KR20040053651A - Cell culture dish formed with a lattice - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Cell culture dish formed with lattice is provided, thereby directly numbering cultured cells without separating the cells from the culture dish through a microscope. CONSTITUTION: The cell culture dish formed with lattice has a cell growth layer on the lattice. The method for preparing the cell culture dish formed with lattice comprises the steps of: patterning the lattice having a constant area on the metal membrane of a substrate using photolithography; and pressurizing the lattice patterned metal membrane on a substrate of the cell culture dish to copy the metal membrane lattice pattern to the substrate of the cell culture dish, wherein a compound may be coated on the lattice formed substrate of the cell culture dish to form a cell growth layer; the compound is polylysine, polyethylene, polypropylene, copolymer thereof or glass; and plasma surface modification under vacuum for proliferation of cells may be further induced.

Description

격자가 형성된 세포 배양용 용기{Cell culture dish formed with a lattice}Cell culture dish formed with a lattice}

본 발명은 격자가 형성된 세포 배양용 용기 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cell culture vessel having a lattice formed therein and a method for producing the same.

종래의 세포 배양용 용기는 세포가 자랄 수 있는 물리화학적 처리만 이루어진 것이었다. 따라서, 종래의 세포 배양용 용기에서 자란 세포의 수를 계수하기 위하여는, 세포를 배양용기로부터 분리하고, 이를 세포 계수를 위한 도구에 옮겨야 했다. 세포 계수는 쿨터 카운터나 FACS와 같은 자동화 기기를 사용하거나 헤마토사이토미터와 같은 도구를 사용하여 현미경하에서 직접 계수하는 방법이 사용되었다. 그러나, 이러한 세포 계수 방법들은 세포를 세포 배양 용기로부터 분리하여야 하므로 불편하고, 별도의 세포 계수기를 준비해야 한다는 문제점이 있었다. 또한, 세포를 배양 용기로부터 분리하는 과정에 의하여 외부 미생물에 의한 오염과 측정되는 세포수에 오차가 발생할 수 있었다.Conventional cell culture vessels consisted only of physicochemical treatments in which cells could grow. Therefore, in order to count the number of cells grown in a conventional cell culture vessel, the cells had to be separated from the culture vessel and transferred to a tool for cell counting. Cell counting was performed directly under a microscope using an automated device such as a Coulter counter or FACS or using a tool such as a hematocytometer. However, these cell counting methods are inconvenient because the cells must be separated from the cell culture vessel, and there is a problem that a separate cell counter must be prepared. In addition, due to the process of separating the cells from the culture vessel, an error could occur in the contamination by the external microorganisms and the number of cells measured.

본 발명의 목적은, 세포를 세포 배양용 용기로부터 분리하지 않고도 배양 용기로부터 직접적으로 세포를 계수할 수 있는 세포 배양 용기를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a cell culture vessel capable of counting cells directly from the culture vessel without separating the cells from the cell culture vessel.

본 발명의 목적은 또한, 용기로부터 직접적으로 세포를 계수할 수 있는 상기 세포 배양 용기를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a method of making said cell culture vessel capable of counting cells directly from the vessel.

도1은 포토리소그래피를 이용하여 격자를 세포 배양용 용기에 직접 형성시키는 과정의 일예를 모식적으로 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically showing an example of a process of directly forming a lattice in a cell culture vessel using photolithography.

도2는 금속 격자를 주형으로 하여 격자를 세포 배양용 용기에 형성시키는 과정의 일예를 모식적으로 나타내는 도면이다.Fig. 2 is a diagram schematically showing an example of a process of forming a lattice in a cell culture container using a metal lattice as a template.

도3은 도1에 나타낸 과정에 따라 제조된 본 발명의 세포 배양용 용기에서 배양된 세포를 나타내는 사진으로, 도3a는 SupT1 세포이고, 도3b는 Hela 세포이다.Figure 3 is a photograph showing the cells cultured in the cell culture vessel of the present invention prepared according to the process shown in Figure 1, Figure 3a is SupT1 cells, Figure 3b is Hela cells.

