KR200489588Y1 - Surgical implant for transsphenoidal approach - Google Patents

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KR200489588Y1
KR200489588Y1 KR2020170004955U KR20170004955U KR200489588Y1 KR 200489588 Y1 KR200489588 Y1 KR 200489588Y1 KR 2020170004955 U KR2020170004955 U KR 2020170004955U KR 20170004955 U KR20170004955 U KR 20170004955U KR 200489588 Y1 KR200489588 Y1 KR 200489588Y1
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Abstract

본 고안은 경접형동 접근법 수술용 임플란트에 관한 것이다.
이를 위하여, 본 고안은 접형골의 결손이 발생된 부분에 접형골의 골재생을 유도하는 골재건 이식재가 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 고안은 뇌하수체 종양 제거를 포함한 기타 두개골 수술 시 발생하는 접형골의 결손 부분에 골재건 이식재 또는 뇌경막 이식재가 선택적으로 구비되도록 함으로서 접형골의 골재생을 유도하거나 뇌척수액이 누수되는 것을 방지하여 뇌척수액의 누수에 의해 나타나는 감염, 부작용 등을 적극적으로 방지하여 환자의 고통 및 불편을 경감시킬 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to surgical implants in a transversal approach.
For this purpose, the present invention is characterized in that an aggregate material graft material for guiding the bone regeneration of the sphenoid bone is provided at a portion where the sphenoid bone defect is generated.
Therefore, the present design is to selectively provide bone graft or bone graft material to the defect of the sphenoidal bone during the operation of other cranial bones including pituitary tumor removal, thereby inducing bone regeneration of the sphenoid bone or preventing leaking of the cerebrospinal fluid, The present invention provides a method for preventing a patient suffering from an infection or a side effect caused by a cancer.

Description

경접형동 접근법 수술용 임플란트{SURGICAL IMPLANT FOR TRANSSPHENOIDAL APPROACH}[0001] SURGICAL IMPLANT FOR TRANSSPHENOIDAL APPROACH [0002]

본 고안은 경접형동 접근법(Transsphenoidal approach, TSA) 수술 시 사용되는 이식용 임플란트로서, 뇌하수체 종양 제거를 포함한 기타 두개골 수술시 발생하는 접형골의 재건과 뇌척수액의 누수 방지를 위해 적용하는 수술용 임플란트에 관한 것이다. The present invention relates to a surgical implant for use in transsphenoidal approach (TSA) surgery, which is applied for reconstruction of sphenoid bone and leakage of cerebrospinal fluid caused by other cranial surgery including pituitary tumor removal .

일반적으로 뇌하수체 종양의 수술 방법은 코를 통해 수술하는 경접형동 뇌하수체 종양 절제술과 두개골을 열고 뇌 안쪽으로 접근하는 경두개 접근법으로 구분된다. In general, pituitary adenoma is classified into two types: a pterygium pituitary tumor resection through the nose, and a transtracheal approach with the skull opening and approaching the brain.

이 중 경두개 접근법은 종양이 뇌하수체 위쪽으로 많이 자란 경우에 사용하는 방법이나, 이 방법은 뇌를 수술 중 양쪽으로 당기고 종양에 의해 심하게 압박 받고 있는 시신경 사이로 종양을 제거해야 하기 때문에 수술 전에 시력 장애가 있는 환자에게서는 뇌견인에 따르는 후유증이나 시신경의 손상 위험이 높다. This is the method used when the tumor grows above the pituitary gland. However, this method requires removal of the tumor between the optic nerve, which pulls the brain to both sides during surgery and is severely compromised by the tumor. Patients are at high risk of sequelae following brain trauma or damage to the optic nerve.

이에 경두개 접근법으로 인해 발생되는 수술 중 위험 부담을 최소화하기 위해 임상에서는 경접형동 접근법을 통해 종양을 절제하고자 하는 노력이 이뤄지고 있다. 다만 경접형동 접근법 수술시의 가장 큰 애로 사항은 코를 통해 내시경 및 현미경으로 접형골에 접근하여 뇌종양을 제거 하기 때문에 접형골의 재건에 사용되는 이식재의 크기와 소재에 한계가 있다. In order to minimize the risk of intraoperative complications due to the transthoracic approach, efforts have been made to resect tumors through a transsphenoidal approach in the clinic. However, the biggest complication of the cervical spine approach is the size and the material of the implant used for reconstruction of the sphenoid bone because of the approach to the sphenoid via endoscope and microscope through the nose.

접형골의 결손부를 충진하기 위해서는 뇌척수액의 누수를 방지하는 뇌경막용 이식재와 접형골의 골재생을 유도하는 골 재건용 이식재가 각각 필요하다.In order to fill the defects of the sphenoidal bone, transplantation materials for durability to prevent leakage of cerebrospinal fluid and bone graft materials for bone regeneration of the sphenoid bone are required.

현재 이러한 역할을 수행할 수 있는 특화된 제품 및 이식재는 없는 상황으로 인해 자가 조직인 인대 (뇌경막용 대체제로 사용) 및 비중격 (골 재건용 이식재)등을 채취하여 접형골의 결손부위를 충진하는 방식의 치료가 이뤄지고 있다.Currently, there is no special product or implant that can perform such a role. Therefore, a method of filling the defects of the sphenoid bone by collecting the autogenous ligament (used as a substitute for the dura mater) and the nasal septum It is being done.

