KR20060041173A - Ink for spacer formation - Google Patents

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KR20060041173A
KR20060041173A KR20057022902A KR20057022902A KR20060041173A KR 20060041173 A KR20060041173 A KR 20060041173A KR 20057022902 A KR20057022902 A KR 20057022902A KR 20057022902 A KR20057022902 A KR 20057022902A KR 20060041173 A KR20060041173 A KR 20060041173A
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spacer
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시게카즈 테라니시
미치오 도이
유타카 사카이
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나토코 가부시키가이샤
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Abstract

In the method of spacer formation using a printing system, it is intended to improve the adherence between spacer particles and a binder resin. There is provided an ink for spacer formation that can be employed in the printing method. This ink contains a resin composition comprising spacer particles (A) and a thermosetting or active energy ray curable resin for spacer particle dispersion (C).

Description

스페이서 형성용 잉크{INK FOR SPACER FORMATION}Ink for Spacer Formation {INK FOR SPACER FORMATION}

본 발명은 스페이서 형성용 잉크에 관한 것이다.The present invention relates to an ink for forming a spacer.

일본 특허공개 2000-35582호 공보에는 그라비어 오프셋인쇄에 의한 스페이서 형성법이 개시되어 있다. 일본 특허공개 2000-35582호 공보의 청구항2 및 3에, 점도 2000∼25000cps의 수지중에 구상 스페이서를 20∼60중량% 배합한 잉크를 사용하는 것이 기재되어 있으며, 실시예에서는, 5μ의 수지 스페이서 비드와 폴리에스테르계 수지가 나타내어져 있다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35582 discloses a method of forming a spacer by gravure offset printing. In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-35582, Claims 2 and 3 describe the use of an ink in which 20 to 60% by weight of a spherical spacer is blended in a resin having a viscosity of 2000 to 25000 cps. And polyester-based resin are shown.

일본 특허공개 평11-323220호 공보, 일본 특허공개 평9-111170호 공보, 일본 특허공개 평7-110404호 공보에는, 오목판 오프셋인쇄로 컬러필터층이나 블랙 매트릭스를 형성하는데에 적합한 가열 경화형 잉크로서, 폴리에스테르-멜라민 수지, 에폭시멜라민 수지 등이 사용되어지고 있는 것이 기재되어 있다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-323220, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-111170, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-110404 are heat-curable inks suitable for forming a color filter layer or black matrix by concave plate offset printing. It is described that polyester-melamine resin, epoxy melamine resin, etc. are used.

또, 일본 특허공개 2000-347191호 공보에는 잉크젯식 인쇄법에 의한 스페이서 형성법이 개시되어 있다. 일본 특허공개 2000-347191호 공보의 청구항1에는 스페이서가 형성 고체 미립자와 바인더 수지를 함유하는 것이 기재되어 있다.In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-347191 discloses a method of forming a spacer by an inkjet printing method. In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-347191, Claim 1 describes that the spacer contains formed solid fine particles and a binder resin.

일본 특허공개 2000-35582호 공보에서는 수지에 관해서는 점도만이 규정되어 있다. 실시예에서는 폴리에스테르 수지가 나타내어져 있으며, 수지 스페이서 비드도 입경만이 규정되어 있다.In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-35582, only a viscosity is specified with respect to resin. The polyester resin is shown in the Example and only the particle diameter of the resin spacer bead is prescribed | regulated.

일본 특허공개 평11-323220호 공보, 일본 특허공개 평9-111170호 공보, 일본 특허공개 평7-110404호 공보에서는, 컬러필터의 오목판 오프셋 인쇄법에서 사용하는 잉크의 바인더 수지로서, 폴리에스테르-멜라민 수지, 멜라민 변성 폴리에스테르 수지, 에폭시멜라민 수지, 멜라민 변성 에폭시 수지 등이 사용된다. 그러나, 수지 외에, 인쇄적성의 점에서 고급 알콜, 에틸렌계 글리콜에테르, 프로필렌계 글리콜에테르, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류 등의 고비점계 용제가 사용된다. 이 때문에 인쇄후에, 고온에서의 장시간의 건조가 필요하게 되며, 가열이 불충분한 경우에는 용제가 잔존하여 액정오염의 원인이 된다. 또 경화후, 스페이서, 잉크, 배향막에서의 밀착이 나쁜 경우에는, 배향막 러빙시나 진동시, 스페이서와 바인더 수지간의 계면박리, 배향막과의 밀착불량에 의해 스페이서가 이동하기 때문에 광손실, 갭편차, 배향막에의 흠집 등의 문제점이 있었다.In Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-323220, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-111170, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-110404, a polyester resin is used as a binder resin of an ink used in the concave plate offset printing method of a color filter. Melamine resin, melamine modified polyester resin, epoxy melamine resin, melamine modified epoxy resin, etc. are used. However, besides the resin, high boiling point solvents such as ketones such as higher alcohols, ethylene glycol ethers, propylene glycol ethers, cyclohexanone and isophorone are used. For this reason, after printing, long time drying at high temperature is necessary, and when heating is inadequate, a solvent remains and it becomes a cause of liquid crystal contamination. In addition, when the adhesion between the spacer, the ink, and the alignment film is poor after curing, the spacer moves due to the interfacial separation between the spacer and the binder resin and the adhesion failure between the spacer and the binder resin during rubbing or vibration of the alignment film. There was a problem such as scratches.

일본 특허공개 2000-35582호 공보, 일본 특허공개 2000-347191호 공보와 함께, 바인더 수지와 스페이서 입자의 계면에서의 화학결합의 형성에 대해서는 기재되어 있지 않다. 그러나, 바인더 수지와 스페이서 입자의 계면에서 화학결합의 형성이 없으면, 진동 등의 외력이 가해진 경우, 스페이서 입자가 바인더 수지로부터 계면박리를 일으키고, 박리된 스페이서 입자가 이동하여 배향막을 손상시키므로 충격후에 광손실 등의 문제점이 있었다.Together with Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35582 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-347191, the formation of chemical bonds at the interface between the binder resin and the spacer particles is not described. However, if no chemical bond is formed at the interface between the binder resin and the spacer particles, when external force such as vibration is applied, the spacer particles cause interfacial separation from the binder resin, and the separated spacer particles move to damage the alignment film, so that the light after impact There was a problem such as loss.

본 발명의 과제는, 인쇄방식에 의한 스페이서 형성법에 있어서, 스페이서 입자와 바인더 수지의 밀착성을 향상시킬 수 있도록 하는 것이다.The subject of this invention is making it possible to improve the adhesiveness of a spacer particle and binder resin in the spacer formation method by a printing system.

본 발명은, 인쇄법에 있어서 사용되는 스페이서 형성용 잉크로서,The present invention is an ink for forming a spacer used in a printing method,

A:스페이서 입자, 및 A: spacer particles, and

C:상기 스페이서 입자를 분산시키는 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지배합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.C: It is characterized by containing a thermosetting or active energy ray-curable resin mixture for dispersing the spacer particles.

본 발명에 의하면, 스페이서 입자는 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지배합물(C)중에 분산되어 있으며, 수지배합물(C)에는 스페이서 입자와 화학반응 가능한 관능기를 함유하는 성분을 갖고 있으므로, 스페이서 입자와 바인더 수지 사이에서 새로운 화학결합이 생성되어 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 바람직한 실시형태에 있어서는, 바인더 수지와 배향막 사이에서도 새로운 화학결합이 생성되어, 결과적으로 스페이서와 배향막의 밀착성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, the spacer particles are dispersed in the thermosetting or active energy ray-curable resin mixture (C), and the resin mixture (C) has a component containing a functional group capable of chemically reacting with the spacer particles. New chemical bonds can be created between them to improve adhesion. Moreover, in preferable embodiment, a new chemical bond is produced | generated also between binder resin and an oriented film, As a result, the adhesiveness of a spacer and an oriented film can be improved.

도1의 (a), (b)는 각각 스페이서 입자(A), 수지(B) 및 배향막의 결합양식을 나타내는 모식도이다.1 (a) and 1 (b) are schematic diagrams showing the bonding patterns of the spacer particles (A), the resin (B) and the alignment film, respectively.

도2의 (a), (b)는 스페이서 입자(A), 수지(B, F, G), 모노머 및 배향막의 결합양식을 나타내는 모식도이다.2 (a) and 2 (b) are schematic diagrams showing bonding patterns of spacer particles (A), resins (B, F, G), monomers, and alignment films.

본 발명의 각 요건에 대해서 이하에 더욱 상세하게 설명한다.Each requirement of the present invention will be described in more detail below.

(인쇄방식)(Print method)

인쇄방식에는 판식 인쇄방식과, 무판 인쇄방식을 포함한다.Printing methods include plate printing methods and plateless printing methods.

판식 인쇄방식이란, 판(版)을 사용한 인쇄방식을 의미하고 있으며, 이하의 방법을 예시할 수 있다.The plate printing method means a printing method using a plate, and the following method can be exemplified.

(1)볼록판인쇄(직접인쇄방식, 오프셋방식)(1) Convex plate printing (direct printing method, offset method)

(2)오목판인쇄 또는 그라비어인쇄(전사방식, 오프셋방식, 패드방식)(2) Concave plate printing or gravure printing (transfer method, offset method, pad method)

(3)평판인쇄 또는 오프셋인쇄(3) flat printing or offset printing

(4)공판인쇄 또는 스크린인쇄(4) stencil printing or screen printing

무판 인쇄방식은 판을 사용하지 않는 인쇄방식이면 한정되지 않지만, 잉크젯 인쇄방식이나 레이저 인쇄방식을 포함한다. 대표적인 잉크젯 인쇄방식에는 이하의 것이 있다.The plateless printing method is not limited as long as the printing method does not use a plate, but includes an inkjet printing method and a laser printing method. Typical inkjet printing methods include the following.

(1)버블젯방식(1) bubble jet method

(2)피에조방식(2) Piezo method

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지배합물(C)이 입자(A)와 화학반응 가능한 관능기를 함유하는 성분을 적어도 1종 함유한다. 이 성분은 열경화성, 활성 에너지선 경화성의 수지(B)이어도 좋고, 또 다른 수지, 모노머 내지 희석제, 올리고머, 광 라디칼 개시제, 용제 등의 임의의 성분이어도 좋다.In a preferred embodiment, the resin mixture (C) contains at least one component containing a functional group capable of chemically reacting with the particles (A). This component may be a thermosetting, active energy ray-curable resin (B), or may be any component such as another resin, a monomer to a diluent, an oligomer, an optical radical initiator, or a solvent.