도4는 도2에 나타낸 과정에 따라 제조된 본 발명의 세포 배양용 용기에서 배양된 세포를 나타내는 사진으로, 도4a 내지 도4c는 각각 70, 160 및 320 배율에서 관찰한 사진이다.Figure 4 is a photograph showing the cells cultured in the cell culture vessel of the present invention prepared according to the process shown in Figure 2, Figures 4a to 4c are photographs observed at 70, 160 and 320 magnification, respectively.

본 발명은 기판 상에 일정한 면적을 갖는 격자 패턴을 포함하는 세포 배양용 용기를 제공한다.The present invention provides a cell culture container including a grid pattern having a predetermined area on a substrate.

상기 기판은 상기 격자 패턴의 기저가 되는 물질로서 상기 격자 패턴의 토대가 된다. 상기 기판은 예들 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이들의 공중합체 또는 유리가 될 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. 바람직하기로는, 상기 기판은 투명한 것이다. 상기 격자는 균일한 면적을 가지며, 여러가지 형상 예를 들면, 방사상 또는 원형 또는 바둑판 무늬와 같은 형상을 가진다. 상기 격자는 통상의 반도체 제조 공정에서 사용되는 패턴 형성 공정, 예를 들면 포토리소그래피와 같은 방법 및 열 부조세공에 의하여 형성되는 패턴의 형태로 제작될 수 있다. 상기 격자는 현미경하에서 상기 격자 내에 존재하는 세포를 계수하고, 얻어진 세포수에 배양 용기 대비 상기 단위 격자의 면적의 비를 곱하여 최종적으로 배양 용기내의 전체 세포 수를 계수하는 데 사용된다. 상기 단위 격자의 면적은 일정한 면적을 갖는 것이면 특별한 제한은 없으나, 바람직하기로는 통상적으로 사용되는 1 mm2인 것이다. 또한, 상기 기판은 세포의 부착이나 성장을 돕기 위하여 표면처리된 것일 수 있다. 예를 들면, 진공상에서의 기체 플라즈마 처리에 의하여 표면 처리된 것일 수 있다.The substrate is a base material of the lattice pattern and forms the basis of the lattice pattern. The substrate may be, for example, polyethylene, polypropylene, copolymers or glass thereof, but is not limited thereto. Preferably, the substrate is transparent. The lattice has a uniform area and has various shapes, for example radial or circular or checkered shapes. The lattice may be manufactured in the form of a pattern formed by a pattern forming process used in a conventional semiconductor manufacturing process, for example, photolithography and thermal relief. The lattice is used to count cells present in the lattice under a microscope, and multiply the obtained cell number by the ratio of the area of the unit lattice to the culture vessel to finally count the total number of cells in the culture vessel. The area of the unit grid is not particularly limited as long as it has a constant area, but is preferably 1 mm 2 which is commonly used. In addition, the substrate may be surface-treated to help the adhesion or growth of cells. For example, it may be surface treated by gas plasma treatment in a vacuum phase.

본 발명의 상기 세포 배양용 용기에는 상기 격자 패턴 상에 형성된 성장층을 더 포함할 수 있다. 상기 성장층은 세포가 고착 또는 부유하여 자랄 수 있도록하여 성장을 지지하여 주는 층이다. 상기 성장층은 세포에 유독하지 않아 세포 성장을 지지할 수 있는 물질로 이루어진, 아주 얇은 박막의 형태이다. 상기 성장층은 예를 들면, 폴리라이신이다. 또한, 상기 성장층은 세포가 고착하여 자랄 수 있는 물질 뿐만 아니라, 부유하여 자라는 세포의 성장을 지지할 수 있는 물질도 포함된다. 바람직하기로는, 상기 성장층은 투명한 것이다.The cell culture vessel of the present invention may further include a growth layer formed on the grid pattern. The growth layer is a layer that supports growth by allowing cells to grow by sticking or floating. The growth layer is in the form of a very thin film made of a material that is not toxic to cells and can support cell growth. The growth layer is, for example, polylysine. In addition, the growth layer includes a material capable of supporting the growth of cells growing in suspension, as well as a material that cells can adhere to and grow. Preferably, the growth layer is transparent.

