KR200405301Y1 - Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof - Google Patents
Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof Download PDFInfo
- Publication number
- KR200405301Y1 KR200405301Y1 KR2020050030557U KR20050030557U KR200405301Y1 KR 200405301 Y1 KR200405301 Y1 KR 200405301Y1 KR 2020050030557 U KR2020050030557 U KR 2020050030557U KR 20050030557 U KR20050030557 U KR 20050030557U KR 200405301 Y1 KR200405301 Y1 KR 200405301Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- head unit
- exhaust gas
- intake
- intake units
- unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/005—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by heat treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2258/00—Sources of waste gases
- B01D2258/02—Other waste gases
- B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/02—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
Abstract
본 고안은 배기가스와 연소공기가 연소챔버 내에서 효율적으로 혼합될 수 있는 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어장치에 관한 것이다.The present invention relates to a control unit of a head unit used in a waste gas purification treatment apparatus in which exhaust gas and combustion air can be efficiently mixed in a combustion chamber.
본 고안에 따른 헤드 유닛의 제어장치는, 일측에는 다수의 흡기 유닛이 결합되며 타측에는 연소챔버가 연결되는 헤드 유닛과, 다수의 흡기 유닛에 유입되는 배기가스의 압력을 측정하기 위한 압력센서와, 다수의 흡기 유닛과 압력센서 사이에 설치된 다수의 흡기 유닛에 대응하는 개수의 체인저와, 시간을 분할하여 상기 압력센서가 다수의 흡기 유닛를 통하여 유입되는 배기가스를 각각 측정할 수 있도록 제어하는 제어부를 포함한다.The control unit of the head unit according to the present invention, a head unit is coupled to a plurality of intake unit and the combustion chamber is connected to one side, a pressure sensor for measuring the pressure of the exhaust gas flowing into the plurality of intake unit, A number of changers corresponding to a plurality of intake units installed between the plurality of intake units and the pressure sensor, and a control unit for dividing time to control the pressure sensor to measure the exhaust gas flowing through the plurality of intake units, respectively. do.
폐가스 정화처리장치, 헤드 유닛, 제어장치, 압력센서, 체인저, 제어부 Waste Gas Purification System, Head Unit, Control Unit, Pressure Sensor, Changer, Control Unit
Description
도 1은 종래 기술에 의한 반도체용 폐가스 처리장치의 공정을 나타내는 구성도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The block diagram which shows the process of the waste gas processing apparatus for semiconductors by a prior art.
도 2는 본 고안의 실시예에 따른 헤드 유닛을 구비하는 폐가스 정화처리장치의 구성도. 2 is a block diagram of a waste gas purification treatment apparatus having a head unit according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 고안의 실시예에 따라 다수의 흡기 유닛이 결합된 헤드 유닛을 설명하기 위한 부분 사시도. 3 is a partial perspective view illustrating a head unit to which a plurality of intake units are coupled according to an embodiment of the present invention.
도 4a는 본 고안의 실시예에 따라 헤드 유닛 내에서 연소공기의 혼합 효율을 증대시키기 위한 와류 발생을 설명하기 위한 개념도.Figure 4a is a conceptual diagram for explaining the generation of vortex for increasing the mixing efficiency of the combustion air in the head unit according to an embodiment of the present invention.
도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따라 헤드 유닛 내에서 연소공기의 혼합 효율을 증대시키기 위한 와류 발생을 설명하기 위한 개략도이다. 4B is a schematic diagram illustrating vortex generation to increase the mixing efficiency of combustion air in the head unit according to another embodiment of the present invention.
도 5는 본 고안의 실시예에 따른 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛을 제어하기 위한 헤드 유닛의 제어장치가 결합된 상태를 설명하기 위한 개략도. Figure 5 is a schematic diagram for explaining the combined state of the control unit of the head unit for controlling the head unit used in the waste gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 고안의 실시예에 따른 4채널 흡기 다중체인저를 설명하기 위한 사 시도. 6 is a trial for explaining a four-channel intake multi-changer according to an embodiment of the present invention.
