KR20050113117A - Mold for fabricating barrier ribs and a method for fabricating two-layered barrier ribs using the same - Google Patents

Mold for fabricating barrier ribs and a method for fabricating two-layered barrier ribs using the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 분리 격벽 제조용 몰드 및 이를 이용한 이중층 분리 격벽의 제조 방법에 관한 것으로, 구체적으로 제조하고자 하는 분리 격벽의 양각에 대응하는 형상의 음각부 및 제조하고자 하는 분리격벽의 음각에 대응하는 형상을 가지고 상기 음각부에 대해 돌출되어 있고, 양 측면이 테이퍼진 양각부를 포함하고, 상기 양각부 및 음각부가 소정의 간격을 두고 규칙적으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 분리 격벽 제조용 몰드 및 이를 이용한 이중층 분리 격벽의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드에 의하면 단일 엠보싱 공정에 의해 간단한 공정과 저렴한 비용으로 잉크젯용 이중층 분리 격벽을 제조할 수 있다.         The present invention relates to a mold for the production of a separation partition and a method for manufacturing a double-layer separation partition using the same, specifically, having an intaglio portion having a shape corresponding to an embossment of the separation partition to be manufactured and a shape corresponding to the intaglio of the separation partition to be manufactured. A mold for separating partition walls and a double layer separating partition wall using the same, wherein the protrusions protrude from the intaglio portion, and both sides have a tapered relief portion, and the relief portions and the intaglio portions are regularly arranged at predetermined intervals. The method for manufacturing a separation partition wall of the present invention enables the production of an inkjet double layer separation partition wall in a simple process and at a low cost by a single embossing process.

Description

분리 격벽 제조용 몰드 및 이를 이용한 이중층 분리 격벽의 제조 방법{Mold for fabricating barrier ribs and a method for fabricating two-layered barrier ribs using the same} Mold for separating barrier ribs and method for manufacturing double layer barrier ribs using the same {Mold for fabricating barrier ribs and a method for fabricating two-layered barrier ribs using the same}

본 발명은 분리 격벽 제조용 몰드 및 이를 이용한 이중층 분리 격벽의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 양 측면이 테이퍼진 복수의 양각부와 제조하고자 하는 분리 격벽의 양각에 대응하는 형상을 갖는 음각부를 포함하는 분리 격벽 제조용 몰드 및 이러한 몰드를 사용하여 저비용의 단순 공정에 의해 잉크젯용 이중층 분리 격벽을 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a mold for the production of a separation partition and a method for manufacturing a double-layer separation partition using the same, and more particularly, a plurality of tapered relief portions on both sides and an intaglio portion having a shape corresponding to the relief of the separation partition to be manufactured. And a method for producing a double-layer separation partition for inkjet by a simple process of low cost using such a mold.

기존의 디스플레이용 분리 격벽은, 도 1에 도시한 바와 같이, 유리기판(2) 위에 RGB의 픽셀을 구분하기 위해서 수직, 수평의 스트라이프 (stripe) 구조로 되어 있으며, 분리 격벽 사이의 공간은 완전히 비워져 있어서 광이 투과할 수 있도록 되어 있다. 액정 디스플레이 장치용 컬러 필터의 경우, 유리기판 위에 제조된 유기 블랙 매트릭스를 분리 격벽 구조의 예로 들 수 있다. 액정 디스플레이 장치용 컬러필터의 제조 방법에는 안료분산법,인쇄법,염색법,전착법, 잉크젯 프린팅법 등의 여러 가지 방법이 있는데, 이들 중에서도 잉크젯 프린팅법은 적색(R),녹색(G) 및 청색(B)의 컬러 필터를 동시에 만들 수 있기 때문에 공정이 간단하고 제조비용이 저렴하며 재료의 사용량이 감소되는 등의 이점이 있어 주목 받고 있다. As shown in FIG. 1, the conventional separation partition wall has a vertical and horizontal stripe structure for separating RGB pixels on the glass substrate 2, and the space between the separation partition walls is completely empty. Therefore, light is transmitted. In the case of a color filter for a liquid crystal display device, an organic black matrix manufactured on a glass substrate may be an example of a separation partition structure. There are various methods of manufacturing color filters for liquid crystal display devices, such as pigment dispersion method, printing method, dyeing method, electrodeposition method, inkjet printing method, among which inkjet printing method is red (R), green (G) and blue. Since the color filter of (B) can be made at the same time, the process has been attracting attention because of the advantages such as a simple process, a low manufacturing cost, and a reduction in the amount of material used.

잉크젯 프린팅법에 의하면, 기판상에 양/음각으로 일정한 패턴이 형성된 분리 격벽 제조용 몰드를 제조하고 상기 분리 격벽의 음각부를 잉크젯 방식으로 착색하여 컬러필터를 제조하게 된다. 이와 같은 잉크젯 프린팅법에서는 일정 패턴이 미리 형성되어 있는 몰드를 이용하여 몰드 보다는 유연하고 변형가능한 분리 격벽용 조성물을 찍어서 경화시킨다음 몰드를 제거하여 패턴을 형성하는 엠보싱(embossing) 또는 임프린팅(imprinting)을 실시한다. 즉, 몰드에 엠보싱 공정을 적용하여 미세패턴이나 분리 격벽을 제조할 수 있다. 엠보싱은 고형화된 패턴을 얻는 방법에 따라, 열을 가하여 경화시키는 핫 엠보싱(hot embossing)과 UV를 조사하여 경화시키는 UV 엠보싱으로 구분할 수 있다. 또한 핫 엠보싱의 경우 분리 격벽 재료가 열가소성 물질이면 그러한 물질의 유리전이온도 이상으로 열을 가하여 분리 격벽의 재료에 흐름성이 생기도록 한 다음 압력을 가하여 엠보싱하고 패턴이 형성된 다음 열을 식혀서 패턴을 굳히고 나서 몰드를 제거한다. 한편, 열 경화성 물질을 이용하는 경우에는, 상기 분리 격벽 재료의 흐름성이 낮은 상태에서 엠보싱한 다음 열을 가하여 경화시키고 몰드를 제거한다. According to the inkjet printing method, a mold for separating partition walls is formed in which a positive pattern is formed on a substrate in a positive / negative manner, and a color filter is manufactured by coloring a negative part of the separated partition walls by an inkjet method. In such an inkjet printing method, a mold having a predetermined pattern is formed in advance, and the composition for separating and partitioning barrier ribs is taken and cured rather than a mold, and then embossing or imprinting to remove the mold to form a pattern. Is carried out. That is, by applying an embossing process to the mold, it is possible to manufacture a fine pattern or separation partition. Embossing can be classified into hot embossing, which is applied by curing with heat, and UV embossing, which is cured by irradiation with UV, depending on a method of obtaining a solidified pattern. In addition, in the case of hot embossing, if the separation barrier material is a thermoplastic material, heat is applied above the glass transition temperature of such material to make the material of the separation barrier flowable. Then remove the mold. On the other hand, in the case of using a thermosetting material, the separation partition material is embossed in a low flow state, then heat is applied to cure and the mold is removed.