본 발명은 배양용기 기판 상에 포토리소그래피(photolithography)를 이용하여 일정한 면적을 갖는 격자를 패터닝하는 단계를 포함하는 상기 세포 배양용 용기를 제조하는 방법을 제공한다.The present invention provides a method for producing the cell culture container comprising the step of patterning a grid having a predetermined area using photolithography on the culture vessel substrate.

상기 본 발명의 방법에는 또한, 상기 격자가 패터닝된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있는 화합물을 도포하여 성장층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method of the present invention may further include forming a growth layer by applying a compound capable of growing cells on the culture vessel substrate on which the lattice is patterned.

상기 배양용기 기판은 그 위에 형성되는 격자 패턴 또는 성장층을 지지할 수 있고, 상기 패터닝은 양각 또는 음각의 형태를 가질 수 있다. 또한, 상기 격자는 포토레지스트 물질 또는 기판을 구성하는 물질에 의하여 형성되는 것을 포함한다. 상기 세포가 자랄 수 있는 화합물이란, 독성이 없어 세포가 부착 또는 부유하여 자랄 수 있는 화합물을 의미한다. 또한, 상기 기판은 세포의 부착이나 성장을 돕기 위하여 표면처리된 것일 수 있다. 또한, 상기 패터닝 후의 기판을 표면처리할 수도 있다. 상기 표면처리는 예를 들면, 진공상에서의 기체 플라즈마 처리에 의하여 표면 처리된 것일 수 있다.The culture vessel substrate may support a lattice pattern or growth layer formed thereon, and the patterning may have an embossed or engraved form. In addition, the grating includes one formed by a photoresist material or a material constituting the substrate. The compound in which the cells can grow refers to a compound which is not toxic and can grow by attaching or floating cells. In addition, the substrate may be surface-treated to help the adhesion or growth of cells. Moreover, the substrate after the said patterning can also be surface-treated. The surface treatment may be, for example, surface treatment by gas plasma treatment in a vacuum.

본 발명은 또한, 배양용기 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;The present invention also comprises the steps of applying a photoresist on the culture vessel substrate;

상기 포토레지스트가 도포된 배양용기 기판상에 일정한 면적을 갖는 격자가 그려진 마스크를 씌우는 단계; 및Applying a mask on which a grid having a predetermined area is drawn on the culture vessel substrate to which the photoresist is applied; And

노광하고 현상하여 상기 격자의 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 방법일 수 있다.Exposing and developing to form a photoresist pattern of the grating.

상기 방법은 또한, 상기 격자의 포토레지스트 패턴 상에 세포가 자랄 수 있는 화합물을 도포하여 성장층을 형성하는 단계를 포함하는 방법일 수 있다.The method may also be a method comprising forming a growth layer by applying a compound capable of growing cells on the photoresist pattern of the lattice.

여기서, 상기 배양용기 기판은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이들의 공중합체 또는 유리이고, 투명한 형태인 것이 바람직하다. 또한, 상기 세포가 자랄 수 있는화합물은 양전하를 띄는 폴리라이신 (polylysine) 계통의 물질이 바람직하나, 여기에 한정되는 것은 아니고 당업계에서 통상적으로 사용되는 물질이 사용될 수 있다. 또한, 상기 패터닝된 기판은 세포의 부착이나 성장을 돕기 위하여 표면처리할 수 있다. 상기 표면처리는 예를 들면, 진공상에서의 기체 플라즈마 처리에 의하여 표면 처리하는 것일 수 있다.Here, the culture vessel substrate is polyethylene, polypropylene, copolymers or glass thereof, preferably in a transparent form. In addition, the compound in which the cells can grow is preferably a polylysine-based material having a positive charge, but is not limited thereto, and materials commonly used in the art may be used. In addition, the patterned substrate may be surface treated to aid in cell adhesion or growth. The surface treatment may be, for example, surface treatment by gas plasma treatment in a vacuum phase.

