KR20060020137A - Device for supplying constant temperature water - Google Patents

Device for supplying constant temperature water Download PDF

Info

Publication number
KR20060020137A
KR20060020137A KR1020040068900A KR20040068900A KR20060020137A KR 20060020137 A KR20060020137 A KR 20060020137A KR 1020040068900 A KR1020040068900 A KR 1020040068900A KR 20040068900 A KR20040068900 A KR 20040068900A KR 20060020137 A KR20060020137 A KR 20060020137A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
constant temperature
temperature water
water
level
supply
Prior art date
Application number
KR1020040068900A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
심영화
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040068900A priority Critical patent/KR20060020137A/en
Publication of KR20060020137A publication Critical patent/KR20060020137A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67248—Temperature monitoring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조설비에서 공정진행 시 온도를 일정하게 유지하도록 순환하는 항온수의 공급을 제어하는 항온수 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a constant temperature water supply apparatus for controlling the supply of constant temperature water circulated to maintain a constant temperature during the process in the semiconductor manufacturing equipment.

반도체 제조설비에서 항온수 탱크 내에 항온수가 부족할 경우 항온수를 자동으로 보충하도록 하여 누수로 인한 고장발생 원인을 제거하기 위한 본 발명의 항온수 공급장치는, 항온수를 소정량 저장하는 항온수 저장탱크와, 상기 항온수 저장탱크의 상부에 설치되어 항온수를 공급하는 항온수 공급라인과, 상기 항온수 공급라인 상에 설치되어 밸브 제어신호에 의해 항온수를 공급하거나 차단하는 밸브와, 상기 항온수 공급라인와 연결되어 항온수를 공급하기 위한 보조탱크와, 상기 항온수 저장탱크 내에 설치되어 항온수의 수위량을 표시하는 레벨게이지와, 상기 레벨게이지의 상부에 설치되어 항온수의 하이레벨을 감지하는 하이수위 감지센서와, 상기 레벨게이지의 하부에 설치되어 항온수의 로우레벨을 감지하는 로우수위 감지센서와, 상기 하이수위 감지센서와 상기 로우수위 감지센서로부터 수위량을 감지하여 항온수를 보충하기 위해 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러를 포함한다.The constant temperature water supply tank according to the present invention for automatically eliminating the cause of a failure due to leakage by automatically replenishing the constant temperature water when the constant temperature is insufficient in the constant temperature tank in the semiconductor manufacturing equipment, constant temperature water storage tank for storing a predetermined amount of constant water And a constant temperature water supply line installed at an upper portion of the constant temperature water storage tank to supply constant temperature water, a valve installed on the constant temperature water supply line to supply or shut off the constant temperature water by a valve control signal, and the constant temperature water. An auxiliary tank connected to a supply line for supplying constant temperature water, a level gauge installed in the constant temperature water storage tank to indicate the level of the constant temperature water, and installed on an upper portion of the level gauge to detect a high level of constant temperature water A high water level sensor, a low water level sensor installed under the level gauge to sense a low level of constant temperature water, and the high level sensor Sensing the water level above the detected amount from sensor and the low water level sensor and includes a controller for outputting a valve control signal to compensate for the number of constant temperature.

항온수 순환, 항온수 공급, Constant temperature water circulation, constant temperature water supply,

Description

항온수 공급장치{DEVICE FOR SUPPLYING CONSTANT TEMPERATURE WATER} Constant temperature water supply unit {DEVICE FOR SUPPLYING CONSTANT TEMPERATURE WATER}             

도 1은 일반적인 반도체 설비용 항온수 공급장치의 구성도1 is a configuration diagram of a constant temperature water supply device for a general semiconductor equipment

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 항온수 공급장치의 구성도2 is a block diagram of a constant temperature water supply device of a semiconductor manufacturing equipment according to an embodiment of the present invention

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *      Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 항온수 탱크 12: 항온수 공급라인 10: constant temperature tank 12: constant temperature water supply line

14: 레벨게이지 16: 히터 14: Level gauge 16: Heater

18: 전원공급장치 20: 냉각수 탱크18: power supply 20: coolant tank

22: 냉각수 순환배관 24: 냉각수 순환펌프22: cooling water circulation pipe 24: cooling water circulation pump

