KR20060059481A - Array substrate having enhanced aperture ratio, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 어레이 기판은 투명기판, 복수의 화소전극, 스위칭 소자, 데이터 라인, 게이트 라인 및 스토리지 전극을 포함한다. 복수의 화소전극은 투명기판과 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성된다. 데이터 라인은 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격된다. 또한 데이터 라인은 화소전극 사이에 배치되고 소스 전극과 전기적으로 연결되어 화소 전극에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된다. 게이트 라인은 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기 위한 전기적 신호를 전달한다. The array substrate according to the present invention includes a transparent substrate, a plurality of pixel electrodes, a switching element, a data line, a gate line, and a storage electrode. The plurality of pixel electrodes are formed to be spaced apart from each other by a first distance between the transparent substrate and the transparent substrate. The data line is spaced apart from the transparent substrate by a second distance above the transparent substrate. In addition, the data line is disposed between the pixel electrodes and electrically connected to the source electrode to form a pixel voltage to the pixel electrode. The gate line is electrically connected to the gate electrode to transmit an electrical signal for turning on or off the switching element.

스토리지 전극은 투명기판과 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되고, 중앙부에 윈도우가 형성되어 데이터 라인과의 기생 커패시턴스를 감소시킨다. 또한, 스토리지 전극과 화소전극 사이에 발생할 수 있는 전장 왜곡을 방지하기 위하여 데이터 라인과 이웃하는 화소전극 사이의 간격이 다르도록 형성하고, 이에 대응하는 컬러필터 기판의 광 차단막을 데이터 라인을 중심으로 비대칭적으로 형성하여 효과적으로 빛샘을 차단한다. The storage electrode is spaced apart by a third distance from the transparent substrate to the upper portion of the transparent substrate, and a window is formed in the center to reduce parasitic capacitance with the data line. In addition, in order to prevent electric field distortion that may occur between the storage electrode and the pixel electrode, the distance between the data line and the neighboring pixel electrode is formed to be different, and the light blocking film of the corresponding color filter substrate is asymmetric about the data line. It forms as an enemy and effectively blocks light leakage.

스토리진 전극, 데이터 라인, 화소전극, 광 차단막, 개구율, 빛샘Story electrode, data line, pixel electrode, light blocking film, aperture ratio, light leakage

Description

개구율이 향상된 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함한 액정 표시 장치 {ARRAY SUBSTRATE HAVING ENHANCED APERTURE RATIO, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME}Array substrate with improved aperture ratio, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device including the same {ARRAY SUBSTRATE HAVING ENHANCED APERTURE RATIO, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME}

도 1a는 종래 어레이 기판의 레이아웃이다.1A is a layout of a conventional array substrate.

도 1b는 도 1a의 I-I선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. 1A.

도 2는 액정표시장치의 구동 원리를 설명하기 위한 개략도이다.2 is a schematic diagram illustrating a driving principle of a liquid crystal display device.

도 3a는 본 발명의 예시적인 제 1 실시예에 따른 어레이 기판의 레이아웃이다.3A is a layout of an array substrate according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 3b는 도 3a의 II-II선을 따라 절단한 단면도이다.3B is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 3A.

도 4a는 본 발명의 예시적인 제 2 실시예에 따른 어레이 기판의 레이아웃이다.4A is a layout of an array substrate according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 4b는 도 4a의 개략적인 단면도이다.4B is a schematic cross-sectional view of FIG. 4A.

도 5은 액정 표시장치의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display.

도 6a 내지 도 6e는 본 발명에 의한 액정 표시장치의 제조방법에 따른 배치도들이다.6A to 6E are layout views according to a method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

101: 화소전극 102: 데이터 라인 101: pixel electrode 102: data line                 

103a,103b,103c: 스토리지 전극 104: 박막 트랜지스터103a, 103b, 103c: storage electrode 104: thin film transistor

105: 게이트 라인 106: 개구105: gate line 106: opening

107: 광 차단막 108: 투명기판107: light blocking film 108: transparent substrate

109: 윈도우 201: 액정 커패시터109: window 201: liquid crystal capacitor

202: 스토리지 커패시터 501: 제 1 기판202: storage capacitor 501: first substrate

502: 제 2 기판 503: 제 2 투명기판502: second substrate 503: second transparent substrate

504: 컬러필터 505: 평탄화막504: color filter 505: planarization film

506: 액정층 508: 제 1 절연막506 liquid crystal layer 508 first insulating film

509: 제 2 절연막 510: 액티브층 509: second insulating film 510: active layer

511: 제 1 투명기판 512: 공통전극511: first transparent substrate 512: common electrode

본 발명은 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 개구율이 향상된 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an array substrate, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display including the same, and more particularly, to an array substrate having an improved aperture ratio, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display including the same.

액정표시장치는 액정을 이용하여 영상을 표시하는 장치이다. 액정표시장치는 가볍고, 두께가 얇아서 그 사용범위가 점차 확대되고 있다.A liquid crystal display device is a device that displays an image using a liquid crystal. Liquid crystal display devices are light and thin, and their range of use is gradually expanding.

액정표시장치는 크게 액정 표시 패널과 백라이트 어셈블리를 포함한다. 백라이트 어셈블리는 액정 표시 패널 하부에 배치되어 액정 표시 패널에 광을 공급한 다.The liquid crystal display largely includes a liquid crystal display panel and a backlight assembly. The backlight assembly is disposed under the liquid crystal display panel to supply light to the liquid crystal display panel.

액정 표시 패널은 컬러필터 기판, 어레이 기판 및 컬러필터 기판과 어레이 기판 사이에 게재된 액정층을 포함한다. 컬러필터 기판에는 레드 컬러필터, 그린 컬러필터 및 블루 컬러필터를 포함하는 컬러필터가 매트릭스(matrix) 형태로 배열되어 있다. 이러한 컬러필터는 어레이 기판의 화소전극 상부에 배치되어 화소 전극을 통과한 빛을 필터링하여 특정 파장의 빛만을 통과시킨다. 이하 종래 어레이 기판을 설명한다.The liquid crystal display panel includes a color filter substrate, an array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the color filter substrate and the array substrate. The color filter substrate includes a color filter including a red color filter, a green color filter, and a blue color filter in a matrix form. The color filter is disposed on the pixel electrode of the array substrate to filter light passing through the pixel electrode to pass only light having a specific wavelength. Hereinafter, a conventional array substrate will be described.

도 1a는 종래 어레이 기판의 레이아웃이고, 도 1b는 도 1a의 I-I선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 1A is a layout of a conventional array substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line I-I of FIG. 1A.

