KR20050007507A - 고 휘도 효율을 갖는 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

Abstract

높은 휘도 효율을 얻기 위하여 높은 가스 압력이나 Xe 가스 함유량을 높인 방전 가스를 사용하는 조건 하에서도 낮은 유지 방전 전압으로 구동이 가능하고, 크로스토크(cross-talk)에 의한 불안정 발생 가능성을 줄일 수 있으며, 휘도 및 휘도 효율을 동시에 개선하는 것이 가능하며, 제조 시 가열 배기 특성이 양호하여 안정된 패널 특성을 제공할 수 있는 새로운 구조의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널, 플라즈마 디스플레이 장치 및 구동 방법이 제공된다. 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은, 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널이며, 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 유전층의 두께가 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 한다.

Description

고 휘도 효율을 갖는 교류형 플라즈마 디스플레이 패널{AC PLASMA DISPLAY PANEL HAVING HIGH LUMINOUS EFFICACY}

본 발명은 휘도 효율이 개선된 교류형 플라즈마 디스플레이 패널(이하 'AC PDP'라 한다)에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 높은 휘도 효율을 얻기 위하여 높은 가스 압력이나 Xe 가스 함유량을 높인 방전 가스를 사용하는 조건 하에서도 낮은 유지 방전 전압으로 구동이 가능하고, 크로스토크(cross-talk)에 의한 불안정을 현저히 줄이는 것이 가능하며, 휘도 및 휘도 효율을 동시에 개선하는 것이 가능하고, 제조 시 양호한 가열 배기 특성을 가져 안정된 특성의 패널 제공이 가능한 새로운 구조의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널과, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치 및 구동 방법을 제공하기 위한 것이다.

도 1에서는 일반적인 3전극 면방전형 AC PDP의 구조를 개략적으로 도시하였다. 도시된 바와 같이, AC PDP는 상판(10)과 하판(20)의 결합에 의하여 이루어진다. 상판(10)의 구성을 살펴보면, 평판 유리 위에 복수 개의 유지 전극(7X, 7Y)이 서로 평행하게 놓여지고(경우에 따라서는 스캔 전극(7Y)과 유지 전극(X)으로 구분하기도 한다), 투명 도전막 등의 재질로 형성되는 유지 전극의 높은 비저항의 문제를 보완하기 위하여 버스 전극(8X, 8Y)이 형성되며, 그 위에 상판 유전층(5)이 형성되고, 다시 그 위에 MgO 막 등의 보호층(4)이 형성된다.

또한, 하판(20)에는, 상기 유지 전극(7X, 7Y)과 대향하면서 그에 교차되도록 형성된 어드레스 전극(12)과, 상기 어드레스 전극(12) 위를 덮어 반사층을 형성하는 하판 유전층(18), 상기 어드레스 전극(12)과 평행하게 놓이고 각 셀을 구분하기 위한 격벽(14), 상기 격벽(14)의 측면 및 밑면에 가시광을 내는 형광막(11, 12, 13)이 형성되어 있다.

이러한 상판(1)과 하판(2)을 결합하고 그 사이를 진공 배기한 후, 상판(10)과 하판(20) 사이에 형성된 방전 공간에 제논(Xe) 가스를 포함하는 2원 또는 3원의 불활성 가스가 채워진다. 상판(10)의 유지전극(7X, 7Y)과 하판(20)의 어드레스 전극(12)이 서로 교차하는 부위에 각각의 방전 셀이 형성되고, 컬러 이미지 표시를 위해 적색, 녹색, 청색을 내는 형광막(11, 12, 13)이 형성된 세 종류의 방전 셀이 하나의 화소를 이룬다.

AC형 PDP의 경우, 도 2에서와 같이 256 계조 표현을 위해 화상을 나타내는 1TV 필드 (일반적으로 16.7ms) 동안 밝기가 각기 다른 8개의 서브 필드(sub-field)를 두는 것이 일반적이며, 각각의 서브 필드는 다시 초기화 기간(또는 리셋 기간), 어드레스 기간(또는 스캔 기간) 및 방전 유지 기간으로 구성되어진다. 즉, 상기 각각의 서브 필드는 2⁰, 2¹, 2², 2³, 2⁴, 2⁵, 2⁶, 2⁷에 해당하는 만큼의 방전 유지 기간의 길이를 갖고, 이들 서브 필드의 조합으로 256(=2⁸) 계조의 표현이 가능하다.

도 3에서는 종래 기술의 패널 구조를 예시하였다. 도 3a는 선형 화소 배치를 갖는 일반적인 AC PDP의 구조를 나타내었고, 도 3b는 델타형 화소 배치를 갖고 가로 및 세로 격벽을 두어 폐쇄형 격벽을 형성한 구조이며(본 발명자의 특허출원 제2002-706호의 내용을 참조), 도 3c는 델타형 화소 배치를 갖고 육각형의 격벽을 두어 폐쇄형 격벽을 형성한 구조이다. 상기 도 3b의 구조는, 폐쇄된 격벽(14)에 의해 완전히 서로 격리된 R, G, B 화소를 델타형으로 배열하고 방전유지전극을 화소의 중앙 영역으로 연장하여 절대 휘도와 발광 효율을 개선하고자 하는 것으로, 하판(120)에 교차되는 다수의 격벽에 의해 폐쇄형으로 구획된 다수의 화소와, 각 화소에 형광체가 도포되어 델타형으로 배열된 다수의 적색, 녹색, 청색의 단위 화소들(111, 112, 113)과; 상판(110)에 형성되고 상기 단위화소(111, 112, 113)의 영역으로 연장되어 마주보는 다수의 방전 유지 전극(107X, 107Y)을 포함하여 구성되어, 각각의 단위 화소의 형상과 크기에 맞도록 상판의 방전 유지 전극(107X, 107Y)의 모양을 변형함으로써 불필요한 방전 전류의 소모를 최대한 억제하여 방전효율의 향상을 유도하고, 격벽(114)에 인접한 부분의 방전 유지 전극(107X, 107Y)을 제거하여 다른 화소의 어드레스 전극과의 사이에서 불필요한 방전이 일어나는 것을 피할 수 있다.

