KR200431556Y1

KR200431556Y1 - A dust proof mask for skin-trouble prevention

Info

Publication number: KR200431556Y1
Application number: KR2020060023921U
Authority: KR
Inventors: 박상협
Original assignee: 장정산업 주식회사
Priority date: 2006-09-06
Filing date: 2006-09-06
Publication date: 2006-11-23

Abstract

본 고안은 피부트러블 방지용 방진마스크에 관한 것으로서, 피부트러블 방지용 방진마스크 착용시 피부와 닿는 면인 내피의 재질을 보풀이 일어나지 않는 천연 소재로 구성하여 방진기능과 더불어 착용자가 알레르기 반응을 일으키는 문제점을 개선한 것으로,The present invention relates to a dust mask for preventing skin troubles, and to prevent dust problems and wearer allergic reactions by using a natural material that does not occur lint-free material of the inner skin, which is in contact with the skin when wearing a dust mask for preventing skin problems. In that,

통기성을 갖는 외피(11)와 중간피(12) 및 내피(13)로 이루어진 필터지(10)가 구성된 피부트러블 방지용 방진마스크(1)에 있어서,In the anti-vibration mask (1) for preventing skin problems composed of a filter paper (10) consisting of an outer skin (11) having a breathability and an intermediate skin (12) and an inner skin (13),

내피(13)를 목화씨 추출액으로 형성한 장섬유 천연부직포로 구성한 것이 특징인 피부트러블 방지용 방진마스크(1)를 구성하여,By constructing a dust-proof dust mask (1) for preventing skin problems, the inner skin (13) is made of a long fiber natural nonwoven fabric formed of cotton seed extract.

피부 트러블 방지용 방진마스크(1) 착용자가 알레르기가 발병하지 않도록 하여 착용자의 건강과 작업환경을 개선할 수 있으며, 분진이 발생하지 않으므로, 최적의 방진(防塵)상태가 요구되는 반도체의 클린룸에서 사용하기에 적합한 피부트러블 방지용 방진마스크(1)에 관한 것이다. Dust mask for skin trouble prevention (1) Prevent wearer from developing allergy and improve wearer's health and working environment. Since dust does not occur, use in semiconductor clean room that requires optimal dust condition The present invention relates to a dust mask (1) for preventing skin problems.

클린룸, 방진마스크 Clean Room, Dust Mask

Description

A dust proof mask for skin-trouble prevention}

도 1은 본 고안의 피부트러블 방지용 방진마스크를 예시한 사시도1 is a perspective view illustrating a dust mask for preventing skin problems of the present invention

도 2는 본 고안 피부트러블 방지용 방진마스크의 필터지의 구성을 예시한 사시도Figure 2 is a perspective view illustrating the configuration of the filter paper of the dust mask for preventing skin problems of the present invention

도 3은 내피 재질인 목화씨 추출액으로 형성한 장섬유 천연부직포의 생산공정을 예시한 그림.Figure 3 is a diagram illustrating the production process of long fiber natural nonwoven fabric formed from cotton seed extract of the endothelial material.

도 4는 장섬유 천연부직포와 다른 재질의 부직포 표면을 확대하여 비교한 사진4 is an enlarged photograph of a long fiber natural nonwoven fabric and a nonwoven fabric surface of another material

도 5는 장섬유 천연부직포와 다른 재질의 부직포에 마찰을 가했을 때의 비교 사진 Figure 5 is a comparison photo when the friction between the long fiber natural nonwoven fabric and non-woven fabrics of different materials

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

1 : 방진마스크1: Dust Mask

10 : 필터지10: filter paper

11 : 외피11: outer jacket

12 : 중간피12: intermediate blood

13 : 내피13: endothelial

본 고안은 피부트러블 방지용 방진마스크에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 방진마스크 착용시 피부와 닿는 면인 내피의 재질을 보풀이 일어나지 않는 천연 소재로 구성하여 방진 기능과 더불어 착용자가 알레르기 반응을 일으키는 문제점을 개선한 것이다.The present invention relates to a dust mask for preventing skin troubles, and more particularly, to solve the problem of causing an allergic reaction with a dustproof function by configuring a material of inner skin, which is a surface that contacts the skin when wearing the dust mask, with a lint-free natural material. It is.