어레이 기판은 박막 트랜지스터(104), 스토리지 전극(103a) 및 화소 전극(101)을 포함한다. 이러한 박막 트랜지스터(104), 스토리지 전극(103a) 및 화소 전극(101)은 컬러필터 기판의 컬러필터(미도시)와 대향한다.The array substrate includes a thin film transistor 104, a storage electrode 103a and a pixel electrode 101. The thin film transistor 104, the storage electrode 103a, and the pixel electrode 101 face a color filter (not shown) of the color filter substrate.

또한 어레이 기판은 데이터 라인(102) 및 게이트 라인(105)을 포함한다. 데이터 라인(102) 및 게이트 라인(105)은 컬러필터의 경계면을 향한다.The array substrate also includes a data line 102 and a gate line 105. The data line 102 and the gate line 105 face the interface of the color filter.

데이터 라인(102)은 상기 박막 트랜지스터(104)의 소스전극과 전기적으로 연결되고, 게이트 라인(105)은 박막 트랜지스터(104)의 게이트전극과 전기적으로 연결되어 있다. 박막 트랜지스터(104)의 드레인전극은 화소전극(101)과 전기적으로 연결되어 있다.The data line 102 is electrically connected to the source electrode of the thin film transistor 104, and the gate line 105 is electrically connected to the gate electrode of the thin film transistor 104. The drain electrode of the thin film transistor 104 is electrically connected to the pixel electrode 101.

게이트 라인(105)에 전압이 인가되면, 게이트 라인(105)과 전기적으로 연결된 박막 트랜지스터(104)가 턴 온 (Turn on) 되고, 데이터 라인(102)의 전압이 화 소 전극(101)에 인가된다. 화소 전극(101)에 화소 전압이 인가되면, 어레이 기판의 화소 전극(101)과 컬러필터 기판의 공통 전극(미도시)사이에 전계가 형성되고, 이러한 전계에 의해 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 위치한 액정층(미도시)의 액정 분자 배열이 변하게 되어, 액정 분자의 광학적 성질이 변하게 된다.When a voltage is applied to the gate line 105, the thin film transistor 104 electrically connected to the gate line 105 is turned on, and the voltage of the data line 102 is applied to the pixel electrode 101. do. When a pixel voltage is applied to the pixel electrode 101, an electric field is formed between the pixel electrode 101 of the array substrate and a common electrode (not shown) of the color filter substrate, and the electric field is formed between the array substrate and the color filter substrate. The arrangement of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer (not shown) positioned is changed, so that the optical properties of the liquid crystal molecules are changed.

이렇게 변화된 액정을 통과하는 빛에 의해 영상이 표시된다.The image is displayed by the light passing through the changed liquid crystal.

스토리지 전극(103a)은 화소전극(101)과 컬러필터 기판의 공통전극(미도시) 사이에 형성되는 액정 커패시터의 용량을 보조한다. 즉, 일단 데이터의 입력이 끝난 후 주변의 전압이 변할 때 커플링에 의해 화소전극(101)의 화소 전압이 변하는 것을 방지하는 기능을 수행한다. 이러한 스토리지 전극(103a)은 화소전극(101)의 에지부나 중앙부에 형성된다.The storage electrode 103a assists the capacitance of the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 101 and the common electrode (not shown) of the color filter substrate. That is, the function of preventing the pixel voltage of the pixel electrode 101 from being changed by the coupling when the peripheral voltage changes after the data is inputted. The storage electrode 103a is formed at the edge portion or the center portion of the pixel electrode 101.

그런데 이러한 구조를 갖는 종래의 어레이 기판의 경우, 스토리지 전극(103a)과 데이터 라인(102) 사이에 개구(106)가 형성되어 개구(106)를 통과한 빛은 회절되어 누출된다. 또한, 광 차단막(107)은 빛이 누설되는 개구(106)에서 일정 거리 떨어진 컬러필터 기판에 형성되어 있기 때문에 빛의 누출을 막기 위하여 일정 넓이의 폭을 가지는 광 차단막(107)을 개구(106) 주위에 일정 폭의 마진(margin)을 두고 형성한다. 이와 같이 빛의 누출을 막기 위해 넓어진 광 차단막(107)의 폭에 의해서 종래의 어레이 기판의 경우, 개구율(aperture ratio)이 낮아지는 문제점이 있다.However, in the conventional array substrate having such a structure, an opening 106 is formed between the storage electrode 103a and the data line 102 so that light passing through the opening 106 is diffracted and leaks. In addition, since the light blocking film 107 is formed in the color filter substrate at a predetermined distance away from the opening 106 through which light leaks, the opening 106 has a light blocking film 107 having a predetermined width to prevent light leakage. Form with a margin of margin around it. As described above, in the case of the conventional array substrate, the aperture ratio is lowered due to the width of the light blocking film 107 widened to prevent light leakage.

더욱이, 광 차단막(107)은 컬러필터 기판에 형성되어 있다. 액정표시장치는 어레이 기판과 컬러 필터 기판을 형성한 후 이 두 기판을 어셈블리 공정에 의해 결 합함으로써 액정 표시패널이 형성된다. 그런데 얼라인 과정에서 정확하게 얼라인 하는 것은 사실상 불가능하므로, 약간의 마진을 두어 얼라인 하게 된다. 이 때문에 광 차단막(107)의 좌우측 마진이 필요하다.Further, the light blocking film 107 is formed on the color filter substrate. In the liquid crystal display, an array substrate and a color filter substrate are formed, and then the two substrates are joined by an assembly process to form a liquid crystal display panel. However, it is virtually impossible to align correctly during the alignment process, so there is some margin to align. For this reason, the left and right margins of the light shielding film 107 are required.

따라서 본 발명의 제 1 목적은 개구율이 향상된 어레이 기판을 제공함에 있다.Accordingly, a first object of the present invention is to provide an array substrate having an improved aperture ratio.

또한 본 발명의 제 2 목적은 개구율이 향상된 어레이 기판을 제조하는 방법을 제공함에 있다.A second object of the present invention is to provide a method of manufacturing an array substrate having an improved aperture ratio.

또한 본 발명의 제 3 목적은 개구율이 향상된 액정 표시장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having an improved aperture ratio.

본 발명에 따른 어레이 기판은 투명기판, 복수의 화소전극, 스위칭 소자, 데이터 라인, 게이트 라인 및 스토리지 전극을 포함한다. 상기 복수의 화소전극은 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된다. 상기 스위칭 소자는 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된다. The array substrate according to the present invention includes a transparent substrate, a plurality of pixel electrodes, a switching element, a data line, a gate line, and a storage electrode. The plurality of pixel electrodes are formed to be spaced apart by a first distance from the transparent substrate and the transparent substrate, and are arranged in a matrix form. The switching element includes a gate electrode, a drain electrode and a source electrode, and the drain electrode is electrically connected to each of the pixel electrodes.

