KR200465886Y1 - Cross cover for Upper Pneumatics Assembly in Chemical Mechanical Polishing Machine - Google Patents
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Abstract
본 고안은 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버에 관한 것으로서, 상세하게는 화학기계적 연마장치의 상부 고압제어 어셈블리의 보호커버에 원터치버튼을 부착시켜서 결합 및 분리가 용이하게 하고, 나아가 원터치버튼의 부착부분을 조절하여 그 부착갯수를 줄여서 전체적으로 종래의 부착력을 그대로 유지하면서도 보호커버의 탈부착시간을 90% 이상 단축시킨 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버에 관한 것이다.The present invention relates to a protective cover of the upper pneumatic control assembly of the chemical mechanical polishing apparatus, and in particular, by attaching a one-touch button to the protective cover of the upper high-pressure control assembly of the chemical mechanical polishing apparatus to facilitate the coupling and separation, furthermore, one-touch button The upper pneumatic control assembly protection cover of the chemical mechanical polishing apparatus that reduces the number of attachment by adjusting the attachment portion of the chemical mechanical polishing apparatus to reduce the detachment time of the protective cover by more than 90% while maintaining the conventional attachment force as a whole.
Description
본 고안은 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버에 관한 것으로서, 상세하게는 화학기계적 연마장치의 상부 고압제어 어셈블리의 보호커버에 원터치버튼을 부착시켜서 결합 및 분리가 용이하게 하고, 나아가 원터치버튼의 부착부분을 조절하여 그 부착갯수를 줄여서 전체적으로 종래의 부착력을 그대로 유지하면서도 보호커버의 탈부착시간을 90% 이상 단축시킨 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버에 관한 것이다.The present invention relates to a protective cover of the upper pneumatic control assembly of the chemical mechanical polishing apparatus, and in detail, by attaching a one-touch button to the protective cover of the upper high-pressure control assembly of the chemical mechanical polishing apparatus to facilitate the coupling and separation, furthermore, the one-touch button The upper pneumatic control assembly protection cover of the chemical mechanical polishing apparatus that reduces the number of attachment by adjusting the attachment portion of the chemical mechanical polishing apparatus to reduce the detachment time of the protective cover by more than 90% while maintaining the conventional attachment force as a whole.
최근의 반도체 분야의 흐름은 고집적화, 고기능화의 추세에 따르고 있다. 즉, 고집적화에 따른 선폭의 감소로 필요로 하는 용량의 메모리 셀(cell)을 구현하기 위하여는 3차원적 입체구조를 가지는 커패시터 (capacitor)등으로 구성된 셀을 필요로 하게 되었고, 그에 따라 주변부(periphery)의 회로와 메모리 셀간의 높이 차이가 발생되며, 층간 절연막(inter layer dielectric)의 증착후 미세 구조가 밀집된 지역과 주변부 회로간에 발생되는 단차로 인하여 이후의 공정 진행을 어렵게 하는 문제점이 있다.
The recent trend in the semiconductor field is following the trend of high integration and high functionalization. In other words, in order to realize a memory cell having a capacity required by the reduction of the line width due to the high integration, a cell composed of a capacitor having a three-dimensional solid structure is needed, and accordingly, a peripheral portion is required. The height difference between the circuit and the memory cell is generated, and there is a problem that it is difficult to proceed with the subsequent process due to the step difference between the region where the microstructure is dense and the peripheral circuit after the deposition of the interlayer dielectric.
이와 같은 국소적인 영역별로 단차가 존재할 경우, 리소그래피(lithography) 공정에서 표면의 평탄도 불량으로 초점심도(Depth of Focus)의 여유 (margin)가 적어 모든 영역에서의 정확한 패턴의 정의가 어렵게 된다. 따라서, 층간절연막을 증착한 이후의 표면의 평탄도는 반도체 집적 기술의 발전과 더불어 반드시 해결하여야 하는 과제가 되고 있다. If there is a step for each of these local areas, the margin of focus is low due to poor surface flatness in the lithography process, so that it is difficult to define an accurate pattern in all areas. Therefore, the flatness of the surface after the deposition of the interlayer insulating film is a problem that must be solved with the development of semiconductor integrated technology.
