KR200491359Y1 - A hydromechanical reactor - Google Patents

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KR200491359Y1 KR2020150001925U KR20150001925U KR200491359Y1 KR 200491359 Y1 KR200491359 Y1 KR 200491359Y1 KR 2020150001925 U KR2020150001925 U KR 2020150001925U KR 20150001925 U KR20150001925 U KR 20150001925U KR 200491359 Y1 KR200491359 Y1 KR 200491359Y1
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hydrodynamic reactor
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션 앤소니 헤니건
존 피터 에릭 뮬러
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비피 케미칼즈 리미티드
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Abstract

본 실용신안은 유체역학 반응기의 유형에 관한 것으로서, 상기 유체역학 반응기는 원통형부 (1), 상부 인클로저 (2) 및 하부 인클로저 (3) 를 포함하는 수직방향 원통형 구성체이고, 상기 하부 인클로저 (3) 는 하방으로 연장되는 만곡된 인클로저이며, 상기 유체역학 반응기는 액체 입구 (4), 액체 노즐 (5), 기체 출구 (6), 배플 (7), 기체 입구 (8), 기체 분배기 (9), 및 액체 출구 (10) 를 포함하고: 상기 액체 입구 (4) 는, 상기 유체역학 반응기의 상부에 위치되고, 그리고 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 상부에서 또는 그 근방에서 반경방향 중심에 위치되고 또한 액체를 하방 방향으로 배출하도록 구성된 액체 노즐 (5) 에 연결되며; 상기 기체 출구 (6) 는 상기 유체역학 반응기의 상기 상부 인클로저에 위치되고; 상기 배플 (7) 은 상기 유체역학 반응기의 상기 하부 인클로저 (3) 에서 반경방향 중심에 위치되고, 상기 배플 (7) 은 수평방향 베이스 요소 (11), 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 에 대하여 상방으로 연장되는 수직방향 주변 벽 (12), 및 수평방향 베이스 요소 (11) 와 수직방향 주변 벽 (12) 을 연결하는 각진 주변 벽 (13) 을 포함하며; 상기 기체 입구 (8) 는 상기 유체역학 반응기의 하부에 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 에 연결되고; 상기 기체 분배기 (9) 는: 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 에 의해 그려진 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 보다 더 낮지 않고 또한 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부보다 높지 않은 위치에 수직방향으로 위치되고; 또는 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 에 의해 그려진 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부 위에 수직하게 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 가 상기 배플 (7) 내에 규정된 체적 쪽으로 기체를 배출하도록 구성되며; 상기 액체 출구 (10) 는 상기 유체역학 반응기의 상기 하부 인클로저 (3) 의 하부에서 반경방향 중심에 위치되고; 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는, 1.5:1 ~ 1:3 의 범위이고, 상기 유체역학 반응기의 전체 높이 (C) 에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 의 비는 1:1 ~ 1:3 의 범위이며; 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 상기 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경 (N) 의 비는 0.3:1 ~ 0.95:1 의 범위이고, 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 높이 (J) 의 비는 1:15 ~ 1:5 의 범위이고; 상기 배플 (7) 은, 상기 수직방향 주변 벽 (12) 과 상기 각진 주변 벽 (13) 이 만나는 가장자리와 상기 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 1 갭 (K) 이 제공되도록 그리고 상기 각진 주변 벽 (13) 과 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 가 만나는 가장자리와 상기 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 2 갭 (L) 이 제공되도록 위치되며, 상기 제 1 갭 (K) 의 거리에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 60:1 의 범위이고, 상기 제 2 갭 (L) 의 거리에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 80:1 범위이다.This utility model relates to a type of hydrodynamic reactor, wherein the hydrodynamic reactor is a vertical cylindrical configuration comprising a cylindrical portion (1), an upper enclosure (2) and a lower enclosure (3), and the lower enclosure (3). Is a curved enclosure extending downward, wherein the hydrodynamic reactor comprises a liquid inlet (4), a liquid nozzle (5), a gas outlet (6), a baffle (7), a gas inlet (8), a gas distributor (9), And a liquid outlet (10): the liquid inlet (4) is located at the top of the hydrodynamic reactor, and at a radial center at or near the top of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor. Is connected to a liquid nozzle 5 which is located and configured to discharge the liquid in the downward direction; The gas outlet 6 is located in the upper enclosure of the hydrodynamic reactor; The baffle (7) is located radially centered in the lower enclosure (3) of the hydrodynamic reactor, the baffle (7) being above the horizontal base element (11), the horizontal base element (11) A vertical peripheral wall (12) extending inwardly, and an angled peripheral wall (13) connecting the horizontal base element (11) and the vertical peripheral wall (12); The gas inlet 8 is located at the bottom of the hydrodynamic reactor and is connected to the gas distributor 9; The gas distributor 9 is: radially centered within the diameter drawn by the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 and not lower than the horizontal base element 11 and also the vertical peripheral wall ( 12) is positioned vertically at a position not higher than the upper portion of the; Or in a diameter drawn by the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 and located vertically in the radial center and above the vertical peripheral wall 12 and the gas distributor 9 is connected to the baffle ( 7) is configured to expel the gas towards the volume defined within; The liquid outlet (10) is located in the radial center at the bottom of the lower enclosure (3) of the hydrodynamic reactor; The ratio of the diameter (D) of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor to the height B of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor is in the range of 1.5: 1 to 1: 3, and the hydrodynamics The ratio of the height B of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor to the overall height C of the reactor ranges from 1: 1 to 1: 3; The ratio of the radius N of the horizontal base element 11 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 ranges from 0.3: 1 to 0.95: 1 , And the ratio of the height J of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 is 1:15 to 1: 5 Is the range of; The baffle 7 is provided so that a first gap K is provided between the edge where the vertical peripheral wall 12 and the angled peripheral wall 13 meet and the inner surface of the lower enclosure 3 and the angled The second gap (L) is positioned between the peripheral wall (13) and the edge where the horizontal base element (11) meets and the inner surface of the lower enclosure (3), the distance of the first gap (K) The ratio of the diameter D of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor to the range of 10: 1 to 60: 1, and the cylindrical portion of the hydrodynamic reactor to the distance of the second gap L The ratio of the diameter (D) of 1) ranges from 10: 1 to 80: 1.