이상과 같은 AC PDP의 휘도 효율(luminous efficacy)을 개선하고자 하는 많은 노력이 이루어지고 있다. 특히 최근에는, 가스 압력이나 또는 Xe 가스의 함유량을 증가시켜 휘도 효율을 개선하고자 하는 많은 연구가 행하여지고 있다. 그러나, 가스 압력 또는 Xe 가스의 함유량이 증가되는 경우, 휘도 효율에 있어서는 개선이 가능하나, 다음과 같은 문제점이 있어 아직 실제 생산에는 적용되고 있지 못한 실정이다.

우선, 가스 압력 또는 Xe 가스의 함량이 증가함에 따라 방전 개시 전압(breakdown voltage)이 증가하게 되는 문제점이 있다. 따라서, 가스 압력 또는 Xe 가스 함량이 증가된 방전 가스를 사용하여 휘도 효율을 높이면서도 방전 개시 전압을 낮추기 위하여, 패널의 기하학적 구조 최적화 및 변형(참조: G. Oversluizen et al., SID02 DIGEST, p848), 보조 전극 및 저압 조건의 사용(참조: T. Yoshioka et al., IDW00, pp611-614) 또는 유지 펄스 주파수의 변경(참조: T. Minami et al., EURODISPLAY02, p65) 등 여러 가지의 시도가 행하여지고 있다. 이러한 시도를 통하여 위의 종래 기술에서는 휘도 효율을 높이면서도 약 250V 부근까지 유지 전압을 낮춘 결과들을 보여주고 있으나, 이러한 결과는 아직 개선의 여지가 있으며, 실제 양산에 적용하기에는 지나치게 복잡하고 또 다른 문제들을 유발시키게 되어 만족스럽지 못한 상황이다.

두 번째로, 종래 기술의 AC PDP에 가스 압력 또는 Xe 가스 함량을 높인 조건을 적용할 경우에는, 인접한 방전 셀로부터의 프라이밍 입자(priming particle)의 과다 공급으로 인하여 크로스토크 불안정(cross-talk instability)이 발생하기 쉽게 되는 문제점이 있다. 이와 같은 불안정은 휘도 효율의 개선을 위해 가스 압력 또는 Xe 가스 함량을 높이는 데에 있어서 실제적인 제한 요소로 작용한다. 양산에 적용되어 안정된 제품을 대량 생산하기 위해서는 이러한 불안정성은 반드시 제거되어야 하기 때문에, 결국 종래 기술의 AC PDP에서는 이러한 불안정성을 고려할 때 가스 압력 또는 Xe 가스 함량을 그다지 크게 높일 수 없으며, 결국 휘도 효율의 개선에는 한계가 있게 된다.

본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 높은 휘도 효율을 얻기 위하여 가스 압력 또는 Xe 가스 함유량을 높인 방전 가스를 사용하는 조건 하에서도 낮은 유지 방전 전압으로 구동이 가능하고, 크로스토크(cross-talk)에 의한 불안정을 현저히 줄일 수 있으며, 휘도 및 휘도 효율을 동시에 개선하는 것이 가능하고, 제조 시 양호한 배기 특성을 가져 안정된 특성의 패널을 제공하는 것이 용이한 새로운 구조의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널과, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치 및 구동 방법을 제공하기 위한 것이다.

도 1는 일반적인 3전극 면방전형 AC PDP의 구조를 개략적으로 도시하였다.

도 2는 일반적인 AC PDP에서 256 계조 표현을 위해 화상을 나타내는 1 TV 필드를 예시한다.

도 3에서는 종래 기술의 패널 구조를 예시한다. 도 3a는 선형 화소 배치를 갖는 일반적인 AC PDP의 구조를 나타내었고, 도 3b는 델타형 화소 배치를 갖고 가로 및 세로 격벽을 두어 폐쇄형 격벽을 형성한 구조이며, 도 3c는 델타형 화소 배치를 갖고 육각형의 격벽을 두어 폐쇄형 격벽을 형성한 구조이다.

도 4a 내지 도 4d는 각각 본 발명의 제1, 제2, 제3 및 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판의 일부 단면도를 나타낸다.

도 5a 및 도 5b는 도 4의 상판 구조를 적용하였을 때의 플라즈마 디스플레이의 특성을 관측한 실험 결과를 도시한다. 도 5a는 패널의 방전 유지 전압(sustain voltage)에 따른 휘도(luminance)의 변화를 나타내며, 도 5b는 방전 유지 전압에 따른 휘도 효율(efficacy)의 변화를 나타낸다.