이와같이 표면의 평탄도 문제를 해결하기 위하여 등장한 것이 기계적인 연마방식과 화학적인 연마방식을 접목시킨 화학기계적연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP)장치이다. 이는 층간절연막의 평탄화 뿐만아니라 소자 분리(isolation)용 트렌치(trench)의 갭필링(gap filling), 텅스텐 플러그(W-plug) 형성 및 배선을 위한 다마신(damascene) 공정에도 본격적으로 적용이 되고 있다.In order to solve the surface flatness problem, a chemical mechanical polishing (CMP) device combining a mechanical polishing method and a chemical polishing method has emerged. This has been applied to the damascene process for gap filling, tungsten plug formation and wiring of trenches for isolation, as well as planarization of the interlayer insulating film. .
화학기계적연마장치에서의 기계적인 연마는 실리콘 웨이퍼와 표면에 일정한 거칠기를 가지는 폴리싱패드를 접촉시키고 이를 서로 상대적으로 움직이게 함으로서 마찰을 일으키는 것에 의하여 이루어지고, 상기 화학적인 연마는 슬러리라는 화학물질을 폴리싱패드와 웨이퍼 사이에 투입하여 웨이퍼의 절연막과 슬러리가 반응하게 하는 것에 의해 이루어지도록 되어 있다. Mechanical polishing in a chemical mechanical polishing apparatus is performed by contacting a silicon wafer with a polishing pad having a certain roughness on a surface and causing friction by moving it relative to each other. The chemical polishing is performed by polishing a chemical called slurry into a polishing pad. And between the wafer and the wafer to make the insulating film and the slurry of the wafer react.
여기서, 화학기계적연마장치에서 폴리싱패드가 부착된 폴리싱헤드부에는 질소의 가압 및 진공의 공급을 조절하는 상부 공압제어 어셈블리(Upper Pneumatics Assembly)가 설치되어 있다. Here, an upper pneumatic control assembly for controlling pressurization of nitrogen and supply of vacuum is installed in the polishing head portion to which the polishing pad is attached in the chemical mechanical polishing apparatus.
상부 공압제어 어셈블리에는 질소의 공급과 진공의 조절을 위한 각종 설비로 구성되어 있는데, 화학기계적연마장치는 그 특성상 다량의 슬러지와 순수를 사용하게 되고, 이로 인하여 슬러지와 순수가 상부 공압제어 어셈블리의 내부로 유입되는 것을 방지하기 위하여 상부 공압제어 어셈블리의 외부에는 투명한 보호커버를 설치한다.The upper pneumatic control assembly is composed of various equipment for supplying nitrogen and controlling vacuum. The chemical mechanical polishing device uses a large amount of sludge and pure water due to its characteristics, so that the sludge and pure water are inside the upper pneumatic control assembly. A transparent protective cover is installed on the outside of the upper pneumatic control assembly in order to prevent the inflow into the air.
도 1은 종래의 보호커버의 사시도이고, 도 2는 보호커버를 구성하는 다면체부와 곡률부의 사시도로서, 도 1과 도 2에서 보는 바와 같이 종래의 보호커버는 다면체부(10), 곡률부(20) 및 결합부(30)로 구성되어 있다. 이들 사이의 결합은 이들의 연결부분에 형성된 결합공에 십자형태의 나사(12)등의 결합수단을 결합시키는 방식으로 이루어진다. 1 is a perspective view of a conventional protective cover, Figure 2 is a perspective view of the polyhedral portion and the curvature portion constituting the protective cover, as shown in Figures 1 and 2, the conventional protective cover is a
문제는 나사(12)를 이용하여 체결을 하게 됨으로 인하여, 보호커버를 제거하거나 결합시킬 필요가 있는 경우에는 일일이 나사(12)를 분해 및 결합시커야 하므로 많은 시간이 소요되었다. 이는 결과적으로 화학기계적설비의 가동시간을 줄이게 되어서 반도체 공정의 생산효율을 저하시키는 문제가 있었다.Since the problem is to fasten using the
나아가 금속성의 나사(12)를 사용함으로 인하여 시간의 경과에 따라 순수와 슬러지에 노출된 나사에 녹이 발생하게 되고, 이는 작은 파티클 하나도 최소화시켜야 하는 반도체 제조공정에 있어서 심각한 품질상의 문제를 발생시킬 수 있다.Further, the use of the
본 고안은 상기된 문제점을 해결하기 위하여 고안된 것으로서, 본 고안은 화학기계적 연마장치의 상부 고압제어 어셈블리의 보호커버에 원터치버튼을 부착시켜서 결합 및 분리가 용이하게 하고, 나아가 원터치버튼의 부착부분을 조절하여 그 부착갯수를 줄여서 전체적으로 종래의 부착력을 그대로 유지하면서도 보호커버의 탈부착시간을 90% 이상 단축시킬 수 있는 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버를 제공함을 그 목적으로 한다.The present invention is devised to solve the above problems, the present invention is attached to the protective cover of the upper high-pressure control assembly of the chemical mechanical polishing apparatus by attaching the one-touch button to facilitate the coupling and separation, further adjusting the attachment portion of the one-touch button The purpose of the present invention is to provide a protective cover for the upper pneumatic control assembly of a chemical mechanical polishing apparatus which can reduce the detachment time of the protective cover by 90% or more while maintaining the overall attachment force by reducing the number of attachments thereof.