Description

유체역학 반응기 {A HYDROMECHANICAL REACTOR}Hydrodynamic reactor {A HYDROMECHANICAL REACTOR}

본 실용신안은 유체역학 반응기의 유형에 관한 것이다.This utility model relates to the type of hydrodynamic reactor.

로듐 또는 이리듐 기재의 촉매 시스템의 존재하에서 메탄올 및/또는 이의 반응 유도체의 카르보닐화의 사용은 잘 알려져 있고 또한 전세계적으로 아세트산의 제조시에 통상적으로 사용된다. 로듐 촉매의 존재하에서 메탄올 및/또는 이의 반응 유도체의 카르보닐화에 의한 아세트산의 제조는, 예를 들어 GB-A-1,233,121, EP 0384652, 및 EP 0391680 에 개시되어 있다. 이리듐 촉매의 존재하에서의 공정은, 예를 들어 GB-A-1234641, US-A-3772380, EP 0616997, EP 0618184, EP 0786447, EP 0643034, EP 0752406 에 개시되어 있다. 아세트산을 제조하기 위한 이러한 공정들에서, 카르보닐화 반응은 액상에서 실시하고 그리하여 액상 메탄올 및/또는 이의 반응 유도체와 기상 일산화탄소 반응물의 혼합을 필요로 한다. 통상적으로, 완전한 기체-액체 및 액체-액체 혼합을 달성하기 위해서 반응기들에서의 혼합에 대한 기계적 접근이 채택되었지만, 아세트산 합성 공정 동안 존재하는 대량의 부식성 성분들로 인해, 높은 레벨의 부식은 기계적으로 회전하는 기계류 및 혼합 장비의 시일들에 영향을 주어, 혼합 장비에 대한 손상 및 장비의 중지들을 유발하여, 잠재적으로 연속 작동에 문제가 생기가 된다. 이러한 관점에서, 아세트산 합성시 사용하기 위한 우수한 기체/액체 혼합 결과들을 달성할 수 있는 새로운 구성의 반응기들의 개량에 대한 필요성이 대두되었다.The use of carbonylation of methanol and / or its reaction derivatives in the presence of a rhodium or iridium based catalyst system is well known and is commonly used worldwide in the production of acetic acid. The production of acetic acid by carbonylation of methanol and / or reaction derivatives thereof in the presence of a rhodium catalyst is disclosed, for example, in GB-A-1,233,121, EP 0384652, and EP 0391680. Processes in the presence of iridium catalysts are disclosed, for example, in GB-A-1234641, US-A-3772380, EP 0616997, EP 0618184, EP 0786447, EP 0643034, EP 0752406. In these processes for producing acetic acid, the carbonylation reaction is carried out in the liquid phase and thus requires mixing of the liquid phase methanol and / or its reaction derivatives and gaseous carbon monoxide reactants. Typically, mechanical approaches to mixing in reactors have been adopted to achieve complete gas-liquid and liquid-liquid mixing, but due to the large amount of corrosive components present during the acetic acid synthesis process, high levels of corrosion are mechanically It affects the seals of rotating machinery and mixing equipment, causing damage to the mixing equipment and disruption of the equipment, potentially causing problems with continuous operation. From this point of view, a need has emerged for the improvement of reactors of new construction that can achieve good gas / liquid mixing results for use in acetic acid synthesis.

CN 203209061 U 에는 유체역학 반응기의 유형이 개시되어 있고, 여기에서 이 유체역학 반응기는 기체 출구, 배플, 액체 분무 모듈, 기체 입구, 기체 분배기, 액체 출구 및 액체 입구를 포함하고; 기체 입구는 반응기의 하부에서 측면에 위치되며, 기체 출구는 반응기의 상부에 위치되고, 액체 입구는 반응기의 베이스부에 위치되며, 반응기의 하단부 커버의 2 개의 측면들에는 대칭적으로 배열된 액체 출구들이 있고; 기체 분배기는 배플과 액체 분무 모듈 사이에 위치되며; 배플은 반응기의 상단부 커버 아래에 위치되고; 배플에는 기체 출구 통기 개구들이 있다. CN 203209061 U 에 제공된 반응기의 구성은, 일산화탄소를 배플 위에서 감소시키도록 유도할 수 있는 배플 팬 위의 기체 및 액체의 이상적인 혼합보다 못한 결과가 나올 수 있고, 또한 일산화탄소가 액상으로 용해된 후 카르보닐화 반응으로 소모되는 충분한 체류 시간을 갖기 전에, 액체 및 기체 둘 다의 상향 유동이 액체 반응 매체의 표면으로부터 일산화탄소가 빠져나오도록 유도하는 잠재력이 있다. 액체 반응 매체에서의 일산화탄소의 농축물이 저감되어 카르보닐화 반응이 발생할 수 없는 반응 체적 부분들을 최소화할 수 있거나 심지어 없앨 수 있도록 그리고/또는 일산화탄소가 액상으로 용해된 후 카르보닐화 반응에서 소모되는 충분한 체류 시간을 갖기 전에 반응기의 상부에서 또는 그 근방에서 액체 반응 매체의 표면을 통하여 일산화탄소의 배출을 최소화거나 또는 심지어 없애도록, 우수한 혼합을 달성하는 반응기의 구성에 대한 필요성이 여전하다.CN 203209061 U discloses a type of hydrodynamic reactor, wherein the hydrodynamic reactor comprises a gas outlet, baffle, liquid spray module, gas inlet, gas distributor, liquid outlet and liquid inlet; The gas inlet is located on the side from the bottom of the reactor, the gas outlet is located on the top of the reactor, the liquid inlet is located on the base of the reactor, and the liquid outlet symmetrically arranged on the two sides of the bottom cover of the reactor There are; The gas distributor is located between the baffle and the liquid spray module; The baffle is located under the top cover of the reactor; The baffle has gas outlet vent openings. The configuration of the reactor provided in CN 203209061 U may result in less than ideal mixing of gas and liquid on a baffle pan, which may lead to a reduction of carbon monoxide on the baffle, and also carbonization after carbon monoxide is dissolved in the liquid phase. Before having sufficient residence time to be consumed by the reaction, there is the potential for the upward flow of both liquid and gas to induce carbon monoxide to escape from the surface of the liquid reaction medium. The concentration of carbon monoxide in the liquid reaction medium is reduced to minimize or even eliminate portions of the reaction volume where the carbonylation reaction cannot occur and / or sufficient to be consumed in the carbonylation reaction after the carbon monoxide is dissolved in the liquid phase. There is still a need for a reactor configuration that achieves good mixing to minimize or even eliminate carbon monoxide emissions through the surface of the liquid reaction medium at or near the top of the reactor prior to having a residence time.