**도면의 주요구성에 대한 부호의 설명**** Description of Codes for Major Configurations of Drawings **
100: 폐가스 정화처리장치 110: 헤드 유닛100: waste gas purification apparatus 110: head unit
120: 버너부 123: 온도조절 공기 주입노즐120: burner unit 123: temperature control air injection nozzle
125: 연소공기 주입노즐 130: 습식 세정부125: combustion air injection nozzle 130: wet cleaning
140: 배관부 160: 배출덕트140: piping 160: exhaust duct
200: 헤드 유닛의 제어장치 200: control unit of the head unit
212, 214, 216, 218: 4채널 흡기 다중체인저212, 214, 216, 218: 4-channel intake multichanger
230: 컨트롤러 240: 터치 스크린230: controller 240: touch screen
본 고안은 반도체 제조 장비에 연결되어 설치되며 배출되는 배기가스 중에 포함된 유해 성분을 제거하기 위한 폐가스 정화처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 반도체 제조 장비로부터 발생된 배기가스를 정화처리장치에 주입시키기 위한 헤드 유닛에 관한 것이다. The present invention relates to a waste gas purification treatment apparatus for removing harmful components contained in exhaust gas discharged and connected to a semiconductor manufacturing equipment. More specifically, the exhaust gas generated from the semiconductor manufacturing equipment is transferred to a purification treatment apparatus. A head unit for injecting.
화학 공정이나 반도체 제조 공정 등에서 배출되는 배기가스는 유독성, 폭발성 및 부식성이 강하기 때문에 인체에 유해할 뿐만 아니라 그대로 대기중으로 방출될 경우에는 환경오염을 유발하는 원인이 되기도 한다. 따라서, 이러한 배기가스는 유해성분의 함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화처리 과정이 반드시 필요하며, 이와 같은 독성물질을 제거하는 정화처리 과정을 거친 무해 가스만이 대기중으로 배출되도록 법적으로 의무화 되어 있다.Exhaust gases emitted from chemical processes and semiconductor manufacturing processes are toxic, explosive and corrosive, which is not only harmful to the human body but also causes environmental pollution when released into the atmosphere. Therefore, such exhaust gas must be purified to lower the content of harmful components below the allowable concentration, and it is legally mandated to discharge only harmless gases that have undergone purification to remove such toxic substances into the atmosphere.
반도체 제조 공정 등에서 배출되는 유해성 가스를 처리하는 방법에는 버닝(burning) 방식과 습식(wetting) 방식이 있다. 상기 버닝 방식은 주로 수소기 등을 함유한 발화성 가스를 고온의 연소실에서 분해, 반응 또는 연소시켜 배기가스를 처리하는 방식이고, 습식 방식은 주로 수용성 가스를 수조에 저장된 물을 통과시키는 동안 물에 용해하여 배기가스를 처리하는 방식이다.There are a burning method and a wet method for treating the harmful gas emitted from the semiconductor manufacturing process. The burning method is mainly a method of treating exhaust gas by decomposing, reacting or burning a ignitable gas containing hydrogen group in a high temperature combustion chamber, and the wet method is mainly soluble in water while passing a water gas stored in a tank. To treat the exhaust gas.
현재 사용되고 있는 반도체용 가스 스크러버 장치에는 상기 버닝 방식과 습식 방식을 결합한 혼합방식이 많이 사용되고 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 혼합형 가스 스크러버(2)는 먼저 반도체 제조 장치(10) 등에서 배출되는 유해가스(12)를 버너부(burner zone: 20)에서 1차적으로 연소시켜 발화성 가스와 폭발성 가스를 제거한 다음, 습식 세정부(30)에서 2차적으로 수용성의 유독성 가스를 물에 용해시키는 구조로 되어 있다. In the gas scrubber device for semiconductors currently used, a mixing method combining the burning method and the wet method is frequently used. As shown in FIG. 1, the mixed
즉, 반도체용 제조 장치(10)에서 배출되는 유해 가스(12)는 1차적으로 버너부(20)에서 연소/산화되거나 열분해되는 방법으로 버닝(burning)되고, 상기 버너부(20)에서 벗어난 폐가스 중 처리되지 못한 일부 가스나 분집 입자 등 미처리 가스(22) 등은 웨트 세정부(30)로 이송되며, 2차적으로 습식 세정부(30)에서 물을 분사(spray)함으로써 산화 가스 속의 파우더(powder)가 분리되는 세정(wetting) 공정을 거치게 된다. 그 후 세정된 처리 가스(32)는 필터(filter)와 덕트(duct)를 통해 대 기중으로 배출된다.That is, the noxious gas 12 discharged from the
하지만, 반도체의 고직접화와 액정표시장치(TFT LCD) 패널의 대용량화로 인하여 배기가스의 배출량이 현격히 증가함은 물론 새로운 산업의 등장으로 특수 가스가 사용되면서 배출가스의 종류가 날로 다양해지고 있다. However, due to the high directivity of semiconductors and the large capacity of liquid crystal display (TFT LCD) panels, the amount of exhaust gas is greatly increased as well as the use of special gases due to the emergence of a new industry.