종래에 잉크젯 프린트된 컬러 필터의 수지가 번지는 것을 방지하기 위한 방법의 하나로 일본 특허 공개 제 2001-42313호는 잉크가 분리 격벽 사이의 잉크 수용 구조에 잘 탄착되게 하기 위한 방법을 개시하고 있다(도 2 참조).As a method for preventing the spread of resin of an inkjet printed color filter in the related art, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-42313 discloses a method for making the ink adhere well to the ink receiving structure between the separating partitions (Fig. 2).

즉, 도 2에 도시한 바와 같이, 유리기판(11) 위에 포토레지스트법(PR법)을 사용하여 분리 격벽을 두 가지 층(12, 13)으로 패턴하고 있는데, 유리기판(11) 쪽으로 친수성인 잉크가 쉽게 수용되도록 하기 위하여 분리 격벽의 하부층(12)은 잉크 친화성인 친수성 물질로, 그 상부층(13)은 잉크 혐오성인 소수성 물질로 형성하고 있다. 하지만, 상술한 방법에 의해 분리 격벽을 제조할 경우 다수의 복잡한 코팅 공정과 노광 공정을 거쳐야 하는 문제점이 있었다. That is, as shown in FIG. 2, the separating partition walls are patterned into two layers 12 and 13 by using the photoresist method (PR method) on the glass substrate 11, which is hydrophilic toward the glass substrate 11. In order to easily receive the ink, the lower layer 12 of the separating partition wall is formed of a hydrophilic material which is ink affinity, and the upper layer 13 is formed of a hydrophobic material which is aversible to ink. However, when the separation barrier ribs are manufactured by the above-described method, there are problems in that a plurality of complicated coating processes and exposure processes are required.

또한, 상술한 일본 특허 공개 제 2001-42313호에 기재된 방법과 유사한 방법으로 잉크가 쉽게 수용되도록 하기 위해 표면 특성이 다른 물질을 도입하거나 처리하는 방법들이 있는데, 예를 들어 일본 특허 공개 제2000-89022호는 잉크 수용층을 차광성을 갖는 수지 조성물로 형성된 블랙 매트릭스로 가리고 노광하는 방법을 개시하고 있다. 일본 특허 공개 제2000-28819호는 잉크 수용층을 연마하여 평탄화하는 방법을 개시하고 있고, 일본특개평 11-194211호는 금속 블랙 매트릭스 위에 두 번째 층을 형성하는 방법을 개시하고 있으며, 한국특허공개 제 2001-110183호에는 플라즈마로 표면을 처리하는 방법을 개시하고 있다. In addition, there are methods for introducing or treating materials having different surface properties in order to easily receive ink in a manner similar to that described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-42313, for example Japanese Patent Laid-Open No. 2000-89022 Arc discloses a method of covering and exposing an ink receiving layer with a black matrix formed of a resin composition having light shielding properties. Japanese Patent Laid-Open No. 2000-28819 discloses a method of polishing and flattening an ink receiving layer, and Japanese Patent Laid-Open No. 11-194211 discloses a method of forming a second layer on a metal black matrix. 2001-110183 discloses a method for treating surfaces with plasma.

그러나 상기 방법들은 모두 표면처리 또는 고가의 장비 및 다량의 정밀화학제품의 사용으로 고비용을 요하는 별도의 포토리소그라피 공정을 부가적으로 요구하므로, 저비용의 단순 공정에 의해 분리 격벽을 제조할 수 있는 몰드 및 그러한 몰드를 이용한 분리 격벽의 제조방법의 개발이 절실하게 요구되고 있다. However, all of the above methods additionally require a separate photolithography process which requires a high cost by surface treatment or using expensive equipment and a large amount of fine chemicals, and thus, a mold capable of manufacturing a separation partition by a low cost simple process. And the development of a method for producing a separation partition wall using such a mold is urgently required.

이에, 본 발명자들은 상술한 종래기술들의 문제점을 해결하기 위해 예의 연구한 결과, 본 발명에 의해 제공되는 양 측면이 테이퍼진 복수의 양각부와 복수의 음각부로 이루어진 분리 격벽 제조용 몰드를 이용하고 상술한 종래의 엠보싱 공정을 사용함으로써 잉크 친화성층과 잉크 혐오성층으로 이루어진 잉크젯용 이중층 분리 격벽을 단일 엠보싱 공정으로, 종래 기술에 비해 단순하게 제조할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다.Accordingly, the present inventors have made a thorough study to solve the problems of the above-described prior art, and as a result, a mold for separating partition walls comprising a plurality of tapered relief portions and a plurality of intaglio portions provided by the present invention is used. By using a conventional embossing process, the present inventors have found that a double-layer separation partition for an inkjet composed of an ink affinity layer and an ink aversive layer can be manufactured in a single embossing process, compared to the prior art, and has completed the present invention.

따라서, 본 발명의 하나의 목적은 이중층 분리 격벽을 단일 엠보싱 공정으로 제조하는 것이 가능하게 하는 분리 격벽 제조용 몰드를 제공하는 것이다. It is therefore an object of the present invention to provide a mold for the production of a separation partition which makes it possible to produce a double layer separation partition in a single embossing process.

본 발명의 다른 목적은 상기 분리 격벽 제조용 몰드를 이용하여 단일 엠보싱 공정으로 종래에 비해 단순하게 잉크 친화성층과 잉크 혐오성층으로 이루어진 이중층 분리 격벽을 제조하는 방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method for producing a double-layer separation barrier consisting of an ink affinity layer and an ink aversive layer in a single embossing process using a mold for the production of the separation barrier rib.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 분리 격벽 제조 방법에 의해 제조된 잉크젯용 이중층분리 격벽을 제공하는 것이다. In addition, another object of the present invention is to provide an ink jet double layer separation partition manufactured by the separation partition production method.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 복수의 양각부와 복수의 음각부가 일정한 간격을 두고 규칙적으로 배열된 분리 격벽 제조용 몰드로서,  One aspect of the present invention for achieving the above object is a mold for manufacturing a partition partition is arranged regularly arranged with a plurality of reliefs and a plurality of indentations,

상기 음각부는 제조하고자 하는 분리 격벽의 양각에 대응하는 형상을 가지고,  The intaglio portion has a shape corresponding to the embossment of the separation partition to be manufactured,

