KR20060090325A - Equipment for supplying di of spinner device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 스피너설비로 공급되는 초순수(DI)의 불순물을 감지하여 인터록을 발생하는 스피너설비의 초순수 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrapure water supply device for a spinner facility that detects impurities in ultrapure water (DI) supplied to the spinner facility and generates an interlock.
스피너장비로 공급되는 초순수에 불순물이 감지될 시 인터록신호를 보내어 공정진행을 중지시켜 품질불량 발생을 방지하는 본 발명에 따른 스피너설비의 초순수 공급장치는, 상기 스피너설비로 공급되는 초순수 공급라인에 설치되어 초수수의 불순물을 감지하는 불순물 감지센서와, 상기 불순물 감지센서로부터 불순물이 감지될 시 에러발생 신호 및 초순수 공급을 차단하기 밸브제어신호를 발생하는 콘트롤러를 포함한다.The ultrapure water supply device of the spinner facility according to the present invention which stops the process progress by sending an interlock signal when impurities are detected in the ultrapure water supplied to the spinner equipment, is installed in the ultrapure water supply line supplied to the spinner facility. And an controller for generating an impurity sensor and a valve control signal for blocking an error generation signal and an ultrapure water supply when impurities are detected from the impurity sensor.
초순수, 불순물감지, 초순수 불순물, 스피너, Ultra pure water, impurity detection, ultra pure impurity, spinner,
Description
도 1은 종래의 스피너설비의 초순수 공급장치 구성도1 is a configuration diagram of an ultrapure water supply device of a conventional spinner facility
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 스피너설비의 초순수 공급장치의 구성도이2 is a configuration diagram of the ultrapure water supply apparatus of the spinner facility according to an embodiment of the present invention
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings
30: 스피너장비 32: DI라인30: Spinner unit 32: DI line
34: 불순물 감지센서 36: 제1 밸브 34: impurity detection sensor 36: first valve
38: 콘트롤러 40: DI공급관38: controller 40: DI supply pipe
42: DI회수관 44: 제2 밸브42: DI recovery pipe 44: second valve
46: 제3 밸브46: third valve
본 발명은 반도체 제조설의 초순수 공급장치에 관한 것으로, 특히 스피너설비로 공급되는 초순수(DI)의 불순물을 감지하여 인터록을 발생하는 스피너설비의 초순수 공급장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultrapure water supply device for semiconductor manufacturing, and more particularly, to an ultrapure water supply device for a spinner facility for generating an interlock by detecting impurities in ultrapure water (DI) supplied to a spinner facility.
일반적으로 반도체소자는 실리콘 웨이퍼상에 제조공정을 반복적으로 진행하여 완성되며, 반도체 제조공정은 확산공정, 식각공정, 포토리소그래피공정 및 성막공정 등으로 나눌수 있다.Generally, a semiconductor device is completed by repeatedly performing a manufacturing process on a silicon wafer, and the semiconductor manufacturing process may be divided into a diffusion process, an etching process, a photolithography process, and a film forming process.
포토리소그래피공정은 반도체 기판 상에 패턴을 형성하는 공정이 요구된다. 상기 패턴 형성공정에서는 포토레지스트를 이용하여 포토레지스트 막을 형성한 후 사진 식각 공정으로 상기 포토레지스트 막을 패터닝하는 공정이 이용된다. 이러한 포토레지스트 막을 패터닝하는 공정은 연마된 실리콘 웨이퍼의 표면 보호 및 사진식각을 위하여 그 표면에 산화막을 형성하고 그 산화막 위에 액체상태의 포토레지스트를 떨어 뜨린 후 고속 회전시켜 균일한 코팅막을 형성한다. The photolithography process requires a process of forming a pattern on a semiconductor substrate. In the pattern forming process, a process of forming a photoresist film using a photoresist and then patterning the photoresist film by a photolithography process is used. In the process of patterning the photoresist film, an oxide film is formed on the surface of the polished silicon wafer to protect the surface and the photolithography, and then a liquid photoresist is dropped on the oxide film and then rotated at a high speed to form a uniform coating film.