본 발명에서 상기 포토리소그래피는 통상의 반도체 제조 공정에서 사용되는 패턴 형성 공정의 한 방법을 의미한다. 통상적으로 포토리소그래피는 기판의 세척, 포토레지스트의 도포, 마스크의 부착, 현상 및/또는 식각 과정을 포함한다. 또한, 상기 포토레지스트는 광감재를 말한다.In the present invention, the photolithography means a method of a pattern forming process used in a conventional semiconductor manufacturing process. Photolithography typically involves cleaning the substrate, applying photoresist, attaching a mask, developing and / or etching. In addition, the photoresist refers to a photosensitive material.

이상의 포토리소그래피를 이용하여 배양용기 기판 상에 격자를 형성시키는 과정의 일예를 도1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.An example of a process of forming a lattice on a culture vessel substrate using the above photolithography will be described with reference to FIG. 1.

먼저, 배양용기 기판(2) 상에 포토레지스트(3)를 코팅한다. 포토레지스트가 코팅된 배양용기 기판 상에 격자가 그려진 마스크를 씌우고, 노광한다. 노광한 후 노광된 부분을 현상하면, 포토레지스트에 격자 패턴(4)이 형성된다. 여기에, 세포가 자랄 수 있는 화합물을 코팅하여 성장층(6)을 형성함으로써 본 발명의 격자가 그려진 배양용기를 제조한다.First, the photoresist 3 is coated on the culture vessel substrate 2. The photoresist-coated culture vessel substrate is covered with a mask with a lattice, and exposed. When the exposed portion is developed after exposure, the lattice pattern 4 is formed in the photoresist. Here, by forming a growth layer 6 by coating a compound in which cells can grow, a culture vessel in which the lattice of the present invention is drawn is prepared.

본 발명은 또한, 기판 상의 금속 막에 포토리소그래피를 이용하여 일정한 면적을 갖는 격자를 패터닝하는 단계; 및 상기 격자가 패터닝된 금속 막을 배양용기 기판에 압착하여 금속 막 격자 패턴을 전사하는 단계를 포함하는 상기 세포 배양용 용기를 제조하는 방법을 제공한다.The present invention also includes the steps of: patterning a grating having a constant area using photolithography on a metal film on a substrate; And transferring the metal membrane lattice pattern by pressing the lattice patterned metal membrane onto the culture vessel substrate to transfer the metal membrane lattice pattern.

상기 방법은, 상기 격자 패턴이 전사된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있는 화합물을 도포하여 성장층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming a growth layer by applying a compound capable of growing cells on the culture vessel substrate on which the lattice pattern is transferred.

상기 방법은 기판 상에 금속 막을 침적시키는 단계;The method includes depositing a metal film on a substrate;

상기 금속 막이 침적된 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;Applying a photoresist on the substrate on which the metal film is deposited;

상기 포토레지스트가 도포된 기판상에 일정한 면적을 갖는 격자가 그려진 마스크를 씌우고 노광하고 현상하는 단계;Covering, exposing and developing a mask in which a grid having a predetermined area is drawn on the photoresist-coated substrate;

상기 격자 패턴에 따라 상기 금속 막을 식각하는 단계;Etching the metal film according to the lattice pattern;

얻어진 금속 막의 격자 패턴을 갖는 주형용 기판을 주형으로 하여 배양용기 기판에 상기 격자 패턴을 전사하는 단계; 및Transferring the lattice pattern to the culture vessel substrate using the template for the mold having the obtained metal film lattice pattern as a template; And

상기 격자 패턴을 갖는 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있는 화합물을 도포하는 단계를 포함하는 방법일 수 있다. 또한, 상기 격자 패턴을 갖는 배양용기 기판 상에 세포가 부착될 수 있도록 표면처리할 수 있다. 상기 표면처리는 예를 들면, 진공상의 기체 플라즈마를 처리하는 것일 수 있다.It may be a method comprising the step of applying a compound that can grow cells on the culture vessel substrate having the grid pattern. In addition, the surface treatment may be such that the cells can be attached to the culture vessel substrate having the grid pattern. The surface treatment may be, for example, treating a gaseous plasma in a vacuum.

