도 좋다. The switching member 31 receives a switching instruction from the wavefront aberration analyzer 2 to drive a motor connected to the rotary shaft 32, and automatically emits each output unit corresponding to each laser light source 1-1, 1-2. You may switch (1-5, 1-6) with respect to the illumination barrel 1-7.

도6은 다른 조명계(1)의 구성도이다. 복수의 레이저 광원(1-1 내지 1-i)이 설치되어 있다. 이들 레이저 광원(1-1 내지 1-i)은, 각각 다른 각 파장 λ1 내지 λi의 레이저 빔을 출력한다. 이들 레이저 광원(1-1 내지 1-ⅰ)으로부터 출력되는 각 레이저 빔의 광로 상에는, 각각 셔터(35-1 내지 35-i)가 설치되어 있다.6 is a configuration diagram of another illumination system 1. A plurality of laser light sources 1-1 to 1-i are provided. These laser light sources 1-1 to 1-i respectively output laser beams having different wavelengths λ 1 to λ i. Shutters 35-1 to 35-i are provided on the optical paths of the respective laser beams output from these laser light sources 1-1 to 1-kV.

이들 셔터(35-1 내지 35-i)는, 통상 폐쇄되어 있고, 사용하는 파장 대역에 따라서 어느 하나가 선택되어 개방된다. 이들 셔터(35-1 내지 35-i)는 오퍼레이터의 수동에 의해 개폐하거나, 전동에 의해 개폐해도 좋다. 셔터(35-1 내지 35-i)는 파면 수차 해석 장치(2)로부터의 절환 지시를 받아 자동적으로 개폐해도 좋다. These shutters 35-1 to 35-i are normally closed, and either one is selected and opened depending on the wavelength band to be used. These shutters 35-1 to 35-i may be opened or closed by an operator's manual operation or may be opened or closed by transmission. The shutters 35-1 to 35-i may be opened and closed automatically in response to a switching instruction from the wavefront aberration analyzer 2.

이들 셔터(35-1, 35-2)의 출력측의 각 레이저 광로 상에는 빔 스플리터군으로서의 각 빔 스플리터(36-1, 36-2)가 설치되어 있다. 셔터(35-i)의 출력측의 레이저 광로 상에는 미러(36-i)가 설치되어 있다. 이 미러(36-ⅰ)도 빔 스플리터군을 구성한다. 또, 콜리메이터 렌즈(1-9)는, 사용하는 파장 대역에서 초점 거리가 변화되지 않는 색지움 렌즈를 이용하는 것이 좋다. On each laser optical path on the output side of these shutters 35-1 and 35-2, each beam splitter 36-1 and 36-2 as a beam splitter group is provided. The mirror 36-i is provided on the laser light path on the output side of the shutter 35-i. This mirror 36-v also constitutes a beam splitter group. As the collimator lens 1-9, it is preferable to use a color-defining lens whose focal length does not change in the wavelength band used.

도7은 다른 조명계(1)의 구성도이다. 이 조명계(1)는, 도6에 도시한 조명계(1)에 있어서의 각 셔터(35-1 내지 35-i)를 제외하고, 또한 조명 경통(1-7)으로부터 출사되는 레이저 빔의 광로 상에 간섭 필터(37)를 설치하였다. 이 간섭 필터(37)는 오퍼레이터의 수동에 의해 레이저 빔의 광로 상에 설치하거나, 전동에 의해 레이저 빔의 광로 상에 설치해도 좋다. 간섭 필터(37)는 파면 수차 해석 장치(2)로부터의 절환 지시를 받아 자동적으로 레이저 빔의 광로 상에 설치해도 좋다. 7 is a configuration diagram of another illumination system 1. This illumination system 1 is a light path image of the laser beam emitted from the illumination barrel 1-7, except for each shutter 35-1 to 35-i in the illumination system 1 shown in FIG. The interference filter 37 was installed in the. This interference filter 37 may be provided on the optical path of the laser beam manually by an operator, or may be provided on the optical path of the laser beam by transmission. The interference filter 37 may be automatically installed on the optical path of the laser beam in response to a switching instruction from the wavefront aberration analyzer 2.

간섭 필터(37)는, 사용하는 파장 대역의 레이저 빔만을 투과한다. 또, 이 간섭 필터(37)는 CCD 촬상 장치(14)의 직전에 설치해도 좋다. The interference filter 37 transmits only the laser beam of the wavelength band to be used. The interference filter 37 may be provided just before the CCD image pickup device 14.

본 발명은, 상기 실시 형태 그대로 한정되는 것은 아니며, 다음과 같이 변형되어도 좋다. The present invention is not limited to the above embodiment as it is, and may be modified as follows.

