KR20050075866A - Plasma display panel - Google Patents

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KR20050075866A
KR20050075866A KR1020050061426A KR20050061426A KR20050075866A KR 20050075866 A KR20050075866 A KR 20050075866A KR 1020050061426 A KR1020050061426 A KR 1020050061426A KR 20050061426 A KR20050061426 A KR 20050061426A KR 20050075866 A KR20050075866 A KR 20050075866A
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박응철
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 어드레스기간의 지터값을 줄이도록 한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly to a plasma display panel designed to reduce jitter in an address period.

이 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판의 표시영역 상에 형성된 다수의 스캔전극에 인가되는 스캔펄스의 인가 시점이 상기 다수의 스캔전극 각각에서 상이한 싱글스캔 구동방식으로 구동되고, 방전공간에 5% 이상의 크세논(Xe)을 포함하는 방전가스가 봉입된 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 상부기판 상에 형성된 상기 다수의 스캔전극과 나란하게 형성된 다수의 서스테인전극, 상기 다수의 스캔전극 및 서스테인전극을 덮도록 형성된 상부 유전체층 및 그 상부 유전체층을 덮도록 형성된 보호막을 가지는 상판과; 상기 상부기판과 대향하는 하부기판, 상기 하부기판 상에 형성된 어드레스전극, 상기 어드레스전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층, 상기 하부 유전체층 상에 형성된 격벽, 상기 하부 유전체층과 격벽 상에 형성된 형광체층을 가지는 하판을 구비하며, 상기 보호막은 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하고 실리콘(Si)이 20ppm~500ppm 첨가된다. The plasma display panel is driven by a single scan driving method in which the scan pulses applied to the plurality of scan electrodes formed on the display area of the upper substrate are different from each other in the plurality of scan electrodes. A plasma display panel including a discharge gas including Xe), wherein the plurality of sustain electrodes formed in parallel with the plurality of scan electrodes formed on the upper substrate, the upper dielectric layer formed to cover the plurality of scan electrodes and the sustain electrodes And a top plate having a protective film formed to cover the upper dielectric layer; A lower substrate having a lower substrate facing the upper substrate, an address electrode formed on the lower substrate, a lower dielectric layer formed to cover the address electrode, a partition formed on the lower dielectric layer, and a phosphor layer formed on the lower dielectric layer and the partition wall; The protective film includes magnesium oxide (MgO) as a main component and 20 ppm to 500 ppm of silicon (Si) is added.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{PLASMA DISPLAY PANEL}Plasma Display Panel {PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 어드레스기간의 지터값을 줄이도록 한 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막 및 그 제조방법과 그를 가지는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a protective film of a plasma display panel and a method of manufacturing the same, and a plasma display panel having the same to reduce jitter in an address period.

플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하 "PDP"라 한다)은 헬륨(He)+크세논(Xe), 네온(Ne)+크세논(Xe), 헬륨(He)+크세논(Xe)+네온(Ne) 등의 불활성 혼합가스가 방전할 때 발생하는 자외선을 이용하여 형광체를 여기 발광시킴으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 화질이 향상되고 있다. Plasma Display Panel (hereinafter referred to as "PDP") is helium (He) + xenon (Xe), neon (Ne) + xenon (Xe), helium (He) + xenon (Xe) + neon (Ne) The image is displayed by exciting the phosphor by using ultraviolet rays generated when an inert mixed gas such as the above is discharged. Such PDPs are not only thin and large in size, but also have improved in image quality due to recent technology development.

도 1을 참조하면, 3전극 교류 면방전형 PDP의 방전셀은 상부기판(1) 상에 형성되어진 스캔전극(Y) 및 서스테인전극(Z)을 포함한 서스테인전극쌍과, 서스테인전극쌍과 직교되도록 하부기판(2) 상에 형성되어진 어드레스전극(X)을 구비한다. Referring to FIG. 1, a discharge cell of a three-electrode alternating surface discharge type PDP includes a sustain electrode pair including a scan electrode (Y) and a sustain electrode (Z) formed on the upper substrate 1, and a lower portion perpendicular to the sustain electrode pair. An address electrode X formed on the substrate 2 is provided.

스캔전극(Y)과 서스테인전극(Z) 각각은 투명전극과, 그 위에 형성된 금속버스전극으로 이루어진다. 스캔전극(Y)과 서스테인전극(Z)이 형성된 상부기판(1)에는 상부 유전체층(6)과 MgO 보호막(7)이 적층된다. MgO 보호막(7)은 방전에 의해 발생된 입자들의 스퍼터링으로부터 유전체층(6)과 전극들(Y,Z)을 보호함과 아울러 이차 전자의 방출효율을 높이는 역할을 하게 된다. Each of the scan electrode Y and the sustain electrode Z is composed of a transparent electrode and a metal bus electrode formed thereon. An upper dielectric layer 6 and an MgO passivation layer 7 are stacked on the upper substrate 1 on which the scan electrode Y and the sustain electrode Z are formed. The MgO protective film 7 serves to protect the dielectric layer 6 and the electrodes Y and Z from sputtering of particles generated by the discharge, and to increase the emission efficiency of secondary electrons.

