KR20050030349A - An apparatus for barrel drying - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 웨이퍼의 에칭공정에 사용되는 배럴을 건조시키는 배럴 건조장치에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 마이크로웨이브를 이용하여 건조시간을 단축하고 건조상태를 획기적으로 향상시키는 것이 가능한 배럴 건조장치에 대한 것이다.The present invention relates to a barrel drying apparatus for drying a barrel used in an etching process of a wafer, and more particularly, to a barrel drying apparatus capable of shortening a drying time and dramatically improving a dry state using a microwave. .
도 1a는 종래의 웨이퍼 에칭공정에 사용되는 배럴의 구조를 예시한 측면도이고, 도 1b는 배럴의 A-A`단면을 보여주는 단면도이다. 도시된 웨이퍼의 에칭공정에 사용되는 배럴(10)은, 웨이퍼가 장착될 수 있도록 여러단의 슬롯이 형성된 치구이다. FIG. 1A is a side view illustrating the structure of a barrel used in a conventional wafer etching process, and FIG. 1B is a cross-sectional view illustrating an A-A 'cross section of the barrel. The barrel 10 used in the etching process of the illustrated wafer is a jig in which a plurality of slots are formed so that the wafer can be mounted.
이 배럴(10)은 양측단의 지지브라켓(12)에 웨이퍼의 고정을 위한 수개의 슬롯바(14)가 연결된 것으로, 슬롯바(14)에는 웨이퍼를 마운트 하기 위한 다수개의 슬롯(16)이 형성되어 있다.The barrel 10 has several slot bars 14 for fixing the wafer to the support brackets 12 at both ends, and the slot bars 14 have a plurality of slots 16 for mounting the wafer. It is.
그리고, 양측 지지브라켓(12)에는 원호모양의 장공(18)이 형성되는데, 수개의 슬롯바(14) 중에 하나는 이 양측 지지브라켓(12)의 장공(18)에 걸쳐지게 된다. 이 슬롯바(14a)는 장공을 따라 이동하면서, a 위치에서 웨이퍼가 슬롯바의 사이로 장착이 가능하게 하고, b위치에서는 웨이퍼의 이탈을 방지하여 배럴이 에칭공정에 투여될 수 있게 한다.An arc-shaped long hole 18 is formed in both support brackets 12, and one of the several slot bars 14 spans the long hole 18 of the both support brackets 12. The slot bar 14a moves along the long hole, allowing the wafer to be mounted between the slot bars at the a position, and preventing the wafer from leaving at the b position so that the barrel can be administered to the etching process.
웨이퍼가 상기 배럴(10)에 장착되어 고정되면, 배럴(10)은 에칭용액이 채워진 에칭용기에 담가서 에칭공정이 수행되게 된다.When the wafer is mounted and fixed to the barrel 10, the barrel 10 is immersed in the etching container filled with the etching solution to perform the etching process.
에칭공정이 종료되면, 에칭공정에 의한 오염물질의 제거를 위한 린싱공정이 행해지게 되고, 린싱이 종료되면 웨이퍼를 제거한 다음에 배럴(10)을 건조시키는 과정이 이어진다.When the etching process is completed, a rinsing process for removing contaminants by the etching process is performed, and when the rinsing is completed, the process of removing the wafer and drying the barrel 10 is continued.
이 배럴(10)의 건조과정은 배럴(10)에 잔존하는 수분이 에칭용액의 액성을 부분적으로 변화시켜 웨이퍼 에칭과정에 의한 결함을 발생시킬 우려가 있기 때문에 이를 방지하기 위해 행해지는 것이다. The drying process of the barrel 10 is performed to prevent this since the moisture remaining in the barrel 10 may partially change the liquidity of the etching solution and cause defects caused by the wafer etching process.