상기 실시 형태에서는, 피검 광학계로서 조명계(1)와 간섭계(4)를 따로따로 설치하고 있지만, 이들 조명계(1)와 간섭계(4)를 일체적으로 설치하는 것도 가능하다. In the said embodiment, although the illumination system 1 and the interferometer 4 are provided separately as a test optical system, these illumination system 1 and the interferometer 4 can also be provided integrally.

상기 실시 형태에서는, 렌즈로 구성된 투과형의 대물 렌즈의 파면 수차(투과는 면수차)를 측정하는 경우에 대해서만 설명하였다. 이에 대해, 반사형의 소자(미러)와 렌즈를 복합한 대물 렌즈(피검 광학계)나 반사 소자만으로 구성된 대물 렌즈(피검 광학계)의 파면 수차를 측정하는 경우에도, 당연한 일이지만 본 발명이 유효하다는 것은 명백하다. 피검 광학계는, 어떠한 소자로 구성되어 있어도 좋다. In the above embodiment, only the case where the wave front aberration (transmission is surface aberration) of the transmission-type objective lens composed of the lens has been described. On the other hand, even when measuring the wave front aberration of the objective lens (test optical system) which combined a reflective element (mirror) and a lens, or the objective lens (test optical system) comprised only with a reflection element, it is natural that it is effective. It is obvious. The optical system to be tested may be composed of any element.

Claims (19)