어드레스전극(X)이 형성된 하부기판(2) 상에는 어드레스전극(X)을 덮도록 하부 유전체층(4)이 형성된다. 하부 유전체층(4) 위에는 수직으로 격벽(3)이 형성된다. 하부 유전체층(4)과 격벽(3)의 표면에는 형광체(5)가 형성된다. The lower dielectric layer 4 is formed on the lower substrate 2 on which the address electrode X is formed to cover the address electrode X. FIG. A partition 3 is formed vertically on the lower dielectric layer 4. Phosphors 5 are formed on the surfaces of the lower dielectric layers 4 and the partition walls 3.

상부기판(1)과 하부기판(2)은 도시하지 않은 실재(Sealant)에 의해 합착된다. 상부기판(1)과 하부기판(2) 및 격벽(3) 사이에 마련된 방전공간에는 He+Xe, Ne+Xe, He+Xe+Ne 등의 불활성 혼합가스가 주입된다. The upper substrate 1 and the lower substrate 2 are bonded by a seal (not shown). An inert mixed gas such as He + Xe, Ne + Xe, He + Xe + Ne is injected into the discharge space provided between the upper substrate 1, the lower substrate 2, and the partition wall 3.

PDP는 화상의 계조를 구현하기 위하여, 한 프레임을 발광횟수가 다른 여러 서브필드로 나누어 시분할 구동하고 어드레싱과 표시가 분리되는 방식(Address and Display Seperated : ADS)을 채택한다. 각 서브필드는 전화면을 초기화시키기 위한 리셋기간과, 주사라인을 선택하고 선택된 주사라인에서 셀을 선택하기 위한 어드레스기간과, 방전횟수에 따라 계조를 구현하는 서스테인기간으로 나뉘어진다. 리셋기간은 상승램프파형이 공급되는 셋업기간과 하강램프파형이 공급되는 셋다운 기간으로 다수 나뉘어진다. 예를 들어, 256 계조로 화상을 표시하고자 하는 경우에 도 2와 같이 1/60 초에 해당하는 프레임 기간(16.67ms)은 8개의 서브필드들(SF1 내지 SF8)로 나누어지게 된다. 8 개의 서브 필드들(SF1 내지 SF8) 각각은 전술한 바와 같이, 초기화기간, 어드레스기간 및 서스테인기간으로 나누어지게 된다. 각 서브필드의 초기화기간과 어드레스 기간은 각 서브필드마다 동일한 반면에 서스테인 기간과 그에 할당되는 서스테인펄스의 수는 각 서브필드에서 2n(n=0,1,2,3,4,5,6,7)의 비율로 증가된다.The PDP adopts a method in which time-division driving is performed by dividing one frame into several subfields having different number of emission times, and addressing and display are separated (ADS). Each subfield is divided into a reset period for initializing the full screen, an address period for selecting a scan line and selecting a cell in the selected scan line, and a sustain period for implementing gray scale according to the number of discharges. The reset period is divided into a setup period in which the rising ramp waveform is supplied and a set down period in which the falling ramp waveform is supplied. For example, when the image is to be displayed with 256 gray levels, as shown in FIG. 2, the frame period (16.67 ms) corresponding to 1/60 second is divided into eight subfields SF1 to SF8. As described above, each of the eight subfields SF1 to SF8 is divided into an initialization period, an address period, and a sustain period. The initialization period and the address period of each subfield are the same for each subfield, while the sustain period and the number of sustain pulses allocated thereto are 2 n (n = 0,1,2,3,4,5,6) in each subfield. , 7).

도 3 및 도 4는 도 1에 도시된 PDP의 구동파형을 나타낸다. 3 and 4 illustrate driving waveforms of the PDP shown in FIG. 1.

도 3을 참조하면, PDP는 리셋기간, 어드레스 기간 및 서스테인기간으로 나누어 구동된다. Referring to Fig. 3, the PDP is driven by dividing into a reset period, an address period and a sustain period.

리셋기간에는 모든 스캔전극들(Y)에 상승 램프파형(Ramp-up)이 동시에 인가된다. 이 상승 램프파형(Ramp-up)에 의해 전화면의 셀들 내에는 방전이 일어난다. 이 셋업방전에 의해 어드레스전극(X)과 서스테인전극(Z) 상에는 정극성 벽전하가 쌓이게 되며, 스캔전극(Y) 상에는 부극성의 벽전하가 쌓이게 된다. 셋업방전에 이어서, 상승 램프파형(Ramp-up)의 피크전압보다 낮은 정극성 전압에서 떨어지는 하강 램프파형(Ramp-down)이 스캔전극들(Y)에 동시에 인가된다. 하강 램프파형(Ramp-down)은 셀들 내에 미약한 소거방전을 일으킴으로써 과도하게 형성된 벽전하를 일부 소거시키게 된다. 이 셋다운방전에 의해 어드레스 방전이 안정되게 일어날 수 있을 정도의 벽전하가 셀들 내에 균일하게 잔류된다. In the reset period, the rising ramp waveform Ramp-up is applied to all the scan electrodes Y simultaneously. This rising ramp waveform (Ramp-up) causes a discharge in the cells of the full screen. By this setup discharge, positive wall charges are accumulated on the address electrode X and the sustain electrode Z, and negative wall charges are accumulated on the scan electrode Y. Following the setup discharge, a falling ramp waveform Ramp-down falling at the positive voltage lower than the peak voltage of the rising ramp waveform Ramp-up is simultaneously applied to the scan electrodes Y. Ramp-down causes a slight erase discharge in the cells, thereby partially erasing the excessively formed wall charge. By this set-down discharge, the wall charges such that the address discharge can be stably generated remain uniformly in the cells.