26: 반도체 공정설비 28: 항온수 유출배관26: semiconductor process equipment 28: constant temperature water outlet piping

30: 항온수 유입배관 32: 항온수 순환펌프30: constant temperature water inlet pipe 32: constant temperature water circulation pump

34: 메인밸브 36: 콘트롤러34: main valve 36: controller

38: 하이수위 감지센서 40: 로우수위 감지센서38: high water level sensor 40: low water level sensor

42: 밸브 44: 항온수 보조탱크
42: valve 44: constant temperature auxiliary tank

본 발명은 반도체 제조설비의 항온수 공급장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조설비에서 공정진행 시 온도를 일정하게 유지하도록 순환하는 항온수의 공급을 제어하는 항온수 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a constant temperature water supply apparatus of a semiconductor manufacturing equipment, and more particularly, to a constant temperature water supply apparatus for controlling the supply of constant temperature water circulated to maintain a constant temperature during the process progress in the semiconductor manufacturing equipment.

일반적으로 반도체를 제조하는 과정에서 필수적으로 산화 및 확산과정을 거친 웨이퍼는 박막을 형성하기 위해서 포토 레지스터(Photoresister)로 패터닝(patterning)되어진 후 마스크(mask)의 패턴과 정렬한 상태로 자외선(ultraviolet), 레이져 및 전자빔을 이용한 노광이 이루어진다. 노광 후 웨이퍼의 포토 레지스터는 부분적으로 현상액에 의해 씻겨져 소망하는 패턴을 형성하는 것이다.In general, wafers which have been oxidized and diffused in the semiconductor manufacturing process are patterned with photoresister to form a thin film, and then aligned with a pattern of a mask. The exposure is performed using a laser and an electron beam. The photoresist of the wafer after exposure is partially washed by the developer to form a desired pattern.

여기서, 포토 레지스터를 현상하는 방식은 임멀션, 플루드 스프레이 및 스프레이 푸들 방식으로 나눌 수 있는데, 네거티브 레지스터인 경우에는 통상적으로 스프레이 방식을 취하여 현상찌거기가 보다 확실하게 제거될 수 있도록 하고, 포지티브 레지스터인 경우에는 세가지 방식이 골고루 사용되고 있다. 이렇게 현상공정이 이루어지기 위해서는 포토 레지스터가 노광된 부분이나 그렇치 않은 부분과 반응하는 현상액을 웨이퍼로 분사하거나 담궈서 에칭작업을 행해야 한다. 이때, 공급되는 현상액은 항상 일정한 온도를 유지해야 함으로 항온수 순환장치를 이용한다. Here, the photoresist developing method can be divided into an emulsion, a fluid spray, and a spray poodle method. In the case of a negative register, a spray method is generally used to remove the developer residue more reliably. Three methods are used evenly. In order to achieve this development process, the developer must be etched by spraying or immersing a developer that reacts with the exposed or unexposed portion of the photoresist onto the wafer. In this case, the developer supplied is always maintained at a constant temperature, so a constant temperature water circulation system is used.

도 1은 일반적인 반도체 설비용 항온수 공급장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a constant temperature water supply device for a general semiconductor equipment.