그런데, 이러한 에칭용 배럴(10)의 건조에는 압축공기를 노즐을 통해 배럴의 각부로 분사하여 수분을 제거하거나, 챔버의 내부에 배럴을 위치시킨 후 히터를 통해 외부에서 가열하여 수분을 제거하는 방식이 행해지고 있다.However, in the drying of the etching barrel 10, the compressed air is sprayed to each part of the barrel through a nozzle to remove moisture, or the barrel is placed inside the chamber and heated from the outside through a heater to remove moisture. This is done.
그러나, 상술한 바와 같은 종래의 배럴 건조장치에는 다음과 같은 문제점이 있어왔다. However, the conventional barrel drying apparatus as described above has the following problems.
압축공기를 이용하여 수동건조를 시키는 경우에는 비교적 양호한 건조상태를 얻을 수 있으나, 화학적 상흔이 발생할 우려가 있다. 그리고, 물의 장력으로 인해 부분적으로 수분이 제거되지 않는 부분이 있게 된다. In the case of manual drying using compressed air, a relatively good dry state can be obtained, but there is a risk of chemical scars. Then, there is a part where water is not partially removed due to the tension of the water.
또한, 작업자가 에어건(air gun)을 잡고 직접 배럴(10)에 압축공기 스프레이를 해야 하므로, 배럴(10)의 건조를 위한 전과정에 대해 이를 전담하는 작업자가 필요하여 인건비가 소요되며, 이 작업을 수행하는 작업자에게 에어건(air gun)의 사용에 따른 근골계의 질환을 가져올 염려가 있다. In addition, since the operator must directly hold the air gun (air gun) and spray the compressed air directly to the barrel 10, a worker who is responsible for the entire process for drying the barrel 10 is required, and labor costs are required. There is a fear that the operator to perform the disease of the musculoskeletal system by the use of an air gun.
한편, 외부가열방식의 자동건조에 의하는 경우에는, 배럴(10)이 수용되는 챔버를 외부에서 가열하는 것이기 때문에 히팅시스템이 별도로 요구되며, 가열에 소요되는 에너지가 비교적 커지게 된다.On the other hand, when the automatic heating of the external heating method, since the heating chamber to accommodate the barrel 10 from the outside requires a heating system separately, the energy required for heating is relatively large.
또한, 공기의 대류를 이용하여 가열하는 것이므로, 배럴에 불균일 가열이 이루어질 수 있고, 부분적으로 건조상태가 불량할 수 있기 때문에 건조상태에 대한 추후 검증이 필요하다는 문제점이 있다.In addition, since the heating using the convection of air, the barrel may be non-uniform heating, there is a problem that the later verification of the dry state is necessary because the dry state may be partially poor.
본 발명의 목적은 에칭공정에서 웨이퍼 품질에 큰 영향을 미치는 배럴의 건조상태를 획기적으로 향상시키는 것이 가능한 배럴 건조장치를 구현하는 것이다.An object of the present invention is to implement a barrel drying apparatus capable of significantly improving the drying state of a barrel, which greatly affects wafer quality in an etching process.
본 발명의 다른 목적은, 배럴의 건조상태를 향상시키면서도 배럴의 건조에 소요되는 에너지의 양을 최소로 하여 에너지의 효율적 이용이 가능한 배럴 건조 장치를 구현하는 것이다.Another object of the present invention is to implement a barrel drying apparatus capable of efficiently utilizing energy while minimizing the amount of energy required for drying the barrel while improving the drying state of the barrel.