이와 같이 웨이퍼의 고속회전에 의한 공정을 수행하는 설비는 스피너가 주로 사용되고 있으며, 스피너설비에 의해 코팅된 웨이퍼는 그 에지(Edge) 둘레를 따라 일정 폭만큼 포토레지스트가 제거될 수 있도록 초순수(DI)을 분사하여 세정하게 된다. 이는 후속공정을 진행하기 위해 웨이퍼의 에지부를 파지함에 있어서 접촉에 의한 파티클 발생을 억제하기 위한 것이다. As such, the spinner is mainly used for the equipment that performs the process by the high-speed rotation of the wafer, and the ultra-pure water (DI) is used for the wafer coated by the spinner to remove the photoresist by a certain width along the edge of the edge. It is sprayed and cleaned. This is for suppressing particle generation due to contact in gripping the edge portion of the wafer in order to proceed with the subsequent process.
도 1은 종래의 스피너설비의 초순수 공급장치 구성도이다.1 is a configuration diagram of an ultrapure water supply device of a conventional spinner facility.
웨이퍼를 고정시켜 놓은 후 그 고정한 웨이퍼를 고속회전시켜 포토레지스트 막을 도포하는 스피너장비(10)와, 상기 스피너장비(10)에 연결되어 DI를 공급하기 위한 DI라인(12)과, 상기 DI라인(12) 상에 설치되어 스피너장비(10)로 공급하거나 회수하는 DI를 단속하는 제1밸브(14)와, 상기 DI라인(12)으로부터 분기되어 DI를 공급하는 통로를 형성하는 DI공급관(16)과, 상기 DI라인(12)으로부터 분기되어 상기 스피너장비(10)로부터 DI를 회수하는 통로를 형성하는 DI회수관(18)과, 상기 DI공급관(16) 상에 설치되어 상기 스피너장비(10)로 공급하는 DI를 단속하는 제2밸브(20)와, 상기 DI회수관(18) 상에 설치되어 상기 스피너장비(10)로부터 회수하는 DI를 단속하는 제3밸브(22)로 구성되어 있다. After the wafer is fixed, a
작업자가 수동으로 제1 및 제2 밸브(14, 20)를 개방하면 초순수(DI WATER)는 DI공급관(16)을 통해 스피너장비(10)로 공급되어 스피너장비(10)에 장착된 웨이퍼를 세정하도록 한다. 세정이 완료되면 작업자는 제2밸브(20)를 클로즈시키고 제3밸브(22)를 개방시킨다. 그러면 상기 스피너장비(10) 내에 세정이 완료되어 잔류하는 초순수를 제1 밸브(14) 및 제3 밸브(22)를 통해 DI회수관(18)으로 회수된다. When the operator manually opens the first and
상기와 같은 종래의 초순수 공급장치는 스피너장비(10)로 공급되는 초순수에 불순물이 포함되어 공급되더라도 스피너장비(10)를 계속 동작시켜 세정을 하도록 하고 있으므로, 품질불량이 발생하는 문제가 있었다. In the conventional ultrapure water supply device as described above, even if impurities are included in the ultrapure water supplied to the
따라서 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 스피너장비로 공급되는 초순수에 불순물이 감지될 시 인터록신호를 보내어 공정진행을 중지시켜 품질불량 발생을 방지하는 스피너설비의 초순수 공급장치를 제공함에 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an ultra-pure water supply device of a spinner facility to stop the process progress by sending an interlock signal when impurities are detected in the ultra-pure water supplied to the spinner equipment to solve the above problems. have.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명스피너설비의 초순수 공급장치는, 상기 스피너설비로 공급되는 초순수 공급라인에 설치되어 초수수의 불순물을 감지하는 불순물 감지센서와, 상기 불순물 감지센서로부터 불순물이 감지될 시 에러발생 신호 및 초순수 공급을 차단하기 밸브제어신호를 발생하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 한다.The ultra-pure water supply device of the present invention spinner equipment for achieving the above object is installed in the ultra-pure water supply line to be supplied to the spinner facility, the impurity detection sensor for detecting the impurities of the ultra-pure water, and when the impurities are detected from the impurity detection sensor And a controller for generating an error control signal and a valve control signal to block the ultrapure water supply.
상기 콘트롤러로부터 발생된 에러발생신호는 상기 스피너설비의 공정진행 동작을 정지시키도록 하는 것이 바람직하다.Preferably, the error generation signal generated from the controller stops the process operation of the spinner installation.
상기 콘트롤러로부터 발생된 밸브 제어신호에 의해 DI의 공급을 차단하는 솔레노이드밸브를 더 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable to further include a solenoid valve for blocking the supply of DI by the valve control signal generated from the controller.