예를 들면 바람직한 실시형태에 있어서는, 입자(A)와 화학반응 가능한 관능기를 함유하는 성분이 1종 또는 2종이상의 수지(B)이다. 이 경우에는, 도1(a)에 모식적으로 나타내듯이, 스페이서 입자(A)의 관능기(a, a', a")와, 수지(B)의 관능기(b, b', b")가 반응하여 결합한다.For example, in preferable embodiment, the component containing the functional group which can chemically react with particle | grain (A) is 1 type, or 2 or more types of resin (B). In this case, as shown schematically in Fig. 1 (a), the functional groups (a, a ', a ") of the spacer particles (A) and the functional groups (b, b', b") of the resin (B) are React and bind.

더욱 바람직한 실시형태에 있어서는, 입자(A)와 화학반응 가능한 관능기를 함유하는 성분이 1종 또는 2종이상의 수지(B)이며, 또한 수지(B)가 배향막의 관능기와 반응 가능하다. 이 경우에는, 도1(b)에 모식적으로 나타내듯이, 스페이서 입자(A)의 관능기(a, a1, a", a1")와, 수지(B)의 관능기(b1, b1")가 반응하여 결합한다. 이것과 함께, 수지(B)가 배향막의 관능기와 반응하여 결합한다.In more preferable embodiment, the component containing the functional group which can chemically react with particle | grain (A) is 1 type or 2 or more types of resin (B), and resin (B) can react with the functional group of an oriented film. In this case, as shown schematically in Fig. 1 (b), the functional groups (a, a1, a ", a1") of the spacer particles (A) and the functional groups (b1, b1 ") of the resin (B) react. At the same time, the resin (B) reacts with the functional group of the alignment film to bond.

또, 다른 바람직한 실시형태에 있어서는, 수지배합물(C)이 복수 종류의 수지(B)를 함유하고 있다. 그리고, 수지(B)는 스페이서 입자(A)와 화학반응하고, 다른 수지(F)는 수지(B)와 화학반응하고, 또 배향막의 관능기와 반응한다. 예를 들면 도2(a)에 모식적으로 나타내는 예에서는, 수지(B)의 관능기(b')가 스페이서 입자(A)의 관능기(a')와 반응하고, 수지(F)가 수지(B)와 반응하고, 수지(F)가 수지(G)와 반응한다. 이것과 함께, 수지(F)가 배향막의 관능기와 반응한다. 이 결과, 생성된 고분자 화합물을 통해 스페이서 입자(A)와 배향막이 화학적으로 결합되게 된다.Moreover, in another preferable embodiment, the resin mixture (C) contains the some kind of resin (B). The resin (B) chemically reacts with the spacer particles (A), the other resin (F) chemically reacts with the resin (B), and also with the functional group of the alignment film. For example, in the example shown schematically in Fig. 2 (a), the functional group (b ') of the resin (B) reacts with the functional group (a') of the spacer particles (A), and the resin (F) is a resin (B). ) And the resin (F) react with the resin (G). In addition, resin (F) reacts with the functional group of an oriented film. As a result, the spacer particles (A) and the alignment layer are chemically bonded through the produced polymer compound.

다른 바람직한 실시형태에 있어서는, 수지배합물중의 수지 이외의 성분이 수지(B)와 반응함과 아울러 배향막의 관능기와 반응한다. 예를 들면 도2(b)에 모식적으로 나타내는 예에서는, 수지(B)의 관능기(b')가 스페이서 입자(A)의 관능기(a')와 반응하고, 모노머 내지 희석제가 수지(B) 및 입자(A)와 반응하고, 모노머가 배향막의 관능기와 반응한다. 이 결과, 생성된 고분자 화합물을 통해 스페이서 입자(A)와 배향막이 화학적으로 결합되게 된다.In another preferred embodiment, components other than the resin in the resin mixture react with the resin (B) and also with the functional group of the alignment film. For example, in the example shown schematically in FIG. 2 (b), the functional group (b ') of the resin (B) reacts with the functional group (a') of the spacer particles (A), and the monomer or diluent reacts with the resin (B). And the particle (A), and the monomer reacts with the functional group of the alignment film. As a result, the spacer particles (A) and the alignment layer are chemically bonded through the produced polymer compound.

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)가 가열에 의해 반응 가능한 관능기(b)를 갖고, 입자(A)가 관능기(b)와 반응 가능한 관능기(a)를 갖고 있다. 이것에 의해, 스페이서 입자와 바인더 수지가 갖는 관능기 사이에서의 반응에 의해, 스페 이서 입자와 바인더 수지가 일체화되어 스페이서 입자의 탈리가 없어진다.In a preferred embodiment, the resin (B) has a functional group (b) that can react by heating, and the particles (A) have a functional group (a) that can react with the functional group (b). As a result, the spacer particles and the binder resin are integrated by the reaction between the spacer particles and the functional group of the binder resin, thereby eliminating the detachment of the spacer particles.

이 수지(B)의 관능기(b)로서는 수산기, 에폭시기, 카르복실기, 가수분해성 실릴기, 실라놀기, 이소시아네이트기, 메티롤기, 알킬화 메티롤기, 이미노기, 산무수물, 불포화기를 예시할 수 있다. 이들 관능기는 입자(A)가 갖는 관능기(a)와의 반응성에 기초해서 선택한다.As a functional group (b) of this resin (B), a hydroxyl group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydrolyzable silyl group, a silanol group, an isocyanate group, a metyrol group, an alkylated methirol group, an imino group, an acid anhydride, and an unsaturated group can be illustrated. These functional groups are selected based on the reactivity with the functional group (a) which particle | grains (A) have.

또, 수지배합물(C)중에는, 입자(A)와 반응성의 수지(B)를 복수종류 함유할 수 있거나, 또는 경화제나 커플링제를 배합할 수 있다. 이 예로서는, 폴리에스테르 수지와 멜라민 수지, 에폭시 수지와 멜라민 수지, 에폭시 수지와 아민계 경화제 등의 조합을 들 수 있다.Moreover, in resin mixture (C), two or more types of particle | grains (A) and reactive resin (B) can be contained, or a hardening | curing agent and a coupling agent can be mix | blended. As this example, the combination of a polyester resin, a melamine resin, an epoxy resin, a melamine resin, an epoxy resin, an amine-type hardener, etc. are mentioned.

입자(A)가 갖는 수지배합물중의 성분과 반응 가능한 관능기로서는, 실라놀기, 카르복실기, 에폭시기, 가수분해성 실릴기, 이소시아네이트기, 불포화기, 메티롤기, 알킬화 메티롤기, 이미노기, 산무수물, 아미노기를 예시할 수 있다.As a functional group which can react with the component in the resin compound which particle | grains (A) have, a silanol group, a carboxyl group, an epoxy group, a hydrolyzable silyl group, an isocyanate group, an unsaturated group, a methrol group, an alkylated metyrol group, an imino group, an acid anhydride, An amino group can be illustrated.

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)가 갖는 가열에 의해 반응 가능한 관능기(b)가 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1)이다.In preferable embodiment, the functional group (b) which can react by the heating which resin (B) has is the functional group (b1) which can react with the functional group which remain | survives in an oriented film.

이것에 의해, 바인더 수지의 관능기(b1)와 배향막에 잔존하는 관능기 사이의 반응에 의해, 바인더 수지와 배향막의 밀착성이 향상된다.Thereby, the adhesiveness of binder resin and an orientation film improves by reaction between the functional group (b1) of binder resin, and the functional group which remain | survives in an orientation film.

배향막에 잔존하는 관능기로서는, 카르복실기, 아미드기를 예시할 수 있지만, 반응성의 점에서는 카르복실기가 특히 바람직하다.As a functional group which remain | survives in an oriented film, a carboxyl group and an amide group can be illustrated, but a carboxyl group is especially preferable at a reactive point.

또, 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1)로서는, 에폭시기, 수산기, 아미노기를 예시할 수 있고, 반응성의 점에서는 에폭시기가 특히 바람직하 다.Moreover, as a functional group (b1) which can react with the functional group which remain | survives in an oriented film, an epoxy group, a hydroxyl group, and an amino group can be illustrated, An epoxy group is especially preferable at the point of reactivity.

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)의 관능기(b1)가 에폭시기이며, 입자(A)의 상기 관능기(a)가 에폭시기와 반응 가능한 관능기(a1)이다. 이 관능기(a1)로서는, 에폭시기, 수산기, 실라놀기 등을 들 수 있다.In preferable embodiment, the functional group (b1) of resin (B) is an epoxy group, and the said functional group (a) of particle | grains (A) is a functional group (a1) which can react with an epoxy group. As this functional group (a1), an epoxy group, a hydroxyl group, a silanol group, etc. are mentioned.

또, 바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)가 활성 에너지선에 의해 반응 가능한 관능기(b')를 갖고, 입자(A)가 관능기(b')와 반응 가능한 관능기(a')를 갖고 있다. 이 관능기(b')로서는, 아크릴기, 메타크릴기 등의 불포화기를 예시할 수 있다.Moreover, in preferable embodiment, resin (B) has the functional group (b ') which can react with active energy ray, and particle | grain (A) has the functional group (a') which can react with functional group (b '). As this functional group (b '), unsaturated groups, such as an acryl group and a methacryl group, can be illustrated.

또한 입자(A)의 관능기(a')로서는, 아크릴기, 메타크릴기 등의 불포화기를 예시할 수 있다.Moreover, as functional group (a ') of particle | grain (A), unsaturated groups, such as an acryl group and a methacryl group, can be illustrated.

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지배합물(C)이, 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1')를 갖는 성분을 함유한다. 이 성분은 수지(B)이어도 좋고, 수지(B)와 다른 수지이어도 좋고, 모노머, 올리고머, 희석제, 광개시제 등의 다른 성분이어도 좋다. 관능기(b1')로서는 에폭시기를 예시할 수 있다.In a preferred embodiment, the resin mixture (C) contains a component having a functional group (b1 ') capable of reacting with a functional group remaining in the alignment film. This component may be resin (B), resin other than resin (B) may be sufficient, and other components, such as a monomer, an oligomer, a diluent, a photoinitiator, may be sufficient as it. An epoxy group can be illustrated as a functional group (b1 ').

바람직한 실시형태에 있어서는, 잉크가, 활성 에너지선에 의해 반응 가능한 관능기(a'), 또는 관능기(b')와 반응 가능한 관능기를 갖는 희석제(D) 및/또는 광 라디칼 개시제(E)를 갖고 있다.In a preferred embodiment, the ink has a diluent (D) and / or a photo radical initiator (E) having a functional group (a ') capable of reacting with an active energy ray or a functional group capable of reacting with a functional group (b'). .

