KR20060012884A - Mask frame - Google Patents

Mask frame Download PDF

Info

Publication number
KR20060012884A
KR20060012884A KR1020040061591A KR20040061591A KR20060012884A KR 20060012884 A KR20060012884 A KR 20060012884A KR 1020040061591 A KR1020040061591 A KR 1020040061591A KR 20040061591 A KR20040061591 A KR 20040061591A KR 20060012884 A KR20060012884 A KR 20060012884A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask frame
mask
shadow mask
bead
frame
Prior art date
Application number
KR1020040061591A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
최오용
Original Assignee
엘지.필립스 디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 디스플레이 주식회사
Priority to KR1020040061591A priority Critical patent/KR20060012884A/en
Publication of KR20060012884A publication Critical patent/KR20060012884A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/073Mounting arrangements associated with shadow masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0722Frame
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0733Aperture plate characterised by the material

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

본 발명은 마스크 프레임과 용접 고정되는 섀도우 마스크의 면적 축소로 인하여 증가하는 외부 자계의 영향을 축소하고 상기 마스크 프레임의 내구성이 향상될 수 있도록 하는 마스크 프레임에 관한 것으로서, 전자빔 통과공이 다수 형성된 유공부와 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와 상기 무공부에서 수직 연장되는 선단부가 구비되는 섀도우 마스크를 지지하기 위하여 상기 섀도우 마스크와 용접고정되는 마스크 프레임에 있어서, 상기 마스크 프레임은 상기 선단부 측으로 돌출되어 상기 선단부와 대향하도록 형성되는 비드를 포함하여 구성되어, 상기 마스크 프레임 및 섀도우 마스크의 간격 증가로 인해 발생하는 지자계 또는 외부자계의 영향을 크게 감소시킬 수 있으며, 상기 프레임의 강도가 증가되어 내구성이 향상되며, 하울링 특성 또한 개선될 수 있으므로 제품의 신뢰성이 크게 증진되는 효과가 있다.
The present invention relates to a mask frame to reduce the influence of the increase of the external magnetic field due to the reduction of the area of the shadow mask to be welded and fixed to the mask frame and to improve the durability of the mask frame, and a hole having a plurality of electron beam through holes A mask frame welded and fixed to the shadow mask to support a shadow mask having a non-hole positioned at an outer edge of the hole and a tip portion extending vertically from the non-hole, wherein the mask frame protrudes toward the tip side. It includes a bead formed to face the front end portion, it is possible to greatly reduce the influence of the geomagnetic or external magnetic field caused by the increase in the distance between the mask frame and the shadow mask, the strength of the frame is increased to increase durability Will improve, howl Further characteristics can be improved there is an effect that increase the reliability of the product significantly.

섀도우 마스크, 마스크 프레임, 비드, 선단부, 전자빔Shadow mask, mask frame, bead, tip, electron beam

Description

마스크 프레임{Mask Frame} Mask frame             

도 1 은 일반적인 음극선관의 구조를 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view showing the structure of a typical cathode ray tube,

도 2 는 일반적인 섀도우 마스크의 구조를 도시한 도,2 is a diagram showing the structure of a typical shadow mask;

도 3 은 일반적인 섀도우 마스크 및 마스크 프레임의 결합구조를 도시한 도,3 is a view illustrating a combination structure of a typical shadow mask and a mask frame;

도 4 는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크 및 마스크 프레임의 결합구조를 도시한 도,4 is a view showing a combination structure of a shadow mask and a mask frame according to the prior art,

도 5 는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크 및 마스크 프레임 결합구조에 있어 전자빔에 미치는 자계의 영향을 도시한 도,FIG. 5 illustrates the influence of a magnetic field on an electron beam in a shadow mask and mask frame combining structure according to the prior art; FIG.

도 6 은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 구조를 도시한 도,6 is a view showing a structure of a shadow mask according to the present invention;

도 7 은 본 발명에 따른 섀도우 마스크 및 마스크 프레임 결합구조를 도시한 사시도,7 is a perspective view illustrating a shadow mask and a mask frame coupling structure according to the present invention;

도 8 은 본 발명의 제 1실시예에 따른 마스크 프레임의 구조를 상세하게 도시한 도,8 is a view showing in detail the structure of a mask frame according to the first embodiment of the present invention;

도 9 는 본 발명의 제 2실시예에 따른 마스크 프레임의 구조를 도시한 도이다.9 is a diagram illustrating a structure of a mask frame according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명> <Explanation of symbols on main parts of the drawings>                 

50: 섀도우 마스크 51: 설편부50: shadow mask 51: tongue section

52: 선단부 54: 선단부 끝단52: distal end 54: distal end

60: 마스크 프레임 61: 비드
60: mask frame 61: bead

본 발명은 마스크 프레임에 관한 것으로서, 특히 상기 마스크 프레임과 용접 고정되는 섀도우 마스크의 면적 축소로 인하여 증가하는 외부 자계의 영향을 축소하고 상기 마스크 프레임의 내구성이 향상될 수 있도록 하는 마스크 프레임에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask frame, and more particularly, to a mask frame for reducing the influence of an increasing external magnetic field due to the reduction of the area of a shadow mask welded to the mask frame and improving the durability of the mask frame.

