KR20050043612A - Plate-shape heater, fixing device and image forming device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 과제는 긴 기판의 폭과 이 기판 상에 형성하는 저항 발열체와의 형성 폭을 규제함으로써, 저항 발열체에 대한 기판의 열용량을 줄여 온도 상승 특성을 향상할 수 있는 동시에 기판의 크랙 발생을 억제할 수 있는 판형 히터 및 이 판형 히터를 이용한 정착 장치 및 이 정착 장치를 장착한 화상 형성 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to restrict the width of a long substrate and the formation width of the resistance heating element formed on the substrate, thereby reducing the heat capacity of the substrate with respect to the resistance heating element, thereby improving the temperature rise characteristic and suppressing the occurrence of cracking of the substrate. An object of the present invention is to provide a plate heater that can be used, a fixing apparatus using the plate heater, and an image forming apparatus equipped with the fixing apparatus.

내열ㆍ전기 절연성의 재료로 이루어지는 긴 기판(1)과, 이 기판(1)의 표면에 길이 방향에 따른 기판 폭의 70 % 이상의 폭으로 띠형으로 형성된 AgㆍPd 합금에 유리, 무기 산화물 및/또는 무기 질화물을 함유하여 이루어지는 저항 발열체(2)와, 이 저항 발열체(2)에 연달아 설치하여 형성된 급전 단자부(3, 3)를 구비하고 있는 판형 히터(H1) 및 이 판형 히터(H1)를 이용한 정착 장치(7) 및 이 정착 장치(7)를 장착한 화상 형성 장치(9)이다. Glass, an inorganic oxide and / or an elongated substrate 1 made of a heat-resistant and electrically insulating material and an Ag / Pd alloy formed in a band shape on the surface of the substrate 1 with a width of 70% or more of the substrate width along the longitudinal direction. Fixation using plate heater (H1) and plate heater (H1) provided with a resistance heating element (2) containing inorganic nitride, and power supply terminal portions (3, 3) formed in succession to the resistance heating element (2). An apparatus 7 and an image forming apparatus 9 on which the fixing apparatus 7 is mounted.

Description

판형 히터 및 정착 장치 및 화상 형성 장치 {PLATE-SHAPE HEATER, FIXING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE}Plate Heater and Fusing Device and Image Forming Device {PLATE-SHAPE HEATER, FIXING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE}

본 발명은 OA 기기, 가정용 전기 기기, 정밀 제조 장치나 시험 연구 설비 등에 있어서 가열원으로서 이용되는 판형 히터 및 이 판형 히터를 실장한 복사기나 팩시밀리 등의 OA 기기의 토너 정착 장치 및 이 정착 장치를 장착한 화상 형성 장치에 관한 것이다. The present invention provides a plate heater used as a heating source in an OA machine, a home electric appliance, a precision manufacturing apparatus or a test research facility, or a toner fixing apparatus for an OA machine such as a copying machine or a facsimile on which the plate heater is mounted, and the fixing apparatus. It relates to an image forming apparatus.

예를 들어 전자식 복사기에 있어서는, 감광 드럼 표면으로 형성된 토너상을 피가열체인 복사 용지나 복사 필름 등에 전사하고, 이어서 이 복사 용지를 판형 히터와 가압 롤러 사이에서 협압하면서 통과시키고, 이 판형 히터의 열에 의해 복사 용지를 가열하여 토너를 용융시켜 정착하도록 하고 있다. For example, in an electronic copier, the toner image formed on the surface of the photosensitive drum is transferred to a copy paper or a copy film, which is a heating object, and then passed through the copy paper while being pressed between the plate heater and the pressure roller, and then to the heat of the plate heater. The copy paper is heated to melt the toner to fix it.

이러한 종류, 종래의 판형 히터는 Al2O3(산화 알루미늄)이나 AlN(질화 알루미늄) 혹은 SiC(탄화 규소) 등의 내열ㆍ전기 절연성의 세라믹 재료로 이루어지는 평면형을 이루는 긴 기판의 표면에 AgㆍPd(은ㆍ팔라듐) 합금 분말 등과, 유리 분말(무기 결착제), 수용성 유기 결착제를 혼합한 페이스트를 인쇄 도포ㆍ소성하여 가늘고 긴 띠형 막 두께의 TCR(저항 온도 계수)이 200 ppm/℃ 내지 1000 ppm/℃ 정도의 저항 발열체를 형성하고 있다.This type of conventional plate heater has Ag and Pd on the surface of a planar elongated substrate made of heat-resistant and electrically insulating ceramic material such as Al 2 O 3 (aluminum oxide), AlN (aluminum nitride), or SiC (silicon carbide). A paste containing a mixture of (silver and palladium) alloy powder, a glass powder (inorganic binder) and a water-soluble organic binder is printed and fired to obtain a TCR (resistance temperature coefficient) having a thin strip-shaped film thickness of 200 ppm / 占 폚 to 1000 A resistance heating element is formed at about ppm / ° C.

또한, 이 저항 발열체의 양단부 부분에 이 저항 발열체의 형성 재료로부터 양도전성의 Ag(은)이나 Pt(플라티넘) 등의 피막으로 이루어지는 급전 단자부를 설치하고, 또한 상기 저항 발열체 및 기판의 표면을 절연성이 좋은 유리질의 오버코트층으로 피복하여, 저항 발열체를 마모나 충격 등으로부터 지키는 동시에 산화나 황화 등 및 감전 등으로부터 보호하는 것이 행해지고 있다. In addition, a feed terminal portion made of a film such as Ag (silver) or Pt (platinum), which is electrically conductive, is formed on both ends of the resistance heating element from the material for forming the resistance heating element, and the surfaces of the resistance heating element and the substrate are insulated from each other. It is coated with this good glassy overcoat layer to protect the resistance heating element from abrasion, impact, and the like, and to protect it from oxidation, sulfidation, electric shock, and the like.

이와 같은 판형 히터는, 관형 전구나 관형 히터에 비해 얇게 소형할 수 있는 동시에 피가열체에 근접하게 되므로 열 효율도 높고 전력 절약화가 도모될 수 있다는 이점이 있다. Such a plate heater is advantageous in that it can be thinner and smaller than a tubular light bulb or a tubular heater and at the same time closer to the heating element, resulting in high thermal efficiency and power saving.

그러나, 예를 들어 화상 형성 장치의 정착 장치에 장착되는 이 판형 히터를 단속적으로 통전하여 사용하는 경우에, 온도 상승 특성 및 기판에 문제점을 발생하는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. However, it has been found that, for example, when the plate heater mounted on the fixing device of the image forming apparatus is intermittently energized and used, problems may occur in the temperature rise characteristic and the substrate.

즉, 이러한 종류의 판형 히터는 기판 표면에 배치 형성된 저항 발열체가 기판 폭에 대해 1/8 내지 1/2 정도의 폭의 띠형의 막 부재인 동시에 세라믹스제의 기판에 대해 열용량이 매우 작기 때문에, 통전에 의해 직접 승온하는 저항 발열체의 열이 기판에 전파하여, 히터로서 전체를 온도 상승시키는 데 시간이 걸린다는 문제점이 있다. That is, this type of plate heater is energized because the resistance heating element formed on the surface of the substrate is a strip-shaped film member having a width of about 1/8 to 1/2 of the width of the substrate, and the heat capacity of the ceramic substrate is very small. Heat of the resistive heating element which is directly raised by the electric wave propagates to the substrate, and there is a problem in that it takes a long time to raise the temperature as a heater.

또한, 판형 히터는 상기 TCR(저항 온도 계수) 값으로 이루어지는 단시간(순간)에 고온이 되는 저항 발열체 부분과, 온도가 상승되지 않는 기판과의 온도차에 기인하는 열 충격에 의해 기판이 크랙된다는 문제점도 있다. In addition, the plate heater also has a problem that the substrate is cracked due to a thermal shock due to a temperature difference between the portion of the resistance heating element that becomes high in a short time (instantaneous) consisting of the TCR (resistance temperature coefficient) value and the substrate whose temperature does not rise. have.

세라믹스제의 기판, 예를 들어 알루미나 기판의 제조는 다음과 같이 이루어진다. 닥터 블레이드법이나 압형 등으로 소정 두께가 연속된 박판 형상으로 성형하고, 박판 부재를 있는 크기에 절단한 후 가열로로 소성된다. 그리고, 이 큰 박판 부재의 성형시 혹은 성형 후에 기판의 크기에 맞추어 박판 부재에 종횡으로 형성한 V 자형의 오목 홈 등의 마킹에 따라서 레이저 빔을 맞대고, 박판 부재를 소정 치수의 직사각형으로 절단하여 대량의 긴 기판을 얻는다. The manufacture of a ceramic substrate, for example, an alumina substrate, is performed as follows. It shape | molds into thin plate shape in which predetermined thickness was continuous by the doctor blade method, a pressure mold, etc., cuts a thin plate member to the size, and is baked by the heating furnace. Then, the laser beam is abutted according to the marking of the V-shaped concave grooves or the like formed vertically and horizontally in the thin plate member in accordance with the size of the substrate at the time of forming or after the formation of the large thin plate member, and the thin plate member is cut into a rectangle having a predetermined size to produce a large quantity Get a long substrate.

이 세라믹스제의 박판 부재를 레이저에 의해 절단하는 경우에는, 높은 파워 밀도로 가열ㆍ용융하여 절단하거나, 박판 부재의 절단 예정부에 레이저로 오목 홈을 형성한 후 공정으로 이 오목 홈에 기계적으로 절곡 분리하여 각각의 기판을 얻는다. 그러나, 이 기판은 레이저의 입사면측의 절단 단연부(또는 절단용의 오목 홈 단연부)에 따라서 용융 및 증발하여 날아서 부착한 세라믹스 미분말 잔사의 버어형의 융기부가 생기거나, 미소한 크랙이 생기거나 하는 등 그 절단된 기판의 주연부는 요철 상태가 된다. In the case of cutting the thin plate member made of ceramics with a laser, it is heated and melted at a high power density to cut it, or a concave groove is formed by a laser at a cut scheduled portion of the thin plate member, and then mechanically bent into the concave groove in a step. Separate to obtain each substrate. However, the substrate has a burr-shaped ridge of ceramic fine powder residue that is melted and evaporated and adhered along the cutting edge portion (or the concave groove edge portion for cutting) on the incident surface side of the laser, or a small crack occurs. The periphery of the cut substrate is in an uneven state.

그리고, 이러한 기판을 이용하여 저항 발열체 등을 형성하여 완성된 히터는, 기판이 상기 저항 발열체와의 온도차나 통전에 의한 발열이나 냉각(대기 내지 휴지)이 단속적으로 반복되는 열 충격에 의해 주연부의 버어나 미소 크랙으로부터 크랙이 크게 연장되어 기판에 균열이나 이지러짐 등을 발생시키는 경우도 있다. The heater completed by forming a resistive heating element or the like by using such a substrate has a burr around the periphery due to a thermal shock in which the substrate is intermittently repeated with heat generation or cooling (stand-by-rest) due to a temperature difference with the resistive heating element or energization. In some cases, the cracks are greatly extended from the micro cracks, resulting in cracks or cracks in the substrate.

본 발명은 상기 사정에 비추어 이루어진 것으로, 긴 기판의 폭과 이 기판 상에 형성하는 저항 발열체와의 형성 폭을 규제함으로써, 저항 발열체에 대한 기판의 열용량을 줄여 온도 상승 특성을 향상시킬 수 있는 동시에, 기판의 크랙 발생을 억제할 수 있는 판형 히터 및 이 판형 히터를 이용한 정착 장치 및 이 정착 장치를 장착한 화상 형성 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and by regulating the width of a long substrate and the formation width of a resistive heating element formed on the substrate, the heat capacity of the substrate for the resistive heating element can be reduced to improve the temperature rise characteristic. An object of the present invention is to provide a plate heater capable of suppressing the occurrence of cracks in a substrate, a fixing apparatus using the plate heater, and an image forming apparatus equipped with the fixing apparatus.