본 고안에 의한 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버는 The upper pneumatic control assembly protective cover of the chemical mechanical polishing apparatus according to the present invention
화학기계적 연마장치의 상부에 설치되어 폴리싱 헤드부의 공압을 조절하는 상부 공압제어 어셈블리의 외부에 설치되는 보호커버로서,A protective cover installed on the upper side of the chemical mechanical polishing apparatus and installed outside the upper pneumatic control assembly for adjusting the pneumatic pressure of the polishing head.
상기 보호커버는 The protective cover
내부에 상부 공압제어 어셈블리를 수용하며, 하부면과 상부 공압제어 어셈블리의 중심을 향하는 면이 개방된 다면체 형상의 4개의 다면체부; Four polyhedral parts of the polyhedral shape that accommodates the upper pneumatic control assembly therein, the lower surface and the surface toward the center of the upper pneumatic control assembly is open;
인접한 다면체부를 연결하기 위하여 상기 다면체부의 양측면에 접하는 곡률부; 및 A curvature portion in contact with both sides of the polyhedron portion for connecting an adjacent polyhedron portion; And
상기 다면체부와 곡률부의 접하는 부분에 설치되어, 일부는 다면체부와 접하고 일부는 곡률부와 접하여 다면체부와 곡률부를 연결하는 길이 방향으로 연장된 막대형상의 결합부를 포함하며,It is provided in the contact portion of the polyhedral portion and the curvature portion, a portion of the contact with the polyhedral portion and a portion includes a rod-shaped coupling portion extending in the longitudinal direction connecting the polyhedral portion and the curvature portion,
상기 결합부와 다면체부의 연결부분 및 상기 결합부와 곡률부의 연결부분에는 적어도 하나 이상의 원터치 버튼이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.At least one one-touch button is formed at the connection portion of the coupling portion and the polyhedron portion and the connection portion of the coupling portion and the curvature portion.
본 고안의 다른 바람직한 특징에 의하면, 결합부와 다면체부의 연결부분에는 원터치버튼이 2개 형성되어 있고, 결합부와 곡률부의 연결부분에는 원터치버튼이 3개 형성되어 있다.According to another preferred feature of the present invention, two one-touch buttons are formed at the connection portion of the coupling portion and the polyhedron portion, and three one-touch buttons are formed at the connection portion of the coupling portion and the curvature portion.
본 고안의 다른 바람직한 특징에 의하면, 원터치버튼은 플러그와 상기 플러그와 결합하는 소켓으로 구성되어 있으며, 상기 소켓의 길이가 상기 소켓의 내경의 2-4배이다.According to another preferred feature of the present invention, the one-touch button is composed of a plug and a socket for engaging the plug, the length of the socket is 2-4 times the inner diameter of the socket.
본 고안의 다른 바람직한 특징에 의하면, 원터치버튼은 합성수지재질로 만든다.According to another preferred feature of the present invention, the one-touch button is made of synthetic resin material.
본 고안의 다른 바람직한 특징에 의하면, 결합부의 상부면에는 원터치버튼의 소켓이 부착되어 있으며, 다면체부의 상부면에는 결합부의 상부면에 형성된 소켓에 대응하는 지점에 형성된 이탈방지홈에 플러그가 부착되어 있다.According to another preferred feature of the present invention, the upper surface of the coupling portion is attached to the socket of the one-touch button, the upper surface of the polyhedron portion is attached to the separation prevention groove formed at the point corresponding to the socket formed on the upper surface of the coupling portion. .