또, 바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)가 가열 및/또는 에너지선에 의해 양이온 중합 가능한 관능기(b")를 갖고, 입자(A)가 관능기(b")와 반응 가능한 관능기(a")를 갖고 있다.In a preferred embodiment, the resin (B) has a functional group (b ″) capable of cationic polymerization by heating and / or energy rays, and the functional group (a ″) in which the particles (A) can react with the functional group (b ″). Have

이 관능기(b")로서는, 에폭시기, 수산기를 예시할 수 있다. 또, 입자(A)의 관능기(a")로서는, 에폭시기, 수산기를 예시할 수 있다.An epoxy group and a hydroxyl group can be illustrated as this functional group (b "). Moreover, an epoxy group and a hydroxyl group can be illustrated as a functional group (a") of particle | grain (A).

바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)의 관능기(b")가 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1")이다. 이 관능기(b1")로서는, 에폭시기, 수산기를 예시할 수 있다.In a preferred embodiment, the functional group (b ") of the resin (B) is a functional group (b1") which can react with the functional group remaining in the alignment film. As this functional group (b1 "), an epoxy group and a hydroxyl group can be illustrated.

더욱 바람직한 실시형태에 있어서는, 수지(B)의 관능기(b1")가 에폭시기이며, 입자(A)의 관능기(a")가, 에폭시기와 반응 가능한 관능기(a1")이다. 이 관능기(a1")로서는, 에폭시기, 수산기를 예시할 수 있다.In more preferable embodiment, the functional group (b1 ") of resin (B) is an epoxy group, and the functional group (a") of particle | grains (A) is a functional group (a1 ") which can react with an epoxy group. This functional group (a1") As an epoxy group, a hydroxyl group can be illustrated.

또, 수지를 양이온 중합시키는 본 실시형태에 있어서는, 수지조성물이, 관능기(a") 또는 관능기(b")와 반응 가능한 관능기를 갖는 희석제(H) 및/또는 광 양이온 개시제(I)를 갖고 있다.Moreover, in this embodiment which cationically polymerizes resin, the resin composition has the diluent (H) and / or the photocationic initiator (I) which have a functional group which can react with a functional group (a ") or a functional group (b"). .

본 발명의 잉크는 그 인쇄방식에 적합한 잉크로 하기 위해서, 수지배합물(C)중의 용제의 양이나 용제의 종류는 적당하게 실험적으로 정할 수 있다. 수지배합물(C)중의 용제는 수지배합물(C)중의 다른 성분을 용해시키는 것이어도 좋고, 다른 성분을 분산시키는 것이어도 좋다.In order to make the ink of this invention suitable for the printing system, the quantity of solvent and the kind of solvent in a resin mixture (C) can be suitably experimentally determined. The solvent in the resin mixture (C) may dissolve other components in the resin mixture (C), or may disperse other components.

본 발명의 판식 인쇄법에 사용되는 잉크는 용제의 함유량이 적은 쪽이 바람직하고, 구체적으로는 30중량% 이하가 바람직하고, 10중량% 이하가 더욱 바람직하다. 특히 바람직한 실시형태에 있어서는, 본 발명의 판식 인쇄법에 사용되는 잉크가 용제를 실질적으로 함유하지 않는다. 이것은, 잉크중에 용제성분을 적극적으로 첨가하지 않는 것을 의미하고 있으며, 흔적량의 용제나 불가피적 불순물은 제외된 다.As for the ink used for the plate printing method of this invention, it is preferable that the content of a solvent is small, 30 weight% or less is specifically preferable, and 10 weight% or less is more preferable. In especially preferable embodiment, the ink used for the plate printing method of this invention does not contain a solvent substantially. This means that the solvent component is not actively added to the ink, and trace amounts of the solvent and unavoidable impurities are excluded.

이렇게, 잉크가 실질적으로 용제를 함유하지 않는 것에 의해, 스페이서 형성후의 잔류 용제에 의한 액정오염이 없어져서, 더 한층 안정된 인쇄가 가능해진다. 특히 활성 에너지선 경화성 수지를 사용함으로써, 후의 가열공정을 생략할 수 있다.Thus, since ink does not contain a solvent substantially, liquid crystal contamination by the residual solvent after spacer formation is eliminated, and further stable printing is attained. In particular, the subsequent heating step can be omitted by using the active energy ray curable resin.

또, 본 발명의 잉크젯식 인쇄법에 사용되는 잉크에는, 용제로서, 알콜계, 글리콜계, 프로필렌글리콜계, 물 등의 극성 용제를 예시할 수 있다.Moreover, polar solvents, such as alcohol type, a glycol type | system | group, a propylene glycol type | system | group, and water, can be illustrated to the ink used for the inkjet printing method of this invention as a solvent.

이하, 본 발명의 잉크의 각 성분에 대해서 또한 서술한다.Hereinafter, each component of the ink of this invention is further described.

(스페이서 입자)(Spacer particles)

본 발명에 이용되는 스페이서 입자는 한정되지 않는다. 바람직한 실시형태에 있어서는, 석출 중합법 또는 시드 중합법에 의해 얻어지는 입자이다. 석출 중합법이란, 단량체는 용해되고, 그 단량체에 기초한 중합체는 용해되지 않는 용제중에서 상기 단량체를 중합하여, 중합체 입자를 석출시키는 중합법이다. 시드 중합법이란, 상기 석출 중합법에 의해 얻어진 중합체 입자를 단량체에 의해 팽윤시키고, 상기 중합체 입자에 내장되어 있는 라디칼에 의해 상기 단량체를 다시 중합시켜서 2차 중합체 입자를 얻는 방법이다.The spacer particle used for this invention is not limited. In preferable embodiment, it is particle | grains obtained by the precipitation polymerization method or the seed polymerization method. The precipitation polymerization method is a polymerization method in which a monomer is dissolved and a polymer based on the monomer is polymerized in the solvent in which the monomer is not dissolved to precipitate polymer particles. The seed polymerization method is a method of obtaining secondary polymer particles by swelling the polymer particles obtained by the precipitation polymerization method with a monomer, polymerizing the monomer again with a radical embedded in the polymer particles.

상기 석출 중합 및 시드 중합에 있어서는 단량체의 일부로서 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 테트라아릴옥시에탄 등의 다가 비닐 화합물을 사용한 가교 중합체 입자가 바람직하다. 가교 중합체 입자는 내용제성, 내열성이 양호하다. 상기 석출 중합 및 시드 중합에 있어서는, 액정 스페이서로서 적당한 진구상이며 또한 균일한 입도분포를 갖는 입자가 얻어지고, 특히 시드 중합에 있어서는 입경이 큰 진구상 입자가 얻어진다.In the precipitation polymerization and the seed polymerization, crosslinked polymer particles using polyvalent vinyl compounds such as divinylbenzene, diallyl phthalate and tetraaryloxyethane are preferable as part of the monomer. The crosslinked polymer particles have good solvent resistance and heat resistance. In the above-mentioned precipitation polymerization and seed polymerization, particles having a suitable spherical shape and uniform particle size distribution as a liquid crystal spacer are obtained. Particularly, in seed polymerization, spherical particles having a large particle size are obtained.

상기 입자 이외에 본 발명에 있어서는, 그 밖의 중합법으로 중합되는 중합체 입자, 유리 입자, 세라믹 입자, 금속 입자 등이 이용되어도 좋지만, 액정 스페이서로서는 상기한 바와 같이 상기 입자는 진구상이며 또한 입도분포가 균일한 것이 바람직하다.In the present invention, in addition to the particles, polymer particles, glass particles, ceramic particles, metal particles, and the like polymerized by other polymerization methods may be used. As the liquid crystal spacer, the particles are spherical and the particle size distribution is uniform. One is preferable.

이 입자에 부착층을 형성함으로써, 입자의 표면에, 후술하는 바와 같은 관능기를 도입할 수 있다.By forming an adhesion layer on these particles, functional groups as described later can be introduced into the surface of the particles.

이 부착층으로서 이용되는 재료로서는, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, iso-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, iso-부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 스테아릴메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, n-프로필비닐에테르, n-부틸비닐에테르, iso-부틸비닐에테르, 스티렌, α-메틸스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 초산비닐, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐, 불화비닐리덴, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 클로로프렌, 부타디엔 등의 중합 가능한 단량체의 단독 중합체 또는 상기 단량체의 2종이상의 공중합체로서 열가소성을 갖는 것이다.Examples of the material used as the adhesion layer include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, iso-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate and methyl meth. Acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, iso-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, iso-butyl vinyl ether, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride Having a thermoplastic as a homopolymer of a polymerizable monomer such as ethylene, propylene, isoprene, chloroprene, butadiene, or two or more copolymers of the monomer. Will.

이러한 열가소성 중합체 또는 공중합체는 가열에 의해 연화되어서 배향 기판표면에 양호한 부착성을 나타낸다. 또한 부착층의 재료로서는 글리시딜아크릴레이 트, 글리시딜메타크릴레이트, 글리시딜알릴에테르, 지환식 에폭시기를 함유하는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 등의 에폭시기 함유 단량체의 단독 중합체 또는 상기 에폭시기 함유 단량체의 2종이상의 공중합체, 또는 에폭시기 함유 단량체와 상기 에폭시기 함유 단량체 이외의 단량체와의 공중합체 등의 에폭시기 함유 중합체나, 폴리비닐알콜 등, 유리면 또는 폴리이미드 코팅 유리면에 친화성을 갖는 관능기를 갖는 중합체도 사용된다. 또 폴리비닐알콜은 초산비닐을 중합한 후 가수분해함으로써 얻어진다.These thermoplastic polymers or copolymers are softened by heating to show good adhesion to the surface of the orientation substrate. Moreover, as a material of an adhesion layer, homopolymer of epoxy group containing monomers, such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl allyl ether, and an acrylate or methacrylate containing an alicyclic epoxy group, or the said epoxy group containing Epoxy-group containing polymers, such as a copolymer of 2 or more types of monomers or a copolymer of an epoxy group containing monomer and monomers other than the said epoxy group containing monomer, and a functional group which has affinity to glass surfaces, such as polyvinyl alcohol, or a polyimide coated glass surface Polymers are also used. Polyvinyl alcohol is obtained by polymerizing vinyl acetate and then hydrolyzing it.