상기 데이터 라인은 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격된다. 또한 상기 데이터 라인은 상기 화소전극 사이에 배치되어 이웃하는 상기 화소전극과 제 1 간격 및 제 2 간격을 두고, 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 화소전압을 인가한다. 상기 제 1 간격 및 제 2 간격은 어레이 기판의 러빙 방향에 따라 서로 달라질 수 있다. 상기 게이트 라인은 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기 위한 전기적 신호를 전달한다. 상기 스토리지 전극은 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성된다. 또한 상기 스토리지 전극은 상기 이웃하는 화소전극과 제 1 길이 및 제 2 길이 만큼 오버랩 되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 형성한다. 상기 스토리지 전극에는 예를 들어 중앙부에 개구부가 형성될 수 있다. The data line is spaced apart from the transparent substrate by a second distance above the transparent substrate. In addition, the data line is disposed between the pixel electrodes so as to have a first gap and a second gap with the neighboring pixel electrode, and are electrically connected to the source electrode to apply a pixel voltage to the pixel electrode. The first interval and the second interval may vary from each other depending on the rubbing direction of the array substrate. The gate line is electrically connected to the gate electrode to transmit an electrical signal for turning on or off the switching element. The storage electrode is formed spaced apart by a third distance from the transparent substrate and the transparent substrate. The storage electrode may include a plurality of storage electrodes disposed to overlap the neighboring pixel electrode by a first length and a second length. An opening may be formed in the storage electrode, for example.

또한 본 발명에 의한 어레이 기판 제조방법은 투명기판과 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소전극을 형성하는 단계와, 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된 복수의 스위칭 소자를 형성하는 단계와, 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격되고, 상기 화소전극 사이에 배치되어 이웃하는 상기 화소전극과 제 1 간격 및 제 2 간격을 두고, 상기 소스전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소전극에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된 데이터 라인을 형성하는 단계와, 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기 위한 전기적 신호를 전달하는 게이트 라인을 형성하는 단계, 및 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성되고, 상기 이웃하는 화소전극과 제 1 길이 및 제 2 길이 만큼 오버랩 되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 형성하는 단계를 포함한다. In addition, the method of manufacturing an array substrate according to the present invention may include forming a plurality of pixel electrodes spaced apart by a first distance from a transparent substrate and an upper portion of the transparent substrate and arranged in a matrix, and forming a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode. And forming a plurality of switching elements electrically connected to the respective pixel electrodes, the drain electrodes being spaced apart by a second distance from the transparent substrate to an upper portion of the transparent substrate, and disposed between the pixel electrodes. Forming a data line electrically connected to the source electrode at first and second intervals of the pixel electrode, the data line being formed to apply a pixel voltage to the pixel electrode, and electrically connected to the gate electrode; Forming a gate line transferring an electrical signal for turning on or off the switching element And forming a plurality of storage electrodes spaced apart by a third distance from the transparent substrate and an upper portion of the transparent substrate, and arranged to overlap the neighboring pixel electrode by a first length and a second length. .

상기 스토리지 전극에는 예를 들어 중앙부에 개구부가 형성될 수 있다. An opening may be formed in the storage electrode, for example.                     

또한 본 발명에 의한 액정 표시 장치는 제 1 기판, 제 2 기판 및 액정층을 포함한다. 상기 제 1 기판은 I)제 1 투명기판, ii) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소전극, iii) 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된 복수의 스위칭 소자, iv) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격되고, 상기 화소전극 사이에 배치되고, 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된 데이터 라인, v) 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기위한 전기적 신호를 전달하는 게이트 라인, 및 vi) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성되고, 중앙부에 윈도우가 형성되고 상기 이웃하는 화소전극과 적어도 일부가 오버랩 되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 포함한다. In addition, the liquid crystal display according to the present invention includes a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer. The first substrate may include: (I) a first transparent substrate, ii) a plurality of pixel electrodes formed in a matrix shape spaced apart by a first distance from the first transparent substrate and the first transparent substrate, and iii) a gate electrode; A plurality of switching elements electrically connected to the respective pixel electrodes, respectively, iv) spaced apart from each other by a second distance above the first transparent substrate and the first transparent substrate; A data line disposed between the pixel electrodes and electrically connected to the source electrode to form a pixel voltage to the pixel electrode, and v) an electrical line electrically connected to the gate electrode to turn on or off the switching element. A gate line for transmitting a signal, and vi) a third distance between the first transparent substrate and the first transparent substrate, the gate line being spaced apart from each other by a third distance, A plurality of storage electrodes are formed to have a right side and are disposed to overlap at least a portion of the neighboring pixel electrodes.

상기 스토리지 전극과 서로 이웃하는 상기 두 개의 화소 전극은 각각 제 1 길이 및 제 2 길이 만큼 오버랩된다. The storage electrode and the two pixel electrodes neighboring each other overlap each other by a first length and a second length, respectively.

상기 스토리지 전극에는 예를 들어 중앙부에 개구부가 형성될 수 있다. An opening may be formed in the storage electrode, for example.

상기 제 2 기판은 상기 제 1 기판에 대향하고, 상기 이웃하는 화소전극에 대응되도록 배치되어 상기 데이터 라인을 중심으로 비대칭 되도록 형성된 광 차단막을 포함한다.The second substrate may include a light blocking layer that faces the first substrate and is disposed to correspond to the neighboring pixel electrode and is asymmetrical about the data line.

상기 액정층은 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 게재된다.The liquid crystal layer is interposed between the first substrate and the second substrate.

본 발명은 스토리지 전극을 이용하여 화소전극 사이의 개구를 차폐하여 빛이 누출되는 것을 방지한다. 더욱이, 스토리지 전극은 화소 전극과 동일한 기판에 형성되므로, 미스 얼라인 마진(misalign margin)을 고려할 필요가 없게 되어 화소전극과 스토리지 전극이 오버랩되는 폭을 작게 할 수 있다. 따라서 개구율이 증가한다. 또한, 상기 스트리지 전극의 중앙부에 윈도우를 형성해서 데이터 라인과의 기생 커패시턴스를 줄일 수 있고, 상기 데이터 라인과 이웃하는 화소전극과의 사이 간격 폭을 조절하여 강한 전장 왜곡 발생을 방지할 수 있다.The present invention prevents light from leaking by shielding the opening between the pixel electrodes using the storage electrode. Furthermore, since the storage electrode is formed on the same substrate as the pixel electrode, it is not necessary to consider a misalign margin, so that the width at which the pixel electrode and the storage electrode overlap can be reduced. Therefore, the aperture ratio increases. In addition, a parasitic capacitance with a data line can be reduced by forming a window in the center of the streak electrode, and a strong electric field distortion can be prevented by adjusting a gap width between the data line and a neighboring pixel electrode.