도 6은 어드레스 보조 펄스의 파형을 예시적으로 나타낸다.

도 7은 어드레스 보조 펄스 인가 수단을 구비하고 있는 플라즈마 디스플레이장치의 구성을 예시한다.

도 8은 어드레스 전극에 보조펄스를 인가할 때 지연 시간(Td)을 바꾸어 가면서 휘도 효율의 변화를 측정한 결과를 나타낸다.

도 9는 어드레스 보조 펄스의 전압을 변화시킨 경우의 휘도와 휘도 효율의 변화를 각각의 Xe 함량에 따라 별도의 곡선으로 나타낸다. 도 9a는 종래 기술의 구조에서 어드레스 보조 펄스를 인가한 경우의 휘도 및 휘도 효율의 변화를 나타내고, 도 9b는 본 발명의 구조에 어드레스 보조 펄스를 적용할 경우의 휘도 및 휘도 효율의 변화를 나타낸다.

도 10은 본 발명의 상술된 각각의 특징들의 적용에 의하여 고 휘도 효율을 갖는 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 및 장치 구성의 한 예를 나타낸다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 한 측면에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은, 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널이며, 상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 한 측면에 의한 플라즈마 디스플레이 장치는,

(a) 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과,

(b) 유지 기간 동안, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극에 극성이 교번하는 유지 펄스를 인가하여 유지 방전을 발생시키는 유지 구동부와, 어드레스 기간 동안 상기 어드레스 전극에 어드레스 펄스를 인가하여 상기 유지 기간 동안 유지 방전이 일어날 방전 셀을 선택하는 어드레스 구동부를 갖는 구동 회로를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치이며,

(i) 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 하며,

(ii) 상기 구동 회로는 상기 각 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)로부터 소정의 지연 시간(Td)을 가지며, 상기 유지 펄스의 폭보다 작은 폭을 갖는 펄스를 상기 어드레스 전극에 인가하는 어드레스 펄스 인가 수단을 더 포함하는 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 한 측면에 의한 플라즈마 디스플레이의 구동 방법은,

그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하기 위한 방법이며,

(a) 이후의 유지 기간 동안에 유지 방전이 일어날 방전 셀을 선택하기 위하여, 어드레스 기간 동안 상기 어드레스 전극에 어드레스 펄스를 인가하는 단계;

(b) 상기 어드레스 기간 동안 선택된 방전 셀에서, 유지 기간 동안, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이에 유지 방전을 발생시키기 위하여 극성이 교번하는 유지 펄스를 인가하는 단계;

(c) 상기 각 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)로부터 소정의 지연 시간(Td)을 가지며, 상기 유지 펄스의 폭보다 작은 폭을 갖는 펄스를 상기 어드레스 전극에 인가하는 단계를 포함하고,

여기서, 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 한다.

여기서, 상기 어드레스 펄스의 지연 시간(Td)은 0≤Td<1μsec의 범위 내인 것임이 바람직하다.

또한, 상기 어드레스 펄스는 상기 유지 펄스의 상승 기울기 이하의 상승 기울기를 가지는 것임이 바람직하다.

또한, 상기 플라즈마 디스플레이 패널은 화소를 구성하는 R, G 및 B의 방전 셀이 델타형 배열로 배치되며, 각각의 방전 셀이 폐쇄형 격벽을 갖는 것임이 바람직하다.

또한, 상기 유전층은, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이와 상기 제1 유지 전극 및/또는 제2 유지 전극의 일부 영역에까지 걸쳐 있는 함몰된 트렌치 부를 갖는 것임이 바람직하다.

또한, 상기 방전 가스는 Xe이 10% 이상 함유된 Ne과 Xe의 혼합가스인 것임이 바람직하다.

또한, 상기 방전 가스는 400Torr 이상의 압력으로 상기 방전 공간 내에 채워져 있는 것임이 바람직하다.

또한, 상기 유지 펄스의 전압 크기는 240V 이하인 것임이 바람직하다.

또한, 상기 방전 가스는 Ne, Xe 및 He의 혼합가스가 사용될 수도 있다.

또한, 상기 어드레스 전극은 광반사율을 높이기 위하여 금속 재료를 사용할 수 도 있다.

또한, 상기 어드레스 전극과 상기 방전 공간 사이에는 하지 유전층이 형성되어 있고, 상기의 하지 유전층은 고 광반사율 재료로 이루어진 것임이 바람직하다,

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 4a에서는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판의 일부 단면도를 나타낸다. 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같은 종래 기술의 플라즈마 디스플레이 패널과 마찬가지로 투명 기판(201) 위에 제1 유지 전극(207X) 및 제2 유지 전극(207Y)이 형성되어 있고, 제1 버스 전극(208X) 및 제2 버스 전극(208Y)이 형성되어 있으며, 그 위에 유전층(205) 및 보호층(204)이 형성되어 있다.

여기서, 제1 유지 전극(270X)과 제2 유지 전극(270Y)의 사이에서, 상기 유전층(205)의 일부 영역에 트렌치 부(203)가 형성되어 있다. 상기 트렌치 부(203)는 제1 유지 전극(270X)과 제2 유지 전극(270Y)의 일부 영역의 하부에까지 확장되어 있다. 그 결과, 유전층(205)의 두께는 트렌치 부(203)가 형성되어 있는 영역과 그렇지 않은 영역에서 달라지게 되고, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이에서의 상기 유전층(205)의 두께는 상기 유전층의 평균 두께보다 작아지게 된다.