그러나 이와 같이 자가 조직을 채취하여 이식하는 방식은 공여부에 또 다른 결손을 유발하며 공여부의 합병증 및 감염의 발생을 높여 치료의 질을 저하시키는 방식이다. However, the method of collecting and transplanting autologous tissue in this way induces another defect in the donor site, and the quality of the treatment is lowered by increasing the incidence of complications and infection of the donor site.

이를 개선하고자 개발된 제품이 비흡수성 폴리머로서 Medpor (Stryker, USA), Omnipor (Matrix Surgical Holdings, USA) 가 있다. Medpor (Stryker, USA) and Omnipor (Matrix Surgical Holdings, USA) were developed as non-absorbable polymers.

그러나 이들은 생체친화력 및 조직 재생능이 없는 폴리프로필렌(polyethylene)으로 이루어져 있으며, 다공성의 구조로 인해 뇌척수액의 누수를 방지하는 콜라겐 유래 뇌경막용 이식재와 함께 사용해야 한다는 불편함이 있다.However, they are made of polypropylene which has no biocompatibility and tissue regeneration ability, and it is inconvenient to use it with a collagen-based implant for durability of cerebrospinal fluid which prevents leakage of cerebrospinal fluid due to its porous structure.

이러한 자가 조직 및 비흡수성 폴리머, 콜라겐 유래 물질 등의 가장 큰 한계점은 접형골의 형태에 최적화된 형태를 갖는 제품이 아니며 이들은 뇌척수액의 누수를 완벽하게 차단하지 못한다는 점이다.The major limitation of these autologous and non-absorbable polymers and collagen-derived materials is that they are not optimized for the shape of the sphenoidal bone, and they do not completely block leakage of CSF.

수술 후 일부 환자에게서 약 1주 ~ 1달간 뇌척수액의 누수가 발생하는데 이러한 누수가 지속되면 환부 및 주변부의 감염을 초래하여 뇌신경의 손상 등이 유발될 수 있는 우려가 있다.Some patients experience leakage of CSF for about 1 week to 1 month after surgery. If this leakage persists, infection of the affected part and peripheral area may occur and damage to the cranial nerve may be caused.

아울러 지속적인 뇌척수액의 누출을 감소시키기 위해 외부에서 척수액을 의도적으로 추출하여 뇌압을 감소시키는 처치를 진행하나, 뇌척수액을 추출하는 동안 침상에서 이동이 불가하므로 이러한 처치는 환자의 고통, 불편 및 감염 등의 위험이 높은 실정이다. In addition, to reduce persistent CSF leakage, we intentionally extract spinal fluid from the outside to reduce intracranial pressure, but since it is impossible to move from the bed during extraction of CSF, such treatment may lead to the risk of patient suffering, discomfort, Is high.

현재 기출시된 제품 및 환자로부터 채취된 자가 조직은 접형골 부위의 형태학적 특성이 전혀 고려되지 않은 이식재 이므로 뇌척수액의 누수 및 접형골의 골재건이 어렵다는 단점이 존재한다. There is a disadvantage that the leakage of the cerebrospinal fluid and the aggregation of the sphenoid bone are difficult because the autologous tissue taken from the current product and the patient is a graft material that does not consider the morphological characteristics of the sphenoidal region at all.

한편, 미국공개특허 2010-0215718호(2010.08.26.)의 다양한 생체조직이나 기관과 잘 교합할 수 있는 구조체가 제공되었고, 제공된 구조체는 골 이식물에 필요한 조직 공간 형상과 형태가 유지되는 가운데 커팅될 수 있는 시트로 제공될 수 있게 구비되어 있으나, 여전히 동일한 문제점이 있었다.On the other hand, a structure capable of being in good contact with various living tissues or organs of US Patent Publication No. 2010-0215718 (Aug. 26, 2010) was provided, and the provided structure was cut into a desired shape But it still has the same problem.

미국공개특허 2010-0215718호(2010.08.26.)U.S. Published Patent Application No. 2010-0215718 (Aug. 26, 2010)

본 고안은 이러한 문제를 해결하기 위해 접형골의 형태학적 특성을 고려한 형태와 소재를 이용하여 뇌척수액의 누출을 감소시키면서도 생체친화적/ 조직 친화적인 소재를 이용하여 접형골의 골재건을 궁극적으로 실현함에 있다.In order to solve this problem, the present invention is to ultimately realize the aggregate of the sphenoid bone using biocompatible / tissue-friendly materials while reducing leakage of cerebrospinal fluid by using shapes and materials considering the morphological characteristics of the sphenoid bone.

이를 통해 뇌척수액의 누수에 의해 나타나는 감염, 부작용 등을 적극적으로 방지하여 환자의 고통 및 불편을 경감시킬 수 있도록 한 것이다.Thus, it is possible to positively prevent infections and side effects caused by leakage of cerebrospinal fluid, thereby alleviating the suffering and inconvenience of the patient.

본 고안은 접형골의 결손이 발생된 부분에 접형골의 골재생을 유도하는 골재건 이식재가 구비됨을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that an aggregate material graft material for guiding the bone regeneration of the sphenoid bone is provided at a portion where the sphenoid bone defect is generated.

또한, 상기 골재건 이식재는 평판형태를 갖는 제1이식재부; 및 상기 제1이식재부의 단부에 하부를 향하여 경사지게 절곡된 제2이식재부로 구성됨을 특징으로 한다.The aggregate gun graft material may include a first graft material portion having a flat plate shape; And a second graft material portion bent downward at an end portion of the first graft material portion in an inclined manner.

또한, 상기 제1이식재부와 제2이식재부는 접형골의 결손에 따라 절곡각이 90°보다 크거나 작게 형성됨을 특징으로 한다.The first graft material part and the second graft material part are formed such that the bending angle is larger or smaller than 90 degrees according to the deficiency of the sphenoid bone.