따라서, 종래의 혼합형 가스 스크러버(2) 장치에 의하면, 다양한 종류의 배출가스를 동시에 처리하기 위하여 헤드 유닛에 다수개의 흡기 유닛을 채택하여, 하나의 폐가스 정화처리장치를 이용하여 다양한 종류의 배출가스를 처리하고 있는 실정이다. Therefore, according to the conventional mixed
하지만, 각각의 흡기 유닛을 정확하게 제어하기 위해서는 각각의 흡기 유닛에 압력센서를 결합하여 각각의 흡기 유닛이 정상적으로 작동이 되는지를 모니터링하여야 한다. 그러나, 압력센서가 고가인 이유로 하나의 흡기 유닛에만 압력센서를 부착하여 연소챔버 내의 압력을 확인하고 있으므로 압력센서가 부착되지 않은 다른 흡기 유닛을 정확하게 제어할 수 없으며 고장이 발생되는 경우에 원인을 파악하기가 어려운 문제점이 있다. However, in order to accurately control each intake unit, a pressure sensor must be coupled to each intake unit to monitor whether each intake unit operates normally. However, because the pressure sensor is expensive, the pressure sensor is attached to only one intake unit to check the pressure in the combustion chamber, so it is not possible to accurately control the other intake unit without the pressure sensor and to identify the cause when a failure occurs. There is a problem that is difficult to do.
또한, 종래의 폐가스 정화처리장치는 4개의 배기가스 노즐이 연소챔버의 중심축에 대하여 수평으로 배열되어 있으므로 연소챔버 내에서 분사되는 배기가스가 균일하지 않게 분포되어 내부 온도가 편차가 많으면서 연소공기와의 혼합 효율이 저하되는 문제점이 있다. In addition, in the conventional waste gas purification treatment apparatus, since the four exhaust gas nozzles are arranged horizontally with respect to the central axis of the combustion chamber, the exhaust gas injected in the combustion chamber is not uniformly distributed, and the combustion temperature is high while the internal temperature is varied. There is a problem that the efficiency of mixing with the deterioration.
한편, 종래의 폐가스 정화처리장치는 배기가스 노즐과 연소챔버가 일체형으로 형성이 되어 있으므로 배기가스의 노즐이 고장이 나거나 연소챔버에 이상이 발 생하였을 경우에 고장의 원인을 파악하는 것과 보수를 하기에 많은 어려움이 있다. On the other hand, in the conventional waste gas purification treatment apparatus, since the exhaust gas nozzle and the combustion chamber are integrally formed, when the nozzle of the exhaust gas fails or an abnormality occurs in the combustion chamber, it is necessary to identify and repair the cause of the failure. There are many difficulties.
따라서, 본 고안은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 고안의 목적은 배기가스와 연소공기가 연소챔버 내에서 효율적으로 혼합될 수 있는 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어장치를 제공하는 것이다. Therefore, the present invention is devised to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is the head used in the waste gas purification treatment apparatus that can be efficiently mixed with the exhaust gas and combustion air in the combustion chamber It is to provide a control device of the unit.
본 고안의 다른 목적은 헤드 유닛에 연결된 다수의 흡기 유닛에 입력되는 배기가스의 압력을 효율적으로 제어할 수 있는 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a control unit of a head unit used in a waste gas purification treatment apparatus capable of efficiently controlling the pressure of the exhaust gas input to a plurality of intake units connected to the head unit.
본 고안의 또 다른 목적은 폐가스 정화처리장치의 연소챔버 내의 온도편차를 최소화시킬 수 있는 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어장치를 제공하는 것이다. Still another object of the present invention is to provide a control unit of a head unit used in a waste gas purification treatment apparatus capable of minimizing a temperature deviation in a combustion chamber of the waste gas purification treatment apparatus.