이러한 트렌치 부(203)는 유전층(205)을 형성한 후, 패터닝(patterning)을거쳐 식각(etching)을 통하여 형성될 수 있으며, 습식 또는 건식 식각 등 어느 공정이라도 필요에 따라 사용될 수 있다. 습식 식각의 경우 언더컷(undercut)이 발생하기 때문에 트렌치 부(203)의 측벽이 약간 경사지게 된다.

도 4b에서는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판의 일부 단면도를 나타낸다. 제2 실시예는 제1 유전층(305-1)을 먼저 형성한 후, 제2 유전층(305-2)을 스크린 인쇄법에 의하여 소정의 패턴을 가지도록 형성한 예이다. 이와 같은 방법을 통하여, 유전층 형성 후 추가의 패터닝 및 식각 공정의 수행 없이, 도시된 바와 같은 트렌치 부(303)를 형성할 수 있다.

도 4c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판의 일부 단면도를 나타낸다. 제3 실시예는 유전층(403)을 단일층으로 스크린 인쇄하되, 유전체 재료를 저 점성의 것을 사용하는 경우에 유동(flowing)에 의하여 형성되는 패턴으로서, 제1 유지 전극(407X)과 제2 유지 전극(407Y) 사이에 연속적이고 완만한 경사를 지닌 트렌치 부(403)가 형성된다.

도 4d는 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판의 일부 단면도를 나타낸다. 제4 실시예는 기판 위에 스크린 인쇄 등을 통하여 우선 지지부 패턴(505-1)을 형성한 후, 그 위에 제1 유지 전극(507X)과 제2 유지 전극(507Y)을 형성하여 도시된 바와 같은 계단 형태를 형성한다. 이 후, 제1 버스 전극(508X)과 제2 버스 전극(508Y)을 형성하고, 유전층(505) 및 보호층(504)을 형성한다. 이러한 구조는 도 4a, 4b 및 4c에 도시된 다른 실시예와는 달리, 유전층(505)상에 함몰된 트렌치 부를 갖지는 않으나, 유전층(505)의 두께가 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극의 사이에서 다른 부분보다 얇게 된다.

상술한 실시예들에 있어서, 유전층의 두께가 얇은 부분은 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극의 사이에 국한된 것만이 아니고, 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극의 일부 영역의 하부에까지도 걸쳐있게 된다. 본 발명자는 이와 같이 형성된 전극 구조를 사용할 경우, 높은 가스 압력이나 Xe 가스 함량을 높인 조건 하에서 패널을 작동시킬 경우에도 상술한 방전 개시 전압의 증가 및 크로스토크 불안정의 발생 등의 문제점을 현저히 개선하는 것이 가능함을 발견하였다.

상판의 유지 전극과 방전 공간 사이의 유전층의 두께를 달리한 위의 패널 구조는 종래 기술의 경우와 같은 낮은 가스 압력 조건(400Torr 미만)이나 낮은 Xe 함량(10% 미만)의 경우에는 방전 개시 전압 및 휘도 효율의 면에서 그다지 큰 효과를 보이지는 않았으나, 휘도 효율을 높이기 위한 높은 가스 압력 조건이나 높은 Xe 함량 조건에서는 방전 개시 전압의 저하가 현저하게 관측되었다. 또한, 위와 같은 구조를 적용할 경우, 제1 유지 전극과 제2 유지 전극 사이의 공간에 전계가 집중되어 크로스토크 발생 가능성의 감소 효과를 얻을 수 있음이 관측되었다. 따라서, 상술한 구조는 특히 휘도 효율을 높이기 위한 높은 가스 압력 조건이나 높은 Xe 함량 조건에서 종래 기술에서는 해결하지 못하였던 문제점들을 해결하는 데 크게 기여할 수 있으며, 위의 조건에서도 안정적인 플라즈마 디스플레이의 작동이 가능하게 하고, 그 결과, 더욱 가스 압력이나 Xe 함량을 높여 획기적인 휘도 효율을 얻는 데에 이바지할 수 있음이 본 발명자들에 의하여 관측되었다.

또한, 본 발명에서 제시한 구조는 특히 도 3a에 도시된 사각형 격벽 구조,도 3c에 도시된 육각형 격벽 구조나, 타원형 격벽 구조(도시하지 않음) 등의 폐쇄향 격벽 구조가 가지는 문제점을 현저히 개선하는 것이 가능하다. 이들 폐쇄형 격벽 구조는 제조 공정 중의 가열 배기 시 배기 특성이 좋지 않아 안정된 패널 구조를 제작하는 것이 용이하지 않다는 단점을 지니고 있는데, 본 발명에서 제시한 구조는 상술한 트렌치 등을 배기 통로로 사용하는 것이 가능하게 되어 가열 배기 특성을 현저히 개선하는 것이 가능하게 되고, 그 결과 이러한 문제점을 극복하여 안정된 특성의 패널을 양산하는 것이 보다 용이하게 된다. 이 때 트렌치는 배기 통로로 사용될 수 있도록 상판 위에서 전체가 효과적으로 연결되도록 배치되어야 한다.

