KR20040078419A - 유기 이. 엘. 용 마스크 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 이. 엘. ( Organic Electro-luminescence ) 용 마스크 ( mask ) 에 관한 것으로, 상기 마스크의 각 셀 주변에 보강대를 형성하거나 셀영역 내부에 위치하는 차단부 중앙에 라인 패턴 형태로 패터닝된 보강대를 형성함으로써 상기 마스크 상에 증착될 때 팽창된 상기 보강대가 쿨링 ( cooling ) 을 통하여 수축되므로 텐션 ( tension ) 이 인가되어 쳐짐 현상이 억제되고 마스크 핸들링이 용이하게 되어 그에 따른 소자의 수율 및 생산성을 향상시키는 기술이다.

Description

유기 이. 엘. 용 마스크{A mask for Organic Electro-luminescence}
본 발명은 유기 이. 엘. 용 마스크에 관한 것으로, 특히 유기막 증착 공정 시 사용되는 마스크의 처짐 현상을 극복하기 위하여 상기 마스크의 셀 내부나 주변에 보강대를 형성함으로써 유기 이. 엘. 소자의 제조 공정을 용이하게 실시할 수 있도록 하는 마스크에 관한 것이다.
최근 표시장치의 대형화에 따라 공간 점유가 적은 평판 디스플레이 소자의 요구가 증대되고 있다.
상기 평판 디스플레이 소자 중에서 유기 이. 엘. 소자가 주목되고 있다.
유기 이. 엘. 소자는 매우 얇고 매트릭스 형태로 어드레스 할 수 있으며, 15V 이하의 낮은 전압으로도 구동이 가능한 장점이 있다.
도시되진 않았으나, 풀 컬러 ( full color )를 구현할 수 있는 유기 이. 엘. 소자의 제조 공정은 다음과 같다.
먼저, 유리기판 상부에 양극 ( anode ) 로 사용되는 ITO ( Indium Tin Oxide ) 패턴을 형성한다.
전체표면상부에 절연막을 증착 하고 셀영역의 절연막을 식각 하여 후속공정으로 형성되는 각각의 셀을 전기적으로 독립, 구동시킬 수 있도록 한다. 이때, 상기 절연막은 감광막이나 폴리이미드로 형성한다.
그 다음, 전체표면상부에 라인/스페이스 패턴 형태의 격벽을 형성한다. 이때, 상기 격벽은 상측이 넓고 하측이 좁은 역 경사 형태로 경사지게 형성한다.
여기서, 상기 격벽은 후속공정으로 형성되는 음극 ( cathode ) 의 분리를 용이하게 하는 역할을 한다.
그 다음, 상기 유리기판을 전 처리한다. 이때, 상기 전처리 공정은 ITO 패턴 표면의 산소이탈을 방지하고 수분 및 유기물의 잔류를 최대한 억제할 수 있도록 실시한 것이다.
여기서, 상기 전처리 공정은 순수 ( DI water )를 이용한 세정, 초음파를 이용한 세정, 베이킹 ( baking )에 의한 건조, 오존 ( ozone ) 에 의한 세정 및 플라즈마 처리의 공정 순서로 실시한다.
그 다음, 전체표면상부에 정공주입층 ( HIL, Hole Injection Layer ), 정공수송층 ( HTL, Hole Transport Layer ), 발광층 ( EML, EMitting Layer ), 전자수송층 ( ETL, Electron Transport Layer ) 및 전자주입층 ( EIL, Electron Injection Layer )의 적층 구조로 형성되는 유기막을 증착 한다.
이때, 상기 발광층 ( EML ) 은 음극과 양극으로부터 공급된 전자와 정공이 재결합되면서 발광이 일어나는 영역이다.
상기 발광층은 소스로 사용되는 유기물질의 고유 파장에 따라 여러 가지 발광색을 구현하는 층으로서, 증착 공정 시 호스트 ( host ) 와 도펀트 ( dopant ) 의 구성비를 조절하여 R(red), G(green) 및 B(blue)의 색상을 같은 선폭 크기로 구현할 수 있도록 형성된 것이다.