여기서, 상기 주형용 기판은 유리, 실리콘 또는 금속일 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 배양용기 기판은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이들의 공중합체 또는 유리인 것이 바람직하다. 상기 금속은 특별한 제한은 없으나, 바람직하기로는 구리, 백금, 강철, 금 또는 알루미늄이다. 또한, 상기 세포가 자랄 수 있는 화합물은 독성이 없어 세포가 부착 또는 부유하여 자랄 수 있는 화합물을 의미한다. 상기 화합물에는 예를 들면, 폴리라이신이 포함된다. 상기 배양용기 기판은 투명한 것이어서, 세포를 현미경하에서 직접 계수할 수 있는 것이 바람직하다.Here, the mold substrate may be glass, silicon, or metal, but is not limited thereto. In addition, the culture vessel substrate is preferably polyethylene, polypropylene, copolymers or glass thereof. The metal is not particularly limited but is preferably copper, platinum, steel, gold or aluminum. In addition, the compound capable of growing the cell refers to a compound that is not toxic and can grow by attaching or floating the cell. Such compounds include, for example, polylysine. It is preferable that the culture vessel substrate is transparent so that the cells can be directly counted under a microscope.

이상과 같은 금속 격자를 주형으로 하여 격자를 세포 배양용기 기판에 형성시키는 과정의 일예를 도2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.An example of a process of forming the lattice on the cell culture vessel substrate using the metal lattice as a template will be described below with reference to FIG. 2.

먼저, 금속 격자용 기판(8) 상에 금속(10)을 침적시킨다. 금속이 침적된 상기 기판(8) 상에 격자가 그려진 마스크를 씌우고, 노광한 후 현상한다. 현상이 끝난 후, 식각하여 금속의 격자(12)를 형성시킨다. 얻어진 금속 격자(12)와 배양용기 기판(2)을 일정한 온도로 가열하고, 상기 금속 격자(12)를 배양용기 기판(2)에 압착하여 격자의 패턴을 배양용기 기판(2)으로 전사한다. 상기 금속 격자(12)를 제거하고, 세포가 자랄 수 있는 화합물을 코팅하여 성장층(6)을 형성함으로써 본 발명의 격자가 그려진 배양용기를 제조한다.First, the metal 10 is deposited on the metal lattice substrate 8. A mask on which a lattice is drawn is placed on the substrate 8 on which metal is deposited, and exposed after development. After the development is completed, etching is performed to form the metal lattice 12. The obtained metal lattice 12 and the culture vessel substrate 2 are heated to a constant temperature, and the metal grid 12 is pressed onto the culture vessel substrate 2 to transfer the pattern of the grid to the culture vessel substrate 2. The metal lattice 12 is removed, and a growth vessel 6 is formed by coating a compound capable of growing cells to prepare a culture vessel in which the lattice of the present invention is drawn.

한편, 본 발명에서 기재한 성장층을 형성하는 과정이나 프라즈마로써 기판을 표면처리하는 과정은 기판에 금속 격자에 의한 패턴이 형성되기 이전에도 이루어질 수 있다.On the other hand, the process of forming the growth layer described in the present invention or the surface treatment of the substrate with a plasma may be performed even before the pattern of the metal grid is formed on the substrate.