본 고안에 의한 보호커버는 드라이버를 이용하여 나사를 돌려서 결합 내지 분리시킬 필요가 없이, 단순히 손으로 원터치버튼을 눌러서 결합 및 분리가 가능하므로, 별도의 연장이 없이 보호커버를 간편하고 신속하게 결합 및 분리가 가능하다.The protective cover according to the present invention does not need to be combined or separated by turning a screw using a screwdriver, and thus can be combined and separated by simply pressing a one-touch button with a hand. It can be separated.
본 고안에 의한 보호커버는 원터치버튼이 설치되는 부분을 조절하여서 전체적으로 원터치버튼이 부착되는 지점을 하나의 보호커버를 기준으로 종래의 96개에서 40개로 대폭 줄이면서도 종래의 부착력을 그대로 유지할 수 있으므로, 보호커버의 분리 및 결합시간을 단축시킬 수 있다. The protective cover according to the present invention can maintain the conventional adhesive force while significantly reducing the point where the one-touch button is attached to the entire one-touch button is installed from 96 to 40, based on one protective cover. It is possible to shorten the time of separating and attaching the protective cover.
결과적으로 보호커버의 분리 및 단축시간을 90%이상 단축시킬 수 있으며, 이는 화학기계적 연마장치의 가동효율을 향상시키는 것이 되어, 전체적으로 반도체 공정의 생산성 향상에 기여하게 된다.As a result, the separation and shortening time of the protective cover can be shortened by 90% or more, which improves the operating efficiency of the chemical mechanical polishing apparatus, thereby contributing to the overall productivity improvement of the semiconductor process.
또한 원터치버튼을 합성수지로 제작하게 되어서, 순수와 슬러지에 노출되더라도 녹이 스는 문제가 발생하지 않고, 이는 결과적으로 최종 제품인 반도체의 품질향상에 직접적으로 기여하게 된다.In addition, since one-touch buttons are made of synthetic resin, rust does not occur even when exposed to pure water and sludge, which contributes directly to the quality improvement of the final product semiconductor.
도 1은 종래의 보호커버의 사시도,
도 2는 보호커버를 구성하는 다면체부와 곡률부의 사시도,
도 3은 본 고안에 의한 보호커버의 사시도,
도 4는 본 고안에 의한 다면체부의 사시도,
도 5는 본 고안에 의한 곡률부의 사시도,
도 6은 본 고안에 의한 결합부의 정면도,
도 7은 본 고안에 의한 원터치버튼의 단면도,
이다.1 is a perspective view of a conventional protective cover,
2 is a perspective view of a polyhedron portion and a curvature portion constituting the protective cover,
3 is a perspective view of a protective cover according to the present invention,
4 is a perspective view of a polyhedron according to the present invention;
5 is a perspective view of a curvature unit according to the present invention;
6 is a front view of the coupling portion according to the present invention,
7 is a cross-sectional view of the one-touch button according to the present invention,
to be.
본 고안에 의한 보호커버는 화학기계적 연마장치의 상부에 위치하여 폴리싱 헤드의 질소공급 및 진공을 조절하는 상부 공압제어 어셈블리의 외부에 설치되어, 화학기계적 연마장치에서 사용되는 슬리지와 순수로부터 상부 공압제어 어셈블리를 보호하는 역할을 한다.The protective cover according to the present invention is located on the upper side of the chemical mechanical polishing apparatus and installed outside the upper pneumatic control assembly that controls the nitrogen supply and vacuum of the polishing head, and the upper pneumatic from the sludge and pure water used in the chemical mechanical polishing apparatus. It serves to protect the control assembly.
도 3은 본 고안에 의한 보호커버의 사시도이다. 보호커버는 4개의 다면체부와 이들을 연결하는 4개의 곡률부가 결합하여 하나의 보호커버를 형성하는데, 도 3에서는 설명의 편리를 위하여 두 개의 다면체부와 하나의 곡률부만을 도시하였다.3 is a perspective view of a protective cover according to the present invention. The protective cover combines four polyhedral parts and four curvatures connecting them to form one protective cover. In FIG. 3, only two polyhedral parts and one curvature part are shown for convenience of description.
도 3에서 보는 바와 같이 본 고안에 의한 보호커버는 다면체부(100), 곡률부(200) 및 결합부(300)를 포함한다. 이하 각 구성요소별로 설명한다.