본 실용신안이 해결하고자 하는 종래 기술과 관련된 기술적 문제들은 열악한 기체/액체 혼합 결과들 및 액체 반응 매체에서의 열악한 기체 체류 시간이다. 본 실용신안에 의해 제공되는 반응기는, 양호한 기체/액체 혼합을 달성하고 또한 액체 반응 매체에 용해된 기체 및 기상의 체류 시간을 최대화하려는 것이다.The technical problems associated with the prior art to be solved by this utility model are poor gas / liquid mixing results and poor gas residence time in the liquid reaction medium. The reactor provided by this utility model is intended to achieve good gas / liquid mixing and also maximize residence time of gas and gas phase dissolved in the liquid reaction medium.

전술한 기술적 문제들을 해결하기 위해서, 본 실용신안의 기술적 스키마는 유체역학 반응기의 유형을 포함하고, 상기 반응기는 원통형부 (1), 상부 인클로저 (2) 및 하부 인클로저 (3) 를 포함하는 수직방향 원통형 구성체이고, 상기 하부 인클로저 (3) 는 하방으로 연장되는 만곡된 인클로저이며, 상기 반응기는 액체 입구 (4), 액체 노즐 (5), 기체 출구 (6), 배플 (7), 기체 입구 (8), 기체 분배기 (9), 및 액체 출구 (10) 를 포함하고:In order to solve the above technical problems, the technical schema of the utility model includes a type of hydrodynamic reactor, wherein the reactor includes a cylindrical portion 1, an upper enclosure 2 and a lower enclosure 3 in the vertical direction. Cylindrical construction, the lower enclosure 3 is a curved enclosure extending downward, and the reactor comprises a liquid inlet 4, a liquid nozzle 5, a gas outlet 6, a baffle 7, a gas inlet 8 ), A gas distributor (9), and a liquid outlet (10):

- 상기 액체 입구 (4) 는, 상기 반응기의 상부에 위치되고, 그리고 상기 반응기의 원통형부 (1) 의 상부에서 또는 그 근방에서 반경방향 중심에 위치되고 또한 액체를 하방 방향으로 배출하도록 구성된 액체 노즐 (5) 에 연결되며;-The liquid inlet (4) is located at the top of the reactor, and at the top of or near the cylindrical portion of the reactor (1), a radial center and a liquid nozzle configured to discharge the liquid in a downward direction (5);

- 상기 기체 출구 (6) 는 상기 반응기의 상기 상부 인클로저에 위치되고;-The gas outlet 6 is located in the upper enclosure of the reactor;

- 상기 배플 (7) 은 상기 반응기의 상기 하부 인클로저 (3) 에서 반경방향 중심에 위치되고, 상기 배플 (7) 은 수평방향 베이스 요소 (11), 상기 베이스 요소 (11) 에 대하여 상방으로 연장되는 수직방향 주변 벽 (12), 및 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 와 수직방향 주변 벽 (12) 을 연결하는 각진 주변 벽 (13) 을 포함하며;-The baffle (7) is located in a radial center in the lower enclosure (3) of the reactor, the baffle (7) extends upwardly with respect to the horizontal base element (11), the base element (11) A vertical peripheral wall (12), and an angled peripheral wall (13) connecting the horizontal base element (11) and the vertical peripheral wall (12);

- 상기 기체 입구 (8) 는 상기 반응기의 하부에 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 에 연결되고;-The gas inlet (8) is located at the bottom of the reactor and is connected to the gas distributor (9);

- 상기 기체 분배기 (9) 는: 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽에 의해 그려진 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 보다 더 낮지 않고 또한 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부보다 높지 않은 위치에 수직방향으로 위치되고; 또는 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽에 의해 그려진 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부 위에 수직하게 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 가 상기 배플 (7) 내에 규정된 체적 쪽으로 기체를 배출하도록 구성되며;-The gas distributor 9 is: radially centered in a diameter drawn by the vertical peripheral wall of the baffle 7 and not lower than the horizontal base element 11 and also the vertical peripheral wall 12 Vertically located at a position not higher than the upper portion of the; Or in a diameter drawn by the vertical peripheral wall of the baffle (7) radially centered and vertically above the top of the vertical peripheral wall (12) and the gas distributor (9) in the baffle (7) Configured to expel gas towards a defined volume;

- 액체 출구 (10) 는 반응기의 하부 인클로저 (3) 의 하부에서 반경방향 중심에 위치되고;-The liquid outlet 10 is located in the radial center at the bottom of the lower enclosure 3 of the reactor;

- 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는, 1.5:1 ~ 1:3 의 범위이고, 반응기의 전체 높이 (C) 에 대한 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 의 비는 1:1 ~ 1:3 의 범위이며;-The ratio of the diameter (D) of the cylindrical portion (1) of the reactor to the height (B) of the cylindrical portion (1) of the reactor is in the range of 1.5: 1 to 1: 3, and the overall height (C) of the reactor The ratio of the height B of the cylindrical portion 1 of the reactor to the range of 1: 1 to 1: 3;

- 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경 (N) 의 비는 0.3:1 ~ 0.95:1 의 범위이고, 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 높이 (J) 의 비는 1:15 ~ 1:5 의 범위이고;The ratio of the radius N of the horizontal base element 11 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 is in the range of 0.3: 1 to 0.95: 1 , The ratio of the height J of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 is in the range of 1:15 to 1: 5 ;

- 배플 (7) 은, 수직방향 주변 벽 (12) 과 각진 주변 벽 (13) 이 만나는 가장자리와 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 1 갭 (K) 이 제공되도록 그리고 각진 주변 벽 (13) 과 수평방향 베이스 요소 (11) 가 만나는 가장자리와 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 2 갭 (L) 이 제공되도록 위치되며, 제 1 갭 (K) 의 거리에 대한 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 80:1 의 범위이고, 제 2 갭 (L) 의 거리에 대한 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 80:1 의 범위이다. The baffle 7 is provided so that a first gap K is provided between the edge where the vertical peripheral wall 12 and the angled peripheral wall 13 meet and the inner surface of the lower enclosure 3 and the angled peripheral wall 13 ) And the cylindrical portion of the reactor relative to the distance of the first gap (K), which is positioned to provide a second gap (L) between the edge where the horizontal base element (11) meets and the inner surface of the lower enclosure (3). The ratio of the diameter D of 1) ranges from 10: 1 to 80: 1, and the ratio of the diameter D of the cylindrical portion 1 of the reactor to the distance of the second gap L is 10: 1 to 80: 1. 80: 1.