또한, 상기 제1이식재부와 제2이식재부는 모서리 부분에 제1위치결정홀이 형성됨을 특징으로 한다.The first graft material portion and the second graft material portion may have a first positioning hole at an edge portion thereof.

또한, 상기 골재건 이식재는 U형태 또는 반구형태를 갖도록 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the aggregate gun graft material is characterized by having a U-shape or a hemispherical shape.

또한, 상기 U형태 또는 반구형태를 갖는 하부에 제2 또는 제3위치결정홀이 형성됨을 특징으로 한다.Further, a second or third positioning hole is formed in a lower portion having the U-shape or the hemispherical shape.

또한, 상기 골재건 이식재는 반구형태를 갖는 제3이식재부 및; 상기 제3이식재부의 모서리에 평판형태를 갖는 제4이식재부가 절곡되게 구성됨을 특징으로 한다.The aggregate gun graft material may include a third graft material portion having a hemispherical shape; And a fourth graft material having a flat plate shape is bent at an edge of the third graft material part.

또한, 상기 제3이식재부와 제4이식재부는 접형골의 결손에 따라 절곡각이 90°보다 크거나 작게 형성됨을 특징으로 한다.The third graft material portion and the fourth graft material portion are formed such that the bending angle is larger or smaller than 90 degrees according to the deficiency of the spinal bone.

또한, 상기 제4이식재부는 제4위치결정홀이 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the fourth graft material portion is characterized in that a fourth positioning hole is formed.

한편, 본 고안은 접형골의 결손이 발생된 부분에 뇌척수액이 누수되는 것을 억제하는 뇌경막 이식재가 구비됨을 특징으로 한다.Meanwhile, the present invention is characterized in that a dura mater is implanted to prevent leaking of cerebrospinal fluid in a portion where a sphenoidal bone defect occurs.

또한, 상기 뇌경막 이식재는 평판형태를 갖는 제1뇌경막 이식재부; 및 상기 제1뇌경막 이식재부의 단부에 하부를 향하여 경사지게 절곡된 제2뇌경막 이식재부로 구성됨을 특징으로 한다.In addition, the dura mater graft material may include a first dura mater graft material having a plate shape; And a second dura mater graft portion bent obliquely downward at an end of the first dura mater graft material portion.

또한, 상기 제1뇌경막 이식재부와 제2뇌경막 이식재부는 접형골의 결손에 따라 절곡각이 90° 보다 크거나 작게 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the first and second dura mater grafts and the second dura mater graft are formed to have a bending angle greater than or less than 90 degrees according to a defect of the sphenoid bone.

또한, 상기 제1뇌경막 이식재부와 제2뇌경막 이식재부는 모서리 부분에 제1위치결정돌기가 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the first and second dura mater grafts may have a first positioning protrusion formed at an edge portion thereof.

또한, 상기 제1뇌경막 이식재부는 U형태 또는 반구형태를 갖도록 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the first dura mater graft material portion is formed to have a U-shape or a hemispherical shape.

또한, 상기 U형태 또는 반구형태를 갖는 하부에 제2 또는 제3위치결정돌기가 형성됨을 특징으로 한다.In addition, a second or third positioning protrusion is formed in a lower portion having the U-shape or the hemispherical shape.

또한, 상기 뇌경막 이식재는 반구형태를 갖는 제3뇌경막 이식재부 및; 상기 제3뇌경막 이식재부의 모서리에 평판형태를 갖는 제4뇌경막 이식재부가 절곡되게 구성됨을 특징으로 한다.In addition, the dura mater implant may include a third dura mater graft material having a hemispherical shape; And a fourth dura mater which has a flat plate shape is bent at an edge of the third dura mater graft material part.

또한, 상기 제3뇌경막 이식재부와 제4뇌경막 이식재부는 접형골의 결손에 따라 절곡각이 90°보다 크거나 작게 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the third and fourth dura mater grafts and the fourth dura mater graft are formed to have a bending angle greater than or less than 90 ° according to the defect of the sphenoid bone.

그리고 상기 제3뇌경막 이식재부와 제4뇌경막 이식재부는 하부에 제4위치결정돌기가 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the third and fourth dura mater grafts and the fourth dura mater graft material are formed with fourth positioning protrusions at the bottom.

본 고안은 경접형동 접근법으로서 뇌하수체 종양 제거를 포함한 기타 두개골 수술 시 발생하는 접형골의 결손 부분에 골재건 이식재 또는 뇌경막 이식재가 선택적으로 구비되도록 함으로서 접형골의 골재생을 유도하거나 뇌척수액이 누수되는 것을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.This approach is a craniofacial approach that allows for the selective placement of bone graft or dura mater grafts in the sphenoid defect at the time of other cranial surgery including removal of pituitary tumors, thereby inducing bone regeneration of the sphenoid bone or preventing leakage of cerebrospinal fluid The effect can be obtained.

또한, 접형골의 결손 부분에 골재건 이식재와 뇌경막 이식재가 조합되게 구비되도록 함으로서 접형골의 골재생의 유도와 뇌척수액이 누수되는 것을 동시에 방지할 수 있도록 한 효과를 얻을 수 있다.In addition, since the aggregate gun graft material and the dura mater graft material are combined in the defected portion of the sphenoid bone, the effect of inducing bone regeneration of the sphenoid bone and leakage of the CSF can be prevented at the same time.