이하, 본 발명을 도면을 중심으로 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 액정표시장치의 구동 원리를 설명하기 위한 개략도이다.2 is a schematic diagram illustrating a driving principle of a liquid crystal display device.

도 2를 참조하면, 어레이 기판 위에는 복수의 데이터 라인(102)이 제 1 방향으로 일정 거리만큼 이격되어 형성되고, 복수의 게이트 라인(105)이 상기 제 1방향과 수직한 제 2 방향으로 일정 거리만큼 이격되어 형성된다. Referring to FIG. 2, a plurality of data lines 102 are formed on the array substrate to be spaced apart by a predetermined distance in a first direction, and the plurality of gate lines 105 is a predetermined distance in a second direction perpendicular to the first direction. It is formed by spaced apart.

데이터 라인(102)과 게이트 라인(105)은 어레이 기판으로부터 절연막을 사이로 서로 다른 높이에 형성되어 있다.The data line 102 and the gate line 105 are formed at different heights from the array substrate to the insulating film.

각 데이터 라인(102)과 각 게이트 라인(105)으로 둘러쌓인 영역에 의해 하나의 화소가 정의된다. 하나의 화소는 박막 트랜지스터(104), 스토리지 커패시터(202) 및 액정 커패시터(화소전극과 공통전극간에 형성되는 커패시터,201)를 포함한다. 박막 트랜지스터 (104)는 드레인 전극, 게이트 전극 및 소오스 전극를 포함한다.One pixel is defined by an area surrounded by each data line 102 and each gate line 105. One pixel includes a thin film transistor 104, a storage capacitor 202, and a liquid crystal capacitor (capacitor 201 formed between a pixel electrode and a common electrode). The thin film transistor 104 includes a drain electrode, a gate electrode, and a source electrode.

박막 트랜지스터(104)의 게이트 전극(G)은 게이트 라인(105)에 전기적으로 연결되어 있다. 박막 트랜지스터(104)의 소오스 전극(S)은 데이터 라인(102)에 전 기적으로 연결되어 있다. 또한 박막 트랜지스터(104)의 드레인 전극(D)은 스토리지 커패시터(202) 및 액정 커패시터 전극(201)과 전기적으로 연결되어 있다.The gate electrode G of the thin film transistor 104 is electrically connected to the gate line 105. The source electrode S of the thin film transistor 104 is electrically connected to the data line 102. In addition, the drain electrode D of the thin film transistor 104 is electrically connected to the storage capacitor 202 and the liquid crystal capacitor electrode 201.

게이트 전극에 게이트 전압이 인가되면, 박막 트랜지스터(104)가 턴온(turn on)된다. 박막 트랜지스터(104)가 턴온되면, 데이터 라인(102)의 화소전압이 박막 트랜지스터(104)를 통해서 스토리지 커패시터(202) 및 액정 커패시터(201)에 인가된다. 액정 커패시터(201)에 화소전압이 인가되면, 액정 커패시터를 구성하는 공통전극과 화소전극 사이에 게재된 액정의 배열이 변화하여 광학적 특성이 변화한다. 이러한 광학적 특성의 변화에 의해서 영상이 표현된다.When a gate voltage is applied to the gate electrode, the thin film transistor 104 is turned on. When the thin film transistor 104 is turned on, the pixel voltage of the data line 102 is applied to the storage capacitor 202 and the liquid crystal capacitor 201 through the thin film transistor 104. When the pixel voltage is applied to the liquid crystal capacitor 201, the arrangement of the liquid crystal placed between the common electrode and the pixel electrode constituting the liquid crystal capacitor is changed to change the optical characteristics. The image is represented by such a change in optical characteristics.

스토리지 커패시터(202)는 영상 데이터 입력이 끝난 후, 주변의 전압이 변할 때 액정 커패시터(201)의 화소 전극에 인가된 화소전압이 변하는 것을 방지해 준다.The storage capacitor 202 prevents the pixel voltage applied to the pixel electrode of the liquid crystal capacitor 201 from changing when the surrounding voltage changes after the image data is input.

액정 커패시터(201)의 화소 전극은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide:ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide)를 포함한다. 인듐 틴 옥사이드 및 인듐 징크 옥사이드는 투명한 물질로서 양호한 도전성을 갖는다.The pixel electrode of the liquid crystal capacitor 201 includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide. Indium tin oxide and indium zinc oxide have good conductivity as transparent materials.

도 3a는 본 발명의 예시적인 제 1 실시예에 따른 어레이 기판의 레이아웃이고, 도 3b는 도 3a의 II-II선을 따라 절단한 단면도이다.3A is a layout of an array substrate according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 3A.

도 3a 및 3b를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 어레이 기판은 복수의 화소전극(101), 스위칭 소자(104), 데이터 라인(102), 게이트 라인(105) 및 스토리지 전극(103b)을 포함한다.3A and 3B, an array substrate according to a first embodiment of the present invention may include a plurality of pixel electrodes 101, a switching element 104, a data line 102, a gate line 105, and a storage electrode 103b. ).

복수의 화소전극(101)은 상기 투명기판(108)과 투명기판(108) 상부로 제 1 거리 d1 만큼 이격되어 형성된다. 또한 복수의 화소전극(101)은 매트릭스 형상으로 배열된다. 화소 전극은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide:ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide)를 포함한다. 인듐 틴 옥사이드 및 인듐 징크 옥사이드는 투명한 물질로서 양호한 도전성을 갖는다.The plurality of pixel electrodes 101 are formed to be spaced apart from each other by the first distance d1 on the transparent substrate 108 and the transparent substrate 108. In addition, the plurality of pixel electrodes 101 are arranged in a matrix. The pixel electrode includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide. Indium tin oxide and indium zinc oxide have good conductivity as transparent materials.

스위칭 소자(104)는 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극(101)에 전기적으로 각각 연결된다. 상기 데이터 라인(102)은 상기 투명기판(108)과 투명기판(108) 상부로 제 2 거리 d2 만큼 이격된다. 또한 상기 데이터 라인(102)은 상기 화소전극 사이에 배치된다.The switching element 104 includes a gate electrode, a drain electrode and a source electrode, and the drain electrode is electrically connected to each of the pixel electrodes 101, respectively. The data line 102 is spaced apart from the transparent substrate 108 and the transparent substrate 108 by a second distance d2. In addition, the data line 102 is disposed between the pixel electrodes.