본 고안의 또 다른 목적은 연소챔버로부터 다수의 흡기 유닛을 착탈하기 용이하도록 구성한 헤드 유닛을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a head unit configured to easily detach a plurality of intake units from a combustion chamber.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안의 특징에 따르면, 본 고안은 반도체 제조 공정이나 화학 공정 등에서 사용된 후 배출되는 배기가스를 정화하여 배출덕트로 방출하기 위하여 연소챔버를 구비하는 버너부를 포함하는 폐가스 정 화처리장치에 있어서, 일측에는 다수의 흡기 유닛이 결합되며 타측에는 연소챔버가 연결되는 헤드 유닛, 다수의 흡기 유닛에 유입되는 상기 배기가스의 압력을 측정하기 위한 압력센서, 다수의 흡기 유닛과 압력센서 사이에 설치된 다수의 흡기 유닛에 대응하는 개수의 체인저 및 시간을 분할하여 상기 압력센서가 다수의 흡기 유닛를 통하여 유입되는 배기가스를 각각 측정할 수 있도록 제어하는 제어부를 포함하는 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어 장치를 제공한다.According to a feature of the present invention for achieving the object as described above, the present invention includes a burner unit having a combustion chamber for purifying the exhaust gas discharged after being used in a semiconductor manufacturing process or a chemical process and discharged to the discharge duct In the waste gas purification treatment apparatus, a plurality of intake units are coupled to one side and the head unit is connected to the combustion chamber, the pressure sensor for measuring the pressure of the exhaust gas flowing into the plurality of intake units, a plurality of intake A waste gas purification process including a control unit for dividing the number of changers and the time corresponding to the plurality of intake units installed between the unit and the pressure sensor so as to control the pressure sensor to respectively measure the exhaust gas flowing through the plurality of intake units. Provided is a control device for a head unit used in the device.
또한, 다수의 흡기 유닛이 4개인 것을 특징으로 한다. In addition, a plurality of intake units are characterized by four.
또한, 압력센서가 측정한 배기가스의 압력을 디스플레이하기 위한 터치 스크린을 더 포함한다. The apparatus may further include a touch screen for displaying the pressure of the exhaust gas measured by the pressure sensor.
또한, 헤드 유닛은 다수의 흡기 유닛으로부터 유입된 배기가스를 연소시키기 위해 필요한 연소공기를 주입하기 위한 연소공기 주입노즐 및 연소챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 뜨거운 공기를 주입하기 위한 온도조절 공기 주입노즐을 포함한다. In addition, the head unit is a combustion air injection nozzle for injecting the combustion air required to burn the exhaust gas flowing from the plurality of intake units and a temperature-controlled air injection nozzle for injecting hot air for controlling the temperature inside the combustion chamber It includes.
또한, 다수의 흡기 유닛으로부터 유입된 배기가스와 연소공기 주입노즐 및 온도조절 공기 주입노즐이 소정의 기울기를 가지도록 설치함으로써, 이들을 통해 유입되는 공기는 배기가스와 소정의 기울기를 가지도록 하여 와류를 형성하는 것을 특징으로 한다. In addition, by installing exhaust gases, combustion air injection nozzles, and temperature-controlled air injection nozzles introduced from a plurality of intake units to have a predetermined slope, the air flowing through them has an exhaust slope and a predetermined slope to prevent vortex flow. It is characterized by forming.
또한, 다수의 흡기 유닛으로부터 유입된 배기가스와 상기 연소공기 주입노즐및 상기 온도조절 공기 주입노즐을 통해 유입되는 공기는 소정한 기울기를 가지도록하여 와류를 형성하는 것을 특징으로 한다. In addition, the exhaust gas introduced from the plurality of intake unit, the combustion air injection nozzle and the air introduced through the temperature control air injection nozzle is characterized in that the vortex is formed to have a predetermined slope.