항온수를 소정량 저장하는 항온수 저장탱크(10)와, 상기 항온수 저장탱크 (10)의 상부에 설치되어 항온수를 공급하는 항온수 공급라인(12)과, 상기 항온수 저장탱크(10) 내에 설치되어 항온수의 수위량을 표시하는 레벨게이지(14)와, 상기 항온수 저장탱크(10)에 설치되어 상기 항온수를 가열하는 히터(16)와, 항온수 탱크(10)의 내부에 설치되어 항온수의 온도를 측정하는 항온수 온도감지센서(17)와, 상기 히터(16)를 가열하기 위한 전원을 공급하는 전원공급장치(18)와, 냉각수를 저장하고 있는 냉각수탱크(20)와, 상기 냉각수탱크(20)에 저장된 냉각수를 순환될 때 상기 항온수 탱크(10)의 항온수룰 냉각시키기 위한 냉각수 순환배관(22)과, 상기 냉각수 순환배관(22) 상에 설치되어 상기 냉각수탱크(20)에 저장된 냉각수가 상기 냉각수 순환배관(22)으로 순환되도록 펌핑하는 냉각수 순환펌프(24)와, 웨이퍼를 가공하기 위한 반도체 공정설비(26)와, 상기 항온수 탱크(10)에 저장되어 있는 항온수를 상기 반도체 공정설비(26)의 내부로 유입될 수 있도록 하는 항온수 유입배관(28)과, 상기 항온수 유입배관(28)로부터 유입된 항온수를 상기 반도체 공정설비(26)의 내부를 통과하여 상기 항온수 탱크(10)로 배출될 수 있도록 하는 항온수 유출배관(30)과,상기 항온수 유입배관(28) 상에 설치되어 상기 항온수 탱크(10)로부터 유입되는 항온수를 공급하거나 차단하도록 단속하는 메인밸브(34)와, 상기 항온수 유입배관(28) 상에 설치되어 항온수를 강제적으로 순환되도록 펌핑하는 항온수 순환펌프(32)와, 상기 항온수 온도감지센서(17)로부터 감지된 항온수 온도값을 받아 미리 설정되어 있는 온도와 비교하여 항온수의 온도를 제어하고, 항온수를 순환하도록 펌핑제어신호를 출력하는 콘트롤러(36)로 구성되어 있다. Constant temperature water storage tank 10 for storing a predetermined amount of constant temperature water, constant temperature water supply line 12 is installed on the constant temperature water storage tank 10 to supply constant temperature water, and the constant temperature water storage tank 10 A level gauge 14 installed in the heat sink to display the level of the constant temperature water, a heater 16 installed in the constant temperature water storage tank 10 to heat the constant temperature water, and an inside of the constant temperature water tank 10. A constant temperature water temperature sensor 17 for measuring the temperature of the constant temperature water, a power supply device 18 for supplying power for heating the heater 16, and a coolant tank 20 storing cooling water And a cooling water circulation pipe 22 for cooling the constant temperature water of the constant temperature water tank 10 when the cooling water stored in the cooling water tank 20 is circulated, and installed on the cooling water circulation pipe 22. Pump so that the coolant stored in the tank 20 is circulated to the coolant circulation pipe 22 The cooling water circulation pump 24 to ping, the semiconductor processing equipment 26 for processing wafers, and the constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 may be introduced into the semiconductor processing equipment 26. The constant temperature water inlet pipe 28 and the constant temperature water introduced from the constant temperature water inlet pipe 28 may be discharged to the constant temperature water tank 10 through the inside of the semiconductor processing equipment 26. The constant temperature water outlet pipe 30 and the main valve 34 installed on the constant temperature water inlet pipe 28 to control the supply or block of constant temperature water flowing from the constant temperature water tank 10, and the constant temperature water A constant temperature water circulation pump 32 installed on the inlet pipe 28 to pump the constant temperature water forcibly circulated, and a predetermined temperature in response to the constant temperature water temperature value detected by the constant temperature water temperature sensor 17. To control the temperature of the constant temperature water, It consists of a controller 36 for outputting a control signal to pump circulating the hot water.

