KR20040102631A - 진공 측정기 - Google Patents

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KR20040102631A
KR20040102631A KR1020030034154A KR20030034154A KR20040102631A KR 20040102631 A KR20040102631 A KR 20040102631A KR 1020030034154 A KR1020030034154 A KR 1020030034154A KR 20030034154 A KR20030034154 A KR 20030034154A KR 20040102631 A KR20040102631 A KR 20040102631A
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장진수
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 진공 라인과 연결되는 연결부의 구조가 개선된 진공 측정기에 관한 것으로, 그 내부에 진공도를 측정하는 진공 감지 유닛이 마련되는 몸체부; 상기 몸체부의 일측에 돌출 형성되어 진공 라인과 연결되는 포트부; 및 상기 몸체부 및 포트부의 외면에 마련된 가열 유닛을 구비하는 진공 측정기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

Description

진공 측정기{Vacuum Meter}
본 발명은 배기관에 부착되는 진공 측정기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공 라인과 연결되는 연결부의 구조가 개선된 진공 측정기에 관한 것이다.
웨이퍼를 가공하는 공정(fabrication)은 패키지와 같은 반도체 소자를 조립하는 공정과는 달리 외부로부터 밀폐된 반응실 내에서 수행된다. 확산(diffusion), 사진(photo), 식각(etch), 박막(thin film) 등의 웨이퍼 가공 공정들은 각 공정 조건 하에서 수행되며, 대부분의 공정이 수행되는 반응실은 진공 상태 또는 그와 유사한 상태로 유지되어야 한다.
이에 따라, 각 반도체 제조 장치들은 반응실 내를 진공 상태로 유기하기 위하여 배기 펌프와 같은 압력 조절 설비를 구비하고 있으며, 압력 조절 설비를 통해 각 반응실 내의 압력을 원하는 크기로 조절한다.
이와 같이 압력 조절 설비를 통해 압력이 조절된 반응실 내의 압력을 측정하여 확인하기 위한 장치로 진공 측정기가 있으며, 상기 진공 측정기는 도 1에 도시된 바와 같이 몸체부(100)와 포트부(200)로 구성되어 있으며, 상기 포트부(200)를 통하여 몸체부(100)가 진공 라인(10)에 부착되어 반응실 내의 압력을 감지한다.
그러나, 종래의 진공 측정기는 소정의 공정, 예컨대 질화막 생성 공정을 실시하는 동안 진공 측정기의 온도가 주위 환경보다 낮은 경우, 진공 측정기의 내부에 질화물 파우더가 축적되어 압력 감지의 불량을 유발하는 문제점이 있다.
상기한 문제점을 해결하기 위하여, 종래에는 상기 몸체부(100)를 질화물 생성 온도 이상으로 가열할 수 있도록 진공 측정기의 몸체부(100) 외부 표면에 열선(110)을 연결하여 히팅 타입으로 구성하였다. 그러나, 포트부(200)는 히팅 타입으로 이루어져 있지 않아서, 질화막 생성 공정 시에 상기 포트부(200)에 질화물 파우더가 축적되어 막히는 문제점이 여전히 발생하였다.
상기 축적된 질화물 파우더는 상기 진공 측정기가 잘못된 압력을 인식하게 되고 부정한 압력 값을 근거로 공정을 실시하게 되므로, 제품 전체의 불량을 유발하는 중대한 문제가 발생된다.
본 발명의 목적은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 진공 측정기의 몸체부와 포트부 모두를 히팅 타입으로 구성하여 질화물 파우더 축적에 의한 진공 측정 불량을 방지하는 진공 측정기를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 진공 측정기를 나타내는 사시도.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 제조 설비의 진공 측정기를 나타내는 사시도.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 제조 설비의 진공 측정기를 나타내는 단면도.
(도면의 주요 부위에 대한 부호의 설명)
300; 몸체부 310, 410; 열선
320; 배플 330; 다이아프램
340; 캐패시턴스 350; 세라믹막
360; 전극봉 370; 게터 펌프
400; 포트부
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 그 내부에 진공도를 측정하는 진공 감지 유닛이 마련되는 몸체부; 상기 몸체부의 일측에 돌출 형성되어 진공 라인과 연결되는 포트부; 및 상기 몸체부 및 포트부의 외면에 마련된 가열 유닛을 구비하는 진공 측정기를 제공하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 가열 유닛은 상기 전기적으로 발열하는 열선인 것이 바람직하다.
상기 열선은 상기 몸체부 및 포트부 외면을 코일 형태로 감는 구조로 배치되거나, 상기 몸체부 및 포트부의 외면을 따라 배치되되 격자형 구조로 배치된다.