또한, 반도체 제조 공정이나 화학 공정 등에서 사용된 후 배출되는 배기가스를 정화하여 배출덕트로 방출하기 위하여 다수의 흡기 유닛, 연소챔버를 구비하는 버너부를 포함하는 폐가스 정화처리장치의 다수의 흡기 유닛과 연소챔버의 상부 사이에 장착되는 헤드 유닛에 있어서, 헤드 유닛은 연소챔버에 착탈 가능하도록 체결되는 헤드 유닛 본체, 헤드 유닛 본체의 측면에 형성되어 상기 다수의 흡기 유닛으로부터 유입된 상기 배기가스를 연소시키기 위해 필요한 연소공기를 주입하기 위한 연소공기 주입노즐 및 헤드 유닛 본체의 측면에 형성되어 연소챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 뜨거운 공기를 주입하기 위한 온도조절 공기 주입노즐을 포함한다. In addition, a plurality of intake units and combustion of the waste gas purification treatment apparatus including a plurality of intake units, a burner unit having a combustion chamber to purify the exhaust gas discharged after being used in a semiconductor manufacturing process or a chemical process and discharged to the discharge duct In the head unit mounted between the top of the chamber, the head unit is formed on the side of the head unit body, the head unit body which is detachably fastened to the combustion chamber, so as to combust the exhaust gases introduced from the plurality of intake units. It includes a combustion air injection nozzle for injecting the required combustion air and a temperature control air injection nozzle formed on the side of the head unit body for injecting hot air for controlling the temperature inside the combustion chamber.
또한, 다수의 흡기 유닛이 상기 헤드 유닛 본체의 상면에 형성되는 것을 특징으로 한다. In addition, a plurality of intake unit is characterized in that formed on the upper surface of the head unit body.
이하, 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 고안의 실시예에 따른 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유닛의 제어장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the control unit of the head unit used in the waste gas purification treatment apparatus according to an embodiment of the present invention having the configuration as described above will be described in detail.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 습기 및 분진 흡착 장치를 이용한 폐가스 처리장치의 구성도이다. 2 is a block diagram of a waste gas treatment apparatus using a moisture and dust adsorption apparatus according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 반도체 제조 공정이나 화학 공정 등에서 사용된 후 배출되는 폐 가스를 배출허용치 이하의 무해한 가스로 정화하는 폐가스 정화처리 과정은 버닝방식(burning-type)에 의한 처리 공정과 습식방식(wetting-type)에 의한 처리 공정으로 구분된다. The waste gas purification process for purifying the waste gas discharged after being used in the semiconductor manufacturing process or the chemical process of the present invention with a harmless gas below the discharge allowance is performed by a burning-type treatment process and a wetting-type process. ) Is divided into the processing steps.
도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 냉각 장치를 구비하는 폐가스 정화처리장치(100)는 반도체 장비에 연결되어서 처리해야 할 배기가스가 주입되는 헤드 유닛(110), 헤드 유닛(110)을 제어하기 위한 헤드 유닛의 제어장치(200), 헤드 유닛(110)에 연결된 버너부(120), 버너부(120)에 의해서 버닝 방식으로 처리된 배기가스를 다음 공정으로 보내기 위한 배관부(140), 배관부(140)에 연결되어 버닝 방식으로 처리된 배기가스를 습식방식으로 처리하기 위한 습식 세정부(130) 및 습식 세정부(130)로부터 배출된 정화가스를 외부로 배출하기 위한 배출 덕트(160)를 포함한다. As shown in FIG. 2, the waste
버너부(120)는 히터(127)와 히터(127)로 둘러싸인 연소챔버(124)를 포함하며, 습식 세정부(130)는 1차 분진 포집부(131), 순환 워터 스프레이(circulation water spray)(134), 2차 분진 포집부(132) 및 프레쉬 워터 스프레이(fresh water spray)(135)를 포함한다. The
도 3은 본 발명의 실시예에 따라 다수의 흡기 유닛이 결합된 헤드 유닛을 설명하기 위한 부분 사시도이다. 3 is a partial perspective view illustrating a head unit to which a plurality of intake units are coupled according to an embodiment of the present invention.