어드레스기간에는 부극성 스캔펄스(scan)가 스캔전극들(Y)에 순차적으로 인가됨과 동시에 스캔펄스(scan)에 동기되어 어드레스전극들(X)에 정극성의 데이터펄스(data)가 인가된다. 이 스캔펄스(scan)와 데이터펄스(data)의 전압차와 초기화기간에 생성된 벽전압이 더해지면서 데이터펄스(data)가 인가되는 셀 내에는 어드레스 방전이 발생된다. 어드레스방전에 의해 선택된 셀들 내에는 서스테인전압이 인가될 때 방전이 일어날 수 있게 하는 정도의 벽전하가 형성된다. In the address period, the negative scan pulse scan is sequentially applied to the scan electrodes Y, and the positive data pulse data is applied to the address electrodes X in synchronization with the scan pulse scan. As the voltage difference between the scan pulse and the data pulse and the wall voltage generated in the initialization period are added, an address discharge is generated in the cell to which the data pulse is applied. In the cells selected by the address discharge, wall charges are formed such that a discharge can occur when a sustain voltage is applied.

서스테인전극(Z)에는 셋다운기간과 어드레스기간 동안에 정극성 직류전압(Zdc)이 공급된다. 이 직류전압(Zdc)은 셋다운기간에 서스테인전극(Z)과 스캔전극(Y) 사이에 셋다운방전이 일어나게 함과 아울러 어드레스기간에 스캔전극(Y)과 서스테인전극(Z) 사이에 방전이 크게 일어나지 않도록 서스테인전극(Z)과 스캔전극(Y) 사이 또는 서스테인전극(Z)과 어드레스전극(X) 사이의 전압차를 설정하게 된다. The sustain electrode Z is supplied with a positive DC voltage Zdc during the set down period and the address period. The DC voltage Zdc causes a setdown discharge between the sustain electrode Z and the scan electrode Y in the setdown period, and a large discharge occurs between the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the address period. The voltage difference between the sustain electrode Z and the scan electrode Y or between the sustain electrode Z and the address electrode X is set.

서스테인기간에는 스캔전극들(Y)과 서스테인전극들(Z)에 교번적으로 서스테인펄스(sus)가 인가된다. 어드레스방전에 의해 선택된 셀은 셀 내의 벽전압과 서스테인펄스(sus)가 더해지면서 매 서스테인펄스(sus)가 인가될 때 마다 스캔전극(Y)과 서스테인전극(Z) 사이에 서스테인방전 즉, 표시방전이 일어나게 된다. In the sustain period, sustain pulses sus are alternately applied to the scan electrodes Y and the sustain electrodes Z. FIG. The cell selected by the address discharge has a sustain discharge, that is, a display discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z whenever the sustain pulse sus is applied as the wall voltage and the sustain pulse sus are added. This will happen.

서스테인방전이 완료된 후에는 셀 내의 전하를 소거하기 위한 소거신호로써 펄스폭이 작은 구형파(ers1,ers2)와 전압레벨이 작은 램프파형(ers3)이 서스테인전극(Z)에 공급된다. 이러한 소거신호들(ers1,ers2,ers3)이 셀 내에 공급되면 소거방전이 일어나면서 서스테인방전에 의해 생성되고 잔류하는 벽전하가 소거된다. After the sustain discharge is completed, square waves ers1 and ers2 having a small pulse width and ramp waveforms ers3 having a small voltage level are supplied to the sustain electrode Z as an erase signal for erasing charge in the cell. When the erase signals ers1, ers2, and ers3 are supplied into the cell, erase discharge occurs and the wall charges generated and sustained by the sustain discharge are erased.

도 4에 도시된 구동파형은 도 3에 도시된 구동파형에 비하여 리셋기간에 공급되는 초기화파형이 스캔전극(Y)과 서스테인전극(Z)에 교번적으로 공급되는 구형파(rst1,rst2,rst3)와 상승 램프파형(Ramp-up)으로 달라지게 된다. 그리고 어드레스기간과 서스테인기간 동안 각 전극들(X,Y,Z)에 공급되는 신호들은 도 3에 도시된 그것들과 실질적으로 동일하다. The driving waveforms shown in FIG. 4 are square waves (rst1, rst2, and rst3) in which the initialization waveforms supplied in the reset period are alternately supplied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z, compared to the driving waveforms shown in FIG. And rise ramp waveform (Ramp-up). The signals supplied to the electrodes X, Y, and Z during the address period and the sustain period are substantially the same as those shown in FIG.