본 발명의 또 다른 목적은, 배럴 건조상태를 향상시키면서도 배럴 건조과정을 자동화하여 인건비의 절감이 가능한 배럴 건조장치를 구현하는 것이다. Still another object of the present invention is to implement a barrel drying apparatus capable of reducing labor costs by automating the barrel drying process while improving the barrel drying state.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 배럴 건조장치는, 웨이퍼의 에칭공정에서 웨이퍼가 장착되는 배럴을 에칭이 종료된 후에 건조시키는 배럴건조장치에 있어서, 상기 웨이퍼가 디마운팅 된 배럴이 수용되어 건조되는 공간인 챔버와; 마이크로웨이브를 발진시켜 상기 챔버 내부로 조사하는 마이크로웨이브 발생수단과; 상기 배럴이 상기 챔버의 수용된 상태에서 상기 마이크로웨이브가 상기 배럴에 골고루 조사되도록 상기 배럴을 회전시키는 배럴회전수단; 그리고 상기 챔버 내부의 수분증발의 분위기를 조절하는 분위기 조절수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the barrel drying apparatus according to the present invention for achieving the above object, in the barrel drying apparatus for drying the barrel on which the wafer is mounted in the etching process of the wafer after the etching is finished, the barrel is mounted, the barrel is mounted demounted A chamber that is a space; Microwave generation means for oscillating microwaves and irradiating the inside of the chamber; Barrel rotating means for rotating the barrel such that the microwave is uniformly irradiated onto the barrel while the barrel is accommodated in the chamber; And it is characterized in that it comprises a mood control means for adjusting the atmosphere of moisture evaporation inside the chamber.
챔버는 강철로 형성되어 마이크로웨이브를 차폐하여 접지시킴으로서 마이크로웨이브의 누설을 방지하는 것을 특징으로 한다. The chamber is formed of steel, shielding and microwaveing the microwave is characterized in that to prevent the leakage of the microwave.
챔버의 상기 배럴의 투입을 위한 도어에는 개폐상태에 따라 마이크로웨이브 발생장치의 전원을 개폐하는 안전장치가 구비되어, 상기 도어가 열린 경우에는 마이크로웨이브 발생장치로부터 마이크로웨이브의 공급을 자동 차단하는 것을 특징으로 한다.The door for inputting the barrel of the chamber is provided with a safety device for opening and closing the power of the microwave generator according to the opening and closing state, when the door is open, characterized in that the automatic supply of the microwave from the microwave generator It is done.
도어의 외주변에는 가스켓이 설치되어 상기 배럴의 건조 중 마이크로웨이브의 누설을 방지하는 것을 특징으로 한다.A gasket is installed on the outer circumference of the door to prevent leakage of the microwave during drying of the barrel.
상기 분위기 조절수단은, 상기 챔버 내부 온도를 측정하는 온도측정수단과;상기 챔버 내부의 압력을 측정하는 압력측정수단과; 상기 챔버의 일측에 연설되어 압력조건과 수분배출을 수행하는 펌핑수단; 그리고 상기 온도측정수단 및 압력측정수단과 상기 펌핑수단에 연결되어 측정된 상기 챔버내의 온도 및 압력 조건에 따라 상기 펌핑수단을 선택적으로 작동시키는 압력제어부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The atmosphere adjusting means includes: temperature measuring means for measuring the temperature inside the chamber; pressure measuring means for measuring the pressure inside the chamber; Pumping means which is addressed to one side of the chamber to perform pressure conditions and water discharge; And a pressure control unit for selectively operating the pumping means in accordance with the temperature and pressure conditions in the chamber measured by being connected to the temperature measuring means, the pressure measuring means and the pumping means.
압력조절수단은 배럴의 건조를 위한 상기 챔버 내부의 증발온도가 40℃미만으로 유지되도록 조절하는 것을 특징으로 한다.The pressure regulating means is characterized in that the evaporation temperature in the chamber for drying the barrel is maintained to be less than 40 ℃.
압력조절수단은 배럴의 건조를 위한 상기 챔버 압력을 60torr 미만이 되도록 조절하는 것을 특징으로 한다.The pressure regulating means is characterized in that to control the chamber pressure for drying the barrel to less than 60torr.
펌핑수단은 회전펌프인 것을 특징으로 한다.The pumping means is characterized in that the rotary pump.
배럴회전수단은 상기 챔버 내부의 하단에 구비되는 회전테이블과; 상기 회전테이블의 회전동력을 공급하는 회전모터를 포함하는 것을 특징으로 한다.The barrel rotating means includes a rotary table provided at the lower end of the chamber; It characterized in that it comprises a rotary motor for supplying rotational power of the rotary table.