바람직한 배열에 있어서, 기체 분배기 (9) 는 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 위에 그리고 주변 벽 (12) 의 상부 아래에 수직방향으로 위치된다.In a preferred arrangement, the gas distributor 9 is positioned vertically above the horizontal base element 11 of the baffle 7 and below the top of the peripheral wall 12.

바람직한 배열에 있어서, 기체 분배기 (9) 는 링 유형의 기체 분배기이다. 링 유형의 기체 분배기라는 용어에는, 이중 링 유형의 기체 분배기들 및 링 유형의 기체 분배기들의 다른 다중 링 형상들이 포함된다.In a preferred arrangement, the gas distributor 9 is a ring type gas distributor. The term ring type gas distributor includes double ring type gas distributors and other multiple ring shapes of ring type gas distributors.

다른 특별한 실시형태에 있어서, 기체 분배기 (9) 는 링 유형의 기체 분배기이고, 기체 분배기 (9) 의 반경 (M) 은, 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경 (N) 보다 크고 그리고 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 보다 작다.In another particular embodiment, the gas distributor 9 is a ring-type gas distributor, and the radius M of the gas distributor 9 is greater than the radius N of the horizontal base element 11 of the baffle 7 Big and smaller than the radius O of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7.

다른 특별한 실시형태에 있어서, 기체 분배기 (9) 는 링 유형의 기체 분배기이고, 기체 분배기 (9) 의 반경 (M) 은, 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경 (N) 보다 작고 그리고 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 보다 작다.In another particular embodiment, the gas distributor 9 is a ring-type gas distributor, and the radius M of the gas distributor 9 is greater than the radius N of the horizontal base element 11 of the baffle 7 It is small and smaller than the radius O of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7.

또 다른 특별한 실시형태에 있어서, 기체 분배기 (9) 는 링 유형의 기체 분배기이고, 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 에 대한 기체 분배기 (9) 의 반경 (M) 의 비는 0.75:1 ~ 0.95:1 의 범위이다.In another particular embodiment, the gas distributor 9 is a ring-type gas distributor, and the ratio of the radius M of the gas distributor 9 to the radius O of the vertical peripheral wall 12 is 0.75: 1 to 0.95: 1.

바람직한 배열에 있어서, 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 에 대한 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 위로의 기체 분배기 (9) 의 높이 (E) 의 비는 0.15:1 ~ 0.5:1 의 범위이다.In a preferred arrangement, the ratio of the height E of the gas distributor 9 over the horizontal base element 11 of the baffle 7 to the radius O of the vertical peripheral wall 12 is from 0.15: 1 to 0.5: 1.

바람직한 배열에 있어서, 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 는 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로 제 1 거리 (H) 에 위치되고, 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부는 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로 제 2 거리 (I) 에 위치되며, 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 제 1 거리 (H) 의 비는 0.15:1 ~ 0.5:1 의 범위이고, 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 제 2 거리 (I) 의 비는 0.1:1 ~ 0.3:1 범위이다.In a preferred arrangement, the horizontal base element 11 of the baffle 7 is located at a first distance H below the lower part of the cylindrical part 1 of the reactor, and the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 ) Is located at a second distance (I) below the lower part of the cylindrical part (1) of the reactor, and the ratio of the first distance (H) to the height (B) of the cylindrical part (1) of the reactor is 0.15: It is in the range of 1 to 0.5: 1, and the ratio of the second distance I to the height B of the cylindrical portion 1 of the reactor is in the range of 0.1: 1 to 0.3: 1.

바람직한 배열에 있어서, 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 에 대한 액체 노즐 (5) 의 직경 (G) 의 비는 1:100 ~ 1:5 의 범위이고, 액체 노즐 (5) 은 반응기의 원통형부 (1) 의 상부 아래로 거리 (A) 에 위치되며, 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 거리 (A) 의 비는 1:10 ~ 1:2.5 의 범위이다.In a preferred arrangement, the ratio of the diameter G of the liquid nozzle 5 to the diameter D of the cylindrical portion 1 of the reactor ranges from 1: 100 to 1: 5, and the liquid nozzle 5 is a reactor Located at a distance A below the upper portion of the cylindrical portion 1, the ratio of the distance A to the height B of the cylindrical portion 1 of the reactor ranges from 1:10 to 1: 2.5.

바람직한 배열에 있어서, 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 에 대한 액체 출구 (10) 의 직경 (F) 의 비는 1:20 ~ 1:5 의 범위이다.In a preferred arrangement, the ratio of the diameter F of the liquid outlet 10 to the diameter D of the cylindrical portion 1 of the reactor ranges from 1:20 to 1: 5.

바람직한 배열에 있어서, 상부 인클로저 (2) 는 상방으로 연장되는 반구형 인클로저이고, 하부 인클로저 (3) 는 하방으로 연장되는 반구형 인클로저이다.In a preferred arrangement, the upper enclosure 2 is a hemispherical enclosure extending upwards, and the lower enclosure 3 is a hemispherical enclosure extending downwards.