본 발명의 청구항 1에 기재된 판형 히터는 내열ㆍ전기 절연성의 재료로 이루어지는 긴 기판과, 이 기판의 표면에 길이 방향에 따라 기판 폭의 70 % 이상의 폭으로 띠형으로 배치 형성된 AgㆍPd 합금에 유리, 무기 산화물 및/또는 무기 질화물을 함유하여 이루어지는 저항 발열체와, 이 저항 발열체에 연달아 설치하여 형성된 급전 단자부를 구비하는 것을 특징으로 한다. The plate heater according to claim 1 of the present invention comprises a long substrate made of a heat-resistant and electrically insulating material, a Ag / Pd alloy formed on a surface of the substrate in a band shape at a width of 70% or more of the substrate width along a length direction, and A resistance heating element comprising an inorganic oxide and / or an inorganic nitride, and a power supply terminal portion formed by successively being provided to the resistance heating element are characterized by being provided.

이 청구항 1에 기재된 판형 히터는, AgㆍPd(은ㆍ팔라듐) 합금으로 이루어지는 도전체 성분 및 유리와 무기 산화물 및/또는 무기 질화물로 이루어지는 저항체 성분의 재료로 형성되는 저항 발열체의 폭과, 긴 세라믹스 등으로 이루어지는 기판의 폭과의 관계를 규제한 것으로, 기판의 폭에 대한 저항 발열체의 폭의 비율을 종래보다 크고, 반대로 말하면 저항 발열체의 폭에 대한 기판의 폭의 비율을 종래보다 작게 해 두고, 통전시 발열하는 저항 발열체의 면적이 커 기판면 전체를 단숨에 승온하여 히터 온도의 상승 시간을 단축할 수 있는 상승 특성을 높이는 작용을 발휘한다. The plate heater according to claim 1 is characterized in that the width of the resistance heating element formed of a conductor component composed of an Ag / Pd (silver / palladium) alloy and a resistor component composed of glass and an inorganic oxide and / or an inorganic nitride, and a long ceramics The ratio of the width of the resistive heating element to the width of the substrate is larger than that of the conventional one. In other words, the ratio of the width of the substrate to the width of the resistive heating element is made smaller than before. The area of the resistance heating element that generates heat during energization is large, thereby increasing the temperature of the entire substrate surface in a short time, thereby increasing the rising characteristics that can shorten the rise time of the heater temperature.

즉, 기판면의 발열 면적율을 늘림으로써, 히터의 온도 상승 특성을 향상시킬 수 있다. That is, the temperature rise characteristic of a heater can be improved by increasing the heat generating area ratio of a board | substrate surface.

이 기판의 폭에 대한 저항 발열체의 배치 폭이 70 % 미만이면, 기판의 발열 면적율이 낮은 동시에 용량이 큰 기판에 빼앗기는 열량이 많아 히터로서 온도 상승에 시간을 요하고, 급속하게 고온을 필요로 하는 히터에는 부적합하다. 또한, 상한으로서는 100 %라도 좋지만, 저항 발열체를 오버코트층으로 절연하는 등의 것을 고려하면, 90 % 정도까지가 실용상 바람직하다. When the placement width of the resistive heating element with respect to the width of the substrate is less than 70%, the heat generation area of the substrate is low and the amount of heat deprived to the large capacity substrate is large, requiring time for temperature rise as a heater and rapidly requiring high temperature. Not suitable for heaters. Moreover, although 100% may be sufficient as an upper limit, when considering the thing which insulates a resistance heating body with an overcoat layer, up to about 90% is practically preferable.

저항 발열체는 도체 성분이 AgㆍPd 합금이거나, 이 합금에 전기 절연성을 갖는 결착용 비정질 유리, 무기 산화물 및/또는 무기 질화물을 함유한 것 혹은 이에 미량의 다른 재료가 첨가된 것으로 형성된다. The resistive heating element is formed of an Ag / Pd alloy in which the conductor component is contained, one containing amorphous binding glass, an inorganic oxide and / or an inorganic nitride having electrical insulation, or a small amount of another material added thereto.

이 AgㆍPd 합금에 첨가되는 전기 절연성을 갖는 비정질 유리는, 피막 고정 부착용의 결착제로서의 기능은 물론, 전기 절연성을 갖고 있기 때문에 첨가량을 증감함으로써 저항체 성분으로서 저항치 조정의 작용도 갖는다. The amorphous glass having electrical insulation added to the Ag-Pd alloy has not only a function as a binder for fixing film, but also has electrical insulation, so that the added amount is increased and decreased to have a function of adjusting resistance as a resistor component.

또한, 전기 절연성을 갖는 무기 산화물 및/또는 무기 질화물이라 함은, 무기 산화물 또는 무기 질화물 중 적어도 하나의 종류 혹은 복수 종류 재료를 배합 함유(첨가)시켜도 지장이 없는 것을 의미한다. In addition, the inorganic oxide and / or inorganic nitride which have electrical insulation means that it does not interfere even if it contains compounding (addition) of at least 1 type or multiple types of material of an inorganic oxide or an inorganic nitride.

예를 들어 저항 발열체를 구성하는 AgㆍPd 합금의 중량 비율(Ag/Pd)은 95/5라든가 75/25 등으로, 비교적 비용이 높은 Pd의 사용량을 줄이도록 하고 있다. 또한, 이 저항 발열체의 AgㆍPd 합금 중량에 대한 무기 산화물이나 무기 질화물의 첨가량은 0.1 내지 20 중량 % 정도, 무기 산화물이나 무기 질화물 및 비정질 유리를 포함하는 첨가량은 10 내지 70 중량 % 정도이며, 이 저항 발열체를 구성하는 도체 성분, 무기 산화물 및/또는 무기 질화물이나 유리 등의 비율 및 구체적 재료의 선정은 요구되는 히터의 정격, 특성(온도 상승이나 TCR 등), 형상 등의 규제 범위 내에 따라 적절하게 선택할 수 있다. For example, the weight ratio (Ag / Pd) of the Ag / Pd alloy constituting the resistance heating element is 95/5, 75/25, or the like, so as to reduce the amount of relatively expensive Pd used. In addition, the amount of the inorganic oxide or the inorganic nitride added to the weight of the Ag / Pd alloy of the resistance heating element is about 0.1 to 20% by weight, and the amount of the inorganic oxide, the inorganic nitride and the amorphous glass is about 10 to 70% by weight. The ratio of the conductor component, inorganic oxide and / or inorganic nitride or glass, and the specific material constituting the resistive heating element and the selection of the specific material are appropriately within the regulatory ranges such as the heater rating, characteristics (temperature rise, TCR, etc.), shape, etc. required. You can choose.

또한, 이 AgㆍPd 합금의 중량에 대한 깔때기(filler)로서의 무기 산화물 및/또는 무기 질화물의 함유(첨가)량이 0.1 중량 % 미만이면, 발열체의 저항치 조정에 유리를 많이 첨가해야만 하므로, 발열체가 기판 및 배선 도체나 오버코트층의 유리 사이에서 발포되거나 또는 저항치의 변동이 커지는 등의 문제점이 있고, 또한 무기 산화물의 양이 20 중량 %를 넘으면, 발열체 피막의 밀착 강도가 저하되어 박리를 발생시키기 쉬운 등의 문제점이 있다. In addition, when the content (addition) of the inorganic oxide and / or the inorganic nitride as a filler to the weight of the Ag / Pd alloy is less than 0.1 wt%, a large amount of glass must be added to adjust the resistance of the heating element, so that the heating element is a substrate. And foaming between the glass of the wiring conductor and the overcoat layer, or a large variation in the resistance value, and when the amount of the inorganic oxide exceeds 20% by weight, the adhesion strength of the heat-generating film is lowered and is likely to cause peeling. There is a problem.

또한, 무기 산화물이나 무기 질화물 및 비정질 유리를 포함하는 첨가량이 10 중량 % 미만이면, 100 mΩ 내지 수Ω/□라는 고저항치 범위의 저항체를 형성할 수 없어 발열체의 전체 길이를 길게 하는, 폭을 좁게 하는 등 발열체의 패턴 설계가 한정되어 버릴 문제점이 있다. In addition, when the addition amount containing an inorganic oxide, an inorganic nitride, and an amorphous glass is less than 10 weight%, the width | variety which makes it impossible to form the resistor of the high resistance value range of 100 mPa-several ohms / square, and lengthens the whole length of a heat generating body narrowly There is a problem that the pattern design of the heating element is limited.

또한, 총 중량의 70 중량 %를 넘으면 발열체가 기판, 도체, 오버코트층의 유리 등으로의 반응에 의해 발포되거나, 저항치의 변동이 커지는 등의 문제점이 있다. In addition, when the total weight exceeds 70% by weight, there is a problem that the heating element is foamed by the reaction of the substrate, the conductor, the glass of the overcoat layer, or the like, and the variation in the resistance value becomes large.

또, 본 발명의 명세서의 설명에 있어서, 특히 지정하지 않는 한 용어의 정의 및 기술적 의미는 다음에 따른다. In addition, in the description of the specification of the present invention, the definitions and technical meanings of terms are as follows unless otherwise specified.

기판으로서는, 히터로서 고온에 견딜 수 있는 동시에 전기 절연성을 갖는 세라믹스 및 금속판 등에 상기 세라믹스나 고내열성의 유리로 이루어지는 전기 절연성 재료가 피복된 것을 이용할 수 있다. As a board | substrate, what covered the said electrically insulating material which consists of the said ceramics and high heat resistant glass etc. can be used for the ceramics and metal plate which can withstand high temperature as well as electric insulation.

또한, 상기 저항 발열체는 기판의 표면상에 곧은 형태로 1개 또는 복수개 혹은 굴곡하여 형성하고, 전원에 대해 직렬 또는 병렬하여 접속되고, 그 단부 또는 중간부에 급전용의 단자부가 형성되어 있다. In addition, one or more or a plurality of resistance heating elements are formed on the surface of the substrate in a straight form, are connected in series or in parallel to the power supply, and terminal portions for power feeding are formed at the ends or intermediate portions thereof.

또한, 급전용의 단자부로서는 Ag(은), AgㆍPt(은ㆍ플라티넘 합금), Au(금)이나 Pt(플라티넘) 등을 주체로 한 양도전성 금속 재료로 형성된 피막 혹은 별도 금속박, 판재나 전선 등에 의해 형성해도 된다. In addition, as a terminal part for electric power feeding, the film | membrane formed from the electrically conductive metal material mainly consisting of Ag (silver), Ag, Pt (silver-platinum alloy), Au (gold), Pt (platinum), etc., or a separate metal foil, plate material It may be formed by a wire or the like.

또한, 본 발명의 판형 히터는 기판의 저항 발열체를 형성한 면의 반대면측 등에, 서미스터, 열전대나 서모스택 등으로 이루어지는 온도 검지용 센서나 스위치 등이 설치되어 있어도 좋다. The plate heater of the present invention may be provided with a temperature detection sensor, a switch, etc. made of a thermistor, a thermocouple, a thermostack, or the like, on the side of the substrate opposite to the surface on which the resistance heating element is formed.

기판에 온도 검지용의 센서를 설치해 두면, 히터의 온도를 정확하게 수열하여 그 저항치 변화를 정밀도 좋게 검출하고, 이를 온도 제어 회로에 피드백시킴으로써 온도 제어를 행할 수 있다. 이 온도 검지용 센서의 설치는 기판에 배선 도체와 함께 직접으로 형성하거나 센서를 장착하도록 해도 좋고, 또한 센서에 전기적으로 접속하는 배선 도체를 급전용 막형의 단자부와 마찬가지로 피막에 의해 형성해도, 별도 전선 등에 의해 형성해도 된다. When the sensor for temperature detection is provided on a board | substrate, temperature control can be performed by correctly sequence | heating the temperature of a heater, detecting the resistance change with high precision, and feeding this back to a temperature control circuit. The temperature detection sensor may be installed directly on the board together with the wiring conductor or may be mounted on the board, and the wiring conductor electrically connected to the sensor may be formed by a film like the terminal portion of a feed type film. It may be formed by, for example.