본 발명은 상기와 같은 구성에 의해 건조시간이 비교적 짧고, 배럴의 건조 상태를 획기적으로 개선할 수 있으며, 에너지의 효율적 이용이 가능하기 때문에 에칭공정에서 배럴 건조불량으로 인해 웨이퍼의 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있고 건조에 소요되는 에너지를 절약할 수 있게 된다.According to the present invention, the drying time is relatively short, the barrel drying state can be remarkably improved, and the energy can be efficiently used. Thus, defects in the wafer due to poor barrel drying in the etching process can be avoided. It can prevent and save energy for drying.
이하 상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 배럴 건조장치의 바람직한 실시예의 구성을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a configuration of a preferred embodiment of the barrel drying apparatus according to the present invention having the configuration as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 실시예의 배럴 건조장치를 예시한 단면도이고, 도 3은 본 발명에 의한 실시예에 건조소요시간을 종래의 건조방법과 비교한 그래프이고, 도 4는 건조온도와 함수율의 변화를 보여주는 그래프이다.Figure 2 is a cross-sectional view illustrating a barrel drying apparatus of the present embodiment, Figure 3 is a graph comparing the drying time to the conventional drying method in the embodiment according to the present invention, Figure 4 shows a change in drying temperature and water content It is a graph.
도시된 바에 의하면, 본 실시예에 의한 배럴 건조장치(20)는 웨이퍼의 에칭공정이 종료된 후에 건조시키기 위해 사용되는 것으로, 웨이퍼가 디마운트된 배럴(10)이 수용되어 건조의 전 과정이 수행되는 공간인 챔버(22)와, 상기 챔버(22)의 내부로 마이크로웨이브를 발생시켜 조사하는 마이크로웨이브 발생수단(24)을 포함한다.As shown, the barrel drying apparatus 20 according to the present embodiment is used for drying after the etching process of the wafer is completed, and the barrel 10 in which the wafer is demounted is accommodated to perform the whole process of drying. It comprises a chamber 22 which is a space to be made, and the microwave generating means 24 for generating and irradiating microwaves into the chamber 22.
본 실시예의 챔버(22) 내부에는 마이크로웨이브가 조사되는데, 마이크로웨이브가 챔버(22)의 외부로 누설되는 경우에는 작업자와 작업환경에 심각한 손상을 줄 우려가 있기 때문에, 챔버(22)는 마이크로웨이브를 차폐시킬 수 있는 재질을 사용한다.In the chamber 22 of the present embodiment, the microwave is irradiated. When the microwave leaks out of the chamber 22, the chamber 22 may be microwaved because it may seriously damage the worker and the working environment. Use materials that can shield the
본 실시예의 배럴건조장치(20)의 챔버(22) 내벽은 마이크로웨이브의 차폐를 위해 스틸을 사용한다. 마이크로웨이브가 스틸과 같은 금속 표면에 조사되는 경우에는 전기 전도도가 높아 분극을 발생시키지 않으며, 마이크로웨이브는 표면에서 전반사되어 투과파가 없고, 마이크로웨이브가 조사되는 금속 표면에는 표면전류가 발생하여 접지됨으로서 마이크로웨이브의 차폐가 가능하게 된다.The inner wall of the chamber 22 of the barrel drying apparatus 20 of this embodiment uses steel for shielding the microwaves. When microwaves are irradiated to a metal surface such as steel, it has high electrical conductivity and does not generate polarization. Microwaves are totally reflected at the surface, there is no transmission wave, and a surface current is generated and grounded on the metal surface to which microwave is irradiated. It is possible to shield the microwaves.
또한 본 실시예의 배럴건조장치(20)의 챔버(22)는 스틸로 구성되지만, 마이크로웨이브의 차폐가 가능한 한 다양한 종류의 재질을 사용하는 것이 가능하다.In addition, although the chamber 22 of the barrel drying apparatus 20 of the present embodiment is made of steel, it is possible to use various kinds of materials as long as the microwave can be shielded.