도 1은 일반적인 칼라 음극선관의 구조를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of a general color cathode ray tube.

일반적인 칼라 음극선관은 기본적으로 패널(1), 펀넬(2), 섀도우 마스크(4), 스크린(3), 편향요크(6), 전자총(5)을 포함하여 구성된다. A general color cathode ray tube basically comprises a panel 1, a funnel 2, a shadow mask 4, a screen 3, a deflection yoke 6, and an electron gun 5.

상기 패널(1)은 화면에 해당되는 부분으로서, 진공용기의 일부를 구성함과 동시에 영상정보가 최종적인 시각정보로 변환되며, 상기 펀넬(2)은 상기 패널(1)과 연결되어 상기 진공용기를 구성하며, 상기 섀도우 마스크(4)는 상기 전자총(5)에서 발사되는 R, G, B 3색의 전자빔이 상기 패널(1) 내부에 형성되는 스크린(3)에 정확하게 도달할 수 있도록 전자빔이 통과할 수 있는 전자빔 통과공이 다수 형성되어 있다.The panel 1 is a portion corresponding to the screen, and forms a part of the vacuum container, and at the same time, image information is converted into final visual information, and the funnel 2 is connected to the panel 1 to connect the vacuum container. The shadow mask 4 has an electron beam such that an electron beam of three colors R, G, and B emitted from the electron gun 5 can reach the screen 3 formed inside the panel 1 accurately. A plurality of electron beam passing holes that can pass through are formed.

또한, 상기 편향요크(6)는 상기 칼라 음극선관의 자기장치 중 가장 중요한 요소로서, 시간계열로 전송된 전기신호가 상기 음극선관에서 2차원적인 영상으로 재생되도록 상기 전자빔을 상하좌우로 주사한다.In addition, the deflection yoke 6 is the most important element of the magnetic device of the color cathode ray tube, and scans the electron beam up, down, left and right so that an electric signal transmitted in time series is reproduced in a two-dimensional image in the cathode ray tube.

따라서, 상기와 같이 구성되는 칼라 음극선관은 상기 펀넬(2)의 넥크에 내장된 전자총(5)에서 전자빔이 상기 음극선관에 인가되는 양극전압에 의해 상기 패널(1) 내면에 형성되어 있는 상기 스크린(3)을 타격하게 되는데 이때 상기 전자빔은 상기 스크린(3)에 도달하기 전 상기 편향요크(6)에 의해 상하좌우로 편향되어 화면을 이루게 된다.Therefore, the color cathode ray tube constructed as described above is the screen in which the electron beam is formed on the inner surface of the panel 1 by an anode voltage applied to the cathode ray tube in the electron gun 5 embedded in the neck of the funnel 2. The electron beam is deflected up, down, left and right by the deflection yoke 6 before reaching the screen 3 to form a screen.

이때, 상기 전자빔은 상기 섀도우 마스크(4)에 형성된 다수의 전자빔 통과공을 통과하여 상기 스크린(3)에 도달하게 되며, 이 과정에서 상기 전자빔 통과공을 통과하지 못한 전자빔이 상기 섀도우 마스크(4)를 타격함에 따라 상기 섀도우 마스크(4)의 온도가 상승하게 되어 상기 전자빔의 미스랜딩(mislanding)현상이 유발되게 된다.In this case, the electron beam passes through a plurality of electron beam through holes formed in the shadow mask 4 to reach the screen 3, and in this process, an electron beam not passing through the electron beam through holes passes through the shadow mask 4. As the temperature of the shadow mask 4 is increased, mislanding of the electron beam is caused.

도 2는 일반적인 섀도우 마스크의 구조를 도시한 도이다. 2 is a diagram illustrating a structure of a general shadow mask.

일반적인 섀도우 마스크(4)는 상기 전자총(5)으로부터 방출된 상기 전자빔이 상기 스크린(3)을 타격할 수 있도록 다수의 전자빔 통과공이 형성되는 유공부(10)와, 상기 유공부(10)의 외측 가장자리에 위치하여 상기 전자빔 통과공이 분포하지 않는 무공부(20)와, 상기 무공부(20)의 주변에서 상기 무공부(20)와 거의 수직으로 절곡 형성되어 지지체인 마스크 프레임과 용접고정(31)되는 스커트부(30)로 구성된 다.The general shadow mask 4 includes a perforated part 10 in which a plurality of electron beam through holes are formed so that the electron beam emitted from the electron gun 5 can strike the screen 3, and the outside of the perforated part 10. Located at the edge of the non-hole portion 20 is not distributed the electron beam through hole, and the periphery of the non-pore portion 20 is formed to be bent almost perpendicular to the no-hole portion 20, the support frame mask frame and welding fixing 31 Consisting of a skirt portion 30.