본 발명의 청구항 2에 기재된 판형 히터는, 기판이 AlN, Si3N4, Al2O3 또는 SiC 중 적어도 1 종류의 세라믹스 재료로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The plate heater according to claim 2 of the present invention is characterized in that the substrate is made of at least one ceramic material of AlN, Si 3 N 4 , Al 2 O 3, or SiC.

기판으로서 내열성 및 내후성이나 전기 절연성 등이 우수한 AlN(질화 알루미늄)이나 Si3N4(질화 규소) 등의 질화물계 세라믹스, Al2O3(산화 알루미늄) 등의 산화물계 세라믹스 혹은 SiC(탄화 규소) 등의 탄화물계 세라믹스의 재료로 형성하여 크랙이나 균열의 발생을 방지할 수 있다.As substrates, nitride ceramics such as AlN (aluminum nitride) and Si 3 N 4 (silicon nitride), which are excellent in heat resistance, weather resistance and electrical insulation, oxide ceramics such as Al 2 O 3 (aluminum oxide) or SiC (silicon carbide) Formation of carbide-based ceramic materials such as these can prevent occurrence of cracks and cracks.

본 발명의 청구항 3에 기재된 판형 히터는, 기판의 폭이 3 내지 7 ㎜인 것을 특징으로 한다. The plate heater according to claim 3 of the present invention has a width of the substrate of 3 to 7 mm.

기판의 폭이 3 ㎜ 미만이면 신속 가열성은 높아지지만 열량이 적어, 예를 들어 정착 장치 등인 경우 비가열체 토너의 정착에 필요한 열량을 전할 수 없다. 또한, 폭이 7 ㎜를 넘으면 원하는 효과는 얻어지지만, 기판 폭 방향의 저항 발열체가 없는 부분의 면적이 커지기 때문에 바람직하지 못해, 비용 상승을 초래하는 등의 우려가 있다. If the width of the substrate is less than 3 mm, the rapid heating is high, but the heat amount is small. For example, in the case of a fixing device or the like, the heat amount required for fixing the non-heating toner cannot be transmitted. In addition, if the width exceeds 7 mm, the desired effect is obtained. However, since the area of the portion without the resistive heating element in the substrate width direction becomes large, it is not preferable, and there is a fear of causing an increase in cost.

본 발명의 청구항 4에 기재된 판형 히터는, 기판 주위의 절단면이 평활면 처리되어 있는 것을 특징으로 한다. The plate heater according to claim 4 of the present invention is characterized in that the cut surface around the substrate is subjected to a smooth surface treatment.

세라믹스제의 박판 부재를 레이저 빔에 의해 직접 혹은 간접적으로 절단한 경우에, 그 절단면에는 세라믹스 미분말 잔사의 버어형의 융기부가 생기거나, 미소한 크랙이 생기거나 하는 등 기판의 주연부는 요철 상태로 되어 있는 것이 많이 발생되어 있었지만, 판 부재로부터 분단된 기판의 주연부를 연삭 등의 수단으로 모따기하여 평활면으로 하고 있다. In the case where the thin plate member made of ceramic is cut directly or indirectly with a laser beam, the periphery of the substrate is in an uneven state such as burr-shaped ridges of fine ceramic residue or fine cracks are formed on the cut surface. Although many things have arisen, the peripheral part of the board | substrate divided from the board member is chamfered by means, such as grinding, and it is set as the smooth surface.

이 평활이라 함은 정밀한 평활면이라는 의미가 아니라, 요철이나 손상이 눈으로 확인할 수 없는 정도를 가리키고, 주연부의 버어나 미소한 크랙이 제외되어 있으면 좋다. This smoothing does not mean a precise smooth surface, but refers to the extent to which unevenness and damage are invisible to the eye, and the burrs and minor cracks at the periphery may be excluded.

이러한 처리를 행해 둠으로써, 후일 ON - OFF가 단속적으로 반복하여 행해지는 등 히터의 기판에 열 충격 등이 가해져도, 미소한 크랙이 성장되어 큰 크랙이나 균열로 진행되는 것을 방지할 수 있다. By performing such a process, even if heat shock etc. are applied to the board | substrate of a heater after ON-OFF is intermittently performed repeatedly, it can prevent that a small crack grows and progresses to a big crack or a crack.

본 발명의 청구항 5에 기재된 판형 히터는, 저항 발열체 내의 유리가 ZnO - SiO2계, B2O3 - ZnO계, SiO2 - Al2O3계, B2O3 - SiO - ZnO계, SiO2 - Al2O3 - CaO계 또는 B2O3 - BaO - ZnO계 중 적어도 1 종류의 비정질 유리로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In the plate heater according to claim 5 of the present invention, the glass in the resistance heating element is ZnO-SiO 2 -based, B 2 O 3 -ZnO-based, SiO 2 -Al 2 O 3 -based, B 2 O 3 -SiO-ZnO-based, SiO It is characterized by consisting of at least one amorphous glass of 2 -Al 2 O 3 -CaO system or B 2 O 3 -BaO-ZnO system.

이들 ZnO(산화 아연) - SiO2(산화 규소)계, B2O3(산화 붕소) - ZnO(산화 아연)계, SiO2(산화 규소) - Al2O3(산화 알루미늄)계, B2O3 (산화 붕소) - SiO2(산화 규소) - ZnO(산화 아연)계, SiO2(산화 규소) - Al2O3(산화 알루미늄) - CaO(산화 칼슘)계 또는 B2O3(산화 붕소) - BaO(산화 바륨) - ZnO(산화 아연)계의 비정질 유리는, 용융시 유동성이 좋게 발포를 방지하여 급친밀한 발열체(막)를 얻을 수 있는 동시에 피막 고정 부착용의 결착제로서의 작용을 갖고, 기판과의 밀착성을 높여 박리를 방지할 수 있다.These ZnO (zinc oxide)-SiO 2 (silicon oxide) type, B 2 O 3 (boron oxide)-ZnO (zinc oxide) type, SiO 2 (silicon oxide)-Al 2 O 3 (aluminum oxide) type, B 2 O 3 (boron oxide)-SiO 2 (silicon oxide)-ZnO (zinc oxide) type, SiO 2 (silicon oxide)-Al 2 O 3 (aluminum oxide)-CaO (calcium oxide) type or B 2 O 3 (oxidation) Boron)-BaO (barium oxide)-ZnO (zinc oxide) -based amorphous glass has excellent fluidity during melting to prevent foaming, thereby obtaining an intimate heating element (membrane) and acting as a binder for fixing film. The adhesion to the substrate can be enhanced to prevent peeling.

또한, 비정질 유리는 전기 절연성을 갖고 있기 때문에, 발열체(막) 형성 공정으로 그 첨가량을 증감함으로써 저항체 성분으로서 저항치 조정을 행할 수 있고, 저항치의 변동을 작게 억제하여 장기 사용에서의 저항치의 변동을 억제할 수 있는 동시에 페이스트형이고 동일 조성으로 광범위한 저항치를 용이하게 얻을 수 있다. In addition, since amorphous glass has electrical insulation properties, the resistance value can be adjusted as a resistor component by increasing or decreasing the amount of the additive added in the heating element (film) forming step. At the same time, a wide range of resistance values can be easily obtained with the paste type and the same composition.

또, 결착용 유리로서 결정화 유리를 이용해도 좋지만, 결정화 유리는 가열에 의해 결정화하여 유동성을 잃어버리는 결과, 발열체(막)는 다공성형이 되기 쉬운 문제점이 있는 동시에 결정 상태가 변동됨으로써 저항치가 변동되기 쉽다. In addition, although crystallized glass may be used as the binder glass, crystallized glass crystallizes due to heating and loses fluidity. As a result, the heating element (membrane) tends to be porous, and at the same time, the resistance is changed by changing the crystal state. easy.

본 발명의 청구항 6에 기재된 판형 히터는, 저항 발열체 내의 무기 산화물 또는 무기 질화물이 SiO2, Al2O3, TiO2, ZrO2ㆍSiO 2, 2MgOㆍ2Al2O3ㆍ5SiO2 또는 AlN 중 적어도 하나의 종류로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The plate-shaped heater according to claim 6 of the present invention, the inorganic oxide or inorganic nitride in the resistance heating element at least one of SiO 2, Al 2 O 3, TiO 2, ZrO 2 and SiO 2, 2MgO and 2Al 2 O 3 and 5SiO 2 or AlN It is characterized by consisting of one kind.

내열성 및 내후성이나 전기 절연성 등이 우수한 상기 SiO2(산화 규소), Al2O3(산화 알루미늄), TiO2(산화 티탄), ZrO2ㆍSiO2 , 2MgOㆍ2Al2O3ㆍ5SiO2(코제라이트 ; cordierite) 또는 AlN(질화 알루미늄)으로 이루어지는 무기 산화물 또는 무기 질화물을 깔때기(filler)로서 하나의 종류 또는 복수 종류를 첨가 배합함으로써, 저항치를 조정하여 유리의 첨가량을 억제할 수 있다.SiO 2 (silicon oxide), Al 2 O 3 (aluminum oxide), TiO 2 (titanium oxide), ZrO 2 ㆍ SiO 2 , 2MgO · 2Al 2 O 3 ㆍ 5SiO 2 (co-made) which is excellent in heat resistance and weather resistance and electrical insulation By adding and blending one kind or a plurality of kinds of inorganic oxides or inorganic nitrides made of light; cordierite) or AlN (aluminum nitride) as a funnel, the amount of glass can be suppressed by adjusting the resistance value.

또한, 기판, 저항 발열체, 배선 도체와 오버코트층 사이의 유리의 발포나 변질을 방지하고, 제조시 저항치의 변동이나 변동을 억제하는 동시에 페이스트로서 동일 조성으로 광범위한 저항치가 용이하게 얻을 수 있다. In addition, it is possible to prevent foaming or deterioration of the glass between the substrate, the resistance heating element, the wiring conductor and the overcoat layer, to suppress variation or fluctuation of the resistance value during manufacture, and to easily obtain a wide range of resistance values with the same composition as a paste.

본 발명의 청구항 7에 기재된 판형 히터는, 저항 발열체 및 기판의 표면에 유리질의 오버코트층이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. The plate heater according to claim 7 of the present invention is characterized in that a glassy overcoat layer is formed on the surfaces of the resistance heating element and the substrate.

저항 발열체 표면 및 기판의 일부 표면으로 형성한 유리질의 오버코트층은, 저항 발열체가 산화나 황화 등에 의해 변질되어 저항치가 변화되는 것을 방지하는 동시에 전기적인 절연 및 접촉 등에 의한 손상이나 마모로부터 보호하는 작용을 이룬다. The glassy overcoat layer formed on the surface of the resistive heating element and a part of the substrate prevents the resistive heating element from being deteriorated due to oxidation or sulfidation and thus changes in resistance, and protects against damage or abrasion due to electrical insulation and contact. Achieve.