통상 방진마스크는 유독가스 배출이 심한 화학공장이나, 금속가루 및 용접흄(Fume)등이 발생되는 금속제련 현장 또는 제지관련이나 방직공장에서 작업자의 건강을 보호하기 위하여 착용되고 있으며, 한편으로는 분진 발생이 극히 제한적이어야 할 반도체 연구실(또는 반도체 제조현장)에서 반도체의 품질을 높이고자 방진마스크가 착용되고 있다.Dust masks are usually worn to protect workers' health at chemical plants, where toxic gas emissions are high, metal smelting sites where metal powder and welding fumes are generated, or in paper-related or textile mills. In this semiconductor lab (or semiconductor manufacturing site) that should be extremely limited, dust masks are being worn to improve the quality of semiconductors.

반도체 연구실이나 반도체 생산라인의 클린룸(Clean Room)에서는 방진마스크는 물론 방진복, 방진화 등을 착용하여 몸이나 의복을 통해서 유입될 수 있는 미세먼지나 오염물질을 원천 차단하여 반도체의 품질을 제고하고 있다.In the clean room of the semiconductor lab or semiconductor production line, wear a dust mask, dustproof clothes, dustproof shoes, etc. to block the fine dust or contaminants that can flow through the body or clothing, and improve the quality of the semiconductor. have.

이러한 피부트러블 방지용 방진마스크(1)는 작업자의 건강을 보호하기 위한 것이기보다는 반도체의 고품질을 유지하고자 하는 것으로, 방진마스크(1) 자체가 보푸라기 발생이 없어야 하기 때문에 보푸라기가 발생하지 않는 필터지(10)를 사용하는데 이 필터지(10)는 화학재질의 외피(11)와 중간피(12) 그리고 내피(13)로 구성되었다. The dust mask for preventing skin problems 1 is intended to maintain the high quality of the semiconductor rather than to protect the health of the operator, because the dust mask 1 itself should not have a lint-free filter paper (10) This filter paper 10 is composed of a chemical material of the outer shell (11), the intermediate shell (12) and the inner shell (13).

이러한 종래 방진마스크(1)의 내피(13)는 폴리염화비닐(PVC, Poly Vinyl Chloride)의 부직포로서 방진마스크(1)의 소각시 인체에 해롭고 독성물질이 배출되는 문제점과 폐기시 잘 분해되지 않는 문제가 있으며, 착용자의 피부와 접촉시 착용자 일부의 피부에 알레르기가 발병하여 건강을 해치고 작업능률을 떨어트리는 문제가 있다. The endothelial 13 of the conventional dust mask 1 is a non-woven fabric of polyvinyl chloride (PVC), which is harmful to the human body when the dust mask 1 is incinerated and does not decompose well when disposed of. There is a problem, when allergic to the skin of the part of the wearer when in contact with the wearer's skin, there is a problem that hurts health and decreases work efficiency.

따라서, 본 고안은 전술한 문제점을 감안하여 창안한 것으로서, 본 고안에 따른 피부트러블 방지용 방진마스크(1)는 필터지(10) 중 피부와 맞닿는 내피(13)를 천연소재로 구성하여 착용자가 알레르기를 반응을 일으키지 않으면서도, 분진이 발생하지 않으며 소각이나 폐기시 유해한 화학물질이 발생하지 않고 매립시 생분해되는 내피(13)를 구성하는 것이 그 기술적 과제이다. Therefore, the present invention was devised in view of the above-mentioned problems, and the dust mask for preventing skin troubles according to the present invention 1 is composed of a natural material of the endothelial 13 in contact with the skin of the filter paper 10 by using a natural material. It is a technical problem to construct the endothelial 13 which does not generate dust, does not generate dust, and does not generate harmful chemicals during incineration or disposal and is biodegraded upon landfill.