상기 양각부는 제조하고자 하는 분리격벽의 음각에 대응하는 형상을 가지며 상기 음각부에 대해 돌출되어 있고 양 측면이 테이퍼진 것을 특징으로 하는 분리 격벽 제조용 몰드에 관계한다. The embossed portion has a shape corresponding to the intaglio of the separating partition to be manufactured, and protrudes with respect to the engraving portion, and relates to a mold for forming the separating partition, wherein both sides are tapered.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은  Another aspect of the present invention for achieving the above object is

(i) 투명 기판 위에 잉크 친화성 물질을 도포하여 하부의 잉크 친화성층을 형성하는 단계;  (i) applying an ink affinity material on the transparent substrate to form a lower ink affinity layer;

(ii) 상기 잉크 친화성층 위에 잉크 혐오성 물질을 도포하여 상부의 잉크 혐오성층을 형성하는 단계;  (ii) applying an ink aversive material on the ink affinity layer to form an ink aversive layer on top;

(ii) 상기 잉크 혐오성층 상부에 제 1항의 분리 격벽 제조용 몰드를 위치시켜 소정 시간 방치하는 단계;  (ii) placing the mold for preparing the separation barrier rib of claim 1 on the ink aversive layer and allowing the mold to stand for a predetermined time;

(iii) 상기 투명 기판의 배면에 UV를 조사하거나 열을 가하여 경화시키는 단계; 및 (iii) curing the back of the transparent substrate by applying UV or heat; And

(iv) 상기 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리 격벽의 제조 방법에 관계한다.and (iv) removing the mold.

본 발명이 또 다른 양상은 상기 방법에 의해 제조된 분리 격벽에 관계한다. Another aspect of the present invention relates to a separating partition manufactured by the above method.

이하에서 첨부 도면을 참고하여 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in more detail with respect to the present invention.

본 발명은 잉크젯 방식의 액정 디스플레이의 유기 블랙매트릭스와 같은 분리 격벽의 제조에 이용되는 몰드에 관한 것으로, 본 발명의 몰드는 양각부가 음각부에 비해 돌출되어 있고 양각부의 양 측면이 테이퍼진 형태이어서, 본 발명의 몰드에 의하면 분리 격벽을 구성하는 이중층을 한 번에 눌러 주어 단일의 엠보싱 공정에 의해 저렴하고 간단한 방법으로 이중층 형태의 분리 격벽을 제조할 수 있다. The present invention relates to a mold used for the production of a separation barrier such as an organic black matrix of an inkjet liquid crystal display. The mold of the present invention has a relief portion protruding from an intaglio portion, and both sides of the relief portion are tapered, According to the mold of the present invention, by pressing the bilayer constituting the separation barrier at a time, it is possible to manufacture the separation barrier in the form of a double layer in a simple and inexpensive manner by a single embossing process.

도 3a는 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드의 3차원 구조도이다. 도 3a를 참고하면, 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드(30)는 복수의 양각부(31a)와 복수의 음각부(31b)가 일정한 간격을 두고 규칙적으로 반복 배열된 일정한 패턴(31)을 갖는다. 도 3b에 도시된 바와 같이, 양각부(31a)는 제조하고자 하는 분리격벽의 음각에 대응하는 형상을 갖고 상기 음각부(31b)에 대해 돌출되어 있으며 양 측면이 테이퍼진 것을 특징으로 한다. 도 3c 및 3d는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 분리 격벽 제조용 몰드를 동초점 레이저 주사 현미경(Confocal Laser Scanning Microscope)을 사용하여 측정한 3차원 구조도이다. 도 3c 및 도 3d에 도시된 바와 같이, 본 발명의 몰드의 양각부(31a)의 첨단(tip)은 양 측면이 만나 각을 형성하는 뾰족한 형태(도 3c)이거나 라운드진 형태(도 3d)일 수 있다. 본 발명에서 상기 몰드는 금속, 반도체, 절연체 등의 임의의 재료로 구성될 수 있다. Figure 3a is a three-dimensional structural diagram of a mold for producing a partition partition of the present invention. Referring to FIG. 3A, the mold 30 for manufacturing the partition partition of the present invention has a predetermined pattern 31 in which a plurality of relief portions 31a and a plurality of intaglio portions 31b are regularly arranged at regular intervals. As shown in FIG. 3B, the relief portion 31a has a shape corresponding to the intaglio of the separation partition to be manufactured, protrudes from the intaglio portion 31b, and both sides thereof are tapered. 3C and 3D are three-dimensional structural diagrams of a mold for preparing a separating partition wall manufactured by one embodiment of the present invention using a confocal laser scanning microscope. As shown in Figures 3c and 3d, the tip of the embossed portion 31a of the mold of the present invention may be pointed (Fig. 3c) or rounded (Fig. 3d) where both sides meet to form an angle. Can be. In the present invention, the mold may be made of any material, such as a metal, a semiconductor, an insulator.

본 발명의 다른 양상은 잉크 친화성층과 잉크 혐오성층으로 이루어진 잉크젯용 이중층 분리 격벽의 제조를 위해서, 상술한 분리 격벽 제조용 몰드와 엠보싱 방법을 적용하는 것을 특징으로 한다. 이하에서는 이중층 구조의 분리 격벽의 제조방법을 예로 들어 설명할 것이나, 본 발명의 방법은 이중층 이상의 다층 구조의 분리 격벽에도 적용할 수 있다.Another aspect of the present invention is characterized by applying the above-described mold for producing a partition partition and an embossing method for the production of an ink jet double layer partition partition consisting of an ink affinity layer and an ink aversion layer. Hereinafter, a method of manufacturing a separation barrier of a double layer structure will be described as an example, but the method of the present invention can be applied to a separation barrier of a multilayer structure of two or more layers.

도 4는 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드(21)를 이용하여 단일 엠보싱 공정으로 분리 격벽을 제조하는 공정을 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참고하면, 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드(21)를 이용하여 잉크젯용 이중층 구조의 분리 격벽을 제조하기 위해서는, 투명 기판 (24) 위에 잉크 친화성 물질을 도포하여 하부의 잉크 친화성층 ("하부층": 23)을 형성하고, 이어서 상기 잉크 친화성층 (23) 위에 잉크 혐오성 물질을 도포하여 상부의 잉크 혐오성층 ("상부층", 22)을 형성한다. 4 is a view for explaining a process for producing a separation partition in a single embossing process using the mold 21 for manufacturing a partition partition of the present invention. Referring to FIG. 4, in order to manufacture the separation barrier rib of the inkjet double layer structure using the separation barrier rib mold 21 of the present invention, an ink affinity material is coated on the transparent substrate 24 to form a lower ink affinity layer ( "Bottom layer": 23 is formed, and then an ink aversive material is applied on the ink affinity layer 23 to form an ink aversive layer ("top layer", 22) at the top.