도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 폐가스 정화처리장치(100)에서는, 버너부(120)가 반도체 장비와 같은 폐가스를 배출하는 장비로부터 배기가스를 주입 받기 위한 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)을 구비하게 된다. 또한, 헤드 유닛(122)은 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 전달된 배기가스를 연소시키기 위해 필요한 연소공기를 주입하기 위한 연소공기 주입노즐(125)과 버너부(120)의 연소챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 뜨거운 공기를 주입하기 위한 온도조절 공기 주입노즐(123)을 더 포함한다. As shown in FIG. 3, in the waste
한편, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)과 연소챔버의 상부 사이에 장착되는 헤드 유닛(122)은 연소챔버에 착탈 가능하도록 체결되는 헤드 유닛 본체(129), 헤드 유닛 본체(129)의 측면에 형성되어 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 유입된 배기가스를 연소시키기 위해 필요한 연소공기를 주입하기 위한 연소공기 주입노즐(125) 및 헤드 유닛 본체(129)의 측면에 형성되어 연소챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 뜨거운 공기를 주입하기 위한 온도조절 공기 주입노즐(123)을 포함한다. Meanwhile, the
또한, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)은 헤드 유닛 본체(129)의 상면에 형성되어 하부로 연장되는 것을 특징으로 한다. In addition, the plurality of
헤드 유닛(122)은 하단 가장자리에 형성된 결합플랜지로부터 일정높이로 돌출형성됨에 따라 소정의 내부공간을 형성하게 되는데, 이 내부공간 내에서 흡기된 가스가 일정시간동안 머물면서 가스의 연소효율을 증가시킴과 동시에 상부로 열이 전도되는 역화현상을 방지하는 역할을 한다. The
도 4a는 본 고안의 실시예에 따라 헤드 유닛 내에서 연소공기의 혼합 효율을 증대시키기 위한 와류 발생을 설명하기 위한 개념도이다. 4A is a conceptual view illustrating vortex generation to increase mixing efficiency of combustion air in a head unit according to an embodiment of the present invention.
본 고안의 실시예에 따르면, 도 4에 도시한 바와 같이, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 배기가스가 연소챔버(124) 안으로 주입될 때, 연소공기 주입노즐(125)을 통하여 주입되는 연소공기와 온도조절 공기 주입노즐(123)을 통하여 주입되는 연소챔버(124) 내부의 온도를 조절하기 위한 뜨거운 공기가 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)을 통하여 주입되는 배기가스에 대하여 수직한 방향으로 주입됨으로써, 연소챔버(124)에서 와류(turbulence)를 형성하게 된다. 따라서, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 유입되는 배기가스와 연소가스의 혼합 효율이 극대화된다. 또한, 이러한 결과로 인하여 연소챔버(124) 내부에서의 온도 편차는 최소화가 되어서 버닝부(120)의 열손실이 최소화, 연소챔버(124) 내벽에 파우더의 고착이 방지되게 된다.According to an embodiment of the present invention, as shown in Figure 4, when the exhaust gas is injected into the
도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따라 헤드 유닛 내에서 연소공기의 혼합 효율을 증대시키기 위한 와류 발생을 설명하기 위한 개략도이다. 4B is a schematic diagram illustrating vortex generation to increase the mixing efficiency of combustion air in the head unit according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 도 4b에 도시한 바와 같이, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 배기가스가 연소챔버(124) 안으로 주입될 때, 연소공기 주입노즐(125a, 125b)을 통하여 주입되는 연소공기와 열 교환된 뜨거운 공기 주입노즐(123a, 123b)을 통하여 주입되는 연소챔버(124) 내부의 연소 산화제 역할을하는 뜨거운 공기가 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)을 통하여 주입되는 배기가스에 대하여 수직한 방향에 대하여 소정의 기울기를 가지도록 주입됨으로써, 연소챔버(124)에서 와류(turbulence)를 형성하게 된다. 이때, 도 4a에 도시한 실시예와는 달리 서로 마주하는 위치에 연소공기 주입노즐(125a, 125b)와 뜨거운 공기 주입노즐(123a, 123b)을 각각 대칭으로 배치함으로써, 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 유입되는 배기가스와 연소가스의 혼합 효율이 극대화된다. 또한, 이러한 결과로 인하여 연소챔버(124) 내부에서의 온도 편차는 최소화가 되어서 버닝부(120)의 열손실이 최소화, 연소챔버(124) 내벽에 파우더의 고착이 방지되게 된다. 5는 본 고안의 실시예에 따른 폐가스 정화처리장치에 사용되는 헤드 유 닛을 제어하기 위한 헤드 유닛의 제어장치가 결합된 상태를 설명하기 위한 개략도이다. According to another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4B, when the exhaust gas is injected into the