상기와 같이 구성된 항온수 공급장치에서 항온수를 공급하는 방법을 설명하 면, 항온수 탱크(10)에 저장된 항온수는 레벨게이지(14)에 수위량이 표시된다. 작업자는 레벨게이지(14)를 확인하여 항온수의 수위량이 부족할 때 항온수 공급라인(12)로 항온수를 공급한다. 그리고 항온수 온도감지센서(17)는 항온수 탱크(10)내에 저장된 항온수의 온도를 측정하여 콘트롤러(36)로 제공한다. 콘트롤러(36)는 항온수 온도감지센서(17)로부터 감지된 항온수의 온도가 미리 설정된 항온수 온도가 되는지 판단하여 미리 설정된 온도보다 낮을 경우 전원공급장치(18)를 제어하여 히터(16)를 구동시켜 항온수의 온도를 높이고, 미리 설정된 온도보다 높을 경우 냉각펌프(24)를 구동시켜 냉각수 순환배관(22)로 냉각수를 순환시켜 항온수의 온도를 낮아지게 한다. 이러한 동작을 반복하여 설정된 온도가 되면 콘트롤러(32)는 항온수 순환펌프(32)를 구동시켜 항온수가 항온수 유입배관(28) 및 항온수 유출배관(30)을 통해 순환되도록 하여 반도체 공정설비(26)를 냉각시킨다.  Referring to the method of supplying the constant temperature water in the constant temperature water supply device configured as described above, the constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 is displayed on the level gauge (14). The operator checks the level gauge 14 and supplies constant temperature water to the constant temperature water supply line 12 when the level of the constant temperature water is insufficient. The constant temperature water temperature sensor 17 measures the temperature of the constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 and provides the temperature to the controller 36. The controller 36 determines whether the temperature of the constant temperature water detected by the constant temperature water temperature sensor 17 becomes a preset constant temperature and controls the power supply 18 to control the heater 16 when the temperature is lower than the preset temperature. Drive to increase the temperature of the constant temperature water, when higher than the preset temperature to drive the cooling pump 24 to circulate the cooling water to the cooling water circulation pipe 22 to lower the temperature of the constant temperature water. When this temperature is repeatedly set, the controller 32 drives the constant temperature water circulation pump 32 so that the constant temperature water is circulated through the constant temperature water inlet pipe 28 and the constant temperature water outlet pipe 30. Cool down 26).

상기와 같은 종래 항온수 공급장치는 항온수 탱크(10)내에 저장된 항온수의 수위량이 부족할 경우 작업자가 항온수 공급라인(12)을 통해 항온수를 공급하도록 하고 있어 작업자의 실수로 인해 항온수가 누수될 경우 주위 케이블 및 센서에 접촉되어 설비의 고장원인이 발생하는 문제가 있었다.
In the conventional constant temperature water supply device as described above, when the level of the constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 is insufficient, the operator supplies the constant temperature water through the constant temperature water supply line 12, and thus the constant temperature water leak due to the operator's mistake. If there is a problem that causes the failure of the equipment by contacting the surrounding cables and sensors.

따라서 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 반도체 제조설비에서 항온수 탱크 내에 항온수가 부족할 경우 항온수를 자동으로 보충하도록 하여 누수로 인한 고장발생 원인을 제거할 수 있는 항온수 공급장치를 제공함에 있 다.
Therefore, an object of the present invention is to provide a constant temperature water supply device that can eliminate the cause of the failure caused by leakage by automatically replenishing the constant temperature water when the constant temperature in the constant temperature tank in the semiconductor manufacturing equipment to solve the above problems In the provision.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 항온수 공급장치는, 항온수를 소정량 저장하는 항온수 저장탱크와, 상기 항온수 저장탱크의 상부에 설치되어 항온수를 공급하는 항온수 공급라인과, 상기 항온수 공급라인 상에 설치되어 밸브 제어신호에 의해 항온수를 공급하거나 차단하는 밸브와, 상기 항온수 공급라인와 연결되어 항온수를 공급하기 위한 보조탱크와, 상기 항온수 저장탱크 내에 설치되어 항온수의 수위량을 표시하는 레벨게이지와, 상기 레벨게이지의 상부에 설치되어 항온수의 하이레벨을 감지하는 하이수위 감지센서와, 상기 레벨게이지의 하부에 설치되어 항온수의 로우레벨을 감지하는 로우수위 감지센서와, 상기 하이수위 감지센서와 상기 로우수위 감지센서로부터 수위량을 감지하여 항온수를 보충하기 위해 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.The constant temperature water supply device of the present invention for achieving the above object is a constant temperature water storage tank for storing a predetermined amount of constant water, a constant temperature water supply line is installed on top of the constant temperature water storage tank and supplies constant temperature water, A valve installed on the constant temperature water supply line for supplying or blocking constant temperature water by a valve control signal, an auxiliary tank connected to the constant temperature water supply line for supplying constant temperature water, and installed in the constant temperature water storage tank A level gauge indicating the level of water, a high level sensor installed at the top of the level gauge to detect a high level of constant temperature water, and a low level installed at the bottom of the level gauge to detect a low level of constant temperature water The sensor detects the water level from the high water level sensor and the low water level sensor and outputs a valve control signal to replenish the constant temperature water. It characterized in that it comprises a controller.