바람직한 실시형태에 있어서는, 스페이서 입자에 있어서, 입자표면과, 부착층을 구성하는 중합체를 공유결합에 의해 결합시킨다. 그 방법으로서는 그라프트 중합법, 및 고분자 반응법을 예시할 수 있다. 그라프트 중합법에 있어서는, 입자표면에 중합 가능한 비닐기를 도입하고, 상기 비닐기를 출발점으로 해서 상기 단량체를 중합하는 방법, 입자표면에 중합개시제를 도입하고, 상기 개시제에 의해 상기 단량체를 중합하는 방법의 두가지가 고려된다.In a preferred embodiment, in the spacer particles, the particle surface and the polymer constituting the adhesion layer are bonded by covalent bonding. As the method, a graft polymerization method and a polymer reaction method can be illustrated. In the graft polymerization method, a method of introducing a polymerizable vinyl group to the particle surface, polymerizing the monomer with the vinyl group as a starting point, a method of introducing a polymerization initiator to the particle surface, and polymerizing the monomer by the initiator. Two things are considered.

(1)비닐기 도입법 (1) Vinyl group introduction method

비닐기 도입법에 있어서는, 입자표면에 수산기, 카르복실기, 에폭시기, 실릴기, 실라놀기, 이소시아네이트기 등의 관능기를 존재시키고, 상기 관능기와 반응해서 공유결합할 수 있는 관능기를 갖는 단량체를 반응시킴으로써 비닐기를 도입한다.In the vinyl group introduction method, a vinyl group is introduced by reacting a monomer having a functional group capable of reacting covalently by reacting with a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, a silyl group, a silanol group, and an isocyanate group on the particle surface. do.

(2)개시제 도입법 (2) Initiator introduction method

입자표면에 상기 관능기를 존재시키고, 상기 관능기와 공유결합할 수 있는 관능기를 갖는 과산화물, 과수산화물, 아조 화합물 등의 개시제를 반응시킴으로써 개시제를 도입한다.An initiator is introduce | transduced by making the said functional group exist in a particle surface, and reacting initiators, such as a peroxide, a peroxide, an azo compound, which have a functional group which can covalently bond with the said functional group.

(3)관능기를 표면에 존재시키는 방법(3) Method to make functional group exist on surface

입자를 상기 석출 중합 혹은 시드 중합에 의해 제조하는 경우에는, 용제로서 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, sec-프로판올, t-부탄올 등의 알콜, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤 등의 극성용제를 사용하고, 상기 관능기를 갖는 단량체를 함유하는 단량체 혼합물을 중합한다. 이러한 중합에 의해 제조되는 입자는 표면에 관능기를 배향한다. 상기 관능기를 갖는 단량체로서는 하기와 같은 것이 있다. 카르복실기 함유 단량체로서는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레인산, 무수 말레인산, 시트라콘산 등이 있다. 수산기 함유 단량체로서는 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 알릴알콜 등이 있다. 에폭시기 함유 단량체로서는 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 글리시딜알릴에테르 등이 있다. 메티롤기 함유 단량체로서는 N-메티롤아크릴아미드, N-메티롤메타크릴아미드 등이 있다. 아미노기 함유 단량체로서는 디메틸아미노에틸아크릴레이트, 디메틸아미노에틸메타크릴레이트 등이 있다. 산아미드기 함유 단량체로서는, 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등이 있다. 실릴기 함유 단량체로서는 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, p-트리메톡시실릴스티렌, p-트리에톡시실릴스티렌, p-트리메톡시실릴-α-메틸스티렌, p-트리에톡시실릴-α-메틸스티렌, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸-γ-아미 노프로필)트리메톡시실란·염산염 등이 있다.When the particles are produced by the precipitation polymerization or the seed polymerization, polar solvents such as alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, sec-propanol and t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used as the solvent. And the monomer mixture containing the monomer which has the said functional group is polymerized. The particles produced by such polymerization orient the functional groups on the surface. Examples of the monomer having the functional group include the following ones. Examples of the carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride and citraconic acid. Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, allyl alcohol and the like. Examples of the epoxy group-containing monomers include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and glycidyl allyl ether. As a methirol group containing monomer, N-metholacrylamide, N-metholol methacrylamide, etc. are mentioned. Examples of the amino group-containing monomers include dimethylaminoethyl acrylate and dimethylaminoethyl methacrylate. Examples of the acid amide group-containing monomers include acrylamide and methacrylamide. Examples of the silyl group-containing monomer include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, p-trimethoxysilylstyrene, p-triethoxysilylstyrene, p-trimethoxysilyl-α-methylstyrene, p-triethoxysilyl-α-methylstyrene, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane Hydrochloric acid;

또한 실릴기를 도입하는 방법으로서는, 실라놀기, 수산기, 카르복실기 등의 활성 수소를 갖는 관능기를 표면에 갖는 입자에 실란가스를 반응시키는 방법도 적용된다.Moreover, as a method of introducing a silyl group, the method of making silane gas react with the particle | grains which have functional groups which have active hydrogen, such as a silanol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, on the surface is also applied.

상기 중합체 입자 이외에, 유리, 세라믹, 금속 등의 무기질 입자인 경우에는, 예를 들면 γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시트리프로필메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, p-트리메톡시실릴스티렌, 메틸트리클로로실란 등의 실란 커플링제에 의해 처리함으로써 실릴기를 표면에 도입할 수 있다.In addition to the polymer particles, in the case of inorganic particles such as glass, ceramics and metals, for example, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldisilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, The silyl group is treated by treating with a silane coupling agent such as γ-glycidoxy propylpropyl silane, γ-mercapto propyl trimethoxy silane, methyl trimethoxy silane, p-trimethoxy silyl styrene, methyl trichlorosilane, and the like. Can be introduced to the surface.

상기 실릴기를 표면에 도입한 중합체 입자 또는 무기질 입자는 알칼리 또는 산처리에 의해 실릴기를 가수분해함으로써, 실라놀기를 표면에 갖는 입자로 된다.The polymer particle or inorganic particle which introduce | transduced the said silyl group into the surface becomes a particle which has a silanol group on the surface by hydrolyzing a silyl group by alkali or acid treatment.

활성 에너지성 경화성 수지로서는, 폴리우레탄 구조를 갖는 올리고머에 아크릴레이트기를 결합시킨 우레탄아크릴레이트올리고머, 폴리에스테르 구조를 갖는 올리고머에 아크릴레이트기를 결합시킨 폴리에스테르아크릴레이트올리고머, 에폭시기를 갖는 올리고머에 아크릴레이트기를 결합시킨 에폭시아크릴레이트올리고머, 폴리우레탄 구조를 갖는 올리고머에 메타크릴레이트기를 결합시킨 우레탄메타크릴레이트올리고머, 폴리에스테르 구조를 갖는 올리고머에 메타크릴레이트기를 결합시킨 폴리에스테르메타크릴레이트올리고머, 에폭시기를 갖는 올리고머에 메타크릴레이트기를 결합시킨 에폭시메타크릴레이트올리고머, 아크릴레이트기를 갖는 폴리우레탄아크릴레이트, 아크릴레이트기를 갖는 폴리에스테르아크릴레이트, 아크릴레이트기 를 갖는 에폭시아크릴레이트 수지, 메타크릴레이트기를 갖는 폴리우레탄메타크릴레이트, 메타크릴레이트기를 갖는 폴리에스테르메타크릴레이트, 메타크릴레이트기를 갖는 에폭시메타크릴레이트 수지 등을 들 수 있다.Examples of the active energy curable resin include urethane acrylate oligomers in which an acrylate group is bonded to an oligomer having a polyurethane structure, polyester acrylate oligomers in which an acrylate group is bonded to an oligomer having a polyester structure, and an acrylate group in an oligomer having an epoxy group. Bonded epoxy acrylate oligomer, urethane methacrylate oligomer having methacrylate group bonded to oligomer having polyurethane structure, polyester methacrylate oligomer having methacrylate group bonded to oligomer having polyester structure, oligomer having epoxy group Epoxy methacrylate oligomers having a methacrylate group bonded thereto, a polyurethane acrylate having an acrylate group, a polyester acrylate having an acrylate group, and an acrylate group The epoxy acrylate resin which has, the polyurethane methacrylate which has a methacrylate group, the polyester methacrylate which has a methacrylate group, the epoxy methacrylate resin which has a methacrylate group, etc. are mentioned.

활성 에너지선 경화성 수지조성물에 혼합할 수 있는 광 라디칼 개시제(광중합 개시제)(E)는 광에 의해 라디칼을 발생하는 것이다. 이것은 불포화기 함유 폴리머, 단관능성 및 다관능성 모노머의 라디칼 중합을 개시시키는 것이 바람직하고, 감광성 수지분야에서 종래 공지의 라디칼 반응형 광중합 개시제를 모두 사용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 벤조페논, 아세토페논, 벤조인, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 2,4-디메틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 에틸안트라퀴논, 4,4'-비스디메틸아미노벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 사용하는 경화제(가교제)나 희석제의 타입에 맞춰 단독 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.The radical radical initiator (photoinitiator) (E) which can be mixed with an active energy ray curable resin composition generate | occur | produces a radical by light. It is preferable to start radical polymerization of an unsaturated group containing polymer, a monofunctional, and a polyfunctional monomer, and all the radical reaction type photoinitiators conventionally well-known in the photosensitive resin field can be used, and are not specifically limited. For example, benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin ethyl ether, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, ethyl anthraquinone, 4 , 4'-bisdimethylaminobenzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal and the like. These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 or more types according to the type of hardening | curing agent (crosslinking agent) and diluent to be used.

광중합 개시제의 사용량은 특별히 한정되지 않고, 통상, 자외선이나 전자선 등의 전리방사선으로 가교시키는 활성 에너지선 경화성 수지 100중량부당 0.01∼10중량부 정도의 비율로 사용된다.The usage-amount of a photoinitiator is not specifically limited, Usually, it is used in the ratio of about 0.01-10 weight part per 100 weight part of active energy ray curable resin bridge | crosslinked by ionizing radiation, such as an ultraviolet-ray or an electron beam.