As shown in FIG. 3, the protective cover according to the present invention includes a
도 4는 본 고안에 의한 다면체부의 사시도이다. 도 3과 도 4에서 보는 바와 같이, 본 고안에서의 다면체부(100)는 전체적으로 다면체의 형상을 가지고 있으며 그 내부에는 상부 공압제어 어셈블리의 일부가 수용된다. 다면체부(100)의 형상에 대해서는 특별한 제한은 없으며, 상부 공압제어 어셈블리를 수용하기에 적합한 형상으로 제작하면 되는데, 육면체 형상으로 제작하는 것이 가장 바람직하다.
4 is a perspective view of a polyhedron according to the present invention. As shown in Figures 3 and 4, the
다면체부(100)의 인접한 2개의 면은 개방된 형상을 가진다. 이는 다면체부(100)가 화학기계적 연마장치에 설치되기 위하여 다면체부(100)의 하부면과 상부 공압제어 어셈블리의 중심을 향하는 면은 개방된 형상으로 제작한다.Two adjacent faces of the
다면체부(100)에는 결합부(300)와 결합하기 위하여 결합부(300)와 접하는 부분에 플러그(410)가 부착되기 위한 결합공(110)이 형성된다. 이는 다면체부(100)에서 상부 공압제어 어셈블리의 중심을 향하는 개방된 면을 중심으로 그 양측면에 형성된다. 본 고안에서는 하나의 다면체부(100)에 결합공(110)이 6개만 형성된다.In the
한편 다면체부(100)에서 결합부(300)가 결합하는 부분의 상부에는 이탈방지홈(120)이 형성되어 있다. 이탈방지홈(120)에는 플러그(410)가 부착되는데, 이에 대해서는 추후에 자세히 설명한다.
On the other hand, the
도 5는 본 고안에 의한 곡률부의 사시도이다. 도 3과 도 5에서 보는 바와 같이, 본 고안에서의 곡률부(200)는 다면체부(100)의 사이에 설치되어서 인접한 다면체부(100)를 연결하는 역할을 한다. 이를 위해서 다면체부(100)와 곡률부(200)는 그 측면이 서로 접하게 된다. 곡률부(200)는 원통의 1/4에 해당하는 부분이다. 곡률부(200)에는 양측면부분에 각각 3개씩의 결합공(210)이 형성되어 있다.
5 is a perspective view of a curvature unit according to the present invention. 3 and 5, the
도 6은 본 고안에 의한 결합부의 정면도이다. 도 3과 도 6에서 보는 바와 같이 결합부(300)는 곡률부(200)와 다면체부(100)를 연결하는 역할을 한다. 이를 위하여 결합부(300)는 곡률부(200)와 다면체부(100)의 접하는 부분에 설치되며, 결합부(300)의 일부는 곡률부(200)와 접하고, 결합부(300)의 일부는 다면체부(100)와 접하게 된다.6 is a front view of the coupling unit according to the present invention. As shown in FIGS. 3 and 6, the
따라서 결합부(300)는 도 6과 같이 길이방향으로 연장된 막대형상으로 제작하는 것이 가장 바람직하다. Therefore, the
결합부(300)와 다면체부(100)의 결합 및 곡률부(200)와 다면체부(100)의 결합은 원터치버튼(400)을 이용하여 결합 및 분리시킨다. Coupling of the
이를 위하여 결합부(300)에는 다면체부(100)에 형성된 결합공(110) 및 곡률부(200)에 형성된 결합공(210)에 대응하는 위치에 결합공(310)이 형성되어 있다. 결합공(110, 210, 310)에는 원터치버튼(400)이 결합되어 있다.To this end, the
종래에는 결합공(110, 210, 310)에 금속성의 나사를 부착시켜서 이들을 결합 및 분리시켰으나, 본 고안에서는 이를 원터치버튼(400)으로 교체하여 그 결합 및 분리가 매우 용이하고 신속하게 이루어질 수 있도록 하였다.Conventionally, by attaching a metallic screw to the coupling holes (110, 210, 310) to combine and separate them, in the present design it was replaced by a one-