상기 밸브는 에어밸브를 사용하는 것이 바람직하다.Preferably, the valve uses an air valve.

상기 콘트롤러는 상기 로우수위 감지센서로부터 로우베렐수위가 감지될 시 상기 에어밸브를 오프시키고, 상기 하이수위 감지센서로부터 하이레벨수위가 감지될 시 상기 에어밸브를 클로즈시킴을 특징으로 한다.The controller may be configured to turn off the air valve when the low level sensor is detected from the low water level sensor, and close the air valve when the high level water level is detected from the high level sensor.

이하 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 항온수 공급장치의 구성도이다. 2 is a block diagram of a constant temperature water supply apparatus of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

항온수를 소정량 저장하는 항온수 저장탱크(10)와, 상기 항온수 저장탱크(10)의 상부에 설치되어 항온수를 공급하는 항온수 공급라인(12)과, 상기 항온수 공급라인(12) 상에 설치되어 밸브 제어신호에 의해 항온수를 공급하거나 차단하는 밸브(42)와, 상기 항온수 공급라인(12)와 연결되어 항온수를 공급하기 위한 보조탱크(44)와, 상기 항온수 저장탱크(10) 내에 설치되어 항온수의 수위량을 표시하는 레벨게이지(14)와, 상기 레벨게이지(14)의 상부에 설치되어 항온수의 하이레벨을 감지하는 하이수위 감지센서(38)와, 상기 레벨게이지(14)의 하부에 설치되어 항온수의 로우레벨을 감지하는 로우수위 감지센서(40)와, 상기 항온수 저장탱크(10)에 설치되어 상기 항온수를 가열하는 히터(16)와, 항온수 탱크(10)의 내부에 설치되어 항온수의 온도를 측정하는 항온수 온도감지센서(17)와, 상기 히터(16)를 가열하기 위한 전원을 공급하는 전원공급장치(18)와, 냉각수를 저장하고 있는 냉각수탱크(20)와, 상기 냉각수탱크(20)에 저장된 냉각수를 순환될 때 상기 항온수 탱크(10)의 항온수룰 냉각시키기 위한 냉각수 순환배관(22)과, 상기 냉각수 순환배관(22) 상에 설치되어 상기 냉각수탱크(20)에 저장된 냉각수가 상기 냉각수 순환배관(22)으로 순환되도록 펌핑하는 냉각수 순환펌프(24)와, 웨이퍼를 가공하기 위한 반도체 공정설비(26)와, 상기 항온수 탱크(10)에 저장되어 있는 항온수를 상기 반도체 공정설비(26)의 내부로 유입될 수 있도록 하는 항온수 유입배관(28)과, 상기 항온수 유입배관(28)로부터 유입된 항온수를 상기 반도체 공정설비(26)의 내부를 통과하여 상기 항온수 탱크(10)로 배출될 수 있도록 하는 항온수 유출배관(30)과,상기 항온수 유입배관(28) 상에 설치되어 상기 항온수 탱크(10)로부터 유입되는 항온수를 공급하거나 차단하도록 단속하는 메인밸브(34)와, 상기 항온수 유입배관(28) 상에 설치되어 항온수를 강제적으로 순환되도록 펌핑하는 항온수 순환펌프(32)와, 상기 항온수 온도감지센서(17)로부터 감지된 항온수 온도값을 받아 미리 설정되어 있는 온도와 비교하여 항온수의 온도를 제어하고, 항온수를 순환하도록 펌핑제어신호를 출력하며, 상기 하이수위 감지센서(38)와 로우수위 감지센서(40)로부터 수위량을 감지하여 항온수를 보충하기 위해 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러(36)로 구성되어 있다. 상기 밸브(42)는 예를 들어 에어밸브를 사용할 수 있다.Constant temperature water storage tank 10 for storing a predetermined amount of constant temperature water, constant temperature water supply line 12 is installed on the constant temperature water storage tank 10 to supply constant temperature water, and the constant temperature water supply line 12 Valve 42 for supplying or blocking constant temperature water by a valve control signal, an auxiliary tank 44 connected to the constant temperature water supply line 12, and supplying constant temperature water, and the constant temperature water A level gauge 14 installed in the storage tank 10 to display the water level