피검 광학계의 파면 수차를 측정하는 파면 수차 측정 장치에 있어서, In the wavefront aberration measuring apparatus for measuring the wavefront aberration of the inspection optical system, 2 이상의 파장이 다른 각 코히어런트광으로부터 상기 파면 수차를 측정하기 위한 임의의 파장에 맞춘 상기 파장의 상기 코히어런트광을 선택하여 출력하는 조명계와, An illumination system that selects and outputs the coherent light of the wavelength according to an arbitrary wavelength for measuring the wave front aberration from each of the coherent light having two or more different wavelengths; 상기 조명계로부터 선택되어 출력된 상기 코히어런트광을 상기 피검 광학계에 통과시켜 상기 피검 광학계의 광학 성능을 반영한 간섭 무늬를 생성하는 간섭계와, An interferometer for passing the coherent light selected and output from the illumination system to the test optical system to generate an interference fringe reflecting the optical performance of the test optical system; 상기 조명계로부터 출력된 상기 코히어런트광의 파장과 상기 간섭계에 의해 생성된 상기 간섭 무늬를 기초로 하여 상기 피검 광학계의 상기 파면 수차를 해석하는 해석부를 구비한 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. And an analysis unit for analyzing the wave front aberration of the optical system under test based on the wavelength of the coherent light output from the illumination system and the interference fringe generated by the interferometer. 피검 광학계의 파면 수차를 측정하는 파면 수차 측정 장치에 있어서, In the wavefront aberration measuring apparatus for measuring the wavefront aberration of the inspection optical system, 2 이상의 파장이 다른 각 코히어런트광으로부터 상기 파면 수차를 측정하기 위한 임의의 파장에 맞춘 상기 파장의 상기 코히어런트광을 선택하여 출력하는 조명계와, An illumination system that selects and outputs the coherent light of the wavelength according to an arbitrary wavelength for measuring the wave front aberration from each of the coherent light having two or more different wavelengths; 상기 조명계로부터 선택되어 출력된 상기 코히어런트광을 상기 피검 광학계에 통과시켜 상기 피검 광학계의 광학 성능을 반영한 간섭 무늬를 생성하는 간섭계와, An interferometer for passing the coherent light selected and output from the illumination system to the test optical system to generate an interference fringe reflecting the optical performance of the test optical system; 상기 간섭계에 의해 생성된 상기 간섭 무늬를 촬상하는 촬상 장치와, An imaging device for imaging the interference fringe generated by the interferometer; 상기 촬상 장치에 의해 촬상된 상기 간섭 무늬의 화상 데이터와 상기 조명계로부터 출력된 상기 코히어런트광의 파장을 기초로 하여 상기 피검 광학계의 상기 파면 수차를 해석하는 해석부를 구비한 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. And an analysis unit for analyzing the wave front aberration of the test optical system based on the image data of the interference fringe image picked up by the imaging device and the wavelength of the coherent light output from the illumination system. Device. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 조명계는 파장이 다른 복수의 상기 코히어런트광을 각각 출력하는 복수의 광원과, The illumination system according to claim 1 or 2, wherein the illumination system comprises: a plurality of light sources each outputting a plurality of the coherent lights having different wavelengths; 상기 복수의 광원으로부터 각각 출력되는 상기 복수의 코히어런트광으로부터 임의의 파장의 상기 코히어런트광을 선택하고, 선택된 상기 코히어런트광을 상기 피검 광학계로 이송하는 파장 선택부를 갖는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. And a wavelength selection unit for selecting the coherent light of an arbitrary wavelength from the plurality of coherent lights respectively output from the plurality of light sources and transferring the selected coherent light to the test optical system. Wavefront aberration measuring device. 제3항에 있어서, 상기 파장 선택부는 각 일단부가 각각 상기 각 광원에 접속된 복수의 광 파이버와, The optical waveguide device according to claim 3, wherein the wavelength selector comprises: a plurality of optical fibers whose one ends are respectively connected to the respective light sources; 상기 각 파이버의 각 타단부에 각각 접속된 복수의 출사부와,A plurality of output parts respectively connected to the other ends of the respective fibers, 상기 각 출사부 중 어느 하나의 상기 출사부가 접속되고, 상기 출사부로부터 출사된 상기 코히어런트광을 콜리메이트하여 출사하는 조명 경통을 갖는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치.The wavefront aberration measuring apparatus according to any one of the above-mentioned emitting units, wherein the emitting unit has an illumination barrel which is connected to and emits the coherent light emitted from the emitting unit. 제3항에 있어서, 상기 파장 선택부는, 각 일단부가 각각 상기 각 광원에 접 속된 복수의 광 파이버와,The method of claim 3, wherein the wavelength selection unit comprises: a plurality of optical fibers whose one ends are respectively connected to the respective light sources; 상기 각 파이버의 각 타단부에 각각 접속된 복수의 출사부와,A plurality of output parts respectively connected to the other ends of the respective fibers, 상기 각 출사부로부터 출사된 상기 각 코히어런트광 중 하나의 상기 코히어런트광을 콜리메이트하여 출사하는 조명 경통과,An illumination barrel for collimating and outputting the coherent light of one of the coherent lights emitted from each of the exit units; 상기 각 출사부가 설치되고, 상기 각 출사부 중 임의의 파장의 상기 코히어런트광을 출사하는 상기 출사부를 상기 조명 경통에 위치 결정하는 출사부 절환 유닛을 갖는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치.And each emitter is provided with a emitter switching unit that positions the emitter for emitting the coherent light of any wavelength among the emitters in the illumination barrel. 제5항에 있어서, 상기 출사부 절환 유닛은, 상기 각 출사부가 설치되는 회전 가능한 원판형의 절환 부재와,The said exit part switch unit is a rotatable disk-shaped switching member in which each said exit part is provided, 상기 절환 부재의 대략 중심에 설치된 회전 축을 갖는 파면 수차 측정 장치.A wavefront aberration measuring apparatus having a rotational axis provided at approximately a center of the switching member. 제3항에 있어서, 상기 파장 선택부는, 상기 각 광원으로부터 각각 출사되는 상기 각 코히어런트광의 각 광로 상에 설치되고, 임의의 파장의 상기 코히어런트광을 통과시키는 복수의 셔터와,The shutter of claim 3, wherein the wavelength selector comprises: a plurality of shutters provided on the respective optical paths of the coherent light emitted from the respective light sources, and allowing the coherent light of an arbitrary wavelength to pass therethrough; 상기 각 셔터 중 하나의 상기 셔터를 통과한 임의의 파장의 상기 코히어런트광을 1 광로 상에 유도하는 빔 스플리터군과,A beam splitter group for guiding the coherent light of any wavelength passing through the shutter of one of the shutters on one optical path; 상기 빔 스플리터군에 의해 유도된 임의의 파장의 상기 코히어런트광을 콜리메이트하여 출사하는 조명 경통을 갖는 파면 수차 측정 장치.A wavefront aberration measuring apparatus having an illumination barrel for collimating and emitting the coherent light of any wavelength induced by the beam splitter group. 