도 5a 및 도 5b는 이러한 상판 구조를 적용하였을 때의 플라즈마 디스플레이의 특성을 관측한 실험 결과를 도시한다. 실험을 위하여, 360μm의 폭을 가지는 유지 전극들을 형성하고, 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 간격은 80μm으로 하였으며, 유전층의 두께는 40μm으로 하고, 트렌치 부의 깊이는 10μm ~ 20μm으로 하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제작하였다. 방전 가스 압력은 600Torr의 고압으로 하고, Ne과 Xe의 혼합 가스를 사용하였으며, 이때 Xe 의 함량을 4%, 8%, 12% 및 16%의 네 가지 경우에 대하여 각각 실험하여 동일한 그래프 상에 나타내었다. 도 5a 및 도 5b에 도시된 그래프 상에서는 우측 상단으로 갈수록 Xe 가스의 함량이 높은 경우를 나타낸다. 이때 사용된 트렌치 부의 구조는 상술한 도 4a에 도시된 바와 같다. 실험 결과는 다음 세 가지 경우를 비교하여 나타내고 있다.

(i) 종래 기술의 경우와 같이 트렌치 구조를 형성하지 않은 경우(도면에서 Ref로 표시됨),

(ii) 트렌치 부의 폭이 80μm(즉, 제1 유지 전극과 제2 유지 전극 사이의 간격과 동일)으로 형성된 경우(도면에서 gr80으로 표시됨),

(iii) 트렌치 부의 폭이 160μm으로 제1 유지 전극과 제2 유지 전극의 일부 영역 하부에까지 걸쳐서 형성된 경우(도면에서 gr160으로 표시됨)의 플라즈마 디스플레이 패널 특성을 각각 비교하였다.

도 5a는 패널의 방전 유지 전압(sustain voltage)에 따른 휘도(luminance)의 변화를 나타내며, 도 5b는 방전 유지 전압에 따른 휘도 효율(efficacy)의 변화를 나타낸다. 상술한 (ii)의 경우는 종래 기술인 (i)의 경우에 비하여 동일한 유지 전압에서 낮은 휘도를 나타내고 있고(도 5a의 x), 도 5b에 나타낸 바와 같이 낮은 방전 유지 전압(대략 240V 이하의 영역)에서의 휘도 효율의 증가도 그다지 두드러지지 않은 것을 알 수 있다(도 5b의 x). 그러나, (iii)의 경우는 도 5a에 나타낸 바와 같이, 절대적 휘도도 증가할 뿐만 아니라(도 5a의 삼각형), 낮은 유지 전압(대략 240V 이하의 영역)에서의 휘도 효율이 유지 전압이 낮아짐에 따라 급격히 증가하는 것을 관측할 수 있다. 따라서, 위의 (iii)의 조건을 사용하여 실험한 결과는 높은 가스 압력 및 높은 Xe 가스 압력을 사용한 경우에 보다 적합하고, 이러한 조건에서 도 5b에 도시된 바와 같이 현저히 높은 휘도 효율 및 낮은 방전 유지 전압을 얻을 수 있도록 함을 알 수 있다.

상술한 본 발명의 구조에서 낮은 유지 전압에서 높은 휘도 효율을 얻을 수 있는 이유는, 본 발명자들에 의하여 다음과 같이 해석된다.

AC PDP의 진공 자외선(VUV) 생성 효율은 ρ1(electron heating efficiency)과 ρ2(electron excitation efficiency)의 곱으로 볼 수 있다. 방전 가스의 압력이 높은 조건이나 Xe 가스의 함량이 높은 조건에서는 방전 가스의 이동도(mobility)가 낮아져 쉬스(sheath)가 국부화(localize)되고, 이러한 효과로 인해 이차 전자 방출 계수가 높은 Ne 이온에 의해 전자가 많이 발생한다. 이는 전자 가열 효율(electron heating effiency), 즉 ρ1을 높여주게 되어 결국 ρ1이 전체 효율에 미치는 영향이 커지게 된다.

본 발명의 상술한 실시예들에서 제시한 구조는 높은 가스 압력이나 높은 Xe 가스 함량 조건에서 상술한 쉬스 국부화에 의한 ρ1 지배의 효과(localized sheath 효과)를 극대화시키기 위해, 유지 전극 사이와 유지 전극 하부의 일정 영역에 걸쳐 얇은 유전층이 분포하도록 제조하여 이 부분에 걸리는 전계 세기가 국부적으로 증가되도록 한다.

이러한 유지 전극 하부 방전 공간 영역에서의 쉬스 국부화의 효과는 높은 가스 압력이나 높은 Xe 가스 함량 조건에서 두드러지는 것이므로, 종래 기술의 경우에 통상적으로 사용하는 조건 하에서는 휘도 효율이 크게 상승하지는 않았다. 그러나 휘도 효율의 증대를 위해 Xe 가스 함량이 높은 조건을 적용할 경우에 종래 기술에서 가장 큰 문제점이던 방전 전압의 증가를 억제하여, 방전 개시 전압(firing voltage)의 경우 종래 기술의 구조를 그대로 적용한 경우에 비하여 약 40V 가량 낮출 수 있었다.

또한, 상술한 바와 같이 종래 기술의 구조(도 3a, 도 3b)에는 높은 가스 압력이나 높은 Xe 가스 함량(약 400~600Torr, 10~16%)을 적용할 경우, 크로스토크 불안정성에 의해 안정된 플라즈마 디스플레이 패널의 작동이 어려웠던 반면에, 본 발명의 구조를 적용할 경우 국부적으로 전계가 집중되는 효과에 의하여 인접 셀의 영향이 적게 되므로 위와 같은 높은 가스 압력 또는 높은 Xe 가스 함량의 경우에도 안정된 작동이 가능하였다.