본 고안에서의 원터치버튼은 한번의 터치로 결합 또는 분리가 가능한 버튼을 의미한다. 본 고안에서는 이러한 기능을 수행할 수 있는 원터치버튼 사용하면 되는데, 도 7과 같은 형태의 원터치 버튼을 사용하는 것이 바람직하다. 도 7은 본 고안에 의한 원터치버튼의 단면도이다. 도 7에서 보는 바와 같이, 원터치버튼(400)은 플러그(410)와 소켓(420)으로 구성되어 있으며, 플러그(410) 또는 소켓(420) 중의 어느 하나는 결합부(300)에 설치되고, 다른 하나는 이에 대응하는 다면체부(100) 또는 곡률부(200)에 설치된다. 바람직하게는 플러그(410)는 다면체부(100) 또는 곡률부(200)에 설치되고, 소켓(420)이 결합부(300)에 설치된다. 이는 결합부(300)는 길이방향으로 연장된 막대형상이므로 다면체부(100)에 비하여 상대적으로 수월하게 소켓(420)을 설치할 수 있는 함몰부(330)를 형성할 수 있기 때문이다.One-touch button in the present design means a button that can be combined or separated with a single touch. In the present invention, the one-touch button can perform such a function, but it is preferable to use the one-touch button as shown in FIG. 7 is a cross-sectional view of the one-touch button according to the present invention. As shown in FIG. 7, the one-
플러그(410)는 원통형상으로 제작되어서 소켓(420)의 삽입부(421)에 삽입되는데, 원통형상의 플러그(410)의 내부에는 막대형상의 돌기(412)가 누름부(411)의 일단에 부착되어 있으며, 돌기(412)의 외부에는 스프링(413)이 부착되어 있다.The
돌기(412)의 일단에는 손으로 누를 수 있는 누름부(411)가 부착되고, 돌기의 타단에는 돌기의 수직방향으로 돌출된 잠김부(414)가 부착된다.
One end of the
소켓(420)은 플러그(410)가 삽입되는 삽입부(421), 상기 삽입부(421)의 말단에 부착된 제1톱니부(422)와 제2톱니부(423)으로 구성되어 있다. 잠김부(414)는 제1톱니부(422)와 결합하여 누름부(411)를 누르는 순간에 스프링(413), 제1톱니부(422)와 제2톱니부(423)의 상호 작용에 의해 일정 각도 회전을 하게 되고, 이로 인하여 잠김부(414)는 회전을 하면서 소켓(420)에 형성된 홈(미도시)에 결합 및 분리되면서, 전체적으로 소켓(420)과 플러그(410)를 결합 및 분리시키게 된다.The
원터치버튼의 작동원리에 대하여 자세히 설명한다.The operation principle of the one touch button will be described in detail.
도 8은 제1톱니부와 제2톱니부의 결합된 상태에서의 사시도이고, 도 9는 제1톱니부(a)와 제2톱니부(b)의 사시도이다. 도 9는 도 8의 A 지점을 기준으로 제1톱니부를 바라본 사시도가 도 9(a)이고, 도 8의 A 지점을 기준으로 제2톱니부를 바라본 사시도가 도 9(b)이다. 도 9(a)에서 제1톱니부(422)의 중앙에 형성된 관통홈(422-1)으로 잠김부(414)가 관통홈(422-1)의 형상에 맞추어서 삽입되면, 제2톱니부(423) 내부에 형성된 4개의 제2경사면(423-1)에 의해 잠김부(414)의 방향의 회전하고, 동시에 돌기(412)를 감싸는 스프링(413)에 의해 플러그(410)는 누름부(411) 방향으로 힘을 받게 되는데, 이 때에는 이미 잠김부(414)가 회전을 하면서 관통홈(422-1)의 방향과 직각으로 틀어져서 플러그(410)와 소켓(420)은 결합을 하게 됩니다.FIG. 8 is a perspective view in a state where the first and second teeth are coupled, and FIG. 9 is a perspective view of the first and second teeth, b. FIG. 9 is a perspective view of the first toothed part based on the point A of FIG. 8, and FIG. 9A is a perspective view of the second toothed part based on the point A of FIG. 8. In FIG. 9A, when the locking
반대로 누름부(411)를 누르게 되면 돌기(412)는 제2경사면(423-1)에 의해 회전을 하게 되고, 이 경우에 잠김부(414)가 다시 관통홈(422-1)의 형상과 일치하게 되어 플러그(410)와 소켓(420)은 분리된다.On the contrary, when the
한편 본 고안에서의 소켓(420)은 그 길이가 그 내부직경의 2-4배인 것을 특징으로 한다. 길이가 직경의 2배미만이면 소켓(420)과 플러그(410)의 결합면적이 적게 되어서 그 결합력이 작게 되어 본 고안의 소정의 목적을 달성할 수 없고, 그 길이가 너무 길면 외부로 노출되는 부분이 길어지는 문제가 있다.On the other hand, the