상기 섀도우 마스크(4)는 상기 전자빔 타격현상에 따라 열팽창을 하게 되는데, 이때 상기 섀도우 마스크(4)가 전체적으로 균일한 팽창을 일으키는 경우에는 미스랜딩(mislanding)현상은 발생하지 않는다. 그러나, 상기 음극선관의 동작시 상기 섀도우 마스크(4)의 온도는 상기 유공부(10) 중심부가 가장 높으며, 상기 스커트부(30)의 가장자리에서 가장 낮기 때문에 불균일한 열팽창을 일으키게 되므로 전자빔의 미스랜딩(mislanding) 현상이 발생하게 된다. The shadow mask 4 undergoes thermal expansion according to the electron beam strike phenomenon. In this case, when the shadow mask 4 causes uniform expansion as a whole, no mislanding phenomenon occurs. However, since the temperature of the shadow mask (4) during the operation of the cathode ray tube is the highest in the center of the hole portion 10, and the lowest at the edge of the skirt portion 30 causes uneven thermal expansion, mis-landing of the electron beam (mislanding) phenomenon occurs.

따라서, 상기와 같은 현상을 방지하기 위해서는 상기 섀도우 마스크(4)의 온도 편차를 최소화하여야 하며 이를 위해서는 상기 무공부(20)의 열손실을 최소화하는 것이 바람직하다.Therefore, in order to prevent such a phenomenon, the temperature variation of the shadow mask 4 should be minimized. For this purpose, it is preferable to minimize the heat loss of the non-porous portion 20.

도 3은 일반적인 섀도우 마스크 및 마스크 프레임의 결합구조를 도시한 도이다.3 is a diagram illustrating a combination structure of a typical shadow mask and a mask frame.

도 3에 도시된 바와 같이, 일반적인 섀도우 마스크(4) 및 마스크 프레임(7)의 결합구조는 상기 마스크 프레임(7)의 끝단이 상기 섀도우 마스크의 절곡부(32)의 위치보다 높게 형성되어, 상기 스커트부(30)의 열이 복사현상에 의해 상기 마스크 프레임(7)으로 전달됨에 따라 상기 유공부(10) 및 스커트부(30)의 온도편차가 더욱 크게 된다.As shown in FIG. 3, the combined structure of the general shadow mask 4 and the mask frame 7 is formed so that the end of the mask frame 7 is higher than the position of the bent portion 32 of the shadow mask. As the heat of the skirt portion 30 is transferred to the mask frame 7 by the radiation phenomenon, the temperature deviation between the pore portion 10 and the skirt portion 30 becomes larger.

따라서, 상기 섀도우 마스크(4)의 불균일 팽창과 그에 따른 미스랜딩 현상이 더욱 심화된다.Therefore, the nonuniform expansion of the shadow mask 4 and the resulting mislanding phenomenon are further intensified.

도 4는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 구조를 도시한 도이다. 4 is a diagram illustrating a structure of a shadow mask according to the prior art.                         

상기 스커트부(30)는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 수단으로서 상기 무공부(20) 및 스커트부(30)의 면적을 최소화하기 위하여, 상기 마스크 프레임(7)과 용접되는 용접점이 위치한 설편부(미도시)와, 상기 무공부(20)의 가장자리에 연장 절곡되며 상기 설편부(미도시)보다 높이가 낮게 형성되는 선단부(33)로 구성된다.The skirt part 30 is a tongue section in which a welding point welded to the mask frame 7 is located in order to minimize the areas of the airless part 20 and the skirt part 30 as a means for solving the above problems. (Not shown) and a tip portion 33 which is bent and extended at the edge of the non-porous portion 20 and has a height lower than that of the tongue piece portion (not shown).

그러나, 상기와 같이 구성되는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크(4)는 상기 스커트부(30)의 면적이 크게 축소됨에 따라 상기 섀도우 마스크(4) 및 마스크 프레임(7)간의 간격(DS)이 증가하게 된다.However, in the shadow mask 4 according to the related art, as described above, as the area of the skirt 30 is greatly reduced, the distance DS between the shadow mask 4 and the mask frame 7 increases. do.

도 5는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크 및 마스크 프레임 결합구조에 있어 전자빔에 미치는 자계의 영향을 도시한 도로서, 도 5a는 상기 음극선관의 상측 장변의 단면을 도시한 도이며, 도 5b는 상기 음극선관의 좌측 단변의 단면을 도시한 도이다.5 is a view showing the influence of the magnetic field on the electron beam in the shadow mask and mask frame combination structure according to the prior art, Figure 5a is a cross-sectional view of the upper side of the cathode ray tube, Figure 5b is the cathode ray It is a figure which shows the cross section of the left short side of a pipe | tube.

종래 기술에 따른 섀도우 마스크는 상기 섀도우 마스크 및 마스크 프레임간의 간격(DS)이 증가함에 따라 상기 섀도우 마스크를 관통하는 전자빔에 대한 지자계 또는 외부자계의 영향이 증가하게 되어 상기 자계에 민감하게 상기 전자빔의 이동량을 증가시키게 되며, 따라서 상기 전자빔이 각각 해당하는 전자빔 통과공을 통과하지 못하게 되어 상기 패널의 색순도를 크게 저하시키게 된다.In the shadow mask according to the related art, as the distance DS between the shadow mask and the mask frame increases, the influence of the geomagnetic field or the external magnetic field on the electron beam penetrating the shadow mask increases, thereby making the electron beam sensitive to the magnetic field. The amount of movement is increased, and thus, the electron beams do not pass through the corresponding electron beam through holes, thereby greatly reducing the color purity of the panel.