또한, 골재건 이식재와 뇌경막 이식재가 조합되게 구비되는 과정에서 위치결정홀에 위치결정돌기가 삽입되도록 함으로서 정확한 위치에서 결합되도록 한 효과를 얻을 수 있다.In addition, since the positioning protrusions are inserted into the positioning holes in the process of combining the aggregate gun implant material and the dura mater material, it is possible to obtain an effect of being bonded at an accurate position.

또한, 골재건 이식재와 뇌경막 이식재가 조합되게 구비되는 과정에서 골재건 이식재와 뇌경막 이식재가 서로 봉합사에 의하여 봉합되도록 함으로서 서로 분리되거나 틀어지는 것을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, in a process in which the aggregate gun graft material and the scleral graft material are combined, the aggregate gun graft material and the dura mater are stitched together by the suture material, thereby preventing the graft material graft material from being separated or twisted.

그리고 이를 통해 뇌척수액의 누출을 감소시키면서 접형골의 골재건이 이루어질 수 있도록 하는 가운데 뇌척수액의 누수에 의해 나타나는 감염, 부작용 등을 적극적으로 방지하여 환자의 고통 및 불편을 경감시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.Therefore, it is possible to reduce the leakage of the cerebrospinal fluid, thereby allowing the joint of the sphenoid bone to be accomplished. In addition, the infection and the side effect caused by the leakage of the cerebrospinal fluid can be actively prevented, thereby reducing the suffering and inconvenience of the patient.

도1은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트가 적용될 접형골에서 발생할 수 있는 환부의 형태학적 특성에 따라 표준화된 형태를 도출하기 위한 접형골 사대를 도시한 입체도와 단면도이다.
도2는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제1실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.
도3은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제2실시예를 도시한 사시도와 저면 사시도 및 저면 분해 사시도이다.
도4는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제3실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.
도5는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제4실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.
도6은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제5실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.
도7은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제6실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view showing a sphenoid bone for deriving a standardized shape according to the morphological characteristics of the affected part of the sphenoidal bone to which the surgical implant to be applied according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application example showing a first embodiment of the transplanting approach surgical implant according to the present invention.
3 is a perspective view, a bottom perspective view, and a bottom exploded perspective view showing a second embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.
4 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a third embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.
FIG. 5 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a fourth embodiment of the transplanting approach surgical implant according to the present invention.
6 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a fifth embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.
FIG. 7 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a sixth embodiment of the transplanting approach surgical implant according to the present invention; FIG.

본 고안의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Embodiments of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트가 적용될 접형골에서 발생할 수 있는 환부의 형태학적 특성에 따라 표준화된 형태를 도출하기 위한 접형골 사대를 도시한 입체도와 단면도이고, 도2는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제1실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.FIG. 1 is a perspective view and cross-sectional view showing a sphenoid bone for deriving a standardized shape according to the morphological characteristics of the affected part of the sphenoidal bone to which the surgical implant according to the present invention is applied. FIG. 2 is a cross- FIG. 3 is a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site showing a first embodiment of the surgical implant according to the present invention.

본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트는 뇌하수체 종양 제거를 포함한 기타 두개골 수술시 발생하는 접형골의 결손 부분에 구비되도록 하여 접형골의 골재생을 유도할 수 있도록 한 것으로 도1 내지 도3에 도시된 바와 같이, 접형골(sphenoid bone)(sb)의 결손이 발생된 결손부(dp)에 골재건 이식재(100)가 덮혀져 골재생이 유도될 수 있게 구비되어 있다.The surgical implant of the present invention is designed to be provided in a defective part of the sphenoidal bone formed during other cranial surgery including pituitary tumor removal to induce bone regeneration of the sphenoid bone. As shown in Figs. 1 to 3 Likewise, the aggregate gun graft material 100 is covered with the defective portion dp where the sphenoid bone sb has been defected, so that bone regeneration can be induced.

상기 골재건 이식재(100)는 생분해성을 갖는 고분자 및 플라스틱으로 이루어진 것으로 충분한 지지력이 확보될 수 있도록 하기 위하여 금속으로 제조될 수 있다.The aggregate gun graft material 100 is made of a biodegradable polymer and plastic, and may be made of metal so that a sufficient supporting force can be secured.

이러한 상기 골재건 이식재(100)는 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)로 구비된 것으로 제1이식재부(100)와 제2이식재부(120)는 일체형태를 갖도록 형성되어 있다.The first graft material 100 and the second graft material 120 are integrally formed with the first graft material 110 and the second graft material 120. The first graft material 100 and the second graft material 120 are formed integrally with each other, have.

상기 제1이식재부(110)는 상기 결손부(dp)의 형태에 따라 넓은 면적을 커버하도록 하기 위한 방안으로 평판형태를 갖도록 형성되어 있고, 상기 제2이식재부(120)는 제1이식재부(110)의 단부 즉, 타측단부에 하부를 향하여 경사진 형태를 갖도록 절곡되게 형성되어 상기 결손부(dp)가 정확하게 커버될 수 있게 구비되어 있다. 이때, 상기 제1이식재부(110)의 일측 단부는 단순히 절단된 형태를 갖도록 하여 주변의 결손부(dp)와 간섭현상이 발생되는 것을 방지할 수 있게 구비되어 있다.The first graft material part 110 is formed to have a flat shape in order to cover a wide area depending on the shape of the missing part dp, 110, that is, at the other end thereof, is bent so as to have a shape inclined downward, so that the defective portion dp can be accurately covered. At this time, one end of the first graft material part 110 is simply cut so as to prevent the occurrence of interference with the neighboring grafted part dp.