이하 본 발명의 세포 배양용 용기의 제조 과정을 실시예를 통하여 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 이들 실시예는 본 발명을 예시적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the manufacturing process of the cell culture container of the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, these examples are for illustrative purposes only, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

실시예Example

실시예 1:Example 1: 포토리소그래피 법을 통하여 격자를 배양용기 기판에 직접 형성하는 과정을 통한 배양용 용기의 제조Preparation of the culture vessel by the process of forming the grating directly on the culture vessel substrate through the photolithography method

먼저, 세포가 자라는 세포 배양 용기(폴리스티렌 재질, Falcon 사)의 면을탈이온수로 세척하고, 질소로 건조시켰다. 여기에 감광재 접착을 위하여 프로모터(HMDS; hexamethyldisilazane)를 500 rpm으로 스핀 코팅한 다음, 감광재(AZ5314)(Clariant Industries Ltd. Korea 사의 제품)를 5,000 rpm으로 1.3㎛ 두께로 스핀 코팅하였다.First, the surface of the cell culture vessel (polystyrene, Falcon Co., Ltd.) in which cells are grown was washed with deionized water and dried with nitrogen. The photosensitive material was spin-coated with a promoter (HMDS; hexamethyldisilazane) at 500 rpm, and then the photosensitive material (AZ5314) (manufactured by Clariant Industries Ltd. Korea) was spin-coated at 1.3 rpm with a thickness of 5,000 rpm.

상기 감광재가 코팅된 배양용 용기 상에 격자(50 ㎛ x 50 ㎛)의 배열이 새겨진 마스크를 씌우고, UV(310-405 nm)를 노광한 다음, 현상액(AZ300MIF)(Clariant Industries Ltd. Korea 사의 제품)에 1분 동안 침액시켜 UV에 노출된 감광재 부분을 식각하였다.A mask engraved with an array of grids (50 μm × 50 μm) was coated on the culture vessel coated with the photosensitive material, and exposed to UV (310-405 nm), followed by developer (AZ300MIF) (product of Clariant Industries Ltd. Korea). ) Was immersed for 1 minute to etch portions of the photosensitive material exposed to UV.

상기와 같이 격자 패턴이 형성된 상기 배양용 용기 상에 세포가 붙어 자랄 수 있도록 하기 위하여, 폴리라이신(poly-L-lysine)(Sigma 사 제품) 용액을 상온에서 10분 동안 처리하고, PBS(phosphate-buffered saline)으로 세척하였다.In order to allow cells to grow on the culture vessel in which the lattice pattern is formed as described above, a poly-L-lysine (Sigma) solution is treated at room temperature for 10 minutes, and PBS (phosphate- buffered saline).

위와 같이 얻어진 격자가 형성된 세포 배양용 용기를 이용하여 사람 T 세포의 일종인 SupT1, 또는 사람 자궁경부암 세포인 Hela 세포를 배양하고, 세포계수를 하였다. 그 결과, 세포가 배양된 용기 상에서 직접 현미경을 통하여 세포를 계수 할 수 있음을 알 수 있었다.Using the cell culture vessel formed with the lattice formed as described above, SupT1, which is a kind of human T cells, or Hela cells, which are human cervical cancer cells, were cultured and subjected to cell counting. As a result, it was found that the cells could be counted directly under a microscope on the cultured cell.

본 실시예에서는 얻어진 배양용 용기의 격자 상에서 세포가 자라는 형태를 도3a 및 도3b에 나타내었다. 도3a는 SupT1 세포(250 배율)가 자라는 모양을 나타낸 것이고, 도3b는 Hela 세포(270 배율)가 자라는 모양이다.3A and 3B show the growth of cells on the lattice of the obtained culture vessel. FIG. 3A shows the growth of SupT1 cells (250 magnification), and FIG. 3B shows the growth of Hela cells (270 magnification).