또한, 오버코트층은 PbO(산화 연) - B2O3(산화 붕소) - SiO2(산화 규소)계의 유리, ZnO(산화 아연) - SiO2(산화 규소) - BaO(산화 바륨)계의 유리, SiO2(산화 규소) - ZnO(산화 아연) - Al2O3(산화 알루미늄)계의 유리, SiO2(산화 규소) - B2O3(산화 붕소) - Al2O3(산화 알루미늄)계의 유리 SiO2(산화 규소) - B2 O3(산화 붕소) - ZnO(산화 아연)계의 유리나 SiO2(산화 규소) - B2O3(산화 붕소) - Na2 O(산화 나트륨)계의 유리 재료로 형성하면 저항 발열체를 구성하는 재료와의 반응이 작거나 전혀 발생하지 않는 작용을 갖는다.The overcoat layer is made of PbO (lead oxide)-B 2 O 3 (boron oxide)-SiO 2 (silicon oxide) based glass, ZnO (zinc oxide)-SiO 2 (silicon oxide)-BaO (barium oxide) based Glass, SiO 2 (silicon oxide)-ZnO (zinc oxide)-Al 2 O 3 (aluminum oxide) based glass, SiO 2 (silicon oxide)-B 2 O 3 (boron oxide)-Al 2 O 3 (aluminum oxide) ) Free SiO 2 (silicon oxide)-B 2 O 3 (boron oxide)-ZnO (zinc oxide) based glass or SiO 2 (silicon oxide)-B 2 O 3 (boron oxide)-Na 2 O (sodium oxide) When formed from a glass-based material, the reaction with the material constituting the resistance heating element is small or does not occur at all.

또, 이들 유리 재료에 SiO2(산화 규소), AlN(질화 알루미늄), BN(질화 붕소)나 SiC(탄화 규소) 등의 깔때기(filler)를 더 가하면 열전도성을 높일 수 있다.In addition, by adding a filler such as SiO 2 (silicon oxide), AlN (aluminum nitride), BN (boron nitride) or SiC (silicon carbide) to these glass materials, the thermal conductivity can be improved.

본 발명의 청구항 8에 기재된 정착 장치는 가압 롤러와, 이 가압 롤러에 저항 발열체가 대향하여 배치된 상기 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나에 기재된 판형 히터를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다. The fixing apparatus according to claim 8 of the present invention includes a pressurizing roller and the plate heater according to any one of claims 1 to 7 in which a resistance heating element is disposed to face the pressing roller.

상기 청구항 1 내지 청구항 7에 기재된 작용을 발휘하는 판형 히터를 구비하고 있기 때문에, 단속적으로 ON(통전) - OFF(대기나 휴지)가 반복하여 행해지는 정착 장치에 있어서, 통전시의 온도 상승이 빠르게 정착 스피드가 상승되는 동시에, 기판에 크랙이나 균열이 생기는 등의 일이 없는 히터에 기인하는 보수를 용이하게 행할 수 있다. Since the plate heater which exhibits the effect | action of Claim 1 thru | or 7 is provided, the fixing apparatus which performs ON (energization)-OFF (standby or pause) repeatedly intermittently, the temperature rise at the time of energization is quick At the same time as the fixing speed is increased, the repair caused by the heater which does not cause cracks or cracks on the substrate can be easily performed.

또한, 이 정착 장치에 있어서, 가압 롤러의 회전에 의해 이 롤러와 판형 히터 사이에 복사 용지 등이 롤형의 내열 시트를 개재하여 공급되지만, 이 때 판형 히터의 기판의 주연부에 절단시에 생긴 융기한 버어 등의 요철부가 있으면, 이 요철부와 접촉하는 내열 시트나 복사 용지 등이 원활하게 반송되지 않고 격심한 경우에는 복사 용지 등에 손상시키는 문제점이 있었지만, 기판의 주연부를 원활면으로 해 둠으로써 내열 시트나 복사 용지 등으로의 접촉도 좋고, 또한 이들을 손상시키는 일도 없다. In the fixing apparatus, copying paper or the like is supplied between the roller and the plate heater through the rolled heat-resistant sheet by the rotation of the pressure roller. If there is an uneven portion such as a burr, the heat-resistant sheet or copy paper that comes into contact with the uneven portion may not be smoothly conveyed, but if it is severe, there is a problem of damaging the copy paper or the like. The contact with the copy paper or the like is also good, and they are not damaged.

또, 이 정착 장치에 있어서, 판형 히터와 피가열체 사이에 열선의 투과를 방해하지 않는 보호 부재를 개재시켜도 좋고, 복사기 등에서는 피가열체인 복사 용지 등의 반송을 하기 위한 필름 등이 설치되어 있어도 좋다. Moreover, in this fixing apparatus, you may interpose the protection member which does not interfere with the permeation | transmission of a hot wire between a plate heater and a to-be-heated body, and the film etc. for conveying copy papers etc. which are a to-be-heated body are provided in the copying machine etc., too. good.

본 발명의 청구항 9에 기재된 화상 형성 장치는, 매체로 형성된 정전 잠상에 토너를 부착시키고, 이 토너를 피복사 부재에 전사하여 소정의 화상을 형성하는 수단과, 가압 롤러에 의해 화상을 형성한 피복사 부재를 판형 히터에 압접하면서 통과시킴으로써 토너를 정착하도록 한 상기 청구항 8에 기재된 정착 장치를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다. An image forming apparatus according to claim 9 of the present invention includes means for attaching a toner to an electrostatic latent image formed of a medium, transferring the toner to a coated yarn member to form a predetermined image, and forming an image by a pressure roller. A fixing apparatus according to claim 8 is provided, wherein the toner is fixed by passing the copying member in a press-contact with a plate heater.

상기 청구항 8에 기재된 작용을 발휘하는 정착 장치를 구비한 복사기나 프린터 등으로, 정착용 히터의 통전시의 온도 상승이 빠른 동시에 이 히터에 기인하는 보수를 용이하게 행할 수 있다. With a copying machine, a printer, etc. provided with the fixing apparatus which exhibits the function of Claim 8, the temperature rise at the time of energization of a fixing heater can be quick, and the repair resulting from this heater can be performed easily.

또, 본 발명에서 말하는 복사 용지라 함은, 원고나 현물 등이 복사되는 종이나 필름 등을 총칭한 것이다. The copy paper used in the present invention is a generic term for a paper, a film, or the like to which a document, a spot or the like is copied.

이하, 본 발명에 관계되는 판형 히터의 실시 형태를 도면을 참조하여 설명한다. 도1은 판형 히터(H1)의 중간부를 절결하여 도시한 정면도, 도2는 도1의 판형 히터(H1)의 이면도, 도3은 도1 중 화살표 표시 a - a선에 따라서 절단한 부분의 확대 종단면도이다(또, 각 도면 중에 도시하는 기판에 대한 저항 발열체, 급전용 단자부, 배선 도체나 오버코트층 등의 각 층의 두께나 폭은 과장하여 나타내고 있고, 치수로서 비례하고 있는 것이 아니다. 또한, 기판의 전방면측 표면 및 이면측 표면은 도면의 설명상의 것이며, 실용상 반대가 되는 경우도 있음).EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the plate heater which concerns on this invention is described with reference to drawings. FIG. 1 is a front view showing the middle portion of the plate heater H1 cut out, FIG. 2 is a rear view of the plate heater H1 shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a portion cut along the arrow marks a-a in FIG. (In addition, the thickness and width of each layer, such as a resistance heating element, a power supply terminal part, a wiring conductor, and an overcoat layer, with respect to the board | substrate shown in each drawing are exaggerated, and are not proportional as a dimension. In addition, the front surface side surface and back surface surface of a board | substrate are things in description of drawing, and may reverse in practical use.

도면 중 부호 1은 내열ㆍ전기 절연성의 예를 들어 AlN(질화 알루미늄) 등의 질화물계 세라믹스 재료를 주성분으로 하는, 예를 들어 그 길이가 약 300 ㎜, 폭(BW)이 약 6.1 ㎜, 두께가 약 0.7 ㎜의 긴 기판이다. In the drawings, reference numeral 1 denotes a nitride-based ceramic material such as AlN (aluminum nitride) as a main component, for example, having a length of about 300 mm, a width (BW) of about 6.1 mm, and a thickness. It is a long substrate of about 0.7 mm.

또한, 부호 2는 이 기판(1)의 전방면측(1a) 표면에 길이 방향에 따라 4조의 발열부(21, …) 중 중간의 단부 사이를 복귀하도록 접속하여 형성된(대략 M 자형) 1개의 연속한 띠형의 저항 발열체이다. 이 저항 발열체(2)는 4조의 발열부(21, 21, 21, 21)가 약 0.5 ㎜의 간격(w, w, w)을 사이에 두고, 폭(HW)이 약 1.0 ㎜, 두께가 약 10 ㎛, 한 변의 길이가 약 280 ㎜로 형성하고 있다. 폭(CW)은 도3에 도시한 바와 같이, 기판(1) 일측면의 최단점(31)으로부터 이 기판의 다른 측면의 최단점(32)까지의 저항 발열체(2)의 발열부(21)의 간격(w)을 포함하는 폭이다. 이 폭(CW)은 후술하는 도5에 도시한 실시 형태에서는, 저항 발열체(2) 자체의 폭(HW)에 일치한다.In addition, 2 is connected to the front surface side 1a surface of this board | substrate 1, and is formed by connecting so that it may return between intermediate ends among four sets of heat-generating parts 21, ... (about M-shaped) It is a continuous strip-shaped resistance heating element. The resistance heating element 2 has four sets of heat generating parts 21, 21, 21, and 21 with a gap (w, w, w) of about 0.5 mm, a width (HW) of about 1.0 mm, and a thickness of about 10 micrometers and the length of one side are formed in about 280 mm. The width CW is the heat generating portion 21 of the resistance heating element 2 from the shortest point 31 on one side of the substrate 1 to the shortest point 32 on the other side of the substrate, as shown in FIG. The width including the interval w of. This width CW corresponds to the width HW of the resistance heating element 2 itself in the embodiment shown in FIG. 5 described later.

이 저항 발열체(2)의 재료는 Ag(은)ㆍPd(팔라듐) 합금을 도전체 성분으로 하고, 이에 전기 절연성을 갖는 무기 산화물 예를 들어 Al2O3(산화 알루미늄)을 깔때기(filler)로 하고, 이에 SiO2 - Al2O3계의 비정질 유리의 플릿(frit)이 첨가 배합되고, 이 유리 플릿(frit)을 결착제로서 기판(1)의 전방면측(1a) 표면에 고정 부착되어 있다. 이 유리 플릿(frit)은 결착제로서의 작용 외에, 전기 절연물이며 저항 조정용으로서도 작용한다.The material of the resistance heating element 2 is made of Ag (silver) Pd (palladium) alloy as a conductor component, and an inorganic oxide having electrical insulation, for example, Al 2 O 3 (aluminum oxide), is used as a funnel. In addition, a frit of amorphous glass of SiO 2 -Al 2 O 3 system is added and blended thereto, and the glass frit is fixedly attached to the surface of the front surface side 1a of the substrate 1 as a binder. have. In addition to acting as a binder, this glass frit is an electrical insulator and also acts for resistance adjustment.

또한, 부호 3, 3은 기판(1) 단부 부근의 전방면측(1a) 표면에 상기 저항 발열체(2) 단부의 상측 또는 하측에 중간층으로 형성한 폭이 넓은 급전용의 막형 전극으로 이루어지는 단자부이고, AgㆍPt(은ㆍ백금) 합금 등을 주성분으로 하는 양도전성의 막 두께로 이루어진다[또, 이 급전용의 단자부(3)는 막 두께를 두껍게 하여 저항치가 낮아지도록 형성해도 좋음].Reference numerals 3 and 3 denote terminal portions formed of wide feeder type film electrodes formed on the surface of the front surface side 1a near the end of the substrate 1 as an intermediate layer above or below the end of the resistance heating element 2. And a conducting film thickness mainly composed of Ag, Pt (silver, platinum) alloys or the like (the terminal portion 3 for power supply may be formed so as to have a high film thickness and low resistance).