도 3b의 결과에 의하여 실험 영역 내에서 종래 기술인 (i)의 경우와 본 발명의 실시예를 적용한 경우인 (iii)의 경우, 최대 효율치를 비교하면 본 발명의 실시예를 적용한 경우인 (iii)의 경우에 보다 더 높은 효율을 얻을 수 있음을 알 수 있다. 이와 같이, 트렌치의 폭이 일정 정도를 넘어 전극 하부 영역의 일부에까지 걸쳐있도록 된 (iii)의 경우에는 저 전압에서 고 휘도 효율을 얻을 수 있는 등 유리한 효과가 관측되었으나 (ii)의 경우와 같이 유지 전극 사이에만 트렌치가 형성되어 있는 경우에는 이러한 유리한 효과가 관측되지 않은 이유는 다음과 같이 해석된다. (ii)의 경우와 같이, 트렌치의 폭이 작아서 양 유지 전극 사이에만 유전층이 얇은 부분이 형성되는 경우는, 전계(electric field)의 집중으로 감소된 방전 전압을 얻는 것은 가능하게 되나, 유전층이 얇은 부분의 폭이 지나치게 좁아 전류량이 작아져 고휘도를 얻을 수 없고, 주 방전의 영역이 좁아 여기종의 생성이 원활하지 않고, 저 전압에서도 전자 온도가 상대적으로 높아 저 전압에서 전자가 여기종을 생성하도록 하는 효율(ρ2: 전자 온도 및 E/N에 반비례)이 (iii)의 경우에 비하여 낮게 되어, 결국 진공 자외선 생성 효율이 낮아지고, 그에 따라 가시광 생성 효율도 낮아지기 때문이다.

본 발명의 상술한 실시예의 상판 구조를 적용할 경우의 높은 가스 압력 또는 높은 Xe 가스 함량에서의 휘도 효율 증가 효과는 유지 기간 동안 어드레스 전극에 보조 펄스를 인가할 경우에 더욱 극대화될 수 있다. 도 6에서는 이러한 보조 펄스의 파형을 예시적으로 나타낸다. 예를 들어, 유지 전극에 인가되는 유지 펄스가 도 6에 도시된 바와 같이 소정의 폭(예를 들어, 도시된 바와 같이 8us)을 가지고 극성을 바꾸어 가면서 인가되는 경우, 어드레스 전극에 인가되는 보조 펄스를 소정의 폭(예를 들어, 도시된 바와 같이 1us) 및 지연 시간(Td)을 갖고 각각의 유지 펄스마다 인가한다.

도 7에서는 이러한 보조 펄스 인가 수단을 구비하고 있는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구성을 개략적으로 나타낸다. 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(30)과, 제1 유지 전극을 구동하는 제1 구동부(40), 제2 유지 전극을 구동하는 제2 구동부(50), 어드레스 전극을 구동하는 어드레스 구동부(60)를 기본적으로 포함하며, 보조 펄스를 인가하기 위한 수단(70, 70')을 더 포함한다. 보조 펄스를 인가하기 위한 수단(70, 70')은 기존의 어드레스 구동부(60)를 활용하여 그 내부에 구성(70)할 수도 있으나, 외부에 별도 모듈(70')로 구성할 수도 있다.

도 8에서는 어드레스 전극에 보조펄스를 인가할 때 지연 시간(Td)을 바꾸어 가면서 휘도 효율의 변화를 측정한 결과를 나타낸다. 휘도 효율이 크게 증가하는 부분은 보조 펄스의 상승 에지를 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)와 맞추어준 경우(Td=0)와 보조 펄스의 하강 에지를 유지 펄스의 하강 에지(falling edge)에 맞추어준 경우(Td=7)로 관측되었다. 특히, 보조 펄스의 상승 에지를 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)와 맞추어준 경우(Td=0)에 휘도 효율 증가의 효과가 두드러졌다. 이러한 경우에 보조 펄스에 의하여 유지 방전을 트리거(triggering)하는 효과가 발생될 것으로 해석되며, 보조 펄스가 유지 방전 펄스보다 상승 기울기가 급격하여 먼저 상승하는 경우에는 상술한 보조 펄스의 휘도 및 휘도 효율 개선 효과가 나타나지 않는 것이 관측되었다.

도 8에서는 어드레스 펄스 전압을 80V와 120V를 사용한 경우에 대한 실험 결과(80V의 경우: 채워진 도형으로 도시; 120V의 경우: 비어있는 도형으로 도시함)를 각각 나타내었다. REF로 표시된 그래프는 종래 기술의 구조에 대하여 보조 펄스를 적용한 결과를 도시한다.

도 9는 어드레스 보조 펄스의 전압을 변화시킨 경우에 각각 얻을 수 있었던 휘도와 휘도 효율의 변화를 각각의 Xe 함량에 따라 별도의 곡선으로 나타낸다. 여기서, 도 9a는 종래 기술의 구조에서 어드레스 보조 펄스를 인가한 경우의 휘도 및 휘도 효율의 변화를 나타내고, 도 9b는 본 발명의 구조에 어드레스 보조 펄스를 적용할 경우의 휘도 및 휘도 효율의 변화를 나타낸다. 도 9a 및 도 9b에서, 6%, 13% 등 수치는 한 단일 곡선 내에서 효율의 증가 비율을 나타내며, 단일 그래프 위에 표시된 곡선들은 상부의 것일수록 더 높은 Xe 가스 함량 조건에서 측정된 결과를 나타낸다.