활성 에너지선 경화성 수지조성물에 혼합할 수 있는 희석제(D)는 적어도 1개의 중합가능한 탄소-탄소 불포화결합을 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 이하의 모노머 중 1종 또는 2종이상을 사용할 수 있다:알릴아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시에틸렌글리콜아크릴레이트, 시클로 헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소덱실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올디아크릴레이트, 2,2-디메티롤프로판디아크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 글리세롤트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 폴리옥시에틸화 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리옥시프로필트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,2,4-부탄트리올트리아크릴레이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올디아크릴레이트, 디알릴푸말레이트, 1,10-데칸디올디메틸아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 아크릴레이트류, 및 상기의 아크릴레이트기를 메타크릴레이트기로 치환한 메타크릴레이트류; γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 1-비닐-2-피롤리돈, 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 3-부탄디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 히드록시피발린산 에스테르네오펜틸글리콜디아크릴레이 트, 페놀에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트, 페놀프로필렌옥사이드 변성 아크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈, 비스페놀A-에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트모노스테아레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 트리메티롤프로판프로필렌옥사이드 변성 트리아크릴레이트, 이소시아눌산 에틸렌옥사이드 변성 트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판에틸렌옥사이드 변성 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 등의 아크릴레이트모노머, 및, 이들 아크릴레이트기를 메타크릴레이트기로 치환한 메타크릴레이트.As the diluent (D) which can be mixed into the active energy ray-curable resin composition, a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond can be used. Specifically, 1 type, or 2 or more types of the following monomers can be used: allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate , 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, Uryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy ethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacryl Rate, 1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol acrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethyrolpropanediacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimetholpropane triacrylate, polyoxyethyl Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyltrimetholpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2, 4-butane triol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. Acrylates and methacrylates in which the acrylate group is substituted with a methacrylate group; γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, tetrahydrofurfuryl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl oxy Ethyl acrylate, 3-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxy pivalic acid ester neopentyl glycol diacrylate, phenol ethylene oxide modified acrylate, phenol propylene oxide modified acrylic Latex, N-vinyl-2-pyrrolidone, bisphenol A-ethylene oxide modified diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, tetraethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, trimetholpropane propylene Oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triac Acrylate monomers such as acrylate, trimetholpropane ethylene oxide modified triacrylate, pentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and methacryl substituted with these acrylate groups with methacrylate groups Rate.

또한 배향막과의 밀착성의 관점에서, 희석제(D)는 에폭시기를 갖는 것이 바람직하다. 예로서는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Moreover, from a viewpoint of adhesiveness with an oriented film, it is preferable that a diluent (D) has an epoxy group. As an example, 3, 4- epoxycyclohexyl methyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

희석제의 사용량은 특별히 한정되지 않고, 통상, 활성 에너지선 경화성 수지 100중량부당, 1∼200중량부의 비율로 사용된다.The usage-amount of a diluent is not specifically limited, Usually, it is used in the ratio of 1-200 weight part per 100 weight part of active energy ray curable resin.

(가열경화성 수지)(Heat curable resin)

가열경화성 수지로서는, 에폭시 수지(아민, 폴리아미드, 산무수물 등의 경화제), 폴리에스테르 수지와 멜라민 수지, 에폭시 수지와 멜라민 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include epoxy resins (curing agents such as amines, polyamides and acid anhydrides), polyester resins and melamine resins, epoxy resins and melamine resins.

에폭시 수지의 구체예로서는, 이하를 예시할 수 있다: 하이드로퀴논디글리시딜에테르, 카테콜디글리시딜에테르, 레조르시놀디글리시딜에테르, 페닐디글리시딜에테르, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 트리스히드록시 페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔디메탄올형 에폭시 수지, 비스페놀-A형 에폭시 수지, 비스페놀-F형 에폭시 수지, 비스페놀-S형 에폭시 수지, 2,2-비스(4-히드록시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판의 에폭시 화합물, 수소화 비스페놀-A형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀-F형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀-S형 에폭시 수지, 수소화 2,2-비스(4-히드록시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판의 에폭시 화합물, 브롬화 비스페놀-A형 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀-F형 에폭시 수지, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 화합물, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리설파이드디글리시딜에테르, 비페놀형 에폭시 수지, 비스페놀-A노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌골격 함유 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지.Specific examples of the epoxy resin include the following: hydroquinone diglycidyl ether, catechol diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, phenyl diglycidyl ether, phenol novolac type epoxy resin, Cresol novolac type epoxy resin, trishydroxy phenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene dimethanol type epoxy resin, bisphenol-A type epoxy resin, bisphenol-F type epoxy resin, bisphenol-S type epoxy resin, 2,2- Epoxy compound of bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, hydrogenated bisphenol-A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol-F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol-S type Epoxy Resin, Epoxy Compound of Hydrogenated 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, Brominated Bisphenol-A Epoxy Resin, Brominated Bisphenol-F Epoxy Resin, Cyclohexanedimethanol diglycidyl Ether compound, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polysulfide diglycidyl ether, biphenol type epoxy resin, bisphenol -A novolak type epoxy resin, naphthalene skeleton containing epoxy resin, heterocyclic epoxy resin.

또한, 상기의 에폭시 수지 외에, 지환식 에폭시 수지, 옥세탄 수지가 바람직하다. 지환식 에폭시 수지는 불포화기를 2개이상 갖는 환상 지방족 불포화 화합물에 과초산을 작용시켜서 얻어지는, 옥시란환을 갖는 옥사이드류로서, 시클로헥센환의 이중결합을 에폭시화한 타입의 에폭시 수지가 대표적이며, 또, 1분자중에 에폭시기를 2개이상 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를들면, 3,4-에폭시시클로헥실메틸; 3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(UCC사제 상품명 UVR6110 및 U VR6105, 다이셀 카가쿠(주)제 상품명 CELLOXIDE2021 등), 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트(UCC사제 상품명 UVR6128 등), ε-카프로락톤 변성 3,4-에폭시시클로헥실메틸; 3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(다이셀 카가쿠(주)제 상품명 CELLOXIDE2081 등), 1-메틸-4-(2-메틸옥시라닐)-7-옥사비시클로[4.4.0]헵탄(다이셀 카가쿠(주)제 상품명 CELLOXIDE3000 등)을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다. Moreover, in addition to said epoxy resin, alicyclic epoxy resin and oxetane resin are preferable. An alicyclic epoxy resin is an oxide which has an oxirane ring obtained by making peracetic acid react with the cyclic aliphatic unsaturated compound which has two or more unsaturated groups, The epoxy resin of the type which epoxidized the double bond of the cyclohexene ring is typical, and It is preferable to have 2 or more epoxy groups in 1 molecule. Specifically, For example, 3, 4- epoxycyclohexyl methyl; 3 ', 4'- epoxycyclohexane carboxylate (trade name UVR6110 and U VR6105 made by UCC Corporation, brand name CELLOXIDE2021 made by Daicel Kagaku Co., Ltd.), bis (3, 4- epoxycyclohexyl methyl) adipate (product made by UCC Corporation) UVR6128 etc.), (epsilon) -caprolactone modified 3, 4- epoxycyclohexylmethyl; 3 ', 4'- epoxycyclohexane carboxylate (trade name CELLOXIDE2081 made from Daicel Kagaku Co., Ltd.), 1-methyl-4- (2-methyloxyranyl) -7-oxabicyclo [4.4.0] Heptane (trade name CELLOXIDE3000 by Daicel Kagaku Co., Ltd.) can be used preferably. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

옥세탄 화합물은, 분자내에 1이상의 옥세탄환을 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄(도아고세이(주)제 상품명 OXT101 등), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠(동 OXT121 등), 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄(동 OXT211 등), 디(1-에틸-3-옥세타닐)메틸에테르(동 OXT221 등), 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄(동 OXT212 등) 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 특히, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디(1-에틸-3-옥세타닐)메틸에테르를 바람직하게 사용할 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.An oxetane compound is a compound which has 1 or more oxetane ring in a molecule | numerator. Specifically, 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane (trade name: OXT101 manufactured by Doagosei Co., Ltd.), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene ( Copper OXT121 etc.), 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane (such as copper OXT211), di (1-ethyl-3-oxetanyl) methyl ether (such as copper OXT221), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane (such as copper OXT212) can be preferably used, and 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane And di (1-ethyl-3-oxetanyl) methyl ether can be preferably used. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

폴리머폴리올에는 특별히 제한은 없다. 예를 들면 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 및 폴리테트라메틸렌글리콜 등에서 선택되는 적어도 1종의 폴리에테르계 폴리올, 다가알콜과 다염기산의 에스테르에서 선택되는 적어도 1종류의 폴리에스테르계 폴리올, 헥사메틸렌카보네이트 및 펜타메틸렌카보네이트에서 선택되는 적어도 1종류의 폴리카보네이트계 폴리올, 폴리카프로락톤폴리올 및 폴리부틸로락톤폴리올에서 선택되는 적어도 1종류의 폴리락톤계 폴리올이 바람직하다. There is no restriction | limiting in particular in a polymer polyol. For example, at least one polyether polyol selected from polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and the like, at least one polyester polyol, hexamethylene carbonate and penta selected from esters of polyhydric alcohols and polybasic acids. At least one polycarbonate polyol selected from methylene carbonate, polycaprolactone polyol and at least one polylactone polyol selected from polybutylolactone polyol are preferred.

이들 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리카보네이트계 폴리올 및 폴리락톤계 폴리올 중에서 1종류를 선택하거나, 또는 복수종류를 조합할 수 있다. One kind can be selected from these polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, and polylactone polyol, or multiple types can be combined.

멜라민 수지로서는, 예를 들면 메틸에테르화 멜라민 수지, 부틸에테르화 멜 라민 수지, 이소부틸에테르화 멜라민 수지, 부틸에테르화 벤조구아나민 수지 등의 아미노 수지 등을 들 수 있고, 이들의 1종 또는 2종이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서의 아미노 수지로서는, 시판품으로서 산와케미컬의 니카락 MS-21, MS-11, MW-24, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-708, MX-706, MX-042, MX-410, 미츠이 사이테크의 사이멜 370, 771, 325, 327, 703, 712, 715, 701, 202, 207 등을 들 수 있다.As melamine resin, amino resin, such as a methyl ether melamine resin, a butyl ether melamine resin, an isobutyl ether melamine resin, a butyl ether benzoguanamine resin, etc. are mentioned, for example, 1 type or 2 of these Papery mixtures can be used. As the amino resin in the present invention, commercially available Niwarak MS-21, MS-11, MW-24, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-708, MX- 706, MX-042, MX-410, Mitsui Cytec's Cymel 370, 771, 325, 327, 703, 712, 715, 701, 202, 207, etc. are mentioned.

가열경화성 수지에는 경화제나 산촉매를 첨가할 수 있다. 이러한 경화제로서는, 산무수물, 아민계 경화제, 양이온계 경화제를 예시할 수 있다.A hardening | curing agent and an acidic catalyst can be added to thermosetting resin. As such a hardening | curing agent, an acid anhydride, an amine hardening | curing agent, and a cationic hardening | curing agent can be illustrated.