또한, 부호 4는 유리질의 오버코트층이고, SiO2(산화 규소)를 주성분으로 한 SiO2(산화 규소) - ZnO(산화 아연) - Al2O3(산화 알루미늄)계의 유리로 이루어지고, 상기 저항 발열체(2)로부터 상기 급전용의 단자부(3)의 일부 및 기판(1)의 길이 방향에 따른 양측 단부의 표면상에 형성하고 있다. 즉, 상기 단자부(3, 3)의 일부를 제외하는 대부분의 전체면을 덮도록, 층 두께가 20 ㎛ 내지 100 ㎛의 유리질의 오버코트층(4)이 형성되어 있다.Further, reference numeral 4 is an overcoat layer of glass, SiO 2 a SiO 2 (silicon oxide) as a main component (silicon oxide) - ZnO (zinc oxide) is made of a glass of Al 2 O 3 (aluminum oxide) type, the It forms on the surface of the both ends of the terminal part 3 for electric power feeding and the board | substrate 1 from the resistance heating element 2 along the longitudinal direction. That is, a glassy overcoat layer 4 having a layer thickness of 20 µm to 100 µm is formed so as to cover most of the entire surface except for a part of the terminal portions 3, 3.

또한, 부호 51, 51은 기판(1)의 이면측(1b)에 상기 단자부(3)와 상기 재료로 이조 형성한 배선 도체, 부호 52, 52는 이 배선 도체(51, 51)의 단자부이고, 배선 도체(51, 51)의 선단부 사이에는 온도 검출용의 센서, 예를 들어 NTC 소자로 이루어지는 서미스터(6)가 AgㆍPd 합금 분말 등을 수지와 혼합한 도전성 접착제를 통해 접합되어 있다. Further, reference numerals 51 and 51 denote wiring conductors formed by forming the terminal portion 3 and the material on the back surface side 1b of the substrate 1, reference numerals 52 and 52 denote terminal portions of the wiring conductors 51 and 51, Between the distal ends of the wiring conductors 51 and 51, a sensor for temperature detection, for example, a thermistor 6 made of an NTC element, is joined via a conductive adhesive in which Ag / Pd alloy powder or the like is mixed with a resin.

다음에, 이 판형 히터(H1)의 제조 방법에 대해 설명한다. 우선, AlN(질화 알루미늄)으로 이루어지고 주연부가 평활한 가늘고 긴 기판(1) 및 Ag 92 중량 %ㆍPd 8 중량 %의 합금 분말과, 결착제 및 저항 조정용으로서 SiO2 - Al2O3계의 비정질 유리 플릿(frit) 분말을 상기 AgㆍPd 합금에 대해 약 20 중량 %와, 깔때기(filler)로서 Al2O3으로 이루어지는 무기 산화물 분말을 상기 AgㆍPd(은ㆍ팔라듐) 합금 분말의 총 중량에 대해 약 10 중량 %와, 에틸셀룰로스(유기 접착제)와 텔피놀(terpineol) 등의 유기 용매를 혼합한 발열체 페이스트를 준비한다.Next, the manufacturing method of this plate heater H1 is demonstrated. First, the elongated substrate 1 made of AlN (aluminum nitride) and having a smooth periphery, and Ag 92 weight% Pd 8 weight% alloy powder, and SiO 2 -Al 2 O 3 -based amorphous glass frit powder for binder and resistance adjustment, about 20 weight% with respect to said Ag. Pd alloy, and the funnel The inorganic oxide powder made of Al 2 O 3 as a filler is about 10% by weight based on the total weight of the Ag, Pd (silver, palladium) alloy powder, ethyl cellulose (organic adhesive), and terpineol. The heating element paste which mixed the organic solvent is prepared.

그리고, 이 발열체 페이스트를 폭(BW)이 약 6.1 ㎜의 기판(1) 전방면측(1a) 표면의 예정 형성부에 길이 방향에 따라서 스크린 인쇄에 의해 단부가 직렬적으로 접속되어 서로간에 약 0.5 ㎜의 간극(w)을 사이에 두고 폭이 약 1.0 ㎜의 4조 막 두께로 이루어지는 도포막을 형성한다. 또, 이 때 최외측의 도포막 외연과 기판(1)의 주연부 간격은 약 0.3 ㎜이다. 이 후, 상기 도포막을 건조하여 소성로 속에서 소성 피크 온도가 약 850 ℃에서 약 10 분간 소성한다. Then, the heating element paste is connected in series to the predetermined forming portion on the front surface side 1a surface of the substrate 1 having a width BW of about 6.1 mm along the lengthwise direction, and connected to each other in series by about 0.5 for each other. A coating film composed of four sets of film thicknesses of about 1.0 mm is formed with a gap (w) of mm interposed therebetween. At this time, the gap between the outermost coating film outer edge and the periphery of the substrate 1 is about 0.3 mm. Thereafter, the coating film is dried and fired in a firing furnace at a firing peak temperature of about 850 ° C. for about 10 minutes.

이 소성에 의해, 페이스트 중에 포함되어 있었던 바인더류는 증발 비산하여 무기 결착제인 유리 성분이 용융되고, AgㆍPd 합금 및 무기 산화물의 혼합 분말을 기판(1) 전방면측(1a)의 표면에 고정 부착시켜 서로간에 전기적으로 절연된 폭(HW)이 약 1.0 ㎜의 4조 막 두께의 발열부(21, …)로 이루어지는 저항 발열체(2)를 형성한다. By this firing, the binders contained in the paste are evaporated and scattered to melt the glass component, which is an inorganic binder, and fix the mixed powder of the Ag / Pd alloy and the inorganic oxide to the surface of the front surface side 1a of the substrate 1. The resistive heating element 2 is formed of the heat generating portions 21,... Of the four-thickness film having a width HW electrically insulated from each other by being attached to each other.

이어서, 기판(1) 전방면측(1a) 표면의 양단부에 연장된 저항 발열체(2)의 단부 및 이면측(1b) 표면에 저항 발열체(2)보다도 단위 면적당의 전기 저항치가 작은 재료 예를 들어 AgㆍPt 합금을 도전 성분으로 한 도전 페이스트를 스크린 인쇄에 의해 도포하고, 건조한 후 상기와 같이 소성함으로써 급전용의 막 두께형의 단자부(3, 3) 및 배선 도체(51, 51)와 단자부(52, 52)를 형성한다. Subsequently, for example, a material having an electric resistance per unit area smaller than that of the resistance heating element 2 on the end and the back surface 1b surface of the resistance heating element 2 extending at both ends of the front surface side 1a surface of the substrate 1, for example. The conductive paste containing the Ag / Pt alloy as a conductive component is applied by screen printing, dried, and then fired as described above, whereby the terminal portions 3 and 3, the wiring conductors 51 and 51 and the terminal portions of the film thickness type for power feeding ( 52, 52).

또, 상기 저항 발열체의 도포막을 건조 후, 도전 페이스트를 도포ㆍ건조시킨 후 양 도포막을 동시에 소성하도록 해도 좋다. In addition, after drying the coating film of the said resistance heating body, after apply | coating and drying an electrically conductive paste, you may make it bake both coating films simultaneously.

이 후, 오버코트층(4)을 형성한다. 이는, 예를 들어 SiO2를 주성분으로 한 SiO2 - ZnO - Al2O3계의 유리의 분말과, 에틸셀룰로스(유기 결착제)와 함께 유기 용매로 혼합하여 이루어지는 유리 페이스트를 상기 저항 발열체(2)로부터 상기 급전용의 단자부(3, 3)의 일부 및 기판(1) 전방면측(1a)의 길이 방향에 따른 양측 단부의 표면 부분에 간극 없이 연속하여 도포막을 형성한다.Thereafter, the overcoat layer 4 is formed. This is because, for example, a glass paste obtained by mixing SiO 2 -ZnO-Al 2 O 3 -based glass powder containing SiO 2 as a main component and an organic solvent together with ethyl cellulose (organic binder) in the resistance heating element (2). ), A coating film is formed continuously on the part of the terminal portions 3 and 3 for power feeding and on the surface portions of both end portions along the longitudinal direction of the front surface side 1a of the substrate 1 without gaps.

그리고, 이 도포막을 건조한 후 소성로 속에서 소성 피크 온도가 약 850 ℃에서 약 10분간 소성하고, 두께 15 ㎛ 내지 100 ㎛의 유리질의 오버코트층(4)으로 하고 있다. After the coating film is dried, the firing peak temperature is fired in the firing furnace at about 850 ° C for about 10 minutes to form a glassy overcoat layer 4 having a thickness of 15 µm to 100 µm.

이 유리는 연화점이 약 600 내지 800 ℃에서 상기의 저항 발열체(2)를 구성하는 페이스트형 도료의 소성 온도보다도 낮고, 소성 온도를 올려 가면 전방면측(1a) 표면부에 형성한 유리 페이스트는 용융하여, 유리의 표면부가 평탄하고 요철이 없는 평활한 유리질의 오버코트층(4)이 형성된다. The glass paste is lower than the firing temperature of the paste-type paint constituting the resistance heating element 2 at a softening point of about 600 to 800 ° C., and when the firing temperature is increased, the glass paste formed on the front surface side 1a surface portion is melted. Thus, a smooth glassy overcoat layer 4 having a flat surface portion and no unevenness is formed.

또한, 서미스터(6)는 최종 공정에 있어서, 각각 AgㆍPd 합금 분말 등을 유리(무기 결착제)나 수용성 유기 결착제와 혼합하여 형성한 도전성 접착제를 통해 배선 도체(51, 51)에 접합되어 있다. In addition, in the final process, the thermistor 6 is bonded to the wiring conductors 51 and 51 through the conductive adhesive formed by mixing Ag and Pd alloy powder etc. with glass (inorganic binder) or water-soluble organic binder, respectively. have.

이러한 구성의 판형 히터(H1)는, 도4에 도시한 바와 같은 회로 구성을 갖고 통전된다. 즉, 온도 제어 회로(T)를 통해 급전용 단자부(3, 3)에 통전하면 저항 발열체(2)에 전류가 흘러 저항 발열체(2)가 발열된다. 또한, 이 때 서미스터(6)에도 신호 전류가 흐르고 있다. The plate heater H1 having such a configuration is energized with a circuit configuration as shown in FIG. That is, when the terminal parts 3 and 3 for power supply are energized through the temperature control circuit T, a current flows through the resistance heating body 2, and the resistance heating body 2 generates heat. At this time, the signal current also flows through the thermistor 6.

그리고, 이 저항 발열체(2)의 발열에 의해 기판(1)도 열전도를 받아 온도 상승하고, 이 열은 기판(1)의 이면측(1b)에 장착하고 있는 서미스터(6) 중앙부의 감 열부에 전해져 감열부의 저항치를 변화시킨다. 이 감열부의 저항치의 변화를 배선 도체(51, 51)를 통해 단자부(52, 52)로부터 출력시키고, 이를 온도 제어 회로(T)에 입력하여 바람직한 온도 범위에 있는지 여부를 판정하고, 저항 발열체(2)에 가하는 전력을 예를 들어 위상 제어함으로써 조정하여 온도 조절시킨다. 또, 이 온도 조절은 전력을 위상 제어하는 데 한정되지 않고, 전압이나 전류를 제어하여 소정의 온도 범위로 조정하도록 해도 좋다. The substrate 1 is also heated by the heat generated by the resistance heating element 2, and the temperature rises. This heat is applied to the heat-sensitive portion of the central portion of the thermistor 6 mounted on the rear surface side 1b of the substrate 1. It is transmitted to change the resistance value of the thermal portion. The change in the resistance value of the heat-sensitive portion is outputted from the terminal portions 52 and 52 through the wiring conductors 51 and 51, and inputted to the temperature control circuit T to determine whether or not it is in a preferable temperature range. The power applied to) is adjusted by, for example, phase control to adjust the temperature. In addition, this temperature control is not limited to phase control of electric power, but may be adjusted to a predetermined temperature range by controlling voltage and current.

또, 도시하지 않지만, 통상 이러한 종류 기기에 있어서 안전 장치(회로)로서, 이 온도 제어 회로(T) 외 온도 퓨즈나 전류 퓨즈가 설치되는 등 다중의 안전 장치가 병설되어 있다. In addition, although not shown, as a safety device (circuit) in this kind of apparatus, multiple safety devices, such as a temperature fuse and a current fuse other than this temperature control circuit T, are provided in parallel.