본 실시예의 챔버(22)의 일측벽에는 개구부가 형성되고, 개구부를 선택적으로 개폐할 수 있는 도어(미도시)가 장착된다. 도어의 내측에는 마이크로웨이브의 누설을 방지하기 위한 가스켓이 그 테두리를 따라 도어와 개구부에 각각 설치된다.An opening is formed in one side wall of the chamber 22 of this embodiment, and a door (not shown) for selectively opening and closing the opening is mounted. Inside the door, gaskets for preventing the leakage of microwaves are installed in the door and the opening, respectively, along the edge thereof.
그리고, 본 실시예의 챔버(22) 도어에는 안전장치가 연결되어 도어가 열린 상태에 있을 때는 자동으로 이를 감지하여 마이크로웨이브 발생수단(24)의 전원을 차단하여 마이크로웨이브의 누설에 의한 안전사고를 방지할 수 있도록 하고 있다.In addition, a safety device is connected to the door of the chamber 22 of the present embodiment and automatically detects it when the door is in an open state to cut off the power of the microwave generating means 24 to prevent a safety accident due to leakage of the microwave. I can do it.
챔버(22)의 타측에는 마이크로웨이브 발생수단(24)이 구비되는데, 마이크로웨이브 발생수단(24)은 3000V이상의 고압전류를 사용하여 전자기파의 발진을 일으키게 하는 마이크로웨이브 발진수단과 이를 챔버(22) 내부로 조사하기 위한 안테나(25)를 포함하고 있다.The other side of the chamber 22 is provided with a microwave generating means 24, the microwave generating means 24 is a microwave oscillating means for causing the oscillation of electromagnetic waves using a high-voltage current of 3000V or more and the inside of the chamber 22 The antenna 25 for irradiating with a.
본 실시예의 마이크로웨이브 발생수단(24)은 챔버(22)의 상측벽에 구비되어 있으나, 이에 한정되는 것이 아니고, 챔버(22)의 측벽이나 하측벽에 구비되는 것도 가능하다.The microwave generating means 24 of the present embodiment is provided on the upper wall of the chamber 22, but is not limited thereto, and may be provided on the side wall or the lower wall of the chamber 22.
또한, 배럴건조장치(20)의 챔버(22) 내측에는 마이크로웨이브가 배럴(10) 전체에 골고루 조사되도록 하기 위한 수단이 구비되는 것이 바람직하며, 본 실시예에서는 그 하나의 수단으로 배럴회전수단(26)이 구비된다. In addition, the inside of the chamber 22 of the barrel drying apparatus 20 is preferably provided with a means for evenly irradiating the microwaves to the entire barrel 10, in this embodiment the barrel rotating means (the one means) 26).
본 실시예의 배럴회전수단(26)은 챔버(22)의 내측 하단에 구비되는 회전테이블(28)을 포함하는데, 본 실시예의 회전테이블(28)은 챔버(22)의 내측이나 외측에 구비된 회전모터(29)로부터 동력을 공급받아 배럴(10)을 회전시키게 된다. The barrel rotating means 26 of the present embodiment includes a rotary table 28 provided at the inner lower end of the chamber 22, the rotary table 28 of the present embodiment is rotated provided inside or outside the chamber 22 The barrel is rotated by receiving power from the motor 29.
마이크로웨이브가 배럴(10)의 각부나 배럴(10)에 부착된 수분에 조사되게 되면 발열을 일으키게 되는데, 마이크로웨이브는 수분을 포함하고 있는 물질에서 발열작용이 강하게 일어나고 마이크로웨이브가 직접 수분에 조사되기 때문에 챔버(22) 내부가 상대적으로 저온인 경우에도 수분 증발이 가능하게 된다.If the microwave is irradiated to the moisture attached to the barrel 10 or the respective parts of the barrel 10, it generates heat, the microwave is strongly exothermic action in the material containing the moisture and the microwave is directly irradiated to the moisture Therefore, even when the inside of the chamber 22 is relatively low temperature, water evaporation is possible.