본 실용신안에 의하여, 액체 분무 모듈의 하방 분무 방향은 액체 반응 매체내에서 기체 유동의 자연스러운 상방 방향의 반대 방향이다. 액체의 하방 유동으로 인하여, 기체 분배기로부터 방출된 기체의 적어도 일부는 배플로의 액체의 유동에 운반되고, 그 후 배플에 충돌하는 상기 액체는 액체의 유동에서 기체 분배기로부터 방출된 기체 (기포들 또는 용해됨) 를 운반하는 상방 방향으로 편향된다. 액체 반응 매체는 반응기의 하부에 위치된 액체 출구를 통하여 반응기로부터 제거된다. 반응기에 도입된 액체의 하방 유동, 배플의 위치와 형상, 및 액체 출구의 위치의 배열로 인하여, 반응기에 걸쳐 양호한 기체/액체 혼합을 달성하게 된다. 전술한 액체 분무 모듈의 액상 분무는 수직방향으로 하방으로 분무되면, 감소된 파이프는 유동 속도 (flow velocity) 에 있어서 증가를 유발하고; 전술한 기체 분배기는 바람직하게는 링 유형의 기체 분배기이고, 이는 서로 동일한 거리들로 균일하게 이격된 통기구들을 가지며, 이 통기구들은 기상의 균일한 분배를 조장한다. 배플의 효과들과 함께 기상 분배 충전 그리고 액상 분무 충전하는 접근법들을 조합함으로써, 본 실용신안은 반응 체적을 최대화하고 반응기내에서 효과적인 기체/액체 혼합을 달성하여, 기계적인 혼합으로 발생하는 불안정한 문제들을 해소하고 그리고 반응기내의 소위 사영역들 (dead zones) 을 저감시킨다. 본 실용신안이 관련된 유체역학 반응기는, 로듐 또는 이리듐 기재의 촉매 시스템의 존재하에서 메탄올 및/또는 이의 반응 유도체의 카르보닐화에 의해 아세트산의 액상 제조시에 사용하기 위한 것이고, 그리고 고생산성 아세트산 및 일산화탄소의 고전환을 달성할 수 있도록 한다.With this utility model, the downward spray direction of the liquid spray module is the opposite direction of the natural upward direction of gas flow in the liquid reaction medium. Due to the downward flow of the liquid, at least a portion of the gas released from the gas distributor is carried in the flow of the liquid in the baffle, and then the liquid impinging on the baffle is the gas released from the gas distributor in the flow of the liquid (bubbles or Dissolved) is deflected upward. The liquid reaction medium is removed from the reactor through a liquid outlet located at the bottom of the reactor. Due to the arrangement of the downward flow of liquid introduced into the reactor, the position and shape of the baffle, and the position of the liquid outlet, good gas / liquid mixing is achieved across the reactor. When the liquid spray of the above-described liquid spray module is sprayed downward in the vertical direction, the reduced pipe causes an increase in flow velocity; The aforementioned gas distributor is preferably a ring type gas distributor, which has uniformly spaced vents at equal distances from each other, which promotes uniform distribution of the gas phase. By combining vapor distribution and liquid spray filling approaches with the effects of baffles, this utility model maximizes the reaction volume and achieves effective gas / liquid mixing in the reactor, solving the unstable problems caused by mechanical mixing. And reduce so-called dead zones in the reactor. The hydrodynamic reactor to which this utility model relates is intended for use in the liquid phase production of acetic acid by carbonylation of methanol and / or its reaction derivatives in the presence of a catalyst system based on rhodium or iridium, and highly productive acetic acid and carbon monoxide To achieve high conversion.

도 1 은 본 실용신안의 반응기의 측면 입면도를 통한 단면의 그래픽 도면이다.
도 2 는 배플 및 기체 분배기 배열의 상부 입면도의 그래픽 도면이다.
1 is a graphic diagram of a cross section through a side elevation of the reactor of the utility model.
2 is a graphical view of the top elevation of the baffle and gas distributor arrangement.

도 1 및 도 2 에서, 도면부호 1 은 반응기의 원통형부, 도면부호 2 는 반응기의 상부 인클로저, 도면부호 3 은 반응기의 하부 인클로저, 도면부호 4 는 액체 입구, 도면부호 5 는 액체 노즐, 도면부호 6 은 기체 출구, 도면부호 7 은 배플, 도면부호 8 은 기체 입구, 도면부호 9 는 기체 분배기, 도면부호 10 은 액체 출구, 도면부호 11 은 배플의 수평방향 베이스 요소, 도면부호 12 는 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽, 도면부호 13 은 배플 (7) 의 각진 주변 벽, 도면부호 A 는 액체 노즐 (5) 이 원통형부 (1) 의 상부 아래에 위치된 거리, 도면부호 B 는 원통형부 (1) 의 높이, 도면부호 C 는 반응기의 전체 높이, 도면부호 D 는 원통형부 (1) 의 직경, 도면부호 E 는 수평방향 베이스 요소 (11) 위로의 기체 분배기 (9) 의 높이, 도면부호 F 는 액체 출구 (10) 의 직경, 도면부호 G 는 액체 노즐 (5) 의 직경, 도면부호 H 는 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로의 제 1 거리, 도면부호 I 는 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로의 제 2 거리, 도면부호 J 는 수직방향 주변 벽 (12) 의 높이, 도면부호 K 는 수직방향 주변 벽 (12) 과 각진 주변 벽 (13) 이 만나는 가장자리와 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이의 제 1 갭, 도면부호 L 은 각진 주변 벽 (12) 과 수평방향 베이스 요소 (13) 가 만나는 가장자리와 하부 인클로저의 내부 표면 사이의 제 2 갭, 도면부호 M 은 기체 분배기 (9) 의 반경, 도면부호 N 은 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경, 도면부호 O 는 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경이다.1 and 2, reference numeral 1 is a cylindrical part of the reactor, reference numeral 2 is an upper enclosure of the reactor, reference numeral 3 is a lower enclosure of the reactor, reference numeral 4 is a liquid inlet, reference numeral 5 is a liquid nozzle, and reference numerals. 6 is gas outlet, 7 is baffle, 8 is gas inlet, 9 is gas distributor, 10 is liquid outlet, 11 is the horizontal base element of the baffle, 12 is baffle (7 ), The peripheral wall of the vertical direction, 13 is the angled peripheral wall of the baffle 7, A is the distance the liquid nozzle 5 is located below the top of the cylindrical part 1, B is the cylindrical part ( The height of 1), reference C is the overall height of the reactor, reference D is the diameter of the cylindrical part 1, reference E is the height of the gas distributor 9 over the horizontal base element 11, reference F Is the diameter of the liquid outlet 10, reference G is liquid The diameter of the nozzle 5, reference H is the first distance down the bottom of the cylindrical part 1 of the reactor, reference I is the second distance down the bottom of the cylindrical part 1 of the reactor, reference J Is the height of the vertical peripheral wall 12, reference K is the first gap between the edge where the vertical peripheral wall 12 and the angled peripheral wall 13 meet and the inner surface of the lower enclosure 3, reference L Is the second gap between the inner surface of the lower enclosure and the edge where the angled peripheral wall 12 and the horizontal base element 13 meet, reference M is the radius of the gas distributor 9, reference N is the horizontal base element The radius of (11), reference numeral O is the radius of the vertical peripheral wall (12).