산무수물계 경화제의 구체예로서는, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 벤조페논테트라카르복실산 무수물, 에틸렌글리콜 무수 트리멜리트산 무수물, 비페닐테트라카르복실산 무수물 등의 방향족 카르복실산 무수물, 아제라인산, 세바신산, 도데칸이산 등의 지방족 카르복실산의 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물, 나드산 무수물, 헤트산 무수물, 하이믹산 무수물 등의 지환식 카르복실산 무수물을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride curing agent include aromatic carboxylic acids such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol anhydrous trimellitic anhydride, and biphenyltetracarboxylic anhydride. Alicyclic carboxylic acid anhydrides such as anhydrides of aliphatic carboxylic acids such as anhydrides, azeline acid, sebacic acid, and dodecaneic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, hetic anhydride and hymic acid anhydride Can be mentioned.

아민계 경화제의 구체예로서는, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, m-크실릴렌디아민 등의 방향족 아민, 에틸렌디아민, 디에틸렌디아민, 이소포론디아민, 비스(4-아미노-3-메틸디시클로헥실)메탄, 폴리에테르디아민 등의 지방족 아민, 디시안디아미드, 1-(o-톨릴)비구아니드 등의 비구아니딘류를 들 수 있다.Specific examples of the amine curing agent include diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenyl ether, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene , aromatic amines such as m-xylylenediamine, aliphatic amines such as ethylenediamine, diethylenediamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, polyetherdiamine, dicyandiamide, Biguanides, such as 1- (o-tolyl) biguanide, are mentioned.

촉매로서는, 제3급 아민류(트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 디메틸벤질아민, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데칸(DBU)), 이미다졸류 등이 대표적이다.As catalysts, tertiary amines (tris (dimethylaminomethyl) phenol, dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecane (DBU)), imidazoles and the like are typical.

산촉매로서는, 파라톨루엔술폰산, 도데실벤젠술폰산, 디노닐나프탈렌술폰산, 디노닐나프탈렌디술폰산, 부틸인산, 옥틸인산 등의 산, 이들 산의 아민 중화물 등이 바람직하다.As the acid catalyst, acids such as paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, butyl phosphoric acid, octyl phosphoric acid, and amine neutralization of these acids are preferable.

(양이온 중합성 수지)Cationic Polymerizable Resin

양이온 중합 수지로서는, 예를 들면 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 옥소란 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 락톤 화합물, 티이란(thiirane) 화합물, 티에탄 화합물, 비닐에테르 화합물, 에폭시 화합물과 락톤의 반응생성물인 스피로올소에스테르 화합물, 에틸렌성 불포화 화합물, 환상 에테르 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the cationic polymerization resin include epoxy compounds, oxetane compounds, oxolane compounds, cyclic acetal compounds, cyclic lactone compounds, thiirane compounds, thiethane compounds, vinyl ether compounds, reaction products of epoxy compounds and lactones. Spirolosoester compounds, ethylenically unsaturated compounds, cyclic ether compounds, cyclic thioether compounds, vinyl compounds and the like.

양이온 중합 수지에는, 희석제(H) 및/또는 광 양이온 개시제(I)를 혼합하는 것이 바람직하다.It is preferable to mix a diluent (H) and / or a photocationic initiator (I) with cationic polymerization resin.

광 양이온 중합 개시제(I)로서는, 예를 들면 아릴디아조늄염형 화합물, 트리아릴술포늄염형 화합물, 디아릴요오드늄염형 화합물 등을 들 수 있다.As a photocationic polymerization initiator (I), an aryldiazonium salt type compound, a triarylsulfonium salt type compound, a diaryl iodonium salt type compound, etc. are mentioned, for example.

희석제(H)로서는, 알킬페놀모노글리시딜에테르, 알킬모노글리시딜에테르, 디프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of the diluent (H) include alkylphenol monoglycidyl ether, alkyl monoglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and trimeth. Tyrol propane triglycidyl ether, 1, 6- hexanediol glycidyl ether, etc. are mentioned.

광 양이온 중합개시제의 사용량은 특별히 한정되지 않고, 통상, 활성 에너지 선 경화성 수지 100중량부당 0.1∼10중량부의 비율로 사용된다.The usage-amount of a photocationic polymerization initiator is not specifically limited, Usually, it is used in the ratio of 0.1-10 weight part per 100 weight part of active energy ray curable resin.

희석제의 사용량은 특별히 한정되지 않고, 통상, 활성 에너지선 경화성 수지100중량부당 1∼40중량부의 비율로 사용된다.The usage-amount of a diluent is not specifically limited, Usually, it is used in the ratio of 1-40 weight part per 100 weight part of active energy ray curable resin.

실시예Example

(실시예1)Example 1

스페이서 입자(A), 수지성분(B), 자외선 라디칼 개시제를 혼합하여 잉크를 제작했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이며, 수지성분(B)은 이소시아네이트기 함유 우레탄아크릴레이트이며, 개시제는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온「다로큐아 1173(치바가이기사제)이다. 이 혼합물을 일본 특허공개 2000-35582호에 기재된 그라비어 오프셋 인쇄법으로 필터 기판상에 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 80℃에서 10분간 프리히트하고, 계속해서 1000mj/cm로 자외선을 조사했다. 얻어진 스페이서의 평가결과를 표1, 표2에 나타낸다.The spacer particle (A), the resin component (B), and the ultraviolet radical initiator were mixed to prepare an ink. The functional group of the particle (A) is a hydroxyl group, the resin component (B) is an isocyanate group-containing urethane acrylate, and the initiator is 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one `` Darocure 1173 (Cibaga Knight made). This mixture was printed on the filter substrate by the gravure offset printing method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-35582, and cured to place the spacer on the BM. Specifically, it preheated at 80 degreeC for 10 minutes, and the ultraviolet-ray was continuously irradiated at 1000mj / cm. The evaluation results of the obtained spacers are shown in Tables 1 and 2.

(평가방법)(Assessment Methods)

(바인더와 스페이서간의 밀착)(Close contact between binder and spacer)

프레파라트상에서 잉크를 경화시킨 후, 프레파라트를 나눔으로써, 잉크 단면을 제작하고, 주사형 전자현미경에 의해 바인더 수지와 스페이서 계면에서의 박리의 유무를 관찰했다. 「○」는 박리 없음, 「△」는 일부 박리, 「×」는 완전 박리를 나타낸다.After the ink was cured on the preparat, the preparat was divided to prepare an ink cross section, and the presence or absence of peeling at the binder resin and the spacer interface was observed by a scanning electron microscope. "(Circle)" shows no peeling, "(triangle | delta)" shows partial peeling, and "x" shows complete peeling.

(잉크와 배향 기판의 밀착)(Adhesion between Ink and Orientation Substrate)

배향 기판상에 잉크를 인쇄후, 셀로판 테이프 박리를 행하고, 인쇄 도트의 박리의 유무를 광학현미경으로 관찰했다. 「○」는 박리 없음, 「△」는 일부 박리, 「×」는 완전 박리를 나타낸다.After printing ink on an orientation board | substrate, cellophane tape peeling was performed and the presence or absence of peeling of the printing dot was observed with the optical microscope. "(Circle)" shows no peeling, "(triangle | delta)" shows partial peeling, and "x" shows complete peeling.

(광손실) (Light loss)

ITO/폴리이미드 배향막을 표면에 형성하고, 러빙처리를 실시한 기판에 인쇄기에 의해 잉크를 BM상으로 되도록 인쇄하고, 소정의 조건에서의 가열처리를 행했다. 그 후 시일제를 기판 주변부에 인쇄하고 정법에 의해 기판을 접합하여, 액정(메르크사제 ZLI-2293(S078W))을 셀에 주입함으로써 STN 액정패널을 제작했다.An ITO / polyimide alignment film was formed on the surface, the ink was printed on the substrate subjected to the rubbing treatment so as to be in the form of BM by a printing machine, and heat treatment was performed under predetermined conditions. Then, the sealing compound was printed on the board | substrate periphery, the board | substrate was bonded by the normal method, and STN liquid crystal panel was produced by inject | pouring a liquid crystal (ZLI-2293 (S078W) by Merck company) into a cell.

제조한 액정패널에 대해서, 점등시의 액정 스페이서 둘레의 배향이상을 관찰·평가했다.About the produced liquid crystal panel, the orientation abnormality of the circumference | surroundings of the liquid crystal spacer at the time of lighting was observed and evaluated.

즉 상기 방법에 의해 제작된 액정패널에 대하여, 50V, 1초의 직류전압(DC)을 인가해서, 인가전후에서 액정 스페이서 둘레의 배향이상(광손실상태)의 변화를 평가했다.That is, 50V and 1 second DC voltage (DC) was applied to the liquid crystal panel produced by the above method, and the change of the orientation abnormality (light loss state) around the liquid crystal spacer was evaluated before and after application.

「○」는 광손실 미발생이며, 「△」는 일부에서 광손실을 확인할 수 있는 상태이며, 「×」는 광손실 있음이다."(Circle)" has no light loss, "(triangle | delta)" is a state which can confirm light loss in some parts, and "x" has light loss.

또, 광손실 평가에서 제작한 패널과 동일 조건으로, 패널 외관으로부터 「갭편차」를 판정했다.Moreover, "gap deviation" was determined from the panel appearance on the same conditions as the panel produced by the optical loss evaluation.

이 평가는 「○」가 갭편차 없음이며, 「×」가 갭편차 있음이다.In this evaluation, "(circle)" has no gap deviation, and "x" has gap gap.

(액정 오염성)(Liquid crystal contamination)

샘플병에 소정량의 잉크 경화물과 소정량의 LC(메르크사제 ZLI-4792)를 넣고, 건조기내에서 가열촉진 처리한다. 액정에 대해서 수지경화 고형물(희석제는 제 외)을 5%로 한다. 이하의 조건으로 가열촉진하여 액정오염을 측정했다.A predetermined amount of ink cured product and a predetermined amount of LC (ZLI-4792, manufactured by Merck Co., Ltd.) are placed in a sample bottle, and heat accelerated treatment is carried out in a dryer. Resin-cured solids (excluding diluents) are 5% with respect to the liquid crystal. The liquid crystal contamination was measured by heating promotion under the following conditions.

가열촉진 조건:80℃-7hr Heat promotion condition: 80 ℃ -7hr

비저항측정 DC 20V-5sec 인가 저항치 측정장치:액체전극(안도덴키제 LE21) 고저항 측정장치(케스레이 SR-6517)Resistivity measurement DC 20V-5sec Applied resistance value measuring device: Liquid electrode (LE21 manufactured by Ando Denki) High resistance measuring device (Kesray SR-6517)

평가:블랭크와의 차가 ○:거의 없음 △:약간 한자리수이내, ×:한자리수이상Evaluation: The difference with a blank ○: Almost none △: Less than one digit, X: More than one digit

(내충격성) (Impact resistance)

「광손실 평가」에서 제작한 패널에 충격을 가하고, 그 후의 광손실을 평가했다.The panel produced in "light loss evaluation" was shocked, and subsequent light loss was evaluated.