상기 발광층의 증착 공정을 도 1 를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 1 은 셀영역을 9개 형성할 수 있는 라인/스페이스 패턴을 갖는 스트라이프 형 ( stripe type ) 의 마스크를 도시한 평면도이다.
먼저, 상기 격벽이 형성된 유리기판 상부에 금속마스크(11)를 설치한다. 이때, 상기 금속마스크(11)의 셀은 라인/스페이스 형태로 구성되는 개구부(13)과 차단부(15)가 구비된다. 상기 개구부(13)는 상기 차단부(15) 선폭의 1/2 정도의 크기로 형성된다.
그 다음, 상기 마스크(11)를 상기 R(red) 색상이 구현될 영역에 상기 개구부(13)가 위치하도록 설치하고, R(red) 색상을 구현할 수 있는 유기물질을 증착 한다. 이때, 상기 마스크(11)의 차단부(15)는 상기 G(green) 및 B(blue) 색상이 구현될 영역에 위치되어 상기 개구부(13)를 통하여 R(red) 색상이 구현될 영역만을 노출시킨다.
그리고, 상기 마스크(11)의 개구부(13)를 상기 G(green) 색상이 구현될 영역으로 이동시켜 상기 R(red) 및 B(blue) 색상이 구현될 영역에 차단부(15)가 위치하도록 한다.
그 다음, 상기 G(green) 색상을 구현할 수 있는 유기물질을 증착 한다.
마찬가지로, 상기 마스크(11)를 이동하고 유기물질을 증착 하는 공정으로 B(blue) 색상이 구현될 영역에 유기물질을 증착 한다.
후속공정으로, 상기 적층 구조로 형성된 유기막 상부에 음극 ( cathode )으로 사용될 금속막을 증착 한다.
이때, 상기 격벽의 측벽에 구비되는 역경사로 인하여 상기 격벽의 측벽에만금속막이 증착되지 않는다.
후속 공정으로, 봉지공정을 실시하여 유기 이. 엘. 소자를 형성한다.
상기한 바와 같이 유기 이. 엘. 소자의 제조 공정 중 상기 발광층의 증착 공정시 사용되는 마스크는 다수의 셀을 동시에 형성할 수 있도록 대형화시키는 경우 약 40 × 50 ㎝ 의 크기로 형성하면 쳐짐 현상이 유발된다. 여기서, 상기 쳐짐 현상은 마스크 사용의 정밀도를 저하시키고, 마스크의 체결을 불완전하게 한다.
최근에는 상기와 같은 쳐짐 현상을 제거하기 위하여 마스크를 인장 ( tension ) 시키고 있다.
그러나, 상기 마스크의 차단부가 뒤틀리거나 늘어지는 변형이 유발되어 상기 발광층 증착에 따른 정밀도를 저하시키고 패터닝의 한계 크기를 갖게 되는 문제점이 있다.
한편, 상기한 종래 기술과 같이 쳐짐이 없는 마스크를 사용하는 경우는 작은 충격에도 마스크의 차단부가 진동하게 되어 격벽에 손상을 주게 되고, 상기 격벽의 손상은 후속공정에서 음극으로 사용되는 금속막의 증착 공정 시 이웃하는 셀들이 쇼트는 문제점이 유발된다.
또한, 상기 격벽이 형성된 유리기판과 간격을 넓혀 상기 쳐짐이 없는 마스크 고정시키고 상기 발광층을 증착 하는 경우는, 상기 마스크로 인한 그림자 ( shadow ) 효과로 R(red), G(green) 및 B(blue) 색상이 구현될 영역이 서로 중첩되어 색이 혼합되므로 색감이 떨어지는 문제점이 유발된다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여,
마스크보다 열팽창계수가 큰 금속을 이용하여 유기막 증착 공정 시 사용되는 마스크의 쳐짐 현상을 방지하고 R(red), G(green) 및 B(blue) 색상이 구현될 영역에 발광층을 증착 하여 소자의 특성 및 신뢰성을 향상시키고 그에 따른 대형화를 가능하게 하는 유기 이. 엘. 용 마스크를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1 은 종래 기술에 따른 유기 이. 엘 . 용 마스크를 도시한 평면도.