이러한 PDP에 있어서, 고품위의 화질을 구현하기 위해서는 고정세, 고휘도, 고명암비(High contrast ratio), 낮은 콘터노이즈(Contour noise) 등이 요구되고 있다. 또한 PDP에서 고품위의 화질을 구현하기 위해서는 ADS 구동방식에 있어서 적절한 어드레스기간이 확보되어야 한다. PDP가 고정세/고해상도로 발전할수록 스캔할 라인들의 수가 증가하기 때문에 어드레스기간이 길어지게 되고 서스테인기간의 확보가 어렵게 된다. 예를 들어, 480 개의 스캔라인이 존재하고 각 라인당 3μs의 스캔시간이 필요하고 첫 스캔라인부터 마지막 스캔라인까지 한 번에 순차적으로 스캔하는 싱글스캔(single scan) 방식을 채택하고 한 프레임을 8 개의 서브필드로 나누어 구동하는 경우에 한 프레임 내에서 필요한 어드레스 기간은 480 ×3μs×8 = 13ms 이상이 소요된다. 따라서, 한 프레임 내에서 서스테인 기간에 할당될 수 있는 시간은 16.67ms-13ms로 절대적으로 부족하게 된다. 이와 같이 부족한 서스테인 기간을 더 많이 할당하기 위하여 스캔시간을 줄여야 하지만 어드레스방전시 지터(jitter)를 고려하여 스캔펄스의 폭을 길게 하기 때문에 어드레스 기간을 줄이기가 어렵다. 지터는 어드레스방전시 발생하는 방전지연시간으로써 매 서브필드마다 다소 차이가 있으며 구동시 일정한 범위를 가지게 된다. 스캔펄스에는 이러한 지터값이 포함되므로 그 펄스폭이 길어지게 된다. 따라서, 지터값이 클수록 어드레스기간이 길어지게 되므로 고품위의 화질 구현이 곤란하게 된다. In such a PDP, high definition, high brightness, high contrast ratio, low contour noise, and the like are required to realize high quality image quality. In addition, in order to realize high quality image quality in the PDP, an appropriate address period must be secured in the ADS driving method. As the PDP develops to high definition / high resolution, the number of lines to be scanned increases, so that the address period becomes longer and the sustain period becomes difficult. For example, there are 480 scan lines, 3μs scan time per line, single scan method that scans sequentially from the first scan line to the last scan line at once In the case of driving divided into three subfields, an address period required in one frame takes 480 x 3 mu s 8 = 13 ms or more. Therefore, the time that can be allocated to the sustain period within one frame is absolutely short of 16.67ms-13ms. In order to allocate more of the insufficient sustain period as described above, the scan time should be reduced, but the address period is difficult to reduce because the width of the scan pulse is increased in consideration of jitter during address discharge. Jitter is a discharge delay time generated during address discharge, which is slightly different in every subfield, and has a certain range during driving. Since the scan pulse contains these jitter values, the pulse width becomes longer. Therefore, the larger the jitter value, the longer the address period becomes, so that it is difficult to realize high quality image quality.

지터값은 PDP의 온도나 주위온도가 낮을수록 증가하는 경향이 있다. 이 때문에 PDP는 저온에서 어드레스방전이 불안정하게 이루어지므로 셀 선택이 안되는 즉, 미스라이팅(miss writing)이 발생하여 표시화상에서 흑점(Black noise)이 나타나게 되므로 환경 대응력이 떨어지게 된다. The jitter value tends to increase as the PDP temperature or ambient temperature decreases. For this reason, since the address discharge is unstable at a low temperature, the cell can not be selected, that is, miss writing occurs and black noise appears in the display image.

한편, 일본 특허공개공보 특개평(特開平) 제2001-135238호는 PDP 내에 봉입된 방전가스에서 크세논(Xe)의 함량을 5% 이상으로 높임으로써 종래의 저밀도 Xe 패널에 비하여 구동전압이 높지만 휘도를 더 높일 수 있는 PDP를 제안한 바 있다. 그런데 고밀도 Xe 패널은 Xe의 함량이 증가할수록 어드레스기간의 지터값이 증가하게 된다. 따라서, 어드레스기간의 지터값으로 인하여 고밀도 Xe 패널의 구현이 어려운 실정이다. On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-135238 increases the xenon (Xe) content to 5% or more in the discharge gas enclosed in the PDP, so that the driving voltage is higher than that of the conventional low density Xe panel, but the luminance is high. We have proposed a PDP that can further increase. However, in the high density Xe panel, as the Xe content increases, the jitter value of the address period increases. Therefore, it is difficult to implement a high density Xe panel due to the jitter value of the address period.

어드레스기간의 지터값에 가장 큰 영향을 미치는 인자로써는 보호막(7)의 2차전자방출특성이다. 보호막(7)의 이차전자방출효율이 높으면 높을수록 지터가 감소되고 감소된 지터만큼 스캔펄스의 펄스폭이 줄어들게 되므로 어드레스기간이 단축될 수 있다. The factor which has the greatest influence on the jitter value of the address period is the secondary electron emission characteristic of the protective film 7. As the secondary electron emission efficiency of the passivation layer 7 is higher, jitter is reduced and the pulse width of the scan pulse is reduced by the reduced jitter, so that the address period can be shortened.