본 발명의 분리 격벽의 제조시 사용되는 상기 투명 기판의 재질은 특별히 제한되지 않으며, 격벽의 사용 용도에 따라 무기계 기판 또는 유기계 기판을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. The material of the transparent substrate used in the production of the separation partition wall of the present invention is not particularly limited, and an inorganic substrate or an organic substrate may be appropriately selected and used according to the use purpose of the partition wall.

잉크 혐오성층(22) 또는 잉크 친화성층(23)의 형성방법 또한 특별히 제한되지 않으며, 필요에 따라 적절한 방법(예를 들어, 스핀코팅 또는 딥 코팅 등)을 사용할 수 있다. The method for forming the ink aversive layer 22 or the ink affinity layer 23 is also not particularly limited, and an appropriate method (for example, spin coating or dip coating) may be used as necessary.

친수성 잉크를 사용하는 경우에는 잉크 친화성층(23)은 친수성 재료로 형성하고, 상기 잉크 혐오성층(22)은 소수성 재료로 형성하며, 유성 잉크를 사용하는 경우에는 잉크 친화성층(23)은 소수성 재료로 형성하고, 상기 잉크 혐오성층(23)은 친수성 재료로 형성한다. 이 때 잉크 혐오성층(22)을 구성하는 잉크 혐오성 물질은 몰딩시의 온도 하에서 점도가 낮고 잉크 친화성층(23)을 구성하는 잉크 친화성 물질은 몰딩시의 온도 하에서 점도가 높은 것을 사용한다. In the case of using a hydrophilic ink, the ink affinity layer 23 is formed of a hydrophilic material, and the ink affinity layer 22 is formed of a hydrophobic material, and in the case of using an oil ink, the ink affinity layer 23 is made of a hydrophobic material. The aversive layer 23 is formed of a hydrophilic material. At this time, the ink aversive material constituting the ink aversive layer 22 has a low viscosity under the temperature at the time of molding, and the ink affinity material constituting the ink affinity layer 23 uses a high viscosity under the temperature at the time of molding.

본 발명에서 사용가능한 소수성 물질의 예는 아이소프렌, 스티렌, 불소를 함유한 아크릴레이트 또는 불소를 함유한 메타크릴레이트나 이들의 모노머, 올리고머, 단일 중합체 또는 공중합체 물질 또는 실리콘을 포함하는 유무기복합물 등을 포함하나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. 바람직한 소수성 물질의 구체적인 예는 실리콘 포함하는 고분자를 아크릴 유니트로 가교시킨 Microresist사의 ORMOCER이다. Examples of hydrophobic materials usable in the present invention are isoprene, styrene, fluorine-containing acrylates or fluorine-containing methacrylates or monomers, oligomers, homopolymers or copolymer materials or organic-inorganic composites comprising silicones. And the like, but are not necessarily limited thereto. A specific example of the preferred hydrophobic material is ORMOCER from Microresist, which crosslinks a polymer containing silicon with an acrylic unit.

본 발명에서 사용가능한 친수성 물질의 예는 폴리에틸렌글리콜(polyethylenegylcol), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아미드(polyamide), 폴리하이드록시에틸메타크릴레이트(poly(2-hydroxy ethyl methacrylate)) 계열의 모노머, 올리고머, 단일중합체 또는 공중합체를 그 예로 들 수 있으나 이에 한정되지는 않는다. Examples of hydrophilic materials that can be used in the present invention are polyethyleneglycol, polyurethane, polyamide, polyhydroxyethyl methacrylate (poly (2-hydroxy ethyl methacrylate)) monomers, oligomers For example, the homopolymer or the copolymer may be, but is not limited to.

상기의 잉크 혐오성층(22)과 잉크 친수성층(23)에는 친수성과 소수성을 조절하기 위하여 표면 개질된 실리콘이나 탄소 나노튜브와 같은 무기물이 첨가될 수 있는데, 이러한 물질의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 또한, 본 발명에서 상기 잉크 혐오성층 또는 잉크 친화성층 조성물에는 필요에 따라 UV 개시제 (예컨대, Irgacure 184), 열개시제(예컨대, AIBN: 2,2'-AzobisIsoButyrroNitrile), 가교제(crosslinking agent), 안료, 염료, 계면활성제 등이 첨가될 수 있는데, 이들의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 상기 잉크 혐오성층 (22) 및 잉크 친화성층(23)을 형성하는 재료로는 분리 격벽 제조용 몰드(21)보다 유연하고 변형이나 흐름이 가능한 물질을 사용한다.The ink aversive layer 22 and the ink hydrophilic layer 23 may be added with inorganic materials such as silicon or carbon nanotubes surface-modified to control hydrophilicity and hydrophobicity, but the type of such materials is not particularly limited. In addition, in the present invention, the ink aversive layer or ink affinity layer composition may include a UV initiator (eg, Irgacure 184), a thermal initiator (eg, AIBN: 2,2′-AzobisIsoButyrroNitrile), a crosslinking agent, a pigment, Dyestuffs, surfactants and the like may be added, but the kind thereof is not particularly limited. As the material for forming the ink aversive layer 22 and the ink affinity layer 23, a material that is more flexible and capable of deformation or flow than the mold 21 for separating partition wall is used.

투명 기판(24) 위에 잉크 친화성층 (23)과 잉크 혐오성층 (22)를 형성하고나서 잉크 혐오성층(22)과 본 발명에 의한 분리 격벽 제조용 몰드(21)의 양각 부분이 마주보도록 위치시킨 후, 필요한 경우 열이나 압력 또는 열과 압력을 함께 가하여 상기 몰드가 상기 잉크 혐오성층(22) 상에 접촉하도록 하여 소정 시간 방치한다. 도 4의 B에 도시한 바와 같이 분리 격벽 제조용 몰드(21)를 잉크 혐오성층(22) 상부에 위치시켜 소정 압력을 가해 잉크 혐오성층이 물질을 변형시키면 잉크 혐오성층(22) 물질이 잉크 친화성층(23) 물질에 비해 점도가 낮기 때문에 응력이 잉크 혐오성층(22)에만 집중되어 잉크 혐오성층에서만 흐름(25)이 일어나게 된다. 이 때, 가하는 압력은 목적하는 분리 격벽의 높이에 따라서 달라질 수 있다. After forming the ink affinity layer 23 and the ink aversive layer 22 on the transparent substrate 24, the ink aversive layer 22 and the embossed portion of the separation partition manufacturing mold 21 according to the present invention face each other. If necessary, heat or pressure or heat and pressure are applied together so that the mold contacts the ink aversive layer 22 and is left for a predetermined time. As shown in FIG. 4B, when the separation barrier rib mold 21 is placed on the ink aversive layer 22 and a predetermined pressure is applied to the aversive layer, the ink aversive layer 22 material becomes an ink affinity layer. Since the viscosity is lower than that of the (23) material, the stress is concentrated only on the ink aversive layer 22 so that the flow 25 occurs only in the ink aversive layer. At this time, the pressure to be applied may vary depending on the height of the desired separation partition.