그런데, 배럴(10)의 재질은 열에 그다지 강한 재질이 되지 못하기 때문에 본 실시예에서는 수분의 저온 증발을 가능하게 하기 위하여 챔버(22) 내부의 분위기를 조절하는 분위기조절수단을 구비한다.However, since the material of the barrel 10 is not very strong against heat, the present embodiment includes an atmosphere control means for controlling the atmosphere inside the chamber 22 to enable low temperature evaporation of moisture.
본 실시예의 분위기조절수단은 챔버(22) 내부에서 발생된 수증기를 포함한 공기를 외부로 배출시키는 펌핑수단(30)과, 챔버(22) 내부의 압력을 측정하는 수단인 Pirani Gauge(32)와, 온도를 측정하는 수단인 Temp Gauge(34)와, 그 각각에 연결되어 챔버(22) 내부 분위기를 적합한 상태로 제어하는 제어부를 포함한다.Atmosphere control means of the present embodiment is the pumping means 30 for discharging the air including water vapor generated in the chamber 22 to the outside, Pirani Gauge 32 which is a means for measuring the pressure in the chamber 22, Temp Gauge 34, which is a means for measuring temperature, and a controller connected to each of them to control the atmosphere inside the chamber 22 in a suitable state.
본 실시예에서 펌핑수단(30)은 건공기를 챔버(22)의 내부로 공급하며, 배럴의 건조에 의해 발생된 수분을 포함한 공기를 챔버(22)의 외부로 배출시키는데, 본 실시예에서는 회전펌프(36)를 이용하여 이를 수행한다.In this embodiment, the pumping means 30 supplies the dry air to the inside of the chamber 22, and discharges the air containing the moisture generated by the drying of the barrel to the outside of the chamber 22, in this embodiment the rotation This is done using a pump 36.
건공기의 공급수단과 수분의 펌핑을 위한 수단은 각각 별도로 구비되는 것도 가능하고, 펌핑수단도 회전펌프(36)에 한정되는 것이 아니며, 다양한 변형이 가능할 수 있다.The supply means of the dry air and the means for pumping the water may be provided separately, respectively, the pumping means is not limited to the rotary pump 36, and various modifications may be possible.
또한 본 실시예의 챔버(22)와 회전펌프(29) 사이에는 노즐(38)과 트랩(39)이 직렬 연결되어 챔버(22)의 배출 공기로부터 수분 제거를 가능하게 한다.In addition, between the chamber 22 and the rotary pump 29 of the present embodiment, the nozzle 38 and the trap 39 are connected in series to remove moisture from the discharge air of the chamber 22.
그리고, 본 실시예에서 배럴(10)의 일부는 PVC 재질로 형성되는데, 아래의 표 1에 기재된 바와 같이 PVC재질은 열에 매우 약하기 때문에, 수분의 증발온도가 40℃미만이 되도록 제어하는 것이 필요하다.And, in this embodiment, a part of the barrel 10 is formed of a PVC material, as shown in Table 1 below, because the PVC material is very weak to heat, it is necessary to control so that the evaporation temperature of water is less than 40 ℃. .
이와 같은 수분의 증발온도의 제어는 챔버(22) 내부의 공기의 압력에 의해 정해지는 것이기 때문에 챔버(22) 내부를 저압상태로 유지시키는 것이 필요하다. 본 실시예에서는 도표 2에 나타난 바와 같이 챔버(22) 내부의 압력을 대기압보다 크게 낮은 압력인 60 Torr 미만의 압력으로 유지되도록 제어하고 있다.Since the control of the evaporation temperature of the water is determined by the pressure of the air inside the chamber 22, it is necessary to keep the inside of the chamber 22 at a low pressure state. In this embodiment, as shown in Table 2, the pressure inside the chamber 22 is controlled to be maintained at a pressure of less than 60 Torr, which is a pressure significantly lower than atmospheric pressure.