of the constant temperature water; a high level sensor 38 installed on the level gauge 14 to detect a high level of the constant temperature water; A low water level sensor 40 installed at a lower portion of the level gauge 14 to detect a low level of constant temperature water, and a heater 16 installed at the constant temperature water storage tank 10 to heat the constant temperature water; And, the constant temperature water temperature is installed inside the constant temperature water tank 10 to measure the temperature of the constant temperature water A sensor for sensing the sensor 17, a power supply device 18 for supplying power for heating the heater 16, a coolant tank 20 storing coolant, and coolant stored in the coolant tank 20 Cooling water circulation pipe 22 and the cooling water circulation pipe 22 for cooling the constant temperature water of the constant temperature water tank 10, the cooling water stored in the cooling water tank 20 when the circulation is circulated in the cooling water circulation pipe Cooling water circulation pump 24 pumped to be circulated to 22, semiconductor processing equipment 26 for processing wafers, and constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10. The constant temperature water inlet pipe 28 and the constant temperature water introduced from the constant temperature water inlet pipe 28 pass through the inside of the semiconductor processing equipment 26 to allow the inside of the constant temperature water tank 10. Constant temperature water outlet pipe 30 to be discharged to the, Is installed on the constant temperature water inlet pipe 28 and is provided on the main valve 34 and the constant temperature water inlet pipe 28 to control to supply or block the constant temperature water flowing from the constant temperature water tank (10) The constant temperature water circulation pump 32 for pumping the constant temperature water forcibly circulated, and the constant temperature water temperature value detected by the constant temperature water temperature sensor 17 is compared with a preset temperature to control the temperature of the constant temperature water A controller for outputting a pumping control signal to circulate the constant temperature water, and outputting a valve control signal to replenish the constant temperature water by detecting a level of water from the high water level sensor 38 and the low water level sensor 40 ( 36). The valve 42 may use an air valve, for example.