도 4의 C에 도시한 바와 같이 하부층에 몰드가 닿아서 변형이 일어나더라도 상부층과 하부층은 점도 차이로 인해 뒤섞이지 않고 소정 시간이 지나면 상, 하부층의 순서가 그대로 유지된 채 최종 변형 상태에 도달할 수 있다(도 3의 D). As shown in FIG. 4C, even when the mold is in contact with the lower layer and the deformation occurs, the upper layer and the lower layer may not be mixed due to the difference in viscosity, and after a predetermined time, the upper and lower layers may reach the final deformation state while maintaining the order of the upper and lower layers. (D in FIG. 3).

도 4의 D에 도시한 바와 같이 투명 기판의 배면에 UV를 조사(26)하거나 열을 가하여 분리 격벽 구조를 굳힌 다음 몰드를 제거하면 최종적으로 도 4의 E에 도시된 바와 같은 구조, 즉, 투명 기판 위에 잉크 친화성인 잉크 수용층(28a)이 형성되고, 잉크 친화성인 잉크 친화성 격벽부(28b)는 분리 격벽 구조의 하부에 형성되며, 잉크 혐오성인 분리 격벽(27)은 상부에 형성된다. As shown in FIG. 4D, the back of the transparent substrate is irradiated with UV 26 or heated to harden the separation barrier structure, and then the mold is removed. Finally, the structure as shown in FIG. An ink affinity ink receiving layer 28a is formed on the substrate, and the ink affinity ink affinity partition wall portion 28b is formed at the bottom of the separation partition wall structure, and the ink affinity separation partition 27 is formed at the top.

본 발명은 그 목적에 따라 도 4의 A의 잉크친화성층 물질의 양을 조절하거나 몰드를 누르는 압력을 조절함으로써 잉크 친화성 격벽부(28b)의 높이를 조절하거나 없앨 수도 있다. The present invention may adjust or eliminate the height of the ink affinity partition wall portion 28b by adjusting the amount of the ink affinity layer material of FIG.

도 5는 실제 엠보싱 순간에 몰드와 이중층의 변형(흐름) 형태를 나타내고 있다. 몰드에 표면 처리나 코팅으로 조절하여 잉크 친화성층(하부층)과 같은 친수성 또는 소수성을 가지도록 하면 잉크 친화성인 몰드와 하부층 사이에서 점도가 낮은 잉크 혐오성층(상부층)이 몰드와 이루는 각도 θ값이 높은 값을 가지기 때문에 엠보싱시에 상부층이 아래쪽으로 밀려 들어가지 않는다. 또한 일반적인 엠보싱 조건에서 상부층의 Reynords number값은 대략적으로 다음과 같은 크기를 갖는다:5 shows the deformation (flow) form of the mold and the bilayer at the actual embossing instant. When the mold is treated with a surface treatment or coating to have hydrophilicity or hydrophobicity such as an ink affinity layer (lower layer), a high angle θ value formed between the ink affinity mold and the lower layer with a low viscosity ink aversive layer (upper layer) is formed with the mold. Because of its value, the top layer does not push down during embossing. In addition, under normal embossing conditions, the Reynords number of the top layer is roughly as follows:

따라서 교란 흐름(turbulence flow)이나 이차흐름 (secondary flow)이 없어 엠보싱되는 몰드의 양각부에는 잉크 혐오성인 상부층이 남지 않게 된다.Therefore, there is no turbulence flow or secondary flow so that the embossed upper portion of the embossed mold does not remain.

본 발명에 의한 몰드를 소정 시간 방치한 후, 상기 투명 기판의 배면에 UV를 조사하거나 열을 가하여 잉크 경화성층 및 잉크 혐오성층 조성물을 경화시킨다. 끝으로 몰드를 상기 기판으로부터 제거하면 본 발명의 분리 격벽이 수득된다. After leaving the mold according to the present invention for a predetermined time, the back surface of the transparent substrate is irradiated with UV or heat to cure the ink curable layer and the ink aversive layer composition. Finally, removing the mold from the substrate yields a separation partition of the present invention.

본 발명의 몰드는 잉크젯 프린팅법에 의한 디스플레이용 컬러 필터, 고분자 전계발광 디스플레이의 표시부, 또는 유기 TFT를 제조할 경우 사용되는 분리용 격벽, 전기영동 디스플레이 및 전기습윤(electrowetting) 디스플레이와 같은 플렉서블 디스플레이 표시부의 서브화소 또는 PDP의 셀 격리용 격벽, 조합 검정판(combinatorial test plate)의 격벽 등으로 이용될 수 있다. The mold of the present invention is a display of a color filter for display by the inkjet printing method, a display portion of a polymer electroluminescent display, or a flexible display display portion such as a separation partition, an electrophoretic display, and an electrowetting display used when manufacturing an organic TFT. It can be used as a subpixel of PDP or as a cell isolation partition of PDP, or a partition of a combination test plate.

실시예 Example

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나 하기의 실시예는 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following examples are for the purpose of explanation and are not intended to limit the present invention.

실시예 1.Example 1. UV 엠보싱법을 사용한 하부층이 친수성이고 상부층이 소수성인 잉크젯 프린팅 컬러필터용 이중 분리격벽의 제조예  Example of Preparation of Double Separating Bulkhead for Inkjet Printing Color Filters with UV Embossing Lower Layer Hydrophilic and Upper Layer Hydrophobic