본 실용신안이 관련된 반응기는, 원통형부 (1), 상부 인클로저 (2) 및 하부 인클로저 (3) 를 포함하는 반응기; 액체 노즐 (5) 에 연결된 액체 입구 (4); 기체 출구 (6); 수평방향 베이스 요소 (11), 수직방향 주변 벽 (12) 및 각진 주변 벽 (13) 을 포함하는 배플 (7); 기체 분배기 (9) 에 연결된 기체 입구 (8); 및 액체 출구 (10) 로 주로 구성된다. 카르보닐화 공정에 반응기를 사용하는 동안, 이 반응기는 액체 노즐 (5) 의 출구 위의 레벨까지, 통상적으로 반응기의 원통형부 (1) 의 상부까지 액체 반응 매체로 충전된다. 액체 반응물 (reactant), 예를 들어 메탄올 및/또는 이의 반응 유도체를 포함하는 스트림 액체 반응 매체는, 스트림이 배플 (7) 에 충돌하도록 액체 노즐 (5) 로부터 하방 유동으로 반응기에 진입한다. 기체 반응물, 예를 들어 일산화탄소는 배플 (7) 위에 위치된 기체 분배기 (9) 를 통하여 반응기에 진입한다. 액체 반응 매체의 하방 스트림은, 기체 반응물이 반응기에 도입되고 그리고 액체 반응 매체의 스트림의 유동이 기체 반응물의 적어도 일부를 이 유동에서 픽업하는 영역을 통하여 유동하고, 그 후 상기 스트림은 배플 (7) 에 충돌한다. 배플 (7) 에 충돌하는 액체 반응 매체의 스트림은, 그리하여 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 를 가로질러 그리고 배플 (7) 의 각진 주변 벽 (13) 의 각도와 수직방향 주변 벽 (12) 을 통하여 상방으로 편향되어, 실질적인 후방 혼합을 형성하고 그리고 액체 반응 매체내에서 기체 반응물의 체류 시간을 증가시킨다. 액체 및 기체는 배플 (7) 에 충돌하는 액체 반응 매체의 전술한 하방 유동으로 인해 배플 (7) 위의 반응기 부분에 걸쳐서 혼합 및 순환된다. 반응 생성물들, 예를 들어 카르보닐화 반응의 생성물들을 포함하는 액체 반응 매체는, 반응기의 하부에 위치된 액체 출구 (10) 를 통하여 반응기로부터 인출된다. 배플 (7) 아래에 위치된 액체 출구 (10) 를 통하여 액체 반응 매체를 연속 인출하는 것은, 레벨 제어를 통하여 반응기의 원통형부 (1) 의 상부에서 일정한 액체 레벨을 유지하고, 액체 노즐 (5) 을 침지시켜 유지하며, 그리고 반응기내에 기체 반응물을 함유한 액체 반응 매체의 순환을 형성한다. 일산화탄소 반응물이 감소되고 반응이 일어나지 않는 반응기에서 사 지점들 (dead spots) 이 없도록 또한 과혼합이 발생하지 않도록 전체 반응기에 걸쳐서 완전한 혼합을 보장하도록, 액체 노즐 (5) 을 통하여 반응기에 유입하는 액체의 비율 (rate) 은 조절될 수 있고 뿐만 아니라 배플 (7), 기체 분배기 (9) 및 액체 노즐 (5) 의 위치들도 설정될 수 있다. "과혼합" 이라는 용어는, 반응기에서 액체 반응 매체의 표면이 광범위하게 교반되거나 휘젓게 되는 정도의 기체 및 액체의 혼합을 의미하고, 이러한 과혼합은 반응기에 공급된 기체 반응물이, 반응기의 액상내에 용해되도록 하는 시간없이, 액체 반응 매체의 표면을 통하여 빠져나가는 비율이 증가되게 한다. 기체 출구 (6) 를 통한 기체의 통기는 반응기내의 압력을 제어하는데 사용될 수 있다.The reactor related to the utility model includes a reactor including a cylindrical portion 1, an upper enclosure 2 and a lower enclosure 3; A liquid inlet 4 connected to the liquid nozzle 5; Gas outlet 6; A baffle (7) comprising a horizontal base element (11), a vertical peripheral wall (12) and an angled peripheral wall (13); A gas inlet 8 connected to a gas distributor 9; And a liquid outlet (10). During the use of the reactor in the carbonylation process, the reactor is filled with a liquid reaction medium to a level above the outlet of the liquid nozzle 5, typically up to the top of the cylindrical portion 1 of the reactor. A stream liquid reaction medium comprising a liquid reactant, for example methanol and / or a reaction derivative thereof, enters the reactor at a downward flow from the liquid nozzle 5 so that the stream strikes the baffle 7. A gaseous reactant, for example carbon monoxide, enters the reactor through a gas distributor 9 located above the baffle 7. The downstream stream of the liquid reaction medium flows through an area where gaseous reactants are introduced into the reactor and the flow of the stream of liquid reaction medium picks up at least a portion of the gaseous reactant from this flow, after which the stream is baffle (7) Crashes on. The stream of liquid reaction medium impinging on the baffle 7 is thus transverse to the horizontal base element 11 of the baffle 7 and to the angle of the angled peripheral wall 13 of the baffle 7 and the vertical peripheral wall ( Deflected upward through 12) to form substantial back mixing and increase residence time of gaseous reactants in the liquid reaction medium. The liquid and gas are mixed and circulated over the reactor portion above the baffle 7 due to the aforementioned downward flow of the liquid reaction medium impinging on the baffle 7. The reaction product, for example a liquid reaction medium comprising products of the carbonylation reaction, is withdrawn from the reactor through a liquid outlet 10 located at the bottom of the reactor. Continuous withdrawal of the liquid reaction medium through the liquid outlet 10 located under the baffle 7 maintains a constant liquid level at the top of the cylindrical portion 1 of the reactor through level control, and the liquid nozzle 5 Is maintained by immersion, and forms a circulation of a liquid reaction medium containing gaseous reactants in the reactor. The flow of liquid entering the reactor through the liquid nozzle 5 is ensured to ensure complete mixing over the entire reactor such that there are no dead spots in the reactor where the carbon monoxide reactant is reduced and no reaction occurs and no overmixing occurs. The rate can be adjusted as well as the positions of the baffle 7, gas distributor 9 and liquid nozzle 5. The term " overmixing " refers to the mixing of gas and liquid to the extent that the surface of the liquid reaction medium in the reactor is agitated or stirred extensively. Without time to dissolve, the rate of escape through the surface of the liquid reaction medium is increased. Aeration of gas through the gas outlet 6 can be used to control the pressure in the reactor.