상술한 도 2를 참조하여 본 발명의 항온수를 공급하는 동작을 상세히 설명한다. Referring to Figure 2 described above will be described in detail the operation of supplying the constant temperature water of the present invention.

항온수 보조탱크(44)는 보충할 항온수를 저장하고 있다. 항온수 탱크(10)는 반도체 공정설비(26)로 순환시키기 위해 설정온도로 조절된 항온수를 저장하고 있다. 상기 항온수 탱크(10)에 저장된 항온수는 레벨게이지(14)에 수위량이 표시된다. 레벨게이지(14)의 상부에는 하이수위 감지센서(38)가 설치되어 있고, 레벨게이지(14)의 하부에는 로우수위 감지센서(40)가 설치되어 있다. 하이수위 감지센서(38)는 항온수 탱크(10) 내에 하이레벨의 수위를 감지하고, 로우수위 감지센서940)는 항온수 탱크(10)에 로우레벨의 수위를 감지한다. 이때 콘트롤러(36)는 로우수위 감지센서(40)로부터 로우레벨의 수위가 감지될 시 밸브제어신호를 발생하여 밸브 (42)를 오픈시킨다. 상기 밸브(42)가 오픈되면 항온수 보조탱크(44)에 저장된 항온수가 항온수 탱크(10)로 보충된다. 이렇게 항온수가 보충되는 중에 콘트롤러(36)는 하이수위 감지센서(38)로부터 하이레벨의 수위가 감지되면 밸브제어신호를 발생하여 밸브(42)를 클로즈시킨다. 상기 밸브(42)가 클로즈되면 항온수 보조탱크(44)로부터 항온수 탱크(10)로 보충되는 항온수의 공급이 차단된다. 이렇게 항온수를 보청하게 되면 항온수 온도감지센서(17)는 항온수 탱크(10)내에 저장된 항온수의 온도를 측정하여 콘트롤러(36)로 제공한다. 콘트롤러(36)는 항온수 온도감지센서(17)로부터 감지된 항온수의 온도가 미리 설정된 항온수 온도가 되는지 판단하여 미리 설정된 온도보다 낮을 경우 전원공급장치(18)를 제어하여 히터(16)를 구동시켜 항온수의 온도를 높이고, 미리 설정된 온도보다 높을 경우 냉각펌프(24)를 구동시켜 냉각수 순환배관(22)로 냉각수를 순환시켜 항온수의 온도를 낮아지게 한다. 이러한 동작을 반복하여 설정된 온도가 되면 콘트롤러(32)는 항온수 순환펌프(32)를 구동시켜 항온수가 항온수 유입배관(28) 및 항온수 유출배관(30)을 통해 순환되도록 하여 반도체 공정설비(26)를 냉각시킨다. 여기서 항온수의 설정온도는 예를 들어 23℃가 될 수 있다.
The constant temperature auxiliary tank 44 stores constant temperature water to be replenished. The constant temperature water tank 10 stores constant temperature water adjusted to a set temperature for circulating to the semiconductor processing equipment 26. The constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 is displayed on the level gauge (14). The high level sensor 38 is provided above the level gauge 14, and the low level sensor 40 is provided below the level gauge 14. The high water level sensor 38 detects a high level water level in the constant temperature water tank 10, and the low water level sensor 940 detects the low level water level in the constant temperature water tank 10. At this time, the controller 36 generates a valve control signal to open the valve 42 when a low level water level is detected from the low water level sensor 40. When the valve 42 is opened, the constant temperature water stored in the constant temperature auxiliary tank 44 is replenished with the constant temperature water tank 10. When the constant temperature is replenished, the controller 36 generates a valve control signal to close the valve 42 when a high level water level is detected from the high water level sensor 38. When the valve 42 is closed, the supply of the constant temperature water replenished to the constant temperature water tank 10 from the constant temperature auxiliary tank 44 is cut off. When hearing the constant temperature water, the constant temperature water temperature sensor 17 measures the temperature of the constant temperature water stored in the constant temperature water tank 10 and provides it to the controller 36. The controller 36 determines whether the temperature of the constant temperature water detected by the constant temperature water temperature sensor 17 becomes a preset constant temperature and controls the power supply 18 to control the heater 16 when the temperature is lower than the preset temperature. Drive to increase the temperature of the constant temperature water, when higher than the preset temperature to drive the cooling pump 24 to circulate the cooling water to the cooling water circulation pipe 22 to lower the temperature of the constant temperature water. When this temperature is repeatedly set, the controller 32 drives the constant temperature water circulation pump 32 so that the constant temperature water is circulated through the constant temperature water inlet pipe 28 and the constant temperature water outlet pipe 30. Cool down 26). Here, the set temperature of the constant temperature water may be, for example, 23 ° C.

상술한 바와 같이 본 발명은 항온수 공급장치에서 항온수를 항온수 탱크로 보충할 시 작업자에 의해 수동으로 공급하지 않고 밸브를 제어하여 자동으로 공급되도록 하므로, 항온수 공급 시 누수로 인하여 주위 케이블 및 센서에 접촉으로 인 설비의 고장발생을 방지하여 생산성을 높일 수 있는 이점이 있다. As described above, the present invention is to supply the constant temperature water to the constant temperature tank in the constant temperature water supply device so that the automatic control by supplying the valves without manual supply by the operator, due to leakage during constant water supply There is an advantage to increase the productivity by preventing the occurrence of failure of the phosphorus facility by contacting the sensor.

Claims (3)