즉, 상기 전자빔이 상기 편향요크의 편향자계에 의해 상기 펀넬을 통과하는 경우에는 상기 마스크 프레임에 장착된 이너쉴드가 지자계 및 외부자게를 차폐하여 전자빔의 이동을 방지한다. That is, when the electron beam passes through the funnel by the deflection magnetic field of the deflection yoke, the inner shield mounted on the mask frame shields the geomagnetic field and the external cradle to prevent movement of the electron beam.                         

그러나, 상기 전자빔이 상기 섀도우 마스크의 전자빔 통과공을 거쳐 상기 패널에 도달하는 경우에는 상기 섀도우 마스크 및 마스크 프레임간의 간격에 의해 상기 전자빔이 지자계 또는 국부적인 외부 자계등의 영향을 받게 되어 그 경로가 가변된다. 이때 상기 전자빔의 경로를 가변시키는 힘은 로렌츠의 힘(Lorentz Force)으로써 다음의 식으로 정의된다.
However, when the electron beam reaches the panel through the electron beam through hole of the shadow mask, the electron beam is affected by a geomagnetic field or a local external magnetic field due to the distance between the shadow mask and the mask frame. Variable. At this time, the force for varying the path of the electron beam is defined by the following equation as the Lorentz force.

F = qV X BF = qV X B

(F: 로렌츠의 힘, q: 입자의 전하량, V: 하전입자의 속도, B: 하전입자가 통과하는 자속밀도)
(F: Lorentz force, q: amount of particles charged, V: speed of charged particles, B: magnetic flux density through which charged particles pass)

또한, 일반적으로 지자게 또는 외부자계에 의해 운동이 가변되는 자성체가 외부자장에 놓이게 되면 외부자장과는 반대 방향으로 자장이 형성되어 상기 음극선관 내부를 무자계화 시키게 되는데, 상기 음극선관 내부는 완전한 구형의 폐곡선으로 형성되지 않으며, 상기 음극선관 내부에 장착되는 다수의 부품들 또한 지자계 방향으로 자화되기 때문에 상기 전자빔의 경로왜곡이 불가피하게 발생한다.In addition, in general, when a magnetic body whose movement is variable by a geomagnetism or an external magnetic field is placed in an external magnetic field, a magnetic field is formed in a direction opposite to the external magnetic field to make the inside of the cathode ray tube non-magnetic, and the inside of the cathode ray tube is completely spherical. The path distortion of the electron beam is inevitably generated because it is not formed as a closed curve of and because a plurality of components mounted inside the cathode ray tube are also magnetized in the geomagnetic direction.

표 1은 상기 스커트부의 면적을 최소화하기 위하여 선단부를 갖는 섀도우 마스크와 상기 선단부가 형성되지 않는 섀도우 마스크의 지자계에 의한 방향전환시 발생하는 전자빔의 이동량을 나타낸 것으로서, 상기 섀도우 마스크 및 마스크 프레임과의 간격이 증가할수록 지자계에 의한 상기 전자빔의 이동량이 증가하게 되어 상기 패널의 색순도 열화의 문제점을 발생시킨다.
Table 1 shows the amount of movement of the electron beam generated when the direction change by the geomagnetic field of the shadow mask having a tip portion and the shadow mask having no tip portion in order to minimize the area of the skirt portion, and the shadow mask and the mask frame As the distance increases, the amount of movement of the electron beam due to a geomagnetic field increases, which causes a problem of deterioration of color purity of the panel.

대각치수 (㎜)Diagonal dimensions (mm) 스커트 선단부Skirt tip DS(㎜)DS (mm) 지자계의 방향전환에 따른 전자빔의 이동량(㎛)The amount of electron beam movement due to the change of direction of the geomagnetic field (㎛) 동->서East-> West 남->북South-> North 6868 radish 00 3030 3030 radish 3535 4545 4545 U 7070 5555 5555

특히, 상기 스커트부의 면적을 최소화하기 위하여 상기 선단부에 다수의 구멍이 형성되는 경우에는 자계에 노출되는 전자빔의 양이 더욱 증가하게 되어 상기 전자빔의 이동량을 증가시키고 상기 패널의 색순도 열화현상을 더욱 악화시키게 된다.
In particular, when a plurality of holes are formed in the tip portion in order to minimize the area of the skirt portion, the amount of electron beams exposed to the magnetic field is further increased to increase the amount of movement of the electron beams and to worsen the color purity degradation of the panel. do.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 섀도우 마스크의 열팽창과 그에 따른 미스랜딩 현상을 방지하기 위해 최소한의 면적으로 형성되는 섀도우 마스크에 있어, 상기 섀도우 마스크를 지지하는 마스크 프레임에 비드를 장착함으로써 상기 섀도우 마스크 및 마스크 프레임간의 간격증가에 따라 발생하는 색순도 저하를 방지하는 마스크 프레임을 제공하는 데 그 목적이 있다.
The present invention has been made to solve the above-described problems of the prior art, in the shadow mask formed with a minimum area to prevent thermal expansion of the shadow mask and the resulting mis-landing phenomenon, the mask frame for supporting the shadow mask It is an object of the present invention to provide a mask frame that prevents color purity degradation caused by increasing an interval between the shadow mask and the mask frame by attaching the beads.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 마스크 프레임은 전자빔 통과공이 다수 형성된 유공부와 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와 상기 무공부에서 수직 연장되는 선단부가 구비되는 섀도우 마스크를 지지하기 위하여 상기 섀도우 마스크와 용접고정되는 마스크 프레임에 있어서, 상기 마스크 프레임은 상기 선단부 측으로 돌출되어 상기 선단부와 대향하도록 형성되는 비드를 포함하여 구성되는 것을 제 1특징으로 한다. The mask frame according to the present invention for solving the above problems is to support a shadow mask provided with a hole having a plurality of electron beam through holes, a hole is located at the outer edge of the hole and a tip extending vertically from the hole In the mask frame is welded and fixed to the shadow mask, the mask frame is characterized in that it comprises a bead protruding toward the tip end portion formed to face the tip end portion.