따라서, 본 발명의 목적은 어드레스기간의 지터값을 줄이도록 한 PDP를 제공함에 있다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a PDP that reduces the jitter value of an address period.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 PDP는 상부기판의 표시영역 상에 형성된 다수의 스캔전극에 인가되는 스캔펄스의 인가 시점이 상기 다수의 스캔전극 각각에서 상이한 싱글스캔 구동방식으로 구동되고, 방전공간에 5% 이상의 크세논(Xe)을 포함하는 방전가스가 봉입된 PDP에 있어서, 상기 상부기판 상에 형성된 상기 다수의 스캔전극과 나란하게 형성된 다수의 서스테인전극, 상기 다수의 스캔전극 및 서스테인전극을 덮도록 형성된 상부 유전체층 및 그 상부 유전체층을 덮도록 형성된 보호막을 가지는 상판과; 상기 상부기판과 대향하는 하부기판, 상기 하부기판 상에 형성된 어드레스전극, 상기 어드레스전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층, 상기 하부 유전체층 상에 형성된 격벽, 상기 하부 유전체층과 격벽 상에 형성된 형광체층을 가지는 하판을 구비한다. In order to achieve the above object, the PDP according to the present invention is driven by a single scan driving method in which a scan pulse applied to a plurality of scan electrodes formed on the display area of the upper substrate is applied at each of the plurality of scan electrodes, A PDP containing 5% or more of xenon (Xe) in a discharge space, comprising: a plurality of sustain electrodes, the plurality of scan electrodes and the sustain electrodes formed in parallel with the plurality of scan electrodes formed on the upper substrate; An upper plate having an upper dielectric layer formed to cover the upper dielectric layer and a protective film formed to cover the upper dielectric layer; A lower substrate having a lower substrate facing the upper substrate, an address electrode formed on the lower substrate, a lower dielectric layer formed to cover the address electrode, a partition formed on the lower dielectric layer, and a phosphor layer formed on the lower dielectric layer and the partition wall; Equipped.

상기 보호막은 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하고 실리콘(Si)이 20ppm~500ppm 첨가된다. The protective film contains magnesium oxide (MgO) as a main component and 20 ppm to 500 ppm of silicon (Si) is added.

상기 실리콘(Si)이 대략 20ppm∼300ppm 정도의 함량으로 첨가된다. The silicon (Si) is added in an amount of approximately 20 ppm to 300 ppm.

상기 보호막에는 50ppm 이하의 칼슘(Ca), 50ppm 이하의 철(Fe), 250ppm 이하의 알루미늄(Al), 5ppm 이하의 니켈(Ni), 5ppm 이하의 나트륨(Na), 5ppm 이하의 칼륨(K)이 더 첨가된다. The protective film includes 50 ppm or less calcium (Ca), 50 ppm or less iron (Fe), 250 ppm or less aluminum (Al), 5 ppm or less nickel (Ni), 5 ppm or less sodium (Na), or 5 ppm or less potassium (K). This is further added.

이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 PDP의 보호막은 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하며 지터(jitter)가 최소화되는 범위 내로 설정되는 농도로써 실리콘(Si)을 미량 포함한다. 도 5에 있어서, 수직축은 어드레스기간의 지터 μs이며, 수평축은 실리콘(Si)의 함유량 wt.ppm을 나타낸다. Referring to FIG. 5, the protective film of the PDP according to the embodiment of the present invention contains magnesium oxide (MgO) as a main component and contains a small amount of silicon (Si) as a concentration set within a range in which jitter is minimized. In Fig. 5, the vertical axis represents jitter μs of the address period, and the horizontal axis represents content wt.ppm of silicon (Si).

본 발명에 따른 PDP는 상기 실리콘이 첨가된 보호막을 이용하여 구동회로 수가 증가되지 않고 패널을 분할 구동하지 않는 싱글스캔방식으로 구동된다. The PDP according to the present invention is driven by a single scan method in which the number of driving circuits is not increased and the panel is not dividedly driven using the protective film added with silicon.

본 발명에 따른 보호막은 화학적기상증착(CVD), 이-빔(E-beam), 이온-플레이팅(Ion-plating), 스퍼터링(Sputtering) 등의 진공증착법으로 PDP의 상판에 형성된다. The protective film according to the present invention is formed on the upper surface of the PDP by vacuum deposition such as chemical vapor deposition (CVD), E-beam, ion-plating, sputtering, or the like.