이하의 실시들은 본 실용신안의 보다 상세한 설명을 제공한다.
The following implementations provide a more detailed description of this utility model.

특별한 실시 1 과 실시 2Special implementation 1 and implementation 2

전술한 바와 같은 특징들 전부를 가지고 도 1 및 도 2 에 도시된 바와 같이 구성되며 그리고 일산화탄소와 메탄올의 카르보닐화에 의한 아세트산을 제조하기 위한 공정에서 표 1 에 후술되는 바와 같은 치수들을 가진 유체역학 반응기의 사용을 통하여, 반응기내의 액체 반응 매체의 국부화된 체적들에서 일산화탄소가 감소되지 않으면서, 양호한 기체/액체 혼합을 쉽게 달성할 수 있고, 그리하여 반응에 공급된 일산화탄소 및 이용가능한 반응기의 체적의 효율적인 사용을 보장해준다.Hydrodynamics with all of the features described above and constructed as shown in FIGS. 1 and 2 and having the dimensions as described below in Table 1 in a process for producing acetic acid by carbonylation of carbon monoxide and methanol. Through the use of the reactor, good gas / liquid mixing can be easily achieved without reducing carbon monoxide in the localized volumes of the liquid reaction medium in the reactor, so that the carbon monoxide fed to the reaction and the volume of available reactor It ensures efficient use.

Figure 112015029961276-utm00001
Figure 112015029961276-utm00001

Claims (10)