상기의 과제를 달성하고자 하는 본 고안 피부트러블 방지용 방진마스크(1)는 전면을 수차례 접어 주름지게 한 필터지(10)가 구비되되, 이 필터지(10)는 통기성을 갖는 합성수지재질의 외피(11)와 중간피(12)가 구성되고, 내피(13)를 목화씨 추출액으로 형성한 장섬유 천연부직포로 구성한 피부트러블 방지용 방진마스크(1)가 구성된 것이다. Skin dust prevention mask 1 for the present invention to achieve the above problem is provided with a filter paper 10 folds the front several times, the filter paper 10 is a synthetic resin material having a breathable ( 11) and the intermediate skin 12, and the skin trouble-proof dustproof mask (1) composed of a long fiber natural nonwoven fabric formed by the endothelial 13 with cotton seed extract.

본 고안의 구성을 도 1 및 도 2를 따라 설명하면 다음과 같다.Referring to the configuration of the subject innovation according to Figures 1 and 2 as follows.

상기와 같은 목적을 달성하고자 하는 본 고안에 따른 피부트러블 방지용 방진마스크(1)는 전면을 수차례 접어 주름지게 한 필터지(10)가 구비되되, 필터지(10)는 통기성을 갖는 합성수지 재질의 외피(11)를 비롯하여 중간피(12) 및 내피(13)가 중첩된 구성이다. Skin trouble prevention dust mask 1 according to the present invention to achieve the above object is provided with a filter paper 10 folds the front several times, the filter paper 10 is made of synthetic resin material having breathability The outer shell 11, including the intermediate skin 12 and the endothelial 13 is a configuration that overlaps.

이러한 필터지(10)의 구성 중 종래의 내피(13)는 합성수지 재질의 부직포로서 착용자의 피부에 직접 맞닿아 접촉되기 때문에 착용자에 따라 얼굴에 알레르기 반응을 유발하여 착용자의 건강을 해치고 원활한 작업을 수행할 수 없는 문제가 발생하고 있다. In the configuration of the filter paper 10, the conventional endothelial 13 is a non-woven fabric made of a synthetic resin material, and thus comes into direct contact with the skin of the wearer, causing an allergic reaction to the face according to the wearer, thereby harming the health of the wearer and performing a smooth operation. There is a problem that cannot be done.

따라서 면과 같은 천연섬유로 이루어진 부직포를 내피(13)로 구성할 경우 착용자가 알레르기 반응을 유발하지 않도록 할 수도 있으나, 이와 같은 천연섬유는 분진이 다량 발생하기 때문에 고도의 청정환경이 요구되는 반도체 연구실(또는 반도체 제조현장)에서 사용할 수 없다. Therefore, when the non-woven fabric made of natural fibers such as cotton is composed of endothelial 13, the wearer may not cause an allergic reaction. However, such a natural fiber generates a large amount of dust and thus requires a highly clean environment. (Or semiconductor manufacturing site)

따라서, 내피(13)를 목화씨의 추출액으로 형성하여 천연섬유인 장섬유 천연 부직포로 구성한다. Thus, the endothelial 13 is formed of an extract of cotton seed to constitute a long fiber natural nonwoven fabric which is a natural fiber.

이러한 장섬유 천연부직포는 도 3에서와 같이 목화(cotton）의 씨에서 추출한 코튼린타를 원료로 사용한 것으로The long fiber natural nonwoven fabric is made of cotton linta extracted from the seeds of cotton (cotton) as a raw material as shown in FIG.

코튼린타를 추출, 정제하여 분말로 만들고, 특수 용액으로 녹여 액상의 목화씨의 추출액으로 만든 후, 작고 미세한 노즐로 목화씨의 추출액을 그물형태로 압출 방사하여 부직포로 구성한 것이다. Cotton linta is extracted and purified into powder, dissolved in a special solution into liquid cotton seed extract, and then the cotton seed extract is extruded and spun into a non-woven fabric with a small fine nozzle.