도 5를 참조하여, 본 고안의 일실시예에 따르면 하나의 압력센서(220)를 사용하여 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)으로부터 유입되는 배기가스를 제어할 수 있는 헤드 유닛(122)의 제어장치(200)는 4채널 흡기 다중체인저(212, 214, 216, 218), 압력센서(220), 프로그램이 가능한 컨트롤러(230) 및 터치 스크린(240)을 포함한다. Referring to FIG. 5, in accordance with an embodiment of the present invention, a head unit capable of controlling exhaust gases flowing from a plurality of
본 고안의 일실시예에 따른 제어장치(200)는 다수의 흡기 유닛(112, 114, 116, 118)에 유입되는 배기가스의 압력을 모니터링하기 위하여 4채널 흡기 다중체인저(212, 214, 216, 218)의 각각에 소정 주기를 4등분하여 반복적으로 압력센서(220)와 해당되는 흡기 유닛을 연결시키도록 하는 스위칭 동작을 한다. The control device 200 according to an embodiment of the present invention is a four-channel intake multiple changer (212, 214, 216,) to monitor the pressure of the exhaust gas flowing into the plurality of intake units (112, 114, 116, 118) Each of the
즉, 1분을 주기로 처음 15초는 4채널 흡기 다중체인저의 212가 동작으로 하여 압력센서(220)가 흡기 유닛(112)에 유입되는 배기가스의 압력을 모니터링하고, 다음 15초 동안은 4채널 흡기 다중체인저의 214가 동작으로 하여 압력센서(220)가 흡기 유닛(114)에 유입되는 배기가스의 압력을 모니터링하고, 계속되는 15초 동안은 4채널 흡기 다중체인저의 216이 동작으로 하여 압력센서(220)가 흡기 유닛(116)에 유입되는 배기가스의 압력을 모니터링하고, 마지막 15초 동안은 4채널 흡기 다중체인저의 218이 동작으로 하여 압력센서(220)가 흡기 유닛(118)에 유입되는 배기가스의 압력을 모니터링하는 것을 반복하게 된다. That is, the first 15 seconds every 1 minute, the 212 of the four-channel intake multiple changer is operated, the
본 고안의 일실시예에 따르면, 이러한 모니터링의 주기 및 순서는 프로그램 이 가능한 컨트롤러(230)에 의하여 이미 저장된 프로그램에 따라서 수행되게 된다. 또한, 컨트롤러(230)는 압력센서(220)에서 측정된 각각의 흡기 유닛의 배기가스의 압력을 터치 스크린(240)에 디스플레이한다. According to one embodiment of the present invention, the cycle and order of such monitoring is performed according to a program already stored by the
도 6은 본 고안의 실시예에 따른 4채널 흡기 다중체인저를 설명하기 위한 사시도이다. 6 is a perspective view for explaining a four-channel intake multiple changer according to an embodiment of the present invention.
다시, 도 2를 참조하면, 전술한 바와 같이 연소챔버(124)로 주입된 배기가스는 1차적으로 히터(127)에 의하여 가열되어 연소챔버(124)내에서 연소/산화되거나 열분해되는 방법으로 버닝(Burning)됨으로써, 1차적으로 정화된다. Referring again to FIG. 2, as described above, the exhaust gas injected into the
이렇게 1차적으로 정화된 배기가스는 배관부(140)를 통하여 습식 세정부(130)로 주입되게 된다. 이때, 1차적으로 정화된 배기가스에는 아직 처리되지 못한 일부 가스나 분진입자 등이 포함되어 있게 된다. 따라서, 습식 세정부(130)의 순환 워터 스프레이(134)는 배관부(140)를 통하여 주입된 1차적으로 정화된 배기가스에 워터를 분사시키게 되고, 이렇게 워터가 분사된 1차적으로 정화된 배기가스는 1차 분진 포집부(131)를 통과함으로써, 1차적으로 정화된 배기가스 중에 포함된 파우더(powder) 등과 같은 분진을 세정시키게 된다. 그리고, 세정된 배기가스를 다시 한번 2차 분진 포집부(132) 및 프레쉬 워터 스프레이(135)를 통과시킴으로써, 더욱 정밀하게 세정을 할 수 있게 된다. The exhaust gas thus primarily purified is injected into the
따라서, 정화된 처리가스는 배출덕트(160)를 통하여 외부로 방출하게 된다. Therefore, the purified processing gas is discharged to the outside through the
비록 도면에 도시하지 않았지만, 폐가스 정화처리장치(100)는 습식 세정부(130)에서 배출된 정화가스를 더 정화하기 위하여 여전히 처리되지 않은 배기가스 를 포집하여 세정하는 전기 집진부를 포함하여 전기 집진 공정을 수행할 수도 있다. 이러한 경우에는, 전기 집진부가 본 발명의 일실시예에 따른 폐가스 정화처리장치(100)의 배출덕트(160)와 습식 세정부(130) 사이에 설치된다.Although not shown in the drawing, the waste
위에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 구성에 의하면 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다. As described above, according to the configuration of the present invention, the following effects can be expected.