용매 없는(solvent-free) 친수성의 UV 경화성 물질로 점도를 10,000 mPas로 조절한, 70 중량%의 지방족 우레탄-아크릴레이트 텔레켈릭 올리고머(aliphatic urethane-acrylate telechelic oligomer; UCB社의 Ebecryl 284)와 30중량%의 헥산 디올 디아크릴레이트(UCB社의 HDDA)의 모노머 혼합액에 광개시제로서 전체 모노머 혼합액에 대해 0.75중량%의 비스아실포스핀 옥사이드(bisacylphosphine oxide: BAPO)를 추가로 혼합하여 0.7mm 두께의 유리기판 위에 500 rpm으로 30초간 도포하여 두께 8μm의 잉크 친화성층(하부층)을 형성하였다. 잉크친화성층 위에 소수성 UV 경화성 물질로서 역시 용매 없는(solvent free)한 불소계 계면 활성제(3M의 FC-430)를 0.1 중량% 및 BAPO 1.0 중량%를 포함한 2,2,3,3-테트라플루오로프로필 메타아크릴레이트 (2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate) 모노머(점도 10 mPas)를 1μm 두께로 블레이드 코팅(blade coating)하여 잉크 혐오성층(상부층)을 형성하였다. 이어서 본 발명의 도 3a에 도시된 바와 같은 분리 격벽 제조용 몰드를 상부층 전면에 밀착시킨 후 50 kgf/cm2의 압력으로 누르고, 30분 동안 방치하였다. 이어서 UV 노광기를 이용하여 유리기판의 배면으로부터 1 kW의 UV를 3분간 노광한 후 몰드를 제거하였다.Solvent-free, hydrophilic, UV curable material with 70% by weight aliphatic urethane-acrylate telechelic oligomer (Ebecryl 284 from UCB) with a viscosity of 10,000 mPas; 0.7 mm thick glass substrate by further mixing 0.75% by weight of bisacylphosphine oxide (BAPO) with respect to the total monomer mixture as a photoinitiator to the monomer mixture of% hexane diol diacrylate (HDBA of UCB). It coated on the said at 500 rpm for 30 second, and the ink affinity layer (lower layer) of thickness 8micrometer was formed. 2,2,3,3-tetrafluoropropyl containing 0.1% by weight and 1.0% by weight of BAPO as a hydrophobic UV-curable material, also a solvent-free fluorinated surfactant (3M FC-430) on the ink affinity layer A methacrylate (2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate) monomer (viscosity 10 mPas) was blade coated to a thickness of 1 μm to form an ink aversive layer (upper layer). Subsequently, the mold for preparing the separating partition wall as shown in FIG. 3A of the present invention was pressed against the front layer, and pressed at a pressure of 50 kgf / cm 2 , and left for 30 minutes. Subsequently, 1 kW of UV was exposed for 3 minutes from the back of the glass substrate using a UV exposure machine, and the mold was removed.

실시예2.Example 2. UV/핫 엠보싱법을 사용한 하부층이 소수성이고 상부층이 친수성인 잉크젯 프린팅 OLED용 분리격벽의 제조  Fabrication of Separating Bulkheads for Ink-jet Printing OLEDs Using UV / Hot Embossing Method with Lower Hydrophobicity and Upper Hydrophilicity

몰드의 표면을 소수성으로 하기 위하여 불소계 계면활성제 (DuPont사의 Zonyl®)로 코팅하고 200oC에서 베이킹하였다. 분자량 100,000의 폴리 2,2,3,3-테트라플루오로프로필 메타아크릴레이트 (poly(2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate))(유리전이온도 약 66oC)를 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 5중량% 농도로 녹여서 유리 기판 위에 스핀 코터의 회전속도를 2000rpm으로 하여 하부층을 도포하였다. 그 위에 Irgacure 184를 녹여 UV 중합에 의해 점도 1,000 mPa(상온) 까지 중합시킨 하이드록시에틸 메타크릴레이트 (2-hydroxy ethyl methacrylate) 올리고머를 2000rpm의 회전속도로 도포하였다. 그 후, 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드를 상부층 전면에 밀착한 후 몰드 및 유리기판의 온도를 145oC, 압력을 50 kgf/cm2로 하여 엠보싱한 다음, 30분 동안 방치하였다. 이어서 UV 노광기를 이용하여 유리기판의 배면으로부터 1 kW의 UV를 3분간 노광한 후 몰드를 제거하였다.Coated with a fluorine-containing surfactant (DuPont's Zonyl ®) to the surface of the mold with a hydrophobic, and was baked at 200 o C. Poly 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate (poly (2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate)) (glass transition temperature of about 66 o C) having a molecular weight of 100,000 was converted to methyl isobutyl ketone (MIBK). ) Was dissolved at a concentration of 5% by weight, and the lower layer was applied on the glass substrate at a rotational speed of 2000 rpm. The hydroxyethyl methacrylate (2-hydroxy ethyl methacrylate) oligomer which melt | dissolved Irgacure 184 and superposed | polymerized to the viscosity of 1,000 mPa (room temperature) by UV polymerization was apply | coated at the rotation speed of 2000 rpm. Thereafter, the mold for preparing the separating partition wall of the present invention was brought into close contact with the entire upper layer, and then embossed at a temperature of 145 ° C. and a pressure of 50 kgf / cm 2 , and then left for 30 minutes. Subsequently, 1 kW of UV was exposed for 3 minutes from the back of the glass substrate using a UV exposure machine, and the mold was removed.

실시예 3. UV 엠보싱법을 사용한 하부층이 소수성이고 상부층이 친수성인 잉크젯 프린팅 OLED용 분리격벽의 제조 Example 3 Example of Preparation of Separating Bulkheads for Inkjet Printing OLEDs in which the Lower Layer is Hydrophobic and the Upper Layer is Hydrophilic Using UV Embossing

몰드의 표면을 소수성으로 하기 위하여 불소계 계면활성제 (DuPont사의 Zonyl®)로 코팅하고 200oC에서 베이킹하였다. 소수성의 유무기 하이브리드 UV 경화성 수지인 Microresist사의 ORMOCER B59를 유리 기판 위에 스핀코터의 회전속도를 3000rpm으로 하여 도포하였다. 그 위에 Irgacure 184를 포함하는 하이드록시에틸 메타크릴레이트 (2-hydroxy ethyl methacrylate, HEMA) 모노머를 피펫을 사용하여 1ml 방울로 도포하였다. 그 후, 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드를 상부층 전면에 밀착한 후 상온에서 50 kgf/cm2의 압력으로 엠보싱한 다음, 곧바로 UV 노광기를 이용하여 유리기판의 배면으로부터 1 kW의 UV를 3분간 노광한 후 몰드를 제거하였다.Coated with a fluorine-containing surfactant (DuPont's Zonyl ®) to the surface of the mold with a hydrophobic, and was baked at 200 o C. ORMOCER B59 of Microresist, a hydrophobic organic-inorganic hybrid UV curable resin, was applied onto a glass substrate at a rotational speed of 3000 rpm. Hydroxyethyl methacrylate (HEMA) monomer containing Irgacure 184 was applied thereon in 1 ml drops using a pipette. Thereafter, the mold for preparing the separating partition wall of the present invention was brought into close contact with the entire upper layer, and then embossed at a pressure of 50 kgf / cm 2 at room temperature, and immediately exposed 1 kW of UV from the back of the glass substrate using a UV exposure machine for 3 minutes. The mold was then removed.