또한, 전자빔 통과공이 다수 형성되는 유공부와 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와 상기 무공부에서 수직으로 연장절곡되는 선단부가 구비되는 섀도우 마스크를 지지하기 위하여 상기 섀도우 마스크와 용접고정되는 마스크 프레임에 있어서, 상기 마스크 프레임은 상기 선단부 측으로 돌출형성되며, 끝단이 상기 선단부보다 낮게 형성되는 비드를 포함하여 구성되는 것을 제 2특징으로 한다.
In addition, the mask is welded and fixed to the shadow mask to support the shadow mask is provided with a hole having a plurality of electron beam through-holes, a hole is located at the outer edge of the hole and the tip portion is bent vertically extending from the hole The frame is characterized in that the mask frame is formed to protrude toward the tip end portion, and includes a bead whose tip is formed lower than the tip end portion.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 칼라 음극선관은 패널과, 상기 패널에 접합된 펀넬로 구성되어 진공용기를 형성한다. 상기 패널 내면에는 청, 녹, 적색으로 발광하는 3색의 형광체가 도포된 형광체 스크린이 형성되어 있으며 상기 형광체 스크린의 내측에는 상기 스크린으로부터 소정 간격만큼 이격된 직사각형 형상의 섀도우 마스크가 장착된다.The color cathode ray tube according to the present invention comprises a panel and a funnel bonded to the panel to form a vacuum container. A phosphor screen coated with three phosphors emitting blue, green, and red light is formed on an inner surface of the panel, and a rectangular shadow mask spaced apart from the screen by a predetermined interval is mounted inside the phosphor screen.

상기 펀넬의 네크부에는 3색의 전자빔을 방출하는 전자총과, 상기 펀넬의 외 측에 장착되어 상기 전자총으로부터 방출되는 전자빔을 상하좌우로 편향시키는 편향요크가 장착되어, 상기 전자총으로부터 방출된 전자빔이 상기 편향요크에 의해 편향되어 상기 섀도우 마스크를 통해 상기 스크린의 형광체를 타격함으로써 화상을 표시하게 된다.The neck of the funnel is equipped with an electron gun that emits three electron beams, and a deflection yoke mounted on an outer side of the funnel to deflect the electron beam emitted from the electron gun up, down, left, and right, and the electron beam emitted from the electron gun is It is deflected by the deflection yoke and strikes the phosphor of the screen through the shadow mask to display an image.

도 6은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 구조를 도시한 도이다. 6 is a diagram illustrating a structure of a shadow mask according to the present invention.

본 발명에 따른 상기 섀도우 마스크(50)는 전자빔 통과공이 다수 형성된 유공부와, 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와, 상기 무공부의 외측 가장자리로부터 수직으로 연장절곡되어 상기 섀도우 마스크(50)를 지지하는 마스크 프레임과 연결되는 스커트부로 구성된다.The shadow mask 50 according to the present invention includes a hole having a plurality of electron beam through-holes, a non-hole positioned at an outer edge of the hole, and vertically bent from an outer edge of the non-porous portion of the shadow mask 50. It is composed of a skirt portion connected to the mask frame for supporting).

또한, 상기 스커트부는 상기 마스크 프레임과 용접고정되는 용접점이 위치되는 설편부와, 상기 설편부를 제외한 나머지부분인 선단부로 구성될 수 있다.In addition, the skirt portion may be composed of a tongue section where the welding point is welded and fixed to the mask frame, and a tip end portion other than the tongue section.

상기 선단부는 상기 설편부와 동일길이로 형성될 수 있으며, 상기 섀도우 마스크의 열팽창에 따른 미스랜딩 현상을 방지하기 위해 상기 설편부의 높이보다 낮은 높이로 형성될 수 있다.The tip portion may be formed to have the same length as the tongue piece portion, and may be formed to have a height lower than that of the tongue piece portion in order to prevent a mislanding phenomenon caused by thermal expansion of the shadow mask.

이때, 상기와 같이 상기 선단부의 높이(Mn)가 상기 설편부의 높이(Sh)보다 낮게 형성되는 경우에는 다음의 관계식을 만족하는 것이 바람직하다.
At this time, when the height Mn of the tip portion is formed lower than the height Sh of the tongue section as described above, it is preferable to satisfy the following relational expression.

Mn < 1/2 X ShMn <1/2 X Sh

또한, 미스랜딩 현상을 더욱 효과적으로 방지하기 위하여 상기 선단부에 다수의 구멍이 형성될 수 있으며, 상기 섀도우 마스크는 invar 재질 뿐만 아니라 AK재질로도 형성될 수 있다.In addition, a plurality of holes may be formed in the front end portion to more effectively prevent mis-landing, and the shadow mask may be formed of an AK material as well as an invar material.

본 발명에서는 상기의 형태로 구현되는 섀도우 마스크에 모두 그 적용이 가능함을 명시한다. In the present invention, it is specified that the application is applicable to all of the shadow mask implemented in the above form.

도 7은 본 발명에 따른 섀도우 마스크 및 마스크 프레임 결합구조를 도시한 사시도이며, 도 8은 본 발명의 제 1실시예에 따른 마스크 프레임의 구조를 상세하게 도시한 도이다.FIG. 7 is a perspective view illustrating a shadow mask and a mask frame coupling structure according to the present invention, and FIG. 8 is a view showing the structure of a mask frame according to the first embodiment of the present invention in detail.

본 발명에 따른 마스크 프레임(60)은 상기 섀도우 마스크(50)의 스커트부(51, 52)에 고정되어 상기 섀도우 마스크(50)를 지지하는 역할을 수행한다. The mask frame 60 according to the present invention is fixed to the skirt portions 51 and 52 of the shadow mask 50 to support the shadow mask 50.

상기 마스크 프레임(60)은 단면 L자형의 직사각형 형상으로 형성되며, 그 측벽부에는 상기 마스크 프레임(60) 각 모서리에 걸쳐 돌출부가 형성되어 상기 섀도우 마스크 설편부(51)와 용접된다.The mask frame 60 is formed in a rectangular shape having a cross-sectional L-shape, and protruding portions are formed at each side edge of the mask frame 60 to be welded to the shadow mask tongue 51.

이때, 본 발명에 따른 마스크 프레임(60)은 각 변을 따라 상기 선단부(52)측으로 돌출 형성되어 상기 선단부(52)와 대향하도록 형성되는 비드(61)를 포함하여 구성된다.At this time, the mask frame 60 according to the present invention is configured to include a bead 61 formed to protrude toward the front end portion 52 along each side to face the front end portion 52.

상기 마스크 프레임(60)에 장착되는 상기 비드(61)는 다양한 형상으로 구현될 수 있으며 본 명세서에서는 3가지 형상으로 구현된 비드(61)를 예시한다. The bead 61 mounted on the mask frame 60 may be implemented in various shapes, and the beads 61 may be implemented in three shapes in the present specification.

즉, 상기 비드(61a)는 상기 섀도우 마스크의 선단부(52)를 향해 L자형으로 형성되어 상기 L자형 비드(61a)의 긴 변이 상기 선단부(52)와 대향하도록 형성될 수 있다.That is, the bead 61a may be formed in an L shape toward the distal end portion 52 of the shadow mask so that the long side of the L-shaped beads 61a faces the distal end portion 52.

또한, 상기 비드(61b)는 상기 선단부(52)와 대향하여 요철 형상으로 형성될 수 있으며, 상기 선단부 측으로 일정 각도(θ)를 갖도록 형성될 수도 있다.(61c)In addition, the bead 61b may be formed to have a concave-convex shape to face the distal end portion 52, and may be formed to have a predetermined angle θ toward the distal end portion.

이때, 상기 비드(61c)가 일정 각도(θ)를 가지고 경사지도록 형성되는 경우 상기 각도(θ)는 15°내지 30°의 범위를 만족하도록 형성되는 것이 바람직하다.In this case, when the bead 61c is formed to be inclined with a predetermined angle θ, the angle θ is preferably formed to satisfy a range of 15 ° to 30 °.

한편, 본 발명에 따른 상기 비드(61)는 그 폭이 0.5㎜ 이상으로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the width of the bead 61 according to the present invention is 0.5mm or more.

또한, 상기 비드(61)는 상기 마스크 프레임(60) 및 섀도우 마스크(50)간의 간격(DS)과 상기 비드의 폭(FS), 상기 선단부의 길이(Mw)와 상기 비드의 길이(Fw) 및 상기 비드의 높이(Fsh)와 상기 마스크 프레임의 높이(Fsi)가 다음의 관계식을 만족하는 것이 바람직하다.
In addition, the bead 61 is a gap DS between the mask frame 60 and the shadow mask 50, the width FS of the bead, the length Mw of the tip portion, the length Fw of the bead, It is preferable that the height Fsh of the bead and the height Fsi of the mask frame satisfy the following relational expression.

FS / DS ≥ 10%FS / DS ≥ 10%

Fw / Mw ≥ 10%Fw / Mw ≥ 10%

Fsh < FsiFsh <Fsi

표 2는 상기 비드(61)가 형성된 마스크 프레임(60) 및 상기 선단부(52)간의 간격에 따른 전자빔 이동량이 나타난 표이다.Table 2 is a table showing the amount of electron beam movement according to the distance between the mask frame 60 and the tip 52, the bead 61 is formed.

즉, 종래 기술에 따른 상기 표 1과 본 발명에 따른 상기 표2를 비교하면, 상 기 마스크 프레임(60)에 대향하는 상기 섀도우 마스크 스커트부 면적 축소로 인해 발생한 상기 섀도우 마스크(50) 및 마스크 프레임(60)간의 간격(DS) 증가를 상기 선단부(52) 방향으로 형성된 상기 비드(61)를 통해 줄일 수 있어, 지자계에 의한 전자빔의 영향을 감소시킬 수 있게 된다.
That is, when comparing Table 1 according to the prior art and Table 2 according to the present invention, the shadow mask 50 and the mask frame generated due to the reduction of the area of the shadow mask skirt portion facing the mask frame 60. An increase in the interval DS between 60 can be reduced through the bead 61 formed in the direction of the tip portion 52, so that the influence of the electron beam by the geomagnetic field can be reduced.