첫째, 연소공기 주입노즐을 통하여 주입되는 연소공기와 온도조절 공기 주입노즐을 통하여 주입되는 뜨거운 공기를 다수의 흡기 유닛을 통하여 유입되는 배기가스와 수직하게 함으로써 연소챔버 내에서 와류가 형성되어 효율적으로 혼합될 수 있는 효과가 있다. First, vortex is formed in the combustion chamber by mixing the combustion air injected through the combustion air injection nozzle and the hot air injected through the temperature-controlled air injection nozzle perpendicular to the exhaust gas introduced through the plurality of intake units. There is an effect that can be.
둘째, 4채널 흡기 다중체인저를 이용하여 하나의 압력센서를 이용하지만 다수의 흡기 유닛에 입력되는 배기가스의 압력을 효율적으로 제어할 수 있는 효과가 있다. Second, although one pressure sensor is used by using the four-channel intake multiple changer, the pressure of the exhaust gas input to the plurality of intake units can be effectively controlled.
따라서, 폐가스 정화처리장치의 연소챔버 내의 온도편차를 최소화시킬 수 있음은 물론 저렴한 비용으로 다수의 흡기 유닛을 통하여 유입되는 배기가스를 제어할 수 있는 효과가 있다. Therefore, it is possible to minimize the temperature deviation in the combustion chamber of the waste gas purification apparatus and to control the exhaust gas flowing through the plurality of intake units at a low cost.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020050030557U KR200405301Y1 (en) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020050030557U KR200405301Y1 (en) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR200405301Y1 true KR200405301Y1 (en) | 2006-01-10 |
Family
ID=41757049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2020050030557U KR200405301Y1 (en) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR200405301Y1 (en) |
-
2005
- 2005-10-27 KR KR2020050030557U patent/KR200405301Y1/en not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100711941B1 (en) | Device for puripying exhausted gas | |
KR200405303Y1 (en) | Device for puripying exhausted gas | |
CN207221597U (en) | A kind of VOCs adsoption catalysises burning processing system automatically controlled | |
KR100769667B1 (en) | Processing system for exhaust gas of incinerator | |
JP6166102B2 (en) | Vacuum pump with abatement function | |
KR20060083398A (en) | Waste gas purification apparatus | |
JP2016020801A (en) | Exhaust gas treatment device | |
KR100711940B1 (en) | Wet scrubbing unit for a exhausted gas purifying device | |
KR100761014B1 (en) | One body-type waste gas purufier | |
CN208382183U (en) | A kind of processing equipment for organic exhaust gas | |
JP2014227968A (en) | Vacuum pump with detoxification function | |
KR200423884Y1 (en) | Processing system for exhaust gas of incinerator | |
JP2002206725A (en) | Gas scrubber system | |
KR200405301Y1 (en) | Control device of a head unit used in an exhausted gas purifying device and head unit whichof | |
KR100390518B1 (en) | Gas scrubber apparatus | |
KR100997207B1 (en) | Noxious gas filtering device using halogen heater | |
KR101392643B1 (en) | Exhaust gas induce device using multi centrifugal for semi dry reactor | |
KR102171081B1 (en) | Treating tank for harmful gases | |
WO2022231099A1 (en) | Industrial carbon gas emission reduction device | |
WO2016032125A1 (en) | Flameless regenerative thermal oxidizer system | |
KR101536202B1 (en) | Flameless regenerative thermal oxidizer system | |
KR102499692B1 (en) | Multi-Purifying Filter Apparatus Using Filtration Typed | |
CN114345036B (en) | Semiconductor waste gas treatment equipment with water-steam separation device and treatment method | |
KR0138238Y1 (en) | Ultrasonic dispersion tray for exhaust purifying device | |
KR100840481B1 (en) | Device for removing powder in semiconductor equipment exhaust line |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
REGI | Registration of establishment | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121109 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131107 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141105 Year of fee payment: 10 |
|
EXPY | Expiration of term |