도 2 는 본 발명의 기술적 사상을 설명하기 위한 유기 이. 엘. 용 마스크의 평면도.
도 3 은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도.
도 4 는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도.
도 5 는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도.
도 6 은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
11,21,31,41,51,61 : 마스크 ( mask )
13,23,33,43,53,63 : 개구부 ( open region )
15,25,35,45,55,65 : 차단부 ( closing region )
27,37,47,57,67 : 보강대
이상의 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크는,
유기 이. 엘. 용 마스크에 있어서,
상기 마스크에 다수의 셀 영역이 구비되고,
상기 셀 영역 각각의 주변이나 셀 영역 내에 보강대가 구비된 것과,
상기 보강대는 유기 이. 엘. 소자의 유기막 증착 공정시 마스크를 기준을 유리기판 반대측의 마스크 상에 구비되는 것과,
상기 보강대는 상기 셀 영역의 가장자리에 사각 형태로 구비되는 것과,
상기 보강대는 50 ∼ 70 ℃ 온도의 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 150 ∼ 200 ℃ 의 진공 증착 공정으로 형성되는 것과,
상기 보강대는 상기 마스크보다 열팽창 계수가 큰 금속으로 형성되는 것을 제1 특징으로 한다.
또한, 이상의 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크는,
유기 이. 엘. 용 마스크에 있어서,
상기 마스크에 다수의 셀이 구비되고,
상기 셀은 라인/스페이스 패턴 형태로 개구부와 차단부가 구비되고,
상기 셀의 주변이나 상기 차단부에 보강대가 구비된 것과,
상기 보강대는 유기 이. 엘. 소자의 유기막 증착 공정 시 마스크를 기준을 유리기판 반대측의 마스크 상에 구비되는 것과,
상기 보강대는 상기 셀 영역의 가장자리에 사각 형태로 구비되는 것과,
상기 보강대는 차단부의 양단부에 수직한 라인 형태로 구비되는 것과,
상기 보강대는 상기 차단부의 양단부에 폐곡선 형태로 구비되는 것과,
상기 보강대는 차단부의 선폭 중앙부에 라인 형태로 구비되되,
상기 보강대는 상기 차단부의 1/4 ∼ 2 크기로 구비되는 것과,
상기 보강대는 상기 마스크보다 열팽창 계수가 큰 금속으로 형성되는 것과,
상기 보강대는 50 ∼ 70 ℃ 온도의 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 150 ∼ 200 ℃ 의 증착 공정으로 형성되는 것을 제2특징으로 한다.
한편, 본 발명의 원리는 다음과 같다.
유기막의 증착 공정 시 사용되는 마스크의 쳐짐 현상을 방지하기 위하여,
상기 마스크의 형성 공정 시
상기 마스크의 셀 주변에 보강대를 형성하거나
상기 셀에 라인 형태로 구비되는 차단부의 중앙부에 상기 차단부와 평행한 라인 형태로 보강대를 형성하되, 상기 마스크의 사용 온도보다 높은 온도에서 팽창시켜 형성하고,
상기 팽창된 보강대를 쿨링 ( cooling ) 하여 수축시키고 셀에 텐션 ( tension )을 가하여 상기 셀에 구비되는 라인 패턴 형태의 차단부가 쳐지는 현상을 방지하는 것이다. 이때, 상기 보강대는 상기 마스크를 구성하는 금속보다 열팽창 계수가 높은 금속으로 이용하여 그 특성을 향상시킬 수도 있다.