실시예 3에서 제조된 분리격벽의 SEM 사진을 도6a와 6b에 나타내었다. 도 6a 및 도 6b에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 몰드는 양각부의 양 측면이 테이퍼진 형상이고 첨단 부분은 라운드진 형태일 수 있다. 실시예 3에서 제조된 몰드의 단면에서 ORMOCER와 HEMA의 분포를 알기 위하여 라만(Micro Laman) 측정을 실시하여 그 결과를 도 7a 내지 도 7d에 나타내었다. 도 7a에서와 같이 라만 측정(Raman Image Mapping)으로 ORMOCER에만 나타나는 피크를 수득하였고, 이러한 피크로 패턴된 단면에서 도 7b의 방향으로 매핑한(Nanofinder 30 Tokyo Instrument) 결과 도 7c와 같은 분포가 얻어졌다. 이 때 실험 조건은 다이오드 레이저 785 ㎚, 포인트 100, 스텝 100, 쉬프트 속도 2, 노출 시간 0.5초로 하였다. 도 7c의 결과를 그래프로 도 7d와 같이 나타내어 보면 상부층 위치에서는 ORMOCER 피크가 거의 0으로 나타나지 않으므로 HEMA가 표면에 분포하고 있으며 하부층의 위치에서는 ORMOCER 피크가 100에 가깝게 나타나고 있으므로 ORMOCER만 분포하는 것을 확인하였다. 따라서 본 발명의 방법에 의해 서로 다른 이중층이 단일 엠보싱 공정으로 제조됨을 확인하였다.SEM photographs of the partition walls prepared in Example 3 are shown in FIGS. 6A and 6B. 6A and 6B, the mold of the present invention may have a tapered shape at both sides of the embossed portion and a rounded tip portion. In order to know the distribution of ORMOCER and HEMA in the cross section of the mold prepared in Example 3, Raman (Micro Laman) measurement was performed and the results are shown in FIGS. 7A to 7D. As shown in FIG. 7A, a peak appearing only in the ORMOCER was obtained by Raman image mapping, and a distribution like FIG. 7C was obtained as a result of mapping in the direction of FIG. 7B (Nanofinder 30 Tokyo Instrument) in the patterned cross section. . At this time, the experimental conditions were diode laser 785 nm, point 100, step 100, the shift speed 2, and exposure time 0.5 second. 7c shows the result of FIG. 7c as the graph of FIG. 7d. HEMA is distributed on the surface because the ORMOCER peak is almost zero at the upper layer, and only the ORMOCER is distributed at the lower layer because the ORMOCER peak is close to 100. . Thus, it was confirmed that different bilayers were produced by a single embossing process by the method of the present invention.

본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드를 이용하면 복잡한 공정 과정이나 고가의 리소그래피 장비, 고압 프레싱(pressing) 장비 등을 사용하지 않고, 물리 화학적 물성이 상이한 이중층 구조의 분리 격벽을 저가의 단일 공정에 의해 한 번에 제조할 수 있다. 본 발명의 양 측면이 테이퍼진 양각부를 갖는 분리 격벽 제조용 몰드에 의하면 정밀한 패턴을 쉽고 정확하게 제조할 수 있다. By using the mold for the production of the separation partition wall of the present invention, the separation partition of the double-layer structure having different physical and chemical properties without the use of complicated process procedures, expensive lithography equipment, high pressure pressing equipment, etc. is used once by a single low-cost process. It can manufacture in. According to the mold for separating partition having both sides of the present invention having a tapered relief, a precise pattern can be easily and accurately produced.

도 1은 디스플레이용 분리 격벽의 개략도, 1 is a schematic diagram of a separation partition for a display,

도 2는 종래의 이중층 분리 격벽의 단면 개략도, 2 is a schematic cross-sectional view of a conventional double-layer separating partition wall,

도 3a는 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드의 3차원 구조도, Figure 3a is a three-dimensional structural diagram of a mold for producing a partition partition of the present invention,

도 3b는 도 3a의 A-A'선 단면도, 3B is a cross-sectional view along the line AA ′ of FIG. 3A;

도 3c 및 3d는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 분리 격벽 제조용 몰드를 동초점 레이저 주사 현미경(Confocal Laser Scanning Microscope)을 사용하여 측정한 3차원 구조도,Figure 3c and 3d is a three-dimensional structural diagram measured by using a confocal laser scanning microscope (Confocal Laser Scanning Microscope) for the separation barrier manufacturing mold prepared according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 분리 격벽 제조용 몰드를 이용한 이중층 분리 격벽의 제조 공정도, 4 is a manufacturing process diagram of a double-layer separating partition wall using the mold for manufacturing a partition partition of the present invention;

도 5는 본 발명에 의한 이중층 분리 격벽 제조 공정의 엠보싱 순간의 몰드와 이중층의 변형 형태를 도시한 모식도,5 is a schematic diagram showing a modified form of a mold and a double layer at the time of embossing of the double-layer separation partition manufacturing process according to the present invention;

도 6a 및 6b는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 분리격벽의 SEM 사진, 6a and 6b is a SEM photograph of the separation partition prepared by one embodiment of the present invention,

도 7a는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 분리격벽의 라만 (Raman) 측정 결과,Figure 7a is a Raman (Raman) measurement results of the separation partition prepared by one embodiment of the present invention,

도 7b는 라만 측정에 사용된 분리 격벽의 모식도, 7b is a schematic diagram of a separation partition used for Raman measurement,

도 7c는 도 7a의 패턴된 단면에서 도 7b의 방향으로 매핑(mapping)한 결과, 7C is a result of mapping in the direction of FIG. 7B in the patterned cross section of FIG. 7A,

도 7d는 도 7c의 결과를 그래프로 도시한 것이다. FIG. 7D graphically illustrates the results of FIG. 7C.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

21 : 분리 격벽 제조용 몰드 21: Mold for separating partition wall

21a : 분리 격벽 제조용 몰드의 양각부 21a: embossed part of the mold for the production of separation bulkhead

21b : 분리 격벽 제조용 몰드의 음각부 22 : 분리 격벽 상부층21b: Engraved part of the mold for producing a partition partition 22: Upper layer of the partition wall

23 : 분리 격벽 하부층 24 : 투명 기판23 separation barrier lower layer 24 transparent substrate

27 : 잉크 혐오성의 분리 격벽 28a : 잉크 수용층27: Separation partition of ink aversive 28a: Ink receiving layer

28b : 잉크 친화성 격벽부 30 : 분리 격벽 제조용 몰드28b: ink affinity partition wall 30 mold for separating partition wall

31a : 분리 격벽 제조용 몰드의 양각부 31a: embossed part of the mold for the production of separation bulkhead

31b : 분리 격벽 제조용 몰드의 음각부 31b: Engraved part of the mold for the production of separation bulkhead

Claims (14)