도 9a에 도시한 종래 기술의 구조에서는 어드레스 보조 펄스를 인가했을 때, Xe 함량비가 증가할수록 휘도 및 휘도 효율이 감소하는 것을 볼 수 있다. 즉, 높은Xe 함량비의 조건에서는 어드레스 보조 펄스의 인가가 휘도 및 휘도 효율에 있어서 그다지 유리한 효과를 가져다 주지 못하고 있는 것을 알 수 있다.

그러나, 도 9b에 도시한 본 발명의 구조를 적용한 경우에는 Xe 가스 함량이 높아질수록 어드레스 보조 펄스의 전압이 상승함에 따라 휘도 및 휘도 효율이 증가하는 것을 볼 수 있다. 이와 같은 결과는 위의 종래 기술의 경우와 달리 높은 Xe 가스 함량 조건의 경우에도 본 발명의 패널 구조를 적용할 경우에, 그에 어드레스 펄스를 인가함으로써 휘도 및 휘도 효율 증가 효과를 더욱 촉진시킬 수 있음을 보여준다.

이상과 같은 어드레스 보조 펄스 인가의 효과를 정리하면, 종래 기술의 패널 구조를 그대로 적용한 상태에서 높은 압력 또는 높은 Xe 함량의 가스를 사용할 경우에 어드레스 보조 펄스를 인가하면 휘도 및 휘도 효율 증가 효과가 나타나지 않으나, 본 발명의 패널 구조에 높은 압력 또는 높은 Xe 함량의 가스를 사용하고 그에 어드레스 보조 펄스를 인가할 경우에는 휘도 및 휘도 효율 증가 효과가 현저히 증대되는 것으로 요약된다.

이상에서 설명된, 본 발명의 한 특징에 의한 패널 구조 적용의 효과는 유전층의 두께가 얇은 부분에 국부화된 쉬스에서 2차 전자 방출 계수가 큰 Ne에 의한 전자 가열 효율(electron heating efficiency)이 높아진 결과로 해석된다(본 발명자의 IDW'03 학회 발표 예정인 논문의 내용을 참조, 발표 예정일: 2003. 7. 9.). 그러므로, 더 높은 이온화 에너지를 가져서 2차 전자 방출 계수가 더 큰 He을 첨가하여 사용하면 Xe 가스 함량이 높은 조건에서 더 높은 효율 증가 결과를 얻을 수 있다. He은 베이스 가스(base gas)로 사용하기에는 방전 전류의 피크(peak)값이 매우 크고, 방전 전압이 지나치게 높은 단점이 있으므로 첨가 가스로 사용하는 것이 바람직하다. 따라서, 위의 모든 논의가 Xe 함량이 높은 조건에서 He을 첨가 가스로 부가한 경우에 그대로 적용될 수 있다.

또한 하지 유전층(218)으로써 광 반사율이 높은 재료(금속 등)를 사용하거나 광 반사율이 높은 어드레스 전극을 사용하면 더욱 휘도를 증가시켜 휘도 효율 개선에 도움을 줄 수 있다.

도 10은 본 발명의 상술된 각각의 특징들의 적용에 의하여 고 휘도 효율을 갖는 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 및 장치 구성의 한 예를 나타낸다. 방전 공간에는 높은 압력 및/또는 높은 Xe 함량을 갖는 방전 가스가 충진되어 있고, 방전 가스에 He을 첨가하는 것도 가능하다. 이러한 조건에서 휘도 효율의 증가와 함께 안정된 방전 특성 및 낮은 방전 전압을 얻기 위해 상술한 본 발명의 상판 구조가 적용된다. 또한, 유지 기간 동안에 어드레스 보조 펄스가 인가될 경우 높은 압력 및/또는 높은 Xe 함량을 갖는 방전 가스를 사용한 경우에 휘도 및 휘도 효율 증가 효과를 더욱 촉진시키는 것이 가능하다.

이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

본 발명을 적용하여, 높은 휘도 효율을 얻기 위하여 가스 압력 또는 Xe 가스 함유량을 높인 방전 가스를 사용하는 조건 하에서도 낮은 유지 방전 전압으로 구동이 가능하고, 크로스토크(cross-talk)에 의한 불안정의 발생을 감소시키며, 휘도 및 휘도 효율을 동시에 개선하는 것이 가능하고, 제조 시 양호한 가열 배기 특성을 가져 안정된 특성의 패널을 제공하는 것이 가능한 새로운 구조의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널과, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이 장치 및 구동 방법이 제공된다.

또한, 이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에 어드레스 보조 펄스를 부가적으로 인가함으로써, 가스 압력 또는 Xe 가스 함유량을 높인 방전 가스를 사용하는 조건 하에서는 이러한 보조 펄스의 인가에 의하여 특별한 효과를 얻지 못하였던 종래 기술의 경우와는 달리, 휘도 및 휘도 효율을 현저히 증대시키는 효과를 얻을 수가 있다.