여기서, 상기 보강대는 유기막 증착 공정 시 상기 마스크를 기준으로 유기막이 증착 되는 유리기판 반대측의 마스크 상에 구비된다.
참고로, 상기 마스크를 이용한 유기막의 증착 공정은 상기 마스크와 유리기판의 온도가 50℃ 이하로 유지하며 실시하고, 상기 마스크에 구비되는 보강대는 50 ℃ 이상의 온도에서 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 증착 ( sputtering, evaporation, e-beam, ion beam assist 등 ) 공정으로 형성한다. 여기서, 상기 일렉트로 포밍은 전기도금에 의한 금속 제품의 제조 또는 복제법으로 금속 표면에 전기 도금을 하여 요철을 반전하는 전기 주조(鑄造)를 말한다.
도 2 는 본 발명의 원리를 설명하기 위한 일 실시 예를 도시한 유기 이. 엘. 용 마스크의 평면도로서, 상기 도 1 의 ⓐ 부분에 보강대를 형성한 것을 도시한다.
도 2를 참조하면, 마스크(21)의 셀 영역에 개구부(23)와 차단부(25)로 형성된 라인/스페이스 패턴이 구비되고,
상기 차단부(25)의 양단부에 수직하게 연장된 라인 형태의 보강대(27)가 상기 셀영역에 인접한 마스크(21) 상에 구비된다.
여기서, 상기 보강대(27)는 50 ∼ 70 ℃ 온도의 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 150 ∼ 200 ℃ 의 진공 증착 ( sputtering, evaporation, e-beam, ion beam assist 등 ) 공정으로 형성한다.
상기 보강대(27)는 유기막의 증착 공정 시 상기 마스크를 기준으로 유기막이 증착 되는 유리기판 반대측의 마스크(21) 상에 구비된 것이다.
한편, 상기 도 2 에 도시된 상기 보강대(27)의 내부에 도시된 점선은 상기 보강대(27) 형성 후 상온에서 쿨링 ( cooling ) 하여 수축된 상태를 도시한 것이다. 이때, 상기 차단부(25)는 상기 도 2 에 도시된 화살표와 같이 상기 보강대(27) 방향으로 인장력이 발생되어 차단부(25)의 쳐짐 현상을 억제한다.
도 3 내지 도 6 은 본 발명의 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도로서, 9 개의 셀 영역을 증착 할 수 있도록 디자인한 것이다.
도 3 은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 유기 이 .엘. 용 마스크를 도시한 평면도이다.
도 3 을 참조하면, 마스크(31)의 셀 영역에 개구부(33)와 차단부(35)가 라인/스페이스 패턴 형태로 구비되고, 상기 셀 영역의 가장자리에 사각형 보강대(37)가 구비된다.
이때, 상기 보강대(37)는 상기 셀 영역과 같은 사각 구조로 형성된다.
상기 보강대(37)는 상기 유기막의 증착 공정시 상기 마스크(31)를 기준으로 유기막이 증착 되는 유리기판 반대측의 마스크(31) 상에 구비된다.
상기 보강대(37)는 상기 마스크(31)를 구성하는 금속인 스테인레스 계열의 금속보다 열팽창계수가 큰 금속으로 형성한다.
도 4 는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한평면도이다.
도 4 를 참조하면, 마스크(41)의 셀 영역에 개구부(43)와 차단부(45)가 라인/스페이스 패턴 형태로 구비되고, 상기 차단부(45)의 양단부에 수직하게 연장된 라인 형태의 보강대(47)가 상기 마스크(41) 상에 구비된다.
도 5 는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 유기 이. 엘 용 마스크를 도시한 평면도이다.
도 5 를 참조하면, 마스크(51)의 셀 영역에 개구부(53)와 차단부(55)가 라인/스페이스 형태로 다수 구비되고, 상기 차단부(55)의 양단부에 원형 형태의 보강대(57)가 상기 마스크(51) 상에 구비된다.
도 6 은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크를 도시한 평면도이다.