(표1)Table 1

Figure 112005069834874-PCT00001
Figure 112005069834874-PCT00001

(표2)Table 2

Figure 112005069834874-PCT00002
Figure 112005069834874-PCT00002

이 결과, 실시예1에 있어서는, 액정오염이 억제되었다.As a result, in Example 1, liquid crystal contamination was suppressed.

(실시예2)Example 2

실시예1과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 수지성분(B)으로서는 에폭시 수지를 사용하고, 산무수물 경화제로서 메틸테트라히드로프탈산 무수물 「에포라이트 B-570」(다이니폰잉크사제), 촉매로서 방향족 3급 아민을 혼합했다. 이 혼합물을 실시예1과 동일하게 해서 인쇄를 행하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 200℃에서 60분간 가열함으로써 경화시켰다.The same spacer particles (A) as in Example 1 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. As the resin component (B), an epoxy resin was used, and as the acid anhydride curing agent, methyltetrahydrophthalic anhydride "Epolite B-570" (manufactured by Dainippon Ink, Inc.) and an aromatic tertiary amine were mixed as a catalyst. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it was cured by heating at 200 ° C. for 60 minutes.

이 결과, 수지와 스페이서 입자의 밀착성, 잉크와 배향막의 밀착성도 향상되었다.As a result, the adhesiveness of resin and a spacer particle and the adhesiveness of an ink and an orientation film also improved.

(실시예3-1)Example 3-1

실시예1과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 수지성분(B)으로서 「프락셀 410D」(폴리카프로락톤테트라올:다이셀 카가쿠고교사제), 「에피코트 1001」(에폭시 수지, 재팬에폭시레진사제), 「사이멜 303」(멜라민 수지, 미츠이 사이테크사제)을 사용하고, 산촉매로서 파라톨루엔술폰산을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예와 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 150℃에서 30분간 가열함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 1 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. As the resin component (B) "Fraccel 410D" (polycaprolactone tetraol: manufactured by Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd.), "Epicoat 1001" (Epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), "Simel 303" (melamine resin, Mitsui Manufactured by Scitech Co., Ltd., and paratoluenesulfonic acid were mixed as an acid catalyst. This mixture was printed in the same manner as in Example, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it hardened | cured by heating at 150 degreeC for 30 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예3-2)Example 3-2

일본 특허 제3417681호의 실시예7(표면에 에폭시기를 갖는 입자의 합성)과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 에폭시기이다. 수지성분(B)으로서 「에피코트 828」(비스페놀A타입 에폭시 수지, 재팬에폭시레진사제)을 사용하고, 아민계 경화제로서 「H30」(케티민타입의 아민계 경화제, 재팬에폭시레진사제)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄를 행하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 150℃에서 30분간 가열함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particle (A) as Example 7 (synthesis | combination of particle | grains which have an epoxy group in the surface) of Japanese Patent No. 3417681 was used. The functional group of particle | grains (A) is an epoxy group. "E30" (bisphenol A type epoxy resin, product made by Japan epoxy resin) is used as a resin component (B), and "H30" (amine type curing agent of ketimine type, product made by Japan epoxy resin company) is mixed as an amine curing agent. did. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it hardened | cured by heating at 150 degreeC for 30 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예4)Example 4

실시예1과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 에폭시 수지성분(B)으로서 「에포리드 GT403」(다관능 지환식 에폭시 수지, 다이셀 카가쿠고교사제)을 사용하고, 중합개시제로서 「산에이드 SI-100L」(방향족 술포늄염형 화합물)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄를 행 하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 150℃에서 30분간 가열함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 1 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. "Epoxide GT403" (polyfunctional alicyclic epoxy resin, manufactured by Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd.) is used as the epoxy resin component (B), and "acid aid SI-100L" (aromatic sulfonium salt compound) is mixed as a polymerization initiator. did. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it hardened | cured by heating at 150 degreeC for 30 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예5)Example 5

입자표면을 MOI(2-이소시아네이트에틸메타크릴레이트, 쇼와덴코사제) 및 KBM5103(γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 신에쓰가가쿠사제)에 의해 표면처리해서 불포화기를 도입한 스페이서 입자(A)를 사용했다. 수지(B)로서는 자외선 경화형 수지 「M305」(펜타에리스리톨트리아크릴레이트:도아고세이사제)를 사용하고, 광 라디칼 중합개시제(2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온)「다로큐아 1173」(치바가이기사제)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄를 행하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm의 자외선을 조사함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The particle surface was surface-treated with MOI (2-isocyanate ethyl methacrylate, Showa Denko make) and KBM5103 ((gamma) -acryloxypropyl trimethoxysilane, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) spacer particle which introduced the unsaturated group (A ) As the resin (B), an ultraviolet ray-curable resin "M305" (pentaerythritol triacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used, and a radical photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one) was used. "Darocure 1173" (made by Chiba Kaiki). This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it was cured by irradiating 1000 mj / cm of ultraviolet rays. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예6)Example 6

실시예5와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 수지(B)로서는, 에폭시기 및 불포화기 함유 페놀노볼락 수지 「ENA」(카가와 케이컬사제)를 사용하고, 또한 희석제(D)로서 자외선 경화형 모노머「M210」(비스페놀A형 EO변성 디아크릴레이트, 도아고세이사제) 및 광 라디칼 중합개시제(2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온)「다로큐아 1173」(치바가이기사제)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄를 행하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm의 자외선을 조사함으로써 경화시키고, 다시 150℃에서 30분간 가열해서 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 5 were used. As the resin (B), an epoxy group and an unsaturated group-containing phenol novolak resin "ENA" (manufactured by Kagawa Chemical) were used, and as the diluent (D), an ultraviolet curable monomer "M210" (bisphenol A type EO modified diacrylate, Toagosei Co., Ltd.) and the radical photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one) "Darocure 1173" (made by Chiba-Geigi Co., Ltd.) were mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, it was hardened by irradiating 1000mj / cm ultraviolet-ray, and it hardened again by heating at 150 degreeC for 30 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예7)Example 7

실시예5와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 수지(B)로서는, 아크릴레이트「M7100」(폴리에스테르아크릴레이트, 도아고세이사제)을 사용하고, 또한 희석제(D)로서 자외선 경화형 모노머「4HBAGE」(4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르, 니혼카세이사제) 및 광 라디칼 중합개시제(2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온)「다로큐아 1173」(치바가이기사제)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm의 자외선을 조사함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 5 were used. As the resin (B), an acrylate "M7100" (polyester acrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used, and as the diluent (D), an ultraviolet curable monomer "4HBAGE" (4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, Nihon Kasei Co., Ltd.) and the radical photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one) "Darocure 1173" (made by Chiba-Geigi Co., Ltd.) were mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, it was cured by irradiating 1000 mj / cm of ultraviolet rays. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예8)Example 8

실시예3-2와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 에폭시기이다. 수지(B)로서는, 「에포라이트 828」(에폭시 수지, 재팬에폭시레진사제), 및 「OXT-101」(3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 도아고세이사제)을 사용하고, 또한, 광 양이온 중합개시제 「산에이드 SI-100L」(방향족 술포늄염형 화합물)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm의 자외선을 조사하고, 계속해서 150℃에서 30분간 열처리함으로써 경화시켰다. 이 결과, 수지와 스페이서 입자의 밀착성이 향상되고, 액정오염도 억제되었다.The same spacer particles (A) as in Example 3-2 were used. The functional group of particle | grains (A) is an epoxy group. As resin (B), "Epolite 828" (epoxy resin, the Japan epoxy resin company make) and "OXT-101" (3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane, the product made by Toagosei Co., Ltd.) are used, Photocationic polymerization initiator "acid aid SI-100L" (aromatic sulfonium salt compound) was mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, it was cured by irradiating with 1000 mj / cm of ultraviolet rays, followed by heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. As a result, the adhesiveness of resin and spacer particle improved, and liquid-crystal contamination was also suppressed.

(실시예9)Example 9

실시예3-2와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 에폭시 기이다. 수지(B)로서는, 지환식 에폭시 수지「GT301」(다이셀 카가쿠사)을 사용하고, 또한 광 양이온 중합개시제 「산에이드 SI-100L」(방향족 술포늄염형 화합물)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm의 자외선을 조사하고, 계속해서 120℃에서 15분간 열처리함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 3-2 were used. The functional group of particle | grain (A) is an epoxy group. As resin (B), alicyclic epoxy resin "GT301" (Diecel Kagaku Co., Ltd.) was used, and the photocationic polymerization initiator "acid aid SI-100L" (aromatic sulfonium salt type compound) was mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, it was cured by irradiating with 1000 mj / cm of ultraviolet rays, followed by heat treatment at 120 ° C. for 15 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예10)Example 10

실시예2와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 수지(B)로서는, 「에피코트 806」(비스페놀F타입 에폭시 수지:재팬에폭시레진사제)을 사용하고, 또한 광 양이온 중합개시제 「산에이드 SI-100L」(방향족 술포늄염형 화합물)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj /cm의 자외선을 조사하고, 계속해서 120℃에서 15분간 열처리함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 2 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. As resin (B), "Epicoat 806" (bisphenol F type epoxy resin: Japan epoxy resin company) was used, and the photocationic polymerization initiator "acid aid SI-100L" (aromatic sulfonium salt type compound) was mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, it was cured by irradiating an ultraviolet ray of 1000mj / cm, followed by heat treatment at 120 ° C for 15 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예11)Example 11

실시예3-2와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 에폭시기이다. 수지(B)로서는, 「에피코트 806」(비스페놀F형 에폭시 수지, 재팬에폭시레진사제)을 사용하고, 또한 희석제(2관능성 에폭시 수지 「에피크론 720」(네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 다이니폰잉크사제) 및 광 양이온 중합개시제 「산에이드 SI-100L(방향족 술포늄형 화합물)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 1000mj/cm 의 자외선을 조사하고, 계속해서 120℃에서 15분간 열처리함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 3-2 were used. The functional group of particle | grains (A) is an epoxy group. As the resin (B), an epicoat 806 (bisphenol F type epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used, and a diluent (bifunctional epoxy resin `` Epicron 720 '' (neopentyl glycol diglycidyl ether, Dainippon Ink, Inc.) and the photo cationic polymerization initiator "San-Ade SI-100L (aromatic sulfonium compound). This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and spacers were placed on BM. Specifically, UV was irradiated at 1000mj / cm and then cured by heat treatment at 120 ° C. for 15 minutes, as a result, good characteristics were obtained.