Claims (23)

1. 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 상기 제1 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,

   상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 플라즈마 디스플레이 패널은 화소를 구성하는 R, G 및 B의 방전 셀이 델타형 배열로 배치되며, 각각의 방전 셀이 폐쇄형 격벽을 갖는 것인 플라즈마 디스플레이 패널.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 유전층은,

   상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이와 상기 제1 유지 전극 및/또는제2 유지 전극의 일부 영역에까지 걸쳐 있는 함몰된 트렌치 부를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 방전 가스는 Xe이 10% 이상 함유된 Ne과 Xe의 혼합가스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 방전 가스는 400Torr 이상의 압력으로 상기 방전 공간 내에 채워져 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
6. 제 4항에 있어서,

   상기 유지 펄스의 전압 크기는 240V 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
7. 제 1항에 있어서,

   상기 방전 가스는 Ne, Xe 및 He의 혼합가스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
8. 제 1항에 있어서,

   상기 어드레스 전극은 광반사율을 높이기 위하여 금속 재료를 사용한 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
9. 제 1항에 있어서,

   상기 어드레스 전극과 상기 방전 공간 사이에는 하지 유전층이 형성되어 있고, 상기의 하지 유전층은 고 광반사율 재료로 이루어진 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
10. (a) 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과,

    (b) 유지 기간 동안, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극에 극성이 교번하는 유지 펄스를 인가하여 유지 방전을 발생시키는 유지 구동부와, 어드레스 기간 동안 상기 어드레스 전극에 어드레스 펄스를 인가하여 상기 유지 기간 동안 유지 방전이 일어날 방전 셀을 선택하는 어드레스 구동부를 갖는 구동 회로를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서,

    (i) 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 하며,

    (ii) 상기 구동 회로는 상기 각 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)로부터 소정의 지연 시간(Td)을 가지며, 상기 유지 펄스의 폭보다 작은 폭을 갖는 펄스를 상기 어드레스 전극에 인가하는 어드레스 펄스 인가 수단을 더 포함하는 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
11. 제 10항에 있어서,

    상기 어드레스 펄스의 지연 시간(Td)은 0≤Td<1μsec의 범위 내인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
12. 제 10항에 있어서,

    상기 어드레스 펄스는 상기 유지 펄스의 상승 기울기 이하의 상승 기울기를 가지는 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
13. 제 10항에 있어서,

    상기 플라즈마 디스플레이 패널은 화소를 구성하는 R, G 및 B의 방전 셀이 델타형 배열로 배치되며, 각각의 방전 셀이 폐쇄형 격벽을 갖는 것인 플라즈마 디스플레이 패널.
14. 제 10항에 있어서,

    상기 유전층은,

    상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이와 상기 제1 유지 전극 및/또는 제2 유지 전극의 일부 영역에까지 걸쳐 있는 함몰된 트렌치 부를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
15. 제 10항에 있어서,

    상기 방전 가스는 Xe이 10% 이상 함유된 Ne과 Xe의 혼합가스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
16. 제 10항에 있어서,

    상기 방전 가스는 400Torr 이상의 압력으로 상기 방전 공간 내에 채워져 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
17. 제 15항에 있어서,

    상기 유지 펄스의 전압 크기는 240V 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
18. 제 10항에 있어서,

    상기 방전 가스는 Ne, Xe 및 He의 혼합가스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
19. 제 10항에 있어서,

    상기 어드레스 전극은 광반사율을 높이기 위하여 금속 재료를 사용한 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
20. 제 10항에 있어서,

    상기 어드레스 전극과 상기 방전 공간 사이에는 하지 유전층이 형성되어 있고, 상기의 하지 유전층은 고 광반사율 재료로 이루어진 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
21. 그 사이에 유지 방전을 발생시키기 위한 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극과, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 방전 공간과 격리시키기 위하여 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극을 덮는 유전층을 포함하는 상판, 상기 제1 및 제2 유지 전극에 교차하도록 된 어드레스 전극이 형성되어 있는 하판, 상기 상판과 하판 사이에 형성된 방전 공간에 주입된 방전 가스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 있어서,

    (a) 이후의 유지 기간 동안에 유지 방전이 일어날 방전 셀을 선택하기 위하여, 어드레스 기간 동안 상기 어드레스 전극에 어드레스 펄스를 인가하는 단계;

    (b) 상기 어드레스 기간 동안 선택된 방전 셀에서, 유지 기간 동안, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이에 유지 방전을 발생시키기 위하여 극성이 교번하는 유지 펄스를 인가하는 단계;

    (c) 상기 각 유지 펄스의 상승 에지(rising edge)로부터 소정의 지연 시간(Td)을 가지며, 상기 유지 펄스의 폭보다 작은 폭을 갖는 펄스를 상기 어드레스 전극에 인가하는 단계를 포함하고,

    여기서, 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 상기 유전층은 그 두께가 균일하지 않도록 형성되며, 상기 제1 유지 전극 및 제2 유지 전극 사이의 어느 지점에서의 상기 유전층의 두께가 상기 유전층의 평균 두께보다 작도록 형성된 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
22. 제 21항에 있어서,

    상기 어드레스 펄스의 지연 시간(Td)은 0≤Td<1μsec의 범위 내인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
23. 제 21항에 있어서,

    상기 어드레스 펄스는 상기 유지 펄스의 상승 기울기 이하의 상승 기울기를 가지는 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.