제3항에 있어서, 상기 파장 선택부는, 상기 각 광원으로부터 각각 출사되는 상기 각 코히어런트광을 1 광로 상에 유도하는 빔 스플리터군과, The beam splitter group of claim 3, wherein the wavelength selector comprises: a beam splitter group for guiding the coherent light emitted from each of the light sources on one optical path; 상기 빔 스플리터군에 의해 유도된 상기 각 코히어런트광을 콜리메이트하여 출사하는 조명 경통과, An illumination barrel for collimating and outputting the respective coherent lights induced by the beam splitter group; 상기 조명 경통으로부터 출사되는 상기 각 코히어런트광 중 임의의 파장의 상기 코히어런트광만을 투과시키는 간섭 필터를 갖는 파면 수차 측정 장치. A wavefront aberration measuring apparatus having an interference filter for transmitting only the coherent light of any wavelength among the coherent light emitted from the illumination barrel. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 조명계와 상기 간섭계 사이에 설치되고, 상기 조명계로부터 출력된 상기 코히어런트광을 상기 간섭계에 도입하는 광파이버를 갖는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The wavefront aberration measuring apparatus according to claim 1 or 2, further comprising an optical fiber provided between the illumination system and the interferometer and for introducing the coherent light output from the illumination system into the interferometer. 제2항에 있어서, 상기 촬상 장치는, 상기 피검 광학계의 동공 위치와 공액 관계에 있는 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The wavefront aberration measurement apparatus according to claim 2, wherein the imaging device is disposed at a position conjugated with the pupil position of the inspection optical system. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 간섭계는, 상기 코히어런트광을 측정광과 참조광으로 분기하고, 또한 상기 피검 광학계를 통과한 상기 측정광과 상기 참조광을 동일 방향으로 반사하는 빔 스플리터와, The said interferometer is a beam splitter which splits said coherent light into a measurement light and a reference light, and reflects the said measurement light and the said reference light in the same direction through the optical system. , 상기 빔 스플리터에 의해 분기된 상기 측정광의 광로 상에 설치된 오목면 형상의 구면 미러와, A concave spherical mirror provided on the optical path of the measurement light branched by the beam splitter; 상기 빔 스플리터에 의해 분기된 상기 참조광의 광로 상에 설치된 평면의 참 조 미러와, A planar reference mirror provided on an optical path of the reference light branched by the beam splitter; 상기 참조 미러를 미소 이동시키는 구동부를 갖고, Having a drive unit for micro-moving the reference mirror, 상기 피검 광학계는, 상기 빔 스플리터와 상기 구면 미러 사이의 상기 측정광의 광로 상에 설치되는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The inspection optical system is a wavefront aberration measurement apparatus, characterized in that provided on the optical path of the measurement light between the beam splitter and the spherical mirror. 제2항에 있어서, 상기 간섭 무늬를 상기 촬상 장치에 결상하는 릴레이 광학계를 갖는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The wavefront aberration measuring apparatus according to claim 2, further comprising a relay optical system for forming the interference fringe on the imaging device. 제11항에 있어서, 상기 빔 스플리터는 서로 평행하고, 상기 코히어런트광이 입사하는 한 쪽의 면과, 상기 한 쪽의 면에 대해 평행한 다른 쪽의 면을 갖는 평행 평면판으로 형성되고, The beam splitter according to claim 11, wherein the beam splitter is formed of a parallel plane plate that is parallel to each other and has one surface on which the coherent light is incident and the other surface parallel to the one surface, 상기 한 쪽의 면에 광 분할 코트가 실시되고, 다른 쪽의 면에 AR 코트가 실시된 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. A wavefront aberration measurement apparatus, wherein the light splitting coat is applied to one of the surfaces, and the AR coat is applied to the other surface. 제11항에 있어서, 상기 구면 미러는 Si에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치.The wavefront aberration measuring apparatus according to claim 11, wherein the spherical mirror is formed of Si. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 코히어런트광은 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치.The wavefront aberration measuring apparatus according to claim 1 or 2, wherein the coherent light is a laser beam. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 해석 수단은, 상기 피검 광학계의 상기 파면 수차의 해석 결과를 보존 가능한 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The wavefront aberration measurement apparatus according to claim 1 or 2, wherein the analysis means can save an analysis result of the wavefront aberration of the inspection optical system. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 해석 수단은, 각각 다른 복수의 파장의 상기 각 코히어런트광을 상기 피검 광학계에 통과시켜 생성되는 복수의 상기 간섭 무늬를 기초로 하여 상기 각 파장마다 상기 피검 광학계의 상기 각 파면 수차를 구하고, 상기 각 파면 수차의 차분을 기초로 하여 상기 피검 광학계의 색수차를 구하는 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. The said analysis means is a said each said wavelength based on the said some fringes produced | generated by passing each said coherent light of several different wavelengths through the said test optical system. A wavefront aberration measuring apparatus, characterized in that the wavefront aberration of the optical system to be examined is obtained and the chromatic aberration of the test optical system is determined based on the difference between the wavefront aberrations. 제11항에 있어서, 각각 다른 각 투과 파장 대역을 갖는 복수의 상기 빔 스플리터를 갖고, 12. The apparatus of claim 11, further comprising: a plurality of beam splitters each having a different transmission wavelength band, 이들 빔 스플리터는, 원하는 파장을 포함하는 상기 투과 파장 대역을 갖는 상기 빔 스플리터에 교환 가능한 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치. These beam splitters are interchangeable with the beam splitter having the transmission wavelength band containing a desired wavelength. 제6항에 있어서, 상기 빔 스플리터는 광대역 파장으로 사용 가능한 것을 특징으로 하는 파면 수차 측정 장치.The wavefront aberration measuring apparatus according to claim 6, wherein the beam splitter is usable with a wide band wavelength.
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