데이터 라인(102)은 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극(101)에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된다. 본 발명의 제 1 실시예에 따르면 데이터 라인(102)은 스토리지 전극(103b)과 오버랩되어 기생 커패시턴스가 발생할 수 있다. 따라서 오버랩되는 영역의 데이터 라인(102)의 폭은 오버랩되지 않은 영역의 데이터 라인(102)의 폭보다 작을수록 바람직하다. The data line 102 is electrically connected to the source electrode and formed to apply a pixel voltage to the pixel electrode 101. According to the first embodiment of the present invention, the data line 102 may overlap with the storage electrode 103b to generate parasitic capacitance. Therefore, the width of the data line 102 in the overlapping area is preferably smaller than the width of the data line 102 in the non-overlapping area.

게이트 라인(105)은 상기 게이트 전극으로부터 돌출된다. 즉, 게이트 라인(105)은 상기 게이트 라인(105)과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자(104)를 턴온또는 턴오프 시키기 위한 전기적 신호를 전달한다.Gate line 105 protrudes from the gate electrode. That is, the gate line 105 is electrically connected to the gate line 105 to transmit an electrical signal for turning on or off the switching element 104.

스토리지 전극(103b)은 상기 투명기판(108)과 투명기판(108) 상부로 제 3 거리 d3만큼 이격되어 형성된다. 또한 스토리지 전극(103b)은 상기 화소전극(101) 사이에 배치된다. 또한 스토리지 전극(103b)은, 스토리지 전극(103b)과 서로 이웃하는 상기 두 개의 화소전극(101)과 각각 제 1 길이 W2및 제 2 길이 W3 만큼 오버 랩된다.The storage electrode 103b is formed to be spaced apart from the transparent substrate 108 and the transparent substrate 108 by a third distance d3. In addition, the storage electrode 103b is disposed between the pixel electrodes 101. In addition, the storage electrode 103b overlaps the storage electrode 103b with the two pixel electrodes 101 adjacent to each other by a first length W2 and a second length W3, respectively.

화소전극의 액정의 선경사각 또는 액정의 배열이 대칭적이지 않기 때문에 제 1 길이 W2와 제 2 길이 W3은 서로 다르다.Since the pretilt angle of the liquid crystal of the pixel electrode or the arrangement of the liquid crystals is not symmetrical, the first length W2 and the second length W3 are different from each other.

또한, 스토리지 전극(103b)와 화소전극(101) 사이의 강한 전장 왜곡에 의해 발생할 수 있는 액정 배열 변경에 의한 빛샘을 방지하기 위해 이웃하는 화소전극과 데이터 라인의 제 1 간격(W4) 및 제 2 간격(W5)은 서로 다르도록 형성한다. 이에 대응하는 컬러필터 기판의 광 차단막(107)도 최소한의 폭으로 액정의 러빙 방향에 따라 불균일적으로 발생할 수 있는 누설 광을 방지하기 위해 상기 데이터 라인(102)을 중심으로 비대칭 되도록 형성한다.In addition, in order to prevent light leakage caused by a change in the liquid crystal array which may be caused by strong electric field distortion between the storage electrode 103b and the pixel electrode 101, the first interval W4 and the second of the neighboring pixel electrode and the data line. The intervals W5 are formed to be different from each other. The light blocking film 107 of the color filter substrate corresponding thereto is also formed to be asymmetrical about the data line 102 in order to prevent leakage light that may occur non-uniformly according to the rubbing direction of the liquid crystal with a minimum width.

또한, 스토리지 전극(103b)은 데이터 라인(102) 및 화소전극(101)과 동일 기판에 형성된다. 따라서 스토리지 전극(103a)을 이용하여 개구(106)를 차폐하는 경우, 종래와 같이 미스얼라인 마진을 고려할 필요없으므로, 마진의 폭을 감소시킬 수 있다. 따라서 스토리지 전극(103b)과 개구(106)의 거리가 가까와서 빛이 적게 퍼진다. 결과적으로 개구율이 향상된다.In addition, the storage electrode 103b is formed on the same substrate as the data line 102 and the pixel electrode 101. Therefore, when the opening 106 is shielded using the storage electrode 103a, since the misaligned margin does not need to be considered as in the related art, the width of the margin can be reduced. Therefore, the distance between the storage electrode 103b and the opening 106 is close, so that light is spread less. As a result, the aperture ratio is improved.

도 4a는 본 발명의 예시적인 제 2 실시예에 따른 어레이 기판의 레이아웃이고, 도 4b는 도 4a의 개략적인 단면도이다.4A is a layout of an array substrate according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a schematic cross-sectional view of FIG. 4A.

도 4a 및 도 4b는 스토리지 전극의 형상을 제외하면, 도 3a 및 3b와 동일하다. 따라서 동일 구성요소에는 동일 참조부호를 사용하며, 동일한 구성요소에 관한 설명은 생략한다.4A and 4B are the same as FIGS. 3A and 3B except for the shape of the storage electrode. Therefore, the same reference numerals are used for the same components, and descriptions of the same components will be omitted.

도 4a 및 4b를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 어레이 기판은 투명 기판(108), 복수의 화소전극(101), 스위칭 소자(104), 데이터 라인(102), 게이트 라인(105) 및 스토리지 전극(103c)을 포함한다.4A and 4B, the array substrate according to the second embodiment of the present invention is a transparent substrate 108, a plurality of pixel electrodes 101, a switching element 104, a data line 102, a gate line 105. ) And storage electrode 103c.

스토리지 전극(103c)은 데이터 라인(102)과의 사이에서 발생할 수 있는 기생 커패시턴스를 감소시키기 위해 중앙부에 윈도우(109)를 형성한다.The storage electrode 103c forms a window 109 in the center to reduce parasitic capacitance that may occur between the data line 102.

기생 커패시턴스가 발생하는 경우, 소비전력이 증가한다. 따라서 스토리지 전극 내부에 윈도우(109)를 형성하여 데이터 라인(102)와의 오버랩되는 면적을 감소시킬 경우, 소비전력이 감소한다. When parasitic capacitance occurs, power consumption increases. Therefore, when the window 109 is formed inside the storage electrode to reduce the overlapping area with the data line 102, power consumption is reduced.