도 6 을 참조하면, 마스크(61)의 셀 영역에 개구부(63)와 차단부(65)가 라인/스페이스 패턴 형태로 구비되고, 상기 차단부(65)인 라인 선폭 중앙부에 라인 패턴으로 보강대(67)가 구비된다. 여기서, 상기 보강대(67)는 상기 차단부(65)의 1/4 ∼ 2 선폭을 갖는 라인 형태로 형성된다.
이때, 상기 실시 예들에서, 보강대와 마스크는 상기 제 1 실시 예에서와 같은 금속으로 각각 형성하되, 상기 보강대는 상기 마스크를 기준으로 유리기판의 반대측 마스크 상에 형성된 것이다.
참고로, 상기한 본 발명의 제1,2,3,4 실시 예를 조합하여 보강대를 형성할 수도 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 유기 이. 엘. 용 마스크는, 셀의 주변이나 상기 셀의 차단부에 보강대를 형성함으로써 쳐짐 현상을 방지하고 마스크의 핸들링을 용이하게 하여 유기 이. 엘. 소자의 제조 공정을 용이하게 함으로써 수율 및 생산성을 향상시킬 수 있도록 하는 효과를 제공한다

Claims (14)

  1. 유기 이. 엘. 용 마스크에 있어서,
    상기 마스크에 다수의 셀 영역이 구비되고,
    상기 셀 영역 각각의 주변이나 셀 영역 내에 보강대가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 보강대는 유기 이. 엘. 소자의 유기막 증착 공정시 마스크를 기준을 유리기판 반대측의 마스크 상에 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 셀 영역의 가장자리에 사각 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 보강대는 50 ∼ 70 ℃ 온도의 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 150 ∼ 200 ℃ 의 진공 증착 공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 마스크보다 열팽창 계수가 큰 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  6. 유기 이. 엘. 용 마스크에 있어서,
    상기 마스크에 다수의 셀이 구비되고,
    상기 셀은 라인/스페이스 패턴 형태로 개구부와 차단부가 구비되고,
    상기 셀의 주변이나 상기 차단부에 보강대가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 유기 이. 엘. 소자의 유기막 증착 공정 시 마스크를 기준을 유리기판 반대측의 마스크 상에 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 셀 영역의 가장자리에 사각 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 차단부의 양단부에 수직한 라인 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 차단부의 양단부에 폐곡선 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 차단부의 선폭 중앙부에 라인 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 차단부의 1/4 ∼ 2 크기로 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  13. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 상기 마스크보다 열팽창 계수가 큰 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
  14. 제 6 항에 있어서,
    상기 보강대는 50 ∼ 70 ℃ 온도의 일렉트로 포밍 ( electro forming ) 공정이나 150 ∼ 200 ℃ 의 증착 공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 이. 엘. 용 마스크.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100972636B1 (ko) * 2007-10-22 2010-07-27 네오뷰코오롱 주식회사 증착 마스크 유닛
KR20140030642A (ko) * 2012-09-03 2014-03-12 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
CN106067518A (zh) * 2015-04-23 2016-11-02 三星显示有限公司 掩模框架组件、制造其的方法以及制造显示器的方法
KR20170114025A (ko) * 2016-03-31 2017-10-13 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100972636B1 (ko) * 2007-10-22 2010-07-27 네오뷰코오롱 주식회사 증착 마스크 유닛
KR20140030642A (ko) * 2012-09-03 2014-03-12 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
CN106067518A (zh) * 2015-04-23 2016-11-02 三星显示有限公司 掩模框架组件、制造其的方法以及制造显示器的方法
CN106067518B (zh) * 2015-04-23 2019-06-21 三星显示有限公司 掩模框架组件、制造其的方法以及制造显示器的方法
US10403860B2 (en) 2015-04-23 2019-09-03 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing a display apparatus
KR20170114025A (ko) * 2016-03-31 2017-10-13 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법

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