본 고안에서의 소켓(420)은 직경에 비하여 길이를 상대적으로 길게 형성시켜서 소켓(420)과 플러그(410)가 결합된 상태에서는 소켓(420)과 플러그(410)의 결합면적이 상대적으로 넓게 형성되어서 본 고안에 의한 보호커버가 상하좌우 어느방향으로 유동이 발생하여도 보호커버들을 매우 강한 힘으로 결합시킨 상태를 유지할 수 있고, 나아가 운전중에 원치않게 소켓(420)과 플러그(410)가 분리되거나 또는 사람이 실수로 소켓(420)에 플러그(410)를 끼운 상태에서 잠김부(411)를 누르지 않은 경우에도 플러그(410)의 원통부분의 측면은 소켓(420)의 삽입부(421)의 측면과 밀착되어서 이들이 쉽게 분리되는 것을 방지한다.In the present invention, the
한편 도 1과 도 2에서 보는 바와 같이, 종래의 보호커버에서는 단순히 나사를 돌려서 사용을 하게 되므로, 사람이 실수로 나사를 돌리지 않은 경우에는 보호커버 사이의 결합력이 전혀 발생하지 않고 이로 인하여 운전중 보호커버가 분리되는 경우가 있었다. On the other hand, as shown in Figure 1 and 2, in the conventional protective cover is used simply by turning the screw, if a person does not accidentally turn the screw, the coupling force between the protective cover does not occur at all, thereby protecting during operation The cover was sometimes detached.
한편 결합부의 상부면에는 이탈방지홈(120)에 부착된 플러그(410)가 결합할 수 있는 소켓(420)이 부착되어 있다. 이탈방지홈(120)에 부착된 플러그(410)는 결합부(300)에 부착된 다른 플러그들과 직각 방향으로 결합하게 되어서, 결합부(300)와 다면체부(100)의 결합을 1차원이 아닌, 2차원 방향으로의 결합이 가능하게 하고, 이로 인하여 매우 강력하게 보호커버를 구성하는 다면체부(100), 곡률부(200) 및 결합부(300)를 결합시킨다.
On the other hand, the upper surface of the coupling portion is attached to the
종래의 보호커버에는 하나의 다면체부(100)에는 14개의 나사가 부착되고, 하나의 곡률부(200)에는 10개의 나사가 부착되어서, 4개의 다면체부(100)와 4개의 곡률부(200)가 결합한 하나의 보호커버에는 총 96개의 나사가 부착되어 있었다. 따라서 나사를 드라이버를 이용하여 분리 및 결합시키는 것이 많은 시간이 소요될 뿐 아니라, 그 나사의 개수가 많아서 실질적으로 전체 나사를 분리 및 결합시키는 데는 상당한 시간이 소요되었다.
In the conventional protective cover, one screw is attached to one
이에 본 고안에서는 종래의 나사를 원터치버튼(400)으로 변경하되, 그 결합공의 개수를 획기적으로 감소시켰다. Therefore, in the present invention, the conventional screw is changed to one-
구체적으로, 본 고안에서의 보호커버에서는 하나의 다면체부(100)에 4개의 결합공을 형성하고, 하나의 곡률부(200)에는 6개의 결합공을 형성시켰다.
Specifically, in the protective cover according to the present invention, four coupling holes are formed in one
한편 본 고안에서의 원터치버튼(400)은 합성수지로 만드는 것이 바람직하다. 이는 슬러지와 순수를 다량으로 사용하는 화학기계적연마장치의 특성을 고려할 때, 원터치버튼(400) 자체를 합성수지로 만들어서 이들이 녹스는 것 자체를 완전히 차단하기 위함이다.
Meanwhile, the one-
다음으로 본 고안에 의한 보호커버의 장착 및 분해방법에 대하여 설명한다.
Next, the mounting and disassembling method of the protective cover according to the present invention will be described.
다면체부(100)와 곡률부(200)를 맞댄 상태에서 결합부(300)를 다면체부(100)와 곡률부(200)의 연결부분에 위치시킨 상태에서 원터치버튼(400)을 눌러서 이들을 결합시킨다. 이러한 방식으로 다면체부(100)와 곡률부(200)를 순차적으로 연결시키면 된다.In combination with the
반대로 분해시에는 원터치버튼(400)을 눌러서 결합부(300)를 제거하여 다면체부(100)와 곡률부(200)가 분리될 수 있도록 한다.