실시예 2 :Example 2: 포토리소그래피를 이용하여 금속 막 격자를 만들고, 이를 주형으로 하여 세포 배양용기 기판에 격자를 형성시키는 과정을 통한 격자를 갖는 배양용기의 제조Fabrication of a culture vessel having a lattice by making a metal membrane lattice using photolithography and forming a lattice on a cell culture vessel substrate using the template as a template

유리 또는 실리콘으로 된 기판 상에 알루미늄 또는 금으로 된 금속을 1 ㎛ 두께로 침적시켰다. 감광재를 접착시키기 위하여 프로모터(HMDS; hexamethyldisilazane)를 5,000 rpm으로 스핀 코팅한 다음, 감광재(AZ5314)(Clariant Industries Ltd. Korea 사의 제품)를 5,000rpm으로 1.3 ㎛ 두께로 스핀 코팅하였다.A metal of aluminum or gold was deposited to a thickness of 1 μm on a glass or silicon substrate. A promoter (HMDS; hexamethyldisilazane) was spin coated at 5,000 rpm to bond the photosensitive material, and then the photosensitive material (AZ5314) (manufactured by Clariant Industries Ltd. Korea) was spin-coated at 1.3 μm at 5,000 rpm.

상기 감광재가 코팅된 배양용 용기 상에 격자(50 ㎛ x 50 ㎛)가 새겨진 마스크를 씌우고, UV(310-405 nm)를 노광한 다음, 현상액(AZ300MIF)(Clariant Industries Ltd. Korea 사의 제품)에 1분 동안 침액시켜 UV에 노출된 감광재 부분을 식각하였다.A mask engraved with a lattice (50 μm × 50 μm) was coated on the culture vessel coated with the photosensitive material, exposed to UV (310-405 nm), and then placed in a developer (AZ300MIF) (manufactured by Clariant Industries Ltd. Korea). A portion of the photosensitive material exposed to UV was etched by immersion for 1 minute.

다음으로, 상기 격자 패턴이 형성된 기판을 금속 시각액 속에 침액시켜, 금속 격자를 형성시킨 다음, 남은 감광재를 아세톤 및 메탄올에 각각 1분 동안 침액시켜 제거하였다.Next, the substrate on which the lattice pattern was formed was immersed in a metal visual solution to form a metal lattice, and then the remaining photosensitive material was immersed in acetone and methanol for 1 minute and removed.

상기와 같이 제작된 금속 격자를 갖는 주형용 기판을 배양용 용기에 격자를 형성시키기 위한 주형으로 사용하였다. 상기 금속 격자를 갖는 기판을 120℃까지 가열한 다음, 세포가 자라는 배양용 용기 면에 눌러서 격자를 형성시켰다.The substrate for the mold having the metal lattice prepared as described above was used as a mold for forming the lattice in the culture vessel. The substrate having the metal lattice was heated to 120 ° C., and then pressed on the surface of the culture vessel in which the cells grew to form a lattice.

위와 같이 얻어진 격자가 형성된 세포 배양용 용기를 이용하여 사람 T 세포의 일종인 SupT1, 또는 사람 자궁경부암 세포인 Hela 세포를 배양하고, 세포계수를 하였다. 그 결과, 세포가 배양된 용기 상에서 직접 현미경을 통하여 세포를 계수 할 수 있음을 알 수 있었다.Using the cell culture vessel formed with the lattice formed as described above, SupT1, which is a kind of human T cells, or Hela cells, which are human cervical cancer cells, were cultured and subjected to cell counting. As a result, it was found that the cells could be counted directly under a microscope on the cultured cell.

본 실시예에서는 얻어진 배양용 용기의 격자 상에서 세포가 자라는 형태를 도4a 내지 도4c에 나타내었다. 도4a 내지 도4c는 Hela 세포가 자라는 모양으로, 각각 70 배율, 160 배율 및 320 배율에서 관찰한 사진이다.4A to 4C show the growth of cells on the lattice of the obtained culture vessel. Figures 4a to 4c are Hela cells grow, it is a photograph observed at 70, 160 and 320 magnification, respectively.

