KR200482926Y1 - Distortion reduced shape heater for mo cvd processing heater chamber - Google Patents

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KR200482926Y1
KR200482926Y1 KR2020150006513U KR20150006513U KR200482926Y1 KR 200482926 Y1 KR200482926 Y1 KR 200482926Y1 KR 2020150006513 U KR2020150006513 U KR 2020150006513U KR 20150006513 U KR20150006513 U KR 20150006513U KR 200482926 Y1 KR200482926 Y1 KR 200482926Y1
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Abstract

본 고안에 따른 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터는, 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터로서, 상부와 하부 및 일 측부가 개방된 원통 형상으로 내측에 배치된 샤프트를 일정 간격 이격되어 둘러싸는 라운딩부와, 상기 라운딩부의 개방된 일 측부의 각 단에서 상기 샤프트의 외측으로 절곡되어 연장된 결합부를 포함하는 필라멘트파트; 상기 결합부의 일면과 접촉한 상태로 하방으로 연장 배치된 고정부와, 상기 결합부를 기준으로 상기 고정부가 배치된 면의 대향측면에 덧대어지는 보조고정부와, 상기 고정부의 하단에서 절곡 연장된 받침부를 포함하는 지지파트;를 포함하되, 상기 필라멘트파트와 상기 지지파트는, 상기 고정부와 상기 결합부 및 상기 보조고정부를 차례로 관통하는 3개의 볼트를 매개로 체결되는 것을 특징으로 한다.
본 고안의 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터에 의하면, 필라멘트파트와 지지파트를 3개의 볼트로 고정시켜 밀착정도를 높임으로서 기존의 열 변형으로 발생되는 뒤틀림현상을 감소시키는 효과를 제공한다.The omega-type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced warping according to the present invention is an omega-shaped heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced warping, and has a cylindrical shape with open upper and lower sides and one side A filament part including a rounded portion surrounding a shaft disposed at an inner side at a predetermined interval and an engaging portion bent and extended to the outside of the shaft at each end of the opened one side of the rounded portion; An auxiliary fixing part padded on the opposite side surfaces of the surface on which the fixing part is disposed with reference to the engaging part as a reference and a supporting part which is bent and extended at the lower end of the fixing part, Wherein the filament part and the supporting part are fastened to each other via three bolts passing through the fixing part, the coupling part and the auxiliary fixing part in order.
According to the OMEGA type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber in which the distortion of the present invention is reduced, the filament part and the support part are fixed with three bolts to increase the degree of close contact, thereby reducing the distortion caused by the conventional thermal deformation Effect.

Description

뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터{DISTORTION REDUCED Ω SHAPE HEATER FOR MO CVD PROCESSING HEATER CHAMBER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an OMEGA type heater for an organometallic chemical vapor deposition (CVD) processing chamber with reduced warpage,

본 고안은 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가열에 의한 변형을 감소시켜 장시간 안정적으로 사용할 수 있는 오메가형 히터에 관한 것이다.The present invention relates to an omega-shaped heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced distortion, and more particularly, to an omega-shaped heater capable of reducing deformation due to heating for a long time and being stably used.

최근 기존의 TV와 조명산업 뿐만 아니라 자동차, 건축, 인테리어 등의 다양한 산업분야에서 LED의 활용과 개발 요구가 점차 증가함에 따라 원활한 LED의 공급과 제조를 위하여 물리 증착법(Physical Vapor Deposition; PVD) 또는 화학 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD)을 적용한 대량 기판 박막(thin film) 형성 장비가 사용되고 있다.Recently, in order to supply and manufacture LEDs in a variety of industrial fields such as automobiles, architectures, and interiors as well as the existing TV and lighting industries, the use of physical vapor deposition (PVD) or chemical A large-scale substrate thin film forming apparatus using CVD (Chemical Vapor Deposition) is being used.

일반적으로 LED제조 및 금속전극제조 분야에서는 기판에 박막을 형성하는 방법으로서 물리 증착법의 하나인 진공 증착법(Evaporation)을 활용하며, 반도체 제조 챔버에 증착물질을 수용하고 챔버 내부에 구비된 히터를 통해 가열하여 증발시키며 증발된 증착물질을 진공상태에서 박막을 형성시킬 기판으로 보내 기판에 증착시키는 방법으로 박막을 형성하고 있다. BACKGROUND ART [0002] Generally, in the field of LED manufacturing and metal electrode manufacturing, a vacuum evaporation method, which is one of physical vapor deposition methods, is used as a method of forming a thin film on a substrate, and a deposition material is received in a semiconductor manufacturing chamber, And the evaporated evaporation material is sent to a substrate for forming a thin film in a vacuum state to form a thin film on the substrate.

히터는 히터 플레이트와 샤프트로 구성되며, 상기 히터 플레이트는 원반형상으로서 상단에 발열모듈이 부착되고, 상기 샤프트는 원통형상으로서 상기 히터 플레이트의 정 중앙에서 하방으로 연장 형성된다. 상기 히터는 상기 샤프트의 둘레 외면을 일부가 개방된 형태로 둘러싸되 상기 히터의 내면과 상기 샤프트의 외면이 일정 간격 이격되도록 한 것으로, 상기 샤프트로부터 일정 간격 이격된 상태에서 열을 발산하는 역할을 수행하는 오메가형 히터, 히터 상단에 플레이트 형상으로 부착되어 열을 발산시키는 발열모듈로 구성되는 것이 일반적이며, 이러한 히터가 포함된 반도체 제조 챔버를 유기금속 화학증착 프로세싱 챔버라고도 한다.The heater is composed of a heater plate and a shaft. The heater plate has a disk shape, and a heating module is attached to an upper end of the heater plate. The shaft extends in a cylindrical shape and extends downward from the center of the heater plate. The heater is surrounded by the outer peripheral surface of the shaft, and the inner surface of the heater and the outer surface of the shaft are spaced apart from each other by a predetermined distance. The heater radiates heat at a predetermined distance from the shaft And an exothermic module attached in the form of a plate on the top of the heater to dissipate heat. The semiconductor manufacturing chamber including such a heater is also referred to as an organometallic chemical vapor deposition processing chamber.

기존의 오메가형 히터는 상부와 하부 및 일 측부가 개방된 원통 형상으로서 내측에 배치된 샤프트를 직사각형 형상의 금속 띠로 일정한 간격을 두어 둘러싸고, 상기 직사각형 형상의 금속 띠는 개방된 일 측부의 각 단에서 샤프트의 외측으로 절곡되어 연장된다. 상기 절곡되어 연장된 부분은 오메가형 히터를 지지하는 한 쌍의 기둥 및 한 쌍의 보호부재와 각각 2개의 볼트를 매개로 체결되는 형태로 구성된다. 이러한 오메가형 히터는 히터가 반복적으로 사용됨에 따라서 전원이 인가되는 경우에는 가열되어 팽창하고, 전원이 단락되면 냉각되어 수축하게 되는 열 변형이 반복적으로 발생하게 된다. 이로 인해 오메가형 히터의 체결구조가 느슨해지고 뒤틀림이 발생되며, 상기 오메가형 히터가 본래의 형상보다 늘어나는 경우 주변의 부품과 마찰되어 누전이나 열전달로 인해 부하가 가중되거나 수명단축을 초래하였다.The conventional omega-shaped heater has a cylindrical shape in which upper, lower and one sides are opened, and a shaft disposed on the inside is surrounded by a rectangular metal band at a certain interval, and the rectangular metal band is formed at each end of one open side And extends to the outside of the shaft. The bent and extended portion is configured to be fastened to the pair of pillars supporting the omega type heater and the pair of protection members via two bolts. Such omega-shaped heaters are repeatedly used, and when the power source is applied, they are heated and expanded, and when the power source is short-circuited, the omega-shaped heaters are repeatedly cooled and shrunk. As a result, the fastening structure of the omega-type heater is loosened and warped, and when the omega-shaped heater is extended beyond its original shape, the omega-shaped heater is rubbed against surrounding parts, resulting in increased load or shortened service life due to leakage or heat transfer.

따라서 상술한 바와 같이 반복적인 가열과 냉각에 의한 열 변형, 즉 오메가형 히터의 뒤틀림 현상을 방지하여 장시간 안정적으로 사용될 수 있도록 뒤틀림 현상을 감소시킨 오메가형 히터의 개발이 필요하다.Accordingly, there is a need to develop an omega-type heater that prevents twisting phenomenon by repeated heating and cooling, that is, twisting of the omega-type heater, thereby reducing warpage so as to be stably used for a long time.

한국 공개 특허 제 2005-0023524호Korean Patent Publication No. 2005-0023524 한국 공개 특허 제 2006-0123696호Korea Patent Publication No. 2006-0123696

본 고안은 상기 기술의 문제점을 극복하기 위해 안출된 것으로서, 오메가형 히터의 구조를 필라멘트파트와 지지파트로 구성하되, 상기 필라멘트파트는 샤프트의 회전에 따른 좌우 움직임을 방지하며, 상기 지지파트는 상기 필라멘트파트가 일정한 높이에 위치하도록 지지하는 것을 주요 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to overcome the above problems, and it is an object of the present invention to provide an omega heater which comprises a filament part and a support part, wherein the filament part prevents lateral movement of the shaft due to rotation of the shaft, The main purpose is to support the filament part to be positioned at a constant height.

본 고안의 다른 목적은, 상기 필라멘트파트와 상기 지지파트를 3개의 볼트를 매개로 체결하여 기존의 2개의 볼트를 매개로 체결하는 경우에 비해 체결력이 강화되어 열로 인한 변형을 감소시키므로 열변형으로 인한 부하 가중과 수명단축문제를 방지하는 오메가형 히터를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a fastening device for a motorcycle which is capable of reducing the deformation due to heat by strengthening the fastening force as compared with the case where the filament part and the support part are fastened through three bolts through the existing two bolts, The present invention provides an omega-type heater that prevents load weight and life shortening problems.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 지지파트에 챔퍼면을 형성하여 필라멘트파트의 절곡되는 연결부위가 완만하게 형성되는 것이다.Another object of the present invention is to form a chamfered surface on the support part, thereby gently forming a connection part where the filament part is bent.

본 고안의 추가 목적은, 상기 지지파트와 상기 필라멘트파트가 볼트를 매개로 체결되는 부위에서 볼트의 헤드부가 고정되는 부분을 탄력성을 갖는 재질의 압박층과 탄력성이 없는 재질의 보호층으로 구성하고, 상기 압박층과 상기 보호층을 적층시킨 적층구조를 형성하여 상기 압박층의 탄성력에 의한 조임을 통해 볼트에 의한 체결을 안정적으로 유지한다.It is a further object of the present invention to provide a bolt clamping structure in which a portion where a head portion of a bolt is fixed at a portion where the support portion and the filament portion are fastened via a bolt is constituted by a compression layer made of elastic material and a protective layer made of non- A laminated structure in which the pressing layer and the protective layer are laminated is formed and the bolt tightening is stably maintained through tightening by the elastic force of the pressing layer.

본 고안의 추가 목적은, 상기 적층구조에서 각 층이 더욱 견고하게 유지하는 것이다.A further object of the present invention is to keep each layer more firmly in the laminate structure.

본 고안의 추가 목적은, 상기 필라멘트파트의 절곡부위가 타 부위보다 두껍게 형성되어 절곡 연장된 연결부위의 변형을 방지하는 것이다. A further object of the present invention is to prevent deformation of the bending elongated connecting portion by forming the bending portion of the filament portion thicker than the other portion.

본 고안의 추가 목적은, 상기 필라멘트파트보다 내열성이 강한 재질의 고정밴드가 상기 필라멘트파트의 외면을 둘러싸는 형태로 배치되어, 상기 필라멘트파트가 변형되지 않도록 일정한 형태로 지지하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide a fixing band of a material having a heat resistance higher than that of the filament part so as to surround the outer surface of the filament part and to support the filament part in a predetermined form so as not to be deformed.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 고안에 따른 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터는 상부와 하부 및 일 측부가 개방된 원통 형상이며 내측에 배치된 샤프트로부터 일정 간격 이격되어 둘러싸는 라운딩부와, 상기 라운딩부의 개방된 일 측부의 각 단에서 상기 샤프트의 외측으로 절곡되어 연장된 결합부를 포함하는 필라멘트파트; 상기 결합부의 일면과 접촉한 상태로 하방으로 연장 배치된 고정부와, 상기 결합부를 기준으로 상기 고정부가 배치된 면의 대향측면에 덧대어지는 보조고정부와, 상기 고정부의 하단에서 절곡 연장된 받침부를 포함하는 지지파트;를 포함하되, 상기 필라멘트파트와 상기 지지파트는, 상기 고정부와 상기 결합부 및 상기 보조고정부를 차례로 관통하는 3개의 볼트를 매개로 체결되는 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, an omega-type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced warping according to the present invention has a cylindrical shape in which upper and lower sides and one side are opened and is spaced apart from a shaft disposed at an interval, A filament part including a rounding part and an engaging part bent and extended to the outside of the shaft at each end of the opened one side of the rounded part; An auxiliary fixing part padded on the opposite side surfaces of the surface on which the fixing part is disposed with reference to the engaging part as a reference and a supporting part which is bent and extended at the lower end of the fixing part, Wherein the filament part and the supporting part are fastened to each other via three bolts passing through the fixing part, the coupling part and the auxiliary fixing part in order.

더불어, 상기 고정부는, 상기 라운딩부에서 상기 결합부로 절곡되는 연결부위와 인접한 모서리에 챔퍼면이 형성되고 상기 보조고정부는, 상기 결합부와 접촉된 면의 대향면의 양 측 모서리에 각각 챔퍼면을 형성한 것을 특징으로 한다.In addition, the fixing portion may have a chamfered surface at an edge adjacent to the connecting portion bent from the rounded portion to the coupling portion, and the auxiliary fixing portion may have chamfered surfaces at both side edges of the opposing surface of the contacted surface, .

추가적으로, 상기 보조고정부는, 탄성력을 갖는 재질로 구성되고 상기 결합부와 맞닿는 면에 배치되는 압박층과, 탄성력이 없는 재질로 구성되고 상기 압박층과 맞닿는 보호층이 형성되며, 상기 압박층과 상기 보호층이 적층구조를 형성한 것을 특징으로 한다.In addition, the auxiliary securing portion may include a pressing layer formed of a material having elasticity and disposed on a surface contacting with the engaging portion, a protective layer formed of a material having no elasticity and abutting against the pressing layer, And the protective layer forms a laminated structure.

추가적으로, 상기 압박층은, 상기 보호층과 접촉되는 면의 일측에서 함입된 함입부가 형성되고, 상기 보호층은, 상기 압박층과 접촉되는 면의 일측에서 상기 함입부와 대응되는 형상으로 돌출된 돌출부가 형성되어, 상기 함입부와 상기 돌출부가 서로 끼움식으로 고정되는 것을 특징으로 한다.In addition, it is preferable that the pressing layer has a depressed portion embedded in one side of the surface contacting with the protective layer, and the protective layer has a protruding portion protruding in a shape corresponding to the depressed portion, And the recessed portion and the protruded portion are fixed to each other in a fitting manner.

추가적으로, 상기 필라멘트파트는, 상기 라운딩부와 상기 결합부의 연결부위가 타 부위보다 두껍게 형성되되, 상기 연결부위의 중심 방향으로 갈수록 더 두꺼워지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the filament part is formed such that a connecting portion between the round portion and the coupling portion is thicker than the other portion, and the filament portion is thicker toward the center of the connecting portion.

마지막으로, 상기 필라멘트파트는, 내열성이 강한 재질로 구성된 띠 형상이고, 일단과 타단이 각각 상기 고정부와 상기 결합부 사이에 배치되어 상기 볼트를 매개로 체결되는 고정밴드를 추가로 포함하며, 상기 고정밴드가 상기 라운딩부의 둘레 외면을 둘러쌈으로서, 높은 열변화가 발생하더라도 일정한 형태로 상기 라운딩부를 둘러싸고 지지하는 것을 특징으로 한다.Lastly, the filament part further includes a fixing band which is in the form of a belt made of a material having high heat resistance, and whose one end and the other end are respectively disposed between the fixing part and the coupling part and fastened through the bolt, The fixing band surrounds the outer peripheral surface of the rounded portion so that the rounded portion is surrounded and supported in a certain form even if a high thermal change occurs.

본 고안에 따른 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터에 의하면,According to the OMEGA type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber in which the twisting phenomenon according to the present invention is reduced,

1) 상기 필라멘트파트와 상기 지지파트가 열로 인해 발생하는 뒤틀림현상을 감소시키고,1) the filament part and the support part reduce warping caused by heat,

2) 상기 필라멘트파트와 상기 지지파트에 챔퍼면을 형성하여 외부 접촉 확률을 감소시키고 누전 또는 발열에 의한 추가 피해를 억제하며, 열로 인한 변형 시 원래의 형태로 복구가 용이하도록 구성하고,2) A chamfered surface is formed on the filament part and the support part to reduce the probability of external contact, to prevent further damage due to leakage or heat generation, and to facilitate restoration to its original shape when deformed due to heat,

3) 상기 고정부와 상기 결합부 및 상기 보조고정부의 볼트를 통한 체결을 안정적으로 유지하며,3) Stably maintaining the fastening through the bolts of the fixing part, the coupling part, and the auxiliary fixing part,

4) 적층구조로 형성된 상기 보조고정부에 함입부와 돌출부를 교대로 형성하여 체결시킴으로서 적층구조를 더욱 견고하게 유지하고,4) The laminated structure is further firmly held by alternately forming and engaging the recessed portion and the protruding portion in the auxiliary fixing portion formed in a laminated structure,

5) 상기 라운딩부에서 상기 결합부로 절곡 연장되는 연결부위가 타 부위보다 두껍게 형성되어 상기 연결부위의 변형을 방지하며,5) The connection portion extending from the round portion to the connection portion is formed to be thicker than the other portion to prevent deformation of the connection portion,

6) 내열성이 강한 재질의 고정밴드로 상기 라운딩부의 둘레외면을 둘러싸 상기 라운딩부의 형상을 유지하도록 지지하는 것을 특징으로 한다.6) A holding band of a material having high heat resistance surrounds the outer periphery of the rounded portion to support the shape of the rounded portion.

도 1a는 본 고안의 반도체 제조 챔버용 오메가형 히터에 대한 사시도.
도 1b는 본 고안에 따른 고정밴드와 보조고정부의 실시예를 나타낸 사시도.
도 2a는 본 고안의 반도체 제조 챔버용 오메가형 히터에 대한 평면도.
도 2b는 본 고안의 반도체 제조 챔버용 오메가형 히터에 대한 단면도.
도 3은 본 고안에 따른 오메가형 히터에 대한 실험예를 나타낸 개념도.
도 4a는 시편 (A)에 대한 실험 결과를 나타낸 그래프.
도 4b는 시편 (B)에 대한 실험 결과를 나타낸 그래프.
도 4c는 시편 (C)에 대한 실험 결과를 나타낸 그래프.FIG. 1A is a perspective view of an omega-shaped heater for a semiconductor manufacturing chamber of the present invention. FIG.
FIG. 1B is a perspective view showing an embodiment of a fixing band and auxiliary fixing unit according to the present invention. FIG.
Figure 2a is a plan view of an omega-shaped heater for a semiconductor manufacturing chamber of the present invention;
Figure 2b is a cross-sectional view of the omega-shaped heater for the semiconductor manufacturing chamber of the present invention;
3 is a conceptual diagram showing an experimental example of an omega-shaped heater according to the present invention.
FIG. 4A is a graph showing the experimental results for the specimen (A). FIG.
FIG. 4B is a graph showing the experimental results for the specimen (B).
FIG. 4C is a graph showing the experimental results for the specimen (C). FIG.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다. 첨부된 도면은 축척에 의하여 도시되지 않았으며, 각 도면의 동일한 참조 번호는 동일한 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The accompanying drawings are not drawn to scale and wherein like reference numerals in the various drawings refer to like elements.

도 1a, 도 2a 및 도 2b는 본 고안에 따른 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터에 대한 사시도, 평면도 및 단면도이다.FIGS. 1A, 2A, and 2B are a perspective view, a plan view, and a cross-sectional view, respectively, of an omega-shaped heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced warping according to the present invention.

본 발명의 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터는 필라멘트파트(100)와 지지파트(200)로 구성되는바, 상기 필라멘트파트(100)는 일반적으로 원통 형상인 샤프트(1)로부터 일정간격 이격된 상태로 필라멘트파트(100)가 배치된 주변 부위인 챔버 중심부에 열을 전달하는 역할을 수행하며, 좀 더 상세하게 설명하면 상기 샤프트(1)가 도 3(A)에 도시된 바와 같이 상측에서 보았을 때 오메가(Ω) 형상이고, 세부적으로는 라운딩부(110)와 결합부(120)를 포함한다. The OMEGA type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber in which the twisting phenomenon of the present invention is reduced is composed of a filament part 100 and a support part 200. The filament part 100 includes a shaft 1 The shaft 1 serves to transmit heat to a central portion of the chamber, which is a peripheral portion in which the filament part 100 is disposed in a state of being spaced apart from the shaft portion 1 by a predetermined distance. More specifically, (OMEGA) shape as viewed from above, and more specifically includes a round portion 110 and a coupling portion 120. The rounding portion 110 and the coupling portion 120 are formed in the shape of a circle.

라운딩부(110)는 샤프트(1)에 일정간격 이격되어 둘러싸는 형태로 형성된 것으로, 그 형상은 도면에 도시된 바와 같이 일정 폭을 가지는 금속 띠가 일부가 개방되도록 원형으로 곡률지게 형성된 것이며, 다시 말해 상부와 하부 및 측면의 일부가 개방된 원통 형상으로, 곡률진 부위 내측에 샤프트(1)를 배치시키되, 상기 샤프트(1)의 회전을 방해하지 않으면서 일정 수준 이상 이동하지 않도록하기 위하여 상기 샤프트(1)의 둘레를 일정간격 이격하여 둘러싸도록 한 것이다. As shown in the drawing, the rounding part 110 is curved in a circular shape so that a metal band having a predetermined width is partially opened, In order to prevent the shaft 1 from moving beyond a predetermined level without interfering with the rotation of the shaft 1, the shaft 1 is disposed inside the curved portion, (1) are spaced apart from each other by a predetermined distance.

상기 결합부(120)는 띠 형상인 상기 라운딩부(110)의 양 끝단에서 상기 라운딩부(110)의 곡률 방향과 반대 방향, 즉 필라멘트파트(100)의 외측으로 절곡되어 소폭 연장 형성된 것이다. 상기 라운딩부(110)와 상기 결합부(120)가 함께 오메가(Ω) 형상을 이루게 되는 것이며, 상기 결합부(120)는 후술할 지지파트(200)와 결합될 수 있는 물리적인 공간을 제공하게 된다. The coupling portion 120 is formed by being bent at both ends of the rounded portion 110 in a strip shape and being bent in a direction opposite to the curvature direction of the rounded portion 110, that is, outside the filament portion 100. The rounding part 110 and the coupling part 120 form an Omega shape together and the coupling part 120 provides a physical space to be coupled with the support part 200 do.

상기 지지파트(200)는 상기 필라멘트파트(100)가 일정 높이에 위치하도록 지지하는 것으로, 고정부(210)와 보조고정부(220) 및 받침부(230)로 구성된다. The supporting part 200 supports the filament part 100 at a predetermined height and is composed of a fixing part 210, an auxiliary fixing part 220 and a receiving part 230.

상기 고정부(210)는 상기 결합부(120) 및 상기 보조고정부(220)와 볼트를 매개로 고정되어 상기 필라멘트파트(100)를 고정 및 지지하고, 상기 보조고정부(220)는 상기 고정부(210) 및 상기 결합부(120)의 볼트 체결을 더욱 견고화시키며, 상기 받침부(230)는 상기 고정부(210)의 하단에서 외측으로 절곡 형성되어 외부 고정면에 오메가형 히터를 고정시킨다.The fixing part 210 is fixed to the coupling part 120 and the auxiliary fixing part 220 through a bolt to fix and support the filament part 100, The support part 230 is bent outward from the lower end of the fixing part 210 to fix the omega type heater to the external fixing surface. .

고정부(210)와 결합부(120)의 체결을 더욱 상세하게 설명하자면, 상기 고정부(210)는 도면에 도시된 바와 같이, 고정부(210)의 상단부를 상기 결합부(120)의 상단부와 일치시켜 포개어 놓았을 때 상기 결합부(120)의 제1볼트관통구(120a)와 대응되는 위치에 볼트고정구(210b)가 형성되어 볼트를 매개로 상기 결합부(120)와 고정되는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 고정부(210)는 직육면체 형상으로서 폭은 상기 결합부(120)의 폭과 유사하고 길이는 상기 결합부(120)보다 길도록 형성되며, 포개어진 부위로부터 하방으로 길게 연장되어 하단에서 절곡 연장된 받침부(230)와 연결되는 것을 특징으로 한다. 상기 보조고정부(220)는 폭이 상기 결합부(120)와 유사하고 높이는 상기 고정부(210)와 유사한 직육면체 형상이다. 상기 보조고정부(220)는 상기 고정부(210)의 볼트고정구(210b) 및 상기 결합부(120)의 제1볼트관통구(120a)와 대응되는 위치에 제2볼트관통구(220b)가 형성되며, 상기 고정부(210)와 상기 결합부(120)가 볼트를 매개로 고정 시 볼트(2)의 헤드부가 상기 결합부(120)에 닿지 않도록 상기 보조고정부(220)를 상기 고정부(210)가 상기 결합부(120)와 부착된 반대 방향에 덧대어진 형태로 구성된다. 따라서, 상기 고정부(210)와 상기 결합부(120) 및 상기 보조고정부(220)의 순서로 포개어진 형태로서 볼트(2)가 상기 보조고정부(220)를 통과하여 상기 결합부(120) 및 상기 고정부(210)를 차례로 통과하는 형태로 체결되는 것을 특징으로 한다.As shown in the figure, the upper end of the fixing part 210 is connected to the upper end of the coupling part 120, A bolt fastener 210b is formed at a position corresponding to the first bolt through-hole 120a of the engaging part 120 and is fixed to the engaging part 120 via a bolt . The fixing portion 210 has a rectangular parallelepiped shape having a width similar to the width of the coupling portion 120 and a length longer than the coupling portion 120 and extending downward from the overlapping portion, And is connected to the bending elongated receiving portion (230). The auxiliary securing portion 220 has a width similar to that of the engaging portion 120 and a height in a rectangular parallelepiped shape similar to the securing portion 210. The auxiliary fixing part 220 includes a second bolt through hole 220b at a position corresponding to the bolt fastener 210b of the fixing part 210 and the first bolt through hole 120a of the coupling part 120 And the auxiliary fixing part 220 is fixed to the fixing part 220 so that the head part of the bolt 2 does not contact the coupling part 120 when the fixing part 210 and the coupling part 120 are fixed via bolts. (210) is padded in a direction opposite to that of the attachment portion (120). Therefore, the bolts 2 are inserted in the order of the fixing part 210, the coupling part 120 and the auxiliary fixing part 220 in this order, passing through the auxiliary fixing part 220, And the fixing part 210 in this order.

상기 받침부(230)는 상기 고정부(210)의 하단에서 고정부(210)가 마주보는 방향의 반대 측면으로 절곡 연장되며, 평면도에서 보았을 때, 연장면의 중앙부위에 외부 고정면에 오메가형 히터를 고정시킬 수 있도록 볼트가 관통되는 1개의 제3볼트관통구(230a)가 형성된 것을 특징으로 한다. The support part 230 is bent and extended to the opposite side of the fixing part 210 in a direction opposite to the direction in which the fixing part 210 faces. The support part 230 has an Omega type And a third bolt through-hole 230a through which a bolt is passed to fix the heater.

본 발명에 따르면, 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터에서 상기 결합부(120)와 상기 고정부(210) 및 상기 보조고정부(220)를 3개의 볼트로 체결시키므로 기존에 2개의 볼트를 사용하여 체결시킬 때 보다 체결력이 우수하기 때문에 히터의 반복 사용에 따라 전원이 인가되고 단절되면서 발생하는 오메가형 히터의 열변형을 감소시킬 수 있다.According to the present invention, since the coupling part 120, the fixing part 210 and the auxiliary fixing part 220 are fastened with three bolts in the OMEGA type heater for the metal organic chemical vapor deposition processing chamber, It is possible to reduce the thermal deformation of the omega-shaped heater which is generated when power is applied and disconnected due to repeated use of the heater.

도 3은 상술한 본 고안의 필라멘트파트(100)와 지지파트(200)의 체결에 2개의 볼트 및 3개의 볼트를 사용하는 경우 인장력을 가하여 상태 변화를 비교하는 실험 도면 및 실험 그래프를 도시한 것으로서, 시편 (A)의 경우 3개의 볼트로 체결하였고, 시편 (B),(C)의 경우 2개의 볼트로 체결한 오메가형 히터이다.3 is an experimental drawing and an experimental graph for comparing the state change by applying a tensile force when two bolts and three bolts are used for fastening the filament part 100 and the support part 200 of the present invention described above , The specimen (A) is fastened with three bolts, and the specimens (B) and (C) are fastened with two bolts.

실험의 객관성을 위하여 시편 (A),(B),(C) 모두 오차범위 이내의 동일 사이즈와 동일 재질로 구성된 각기 다른 시편으로 각각 실험을 수행하였다.For the objectivity of the experiment, the specimens (A), (B), and (C) were tested with different specimens of the same size and same material within the error range.

도 4a는 시편 (A)에 관한 실험 그래프를 나타낸 것으로, 필라멘트파트와 지지파트를 3개의 볼트로 체결한 후 인장력을 가하여 테스트한 것이며 강도와 늘어남 정도를 판단 할 수 있는 수치를 확인할 수 있다.FIG. 4A shows an experimental graph relating to the specimen (A), in which the filament part and the support part are tightened with three bolts and then subjected to a tensile force test, and a numerical value capable of judging strength and elongation can be confirmed.

도 4b는 시편 (B)에 관한 실험 그래프를 나타낸 것으로, 필라멘트파트와 지지파트를 2개의 볼트로 체결한 후 인장력을 가하여 테스트한 것이며 강도와 늘어남 정도를 판단할 수 있는 수치를 확인할 수 있다.FIG. 4B shows an experimental graph relating to the specimen (B), in which the filament part and the support part are tightened with two bolts and then subjected to a tensile force test, and numerical values capable of judging the strength and elongation degree can be confirmed.

도 4c는 시편 (C)에 관한 실험 그래프를 나타낸 것으로, 시편 (B)와 동일한 조건으로 테스트한 것이며 강도와 늘어남 정도를 판단할 수 있도록 그 실험결과를 다음과 같은 표로서 정리하였다.FIG. 4C shows an experimental graph of the specimen (C), which was tested under the same conditions as the specimen (B), and the experimental results are summarized in the following table so as to determine the strength and elongation.

필라멘트파트와 지지파트를 3개의 볼트로 체결한 시편 (A)와 필라멘트파트와 지지파트를 2개의 볼트로 체결한 시편 (B), 시편 (C)의 비교실험 결과를 도시한 표.Table A shows the test results of the specimen (A) with the filament part and the support part fastened with three bolts, and the test specimen (B) and the specimen (C) with two bolts fastened to the filament part and the support part. 폭(mm)Width (mm) 두께(mm)Thickness (mm) 길이(mm)Length (mm) 영율
(N/mm2)Young's modulus
(N / mm 2 ) 0.2% 항복강도 (N/mm2)0.2% yield strength (N / mm 2 ) 최대 인장하중 (N)Maximum tensile load (N) 최대 인장강도 (N/mm2)Maximum tensile strength (N / mm 2 ) 시편 (A)Psalm (A) 18.9418.94 0.230.23 90.090.0 26937.8526937.85 263.55263.55 1312.071312.07 301.19301.19 시편 (B)Specimen (B) 18.9418.94 0.220.22 90.090.0 21454.8721454.87 258.99258.99 1400.891400.89 336.20336.20 시편 (C)Specimen (C) 18.9418.94 0.200.20 90.090.0 16669.7016669.70 301.83301.83 1214.891214.89 321.40321.40 평균값medium 18.9318.93 0.220.22 90.090.0 21687.4721687.47 274.79274.79 1309.281309.28 319.60319.60 최대값Maximum value 18.9418.94 0.230.23 90.090.0 26937.8526937.85 301.83301.83 1400.891400.89 336.20336.20 최소값Minimum value 18.9018.90 0.200.20 90.090.0 16669.7016669.70 258.99258.99 1214.891214.89 301.19301.19 표준편차Standard Deviation 0.023090.02309 0.015280.01528 0.00.0 5138.035138.03 23.5323.53 93.0393.03 17.5717.57

상기 표를 보아 알 수 있듯이, 최대 인장강도 수치가 시편 (A)에 비하여 시편 (B), 시편 (C)보다 낮은데 다시 말해 이는 외부 자극에 의해 늘어나는 정도가 적다는 것을 의미하고, 영율의 경우 시편 (A)가 시편 (B), 시편 (C)보다 높은데 이는 재료가 늘어난 이후 다시 회복되는 정도가 더 크다는 것을 알 수 있다.As can be seen from the above table, the maximum tensile strength value is lower than that of the specimen (B) and the specimen (C) compared to the specimen (A). In other words, this means that the degree of elongation is small by the external stimulus. (A) is higher than that of specimen (B) and specimen (C), indicating that the degree of recovery is greater after the material is stretched.

또한, 0.2% 항복강도와 최대 인장하중 수치의 경우 시편 (A)가 시편 (B)와 시편 (C)사이에 위치하며, 이것은 외부의 자극을 최대로 버틸 수 있는 값이 3가지 시편 모두 유사한 수준임을 나타내는 것으로, 본 실험을 통해 상기 결합부(120), 상기 고정부(210) 및 상기 보조고정부(220)를 3개의 볼트로 체결하는 경우 최대 인장강도와 영율면에서 우수성을 증명하는 것임을 알 수 있다.The specimen (A) is located between the specimen (B) and the specimen (C) at the 0.2% yield strength and the maximum tensile load value. It can be seen from the experiment that when the coupling part 120, the fixing part 210 and the auxiliary fixing part 220 are fastened with three bolts, it is proved that the maximum tensile strength and the zero- .

본 발명은 상술한 구조 외에도 다양한 실시예들을 적용할 수 있다. 상기 고정부(210)에 챔퍼를 형성한 제1챔퍼부(210a)와 보조고정부(220)에 챔퍼면을 형성한 제2챔퍼부(220a)를 통해 절곡면을 완만하게 하여 상기 필라멘트파트(100)의 열변형에 따른 형상변화를 감소시키는 것과, 상기 보조고정부(220)를 적층구조로 구성하여 볼트 체결력을 더욱 강화시키는 것, 상기 보조고정부(220)의 적층구조에 함입부와 돌출부를 형성하여 적층구조의 체결력을 더욱 강화시키는 것, 상기 필라멘트파트(100)의 상기 라운딩부(110)에서 상기 결합부(120)로 절곡되는 부위를 다른 부위보다 두껍게 형성하여 형상변화를 감소시키는 것, 고정밴드(110a)를 상기 라운딩부(110)의 둘레 외면을 둘러싸는 형태로 추가 결합시켜 상기 라운딩부(110)의 형상변화를 감소시키는 것이다.The present invention can be applied to various embodiments other than the above-described structure. The first chamfered portion 210a formed with the chamfered portion in the fixing portion 210 and the second chamfered portion 220a formed with the chamfered surface in the auxiliary fixing portion 220 gently curves the bent surface, 100 and the auxiliary fixing part 220 are stacked to further strengthen the bolt fastening force. The auxiliary fixing part 220 has a laminated structure in which the recessed part and the protruded part To further strengthen the fastening force of the laminated structure, to reduce the shape change by forming a portion of the filament part 100 bent from the round portion 110 to the engaging portion 120 to be thicker than other portions The fixing band 110a is further coupled to the outer circumferential surface of the rounding part 110 to reduce the change in the shape of the rounding part 110. [

도 1a, 도 2a 및 도 2b를 다시 살펴보면, 상기 고정부(210)와 상기 보조고정부(220)의 일 측면에는 챔퍼면이 형성되어있다. 더욱 상세히 설명하면, 상기 고정부(210)는 상기 라운딩부(110)에서 상기 결합부(120)로 절곡되는 연결부위와 인접한 모서리에 챔퍼면을 형성한 제1챔퍼부(210a)가 구성된다. 이러한 제1챔퍼부(210a)의 형성을 통해 상기 고정부(210)를 직육면체 형상으로 구성하였을 때 보다 연결부위가 완만하게 형성될 수 있다. 또한, 상기 보조고정부(220)에는 외부로 돌출된 면, 다시 말해 상기 결합부(120)와 접촉된 면의 반대쪽 면에서 그 양 측 모서리에 각각 챔퍼면을 형성한 제2챔퍼부(220a)가 구성된다. 이러한 제2챔퍼부(220a)의 구성을 통해 상기 보조고정부(220)가 주변의 외부 소자들과의 접촉 확률을 감소시켜 누전 또는 발열에 의한 추가 피해를 억제할 수 있다.Referring to FIGS. 1A, 2A and 2B, a chamfered surface is formed on one side of the fixing part 210 and the auxiliary fixing part 220. More specifically, the fixing portion 210 includes a first chamber portion 210a having a chamfered surface formed at an edge adjacent to the connection portion bent from the rounding portion 110 to the coupling portion 120. As shown in FIG. Through the formation of the first chamber portion 210a, the connecting portion can be formed more gently than when the fixing portion 210 is formed in a rectangular parallelepiped shape. The auxiliary fixing part 220 is provided with a second chamfer part 220a having a chamfered surface formed on the opposite side of the surface protruding outwardly, that is, the side opposite to the side contacting with the engaging part 120, . Through the configuration of the second chamber portion 220a, the auxiliary fixing portion 220 can reduce the probability of contact with the surrounding external elements, thereby preventing additional damage due to leakage or heat generation.

또 다른 실시예로서, 도 1b는 보조고정부(220)의 실시예를 나타낸 것으로서 상기 보조고정부(220)를 압박층(221)과 보호층(222)의 적층구조로 형성하되, 상기 결합부(120)와 맞닿는 부분을 압박층(221)으로, 볼트(2)가 최초로 삽입되고 볼트(2)의 헤드부가 고정되며 상기 압박층의 결합부 접촉면의 반대 면과 맞닿도록 위치하는 보호층(222)으로 구성한다. 또한, 상기 압박층(221)은 탄성력이 강한 재질을, 상기 보호층(222)은 탄성력이 없는 재질로 구성함으로써 볼트 체결 시 외부로 돌출되고 볼트(2)의 헤드부가 고정되는 부분이 내구성을 가지며, 압박층을 통해 상기 결합부(120)에 추가적인 압력을 가할 수 있어 상기 고정부(210)와 상기 결합부(120) 및 상기 보조고정부(220)의 결합을 안정적으로 유지시킨다.1B shows an embodiment of the auxiliary fixing part 220. The auxiliary fixing part 220 is formed in a laminated structure of a pressing layer 221 and a protective layer 222, A portion of the bolt 2 is first inserted and the head portion of the bolt 2 is fixed and the protective layer 222 positioned to abut the opposite surface of the contact portion of the engaging portion of the pressing layer, ). The pressing layer 221 is made of a material having a high elastic force and the protective layer 222 is made of a material having no elastic force so that the portion where the head portion of the bolt 2 is fixed when the bolt is fastened is durable Further pressure can be applied to the coupling portion 120 through the pressing layer to stably maintain the coupling between the fixing portion 210 and the coupling portion 120 and the auxiliary fixing portion 220. [

또 다른 실시예로서, 도 1b는 보조고정부(220)의 다른 실시예를 나타낸 것으로서 상기 압박층(221)이 상기 보호층(222)과 접촉되는 면의 일측에서 함입부가 형성되되, 상기 함입부의 단면은 상기 압박층(221)의 내부로 향할수록 너비가 증가하는 등변사다리꼴 형상으로 함입되고, 상기 보호층(222)은 상기 압박층(221)과 접촉되는 면에 상기 함입부와 대응되는 돌출부가 형성되되, 상기 돌출부의 단면은 상기 보호층(222)으로부터 너비가 증가하는 등변사다리꼴 형상으로 돌출된다. 상기 함입부와 상기 돌출부는 서로 끼움식으로 고정되어 끼움구조(220C)를 형성하므로 상기 보조고정부(220)의 체결력을 더욱 강화시킨 형태로 구성할 수 있다. 1B shows another embodiment of the auxiliary fixing part 220. In this embodiment, the pressing part 221 is formed at one side of the surface where the pressing layer 221 is in contact with the protective layer 222, The end surface of the protective layer 222 is embedded in an isotropic trapezoidal shape increasing in width toward the inside of the pressure layer 221. The surface of the protective layer 222 which is in contact with the pressure layer 221 has protrusions corresponding to the depressions And a cross section of the protrusion protrudes in an isosceles trapezoidal shape whose width increases from the protective layer 222. Since the recessed portion and the protruding portion are fitted and fixed to each other to form the fitting structure 220C, the fastening force of the auxiliary fixing portion 220 can be further strengthened.

또 다른 실시예로서, 도 1a 및 도 2a는 상기 필라멘트파트(100)의 실시예를 나타낸 것으로서 필라멘트파트(100)는 라운딩부(110)에서 상기 결합부(120)로 절곡되는 연결부위가 다른 부위보다 두껍도록 형성되며, 좀 더 상세하게 설명하자면 상기 연결부위의 중심 방향으로 향할수록 점차 두꺼워지는 형태로 형성되어 절곡 연장된 연결부위의 변형을 방지하고 형태를 유지하도록 한다.1A and 1B show an embodiment of the filament part 100. The filament part 100 has a connection part bent from the round part 110 to the coupling part 120 at a different position And more specifically, it is formed to be gradually thicker toward the center of the connection portion to prevent deformation of the extended connection portion and maintain the shape.

또 다른 실시예로서, 도 1a는 상기 라운딩부(110)의 둘레외면을 둘러싸도록 고정밴드(110a)를 추가로 형성한 것이다. 좀 더 상세히 설명하면, 상기 고정밴드(110a)는 상기 라운딩부(110) 보다 강한 내열성을 갖는 띠 형상의 금속으로 구성되는 것이 바람직하며, 상기 고정부(210)와 상기 결합부(120) 및 상기 보조고정부(220)가 볼트를 매개로 고정되는 부위에서 상기 고정밴드(110a)의 일단과 타단이 각각 상기 고정부(210)와 상기 결합부(120) 사이에 포개어져 볼트를 매개로 체결된다. 이러한 연속적인 고정을 위해서 상기 고정밴드(110a) 또한 상기 제1볼트관통구(120a)와 상기 볼트고정구(210b) 및 제2볼트관통구(220b)에 대응하는 위치에 볼트관통구(미도시)가 형성된다. 볼트를 매개로 고정시킨 상기 고정밴드(110a)는 상기 라운딩부(110)의 둘레외면을 둘러싸는 형태로 위치하게 되며, 오메가형 히터에서 발생하는 열에 의해 변형되지 않아 일정한 형상으로 상기 라운딩부(110)의 외면을 둘러싸 상기 라운딩부(110)의 형태를 유지하도록 지지한다. As another example, FIG. 1A further shows a fixing band 110a to surround the outer circumferential surface of the rounded portion 110. FIG. More specifically, the fixing band 110a is preferably formed of a band-like metal having heat resistance stronger than the rounding part 110, and the fixing part 210, the coupling part 120, One end and the other end of the fixing band 110a are superposed between the fixing portion 210 and the engaging portion 120 at the position where the auxiliary fixing portion 220 is fixed via the bolt, . In order to fix the fixing band 110a continuously, a bolt hole (not shown) is formed at a position corresponding to the first bolt through-hole 120a, the bolt fastener 210b and the second bolt through-hole 220b. . The fixing band 110a fixed through the bolt is positioned to surround the outer circumferential surface of the rounding part 110. The fixing band 110a is not deformed by the heat generated by the omega type heater, So that the shape of the rounded portion 110 is maintained.

지금까지 설명한 바와 같이, 본 고안에 따른 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터의 구성 및 작용을 상기 설명 및 도면에 표현하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하여 본 고안의 사상이 상기 설명 및 도면에 한정되지 않으며, 본 고안의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.As described above, the construction and operation of the OMEGA type heater for the metal-organic chemical vapor deposition processing chamber in which the twisting phenomenon according to the present invention is reduced have been described in the above description and drawings, but the description of this invention The present invention is not limited to the above description and drawings, and various changes and modifications may be made without departing from the technical idea of the present invention.

1: 샤프트 2: 볼트
100: 필라멘트파트 110: 라운딩부
110a: 고정밴드 120: 결합부
120a: 제1볼트관통구 200: 지지파트
210: 고정부 210a: 제1챔퍼부
210b: 볼트고정구 220: 보조고정부
220a: 제2챔퍼부 220b: 제2볼트관통구
220c: 끼움구조 221: 압박층
222: 보호층 230: 받침부
230a: 제3볼트관통구 1: Shaft 2: Bolt
100: filament part 110: rounding part
110a: fixed band 120: engaging portion
120a: first bolt through-hole 200: support part
210: fixing part 210a: first chamber part
210b: bolt fastener 220: auxiliary fastening part
220a: second chamber portion 220b: second bolt penetrating hole
220c: fitting structure 221: pressing layer
222: protection layer 230:
230a: third bolt hole

Claims (6)

뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터로서,
상부와 하부 및 일 측부가 개방된 원통 형상으로 내측에 배치된 샤프트와 이격되어 둘러싸는 라운딩부와, 상기 라운딩부의 개방된 일 측부의 각 단에서 상기 샤프트의 외측으로 절곡되어 연장된 결합부를 포함하는 필라멘트파트;
상기 결합부의 일면과 접촉한 상태로 하방으로 연장 배치된 고정부와, 상기 결합부를 기준으로 상기 고정부가 배치된 면의 대향측면에 덧대어지는 보조고정부와, 상기 고정부의 하단에서 절곡 연장된 받침부를 포함하는 지지파트;를 포함하되,
상기 필라멘트파트와 상기 지지파트는,
상기 고정부와 상기 결합부 및 상기 보조고정부를 차례로 관통하는 3개의 볼트를 매개로 체결되고,
상기 고정부는,
상기 라운딩부에서 상기 결합부로 절곡되는 연결부위와 인접한 모서리에 챔퍼면이 형성되며,
상기 보조고정부는,
상기 결합부와 접촉된 면의 대향면의 양 측 모서리에 각각 챔퍼면을 형성한 것을 특징으로 하는, 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터.An omega-shaped heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber with reduced distortion,
And a coupling portion extending outwardly from the shaft at each end of the opened one side portion of the round portion, wherein the coupling portion includes: Filament parts;
An auxiliary fixing part padded on the opposite side surfaces of the surface on which the fixing part is disposed with reference to the engaging part as a reference and a supporting part which is bent and extended at the lower end of the fixing part, And a support part including a part,
Wherein the filament part and the support part,
A bolt fastened through the fixing portion, the coupling portion, and the auxiliary fixing portion in this order,
The fixing unit includes:
A chamfered surface is formed at an edge adjacent to the connection portion bent from the round portion to the coupling portion,
The auxiliary securing portion includes:
And a chamfered surface is formed at both side edges of the opposing surface of the surface brought into contact with the engaging portion. 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 보조고정부는,
탄성력을 갖는 재질로 구성되고 상기 결합부와 맞닿는 면에 배치되는 압박층과,
탄성력이 없는 재질로 구성되고 상기 압박층과 맞닿는 보호층이 형성되며,
상기 압박층과 상기 보호층이 적층된 것을 특징으로 하는 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터. The method according to claim 1,
The auxiliary securing portion includes:
A pressing layer which is made of a material having an elastic force and is arranged on a surface contacting with the engaging portion,
A protective layer made of a material having no elastic force and abutting against the pressing layer is formed,
Wherein the pressing layer and the protective layer are laminated on the substrate. The OMEGA type heater for an organometallic chemical vapor deposition processing chamber. 제 3항에 있어서,
상기 압박층은,
상기 보호층과 접촉되는 면의 일측에서 함입된 함입부가 형성되고,
상기 보호층은,
상기 압박층과 접촉되는 면의 일측에서 상기 함입부와 대응되는 형상으로 돌출된 돌출부가 형성되어,
상기 함입부와 상기 돌출부가 서로 끼움식으로 고정되는 것을 특징으로 하는 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터.The method of claim 3,
The pressing layer
An embedded portion embedded in one side of the surface contacting with the protective layer is formed,
The protective layer may be formed,
A protruding portion protruding in a shape corresponding to the recessed portion is formed at one side of the surface contacting the pressing layer,
Wherein the recessed portion and the protruding portion are fitted and fixed to each other. 제 1항에 있어서,
상기 필라멘트파트는,
상기 라운딩부와 상기 결합부의 연결부위가 타 부위보다 두껍게 형성되되, 상기 연결부위의 중심 방향으로 갈수록 더 두꺼워지도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터.The method according to claim 1,
The filament part
Wherein the connection part between the round part and the coupling part is thicker than the other part and the coupling part is thicker toward the center of the connection part. 제 1항에 있어서,
상기 필라멘트파트는,
띠 형상으로, 일단과 타단이 각각 상기 고정부와 상기 결합부 사이에 배치되어 상기 볼트를 매개로 체결되는 고정밴드를 추가로 포함하되,
상기 고정밴드는 상기 라운딩부의 둘레 외면을 둘러싸면서 지지하는 것을 특징으로 하는, 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터.


The method according to claim 1,
The filament part
The fixing belt according to any one of claims 1 to 3, further comprising a fixing band (10) having one end and another end disposed between the fixing portion and the coupling portion,
Characterized in that the fixing band surrounds and supports the peripheral outer surface of the rounded portion.


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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980024857U (en) * 1998-04-20 1998-07-25 김종원 Fastener of the pipe connection
KR20050023524A (en) 2003-08-28 2005-03-10 삼성전자주식회사 Installation structure of heater in semiconductor manufacturing apparatus
KR20060123696A (en) 2000-05-03 2006-12-04 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Multiple frequency plasma chamber with grounding capacitor at cathode
KR20080003218U (en) * 2007-02-06 2008-08-11 남효갑 Piping be frozen to burst prevention heater
JP3177560U (en) * 2012-05-28 2012-08-09 株式会社島津製作所 Band heater and oven using band heater
KR101554711B1 (en) * 2014-04-28 2015-09-21 주식회사 엠에이치티 Heat treatment apparatus for pipe

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980024857U (en) * 1998-04-20 1998-07-25 김종원 Fastener of the pipe connection
KR20060123696A (en) 2000-05-03 2006-12-04 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Multiple frequency plasma chamber with grounding capacitor at cathode
KR20050023524A (en) 2003-08-28 2005-03-10 삼성전자주식회사 Installation structure of heater in semiconductor manufacturing apparatus
KR20080003218U (en) * 2007-02-06 2008-08-11 남효갑 Piping be frozen to burst prevention heater
JP3177560U (en) * 2012-05-28 2012-08-09 株式会社島津製作所 Band heater and oven using band heater
KR101554711B1 (en) * 2014-04-28 2015-09-21 주식회사 엠에이치티 Heat treatment apparatus for pipe

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