On the contrary, when disassembling, the one-
따라서 본 고안에서의 보호커버는 단순히 구성요소들을 맞댄 상태에서 원터치버튼(400)을 눌러서 결합시키고 분해하면 되므로, 결합 및 분해가 매우 용이하다는 장점이 있다.
Therefore, the protective cover in the present invention is simply by pressing and pressing the one-
한편 종래에 사용되는 화학기계적 연마장치에 본 고안에 의한 보호커버를 부착시켜서 사용할 경우에는 종래에 화학기계적 연마장치에 형성된 나사가 삽입되는 홈을 깨끗이 세척하고, 이 부분에 불소코팅을 하여서 추가적인 녹이 발생하는 것을 방지시킨 상태에서 본 고안에 의한 보호커버를 부착시켜서 사용하는 것이 바람직하다.On the other hand, when the protective cover according to the present invention is attached to a conventional chemical mechanical polishing apparatus and used, the groove in which the screw formed in the conventional chemical mechanical polishing apparatus is inserted is thoroughly cleaned and a fluorine coating is applied to this portion to generate additional rust. It is preferable to attach the protective cover according to the present invention in a state where it is prevented from being used.
100:다면체부
200:곡률부
300:결합부
400:원터치버튼100: polyhedron part
200: curvature part
300: coupling part
400: one-touch button
Claims (5)
상기 보호커버는
내부에 상부 공압제어 어셈블리를 수용하며, 하부면과 상부 공압제어 어셈블리의 중심을 향하는 면이 개방된 다면체 형상의 4개의 다면체부;
인접한 다면체부를 연결하기 위하여 상기 다면체부의 양측면에 접하는 곡률부; 및
상기 다면체부와 곡률부의 접하는 부분에 설치되어, 일부는 다면체부와 접하고 일부는 곡률부와 접하여 다면체부와 곡률부를 연결하는 길이 방향으로 연장된 막대형상의 결합부를 포함하며,
상기 결합부와 다면체부의 연결부분 및 상기 결합부와 곡률부의 연결부분에는 적어도 하나 이상의 원터치 버튼이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 화학기계적 연마장치의 상부 공압제어 어셈블리 보호커버.A protective cover installed on the upper side of the chemical mechanical polishing apparatus and installed outside the upper pneumatic control assembly for adjusting the pneumatic pressure of the polishing head.
The protective cover
Four polyhedral parts of the polyhedral shape that accommodates the upper pneumatic control assembly therein, the lower surface and the surface toward the center of the upper pneumatic control assembly is open;
A curvature portion in contact with both sides of the polyhedron portion for connecting an adjacent polyhedron portion; And
It is provided in the contact portion of the polyhedral portion and the curvature portion, a portion of the contact with the polyhedral portion and a portion includes a rod-shaped coupling portion extending in the longitudinal direction connecting the polyhedral portion and the curvature portion,
At least one one-touch button is formed at the connection portion of the coupling portion and the polyhedral portion and the coupling portion and the coupling portion of the curvature portion, the upper pneumatic control assembly protective cover of the chemical mechanical polishing apparatus.
According to claim 1, wherein the upper surface of the coupling portion is a socket of one-touch button is attached, the upper surface of the polyhedral portion is attached to the plug to the separation prevention groove formed at a point corresponding to the socket formed on the upper surface of the coupling portion The upper pneumatic control assembly protective cover of the chemical mechanical polishing apparatus.
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KR20050095197A (en) * | 2004-03-25 | 2005-09-29 | 삼성전자주식회사 | Protection cover for preventing contamination into apparatus of chemical mechanical polishing |
KR20080020752A (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-06 | 삼성전자주식회사 | Apparatus of chemical mechanical polishing |
KR20080091796A (en) * | 2006-02-06 | 2008-10-14 | 도레이 가부시끼가이샤 | Abrasive pad and abrasion device |
-
2012
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050095197A (en) * | 2004-03-25 | 2005-09-29 | 삼성전자주식회사 | Protection cover for preventing contamination into apparatus of chemical mechanical polishing |
KR20080091796A (en) * | 2006-02-06 | 2008-10-14 | 도레이 가부시끼가이샤 | Abrasive pad and abrasion device |
KR20080020752A (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-06 | 삼성전자주식회사 | Apparatus of chemical mechanical polishing |
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