또한 상기 스토리지 전극(103c)와 화소전극(101) 사이의 고전압에 의해 강한 전장 왜곡 발생되어 액정의 배열이 달라질 수 있다. 예를 들면, 어레이 기판의 러빙 방향이 좌에서 우로 진행될 때 이웃하는 화소전극에서 우측 화소전극에서의 액정 배열이 특히 전장 왜곡에 많은 영향을 받는다. 상기 전장 왜곡을 방지하기 위하여 이웃하는 화소전극(106)과 데이터 라인(102) 사이의 간격 W4와 W5의 폭을 다르게 형성한다. 바람직하게는 W5의 폭을 W4의 폭보다 넓게 형성한다.In addition, strong electric field distortion occurs due to a high voltage between the storage electrode 103c and the pixel electrode 101, so that the arrangement of the liquid crystals may vary. For example, when the rubbing direction of the array substrate proceeds from left to right, the arrangement of liquid crystals in the right pixel electrode in the neighboring pixel electrode is particularly affected by the electric field distortion. In order to prevent the electric field distortion, the widths of the intervals W4 and W5 are differently formed between the neighboring pixel electrodes 106 and the data lines 102. Preferably, the width of W5 is made wider than the width of W4.

또한, 스토리지 전극(103c)과 화소전극(106)이 오버랩되는 영역 W2, W3의 폭을 다르게 형성한다. 바람직하게는 W3의 폭이 W2의 폭보다 넓게 형성한다.In addition, the widths of the regions W2 and W3 where the storage electrode 103c and the pixel electrode 106 overlap each other are formed differently. Preferably, the width of W3 is made wider than the width of W2.

상기 폭 변경에 의한 누설 광은 상기 광 차단막(107)를 상기 데이터 라인(102)을 중심으로 비대칭 되도록 형성하여 차단한다.The leakage light due to the width change is formed by blocking the light blocking layer 107 so as to be asymmetric about the data line 102.

따라서 빛의 누출은 상기 스토리지 전극(103c)과 컬러필터 기판의 광 차단막(107)에 의해 차단된다.Therefore, light leakage is blocked by the storage electrode 103c and the light blocking film 107 of the color filter substrate.

도 5은 액정 표시장치의 개략적인 단면도이다. 5 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display.                     

도 5을 참조하면, 액정 표시장치는 제 1 기판(어레이 기판, 502), 제 2 기판(컬러 필터 기판, 501) 및 액정층(506)을 포함한다. 액정층(506)은 제 1 기판(502) 및 제 2 기판(501) 사이에 게재된다.Referring to FIG. 5, the liquid crystal display includes a first substrate (array substrate) 502, a second substrate (color filter substrate) 501, and a liquid crystal layer 506. The liquid crystal layer 506 is disposed between the first substrate 502 and the second substrate 501.

제 1 기판(502)은 스토리지 전극(103b), 화소 전극(101)을 포함한다.The first substrate 502 includes a storage electrode 103b and a pixel electrode 101.

스토리지 전극(103b)은 제 1 투명기판(511) 상부에 형성된다. 스토리지 전극(103b) 상부에는 제 2 절연막(509)이 형성되어 제 1 투명기판(511)을 전체적으로 커버한다. 데이터 라인(102)은 제 2 절연막(509)상부에 형성되어, 스토리지 전극(103b) 상부에 위치한다. 스토리지 전극(103b) 상부에는 다시 제 1 절연막(508)이 형성되어 제 2 절연막(509)를 전체적으로 커버한다.The storage electrode 103b is formed on the first transparent substrate 511. A second insulating layer 509 is formed on the storage electrode 103b to cover the entire first transparent substrate 511. The data line 102 is formed on the second insulating layer 509 and is positioned above the storage electrode 103b. The first insulating layer 508 is again formed on the storage electrode 103b to cover the entire second insulating layer 509.

복수개의 화소 전극(101)은 제 1 절연막(508) 상부에 형성된다. 복수개의 화소 전극(101)은 매트릭스 형상으로 배열된다. 각 화소 전극(101) 사이의 개구는 스토리지 전극(103b)과 광 차단막에 의해 차폐되어 빛이 누출되지 아니한다.The plurality of pixel electrodes 101 is formed on the first insulating layer 508. The plurality of pixel electrodes 101 are arranged in a matrix shape. The opening between each pixel electrode 101 is shielded by the storage electrode 103b and the light blocking film so that light does not leak.

제 2 기판(501)은 컬러 필터(504) 및 공통전극(512)를 포함한다.The second substrate 501 includes a color filter 504 and a common electrode 512.

컬러 필터(504)는 제 2 투명기판(503) 위에 형성된다. 컬러 필터(504)는 레드컬러 필터(R), 그린컬러 필터(G) 및 블루컬러(B) 필터(B)를 포함한다.The color filter 504 is formed on the second transparent substrate 503. The color filter 504 includes a red color filter R, a green color filter G, and a blue color B filter.

컬러 필터(504) 상부에는 평탄화 막(505)이 도포되고, 다시 평탄화 막(505) 상부에는 공통 전극(512)이 형성된다. 공통 전극(512)은 화소전극(101)과 마찬가지로 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide:ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide)를 포함한다. 공통 전극(512)은 화소 전극(101)과 대향하게 형성된다. 공통 전극(512)는 기준 전위가 인가된다. 화소 전극(101)은 화소 전압이 인가된다. The planarization layer 505 is coated on the color filter 504, and the common electrode 512 is formed on the planarization layer 505. Like the pixel electrode 101, the common electrode 512 includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide. The common electrode 512 is formed to face the pixel electrode 101. The common electrode 512 is applied with a reference potential. The pixel voltage is applied to the pixel electrode 101.                     

따라서 화소 전극(101)과 공통 전극(512) 사이에는 전계가 형성되어, 유전율 이방성을 갖는 액정층(506)의 액정 분자의 배열이 변화된다. 액정은 또한 굴절율 이방성을 갖고 있으므로 배열이 변화되면 해당 화소를 통과하는 빛의 투과율이 변화하여 광량이 조절되고, 이 빛이 컬러필터를 통과하며 특정색을 표시한다.Therefore, an electric field is formed between the pixel electrode 101 and the common electrode 512, and the arrangement of liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 506 having dielectric anisotropy is changed. Liquid crystals also have refractive index anisotropy, so when the arrangement is changed, the transmittance of light passing through the corresponding pixel is changed to adjust the amount of light, and the light passes through the color filter to display a specific color.