항온수 공급장치에 있어서,In the constant temperature water supply device, 항온수를 소정량 저장하는 항온수 저장탱크와, Constant temperature water storage tank for storing a predetermined amount of constant temperature water, 상기 항온수 저장탱크의 상부에 설치되어 항온수를 공급하는 항온수 공급라인과, A constant temperature water supply line installed at an upper portion of the constant temperature water storage tank and supplying constant temperature water; 상기 항온수 공급라인 상에 설치되어 밸브 제어신호에 의해 항온수를 공급하거나 차단하는 밸브와, A valve installed on the constant temperature water supply line to supply or shut off the constant temperature water by a valve control signal; 상기 항온수 공급라인와 연결되어 항온수를 공급하기 위한 보조탱크와, An auxiliary tank connected to the constant temperature water supply line to supply constant temperature water; 상기 항온수 저장탱크 내에 설치되어 항온수의 수위량을 표시하는 레벨게이지와, A level gauge installed in the constant temperature water storage tank and displaying a water level of the constant temperature water; 상기 레벨게이지의 상부에 설치되어 항온수의 하이레벨을 감지하는 하이수위 감지센서와, A high water level sensor installed at an upper portion of the level gauge and detecting a high level of constant temperature water; 상기 레벨게이지의 하부에 설치되어 항온수의 로우레벨을 감지하는 로우수위 감지센서와, A low water level sensor installed under the level gauge and detecting a low level of constant temperature water; 상기 하이수위 감지센서와 상기 로우수위 감지센서로부터 수위량을 감지하여 항온수를 보충하기 위해 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 항온수 공급장치.And a controller for detecting a level of water from the high water level sensor and the low water level sensor, and outputting a valve control signal to replenish the constant temperature water. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밸브는 에어밸브임을 특징으로 하는 항온수 공급장치. The valve is a constant temperature water supply, characterized in that the air valve. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 콘트롤러는 상기 로우수위 감지센서로부터 로우베렐수위가 감지될 시 상기 에어밸브를 오프시키고, 상기 하이수위 감지센서로부터 하이레벨수위가 감지될 시 상기 에어밸브를 클로즈시킴을 특징으로 하는 항온수 공급장치. The controller is configured to turn off the air valve when the low water level is detected from the low water level sensor, and close the air valve when a high level water level is detected from the high water level sensor. .
KR1020040068900A 2004-08-31 2004-08-31 Device for supplying constant temperature water KR20060020137A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040068900A KR20060020137A (en) 2004-08-31 2004-08-31 Device for supplying constant temperature water

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040068900A KR20060020137A (en) 2004-08-31 2004-08-31 Device for supplying constant temperature water

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060020137A true KR20060020137A (en) 2006-03-06

Family

ID=37127328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040068900A KR20060020137A (en) 2004-08-31 2004-08-31 Device for supplying constant temperature water

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060020137A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010021436A1 (en) * 2008-08-20 2010-02-25 Kyungdong Network Co., Ltd. Water heater having a water leakage sensing device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010021436A1 (en) * 2008-08-20 2010-02-25 Kyungdong Network Co., Ltd. Water heater having a water leakage sensing device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7352437B2 (en) Exposure apparatus
TWI713107B (en) Substrate processing device and substrate processing method
US10509331B2 (en) Lithography apparatus and a method of manufacturing a device
KR100941072B1 (en) Apparatus and method for supplying chemical
KR20060020137A (en) Device for supplying constant temperature water
JP2001217219A (en) Method and device for treating liquid
JP2010080715A (en) Method for detecting failure of concentration control system and substrate processing device using the same
KR200261175Y1 (en) Semiconductor Wafer Cleaning Liquid Supply Device
KR20060005546A (en) Baking apparatus having wafer detecting system
KR102353774B1 (en) A cooling chamber
KR20090044818A (en) Constant temperature water circulator
KR100861834B1 (en) Apparatus for auto cleaning a di-water control system and method thereof
KR100933592B1 (en) Exposure equipment with automatic temperature control and automatic temperature control method
JP4237669B2 (en) Heat exchange system
KR20200025277A (en) Method for maintenance period decision for pump or blower for satellite thermal vacuum chamber and control apparatus and method for pump or blower maintenance using the same
KR20030089295A (en) Photo spinner equipment having cooling water automatic supplying apparatus
JP3715874B2 (en) Substrate processing equipment
KR20000024861A (en) Constant-water circulation device
KR20010056088A (en) Apparatus for controlling developer temperature of manufacturing semiconductor devices in developing facility
JP3697958B2 (en) Automatic bath equipment
JPS62186266A (en) Developing device
KR100562693B1 (en) Apparatus and method for controlling a refrigerant
KR100951929B1 (en) Apparatus for circulating constant temperature water
KR20060010317A (en) Apparatus for circulating constant temperature water
KR0128253Y1 (en) The constant temperature water automatic switching equipment of the water circulation system for the semiconductor manufacturing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination