KR20050116262A - Shadow mask for cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은 섀도우 마스크의 열팽창에 의한 도밍현상을 억제하기 위하여 스커트부에 다수 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관용 섀도우 마스크에 관한 것으로써, 전자빔 통과공이 다수 형성된 유효면부와 상기 유효면부의 외측 가장자리에 위치한 비유효면부와 상기 비유효면부에서 연장 절곡되어 프레임이 용접되는 스커트부로 구성되는 음극선관용 섀도우 마스크에 있어서, 상기 스커트부는 다수의 구멍이 형성되며, 상기 스커트부의 단면적과 상기 구멍이 차지하는 총단면적의 비가 0.5 이하로 형성되어, 상기 섀도우 마스크의 열팽창에 따른 전자빔의 미스랜딩(mislanding)현상을 최소화하여 상기 음극선관의 색순도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 기존에 사용하던 고가의 재질 대신 저가의 AK재질로 상기 섀도우 마스크를 형성함으로써, 생산비를 절감하여 가격 경쟁력을 크게 향상시킬 수 있는 이점이 있다. The present invention relates to a shadow mask for cathode ray tube, characterized in that a plurality of holes are formed in the skirt portion in order to suppress the dominant phenomenon due to thermal expansion of the shadow mask, the effective surface portion having a plurality of electron beam through-holes and the outer edge of the effective surface portion A shadow mask for a cathode ray tube comprising a non-effective surface portion located at and a skirt portion extended from the non-effective surface portion to be welded to a frame, wherein the skirt portion is formed with a plurality of holes, the cross-sectional area of the skirt portion and the total cross-sectional area occupied by the hole. A ratio of 0.5 or less is formed, thereby minimizing mislanding of the electron beam due to thermal expansion of the shadow mask, thereby improving color purity of the cathode ray tube, and inexpensive AK material instead of expensive materials. By forming the shadow mask with There is an advantage that can significantly improve the price competitiveness by reducing acid costs.
Description
본 발명은 음극선관용 섀도우 마스크에 관한 것으로써, 특히 섀도우 마스크의 열팽창에 의한 도밍현상을 억제하기 위하여 스커트부에 다수 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관용 섀도우 마스크에 관한 것이다. The present invention relates to a shadow mask for a cathode ray tube, and more particularly to a shadow mask for cathode ray tube, characterized in that a plurality of holes are formed in the skirt portion in order to suppress the doming phenomenon due to thermal expansion of the shadow mask.
도 1은 일반적인 칼라 음극선관의 구조를 도시한 측단면도이다.1 is a side cross-sectional view showing the structure of a general color cathode ray tube.
일반적인 칼라 음극선관은 진공외관용기의 전면에 장착되며 화상이 구현되는 패널(1)과, 상기 패널(1)과 연결되어 진공용기를 형성하는 펀넬(2)과, 상기 패널(1)의 내면에 형성되며 다수의 형광체가 도포되는 스크린과, 상기 펀넬(2)의 네크부에 삽입되며 전자빔을 방출하는 전자총과, 2차원적 영상이 재생될 수 있도록 상기 전자빔을 상하좌우로 주사하는 편향요크(4) 및 상기 편향요크(4)를 통해 편향된 전자빔이 상기 스크린의 형광체를 정확하게 타격할 수 있도록 전자빔 통과공이 다수 형성되는 섀도우 마스크(3)를 포함하여 구성된다.A common color cathode ray tube is mounted on a front surface of a vacuum outer container and has an image implemented thereon, a funnel 2 connected to the panel 1 to form a vacuum container, and an inner surface of the panel 1. A screen formed with a plurality of phosphors, an electron gun inserted into a neck portion of the funnel 2 to emit an electron beam, and a deflection yoke for scanning the electron beam up, down, left, and right so that a two-dimensional image can be reproduced (4). And a shadow mask 3 having a plurality of electron beam through holes formed so that the electron beam deflected through the deflection yoke 4 can strike the phosphor of the screen accurately.
또한, 상기와 같이 구성되는 칼라 음극선관은 상기 전자총을 통하여 방출된 전자빔이 상기 편향요크(4)에 의하여 상하좌우로 편향되어 상기 섀도우 마스크(3)의 전자빔 통과공을 통과한 후 상기 형광체를 타격 발광시킴으로서 화상을 구현하게 된다.In addition, the color cathode ray tube configured as described above hits the phosphor after the electron beam emitted through the electron gun is deflected up, down, left and right by the deflection yoke 4 and passes through the electron beam passing hole of the shadow mask 3. By emitting light, an image is realized.
이때, 상기 섀도우 마스크(3)에 도달한 전자빔은 구현되고자 하는 영상신호에 대응되는 전자빔만 상기 전자빔 통과공을 통과하여 상기 형광체를 타격 및 발광시키게 되며, 그 외의 전자빔들은 상기 섀도우 마스크(3)를 타격하게 된다.At this time, the electron beam reaching the shadow mask 3 passes only the electron beam corresponding to the image signal to be implemented to hit and emit the phosphor by passing through the electron beam passing hole, and the other electron beams may emit the shadow mask 3. Will be hit.
도 2는 종래 기술에 따른 음극선관용 섀도우 마스크의 구성을 도시한 도이며, 도 3은 음극선관의 동작시 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 온도분포를 도시한 분포도이다.2 is a view showing the configuration of a shadow mask for a cathode ray tube according to the prior art, Figure 3 is a distribution diagram showing the temperature distribution of the shadow mask according to the prior art during operation of the cathode ray tube.
종래 기술에 따른 섀도우 마스크는 도 2에 도시된 바와 같이, 전자빔이 통과할 수 있도록 다수의 전자빔 통과공이 형성된 유효면부(10)와, 상기 유효면부(10)의 주변부에 위치하며 상기 전자빔 통과공이 분포하지 않는 비유효면부(11)와, 상기 비유효면부(11)의 가장자리에서 상기 비유효면부(11)와 거의 직각방향으로 절곡 형성되어 프레임과 용접 고정(13)되는 스커트부(12)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the shadow mask according to the related art is provided with an effective surface portion 10 having a plurality of electron beam through holes formed therein so as to allow electron beams to pass therethrough, and a periphery of the effective surface portion 10 and the electron beam passing holes are distributed. Non-effective surface portion 11 and a skirt portion 12 that is bent at a substantially perpendicular direction with the non-effective surface portion 11 at the edge of the non-effective surface portion 11 and welded to the frame 13. do.
상기 섀도우 마스크는 상기 음극선관의 동작시, 상기 전자빔 통과공을 통과하지 못한 전자빔과의 충돌에 의해 그 온도가 상승하게 되며, 이에 따라 상기 섀도우 마스크의 유효면부(10)가 상기 패널 측 돔(dom)형상으로 팽출하는 도밍현상이 발생한다.When the shadow mask is operated, the temperature of the shadow mask is increased by collision with an electron beam that has not passed through the electron beam passing hole, and thus the effective surface portion 10 of the shadow mask is moved to the panel side dome. Doming phenomenon that expands into a shape occurs.
또한, 도밍현상에 의해 팽출된 섀도우 마스크가 허용치를 초과하면 상기 전자빔 통과공의 위치가 변화되어 상기 스크린 형광체에 대한 전자빔의 랜딩(landing)이 어긋나게 되므로 상기 패널(1)을 통해 구현되는 화상의 색순도가 열화되는 문제점이 발생한다.In addition, when the shadow mask swelled by the dominant phenomenon exceeds the allowable value, the position of the electron beam through hole is changed so that the landing of the electron beam with respect to the screen phosphor is shifted, so that the color purity of the image implemented through the panel 1 The problem of deterioration occurs.
한편, 이때 유발되는 전자빔의 미스랜딩(mislanding)은 상기 섀도우 마스크의 열팽창시 중심부 및 주변부가 균일한 팽창을 일으키는 경우에는 발생하지 않는다. On the other hand, mis-landing of the electron beam caused at this time does not occur when the central portion and the periphery cause uniform expansion during thermal expansion of the shadow mask.
그러나, 종래 기술에 따른 섀도우 마스크는 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 전자빔과의 충돌확률이 높은 중심부(A)에서 그 온도가 가장 높고 주변부(B)로 갈수록 그 온도가 낮아지기 때문에 전체적으로 불균일한 열팽창 현상을 유발하게 되며, 따라서 상기 전자빔의 미스랜딩(mislanding)현상이 발생하게 된다.However, the shadow mask according to the prior art, as shown in Figure 3, because the temperature is the highest in the central portion (A) having a high probability of collision with the electron beam and the temperature is lowered toward the peripheral portion (B) overall non-uniform thermal expansion Phenomenon, and thus, mislanding of the electron beam occurs.
아울러, 상기 섀도우 마스크의 열팽창시 상기 프레임과 용접고정되는 상기 스커트부의 용접점(13)은 상기 섀도우 마스크의 열팽창시 일종의 구속점의 역할을 수행하여 상기 섀도우 마스크의 팽창을 저지하기 때문에 전체적인 불균일 팽창은 더욱 심화되며 이에 따른 미스랜딩(mislanding) 역시 증가하게 된다.In addition, the welding point 13 of the skirt portion welded to the frame during thermal expansion of the shadow mask serves as a kind of restraint point during thermal expansion of the shadow mask, thereby preventing expansion of the shadow mask. The deepening and mislanding increase accordingly.
또한, 상기의 문제점을 해결하기 위한 방법으로서 열팽창률이 작은 인바(INVAR)재질을 사용하여 상기 섀도우 마스크를 형성할 수 있으나 상기 인바재질은 그 가격이 고가이므로 섀도우 마스크의 제작시 생산비가 크게 증가하게 되는 문제점이 있다. In addition, as a method for solving the above problems, the shadow mask may be formed using an invar (INVAR) material having a low coefficient of thermal expansion, but since the invar material is expensive, the production cost is greatly increased when the shadow mask is manufactured. There is a problem.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 프레임과 연결되는 섀도우 마스크의 스커트부에 다수의 구멍을 형성함으로써 저가의 AK 재질을 사용하더라도 전자빔 타격에 의한 열팽창 및 그에 따른 전자빔의 미스랜딩 현상을 억제할 수 있는 음극선관용 섀도우 마스크를 제공하는 데 그 목적이 있다. The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, by forming a plurality of holes in the skirt portion of the shadow mask connected to the frame, even if a low-cost AK material is used, thermal expansion due to the electron beam strike and the resulting electron beam An object of the present invention is to provide a shadow mask for a cathode ray tube that can suppress a mislanding phenomenon.
상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 음극선관용 섀도우 마스크는 전자빔 통과공이 다수 형성된 유효면부와, 상기 유효면부의 외측 가장자리에 위치한 비유효면부와, 상기 비유효면부에서 수직으로 연장절곡되어 프레임이 용접되는 스커트부로 구성되는 음극선관용 섀도우 마스크에 있어서, 상기 스커트부는 다수의 구멍이 형성되는 것을 제 1특징으로 한다.The shadow mask for cathode ray tube according to the present invention for solving the above problems is an effective surface portion formed with a plurality of electron beam through holes, an invalid surface portion located on the outer edge of the effective surface portion, and bent vertically extending from the invalid surface portion frame A shadow mask for a cathode ray tube composed of a skirt portion to be welded, wherein the skirt portion is characterized in that a plurality of holes are formed.
또한, 본 발명에 따른 음극선관용 섀도우 마스크는 전자빔 통과공이 다수 형성된 유효면부와 상기 유효면부의 외측 가장자리에 위치한 비유효면부와 상기 비유효면부에서 연장절곡되어 프레임이 용접되는 스커트부로 구성되는 음극선관용 섀도우 마스크에 있어서, 상기 스커트부는 상기 프레임과 용접되는 용접점이 위치하는 설편부와, 상기 설편부보다 짧게 형성되며 표면에 다수의 구멍이 형성되는 선단부를 포함하여 구성되는 것을 제 2특징으로 한다. In addition, the shadow mask for cathode ray tube according to the present invention is a shadow for cathode ray tube comprising an effective surface portion formed with a plurality of electron beam through holes, an invalid surface portion located on the outer edge of the effective surface portion and a skirt portion which is bent in the non-effective surface portion to weld the frame The mask is characterized in that the skirt portion includes a tongue section where a welding point welded to the frame is located, and a tip section formed shorter than the tongue section and having a plurality of holes formed on a surface thereof.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다. 이때 음극선관 및 음극선관용 섀도우 마스크를 구성하는 기본적인 구조는 전술한 종래 기술과 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. At this time, since the basic structure constituting the cathode ray tube and the shadow mask for the cathode ray tube is the same as the above-described prior art, a detailed description thereof will be omitted.
도 4 는 본 발명에 따른 음극선관용 섀도우 마스크의 제 1실시예를 도시한 도이며, 도 5 은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 특성을 도시한 그래프이다.4 is a view showing a first embodiment of a shadow mask for a cathode ray tube according to the present invention, Figure 5 is a graph showing the characteristics of the shadow mask according to the present invention.
본 발명의 제 1실시예에 따른 음극선관용 섀도우 마스크(50)는 전자빔 통과공이 다수 형성된 유효면부(51)와, 상기 유효면부(51)의 외측 가장자리에 위치한 비유효면부(52)와, 상기 비유효면부(52)에서 연장 절곡되어 프레임이 용접되는 스커트부(53)를 포함하여 구성된다.The shadow mask 50 for a cathode ray tube according to the first embodiment of the present invention is an effective surface portion 51 having a plurality of electron beam through holes, an invalid surface portion 52 located at an outer edge of the effective surface portion 51, and the ratio It comprises a skirt portion 53 which is bent extending from the effective surface portion 52, the frame is welded.
상기 섀도우 마스크(50)는 고가의 invar재질 대신, 재질의 균일성을 요구하는 용도로 널리 사용되는 AK(Aluminium Killed)재질로 형성된다.The shadow mask 50 is formed of an AK (Aluminum Killed) material that is widely used for the purpose of requiring uniformity of the material instead of the expensive invar material.
상기 스커트부(53)는 상기 전자빔과의 충돌에 의한 도밍현상 및 그에 의한 미스랜딩을 억제하기 위한 다수의 구멍(54)이 형성되며, 상기 스커트부(53)에 형성되는 상기 구멍(54)은 상기 전자빔 통과공이 분포되지 않은 비유효면부(52) 및 스커트부(53)의 면적을 최소화하기 위한 것으로서 상기 구멍(54)의 형성 정도에 따른 상기 섀도우 마스크(50)의 특성은 다음의 표에 따른다. The skirt portion 53 is formed with a plurality of holes 54 for suppressing the doming phenomenon and mis-landing caused by the collision with the electron beam, the hole 54 formed in the skirt portion 53 is The characteristics of the shadow mask 50 according to the degree of formation of the hole 54 are to minimize the area of the ineffective surface portion 52 and the skirt portion 53 in which the electron beam passing holes are not distributed. .
상기 표 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 스커트부의 구멍(54)은 그 크기가 크게 형성될수록 상기 섀도우 마스크(50)의 중심부와 주변부의 온도차를 감소시켜 도밍에 의한 전자빔 영향도(도밍량)를 감소시킬 수 있다.As shown in Tables 1 and 2, the hole 54 of the skirt portion decreases the temperature difference between the central portion and the peripheral portion of the shadow mask 50 as the size of the skirt portion increases, thereby affecting the electron beam (doming amount). Can be reduced.
그러나, 상기 구멍(54)이 형성되는 것으로 인해 상기 섀도우 마스크(50)를 통과하는 전자빔이 자계에 노출되어 지자계 또는 국부적인 외부 자계 등의 영향을 받으므로 상기 스커트부(53)의 단면적 및 상기 다수 구멍(54)이 차지하는 면적비율은 다음의 식을 만족하는 범위에 있는 것이 바람직하다. However, since the hole 54 is formed, the electron beam passing through the shadow mask 50 is exposed to a magnetic field and is affected by a geomagnetic field or a local external magnetic field, and thus the cross-sectional area of the skirt portion 53 and the The area ratio occupied by the majority holes 54 is preferably in a range satisfying the following equation.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 스커트부에 형성된 구멍의 면적비율이 증가할수록 상기 섀도우 마스크의 중심부와 주변부의 온도차를 감소시켜 도밍에 의한 전자빔 영향도는 감소시킬 수 있으나, 지자계 또는 외부자계에 의한 전자빔 이동량은 증가하게 된다.In addition, as shown in Figure 5, as the area ratio of the hole formed in the skirt portion increases the temperature difference between the central portion and the peripheral portion of the shadow mask can reduce the electron beam influence due to doming, but the geomagnetic field or external The amount of electron beam movement due to the magnetic field is increased.
특히, 상기 섀도우 마스크(50)를 곡률을 가진 마스크로 금형 성형시에는 상기 구멍(54)의 면적비율이 증가할수록 취출성이 저하되며, 상기 스커트부(53)의 강도가 상대적으로 크게 저하되게 된다.In particular, in the case of molding the shadow mask 50 with a curvature mask, the drawability decreases as the area ratio of the hole 54 increases, and the strength of the skirt portion 53 decreases relatively. .
따라서, 상기의 문제점을 최소화하기 위해서는 상기 섀도우 마스크 스커트부(53)에 형성되는 구멍(54)의 지름 또는 장변의 길이(Sc)가 0.5㎜ 내지 20㎜의 범위에서 형성되는 것이 바람직하다.Therefore, in order to minimize the above problem, the diameter of the hole 54 or the length Sc of the long side formed in the shadow mask skirt 53 is preferably formed in the range of 0.5 mm to 20 mm.
또한, 상기 섀도우 마스크 스커트부에 상기 구멍을 성형시 각 구멍간의 간격이 과도하게 좁은 경우에는 상기 스커트부의 일부가 파손의 위험이 있으므로, 상기 구멍(54)의 지름(Sc) 및 각 구멍 사이의 가로방향 길이(Sd)는 그 비율이 15% 이상이고, 각 구멍 사이의 세로방향 길이(Sw)와의 비율도 15%이상으로 상기 구멍이 형성되는 것이 바람직하다.In addition, when forming the hole in the shadow mask skirt part, if the spacing between the holes is too narrow, a part of the skirt part may be damaged, so the diameter Sc of the hole 54 and the width between the holes It is preferable that the ratio of the direction length Sd is 15% or more, and the said hole is formed in the ratio with the longitudinal length Sw between each hole also 15% or more.
도 6은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 제 2실시예를 도시한 도이다. 본 발명의 제 2실시예는 상기한 제 1 실시예의 구성과 유사하게 구성되므로 동일 구성에 대해서는 동일명칭 및 부호가 사용되며, 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략하도록 한다.6 illustrates a second embodiment of a shadow mask according to the present invention. Since the second embodiment of the present invention is configured similarly to the configuration of the above-described first embodiment, the same names and symbols are used for the same configuration, and additional description thereof will be omitted below.
즉, 본 발명의 제 2실시예에 따른 음극선관용 섀도우 마스크(50)는 상기 구멍(54)이 형성된 데 따른 외부자계의 영향을 최소화하기 위하여 상기 스커트부(53) 및 프레임(60)이 용접고정되는 용접점(55') 이하에 상기 구멍(54a)이 형성된다.That is, the shadow mask 50 for the cathode ray tube according to the second embodiment of the present invention is welded fixed to the skirt portion 53 and the frame 60 in order to minimize the influence of the external magnetic field caused by the hole 54 is formed. The hole 54a is formed below the welding point 55 '.
이때, 상기 용접점 이하의 위치에 형성되는 상기 구멍의 형상은 원, 타원, 직사각형(54a, 54b, 54c) 등 생산자에 의해 다양한 형상으로 구현될 수 있으며, 이는 상기 제 1실시예에도 동일하게 적용될 수 있다.In this case, the shape of the hole formed at the position below the welding point may be implemented in various shapes by the producers, such as circles, ellipses, rectangles 54a, 54b, 54c, and the like, which is equally applicable to the first embodiment. Can be.
또한, 상기 제 1실시예에서 설명한 바와 같이 상기 섀도우 마스크(50)의 성형성 및 내구성을 위하여 상기 구멍의 지름 또는 장변의 길이(Sc)가 0.5㎜ 내지 20㎜의 범위를 만족하도록 형성되는 것이 바람직하다.In addition, as described in the first embodiment, it is preferable that the diameter Sc of the hole or the length Sc of the long side satisfies the range of 0.5 mm to 20 mm for formability and durability of the shadow mask 50. Do.
도 7은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 제 3실시예를 도시한 도이다. 본 발명의 제 3실시예 역시 상기한 제 1실시예의 구성과 유사하게 구성되므로 동일 구성에 대해서는 동일명칭 및 부호가 사용되며, 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략하도록 한다. 7 is a view showing a third embodiment of the shadow mask according to the present invention. Since the third embodiment of the present invention is also configured similarly to the configuration of the first embodiment described above, the same names and symbols are used for the same configuration, and additional description thereof will be omitted below.
본 발명의 제 3실시예에 따른 음극선관용 섀도우 마스크(50)는 상기 섀도우 마스크 스커트부(53)의 면적을 최소화하기 위하여 상기 프레임과 상기 섀도우 마스크가 용접고정되는 용접점이 위치하는 설편부(56)와, 상기 설편부(56)의 길이보다 짧도록 형성되어 상기 섀도우 마스크 스커트부(53)의 각 변이 '??'자 형상이 되도록 하는 선단부를 포함하여 구성된다.The shadow mask 50 for the cathode ray tube according to the third embodiment of the present invention has a tongue section 56 at which a welding point is welded to the frame and the shadow mask in order to minimize the area of the shadow mask skirt 53. And a tip portion which is formed to be shorter than the tongue piece portion 56 so that each side of the shadow mask skirt portion 53 has a '??' shape.
상기 선단부는 상기 제 1 및 제 2 실시예와 유사하게 다수의 구멍이 형성되며, 이때 상기 섀도우 마스크 스커트부(53)에 미치는 지자계의 영향을 최소화하기 위하여 상기 구멍의 분포가 상기 섀도우 마스크(50)의 장단변 측으로 집중 분포하도록 형성된다. The tip portion is formed with a plurality of holes similar to the first and second embodiments, wherein the distribution of the holes is the shadow mask 50 in order to minimize the influence of the geomagnetic field on the shadow mask skirt portion 53. It is formed to be concentrated in the long and short side of
즉, 상기 섀도우 마스크의 스커트부(53)에 형성되는 상기 다수의 구멍(54)은 상기 스커트부 중앙에 설치된 설편부(56)을 중심으로 각 장단변 길이의 1/3 범위에 걸쳐 분포되도록 형성되어 상기 섀도우 마스크 스커트부의 자계노출에 의한 전자빔 영향도를 최소화할 수 있다. That is, the plurality of holes 54 formed in the skirt portion 53 of the shadow mask are formed to be distributed over a 1/3 range of the length of each long and short side about the tongue section 56 provided at the center of the skirt portion. Therefore, the influence of the electron beam due to the magnetic field exposure of the shadow mask skirt may be minimized.
이상과 같이 본 발명에 의한 음극선관용 섀도우 마스크를 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 전자빔의 미스랜딩현상을 방지하기 위하여 섀도우 마스크의 스커트부에 다수의 구멍이 형성되도록 하는 기술사상은 보호되는 범위 이내에서 당업자에 의해 용이하게 응용될 수 있다. As described above, the shadow mask for the cathode ray tube according to the present invention has been described with reference to the illustrated drawings. However, the present invention is not limited by the embodiments and drawings disclosed herein, and the shadow mask may be used to prevent mis-landing of the electron beam. The technical idea of forming a plurality of holes in the skirt portion can be easily applied by those skilled in the art within the protected range.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 음극선관용 섀도우 마스크는 섀도우 마스크의 스커트부에 다수의 구멍을 형성함으로써, 상기 섀도우 마스크의 열팽창에 따른 전자빔의 미스랜딩(mislanding)현상을 최소화하여 상기 음극선관의 색순도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The shadow mask for the cathode ray tube according to the present invention configured as described above forms a plurality of holes in the skirt portion of the shadow mask, thereby minimizing mislanding of the electron beam due to thermal expansion of the shadow mask to minimize the color purity of the cathode ray tube There is an effect to improve.
또한, 상기의 효과를 위하여 기존에 사용하던 고가의 재질 대신 저가의 AK재질로 상기 섀도우 마스크를 형성함으로써, 생산비를 절감하여 가격 경쟁력을 크게 향상시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, by forming the shadow mask with a low-cost AK material instead of the expensive material used in the conventional for the above effect, there is an advantage that can significantly improve the cost competitiveness by reducing the production cost.
도 1 은 일반적인 칼라 음극선관의 구조를 도시한 측단면도,1 is a side cross-sectional view showing the structure of a typical color cathode ray tube,
도 2 는 종래 기술에 따른 음극선관용 섀도우 마스크의 구성을 도시한 도,2 is a view showing the configuration of a shadow mask for a cathode ray tube according to the prior art,
도 3 은 음극선관의 동작시, 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 온도분포를 도시한 분포도,3 is a distribution diagram showing the temperature distribution of the shadow mask according to the prior art during operation of the cathode ray tube,
도 4 는 본 발명에 따른 음극선관용 섀도우 마스크의 제 1실시예를 도시한 도,4 shows a first embodiment of a shadow mask for a cathode ray tube according to the present invention;
도 5 는 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 특성을 도시한 그래프,5 is a graph illustrating the characteristics of the shadow mask according to the present invention;
도 6 은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 제 2실시예를 도시한 도,6 shows a second embodiment of a shadow mask according to the invention;
도 7 은 본 발명에 따른 섀도우 마스크의 제 3실시예를 도시한 도이다.7 illustrates a third embodiment of a shadow mask according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명><Explanation of symbols on main parts of the drawings>
50: 섀도우 마스크 51: 유효면부50: shadow mask 51: effective side
52: 비유효면부 53: 스커트부52: invalid surface portion 53: skirt portion
54: 구멍 55: 용접점 54: hole 55: welding point
Claims (10)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040041414A KR20050116262A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Shadow mask for cathode ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040041414A KR20050116262A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Shadow mask for cathode ray tube |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050116262A true KR20050116262A (en) | 2005-12-12 |
Family
ID=37289941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040041414A KR20050116262A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Shadow mask for cathode ray tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20050116262A (en) |
-
2004
- 2004-06-07 KR KR1020040041414A patent/KR20050116262A/en not_active Application Discontinuation
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