이러한 장섬유 천연부직포의 장점은 자중(自重)의 13배에 해당하는 수분을 흡수할 수 있기 때문에 정전기가 거의 발생하지 않고, 소각시 유독가스가 발생하지 않으며, 매립시에 박테리아에 의해 생분해되는 장점이 있다,The advantage of the long-fiber natural nonwoven fabric is that it absorbs about 13 times its own weight, so that little static electricity is generated, no toxic gas is generated when incinerated, and it is biodegraded by bacteria during landfill. This is,

이러한 장섬유 천연부직포는 도 4의 부직포 확대사진에서와 같이 섬유 조직이 장섬유로 분진의 원인인 보푸라기가 일거나 섬유의 탈락이 거의 발생하지 않으며 감촉이 부드러워 착용감이 뛰어난 장점이 있으나,Such long-fiber natural nonwoven fabric has the advantage of excellent wearing comfort because the texture of the fiber is a long-lasting lint, or the fiber is hardly eliminated as shown in the enlarged nonwoven fabric of FIG.

종래의 내피(13) 재질인 무명이나, 레이온, 펄프 등은 단섬유로 보푸라기가 발생하고 섬유가 탈락하는 단점이 있습니다. Cotton, rayon, pulp, etc., which is a conventional endothelial (13) material, has a disadvantage in that lint occurs as short fibers and fibers fall off.

또한, 장섬유 천연부직포는 도 5에서와 같이 피부와 마찰하더라고 부직포에 흠집이 거의 발생하지 않아 분진이 발생하지 않으며 천연섬유이기 때문에 착용자가 알레르기반응을 일으키지 않는 장점이 있으나,In addition, the long-fiber natural nonwoven fabric has an advantage that the scratch does not occur in the nonwoven fabric even if the friction with the skin as shown in FIG.

종래의 내피(13) 재질인 무명이나 레이온은 피부와 마찰시 흠집이 발생하여 분진이 생기고 착용자에 따라 알레르기가 발병하는 단점이 있습니다.Cotton or rayon, which is a conventional endothelial (13) material, has a disadvantage in that a scratch occurs when the skin is rubbed with dust, and an allergy develops depending on the wearer.

따라서 이러한 장섬유 천연부직포로 필터지(10)의 내피(13)를 구성할 경우 종래의 화학섬유의 장점과 천연섬유의 장점이 복합적으로 작용하여 최상의 피부트러블 방지용 방진마스크(1)를 생산할 수 있다. Therefore, when the endothelial 13 of the filter paper 10 is composed of such a long fiber natural nonwoven fabric, the advantages of conventional chemical fibers and the advantages of natural fibers are combined to produce the best anti-vibration mask 1 for preventing skin problems. .

결국, 본 고안의 특징은 통기성을 갖는 외피(11)와 중간피(12) 및 내피(13)로 이루어진 필터지(10)가 구성된 방진마스크(1)에 있어서,After all, the feature of the present invention is in the dustproof mask (1) consisting of a filter paper 10 consisting of a breathable outer shell 11 and the intermediate shell 12 and the inner shell 13,

필터지(10) 중 내피(13)를 목화씨의 추출액으로 형성한 장섬유 천연부직포로 구성한 것이 특징인 피부트러블 방지용 방진마스크이다.A dust mask for preventing skin troubles, characterized in that the endothelial 13 of the filter paper 10 is composed of a long fiber natural nonwoven fabric formed of an extract of cotton seed.

이상에서 살펴본 바와 같이 필터지(10)의 내피(13)를 장섬유 천연부직포로 구성한 본 고안 피부트러블 방지용 방진마스크(1)는 천연소재로 폐기가 용의하고, 착용자가 알레르기 반응을 일으키지 않아 착용자의 건강과 작업환경을 개선할 수 있으며, 분진의 원인인 보푸라기가 발생하지 않으므로, 최적의 방진(防塵)상태가 요구되는 반도체의 클린룸에서 사용하기에 적합하다 할 것이다.As described above, the present invention skin dust prevention mask (1) consisting of the endothelial 13 of the filter paper 10 made of a long fiber natural nonwoven fabric is easy to be disposed of as a natural material, and the wearer does not cause an allergic reaction. It is possible to improve the health and working environment of the company, and it is suitable for use in the clean room of the semiconductor which requires the optimal dust condition because no lint is generated.

Claims

In the anti-vibration mask (1) composed of a filter paper 10 composed of a breathable outer shell 11, an intermediate shell 12, and an inner shell 13,

A dust mask for preventing skin problems, characterized in that the endothelial 13 of the filter paper 10 is composed of a long fiber natural nonwoven fabric formed of an extract of cotton seed.