진공증착법을 이용하여 본 발명에 따른 보호막을 형성할 때 실리콘(Si)을 미량 첨가하는 방법은 여러 가지가 있을 수 있다. 진공증착에 사용되는 원재료(Source matrial, target 등 : 이하 "소스물질"이라 한다)에 실리콘(Si)을 미량 첨가하여, 단일 소스(Source)로 보호막을 증착할 수도 있으며, 기존의 산화마그네슘(MgO)과 실리콘(Si)을 함께 동시에 소스(Source)로 사용하여 보호막에 실리콘(Si)을 첨가할 수도 있다. 이 때, 실리콘(Si)의 함량은 실리콘 소스(Si source)에 인가되는 파워(power)를 조정하여 조절할 수 있다. 여기서, 소스물질은 산화마그네슘(MgO)이 99.5wt% 이상인 해수나 마그네슘 원석을 정제하여 제작하며, 이 때 300ppm 이하의 칼슘(Ca), 50ppm 이하의 철(Fe), 250ppm 이하의 알루미늄(Al), 5ppm 이하의 니켈(Ni), 5ppm 이하의 나트륨(Na), 5ppm 이하의 칼륨(K)이 불순물로서 포함될 수 있고, 아래의 표 1과 같이 5000ppm 이하의 실리콘(Si)이 첨가된다. 다시 말하여, 소스물질에는 아래의 표 1과 같이 보호막의 이차전자방출특성을 개선하기 위한 실리콘(Si)이 미량 포함된다.When forming the protective film according to the present invention using a vacuum deposition method, there may be a variety of methods for adding a small amount of silicon (Si). By adding a small amount of silicon (Si) to the raw materials (source matrial, target, etc.) used for vacuum deposition, a protective film may be deposited using a single source, and conventional magnesium oxide (MgO ) And silicon (Si) may be used as a source at the same time to add silicon (Si) to the protective film. At this time, the content of silicon (Si) can be adjusted by adjusting the power (power) applied to the silicon source (Si source). Here, the source material is produced by refining seawater or magnesium ore having magnesium oxide (MgO) of 99.5 wt% or more, wherein calcium (Ca) of 300 ppm or less, iron (Fe) of 50 ppm or less, aluminum (Al) of 250 ppm or less 5 ppm or less nickel (Ni), 5 ppm or less sodium (Na), 5 ppm or less potassium (K) may be included as impurities, and 5000 ppm or less silicon (Si) is added as shown in Table 1 below. In other words, the source material contains a small amount of silicon (Si) to improve the secondary electron emission characteristics of the protective film as shown in Table 1 below.

MgOMgO 99.5wt%∼99.99999wt%99.5wt%-99.99999wt% SiSi 5000 ppm 이하5000 ppm or less

이러한 보호막 증착방법을 이용하여 서스테인전극쌍(Y,Z)과 유전체층이 형성된 PDP의 상부기판 상에 MgO 보호막을 증착한다. 이러한 증착공정에 의해 PDP의 상부기판 상에 형성되고 실리콘(Si)이 미량 첨가된 보호막은 아래의 표 2와 같이 100 wt%에 가까운 산화마그네슘(MgO)과 보호막의 이차전자방출특성을 개선하기 위한 실리콘(Si)이 500 ppm 이하로 미량 포함된다.The MgO protective film is deposited on the upper substrate of the PDP on which the sustain electrode pairs Y and Z and the dielectric layer are formed using the protective film deposition method. The protective film formed on the upper substrate of the PDP by the deposition process and a small amount of silicon (Si) is added to improve the secondary electron emission characteristics of magnesium oxide (MgO) and the protective film close to 100 wt% as shown in Table 2 below. A small amount of silicon (Si) is contained in 500 ppm or less.

MgOMgO 99.5wt%∼99.99999wt%99.5wt%-99.99999wt% SiSi 500 ppm 이하500 ppm or less

또한, PDP 상에 형성된 보호막에는 50ppm 이하의 칼슘(Ca), 50ppm 이하의 철(Fe), 250ppm 이하의 알루미늄(Al), 5ppm 이하의 니켈(Ni), 5ppm 이하의 나트륨(Na), 5ppm 이하의 칼륨(K)이 포함될 수 있다. Further, the protective film formed on the PDP has 50 ppm or less of calcium (Ca), 50 ppm or less of iron (Fe), 250 ppm or less of aluminum (Al), 5 ppm or less of nickel (Ni), 5 ppm or less of sodium (Na), or 5 ppm or less. Potassium (K) may be included.

표 1 및 표 2에 있어서, 소스물질과 실제로 PDP 상에 형성된 보호막에 있어서 실리콘(Si)의 함량이 줄어든 것은 증착공정시 공정변수를 조절하는 것에 기인한다. 예컨데, 증착장비 내의 압력을 높이거나 PDP의 기판과 소스물질 사이의 거리를 증가시키게 되면 소스물질 내의 실리콘 함량보다 PDP의 기판 상에 형성된 보호막의 실리콘 함량이 줄어들게 된다. In Tables 1 and 2, the decrease in the content of silicon (Si) in the source material and the protective film actually formed on the PDP is due to the adjustment of the process parameters during the deposition process. For example, when the pressure in the deposition apparatus is increased or the distance between the substrate and the source material of the PDP is increased, the silicon content of the protective film formed on the substrate of the PDP is reduced than the silicon content in the source material.