도 6a 내지 도 6e를 참조하여 액정표시장치의 제조방법에 따른 배치도를 살펴보면, 먼저 도 6a에서는 절연성 제 1 기판(511) 위에 도전물질을 소정의 두께로 증착시킨 후 그 위에 감광막을 코팅하고 이어서 상기 감광막을 패턴닝하여 사진식각 마스크를 형성하며, 상기 사진식각 마스크를 적용하여 상기 도전물질을 식각함으로써 게이트 라인(105) 및 스토리지 전극(103b)을 형성한다. 또한 데이터 라인과 오버랩되는 영역에서의 스토리지 전극(103b)은 상기 데이터 라인과 상기 스토리지 전극(103b) 사이에서 발생하는 기생 커패시턴스를 감소시키기 위해 스토리지 전극(130b) 내부에 윈도우(109)를 형성할 수 있다. 상기 스토리지 전극(103b)은 도면과 같이 ㄷ자 구조로 형성한다.Referring to FIGS. 6A to 6E, a layout view according to a manufacturing method of a liquid crystal display device is described. First, in FIG. 6A, a conductive material is deposited on the insulating first substrate 511 to a predetermined thickness, and then a photosensitive film is coated thereon. The photoresist is patterned to form a photolithography mask, and the gate material 105 and the storage electrode 103b are formed by etching the conductive material by applying the photolithography mask. In addition, the storage electrode 103b in an area overlapping the data line may form a window 109 inside the storage electrode 130b to reduce parasitic capacitance occurring between the data line and the storage electrode 103b. have. The storage electrode 103b has a U-shaped structure as shown in the figure.

도 6b도에서는 상기 게이트 라인(105) 형성 후 결과물 전면에 절연물질을 도포하여 게이트 절연막(미도시)을 형성하고, 이어서 상기 제 게이트 절연막 위에 비정질 실리콘 또는 다결정 실리콘을 소정의 두께로 도포하여 실리콘층을 형성한 후 상기 실리콘층 위에 도 6a에서와 같이 소정의 사진식각 마스크를 형성하고, 이를 적용하여 상기 실리콘층을 식각함으로써 상기 게이트 라인(105) 영역의 상기 게이트 절연막 위에 액티브층(510)을 형성한다.In FIG. 6B, after the gate line 105 is formed, an insulating material is coated on the entire surface of the resultant to form a gate insulating film (not shown), and then an amorphous silicon or polycrystalline silicon is coated on the gate insulating film to a predetermined thickness. After forming a predetermined photolithography mask on the silicon layer as shown in FIG. 6a and applying the same to the silicon layer to form an active layer 510 on the gate insulating layer in the gate line 105 region. do.

도 6c에서는 상기 액티브층(510) 형성 후 도전물질을 증착시키고 소정의 사 진식각 마스크를 적용하여 상기 증착된 도전물질층을 패턴닝함으로써 데이터 라인(102)를 형성한다.In FIG. 6C, after forming the active layer 510, a conductive material is deposited and a data line 102 is formed by patterning the deposited conductive material layer by applying a predetermined photo-etch mask.

도 6d 및 도 6e에서는 상기 데이터 라인(102) 형성 후 결과물 전면에 절연물질을 소정의 두께로 증착시켜 제 1 절연막(508)을 형성하고, 상기 제 1 절연막(508) 상부에 투명 전극을 증착시키고 상기 투명 전극을 소정의 사진식각 마스크를 적용하여 패턴닝함으로써 화소 전극(101)을 형성한다.6D and 6E, after forming the data line 102, an insulating material is deposited on the entire surface of the resultant to form a first insulating film 508, and a transparent electrode is deposited on the first insulating film 508. The transparent electrode is patterned by applying a predetermined photolithography mask to form the pixel electrode 101.

이러한 각 화소의 조합으로 영상이 표시되게 된다.The image is displayed by the combination of these pixels.

위에서는 통상의 트위스티드 네마틱 액정 표시장치를 예시하여 설명하였다. 그러나 본 발명은 스토리지 전극이 구비된 액정표시장치에 적용가능함은 당연한 사실이다.In the above, a typical twisted nematic liquid crystal display has been described as an example. However, it is a matter of course that the present invention is applicable to a liquid crystal display device having a storage electrode.

본 발명은 스토리지 전극을 이용하여 화소전극 사이의 개구를 차폐하여 빛이 누출되는 것을 방지한다. 스토리지 전극은 화소 전극 사이의 개구와 근접하므로 스토리지 전극과 화소전극이 오버랩되는 폭을 줄일 수 있다. 더욱이, 스토리지 전극은 화소 전극과 동일한 기판에 형성되므로, 미스 얼라인 마진(misalign margin)을 고려할 필요 없게 되어 화소전극과 스토리지 전극이 오버랩되는 폭을 작게 할 수 있다.The present invention prevents light from leaking by shielding the opening between the pixel electrodes using the storage electrode. Since the storage electrode is close to the opening between the pixel electrodes, the width at which the storage electrode and the pixel electrode overlap can be reduced. Furthermore, since the storage electrode is formed on the same substrate as the pixel electrode, it is not necessary to consider a misalign margin, so that the width at which the pixel electrode and the storage electrode overlap can be reduced.

또한, 스토리지 전극과 화소전극 사이에 발생하는 전장 왜곡을 방지하기 위하여 데이터 라인과 화소전극 사이의 간격의 폭을 다르게 가져가고, 이에 대응하는 컬리필터 기판의 광 차단막을 데이터 라인을 중심으로 비대칭으로 형성하여 효과적 으로 빛샘을 차단한다. 따라서 개구율이 증가한다.In addition, in order to prevent electric field distortion generated between the storage electrode and the pixel electrode, the width of the gap between the data line and the pixel electrode is different from each other, and a light blocking film of the curly filter substrate is formed asymmetrically around the data line. To effectively block light leakage. Therefore, the aperture ratio increases.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand that you can.