그러나, 이 온도조건과 압력의 조건은 배럴(10)을 구성하는 각 부분의 재질에 따라 상이하게 될 수 있는 것으로, PTFE등의 재질로 이루어진 경우에는 그보다 훨씬 높은 온도와 압력에서 건조과정을 수행하는 것이 가능하다. However, the temperature and pressure conditions may be different depending on the material of each part constituting the barrel 10. When the material is made of PTFE or the like, the drying process is performed at a much higher temperature and pressure. It is possible.
다음은 상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 실시예의 배럴 건조장치의 작용을 설명한다.The following describes the operation of the barrel drying apparatus of the embodiment according to the present invention having the configuration as described above.
에칭과정과 린싱공정이 종료된 후 배럴(10)로부터 웨이퍼를 디마운트 하게 된다. 다음으로 배럴(10)이 디마운트된 배럴(10)을 챔버 도어를 열어 회전테이블(28)의 상부에 위치시키고 도어를 닫는다.After the etching process and the rinsing process are completed, the wafer is demounted from the barrel 10. Next, the barrel 10 in which the barrel 10 is demounted is placed in the upper part of the rotary table 28 by opening the chamber door and closing the door.
분위기 습도계를 사용하여 챔버내부의 습도가 0%에 이르도록 세팅을 한 후에 분위기 조절수단을 작동시키고, 회전펌프(36)에 의해 챔버(22) 내부는 증발온도에 대응하는 압력에 이르도록 펌핑을 수행하게 된다.After setting the humidity in the chamber to 0% by using an atmospheric hygrometer, the atmosphere control means is operated, and the pump 22 is pumped to the pressure corresponding to the evaporation temperature by the rotary pump 36. Will be performed.
내부 분위기가 해당 상태에 도달한 경우에는 마이크로웨이브 발생수단을 작동시켜, 고압방전에 의해 발생한 마이크로웨이브가 안테나(25)를 통하여 챔버(22) 내부로 조사되게 한다.When the internal atmosphere has reached the state, the microwave generating means is operated so that the microwave generated by the high-pressure discharge is irradiated into the chamber 22 through the antenna 25.
또한 이와 동시에 회전모터(29)를 작동시키면, 그에 연동하여 회전테이블(28)이 회전하게 되어 마이크로웨이브가 배럴(10) 전체에 골고루 조사되게 된다. 마이크로웨이브가 배럴(10)과 수분에 조사되게 되면, 발열이 일어나서 증발이 이루어지게 되며, 회전펌프(36)는 발생된 수분을 외부로 펌핑하고, 외부로 배출되는 공기는 노즐(38)과 트랩(39)을 거쳐 수분이 제거되게 된다.In addition, when the rotary motor 29 is operated at the same time, the rotary table 28 is rotated in conjunction with the microwave so that the microwave is evenly irradiated to the entire barrel (10). When the microwave is irradiated to the barrel 10 and the moisture, heat is generated to evaporate, the rotary pump 36 pumps the generated moisture to the outside, the air discharged to the outside is the nozzle 38 and trap Moisture is removed via (39).
이와 같은 과정에 의하는 경우는 마이크로웨이브가 직접 수분에 작용하기 때문에 도 3과 도 4에 도시된 바와 같이 건조시간과 건조온도가 낮아지게 된다. 또한 마이크로웨이브가 배럴(10) 전체에 골고루 조사되기 때문에 배럴(10) 전체에 대해 건조상태가 획기적으로 향상되게 된다. In this case, since the microwave acts directly on the moisture, the drying time and drying temperature are lowered as shown in FIGS. 3 and 4. In addition, since the microwave is uniformly irradiated to the entire barrel 10, the drying state of the entire barrel 10 is significantly improved.