본 발명의 격자를 갖는 세포 배양용 용기에 의하면, 세포가 배양된 용기로부터 현미경을 통하여 직접적으로 세포를 계수할 수 있다.According to the cell culture vessel having a lattice of the present invention, cells can be directly counted through a microscope from the vessel in which the cells are cultured.

본 발명의 세포 배양용 용기의 제조방법에 의하면, 격자를 갖는 세포 배양용 용기를 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of the cell culture container of this invention, the cell culture container which has a lattice can be manufactured.

Claims (11)

기판 상에 일정한 면적을 갖는 격자 패턴을 포함하는 세포 배양용 용기.Cell culture container comprising a grid pattern having a predetermined area on the substrate. 제1항에 있어서, 상기 격자 패턴 상에 형성된 성장층을 더 포함하는 세포 배양용 용기.The cell culture container of claim 1, further comprising a growth layer formed on the grid pattern. 배양용기 기판 상에 포토리소그래피(photolithography)를 이용하여 일정한 면적을 갖는 격자를 패터닝하는 단계를 포함하는 제1항의 세포 배양용 용기를 제조하는 방법.A method of manufacturing the cell culture container of claim 1, comprising patterning a lattice having a predetermined area by photolithography on a culture vessel substrate. 제3항에 있어서, 상기 격자가 패터닝된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수있는 화합물을 도포하여 성장층을 형성하는 단계를 더 포함하는 방법.The method of claim 3, further comprising applying a compound capable of growing cells to form a growth layer on the lattice-patterned culture vessel substrate. 제4항에 있어서, 상기 화합물은 폴리라이신, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이들의 공중합체 또는 유리인 방법The method of claim 4 wherein the compound is polylysine, polyethylene, polypropylene, copolymers or glass thereof. 제3항에 있어서, 상기 격자가 패터닝된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있도록 진공상의 기체 플라즈마를 이용하여 표면 변이를 유발하는 단계를 더 포함하는 방법.4. The method of claim 3, further comprising inducing surface variation using a gaseous plasma in a vacuum so that the cells can grow on the culture vessel substrate on which the lattice is patterned. 기판 상의 금속 막에 포토리소그래피를 이용하여 일정한 면적을 갖는 격자를 패터닝하는 단계; 및Patterning a grating having a constant area using photolithography on a metal film on the substrate; And 상기 격자가 패터닝된 금속 막을 배양용기 기판에 압착하여 금속 막 격자 패턴을 전사하는 단계를 포함하는 제1항의 세포 배양용 용기를 제조하는 방법.The method of manufacturing a cell culture vessel of claim 1, comprising the step of transferring the metal membrane lattice pattern by pressing the lattice patterned metal membrane to the culture vessel substrate. 제7항에 있어서, 상기 격자 패턴이 전사된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있는 화합물을 도포하여 성장층을 형성하는 단계를 더 포함하는 방법.The method of claim 7, further comprising applying a compound capable of growing cells to form a growth layer on the culture vessel substrate on which the lattice pattern is transferred. 제8항에 있어서, 상기 화합물은 폴리라이신, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이들의 공중합체 또는 유리인 방법.The method of claim 8, wherein the compound is polylysine, polyethylene, polypropylene, copolymers or glass thereof. 제7항에 있어서, 상기 금속 막 격자 패턴을 전사하기 이전의 배양용기 기판 또는 상기 격자 패턴이 전사된 배양용기 기판 상에 세포가 자랄 수 있도록 진공상의 기체 플라즈마를 이용하여 표면 변이를 유발하는 단계를 더 포함하는 방법.The method of claim 7, further comprising the step of causing surface variation by using a gaseous plasma in a vacuum so that cells can grow on the culture vessel substrate before transferring the metal membrane lattice pattern or the culture vessel substrate on which the lattice pattern is transferred. How to include more. 제7항에 있어서, 상기 금속은 구리, 백금, 금, 강철 또는 알루미늄인 방법.8. The method of claim 7, wherein the metal is copper, platinum, gold, steel or aluminum.
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