복수의 양각부와 복수의 음각부가 일정한 간격을 두고 규칙적으로 배열된 분리 격벽 제조용 몰드로서,       A mold for separating partition walls, in which a plurality of embossed portions and a plurality of engraved portions are regularly arranged at regular intervals, 상기 음각부는 제조하고자 하는 분리 격벽의 양각에 대응하는 형상을 가지고,        The intaglio portion has a shape corresponding to the embossment of the separation partition to be manufactured, 상기 양각부는 제조하고자 하는 분리격벽의 음각에 대응하는 형상을 가지며 상기 음각부에 대해 돌출되어 있고 양 측면이 테이퍼진 것을 특징으로 하는 분리 격벽 제조용 몰드.      The embossed portion has a shape corresponding to the intaglio of the separation partition to be manufactured, and protruding with respect to the intaglio portion, both sides of the mold for producing a partition partition, characterized in that tapered. 제 1항에 있어서, 상기 몰드가 금속, 반도체, 절연체로 구성되는 군으로부터 선택되는 재료로 구성되고, 상기 양각부의 첨단(tip)이 양 측면이 만나 각을 이루거나 라운드진 것을 특징으로 하는 분리 격벽 제조용 몰드.       The separation partition according to claim 1, wherein the mold is made of a material selected from the group consisting of a metal, a semiconductor, and an insulator, and a tip of the embossed portion is formed at an angle or rounded at both sides thereof. Mold for manufacturing. (i) 투명 기판 위에 잉크 친화성 물질을 도포하여 하부의 잉크 친화성층을 형성하는 단계; (i) applying an ink affinity material on the transparent substrate to form a lower ink affinity layer; (ii) 상기 잉크 친화성층 위에 잉크 혐오성 물질을 도포하여 상부의 잉크 혐오성층을 형성하는 단계; (ii) applying an ink aversive material on the ink affinity layer to form an ink aversive layer on top; (ii) 상기 잉크 혐오성층 상부에 제 1항의 분리 격벽 제조용 몰드를 위치시켜 소정 시간 방치하는 단계; (ii) placing the mold for preparing the separation barrier rib of claim 1 on the ink aversive layer and allowing the mold to stand for a predetermined time; (iii) 상기 투명 기판의 배면에 UV를 조사하거나 열을 가하여 경화시키는 단계; 및 (iii) curing the back of the transparent substrate by applying UV or heat; And (iv) 상기 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법. (iv) removing the mold. 제 3항에 있어서, 상기 잉크 혐오성 물질이 상기 잉크 친화성 물질보다 점도가 낮은 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법.         4. The method of claim 3, wherein the ink aversive material has a lower viscosity than the ink affinity material. 제 3항에 있어서, 상기 제 2 단계가 몰드를 위치시킨 후에 열, 압력 또는 열과 압력을 동시에 가하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법.         4. The method of claim 3, wherein the second step comprises applying heat, pressure or heat and pressure simultaneously after placing the mold. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 방법이 친수성 잉크를 사용하는 경우에는 잉크 친화성층은 친수성 재료로 형성하고, 상기 잉크 혐오성층은 소수성 재료로 형성하며, 유성 잉크를 사용하는 경우에는 잉크 친화성층은 소수성 재료로 형성하고, 상기 잉크 혐오성층은 친수성 재료로 형성하는 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽 제조 방법.        The ink affinity layer according to claim 3 or 4, wherein the ink affinity layer is formed of a hydrophilic material when the hydrophilic ink is used, and the ink aversive layer is formed of a hydrophobic material, and ink affinity when the oil ink is used. The layer is formed of a hydrophobic material, and the ink aversive layer is formed of a hydrophilic material. 제 6항에 있어서, 상기 소수성 물질이 아이소프렌, 스티렌, 불소를 함유한 아크릴레이트 또는 불소를 함유한 메타크릴레이트나 이들의 모노머, 올리고머, 단일 중합체 또는 공중합체 물질 또는 실리콘을 포함하는 유무기 복합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 공중합체임을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법.        7. An organic-inorganic composite according to claim 6, wherein said hydrophobic material comprises isoprene, styrene, fluorine-containing acrylates or fluorine-containing methacrylates or monomers, oligomers, homopolymers or copolymer materials or silicones thereof. Method for producing a bilayer separation partition wall, characterized in that at least one copolymer selected from the group consisting of. 제 6항에 있어서, 상기 친수성 물질이 폴리에틸렌글리콜(polyethylenegylcol)이나 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아미드(polyamide), 폴리하이드록시에틸메타크릴레이트 (poly(2-hydroxy ethyl methacrylate)) 계열의 단일중합체 또는 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 물질임을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법.       The method of claim 6, wherein the hydrophilic material is a polyethyleneglycol, polyurethane, polyamide, polyamide, polyhydroxyethyl methacrylate (poly (2-hydroxy ethyl methacrylate)) homopolymer or Method of producing a bilayer separation barrier, characterized in that the material selected from the group consisting of copolymers. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 방법이 상기 몰드의 표면을 상기 잉크 친화성층과 같은 물질로 표면 처리하거나 코팅하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조방법.        5. The method of claim 3 or 4, wherein the method further comprises surface treating or coating the surface of the mold with a material such as the ink affinity layer. 제 3항에 있어서, 상기 잉크 혐오성 물질과 잉크 친화성 물질 중 하나 또는 양자의 물질이 열가소성 재료인 경우 단계 (ii)과 (iii) 사이에 열을 식혀서 경화하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 분리 격벽의 제조 방법.        4. The method of claim 3, further comprising the step of cooling to cure between steps (ii) and (iii) when one or both of the ink aversive and ink affinity materials is a thermoplastic material. The manufacturing method of the double-layer separating partition wall. 제 3항의 방법에 의해 제조된 분리격벽.         Separating partition manufactured by the method of claim 3. 제 11항에 있어서, 상기 분리 격벽이 잉크젯 프린팅법에 의한 디스플레이용 컬러필터, 고분자 전계 발광 디스플레이 또는 유기 박막 트랜지스터 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는 분리 격벽.         The separation barrier according to claim 11, wherein the separation barrier is used for manufacturing a color filter for display, a polymer electroluminescent display, or an organic thin film transistor by inkjet printing. 제 11항에 있어서, 상기 분리 격벽이 전기영동 디스플레이 또는 전기습윤(electrowetting) 디스플레이와 같은 플랙시블 디스플레이의 표시부 또는 PDP의 분리 격벽으로 사용되는 것을 특징으로 하는 분리 격벽.         12. The separation partition according to claim 11, wherein the separation partition is used as a display partition of a flexible display such as an electrophoretic display or an electrowetting display or as a separation partition of a PDP. 제 11항에 있어서, 상기 분리 격벽이 조합 검정판에 사용되는 것을 특징으로 하는 분리 격벽.        12. The separating partition of claim 11 wherein said separating partition is used for a combination assay plate.
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