이하 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 제조 설비의 진공 측정기를 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 제조 설비의 진공 측정기를 나타내는 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 진공 측정기는 그 내부에 진공도를 측정하는 진공 감지 유닛(S)이 마련된 몸체부(300)와, 상기 몸체부(300)의 일측에 돌출되어 진공 라인(500)과 연결되는 포트부(400)와, 상기 몸체부(300) 및 포트부(400)의 외면에 마련된 가열 유닛(H)으로 구성된다.
여기서, 상기 진공 라인(500)은 소정의 공정이 실시되는 처리 챔버(미도시)와, 상기 처리 챔버 내부를 진공 상태로 유지하기 위하여 펌핑 동작을 실시하는 배기 펌프(미도시)를 연결하는 역할을 한다.
보다 구체적으로 설명하면, 상기 진공 감지 유닛(S)은 포트부(400)와 연결되는 부분의 배플(320, baffle), 막의 유동을 통하여 진공 라인의 압력을 측정하는 역할을 하는 다이아프램(330, diaphram), 상기 다이아프램(330)의 유동거리를 정전 용량으로 환산하는 캐패시턴스(340, capacitance), 전극봉(360)을 지지하며 전극 봉(360)과 상기 몸체부(300)를 절연시켜주는 세라믹막(350), 상기 캐패시턴스(340)에서 계산된 정전용량 값을 컨트롤로 전송하는 전극봉(360), 레퍼런스(reference) 압력을 유지하는 게터펌프(370, gatter pump)를 구비하고 있다.
여기서, 상기 다이아프램(330)은 진공 라인(500)의 압력 변화에 따라 유동하여 압력을 측정하며, 진공 측정기의 수명을 좌우하는 역할을 한다. 그러나, 질화물 파우더 등의 외부 불순물 등에 의한 손상이 쉽게 발생하는 부분이다.
상기 가열 유니(H)은 소정의 공정을 실시하는 동안 배기 가스에 포함된 공정 부산물(질화물 파우더)이 온도 저하로 인해 상기 포트부(400) 및 몸체부(300)의 내부에 축적되는 것을 방지하기 위한 것으로, 전기적으로 발열하는 열선(310, 410)으로 함이 바람직하다.
상기 열선(310, 410)은 도 2에 도시한 바와 같이, 진공 측정기의 외부 표면을 따라 배치하며, 격자 모양 또는 진공 측정기 둘레를 감는 형태 등 진공 측정기를 균일하게 가열할 수 있는 형태로 형성하는 것이 바람직하다.
따라서, 상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 진공 측정기는 상기 몸체부(300)와 포트부(400) 모두를 히팅 타입으로 구성되어 진공 측정기를 질화물 파우더가 축적되는 온도 이상으로 가열함으로써, 진공 측정기 내부에 질화물 파우더가 축적되는 것을 방지한다. 따라서, 진공 측정기가 작동할 때, 진공 측정기 내부에 축적된 질화물 파우더가 분리되어 상기 다이아프램(330)에 손상을 입히는 것을 방지하여 압력센서의 불량을 방지한다.
또한, 상기 열선(310, 410)이 진공 측정기를 가열하여 항상 일정한 온도로 진공 측정기를 유지하여 줌으로써, 외부 환경의 변화 특히 온도의 변화로 인하여 발생하는 진공 라인과 진공 측정기 사이의 온도 차이를 감소시켜 온도 차이에 의한 기체의 압력 차이에 따른 진공 라인과 진공 측정기 사이의 압력 차이를 방지할 수 있다.
따라서, 주위 환경 변화에도 확산 공정 설비의 압력을 일정하게 유지할 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 진공 측정기의 몸체부와 포트부 모두의 표면에 열선 처리하여 가열함으로써, 질화물 파우더의 축적을 방지하는 진공 측정기를 제공할 수 있다.
또한, 상기 열선으로 진공 측정기를 가열하여 주위 환경 변화에도 진공 라인과 진공 측정기 사이에 일정한 압력을 유지할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (4)

  1. 그 내부에 진공도를 측정하는 진공 감지 유닛이 마련되는 몸체부;
    상기 몸체부의 일측에 돌출 형성되어 진공 라인과 연결되는 포트부; 및
    상기 몸체부 및 포트부의 외면에 마련된 가열 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 측정기.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 가열 유닛은 상기 전기적으로 발열하는 열선인 것을 특징으로 하는 진공 측정기.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 열선은 상기 몸체부 및 포트부 외면을 코일 형태로 감는 구조로 배치되는 것을 특징으로 하는 진공 측정기.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 열선은 상기 몸체부 및 포트부의 외면을 따라 배치되되 격자형 구조로 배치되는 것을 특징으로 하는 진공 측정기.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101018833B1 (ko) * 2008-09-11 2011-03-04 네오뷰코오롱 주식회사 반도체 기판 처리 장치

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