대각치수 (㎜)Diagonal dimensions (mm) DS (㎜)DS (mm) 지자계의 방향전환에 따른 전자빔 이동량(㎛)Amount of Electron Beam Movement According to Direction Change of Geomagnetic Field (㎛) 동 -> 서East-> West 남 -> 북South-> North 6868 7070 5757 5757 3535 4747 4747 00 3232 3232

대각치수 (㎜)Diagonal dimensions (mm) DS (㎜)DS (mm) 하울링Howling 프레임 강도Frame strength 6868 7070 XX 3535 00

또한, 상기 표 3에 나타난 바와 같이, 상기 마스크 프레임(60)에 비드(61)를 형성하고 상기 비드(61)의 폭을 증가시켜 상기 간격(DS)을 감소시킬수록 외부 충격에 대한 상기 마스크 프레임(60)의 강도를 증가시킬 수 있으며, 하울링 특성 또한 향상시킬 수 있다.In addition, as shown in Table 3, as the bead 61 is formed in the mask frame 60 and the width of the bead 61 is increased to decrease the gap DS, the mask frame against external impact The strength of 60 can be increased, and the howling properties can also be improved.

도 9는 본 발명의 제 2실시예에 따른 마스크 프레임의 구조를 도시한 도이다. 본 발명의 제 2실시예에 따른 마스크 프레임(60)은 상기 비드(61d)를 제외하고는 그 구성이 유사하므로 그에 대한 부가적인 설명은 생략한다. 9 is a diagram showing the structure of a mask frame according to a second embodiment of the present invention. Since the mask frame 60 according to the second embodiment of the present invention has a similar configuration except for the beads 61d, additional description thereof will be omitted.                     

즉, 상기 마스크 프레임(60)은 상기 선단부(52) 측으로 돌출형성되는 비드(61d)를 포함하여 구성되며, 이때 상기 비드(61d)는 끝단이 상기 선단부의 끝단(54)보다 낮게 형성된다.That is, the mask frame 60 includes a bead 61d protruding toward the distal end portion 52, and the end of the bead 61d is lower than the distal end portion 54 of the distal end portion.

따라서, 본 발명의 제 2실시예를 통해 구현되는 상기 비드(61d)의 형상은 그 끝단이 상기 선단부의 끝단(54)보다 낮게 형성되는 경우에는 상기 제 1실시예에서 예시된 형태로 모두 적용될 수 있다.
Therefore, the shape of the bead 61d implemented through the second embodiment of the present invention may be applied to all of the shapes illustrated in the first embodiment when the end thereof is formed lower than the end 54 of the tip portion. have.

이상과 같이 본 발명에 의한 마스크 프레임을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 지자계 또는 외부자계에 의한 전자빔 이동량을 감소시키기 위하여 마스크 프레임에 비드를 장착하는 기술사상은 보호되는 범위 이내에서 당업자에 의해 용이하게 응용될 수 있다.
As described above, the mask frame according to the present invention has been described with reference to the illustrated drawings. However, the present invention is not limited by the embodiments and drawings disclosed herein, and the mask is used to reduce the amount of electron beam movement by a geomagnetic field or an external magnetic field. The idea of mounting a bead to a frame can be readily applied by one skilled in the art within the scope of protection.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 마스크 프레임은 섀도우 마스크와의 간격을 감소시키기 위하여 다양한 형태의 비드를 장착함으로써, 상기 간격 증가로 인해 발생하는 지자계 또는 외부자계의 영향을 크게 감소시킬 수 있으며, 상기 프레임의 강도가 증가되어 내구성이 향상되며, 하울링 특성 또한 개선될 수 있으므로 제품의 신뢰성이 크게 증진되는 효과가 있다.The mask frame according to the present invention configured as described above can be greatly reduced the effect of the geomagnetic field or external magnetic field caused by the increase in the gap by mounting a variety of beads to reduce the distance to the shadow mask, The strength of the frame is increased to improve durability, and howling properties may also be improved, thereby greatly improving the reliability of the product.

Claims (14)