Claims (18)

투명기판;Transparent substrate; 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소전극;A plurality of pixel electrodes spaced apart by a first distance from the transparent substrate and an upper portion of the transparent substrate, and arranged in a matrix; 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된 복수의 스위칭 소자;A plurality of switching elements including a gate electrode, a drain electrode and a source electrode, the drain electrodes being electrically connected to the respective pixel electrodes, respectively; 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격되고, 상기 화소전극 사이에 배치되어 이웃하는 상기 화소전극과 제 1 간격 및 제 2 간격을 두고, 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된 데이터 라인;The substrate is spaced apart from the transparent substrate by a second distance, and is disposed between the pixel electrodes and is electrically connected to the source electrode at first and second intervals with the neighboring pixel electrode. A data line formed to apply a pixel voltage; 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온 또는 턴오프 시키기 위해 전기적 신호를 전달하는 게이트 라인; 및A gate line electrically connected to the gate electrode and transferring an electrical signal to turn on or off the switching device; And 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성되고, 상기 이웃하는 화소전극과 제 1 길이 및 제 2 길이 만큼 오버랩되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 포함하는 어레이 기판.And a plurality of storage electrodes formed to be spaced apart by a third distance from the transparent substrate and an upper portion of the transparent substrate, and disposed to overlap the neighboring pixel electrode by a first length and a second length. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 거리는 상기 제 1 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판.The array substrate of claim 1, wherein the second distance is smaller than the first distance. 제 1 항에 있어서, 상기 제 3 거리는 상기 제 2 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판.The array substrate of claim 1, wherein the third distance is smaller than the second distance. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 간격 및 제 2 간격이 서로 다른 것을 특징으로 하는 어레이 기판.The array substrate of claim 1, wherein the first and second intervals are different from each other. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 길이 및 제 2 길이는 서로 다른 것을 특징으로 하는 어레이 기판.The array substrate of claim 1, wherein the first length and the second length are different from each other. 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 스토리지 전극의 각각에는 중앙부에 윈도우가 형성되는 것을 특징으로 하는 어레이 기판.The array substrate of claim 1, wherein a window is formed at a central portion of each of the plurality of storage electrodes. 투명 기판을 형성하는 단계;Forming a transparent substrate; 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소전극을 형성하는 단계;Forming a plurality of pixel electrodes spaced apart by a first distance from the transparent substrate and an upper portion of the transparent substrate, and arranged in a matrix shape; 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된 복수의 스위칭 소자를 형성하는 단계;Forming a plurality of switching elements including a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode, each of the drain electrodes being electrically connected to the respective pixel electrodes; 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격되고, 상기 화소전극 사이에 배치되어 이웃하는 상기 화소전극과 제 1 간격 및 제 2 간격을 두고, 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 화소전압을 인가하는 데이터 라인을 형성하는 단계; The substrate is spaced apart from the transparent substrate by a second distance, and is disposed between the pixel electrodes and is electrically connected to the source electrode at first and second intervals with the neighboring pixel electrode. Forming a data line applying a pixel voltage; 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기 위한 전기적 신호를 전달하는 게이트 라인을 형성하는 단계; 및Forming a gate line electrically connected to the gate electrode to transmit an electrical signal for turning on or off the switching device; And 상기 투명기판과 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성되고, 상기 이웃하는 화소전극과 제 1 길이 및 제 2 길이 만큼 오버랩 되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 형성하는 단계를 포함하는 어레이 기판 제조 방법.And forming a plurality of storage electrodes spaced apart from each other by a third distance from the transparent substrate and above the transparent substrate, and arranged to overlap the neighboring pixel electrode by a first length and a second length. . 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 거리는 상기 제 1 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판 제조 방법.8. The method of claim 7, wherein said second distance is less than said first distance. 제 7 항에 있어서, 상기 제 3 거리는 상기 제 2 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판 제조 방법.8. The method of claim 7, wherein said third distance is less than said second distance. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 간격 및 제 2 간격이 서로 다른 것을 특징으로 하는 어레이 기판 제조 방법.8. The method of claim 7, wherein the first and second intervals are different. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 길이 및 제 2 길이가 서로 다른 것을 특징으로 하는 어레이 기판.8. The array substrate of claim 7, wherein the first length and the second length are different from each other. 제 7 항에 있어서, 상기 복수의 스토리지 전극의 각각에는 중앙부에 윈도우가 형성되는 것을 특징으로 하는 어레이 기판 제조 방법.8. The method of claim 7, wherein a window is formed at a central portion of each of the plurality of storage electrodes. I)제 1 투명기판, ii) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 1 거리만큼 이격되어 형성되고, 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소전극, iii) 게이트 전극, 드레인 전극 및 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 각각의 화소전극에 전기적으로 각각 연결된 복수의 스위칭 소자, iv) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 2 거리 만큼 이격되고, 상기 화소전극 사이에 배치되고, 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 화소전압을 인가하기 위하여 형성된 데이터 라인, v) 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온또는 턴오프 시키기 위해 전기적 신호를 전달하는 게이트 라인, 및 vi) 상기 제 1 투명기판과 제 1 투명기판 상부로 제 3 거리만큼 이격되어 형성되고, 상기 이웃하는 화소전극과 적어도 일부가 오버랩 되도록 배치된 복수의 스토리지 전극을 포함하는 제 1 기판;I) a first transparent substrate, ii) a plurality of pixel electrodes formed to be spaced apart by a first distance from the first transparent substrate and the first transparent substrate, and arranged in a matrix, iii) a gate electrode, a drain electrode and a source electrode A plurality of switching elements electrically connected to the respective pixel electrodes, respectively, iv) spaced apart from each other by a second distance between the first transparent substrate and the first transparent substrate and disposed between the pixel electrodes; And a data line electrically connected to the source electrode to apply a pixel voltage to the pixel electrode, and v) a gate electrically connected to the gate electrode to transfer an electrical signal to turn on or off the switching element. And vi) a third distance above the first transparent substrate and the first transparent substrate, the third transparent substrate being spaced apart from the neighboring pixel electrode. Fig first substrate including a plurality of storage electrodes arranged such that partly overlap; 상기 제 1 기판에 대향하며, 제 2 투명기판을 포함하고, 상기 이웃하는 화소전극에 대응되도록 배치되고 상기 데이터 라인을 중심으로 비대칭적으로 연장되도록 형성된 광 차단막 포함하는 제 2 기판; 및A second substrate facing the first substrate and including a second transparent substrate, the second substrate including a light blocking layer disposed to correspond to the neighboring pixel electrode and extending asymmetrically about the data line; And 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 게재된 액정층을 포함하는 액정 표시장치.And a liquid crystal layer interposed between the first substrate and the second substrate. 제 13 항에 있어서, 상기 제 2 거리는 상기 제 1 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the second distance is smaller than the first distance. 제 13 항에 있어서, 상기 제 3 거리는 상기 제 2 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the third distance is smaller than the second distance. 제 13 항에 있어서, 상기 제 2 길이 및 제 3 길이는 각각 서로 다른 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the second length and the third length are different from each other. 제 13 항에 있어서, 상기 제 2 길이 및 제 3 길이는 각각 서로 다른 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the second length and the third length are different from each other. 제 13 항에 있어서, 상기 복수의 스토리지 전극의 각각에는 중앙부에 윈도우가 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein a window is formed in a central portion of each of the plurality of storage electrodes.
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WO2021203894A1 (en) * 2020-04-10 2021-10-14 京东方科技集团股份有限公司 Array substrate and manufacturing method therefor, and display device

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