일 유형의 유체역학 반응기로서, 상기 유체역학 반응기는 원통형부 (1), 상부 인클로저 (2) 및 하부 인클로저 (3) 를 포함하는 수직방향 원통형 구성체이고, 상기 하부 인클로저 (3) 는 하방으로 연장되는 만곡된 인클로저이며, 상기 유체역학 반응기는 액체 입구 (4), 액체 노즐 (5), 기체 출구 (6), 배플 (7), 기체 입구 (8), 기체 분배기 (9), 및 액체 출구 (10) 를 포함하고:
- 상기 액체 입구 (4) 는, 상기 유체역학 반응기의 상부에 위치되고, 그리고 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 상부에서, 또는 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 상부 아래로 거리 (A) 에서 반경방향 중심에 위치된 액체 노즐 (5) 에 연결되고, 상기 액체 노즐 (5) 은 액체를 하방 방향으로 배출하도록 구성되고;
- 상기 기체 출구 (6) 는 상기 유체역학 반응기의 상기 상부 인클로저에 위치되고;
- 상기 배플 (7) 은 상기 유체역학 반응기의 상기 하부 인클로저 (3) 에서 반경방향 중심에 위치되고, 상기 배플 (7) 은 수평방향 베이스 요소 (11), 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 에 대하여 상방으로 연장되는 수직방향 주변 벽 (12), 및 수평방향 베이스 요소 (11) 와 수직방향 주변 벽 (12) 을 연결하는 각진 주변 벽 (13) 을 포함하며;
- 상기 기체 입구 (8) 는 상기 유체역학 반응기의 하부에 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 에 연결되고;
- 상기 기체 분배기 (9) 는: 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 에 의해 그려진 (described) 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 보다 더 낮지 않고 또한 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부보다 높지 않은 위치에서 수직방향으로 위치되고; 또는 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 에 의해 그려진 직경내에 반경방향 중심에 그리고 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부 위에 수직하게 위치되고 그리고 상기 기체 분배기 (9) 가 상기 배플 (7) 내에 규정된 체적 쪽으로 기체를 배출하도록 구성되며;
- 상기 액체 출구 (10) 는 상기 유체역학 반응기의 상기 하부 인클로저 (3) 의 하부에서 반경방향 중심에 위치되고;
- 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는, 1.5:1 ~ 1:3 의 범위이고, 상기 유체역학 반응기의 전체 높이 (C) 에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 의 비는 1:1 ~ 1:3 의 범위이며;
- 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 상기 배플 (7) 의 수평방향 베이스 요소 (11) 의 반경 (N) 의 비는 0.3:1 ~ 0.95:1 의 범위이고, 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (0) 에 대한 상기 배플 (7) 의 수직방향 주변 벽 (12) 의 높이 (J) 의 비는 1:15 ~ 1:5 의 범위이고;
- 상기 배플 (7) 은, 상기 수직방향 주변 벽 (12) 과 상기 각진 주변 벽 (13) 이 만나는 가장자리와 상기 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 1 갭 (K) 이 제공되도록 그리고 상기 각진 주변 벽 (13) 과 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 가 만나는 가장자리와 상기 하부 인클로저 (3) 의 내부 표면 사이에 제 2 갭 (L) 이 제공되도록 위치되며, 상기 제 1 갭 (K) 의 거리에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 60:1 의 범위이고, 상기 제 2 갭 (L) 의 거리에 대한 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 의 비는 10:1 ~ 80:1 범위인, 유체역학 반응기.
As a type of hydrodynamic reactor, the hydrodynamic reactor is a vertical cylindrical configuration comprising a cylindrical portion (1), an upper enclosure (2) and a lower enclosure (3), the lower enclosure (3) extending downward A curved enclosure, wherein the hydrodynamic reactor comprises a liquid inlet (4), a liquid nozzle (5), a gas outlet (6), a baffle (7), a gas inlet (8), a gas distributor (9), and a liquid outlet (10) ) Contains:
-The liquid inlet (4) is located at the top of the hydrodynamic reactor, and the distance from the top of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor, or below the top of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor Connected to a liquid nozzle 5 located in the radial center at (A), said liquid nozzle 5 being configured to discharge the liquid in a downward direction;
-The gas outlet (6) is located in the upper enclosure of the hydrodynamic reactor;
-The baffle (7) is located radially centered in the lower enclosure (3) of the hydrodynamic reactor, the baffle (7) is relative to the horizontal base element (11), the horizontal base element (11) A vertical peripheral wall (12) extending upwardly, and an angled peripheral wall (13) connecting the horizontal base element (11) and the vertical peripheral wall (12);
-The gas inlet (8) is located at the bottom of the hydrodynamic reactor and connected to the gas distributor (9);
-The gas distributor 9 is: radially centered within the diameter described by the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 and not lower than the horizontal base element 11 and also vertically Direction is located vertically at a position not higher than the top of the peripheral wall 12; Or in a diameter drawn by the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 and located vertically in the radial center and above the vertical peripheral wall 12 and the gas distributor 9 is connected to the baffle ( 7) configured to expel gas towards the volume defined within;
-The liquid outlet (10) is located in the radial center at the bottom of the lower enclosure (3) of the hydrodynamic reactor;
The ratio of the diameter (D) of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor to the height (B) of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor is in the range of 1.5: 1 to 1: 3, and the fluid The ratio of the height B of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor to the total height C of the dynamics reactor ranges from 1: 1 to 1: 3;
The ratio of the radius N of the horizontal base element 11 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 is from 0.3: 1 to 0.95: 1. Range, and the ratio of the height J of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 to the radius 0 of the vertical peripheral wall 12 of the baffle 7 is 1:15 to 1: In the range of 5;
-The baffle (7) is such that a first gap (K) is provided between the edge where the vertical peripheral wall (12) and the angled peripheral wall (13) meet and the inner surface of the lower enclosure (3); and The second gap (L) is positioned between the angled peripheral wall (13) and the edge where the horizontal base element (11) meets and the inner surface of the lower enclosure (3), and the first gap (K) The ratio of the diameter D of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor to the distance ranges from 10: 1 to 60: 1, and the cylindrical portion of the hydrodynamic reactor to the distance of the second gap L The ratio of diameter (D) of (1) is in the range of 10: 1 to 80: 1, hydrodynamic reactor.
제 1 항에 있어서,
상기 기체 분배기 (9) 는 상기 배플 (7) 의 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 위에 그리고 상기 주변 벽 (12) 의 상부 아래에 수직방향으로 위치되는, 유체역학 반응기.
According to claim 1,
The gas distributor (9) is positioned vertically above the horizontal base element (11) of the baffle (7) and below the top of the peripheral wall (12).
제 1 항에 있어서,
상기 기체 분배기 (9) 는 링 유형의 기체 분배기인, 유체역학 반응기.
According to claim 1,
The gas distributor 9 is a ring type gas distributor, a hydrodynamic reactor.
제 3 항에 있어서,
상기 기체 분배기 (9) 의 반경 (M) 은 상기 배플 (7) 의 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 보다 작은, 유체역학 반응기.
The method of claim 3,
The hydrodynamic reactor, wherein the radius (M) of the gas distributor (9) is smaller than the radius (O) of the vertical peripheral wall (12) of the baffle (7).
제 3 항에 있어서,
상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 에 대한 상기 기체 분배기 (9) 의 반경 (M) 의 비는 0.75:1 ~ 0.95:1 의 범위인, 유체역학 반응기.
The method of claim 3,
The ratio of the radius (M) of the gas distributor (9) to the radius (O) of the vertical peripheral wall (12) ranges from 0.75: 1 to 0.95: 1, hydrodynamic reactor.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 반경 (O) 에 대한 상기 배플 (7) 의 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 위에 상기 기체 분배기 (9) 의 높이 (E) 의 비는 0.15:1 ~ 0.5:1 의 범위인, 유체역학 반응기.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The ratio of the height E of the gas distributor 9 on the horizontal base element 11 of the baffle 7 to the radius O of the vertical peripheral wall 12 is 0.15: 1 to 0.5: Hydrodynamic reactor, in the range of 1.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배플 (7) 의 상기 수평방향 베이스 요소 (11) 는 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로 제 1 거리 (H) 에 위치되고, 상기 배플 (7) 의 상기 수직방향 주변 벽 (12) 의 상부는 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 하부 아래로 제 2 거리 (I) 에 위치되며, 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 상기 제 1 거리 (H) 의 비는 0.15:1 ~ 0.5:1 의 범위이고, 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 상기 제 2 거리 (I) 의 비는 0.1:1 ~ 0.3:1 범위인, 유체역학 반응기.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The horizontal base element 11 of the baffle 7 is located at a first distance H below the lower portion of the cylindrical part 1 of the hydrodynamic reactor, the vertical peripheral wall of the baffle 7 The upper part of (12) is located at a second distance (I) below the lower part of the cylindrical part (1) of the hydrodynamic reactor, the first with respect to the height (B) of the cylindrical part (1) of the hydrodynamic reactor The ratio of the distance H is in the range of 0.15: 1 to 0.5: 1, and the ratio of the second distance I to the height B of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor is 0.1: 1 to 0.3 Hydrodynamic reactor in the: 1 range.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 에 대한 상기 액체 노즐 (5) 의 직경 (G) 의 비는 1:100 ~ 1:5 의 범위이고, 상기 액체 노즐 (5) 은 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 상부 아래로 거리 (A) 에 위치되며, 상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 높이 (B) 에 대한 거리 (A) 의 비는 1:10 ~ 1:2.5 의 범위인, 유체역학 반응기.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The ratio of the diameter G of the liquid nozzle 5 to the diameter D of the cylindrical portion 1 of the hydrodynamic reactor ranges from 1: 100 to 1: 5, and the liquid nozzle 5 is the The ratio of the distance (A) to the height (B) of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor is located at a distance (A) above and below the upper portion of the hydrodynamic reactor (1) to 1 Hydrodynamic reactor, in the range of: 2.5.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유체역학 반응기의 원통형부 (1) 의 직경 (D) 에 대한 상기 액체 출구 (10) 의 직경 (F) 의 비는 1:20 ~ 1:5 의 범위인, 유체역학 반응기.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The ratio of the diameter (F) of the liquid outlet (10) to the diameter (D) of the cylindrical portion (1) of the hydrodynamic reactor is in the range of 1:20 to 1: 5, hydrodynamic reactor.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 상부 인클로저 (2) 는 상방으로 연장되는 반구형 인클로저이고, 상기 하부 인클로저 (3) 는 하방으로 연장되는 반구형 인클로저인, 유체역학 반응기.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The upper enclosure 2 is a hemispherical enclosure extending upwards, and the lower enclosure 3 is a hemispherical enclosure extending downwards, a hydrodynamic reactor.
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