전자빔 통과공이 다수 형성된 유공부와 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와 상기 무공부에서 수직 연장되는 선단부가 구비되는 섀도우 마스크를 지지하기 위하여 상기 섀도우 마스크와 용접고정되는 마스크 프레임에 있어서,In the mask frame welded and fixed to the shadow mask to support a shadow mask having a hole having a plurality of electron beam through holes, a non-hole located at the outer edge of the hole and a tip portion extending vertically from the non-hole; 상기 마스크 프레임은 상기 선단부 측으로 돌출되어 상기 선단부와 대향하도록 형성되는 비드를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The mask frame is characterized in that it comprises a bead protruding toward the tip end portion to face the tip end portion. 전자빔 통과공이 다수 형성되는 유공부와 상기 유공부의 외측 가장자리에 위치되는 무공부와 상기 무공부에서 수직으로 연장절곡되는 선단부가 구비되는 섀도우 마스크를 지지하기 위하여 상기 섀도우 마스크와 용접고정되는 마스크 프레임에 있어서,In the mask frame welded and fixed to the shadow mask to support a shadow mask having a hole formed with a plurality of electron beam through holes, a hole portion located at the outer edge of the hole portion and a tip portion extending vertically bent from the hole portion In 상기 마스크 프레임은 상기 선단부 측으로 돌출형성되며, 끝단이 상기 선단부보다 낮게 형성되는 비드를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The mask frame is protruding toward the tip side, the mask frame characterized in that it comprises a bead is formed lower than the tip end. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 선단부는 다수의 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The front end portion is a mask frame, characterized in that a plurality of holes are formed. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 섀도우 마스크는 AK재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The shadow mask is a mask frame, characterized in that formed of AK material. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 상기 섀도우 마스크의 선단부를 향하여 L자형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead mask frame, characterized in that formed in the L-shape toward the front end of the shadow mask. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 상기 섀도우 마스크의 선단부를 향하여 요철 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead is mask frame, characterized in that formed in the concave-convex shape toward the leading end of the shadow mask. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 상기 섀도우 마스크의 선단부 측으로 일정 각도를 가지고 경사지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead mask frame, characterized in that formed to be inclined at a predetermined angle toward the tip side of the shadow mask. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 비드는 15°내지 30°의 각도로 경사지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead mask frame, characterized in that formed to be inclined at an angle of 15 ° to 30 °. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 그 폭이 0.5㎜ 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead is a mask frame, characterized in that the width is formed to more than 0.5mm. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 상기 마스크 프레임 및 섀도우 마스크간의 간격(DS)과 상기 비드의 폭(FS)이 다음의 관계식을 만족하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.And the bead is formed such that the interval DS between the mask frame and the shadow mask and the width FS of the bead satisfy the following relational expression. FS / DS ≥ 10%FS / DS ≥ 10% 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 상기 선단부의 길이(Mw)와 상기 비드의 길이(Fw)가 다음의 관계식을 만족하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.And the bead is formed such that the length (Mw) of the tip portion and the length (Fw) of the bead satisfy the following relational expression. Fw / Mw ≥ 10%Fw / Mw ≥ 10% 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 비드는 그 높이(Fsh)와 상기 프레임의 높이(Fsi)가 다음의 관계식을 만족하는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The bead mask frame, characterized in that the height (Fsh) and the height (Fsi) of the frame satisfy the following relationship. Fsh < FsiFsh <Fsi 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 섀도우 마스크는 상기 마스크 프레임과 용접되는 용접점이 위치한 설편부를 포함하며, 상기 설편부는 그 높이가 상기 선단부의 높이보다 높게 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The shadow mask includes a tongue section in which a welding point is welded to the mask frame, wherein the tongue section has a height greater than that of the tip end portion. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 섀도우 마스크는 상기 설편부의 높이(Sh)와 상기 선단부의 높이(Mn)가 다음의 관계식을 만족하는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.The shadow mask is a mask frame, characterized in that the height (Sh) of the tongue section and the height (Mn) of the tip portion satisfy the following relational expression. Mn < 1/2 X ShMn <1/2 X Sh
KR1020040061591A 2004-08-05 2004-08-05 Mask frame KR20060012884A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040061591A KR20060012884A (en) 2004-08-05 2004-08-05 Mask frame

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040061591A KR20060012884A (en) 2004-08-05 2004-08-05 Mask frame

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060012884A true KR20060012884A (en) 2006-02-09

Family

ID=37122393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040061591A KR20060012884A (en) 2004-08-05 2004-08-05 Mask frame

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060012884A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20060012884A (en) Mask frame
EP1306875B1 (en) Tension mask for a cathode-ray-tube
KR100298411B1 (en) structure for frame in cathode-ray tube
KR100269921B1 (en) Cathode ray tube
JP2582158Y2 (en) Color cathode ray tube
KR100360503B1 (en) Color cathode-ray tube with expanded effective display area
KR100457618B1 (en) Inner shield of cathode ray tube
KR0137648Y1 (en) Cathode ray tube
KR100414495B1 (en) Transposed scan CRT
KR100313123B1 (en) Innershield assembly for anti-magnetic field
US20020030429A1 (en) Magnetic shield structure for color cathode ray tube
KR970005075Y1 (en) Cathode-ray tube of inner shield
KR100505863B1 (en) Shadowmask of Color CRT
KR100403769B1 (en) the color Cathode-ray Tube
KR200160369Y1 (en) Flat cathode ray tube
KR100209691B1 (en) Color cathode ray tube
US6885141B2 (en) Shadow mask having slotted skirt portion
KR20000010590U (en) Cathode ray tube
KR20020068892A (en) Cathode ray tube
KR20040068754A (en) Color Cathode-ray Tube
KR20060068932A (en) Cathode ray tube
KR20020070723A (en) Cathode Ray Tube
KR19990008930A (en) Cathode ray tube
KR20020071530A (en) Shadow-mask bridge figure of a color cathode Ray Tube
KR19990008328U (en) Inner shield for cathode ray tube

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
WITN Withdrawal due to no request for examination