실리콘(Si)은 산화마그네슘(MgO)에 미량 첨가됨으로써 산화마그네슘(MgO)의 결정에서 산소(O)가 빈(Oxygen vacancy) 결함과 불순물에 의해 떨어지는 보호막의 이차전자방출효율을 보상하는 역할을 한다. 다시 말하여, 진공증착에 의해 보호막이 형성되는 경우에 공정 중 필연적으로 수반되는 결정결함들과 소스물질로부터 유입되는 불순물 즉, 칼슘(Ca), 철(Fe), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 나트륨(Na), 칼륨(K) 등이 전자방출특성을 열화시키는 요인으로 작용하게 된다. 실리콘(Si)은 결정결함들과 불순물로 인하여 열화되는 이차전자방출특성을 상쇄함으로써 어드레스기간의 지터값을 줄이게 된다. Silicon (Si) is added to magnesium oxide (MgO) in a small amount to compensate for the secondary electron emission efficiency of the protective film in which oxygen (O) falls by oxygen vacancy defects and impurities in the crystal of magnesium oxide (MgO). . In other words, when the protective film is formed by vacuum deposition, crystal defects that are inevitably involved in the process and impurities introduced from the source material, that is, calcium (Ca), iron (Fe), aluminum (Al), and nickel (Ni). ), Sodium (Na), potassium (K) and the like act as a factor deteriorating the electron emission characteristics. Silicon (Si) cancels the jitter of the address period by canceling the secondary electron emission characteristic deteriorated due to crystal defects and impurities.

이 실리콘(Si)이 첨가됨으로써 도 5에서 알 수 있는 바 어드레스기간의 지터값이 줄어들게 되며 실리콘(Si)의 함유량이 일정값 이상으로 커지게 되면 오히려 지터가 증가하는 경향이 있다. 따라서, 실리콘(Si)은 지터가 최소화되는 범위 내의 함량으로 보호막에 첨가됨이 바람직하다. 이를 위하여, 실리콘(Si)은 다른 불순물의 함량과 증착조건 등에 의해 변할 수 있으나 최적 함량으로써 보호막 내에 20ppm∼300ppm 정도의 함량으로 첨가된다. As the silicon (Si) is added, the jitter value of the address period is reduced as shown in FIG. 5, and when the content of silicon (Si) becomes larger than a predetermined value, the jitter tends to increase. Therefore, silicon (Si) is preferably added to the protective film in a content within a range in which jitter is minimized. To this end, silicon (Si) may vary depending on the content of other impurities and deposition conditions, but is added in an amount of about 20 ppm to about 300 ppm in the protective film as an optimum content.

도 5에 도시된 지터특성은 PDP에 구동파형을 인가하고 하나의 셀 내에서 어드레싱시 발생되는 광파형을 측정하여 구해졌다. 이 실험에서 사용된 측정 패턴은 프라이밍 효과를 최소화하기 위하여 저계조의 라인패턴이 이용되었다. The jitter characteristic shown in FIG. 5 was obtained by applying a driving waveform to the PDP and measuring an optical waveform generated when addressing in one cell. The measurement pattern used in this experiment was a low gradation line pattern to minimize the priming effect.

PDP 내에 봉입되는 방전가스의 종류를 바꾸면서 각각 수십회 실험을 한 결과에 의하면, 실리콘(Si)이 첨가된 보호막은 방전가스의 종류에 관계없이 이차전자방출특성이 향상되었다. According to the results of dozens of experiments each time changing the type of discharge gas encapsulated in the PDP, the secondary electron emission characteristics of the protective film containing silicon (Si) were improved regardless of the type of discharge gas.

도 6은 5% 이상의 크세논(Xe)을 포함하는 고밀도 Xe 방전가스가 봉입된 PDP에서 실리콘(Si)이 첨가된 보호막에 대한 지터특성의 실험결과를 나타낸다. FIG. 6 shows an experimental result of jitter characteristics of a protective film added with silicon (Si) in a PDP in which a high-density Xe discharge gas containing 5% or more of xenon (Xe) is filled.

도 6에서 알 수 있는 바 고밀도의 Xe 방전가스가 봉입된 PDP의 보호막이 표 2와 같이 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하고 실리콘(Si)이 300ppm 이하로 첨가되면 어드레스기간의 지터가 대략 0.6μs 이내로써 매우 작은 수준으로 나타났다. As can be seen from Fig. 6, when the protective film of the PDP in which the high-density Xe discharge gas is encapsulated, magnesium oxide (MgO) is added as the main component and silicon (Si) is added at 300 ppm or less, the jitter of the address period is approximately 0.6 µs. Within a very small level.

따라서, 본 발명에 따른 보호막을 고밀도 Xe 패널에 적용하면 고휘도와 고속구동이 가능하게 됨은 물론이거니와 고해상도 실현이 가능하고 외부 온도 대응력을 높일 수 있게 된다. Therefore, when the protective film according to the present invention is applied to the high-density Xe panel, high brightness and high speed driving are possible, as well as high resolution can be realized and external temperature response can be increased.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 PDP는 보호막에 실리콘을 첨가하여 보호막의 이차전자방출특성을 향상시킴으로써 어드레스기간의 지터를 줄이게 된다. 그 결과 본 발명에 따른 PDP에 의하면, PDP의 어드레스방전이 짧은 시간에 안정되게 일어나므로 저온환경에서도 어드레스 동작이 안정되고 효율이 높아진다. 나아가, 본 발명에 따른 PDP에 의하면 어드레스기간이 줄어드는 만큼 서스테인기간이 충분히 확보되고 콘터노이즈를 줄이기 위하여 서브필드의 수가 증가될 수 있으므로 PDP에서 고품위의 화질이 구현될 수 있다. As described above, the PDP according to the present invention reduces the jitter of the address period by adding silicon to the protective film to improve the secondary electron emission characteristic of the protective film. As a result, according to the PDP according to the present invention, since address discharge of the PDP occurs stably in a short time, the address operation is stable and the efficiency is increased even in a low temperature environment. Furthermore, according to the PDP according to the present invention, as the address period is reduced, the sustain period is sufficiently secured, and the number of subfields can be increased to reduce the noise, so that high quality image quality can be realized in the PDP.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