이하 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 스피너설비의 초순수 공급장치의 구성도이다.2 is a block diagram of an ultrapure water supply device of a spinner facility according to an embodiment of the present invention.
웨이퍼를 고정시켜 놓은 후 그 고정한 웨이퍼를 고속회전시켜 포토레지스트 막을 도포하는 스피너장비(30)와, 상기 스피너장비(30)에 연결되어 DI를 공급하기 위한 DI라인(32)과, 상기 DI라인(32) 상에 설치되어 소정의 밸브 제어신호에 의해 초순수(DI WATER)를 공급하거나 차단하는 솔레노이드밸브(35)와, 상기 DI라인(32) 상에 설치되어 스피너장비(30)로 공급되는 초순수(DI WATER)의 불순물을 감지하는 불순물 감지센서(34)와, 상기 불순물 감지센서(34)로부터 불순물 감지신호를 받아 에러발생 신호 및 초순수 공급을 차단하기 밸브제어신호를 발생하는 콘트롤러(38)와, 상기 불순물 감지센서(34)의 후단의 DI라인(32) 상에 설치되어 스피너장비(30)로 공급하거나 스피너장비(30)로부터 회수하는 DI를 단속하는 제1밸브(36)와, 상기 DI라인(32)으로부터 분기되어 DI를 공급하는 통로를 형성하는 DI공급관(40)과, 상기 DI라인(32)으로부터 분기되어 DI회수하는 통로를 형성하는 DI회수관(42)과, 상기 DI공급관(40) 상에 설치되어 상기 스피너장비(30)로 공급하는 DI를 단속하는 제2밸브(44)와, 상기 DI회수관(42) 상에 설치되어 상기 스피너장비(30)로부터 회수되는 DI를 단속하는 제3밸브(46)로 구성되어 있다. 상기 불순물 감지센서(34)는 예컨데 초음파센서 등을 사용할 수 있다. After the wafer is fixed, a
상술한 도 2를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예의 동작을 상세히 설명한다.The operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2 described above.
제1 및 제2 밸브(36, 44)가 개방된 상태에서 콘트롤러(38)는 스피너장비(30)에서 공정을 진행할 경우 밸브제어신호를 출력하여 솔레노이드밸브(35)를 개방한다. 솔레노이드밸브(35)가 개방되면 초순수(DI WATER)를 DI공급관(40)을 통해 스피너장비(30)로 공급하여 스피너장비(30)에 장착된 웨이퍼를 세정하도록 한다. 이때 DI라인(32) 상에 설치된 불순물 감지센서(34)는 DI의 불순물을 감지한다. 상기 불순물 감지센서(34)로부터 불순물이 감지되면 이 감지신호는 콘트롤러(38)로 인가된다. 콘트롤러(38)는 불순물 감지센서(34)로부터 불순물 감지신호가 수신되면 에러신호를 발생하여 스피너장비(30)로 전송하고 밸브제어신호를 발생하여 솔레노이드 밸브(35)를 클로즈시켜 DI의 공급을 차단한다. 그리고 스피너장비(30)는 에어신호를 수신하면 공정진행을 중단한다. When the first and
그러나 스피너장비(30)에서 정상적으로 세정이 완료되면 작업자는 제2밸브(44)를 클로즈시키고 제3밸브(46)를 개방시킨다. 그러면 상기 스피너장비(30) 내에 세정이 완료되어 잔류하는 초순수를 제1 밸브(36) 및 제3 밸브(46)를 통해 DI회수관(42)으로 회수된다. However, when the cleaning is normally completed in the
상술한 바와 같이 본 발명은 스피너장비로 공급되는 DI라인상에 불순물 감지센서를 장착하여 DI에 불순물이 감지될 시 DI공급을 중단하고 스피너설비의 공정진행 동작을 중지시켜 웨이퍼의 품질불량 발생을 방지할 수 있는 이점이 있다. As described above, the present invention is equipped with an impurity detection sensor on the DI line supplied to the spinner equipment to stop the DI supply when the impurity is detected in the DI and to stop the process progress operation of the spinner equipment to prevent the occurrence of poor quality of the wafer There is an advantage to this.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20220355344A1 (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-10 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for treating substrate |
KR20230001415A (en) | 2021-06-28 | 2023-01-04 | 김정래 | Saturated vapor cleanig apparatus for deionized water |
-
2005
- 2005-02-07 KR KR1020050011085A patent/KR20060090325A/en not_active Application Discontinuation
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US20220355344A1 (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-10 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for treating substrate |
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