상기 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)는 접형골(sb)의 결손에 따른 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 절곡각(α)이 90° 보다 큰 각도를 갖도록 형성되어 있다.The first implantable material part 110 and the second implantable material part 120 may be covered with an optimal state according to the shape of the defective part dp due to the deficiency of the sphenoidal sb, Is formed to have an angle larger than 90 DEG.

상기 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)는 모서리 부분에 제1위치결정홀(130)이 형성되어 후술하는 뇌경막 이식재(20)가 조합된 상태로 사용될 경우, 모서리 부분의 내측으로 돌출되게 형성된 제1위치결정돌기(230)가 삽입됨으로서 뇌경막 이식재(20)의 위치가 변화 즉, 유동되는 것을 방지할 수 있게 되어 항상 정확한 위치에 있게 된다. 이때, 상기 뇌경막 이식재(20)를 사용하지 않고 골재건 이식재(100)가 단독으로 사용될 경우, 상기 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)는 모서리 부분에 형성된 제1위치결정홀(130)이 폐쇄되거나 없는 상태로 사용되도록 하는 것이 바람직하다.이는 제1위치결정홀(130)이 있을 경우, 뇌척수액이 제1위치결정홀(130)을 통해 누수되는 것을 방지할 수 있도록 하기 위함이다.When the first graft material part 110 and the second graft material part 120 are used in a state in which the first positioning hole 130 is formed at the corner portion and the dura mater 20 is combined, The position of the dura mater 20 can be prevented from being changed, that is, the position of the dura mater 20 is always in the correct position. When the aggregate material graft material 100 is used alone without using the dura mater 20, the first graft material part 110 and the second graft material part 120 may be separated from each other by a first positioning hole In order to prevent leakage of the cerebrospinal fluid through the first positioning hole 130 when the first positioning hole 130 is provided in the first positioning hole 130, to be.

한편, 접형골(sb)의 결손이 발생된 결손부(dp)에는 뇌척수액이 누수되는 것을 억제 또는 방지하는 뇌경막 이식재(200)가 구비되어 뇌척수액의 누수에 의해 나타나는 감염, 부작용 등을 막아 환자의 고통 및 불편을 경감시킬 수 있게 된다.Meanwhile, the defective portion (dp) in which the sphenoidal bone (sb) is defected is provided with a dura mater (200) for inhibiting or preventing the leakage of the cerebrospinal fluid, thereby preventing infections and side effects caused by leakage of cerebrospinal fluid The inconvenience can be alleviated.

이러한 상기 뇌경막 이식재(200)는 골재건 이식재(100)와 동일하게 생분해성을 갖는 고분자 및 플라스틱으로 이루어지도록 하고, 충분한 지지력이 확보될 수 있도록 하기 위하여 금속으로 제조될 수 있다.The dura mater 200 may be made of a polymer and plastic having biodegradability in the same manner as the aggregate gun graft material 100, and may be made of metal to ensure a sufficient supporting force.

상기 뇌경막 이식재(200)는 평판형태를 갖는 제1뇌경막 이식재부(210)와 상기 제1뇌경막 이식재부(210)의 단부에 하부를 향하여 경사지게 절곡된 제2뇌경막 이식재부(220)로 구성되어 있다.The dura mater 200 includes a first dura mater 210 having a planar shape and a second dura mater 220 having an inclined portion bent downward at an end of the first dura mater 210 .

상기 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)는 접형골(sb)의 결손에 따른 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 절곡각(α)이 90° 보다 큰 각도를 갖도록 형성되어 있다.The first dura mater graft material 210 and the second dura mater material graft material 220 may be covered in an optimum state depending on the shape of the defect dp due to the defect of the sphenoidal bone sb, (?) is formed to have an angle larger than 90 degrees.

상기 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)는 모서리 부분에 제1위치결정돌기(230)가 형성되어 접형골(sb)의 결손이 발생된 결손부(dp)에 단독으로 사용될 경우, 필요치 않는 구조이나, 상기 골재건 이식재(100)와 조합되어 사용될 경우, 골재건 이식재(100)에 형성된 제1위치결정홀(130)에 끼워짐으로서 정확한 위치에서 조합된 상태가 유지될 수 있게 된다. 이때, 조합된 상태로 사용되어질 경우, 서로 분리된 것을 방지하기 위한 방안으로 점선으로 도시된 바와 같이, 별도의 봉합사(st)에 의하여 봉합된 상태가 유지되도록 하는 것이 바람직하다.The first dura mater graft material 210 and the second dura mater graft material 220 have first positioning protrusions 230 formed at the corners of the first dura mater graft material 210 and the second dura graft material graft material 220, When used in combination with the aggregate gun graft material 100, it is fitted into the first positioning hole 130 formed in the aggregate gun graft material 100 so that the combined state is maintained at the correct position . At this time, when used in a combined state, it is preferable to maintain a state of being sealed by a separate suture st as shown in a dotted line in order to prevent separation from each other.

이러한 경접형동 접근법 수술용 임플란트는 접형골(sb)의 결손이 발생된 결손부(dp)에 따라 골재생이 필요할 경우, 결손부(dp)에 단순히 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)를 갖는 골재건 이식재(100)가 덮혀지도록 하는 것으로 결손부(dp)의 골재생이 유도될 수 있게 된다.In this surgical approach, if bone regeneration is required according to a defect (dp) in which the defect of the sphenoidal bone (sb) is generated, the first implantable material portion 110 and the second implantable material portion The bone regeneration of the defect portion dp can be induced by covering the aggregate gun graft material 100 with the bone graft material 120.

결손이 발생된 결손부(dp)에 따라 뇌척수액이 누수되는 것을 방지하고자 할 경우, 결손부(dp)에 단순히 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)를 갖는 뇌경막 이식재(200)가 덮혀지도록 하는 것으로 결손부(dp)를 통해 뇌척수액이 누수되는 것을 방지할 수 있게 된다.In order to prevent the leakage of cerebrospinal fluid according to the defected portion dp that has been defected, the dura mater may be simply inserted into the defect portion dp using a dura mater material having the first dura mater material 210 and the second dura mater material 220 200 are covered so that leakage of the cerebrospinal fluid through the defect portion dp can be prevented.

한편, 결손부(dp)의 형태에 따라 골재생과 뇌척수액이 누수되는 것을 동시에 이루고자 할 경우, 결손부(dp)에 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)를 갖는 골재건 이식재(100)가 덮혀지도록 한 후 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)를 갖는 뇌경막 이식재(200)가 덮혀지도록 하는 것으로 결손부(dp)의 골재생이 유되됨과 동시에 뇌척수액이 누수되는 것을 방지할 수 있게 된다. 이때, 상기 제1이식재부(110)와 제2이식재부(120)의 모서리 부분에 형성된 제1위치결정홀(130)에 뇌경막 이식재(20)에 형성된 제1위치결정돌기(230)가 삽입됨으로서 뇌경막 이식재(20)의 위치가 유동되는 것을 방지할 수 있게 되고, 아울러 골재건 이식재(100)와 뇌경막 이식재(200)가 봉합사(st)에 의하여 봉합된 상태가 유지되도록 하여 들뜨는 것을 방지할 수 있게 된다.If bone regeneration and leakage of cerebrospinal fluid are to be achieved at the same time depending on the shape of the defect part dp, the aggregate material graft material having the first graft material part 110 and the second graft material part 120 in the defect part dp, (200) covering the first dura mater graft material (210) and the second dura mater graft material (220) is covered so that bone regeneration of the defect (dp) is inhibited and at the same time, the cerebrospinal fluid It is possible to prevent the water from leaking. At this time, the first positioning protrusion 230 formed on the dura mater 20 is inserted into the first positioning hole 130 formed at the corner of the first and second graft materials 110 and 120, It is possible to prevent the position of the dura mater 20 from flowing and to prevent the aggregate gun graft material 100 and the dura mater 200 from being stitched by the suture st to be lifted do.

도3은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제2실시예를 도시한 사시도와 저면 사시도 및 저면 분해 사시도이다.3 is a perspective view, a bottom perspective view, and a bottom exploded perspective view showing a second embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.

본 고안에서는 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 절곡각(α)이 90° 보다 큰 각도를 갖도록 형성하여 결손부(dp)의 완만한 모서리가 커버될 수 있도록 하였으나, 이러한 형태 이외에 도3에 도시된 바와 같이, 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 절곡각(α)이 90° 보다 작은 각도를 갖도록 할 수 있다. 이러한 경우, 결손부(dp)의 모서리가 좁거나 경사가 심한 부분에 안정되게 커버될 수 있게 된다.In this embodiment, in order to cover the first dura mater 210 and the second dura mater 220 in an optimal state according to the shape of the dp, the bending angle α is 90 ° 3, the first dura mater graft material 210 and the second dura mater graft material 220 may be formed to have a larger angle than the first dura mater dp May have an angle smaller than 90 deg. Depending on the shape of the defective portion dp. In this case, the edge of the defect portion dp can be stably covered in the narrow or inclined portion.

도4는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제3실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.4 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a third embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.

본 고안에서는 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 평판의 타측 단부가 소정 각도를 갖도록 단순하게 절곡된 형태를 갖도록 하였으나, 이러한 형태 이외에 도4에 도시된 바와 같이, 상기 골재건 이식재(100) 및 상기 뇌경막 이식재부(200)는 평판이 양측으로 벤딩된 형태 즉, U형태를 갖도록 할 수 있다.In the present invention, in order to cover the first dura mater 210 and the second dura mater 220 in an optimal state according to the shape of the defect part dp, 4, the aggregate gun graft material 100 and the dura mater graft material portion 200 may be formed so that the flat plate is bent in both sides, that is, in a U shape, as shown in FIG. can do.

이러한 경우, U형태를 갖는 결손부(dp)에 최적 상태로 커버될 수 있게 된다. 이때, U형태를 갖는 골재건 이식재(100)의 하부에 제2위치결정홀(130')이 형성되도록 하고, 동일한 형태를 갖는 뇌경막 이식재부(200)의 하부에 제2위치결정돌기(230')가 형성되도록하여 서로 결합될 수 있게 구비되어 있다.In this case, it is possible to cover the defect portion dp having the U shape in an optimum state. At this time, a second positioning hole 130 'is formed in a lower portion of the aggregate gun implant material 100 having a U shape, and a second positioning protrusion 230' is formed at a lower portion of the dura mater 200 having the same shape. So that they can be coupled with each other.

상기 U형태를 갖는 골재건 이식재(100)와 뇌경막 이식재(200)는 결손부(dp)의 형태에 따라 각각 단독으로 사용되거나, 조합된 상태로 사용될 수 있으며, 조합된 상태에서는 상기한 바와 같이 봉합사(st)를 이용하여 서로 봉합된 상태가 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.The U-shaped aggregate gun implant material 100 and the dura mater material 200 may be used alone or in combination depending on the shape of the defect part dp. In the combined state, it is preferable that the stitched state can be maintained by using st st.

도5는 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제4실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.FIG. 5 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a fourth embodiment of the transplanting approach surgical implant according to the present invention.

본 고안에서는 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 평판의 타측 단부가 소정 각도를 갖도록 단순하게 절곡된 형태를 갖도록 하였으나, 이러한 형태 이외에 도5에 도시된 바와 같이, 상기 골재건 이식재(100) 및 상기 뇌경막 이식재(200)는 반구형태를 갖도록 할 수 있다.In the present invention, in order to cover the first dura mater 210 and the second dura mater 220 in an optimal state according to the shape of the defect part dp, However, as shown in FIG. 5, the aggregate gun graft material 100 and the dura mater 200 may have a hemispherical shape.

이러한 경우, 반구형태를 갖는 결손부(dp)에 최적 상태로 커버될 수 있게 된다. 이때, 반구형태를 갖는 골재건 이식재(100)의 하부에 제3위치결정홀(130")이 형성되도록 하고, 동일한 형태를 갖는 뇌경막 이식재(200)의 하부에 제3위치결정돌기(230")가 형성되도록하여 서로 결합될 수 있게 구비되어 있다.In this case, it is possible to cover the defective portion dp having a hemispherical shape in an optimal state. At this time, a third positioning hole 130 '' is formed in the lower part of the hemispherical aggregate gun graft material 100, and a third positioning protrusion 230 '' is formed in the lower part of the dura mater 200 having the same shape. So that they can be coupled with each other.

상기 반구형태를 갖는 골재건 이식재(100)와 뇌경막 이식재(200)는 결손부(dp)의 형태에 따라 각각 단독으로 사용되거나, 조합된 상태로 사용될 수 있으며, 조합된 상태에서는 상기한 바와 같이 봉합사(st)를 이용하여 서로 봉합된 상태가 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.The hemispherical graft material graft material 100 and the scleral graft material 200 may be used alone or in combination depending on the shape of the defect portion dp. In a combined state, it is preferable that the stitched state can be maintained by using st st.

도6은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제5실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.6 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a fifth embodiment of the surgical implant for cervical spine approach according to the present invention.

본 고안에서는 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 평판의 타측 단부가 소정 각도를 갖도록 단순하게 절곡된 형태를 갖도록 하였으나, 이러한 형태 이외에 도6에 도시된 바와 같이, 상기 골재건 이식재(100)는 반구형태를 갖는 제3이식재부(110')와 상기 제3이식재부(110')의 모서리에 평판형태를 갖는 제4이식재부(120')가 절곡되게 형성되도록 할 수 있다.In the present invention, in order to cover the first dura mater 210 and the second dura mater 220 in an optimal state according to the shape of the defect part dp, 6, the aggregate gun graft material 100 includes a third graft material portion 110 'having a hemispherical shape and a third graft material portion 110' having a hemispherical shape, as shown in FIG. 6, The fourth graft material portion 120 'having a flat plate shape may be formed to be bent.

상기 제3이식재부(110')와 제4이식재부(120')는 접형골의 결손에 따라 절곡각(α')이 90°보다 크거나 작게 형성되도록 하고, 상기 제4이식재부(120')는 하부에 제4위치결정홀(130")이 형성되어 뇌경막 이식재(200)에 형성된 제3위치결정돌기(230")가 결합되도록 하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 골재건 이식부(100)의 상부에 얹혀지는 뇌경막 이식재(200)는 골재건 이식재(100)와 동일한 형태를 갖도록 하는 것이 바람직하다.The third graft material portion 110 'and the fourth graft material portion 120' are formed such that the bending angle α 'is formed to be greater than or less than 90 ° according to the deficiency of the sphenoid bone, and the fourth graft material portion 120' It is preferable that a fourth positioning hole 130 '' is formed at a lower portion thereof so that the third positioning protrusion 230 'formed on the dura mater 200 is coupled. At this time, it is preferable that the dura mater 200 to be laid on the upper part of the aggregate gun implantation unit 100 has the same shape as the aggregate gun graft material 100.

상기 제3이식재부(110')와 제4이식재부(120')가 결손부(dp)의 형태에 따라 각각 단독으로 사용되거나, 조합된 상태로 사용될 수 있으며, 조합된 상태에서는 상기한 바와 같이 봉합사(st)를 이용하여 서로 봉합된 상태가 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.The third graft material 110 'and the fourth graft material 120' may be used alone or in combination depending on the shape of the defect portion dp. In a combined state, It is preferable that the stitched state can be maintained by using a suture st.

도7은 본 고안에 따른 경접형동 접근법 수술용 임플란트의 제6실시예를 도시한 사시도, 저면 사시도, 저면 분해 사시도 및 적용 부위를 도시한 예시도이다.FIG. 7 is an exemplary view showing a perspective view, a bottom perspective view, a bottom exploded perspective view, and an application site of a sixth embodiment of the transplanting approach surgical implant according to the present invention; FIG.

본 고안에서는 제1뇌경막 이식재부(210)와 제2뇌경막 이식재부(220)가 결손부(dp)의 형태에 따라 최적의 상태로 커버될 수 있도록 하기 위한 방안으로 평판의 타측 단부가 소정 각도를 갖도록 단순하게 절곡된 형태를 갖도록 하였으나, 이러한 형태 이외에 도7에 도시된 바와 같이, 상기 제3뇌경막 이식재부(210')와 제4뇌경막 이식재부(220')는 접형골의 결손에 따라 절곡각(α")이 90°보다 크거나 작게 형성되도록 하는 것이 바람직하다. 이때, 제3이식재부(110')와 제4이식재부(120')는 하부에 제5위치결정홀(130"-1)이 형성되어 뇌경막 이식재(200)에 형성된 제5위치결정돌기(230")가 끼워질 수 있도록 하는 것이 바람직하고, 결손부(dp)의 형태에 따라 각각 단독으로 사용되거나, 조합된 상태로 사용될 수 있으며, 조합된 상태에서는 봉합사(st)를 이용하여 서로 봉합된 상태가 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In the present invention, in order to cover the first dura mater 210 and the second dura mater 220 in an optimal state according to the shape of the defect part dp, The third dura mater graft material 210 'and the fourth dura mater graft material 220' may have a bending angle corresponding to a deficiency of the sphenoid bone, as shown in FIG. 7, the third graft material portion 110 'and the fourth graft material portion 120' have a fifth positioning hole 130 "-1 in the lower portion thereof, May be formed so that the fifth positioning protrusion 230 'formed on the dura mater 200 can be fitted. The fifth positioning protrusion 230' may be used alone or in combination with each other depending on the shape of the defective portion dp. In the combined state, the suture (st) It is desirable to ensure that may be maintained.

100:골재건 이식재 110:제1이식재부
120:제2이식재부 130:제1위치결정홀
130':제2위치결정홀 110':제3이식재부
120':제4이식재부 200:뇌경막 이식재
210:제1뇌경막 이식재부 220:제2뇌경막 이식재부
230:제1위치결정돌기100: aggregate gun graft material 110: first graft material part
120: second graft material part 130: first positioning hole
130 ': second positioning hole 110': third insert part
120 ': fourth graft material part 200: dura mater graft material
210: first dura mater graft material part 220: second dura mater graft material part
230: first positioning projection

Claims (18)

접형골의 결손이 발생된 부분에 접형골의 골재생을 유도하는 골재건 이식재; 및
접형골의 결손이 발생된 부분에 뇌척수액이 누수되는 것을 억제하는 뇌경막 이식재;를 포함하되,
상기 골재건 이식재는 제1 골재건 이식재부; 및 상기 제1 골재건 이식재부의 단부에 하부를 향하여 경사지게 절곡된 제2 골재건 이식재부;로 구성되고,
상기 뇌경막 이식재는 제1 뇌경막 이식재부; 및 상기 제1 뇌경막 이식재부의 단부에 하부를 향하여 경사지게 절곡된 제2 뇌경막 이식재부;로 구성되며,
상기 제1 뇌경막 이식재부와 제2 뇌경막 이식재부는 모서리 부분에 각각 제1 위치결정 돌기가 형성되고, 상기 제1 골재건 이식재부와 제2 골재건 이식재부는 모서리 부분에 제1 위치결정 홀이 형성되어, 골재건 이식재와 뇌경막 이식재가 조합된 것을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
Aggregate gun graft material which induces bone regeneration of the sphenoid bone at the site of the sphenoid defect; And
And a dura mater to inhibit the leakage of cerebrospinal fluid to the area where the spinal cord defect is generated,
The aggregate gun graft material may include a first aggregate gun graft material portion; And a second aggregate gun graft material portion bent obliquely downward at an end of the first aggregate gun graft material portion,
The dura mater implant includes a first dura mater implant; And a second dura mater transplant portion bent obliquely downward at an end of the first dura mater graft material portion,
The first and second dura mater graft material portions and the second dura mater graft material portion have a first positioning hole formed at a corner portion thereof and a first positioning hole formed at an edge portion of the first aggregate gun graft material portion and the second aggregate gun graft material portion, , An aggregate gun graft material and a dura mater graft material are combined.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 절곡된 제2 골재건 이식재부 및 제2 뇌경막 이식재부의 절곡각은, 접형골의 결손에 따라 절곡각이 90°보다 크거나 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
The method according to claim 1,
Wherein the bending angle of the folded second aggregate gun graft material portion and the second dura mater graft material portion is formed to be greater than or less than 90 degrees in accordance with the deficiency of the sphenoid bone.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 골재건 이식재부 및 제1 뇌경막 이식재부는 U형태 또는 반구형태를 갖고,
상기 제2 골재건 이식재부 및 제2 뇌경막 이식재부는 평판 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
The method according to claim 1,
Wherein the first aggregate gun graft material portion and the first dura mater graft material portion have a U- or hemispherical shape,
Wherein the second aggregate gun graft material portion and the second dura mater graft material portion have a flat plate shape.
제5항에 있어서,
상기 U형태 또는 반구형태를 갖는 제1 골재건 이식재부 및 제1 뇌경막 이식재부의 하부에 각각 제2 위치결정 홀과 제3 위치결정 홀이 형성됨을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
6. The method of claim 5,
Wherein a second positioning hole and a third positioning hole are formed in the lower portion of the first aggregate gun graft material portion and the first dura mater graft material portion having the U or hemispherical shape, respectively.
제5항에 있어서,
상기 평판 형태를 갖는 제2 골재건 이식재부 및 제2 뇌경막 이식재부의 하부에는 추가 위치결정 홀 혹은 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
6. The method of claim 5,
Wherein an additional positioning hole or protrusion is formed in a lower portion of the second aggregate gun graft material portion and the second dura mater graft material portion having the flat plate shape.
제1항에 있어서,
상기 골재건 이식재와 뇌경막 이식재는, 생분해성을 갖는 고분자 및 플라스틱으로 이루어지거나, 금속으로 제조되는 것을 특징으로 하는 경접형동 접근법 수술용 임플란트.
The method according to claim 1,
Wherein the aggregate gun graft material and the dura mater graft material are made of a biodegradable polymer and plastic or made of a metal.
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