도 1은 종래의 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타내는 사시도이다. 1 is a perspective view showing a discharge cell structure of a conventional three-electrode AC surface discharge type plasma display panel.

도 2는 256 계조를 구현하기 위한 8 비트 디폴트 코드의 프레임 구성을 나타내는 도면이다. 2 is a diagram illustrating a frame configuration of an 8-bit default code for implementing 256 gray levels.

도 3은 종래의 PDP를 구동하기 위한 구동 파형을 나타내는 파형도이다. 3 is a waveform diagram showing a drive waveform for driving a conventional PDP.

도 4는 종래의 PDP를 구동하기 위한 다른 구동 파형을 나타내는 파형도이다. 4 is a waveform diagram showing another drive waveform for driving a conventional PDP.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막에 있어서 실리콘(Si)의 함량에 따른 지터값의 변화를 나타내는 특성도이다. 5 is a characteristic diagram illustrating a change in jitter value according to the content of silicon (Si) in the protective film of the plasma display panel according to the embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막에 있어서 크세논(Xe)과 실리콘(Si)의 함량에 따른 지터값의 변화를 나타내는 특성도이다. FIG. 6 is a characteristic diagram illustrating a change in jitter value according to contents of xenon (Xe) and silicon (Si) in a protective film of a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1 : 상부기판 2 : 하부기판1: upper substrate 2: lower substrate

3 : 격벽 4,6 : 유전체층3: bulkhead 4,6: dielectric layer

5 : 형광체 7 : 보호막 5: phosphor 7: protective film

X : 어드레스전극 Y : 스캔전극X: address electrode Y: scan electrode

Z : 서스테인전극 Z: sustain electrode

Claims (3)

상부기판의 표시영역 상에 형성된 다수의 스캔전극에 인가되는 스캔펄스의 인가 시점이 상기 다수의 스캔전극 각각에서 상이한 싱글스캔 구동방식으로 구동되고, 방전공간에 5% 이상의 크세논(Xe)을 포함하는 방전가스가 봉입된 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,An application point of the scan pulse applied to the plurality of scan electrodes formed on the display area of the upper substrate is driven by a different single scan driving method on each of the plurality of scan electrodes, and includes 5% or more of xenon (Xe) in the discharge space. In a plasma display panel in which discharge gas is sealed, 상기 상부기판 상에 형성된 상기 다수의 스캔전극과 나란하게 형성된 다수의 서스테인전극, 상기 다수의 스캔전극 및 서스테인전극을 덮도록 형성된 상부 유전체층 및 그 상부 유전체층을 덮도록 형성된 보호막을 가지는 상판과;An upper plate having a plurality of sustain electrodes formed parallel to the plurality of scan electrodes formed on the upper substrate, an upper dielectric layer formed to cover the plurality of scan electrodes and the sustain electrodes, and a protective film formed to cover the upper dielectric layers; 상기 상부기판과 대향하는 하부기판, 상기 하부기판 상에 형성된 어드레스전극, 상기 어드레스전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층, 상기 하부 유전체층 상에 형성된 격벽, 상기 하부 유전체층과 격벽 상에 형성된 형광체층을 가지는 하판을 구비하며,A lower substrate having a lower substrate facing the upper substrate, an address electrode formed on the lower substrate, a lower dielectric layer formed to cover the address electrode, a partition formed on the lower dielectric layer, and a phosphor layer formed on the lower dielectric layer and the partition wall; Equipped, 상기 보호막은 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하고 실리콘(Si)이 20ppm~500ppm 첨가된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. The protective film is a plasma display panel comprising magnesium oxide (MgO) as a main component and silicon (Si) 20ppm ~ 500ppm added. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 실리콘(Si)이 대략 20ppm∼300ppm 정도의 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. And the silicon (Si) is added in an amount of approximately 20 ppm to 300 ppm. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 보호막에는 50ppm 이하의 칼슘(Ca), 50ppm 이하의 철(Fe), 250ppm 이하의 알루미늄(Al), 5ppm 이하의 니켈(Ni), 5ppm 이하의 나트륨(Na), 5ppm 이하의 칼륨(K)이 더 첨가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. The protective film includes 50 ppm or less calcium (Ca), 50 ppm or less iron (Fe), 250 ppm or less aluminum (Al), 5 ppm or less nickel (Ni), 5 ppm or less sodium (Na), or 5 ppm or less potassium (K). The plasma display panel further comprises.
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