(실시예12)Example 12

실시예3-2와 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 에폭시기이다. 수지(B)로서는, 일부 COOH기를 갖는 폴리카프로락톤테트라올에폭시 수지를 사용했다. 이 수지는, 「프락셀 410D」(폴리카프로락톤테트라올, 다이셀 카가쿠고교사제)에 메틸테트라히드로프탈산 무수물 「에포라이트 B-570」(다이니폰잉크사제)을 반응시킨 것이다. 또, 「폴리드 GT403」(다관능성 지환식 에폭시 수지, 다이셀 카가쿠고교사제)을 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 180℃에서 60분간 가열함으로써 경화시켰다. 이 결과, 양호한 특성이 얻어졌다.The same spacer particles (A) as in Example 3-2 were used. The functional group of particle | grains (A) is an epoxy group. As the resin (B), polycaprolactone tetraol epoxy resin having a partial COOH group was used. This resin is made to react methyl tetrahydro phthalic anhydride "Epolite B-570" (made by Dainippon Ink, Inc.) with "Fraccel 410D" (polycaprolactone tetraol, the Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd. make). Moreover, "Polyde GT403" (a polyfunctional alicyclic epoxy resin and the Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, the mixture was cured by heating at 180 ° C. for 60 minutes. As a result, good characteristics were obtained.

(실시예13)Example 13

실시예5와 같은 스페이서 입자(A)와 광 라디칼 중합개시제를 사용하고, 수지(B)로서는, 자외선 경화형 수지 「M350」(트리메티롤프로판 EO변성 트리아크릴레이트:도아고세이사제)을 사용했다. 잉크젯에 적합한 점도로 하기 위해서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르로 희석해서 스페이서 입자 분산액을 얻었다.The same spacer particles (A) as in Example 5 and an optical radical polymerization initiator were used, and as the resin (B), ultraviolet curable resin "M350" (trimetholpropane EO-modified triacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used. In order to make it suitable viscosity for inkjet, it diluted with propylene glycol monomethyl ether and obtained the spacer particle dispersion liquid.

얻어진 분산액을 공지의 잉크젯장치를 이용하여 기판에 토출시키고, 120℃에서 30분간 예비건조한 후에, 1000mj/cm로 자외선을 조사함으로써 경화시키고, 그 후 150℃에서 30분간 애프터 베이킹을 행했다.The obtained dispersion liquid was discharged to a board | substrate using a well-known inkjet apparatus, and it preliminarily dried at 120 degreeC for 30 minutes, and it hardened | cured by irradiating an ultraviolet-ray at 1000mj / cm, and after-baking was performed at 150 degreeC for 30 minutes.

(비교예1)(Comparative Example 1)

실시예1과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 수지(B)로서는, 폴리에스테르아크릴레이트 「M7100」(도아고세이사제)을 사용하고, 고비점 용매(프로필렌글리콜디아세테이트) 및 광 라디칼 개시제를 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 80℃에서 10분간 가열한 후, 1000mj/cm의 자외선을 조사 함으로써 경화시켰다. The same spacer particles (A) as in Example 1 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. As resin (B), polyester acrylate "M7100" (made by Toagosei Co., Ltd.) was used, and the high boiling point solvent (propylene glycol diacetate) and the photoradical initiator were mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, the mixture was heated at 80 ° C. for 10 minutes and then cured by irradiating with 1000 mj / cm of ultraviolet rays.

이 결과, 스페이서 입자와 수지의 밀착성, 잉크와 배향막의 밀착성이 낮고, 광손실, 갭편차가 보여지고, 액정오염도 확인되었다.As a result, the adhesion between the spacer particles and the resin, the adhesion between the ink and the alignment film were low, light loss and gap deviation were observed, and liquid crystal contamination was also confirmed.

(실시예14)Example 14

실시예1과 같은 스페이서 입자(A)를 사용했다. 입자(A)의 관능기는 수산기이다. 수지(B)로서는 멜라민폴리에스테르 수지를 사용하고, 고비점 알콜 용매를 혼합했다. 이 혼합물을, 실시예1과 동일하게 해서 인쇄하고, 경화시켜서 스페이서를 BM상에 배치했다. 구체적으로는, 210℃에서 60분간 가열함으로써 경화시켰다. The same spacer particles (A) as in Example 1 were used. The functional group of particle | grains (A) is a hydroxyl group. As resin (B), melamine polyester resin was used and the high boiling point alcohol solvent was mixed. This mixture was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the spacer was placed on BM. Specifically, it was cured by heating at 210 ° C. for 60 minutes.

이 결과, 스페이서 입자와 수지의 밀착성이 양호하고, 잉크와 배향막의 밀착성은 약간 낮고, 광손실, 갭편차, 액정오염도 약간 보여졌다. As a result, the adhesion between the spacer particles and the resin was good, the adhesion between the ink and the alignment film was slightly low, and light loss, gap deviation, and liquid crystal contamination were also slightly observed.

(비교예2)(Comparative Example 2)

실시예13에서 사용한 스페이서 입자를, 실시예1에서 사용한 입자로 변경했다. 이밖에는 실시예13과 동일하게 해서 실험을 행했다. 이 결과, 스페이서 입자와 바인더 수지의 밀착성이 낮고, 또 내충격성이 낮았다. 잉크와 배향막의 밀착성은 약간 낮고, 광손실, 갭편차, 액정오염도 약간 보여졌다. The spacer particles used in Example 13 were changed to the particles used in Example 1. Other experiments were conducted in the same manner as in Example 13. As a result, the adhesiveness of spacer particle and binder resin was low, and impact resistance was low. The adhesion between the ink and the alignment film was slightly low, and light loss, gap deviation, and liquid crystal contamination were also slightly seen.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 인쇄방식에 의한 스페이서 형성법에 있어서, 스페이서 입자와 바인더 수지의 밀착성을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the adhesion between the spacer particles and the binder resin can be improved in the spacer forming method by the printing method.

Claims (13)

인쇄법에 있어서 사용되는 스페이서 형성용 잉크로서,As ink for spacer formation used in the printing method, A:스페이서 입자; 및A: spacer particles; And C:상기 스페이서 입자를 분산시키는 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지배합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 스페이서 형성용 잉크.C: An ink for forming a spacer, comprising a thermosetting or active energy ray-curable resin mixture for dispersing the spacer particles. 제1항에 있어서, 상기 수지배합물(C)은 상기 입자(A)와 화학반응 가능한 관능기를 함유하는 성분을 1종이상 함유하는 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to claim 1, wherein the resin mixture (C) contains at least one component containing a functional group capable of chemical reaction with the particles (A). 제2항에 있어서, 상기 성분은 가열에 의해 반응 가능한 관능기(b)를 갖는 1종 또는 2종이상의 수지(B)이며, 상기 입자(A)는 상기 관능기(b)와 반응 가능한 관능기(a)를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 잉크.The said component is 1 type (s) or 2 or more types of resin (B) which has the functional group (b) which can react by heating, and the said particle | grain (A) is the functional group (a) which can react with the said functional group (b) Ink which has a. 제3항에 있어서, 상기 수지(B)의 상기 관능기(b)는 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1)인 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to claim 3, wherein the functional group (b) of the resin (B) is a functional group (b1) capable of reacting with a functional group remaining in the alignment film. 제4항에 있어서, 상기 관능기(b1)가 에폭시기이며, 상기 입자(A)의 상기 관능기(a)는 에폭시기와 반응 가능한 관능기(a1)인 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to claim 4, wherein the functional group (b1) is an epoxy group, and the functional group (a) of the particle (A) is a functional group (a1) capable of reacting with an epoxy group. 제2항에 있어서, 상기 성분은 활성 에너지선에 의해 반응 가능한 관능기(b')를 갖는 1종 또는 2종이상의 수지(B)이며, 상기 입자(A)는 상기 관능기(b')와 반응 가능한 관능기(a')를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 잉크.The said component is 1 type (s) or 2 or more types of resin (B) which has a functional group (b ') which can react with an active energy ray, and the said particle | grains (A) can react with the said functional group (b'). Ink which has a functional group (a '). 제6항에 있어서, 상기 수지배합물(C)은 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1')를 갖는 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to claim 6, wherein the resin mixture (C) contains a component having a functional group (b1 ') capable of reacting with a functional group remaining in the alignment film. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 수지배합물(C)은 상기 관능기(a', b') 또는 관능기(b1')와 반응 가능한 관능기를 갖는 희석제(D) 및/또는 광 라디칼 개시제(E)를 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 잉크.The diluent (D) and / or the photo radical initiator (E) according to claim 6 or 7, wherein the resin mixture (C) has a functional group capable of reacting with the functional group (a ', b') or the functional group (b1 '). Ink containing a). 제2항에 있어서, 상기 성분은 가열 및/또는 에너지선에 의해 양이온 중합 가능한 관능기(b")를 갖는 1종 또는 2종이상의 수지(B)이며, 상기 입자(A)는 상기 관능기(b")와 반응 가능한 관능기(a")를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 잉크.The said component is 1 type or 2 or more types of resin (B) which has a functional group (b ") which can be cationicly polymerized by heating and / or an energy beam, The said particle | grains (A) are the said functional group (b" And a functional group (a ") capable of reacting with the ink. 제9항에 있어서, 상기 수지(B)의 상기 관능기(b")는 배향막에 잔존하는 관능기와 반응 가능한 관능기(b1")인 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to claim 9, wherein said functional group (b ") of said resin (B) is a functional group (b1") capable of reacting with a functional group remaining on said alignment film. 제10항에 있어서, 상기 수지(B)의 상기 관능기(b1")가 에폭시기이며, 상기 입자(A)의 상기 관능기(a")는 에폭시기와 반응 가능한 관능기(a1")인 것을 특징으 로 하는 잉크.The said functional group (b1 ") of the said resin (B) is an epoxy group, The said functional group (a") of the said particle | grain (A) is a functional group (a1 ") which can react with an epoxy group, It is characterized by the above-mentioned. ink. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 관능기(a") 또는 상기 관능기(b")와 반응 가능한 관능기를 갖는 희석제(D) 및/또는 광 양이온 개시제(E)를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 잉크.The thing of any one of Claims 9-11 which has a diluent (D) and / or a photocationic initiator (E) which have a functional group which can react with the said functional group (a ") or the said functional group (b"). Featuring ink. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 용제를 실질적으로 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 잉크.The ink according to any one of claims 1 to 12, which contains substantially no solvent.
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