본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 정해지며, 특허청구범위에 기재된 사항과 동일성 범위에서 당업자가 행한 다양한 변형과 개작을 포함함은 자명하다.The scope of the present invention is not limited to the above embodiments, but is determined by the matters described in the claims, and it is obvious that the present invention includes various modifications and adaptations made by those skilled in the art in the same range as the matters described in the claims.
본 발명은 상기와 같은 구성에 의해, 웨이퍼의 에칭공정 후 각 미세부분에 잔존하는 수분을 마이크로웨이브로 가열 제거하여, 건조상태를 획기적으로 향상시키는 것이 가능하게 된다.According to the present invention, the moisture remaining in each minute portion after the etching process of the wafer is heated and removed by microwaves, and the dry state can be significantly improved.
또한, 배럴의 건조상태가 향상됨에 따라, 배럴의 잔존하는 수분으로 인한 웨이퍼의 불량을 방지할 수 있게 된다.In addition, as the dry state of the barrel is improved, it is possible to prevent defects in the wafer due to the moisture remaining in the barrel.
그리고, 마이크로웨이브 가열에 의하는 경우는 건조시간을 단축시키는 것이 가능하고, 건조에 소모되는 에너지의 양이 외부가열방식에 비해 적기 때문에 에너지의 효율적 이용이 가능하게 된다.In the case of microwave heating, it is possible to shorten the drying time, and since the amount of energy consumed for drying is smaller than that of the external heating method, the energy can be efficiently used.
그리고, 종래의 압축공기에 의한 건조시 있을 수 있는 화학적 hume을 방지할 수 있고, 압축공기의 공급을 위한 별도의 작업인력이 필요하지 않으므로 생산성의 향상도 도모할 수 있게 된다. In addition, it is possible to prevent the chemical hume that may occur during the drying by the conventional compressed air, it is possible to improve the productivity since there is no need for a separate work force for the supply of compressed air.
도 1a는 종래의 웨이퍼의 에칭공정에 사용되는 배럴의 구조를 예시한 측면도.1A is a side view illustrating the structure of a barrel used in an etching process of a conventional wafer.
도 1b는 배럴의 A-A`단면을 보여주는 단면도.1B is a cross-sectional view showing an A-A 'cross section of the barrel.
도 2는 본 실시예의 배럴 건조장치를 예시한 단면도.2 is a cross-sectional view illustrating a barrel drying apparatus of the present embodiment.
도 3은 본 발명에 의한 실시예에 건조소요시간을 종래의 건조방법과 비교한 그래프. Figure 3 is a graph comparing the drying time to the conventional drying method in the embodiment of the present invention.
도 4는 건조온도와 함수율의 변화를 보여주는 그래프.4 is a graph showing the change in drying temperature and moisture content.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10........배럴 20.......배럴건조장치10 ........ barrel 20 ....... barrel dryer
22........챔버 24........마이크로웨이브발생수단 22 ........ Chamber 24 ............ Microwave generating means
25........안테나 26........배럴 회전수단 25 ........ antenna 26 ........ barrel rotating means
28........회전테이블 29........회전모터 28 ........ Rotating Table 29 ........ Rotating Motor
30........펌핑수단 32........temp gauge30 ........ Pumping means 32 ........ temp gauge
34........pirani gauge 36........회전펌프 34 ....... pirani gauge 36 ........ rotary pump
38........노즐 39........트랩38 ........ Nozzle 39 ........ Trap
Claims (9)
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| KR1020030066575A KR100562631B1 (en) | 2003-09-25 | 2003-09-25 | An Apparatus For Barrel Drying |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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ID=37386691
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111383946A (en) * | 2018-12-29 | 2020-07-07 | 中国科学院微电子研究所 | Nano-pattern rapid curing device |
-
2003
- 2003-09-25 KR KR1020030066575A patent/KR100562631B1/en not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN111383946A (en) * | 2018-12-29 | 2020-07-07 | 中国科学院微电子研究所 | Nano-pattern rapid curing device |
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| KR100562631B1 (en) | 2006-03-20 |
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