그리고, 이 판형 히터(H1)는 기판 표면으로 형성된 띠형의 저항 발열체(2)의 합계 폭(HW)이 4 ㎜(1 ㎜ × 4개분)이고, 기판(1) 폭(BW)은 5.5 ㎜이다. 저항 발열체(2)의 발열부(21) 사이의 간격(w)을 거의 없다고 하면 기판(1)의 폭(BW)에 대해 폭(CW)은 약 73 %를 차지하게 된다. 이 경우에는 통전시, 기판(1) 전방면측(1a)의 대부분이 발열되는 동시에 기판(1) 폭을 축소하였기 때문에 기판(1)의 열용량이 감소되고, 히터(H1)의 승온 속도가 빠르게 된다. 즉, 통전 후 단시간 동안에 기판(1) 전체의 온도를 거의 균일하게 상승하여 온도 상승 특성이 향상되어 소형화된 판형 히터(H1)를 제공할 수 있다. The plate heater H1 has a total width HW of the strip-shaped resistance heating element 2 formed on the substrate surface of 4 mm (for 1 mm × 4 pieces), and a width of the substrate 1 BW of 5.5 mm. . When there is little space | interval w between the heat generating parts 21 of the resistance heating body 2, the width CW occupies about 73% with respect to the width BW of the board | substrate 1. As shown in FIG. In this case, since most of the front surface side 1a of the substrate 1 heats up, and at the same time, the width of the substrate 1 is reduced, the heat capacity of the substrate 1 is reduced, and the heating rate of the heater H1 is increased quickly. do. In other words, the temperature of the entire substrate 1 is increased almost uniformly for a short time after the energization, so that the temperature rise characteristic is improved to provide a compact plate-shaped heater H1.

또한, 이 히터(H1)는 기판(1)의 열용량이 감소됨으로써, 발열한 저항 발열체(2)와의 온도차도 작아져, 예를 들어 히터의 ON(통전) - OFF(대기나 휴지)가 단속적으로 반복하여 행해지는 경우라도, 온도차에 기인하는 열 충격에 의한 기판(1)의 크랙 발생을 억제할 수 있다. In addition, since the heat capacity of the heater H1 is reduced, the heater H1 also has a small temperature difference from the heat generating resistance heating element 2, and for example, the ON (energization)-OFF (standby or pause) of the heater is intermittently interrupted. Even if it is performed repeatedly, crack generation of the board | substrate 1 by the thermal shock resulting from a temperature difference can be suppressed.

또한, 형성시에 주연부를 연삭 등으로 하여 평활화한 기판(1)을 이용한 히터(H1)는 버어나 미소 크랙이 제거되어 있기 때문에, 온도차 등의 열 충격에 의해 기판(1)에 크랙이나 균열을 발생시키는 일이 없다. In addition, since the heater H1 using the substrate 1 smoothed by grinding or the like at the time of forming is removed, fine cracks are removed, so that cracks and cracks are formed on the substrate 1 due to thermal shock such as a temperature difference. It does not cause it.

또한, 이 판형 히터는 Ag 92 중량 %ㆍPd 8 중량 %의 도체 성분으로 저항 발열체(2)가 형성되고, 그 TCR치가 1000 ppm/℃를 넘는 것이고, 장치 등의 안전 회로가 동작하지 않았던 경우라도, 히터(H1)의 과도한 온도 상승을 방지할 수 있어, 히터(H1) 자체나 유지 부재 혹은 주변에 존재하는 것 외의 부품을 탄화나 용융시키는 등의 열적 영향을 주는 문제점이 없다. 또한, 정격치로부터 높은 전력이 입력되어도 기판(1) 내에 온도차가 생기기 어렵기 때문에, 기판(1)에 크랙이나 균열의 발생이 없다. In addition, this plate heater has a resistance heating element 2 formed of a conductor component of Ag 92% by weight and Pd 8% by weight, and its TCR value exceeds 1000 ppm / ° C, even when a safety circuit such as a device does not operate. The excessive rise of the temperature of the heater H1 can be prevented, and there is no problem of thermally affecting the heater H1 itself, the holding member, or other components other than those present in the vicinity. In addition, even if a high power is input from the rated value, a temperature difference is less likely to occur in the substrate 1, so that there is no crack or crack in the substrate 1.

또한, 비저항이 큰 Pd의 비율을 10 % 이하로 적게 한 경우에는, 수 mΩ/□의 낮은 저항치 범위의 저항체를 형성하는 것이 가능하고, 저항 발열체(2)를 기판(1) 전체면에 복귀하는 등 길게 배치하여 형성할 수 있어, 기판(1)에 대한 면적 비율을 높이는 것을 용이하게 행할 수 있다. In addition, when the ratio of Pd having a large specific resistance is reduced to 10% or less, it is possible to form a resistor having a low resistance value range of several mPa / □, and return the resistance heating element 2 to the entire surface of the substrate 1. It can be arrange | positioned etc. and formed long, and it is easy to raise the area ratio with respect to the board | substrate 1.

따라서, 본 발명에 따르면 기판(1) 면적에 대한 저항 발열체(2)의 면적의 비율이 크기 때문에 발열 효율이 높고, 통전 후의 승온이 빠른 온도 상승 특성의 향상이 시도되고, 또한 기판(1)에 크랙이나 균열의 발생을 억제할 수 있는 동시에 소형화가 시도된 판형 히터(H1)를 제공할 수 있다. Therefore, according to the present invention, since the ratio of the area of the resistive heating element 2 to the area of the substrate 1 is large, the improvement of the temperature rise characteristic which is high in heat generation efficiency and quick after heating is attempted, The generation | occurrence | production of the crack and crack can be suppressed, and the plate-shaped heater H1 which tried to miniaturize can be provided.

또한, 도5는 본 발명 판형 히터(H2)의 다른 실시 형태를 도시하는 정면도이고, 도면 중 상술한 도1 내지 도3과 동일 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 그 설명은 생략한다. 5 is a front view showing another embodiment of the plate heater H2 of the present invention. The same parts as those in FIGS. 1 to 3 described above are given the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

본 실시 형태에 도시한 판형 히터(H2)는 기판(1)의 폭(BW)이 약 3.3 ㎜이고, 이 기판(1)의 전방면측(1a)에는 상기 실시 형태에 도시한 바와 마찬가지인 재료 조성으로 이루어지는 폭(HW)이 약 2.6 ㎜의 1조의 저항 발열체(2)가 형성되어 있다. In the plate heater H2 shown in the present embodiment, the width BW of the substrate 1 is about 3.3 mm, and the front surface side 1a of the substrate 1 has the same material composition as that shown in the above embodiment. The pair of resistance heating elements 2 having a width HW of about 2.6 mm is formed.

이러한 히터(H2)도 기판(1)의 폭에 대해 저항 발열체(2)의 폭이 약 80 %이며, 상기 실시 형태와 마찬가지인 작용 효과를 발휘할 수 있다. Such a heater H2 also has a width of the resistive heating element 2 about 80% with respect to the width of the substrate 1, and can exhibit an effect similar to that of the above embodiment.

또한, 도6 및 도7은 상기 판형 히터(H1, H2)를 조립한 정착 장치(7)의 실시 형태를 도시한다. 이 정착 장치(7)는 복사기용의 것으로, 도6은 그 일부를 절결한 종단면도, 도7은 도6 중 화살표 표시 b - b선에 따른 절단면의 확대 횡단면도이고, 도면 중 히터(H1) 부분은 상기 실시 형태와 동일하기 때문에 그 설명은 생략한다. 6 and 7 show an embodiment of the fixing device 7 in which the plate heaters H1 and H2 are assembled. This fixing device 7 is for a copying machine, FIG. 6 is a longitudinal sectional view in which part thereof is cut out, and FIG. 7 is an enlarged cross sectional view of a cutting plane along the arrow line b-b in FIG. 6, and the portion of the heater H1 in the figure. Since is the same as the above embodiment, the description is omitted.

도면에 있어서, 부호 71은 가압 롤러이고, 양단부면에 구동부(도시하지 않음)에 피봇 지지된 회전축(72)을 돌출 설치하고, 이 회전축(72)의 외주로 형성한 원통형 롤러 본체(73)의 표면에 내열성 탄성 재료, 예를 들어 실리콘 고무층(74)이 끼워 맞추어져 있다. In the figure, reference numeral 71 denotes a pressure roller, and protrudes a rotating shaft 72 pivotally supported by a drive unit (not shown) on both end faces of the cylindrical roller body 73 formed on the outer circumference of the rotating shaft 72. A heat resistant elastic material, for example, a silicone rubber layer 74, is fitted to the surface.

또한, 부호 81은 상기 가압 롤러(71)의 회전축(72)과 대향하여 배치된 히터 지지 부재로, 이 지지 부재(81)의 오목부(82) 내에 판형 히터(H1)가 가압 롤러(71)로 병치한 상태에서 장착 고정되어 있다. 또한, 히터(H1)를 포함하는 지지 부재(81)의 주위에는 폴리이미드 수지 등의 내열성의 시트로 이루어지는 무단부의 롤형을 이룬 정착 필름(83)이 순환 가능하게 권취 장착되어 있다. In addition, reference numeral 81 denotes a heater support member which is disposed to face the rotation shaft 72 of the pressure roller 71, and the plate heater H1 is formed in the recess 82 of the support member 81 by the pressure roller 71. It is fixed in the state juxtaposed by Moreover, around the support member 81 containing the heater H1, the endless roll-shaped fixing film 83 which consists of heat resistant sheets, such as a polyimide resin, is wound-wound-mounted.

그리고, 히터(H1)의 상측으로 형성한 유리질의 오버코트층(4)의 원활한 표면은, 이 정착 필름(83)을 통해 상기 가압 롤러(71)의 실리콘 고무층(74)과 탄성 접합하고 있다. 또, 도면 중 P는 피가열체를 이루는 복사 용지나 복사용 필름 등의 기록 매체, 여기서는 복사 용지로 이 복사 용지(P)상의 T1은 인쇄된 미정착 토너상, T2는 정착 완료 토너상을 나타낸다. The smooth surface of the glassy overcoat layer 4 formed above the heater H1 is elastically bonded to the silicone rubber layer 74 of the pressure roller 71 via the fixing film 83. In the figure, P denotes a recording medium such as a copy paper or a film for forming a heated object, in this case, a copy paper, where T1 on the copy paper P is an unfixed toner image printed on it, and T2 is a fixing toner image. .

상기 구성의 정착 장치(7)는, 후술하는 바와 같이 화상 형성 장치(9)의 일부로서 이용되고, 복사 용지(P) 등 피복사 부재에 전사된 미정착 토너상(T1)을 정착한다. The fixing device 7 having the above-described configuration is used as a part of the image forming apparatus 9 to fix the unfixed toner image T1 transferred to the coated yarn member such as the copy paper P as described later.

이 정착 장치(7)에 있어서 판형 히터(H1)는 단자부(3, 3)에 접촉한 인청동판을 절곡하는 등으로 하여 탄성을 부여한 커넥터(85, 85)를 통해 통전되고, 저항 발열체(2)가 소정 온도로 발열한 상태에서 가압 롤러(71)가 구동부에 의해 회전하고, 이에 종동하여 압접되어 있는 정착 필름(83)도 판형 히터(H1)를 덮는 오버코트층(4) 표면에 미끄럼 접촉하면서 히터 지지 부재(81)의 주위를 순환한다. In this fixing device 7, the plate heater H1 is energized through the connectors 85 and 85 that are elasticized by bending the phosphor bronze plate in contact with the terminal portions 3 and 3, for example. Pressure roller 71 rotates by the drive part in the state which heat | fever to the predetermined temperature, and the fixing film 83 which is driven and pressed by this also makes sliding heater contacting the surface of the overcoat layer 4 which covers plate-shaped heater H1. It circulates around the support member 81.

그리고, 미정착 토너상(T1)을 전사한 복사 용지(P)가 정착 장치(7)로 반송되어 오면, 복사 용지(P)는 상하면이 가압 롤러(71)의 실리콘 고무층(74)과 정착 필름(83)면과의 양자가 회전하고 있는 사이에서, 상하면으로부터 협압한 상태로 도면 중 화살표 방향으로 조출하도록 통과시키게 된다. 그 때에, 복사 용지(P)는 상기의 가압과 저항 발열체(2)의 가열에 의해, 미정착 토너상(T1)이 소부되어 복사 용지(P)에 토너상(T2)을 정착 형성시킬 수 있다. Then, when the copy paper P on which the unfixed toner image T1 has been transferred is conveyed to the fixing device 7, the copy paper P is upper and lower surfaces of the silicon rubber layer 74 of the pressure roller 71 and the fixing film. While both of the (83) planes are rotating, they are made to pass in the direction of the arrow in the figure in the state of being pinched from the upper and lower surfaces. At that time, the copy paper P is baked by the above-mentioned pressurization and heating of the resistance heating element 2, whereby the unfixed toner image T1 is baked to fix the toner image T2 on the copy paper P. .

즉, 가압 롤러(71)의 용지 입력측에서는 복사 용지(P)상의 미정착 토너상(T1)이 우선 정착 필름(83)을 통해 히터(H1)에 의해 가열 용융되고, 적어도 그 표면부는 융점을 크게 상회하여 완전하게 연화 용융한다. 그런 후에, 가압 롤러(71)의 용지 배출측에서는 복사 용지(P)가 히터(H1)로부터 떨어져 토너상(T2)은 자연 방열하여 다시 냉각 고화하고, 정착 필름(83)도 복사 용지(P)에서 이격된다. That is, on the paper input side of the pressure roller 71, the unfixed toner image T1 on the copy paper P is first heated and melted by the heater H1 through the fixing film 83, and at least the surface portion thereof has a large melting point. Melt and melt completely. Then, on the paper discharge side of the pressure roller 71, the copy paper P is separated from the heater H1, and the toner image T2 is naturally radiated to cool and solidify again, and the fixing film 83 is also removed from the copy paper P. Spaced apart.

이 때, 상기 판형 히터(H1)의 저항 발열체(2)를 덮어 최상층으로 형성한 유리질의 오버코트층(4)의 평활한 표면은 정착 필름(83)에 미끄럼 접촉하고 있기 때문에, 정착 필름(83)이 원활하게 회전하여 가압 롤러(71) 사이에서 복사 용지(P)가 정착 필름(83)과 함께 원활하게 반송되고, 토너의 스며듦이 적은 양호한 정착을 행할 수 있다. At this time, since the smooth surface of the glassy overcoat layer 4 formed by covering the resistance heating element 2 of the plate heater H1 as the uppermost layer is in sliding contact with the fixing film 83, the fixing film 83 This smooth rotation allows the copying paper P to be smoothly conveyed together with the fixing film 83 between the pressure rollers 71, and good fixing with little toner seepage can be performed.

이어서, 본 발명에 관한 상기의 판형 히터(H1) 및 정착 장치(7)를 조립한 화상 형성 장치로서 도8에 도시한 복사기(9)를 참조하여 설명한다. 도6은 상기 정착 장치(7)를 장착한 화상 형성 장치 예를 들어 복사기(9)의 개략 구성을 나타내는 종단면도이고, 도면 중 정착 장치(7) 부분은 상기 실시 형태와 동일하기 때문에 동일 부분에는 동일한 부호를 부여하여 그 설명은 생략한다. Next, a description will be given with reference to the copying machine 9 shown in Fig. 8 as an image forming apparatus incorporating the plate heater H1 and the fixing device 7 according to the present invention. Fig. 6 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of an image forming apparatus, for example, a copying machine 9, on which the fixing device 7 is mounted. In the drawing, the fixing device 7 portion is the same as the above embodiment, The same code | symbol is attached | subjected and the description is abbreviate | omitted.

도8에 있어서, 부호 90은 복사기(9)의 하우징, 91은 하우징(90)의 상면에 설치된 유리 등의 투명 부재로 이루어지는 원고 장착대에서 화살표 Y 방향으로 왕복 운동하여 원고(P1)를 주사한다. In Fig. 8, reference numeral 90 denotes a housing of the copier 9, 91 denotes a document P1 by reciprocating in the direction of the arrow Y in a document mount made of a transparent member such as glass provided on the upper surface of the housing 90. .

하우징(90) 내의 상방에는 광조사용의 램프와 반사경으로 이루어지는 조명 장치(9L)가 설치되어 있고, 이 조명 장치(9L)에 의해 조사된 원고(P1)로부터의 반사광선이 단초점 소직경 결상 소자 어레이(9A)에 의해 감광 드럼(9D)상에 슬릿 노광된다. 또, 이 감광 드럼(9D)은 화살표 방향으로 회전한다. Above the housing 90, an illuminating device 9L composed of a lamp for light irradiation and a reflecting mirror is provided, and the reflected light from the document P1 irradiated by the illuminating device 9L is a short focal small diameter imaging element. Slit exposure is performed on the photosensitive drum 9D by the array 9A. This photosensitive drum 9D rotates in the direction of the arrow.

또한, 부호 92는 대전기이고, 예를 들어 산화 아연 감광층 혹은 유기 반도체 감광층이 피복된 감광 드럼(9D)상에 한결같이 대전을 행한다. 이 대전기(92)에 의해 대전된 드럼(9D)에는 결상 소자 어레이(9A)에 의해 화상 노광이 행해진 정전 화상이 형성된다. 이 정전 화상은 현상기(93)에 의한 가열로 연화 용융하는 수지 등으로 이루어지는 토너를 이용하여 현상화된다. Reference numeral 92 denotes a charger, and for example, charging is uniformly performed on the photosensitive drum 9D coated with a zinc oxide photosensitive layer or an organic semiconductor photosensitive layer. In the drum 9D charged by the charger 92, an electrostatic image subjected to image exposure by the imaging element array 9A is formed. This electrostatic image is developed using a toner made of a resin or the like softened and melted by heating by the developing unit 93.

한편, 카세트(9C) 내에 수납되어 있는 복사 용지(P)는 급송 롤러(94)와 감광 드럼(9D)상의 화상과 동기하도록 타이밍을 잡아 상하 방향으로 압접하여 회전되는 반송 롤러(95)에 의해, 드럼(9D)상으로 송입된다. 그리고, 전사 방전기(96)에 의해 감광 드럼(9D)상에 형성되어 있는 토너상은 복사 용지(P)상에 전사된다. On the other hand, the copy paper P housed in the cassette 9C is rotated by a conveying roller 95 which is pressed in the up and down direction by timing in synchronization with an image on the feeding roller 94 and the photosensitive drum 9D, It is fed onto the drum 9D. Then, the toner image formed on the photosensitive drum 9D by the transfer discharger 96 is transferred onto the copy paper P. As shown in FIG.

이 후, 드럼(9D)상으로부터 떨어진 용지(P)는 반송 가이드(97)에 의해 정착 장치(8)에 유도되어 가열 정착 처리된 후에 트레이(98) 내로 배출된다. 또, 토너상을 전사 후, 드럼(9D)상의 잔류 토너는 클리너(99)에 의해 제거된다. Thereafter, the paper P separated from the drum 9D is guided to the fixing device 8 by the conveyance guide 97 and is discharged into the tray 98 after being subjected to heat fixation processing. After the toner image is transferred, the residual toner on the drum 9D is removed by the cleaner 99.

상기 정착 장치(8)는 복사 용지(P)의 이동 방향과 직교하는 방향으로, 이 복사기(9)를 복사할 수 있는 최대판 용지의 폭(길이)으로 정합한 유효 길이, 즉 최대판 용지의 폭(길이)보다 긴 발열 저항체(3)를 연장시켜 판형 히터(H1)를 배치하고 있는 동시에 이 히터(H1)의 연장 방향으로 가볍게 탄성 접합하도록 발열 저항체(3)와 마주 대하여 이송용의 가압 롤러(71)가 설치되어 있다. The fixing device 8 is formed in a direction orthogonal to the moving direction of the copy paper P, and has an effective length matched with the width (length) of the maximum sheet paper that can copy the copying machine 9, that is, the maximum sheet paper. Pressurizing roller for transfer against the heat generating resistor 3 so as to extend the heat generating resistor 3 longer than the width (length) to arrange the plate-shaped heater H1 and to elastically bond lightly in the extending direction of the heater H1. 71 is provided.

그리고, 히터(H1)와 가압 롤러(71) 사이를 이송되는 용지(P)상의 미정착 토너상(T1)은 저항 발열체(2)로부터의 열을 받아 용융하여 용지(P) 면상에 문자, 영 숫자, 기호, 도면 등의 복사상을 나타나게 한다. Then, the unfixed toner image T1 on the sheet of paper P conveyed between the heater H1 and the pressure roller 71 is melted by receiving heat from the resistance heating element 2, and then on the surface of the sheet of paper P, characters and zeros. Make copies of numbers, symbols, drawings, etc. appear.

이러한, 정착 장치(7)를 조립한 복사기(9)는 ON(통전) - OFF(대기)가 단속적으로 반복하여 행해지는 경우라도, 통전 후의 온도 상승이 빠르게 복사 스피드를 올릴 수 있는 동시에 기판(1)에 크랙이나 균열 등에 기인하는 고장이 없어 보수도 용이해진다. Such a copying machine 9 incorporating the fixing device 7 is capable of rapidly increasing the copying speed at the same time, even if ON (energizing)-OFF (standby) is repeatedly performed intermittently, and at the same time, the substrate 1 ), There is no breakdown caused by cracks or cracks, so maintenance is easy.

또, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되지 않는다. 예를 들어 상기 실시 형태에서는 판형 히터를 복사기의 정착용에 이용하였지만, 프린터나 팩시밀리 등의 다른 OA 기기의 정착용에도 적용할 수 있다. In addition, this invention is not limited to the said embodiment. For example, in the above embodiment, the plate heater is used for fixing the copier, but can also be applied to fixing other OA devices such as printers and facsimiles.

또한, OA 기기로 한정되지 않고, 가정용의 전기 제품, 업무용이나 실험용의 정밀 기기나 화학 반응용의 기기 등에 있어서 가열용에 장착하여 사용할 수 있다. In addition, the present invention is not limited to an OA device, and can be used by being used for heating in household electrical appliances, precision devices for business and experiments, or devices for chemical reactions.

본 발명의 청구항 1에 기재된 발명에 따르면, 기판의 용량이 감소되어 히터의 승온 속도가 빠르게 되는 동시에 기판과 발열한 저항 발열체와의 온도차도 작아져, 히터의 ON(통전) - OFF(대기나 휴지)가 단속적으로 반복하여 행해지는 경우라도, 온도차에 기인하는 열 충격을 완화시킬 수 있다. 또한, 기판 폭의 축소가 시도되기 때문에 판형 히터를 소형화할 수 있는 이점도 갖는다. According to the invention described in claim 1 of the present invention, the capacity of the substrate is reduced to increase the heating rate of the heater, and at the same time, the temperature difference between the substrate and the resistance heating element that generates heat is also reduced, and the heater is turned on (energized)-OFF (standby or idle). Even if) is repeatedly performed intermittently, the thermal shock caused by the temperature difference can be alleviated. In addition, since the reduction of the width of the substrate is attempted, there is also an advantage of miniaturizing the plate heater.

따라서, 온도 상승 특성의 향상이 시도되는 동시에 기판의 크랙이나 이지러짐 발생의 방지가 시도되는 판형 히터를 제공할 수 있다. Therefore, it is possible to provide a plate heater which attempts to improve the temperature rise characteristic and to prevent occurrence of cracks or distortion of the substrate.

청구항 2에 기재된 발명에 따르면, 내열성 및 내후성이나 전기 절연성 등이 우수한 세라믹스의 재료로 기판을 형성함으로써, 크랙이나 균열의 발생을 방지할 수 있었던 상기 청구항 1에 기재된 바와 같은 효과를 발휘하는 판형 히터를 제공할 수 있다. According to the invention of claim 2, there is provided a plate heater having an effect as described in claim 1, wherein the substrate is formed of a ceramic material having excellent heat resistance, weather resistance, electrical insulation, and the like, thereby preventing the occurrence of cracks and cracks. Can provide.

청구항 3에 기재된 발명에 따르면, 예를 들어 토너의 정착에 필요한 발열량을 확보할 수 있는 고효율의 판형 히터를 제공할 수 있다. According to the invention as set forth in claim 3, it is possible to provide a high-efficiency plate heater capable of securing the amount of heat generated for fixing the toner, for example.

청구항 4에 기재된 발명에 따르면, 세라믹스제 기판의 주연부를 연삭 등의 수단으로 모따기하여 버어나 미소한 크랙 등을 제거하여 평활면으로 해 둠으로써, ON(통전) - OFF(대기나 휴지)가 단속적으로 반복하여 행해지는 등의 열 충격이 기판에 가해져도, 크랙이나 균열의 발생을 방지할 수 있는 상기 청구항 1에 기재된 바와 같은 효과를 발휘하는 판형 히터를 제공할 수 있다. According to the invention of claim 4, the circumferential portion of the ceramic substrate is chamfered by means of grinding or the like to remove burrs, microcracks, and the like to form a smooth surface, whereby ON (energization)-OFF (standby or pause) is intermittent. Even if a thermal shock such as repeatedly performed on the substrate is applied, a plate heater having an effect as described in claim 1 which can prevent the occurrence of cracks and cracks can be provided.

청구항 5에 기재된 발명에 따르면, 저항 발열체(막)에 함유된 비정질 유리는 그 첨가량을 증감함으로써 저항체 성분으로서 저항치 조정을 행할 수 있고, 또한 급친밀한 피막을 얻을 수 있는 동시에 결착제로서의 작용을 갖고 기판과의 밀착성을 높여 박리 방지가 시도되는 판형 히터를 제공할 수 있다. According to the invention as set forth in claim 5, the amorphous glass contained in the resistance heating element (film) can adjust the resistance value as a resistor component by increasing or decreasing the addition amount thereof, and also obtain an intimate film and act as a binder and have a substrate. It is possible to provide a plate heater that tries to prevent peeling by increasing adhesiveness with.

청구항 6에 기재된 발명에 따르면, 저항 발열체(막)에 함유된 무기 산화물 또는 무기 질화물이 유리의 발포나 변질을 방지하고, 저항치의 변동이나 변동을 억제하는 효과를 발휘하는 판형 히터를 제공할 수 있다. According to invention of Claim 6, the plate-shaped heater which exhibits the effect which the inorganic oxide or inorganic nitride contained in the resistance heating body (film) prevents foaming or alteration of glass, and suppresses fluctuations or fluctuations of a resistance value. .

청구항 7에 기재된 발명에 따르면, 유리질의 오버코트층은 저항 발열체가 산화나 황화 등에 의해 변질되어 저항치가 변화되는 것을 방지하는 동시에 전기적인 절연 및 접촉 등에 의한 손상이나 마모로부터 판형 히터를 보호하는 효과를 발휘한다. According to the invention as set forth in claim 7, the glassy overcoat layer prevents the resistance heating element from being changed by oxidation or sulfidation, thereby changing the resistance value, and at the same time, protects the plate heater from damage or abrasion due to electrical insulation and contact. do.

청구항 8에 기재된 발명에 따르면, 상기 청구항 1 내지 청구항 7에 기재된 효과를 발휘하는 판형 히터를 구비하고 있기 때문에, 단속적으로 ON(통전) - OFF(대기나 휴지)가 반복하여 행해지는 정착 장치에 있어서, 통전시의 온도 상승이 빠르게 정착 스피드를 올릴 수 있는 동시에, 기판에 크랙이나 균열이 생기는 등의 일이 없는 히터에 기인하는 보수를 용이하게 행할 수 있는 정착 장치를 제공할 수 있다. According to the invention of Claim 8, since it is provided with the plate heater which exhibits the effect of Claims 1-7, in the fixing apparatus which is repeatedly performed ON (energization)-OFF (waiting or resting) intermittently, In addition, the fixing apparatus which can raise the fixing speed rapidly at the time of energization, and can perform maintenance by the heater which does not generate a crack or a crack in a board | substrate easily can be provided.

청구항 9에 기재된 발명에 따르면, 상기 청구항 8에 기재된 효과를 발휘하는 정착 장치를 구비한 복사기나 프린터 등으로, 정착용 히터의 통전시의 온도 상승이 빠른 동시에 이 히터에 기인하는 보수를 용이하게 행할 수 있는 복사기 등의 화상 형성 장치를 제공할 수 있다. According to the invention described in claim 9, a copying machine, a printer, or the like having a fixing device that exhibits the effect according to claim 8, wherein the temperature rise at the time of energization of the fixing heater is fast, and the repair caused by the heater can be easily performed. An image forming apparatus such as a copying machine can be provided.

도1은 본 발명의 판형 히터의 실시 형태를 도시하는 중간부를 절결한 정면도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The front view which cut | disconnected the intermediate part which shows embodiment of the plate heater of this invention.

도2는 도1의 판형 히터의 이면도. Figure 2 is a rear view of the plate heater of Figure 1;

도3은 도1 중 화살표 표시 a - a선에 따라서 절단한 부분의 확대 횡단면도. FIG. 3 is an enlarged cross sectional view of a portion cut along the arrow line a-a in FIG. 1; FIG.

도4는 본 발명에 관계되는 판형 히터의 통전 회로 구성을 나타내는 설명도. 4 is an explanatory diagram showing a configuration of an energization circuit of a plate heater according to the present invention;

도5는 본 발명의 판형 히터의 다른 실시 형태를 도시하는 중간부를 절결한 정면도. Fig. 5 is a front view in which the intermediate portion is cut away showing another embodiment of the plate heater of the present invention.

도6은 판형 히터를 조립한 본 발명의 복사기용의 정착 장치의 실시 형태를 도시하는 일부를 절결한 종단면도. Fig. 6 is a vertical cross-sectional view of a part showing an embodiment of a fixing apparatus for a copying machine of the present invention incorporating a plate heater.

도7은 도6 중 화살표 표시 b - b선에 따른 절단면의 확대 횡단면도.Fig. 7 is an enlarged cross sectional view of the cut plane along the arrow marks b-b in Fig. 6;

도8은 정착 장치를 조립한 본 발명의 화상 형성 장치(복사기)의 개략 구성을 도시하는 종단면도.Fig. 8 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of an image forming apparatus (copier) of the present invention in which a fixing apparatus is assembled.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

H1, H2 : 판형 히터H1, H2: Plate Heater

1 : 기판1: substrate

2 : 저항 발열체2: resistance heating element

3 : 단자부(급전용 막형 전극)3: Terminal part (membrane type electrode for power supply)

4 : 오버코트층4: overcoat layer

7 : 정착 장치7: fixing device

9 : 화상 형성 장치(복사기)9: image forming apparatus (copier)

71 : 가압 롤러71: pressure roller

Claims (9)

내열ㆍ전기 절연성의 재료로 이루어지는 긴 기판과,A long substrate made of a heat resistant and electrically insulating material, 이 기판의 표면에 길이 방향에 따라 띠형으로 배치 형성된 AgㆍPd 합금에 유리, 무기 산화물 및/또는 무기 질화물을 함유하여 이루어지는 저항 발열체와,A resistive heating element comprising glass, an inorganic oxide and / or an inorganic nitride in an Ag. Pd alloy formed in a band shape on the surface of the substrate in a longitudinal direction; 이 저항 발열체에 연달아 설치하여 형성된 급전 단자부를 구비하고, It is provided with the power supply terminal part formed in succession to this resistance heating element, 상기 저항 발열체의 상기 기판의 1 측면 최단점으로부터 상기 기판의 다른 측면 최단점까지의 발열부 사이의 간격을 포함하는 폭(CW)이, 상기 기판의 폭(BW)에 대해 70 % 이상인 것을 특징으로 하는 판형 히터. The width CW including a gap between the heat generating portions from one side shortest end of the substrate of the resistive heating element to the other side shortest end of the substrate is 70% or more relative to the width BW of the substrate. Plate heater. 제1항에 있어서, 기판이 AlN, Si3N4, Al2O3 또는 SiC 중 적어도 1 종류의 세라믹스 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 판형 히터.The plate heater according to claim 1, wherein the substrate is made of at least one ceramic material of AlN, Si 3 N 4 , Al 2 O 3, or SiC. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기판의 폭이 3 내지 7 ㎜인 것을 특징으로 하는 판형 히터. The plate heater according to claim 1 or 2, wherein the width of the substrate is 3 to 7 mm. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기판 주위의 절단면이 평활면 처리되어 있는 것을 특징으로 하는 판형 히터. The plate heater according to claim 1 or 2, wherein the cut surface around the substrate is subjected to a smooth surface treatment. 제1항에 있어서, 저항 발열체 내의 유리가 ZnO - SiO2계, B2O3 - ZnO계, SiO2 - Al2O3계, B2O3 - SiO2 - ZnO계, SiO2 - Al2O3 - CaO계 또는 B2O3 - BaO - ZnO계 중 적어도 1 종류의 비정질 유리로 이루어지는 것을 특징으로 하는 판형 히터.The glass of the resistance heating element according to claim 1, wherein the glass in the resistance heating element is ZnO-SiO 2 type , B 2 O 3 -ZnO type, SiO 2 -Al 2 O 3 type , B 2 O 3 -SiO 2 -ZnO type, SiO 2 -Al 2 A plate heater comprising at least one amorphous glass of an O 3 -CaO-based or a B 2 O 3 -BaO-ZnO-based. 제1항에 있어서, 저항 발열체 내의 무기 산화물 또는 무기 질화물이 SiO2, Al2O3, TiO2, ZrO2ㆍSiO2, 2MgOㆍ2Al2O 3ㆍ5SiO2 또는 AlN 중 적어도 하나의 종류로 이루어지는 것을 특징으로 하는 판형 히터.According to claim 1, wherein the inorganic oxide or inorganic nitride in the resistance heating SiO 2, Al 2 O 3, TiO 2, ZrO 2 and SiO 2, 2MgO and 2Al 2 O 3 and 5SiO consisting of at least one kind of two or AlN Plate heater, characterized in that. 제1항, 제2항, 제5항 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 저항 발열체 및 기판의 표면에는 유리질의 오버코트층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 판형 히터. The plate heater according to any one of claims 1, 2, 5 and 6, wherein a glassy overcoat layer is formed on the surfaces of the resistance heating element and the substrate. 가압 롤러와,With a pressure roller, 이 가압 롤러에 저항 발열체가 대향하여 배치된 상기 제1항, 제2항, 제5항 및 제6항 중 어느 한 항에 기재된 판형 히터를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 정착 장치. The pressurizing roller is provided with the plate heater as described in any one of Claims 1, 2, 5, and 6 in which the resistance heating element is disposed to face the fixing roller. 매체로 형성된 정전 잠상에 토너를 부착시키고, 이 토너를 피복사 부재에 전사하여 소정의 화상을 형성하는 수단과,Means for attaching toner on an electrostatic latent image formed of the medium, transferring the toner to a coated yarn member to form a predetermined image; 화상을 형성한 피복사 부재를 가압 롤러에 의해 판형 히터에 압접하면서 통과시킴으로써 토너를 정착하도록 한 상기 제8항에 기재된 정착 장치를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. An image forming apparatus, comprising: the fixing apparatus according to claim 8, wherein the toner is formed by passing a coated yarn member on which an image is formed while being pressed against the plate heater by a pressure roller.
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