KR20040008366A - Tension mask type cathode ray tube - Google Patents

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KR20040008366A
KR20040008366A KR1020020041992A KR20020041992A KR20040008366A KR 20040008366 A KR20040008366 A KR 20040008366A KR 1020020041992 A KR1020020041992 A KR 1020020041992A KR 20020041992 A KR20020041992 A KR 20020041992A KR 20040008366 A KR20040008366 A KR 20040008366A
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허록
임채용
김후득
신현정
엄두섭
김귀배
김문성
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A tension mask type cathode ray tube is provided to achieve improved purity and convergence characteristics and screen quality by using an inner terrestrial magnetic field shield for minimizing variance of landing of electron beams. CONSTITUTION: A tension mask type cathode ray tube comprises a vacuum tube(18) including a panel(12) having a phosphor screen(20), a funnel(14) attached to the panel, and a neck portion(16) connected to the funnel; an electron gun(24) mounted in the neck portion; a tension mask(26) for discriminating colors of electron beams emitted from the electron gun; a mask frame(28) for supporting the tension mask at the tension state; a deflection yoke(22) for deflecting electron beams emitted from the electron gun; and an inner shield(30) arranged in the vacuum tube so as to shield terrestrial magnetic fields. The ratio of the characteristic value(Br/HC) of the inner shield with respect to the characteristic value(Br/HC) of the mask frame ranges from 0.94 to 2.00, wherein BR is a remanent magnetic flux density and Hc is a coercive force.

Description

인장 마스크 방식 음극선관{TENSION MASK TYPE CATHODE RAY TUBE}Tension mask type cathode ray tube {TENSION MASK TYPE CATHODE RAY TUBE}

본 발명은 1축 또는 2축으로 인장력이 인가된 인장 마스크를 갖는 음극선관에 관한 것으로, 보다 상세하게는 지자계에 의한 전자빔의 랜딩 변화량을 최소화할 수 있는 인너 실드를 갖는 인장 마스크 방식 음극선관에 관한 것이다.The present invention relates to a cathode ray tube having a tensile mask to which a tensile force is applied in one axis or two axes, and more particularly to a tensile mask type cathode ray tube having an inner shield capable of minimizing the amount of landing change of the electron beam by a geomagnetic field. It is about.

일반적으로 음극선관은 전자총에서 방출된 세줄기 전자빔으로 형광막 스크린을 주사하여 소정의 화면을 구현하는 표시장치로서, 상기 전자빔의 경로는 지구의 북극과 남극을 축으로 하여 발생하는 지자계에 의해 변화하여 퓨리티(purity) 특성, 라스터(raster) 위치 및 컨버젼스(convergence) 특성 등에 영향을 받게 된다.In general, a cathode ray tube is a display device that implements a predetermined screen by scanning a fluorescent film screen with three stem electron beams emitted from an electron gun, and the path of the electron beam is changed by a geomagnetic field generated along the north and south poles of the earth. Purity characteristics, raster position, and convergence characteristics are affected.

이러한 지자계는 지면에 수직한 수직 분력(수직 지자계)과, 지면과 평행한 수평 분력(수평 지자계)으로 나누어지고, 지구상의 장소에 따라 다른 값을 나타내는데, 음극선관에 있어서 수평 지자계에 의한 전자빔 이동은 음극선관이 향하는 방향에 따라 NS 이동량과 EW 이동량으로 나누어 설명할 수 있다.These geomagnetic fields are divided into vertical components perpendicular to the ground (vertical geomagnetic field) and horizontal components parallel to the ground (horizontal geomagnetic field), and represent different values depending on the place on the earth. The electron beam movement can be explained by dividing the NS movement amount and the EW movement amount according to the direction in which the cathode ray tube is directed.

이때, 상기 NS 이동량은 수평 지자계 가운데 음극선관의 관축과 일치하는 성분에 의한 전자빔 이동량을 의미하고, EW 이동량은 수평 지자계 가운데 음극선관의 관축과 수직한 성분에 의한 전자빔 이동량을 의미한다.In this case, the NS movement amount refers to the electron beam movement amount by the component that matches the tube axis of the cathode ray tube in the horizontal geomagnetic field, and the EW movement amount refers to the electron beam movement amount by the component perpendicular to the tube axis of the cathode ray tube in the horizontal geomagnetic field.

한편, 지자계의 영향으로 화면상에 나타나는 전자빔의 랜딩 변화량은 수평 방향 성분과 수직 방향 성분으로 나누어 해석할 수 있다.On the other hand, the landing change amount of the electron beam appearing on the screen under the influence of the geomagnetic field can be analyzed by dividing it into a horizontal component and a vertical component.

이 때, 주로 민생용 음극선관에 적용되며 수직 방향으로 긴 슬롯을 갖는 섀도우 마스크와, 주로 공업용 음극선관에 적용되며 도트 형상의 홀을 갖는 섀도우 마스크 모두에 있어서, 전자빔의 수평 이동 성분은 전자빔을 지정된 슬롯 또는 홀에서 멀어지게 만들기 때문에, 이 수평 이동 성분을 억제하는 것이 중요한 과제가 된다.At this time, in both the shadow mask which is mainly applied to the commercial cathode ray tube and has a long slot in the vertical direction, and the shadow mask which is mainly applied to the industrial cathode ray tube and has a dot-shaped hole, the horizontal moving component of the electron beam is defined as the electron beam. Because of the distance away from the slot or hole, suppressing this horizontal shift component is an important task.

이에, 지자계에 의한 전자빔의 랜딩 변화량을 감소시키기 위한 목적으로 음극선관 내부에 인너 실드를 장착하는데, 일반적으로 프레스 성형에 의한 성형 마스크(formed mask)를 구비하는 음극선관(이하 성형 마스크 방식 음극선관이라 한다)의 경우에는 고투자율의 소재를 이용하여 인너 실드를 제조함으로써 지자계에 의한 빔 이동량을 감소시켰으며, 그 이유는 다음과 같다.Therefore, an inner shield is mounted inside the cathode ray tube for the purpose of reducing the amount of change in the landing of the electron beam due to the geomagnetic field. Generally, a cathode ray tube having a formed mask by press molding (hereinafter referred to as a cathode ray tube) In this case, the inner shield is manufactured using a material with high permeability to reduce the amount of beam movement caused by the geomagnetic field. The reason is as follows.

도 1에 도시한 바와 같이, 동일한 수준의 투자율을 갖는 두 소재(112,112)를 사용하여 원통형의 실드(110)를 구성한 경우, 지자계에 의한 자기력선은 화살표로 도시한 바와 같이 소재(112,112)의 내부를 관통하게 됨으로써 실드(110)의 내부 자계가 일정하게 된다(도 1a 참조).As shown in FIG. 1, when the cylindrical shield 110 is formed using two materials 112 and 112 having the same level of permeability, the magnetic force lines due to the geomagnetic field are internal to the materials 112 and 112 as shown by the arrows. By passing through the internal magnetic field of the shield 110 becomes constant (see FIG. 1A).

반면에, 투자율이 서로 다른 두 소재, 즉 고투자율의 소재(112)와 저투자율의 소재(114: 고투자율의 소재에 비해 투자율이 대략 1/10 수준임)를 접합하여 원통형의 실드(110')를 구성한 경우에는 화살표로 도시한 바와 같이 두 소재(112,114)의 접합 부위(116)에서 자계 누출이 발생하여 내부 자계가 불균일하게 되고, 결과적으로 차폐 효율을 감소시키게 된다(도 1b 참조).On the other hand, a cylindrical shield 110 'is formed by joining two materials having different permeability, that is, a material having a high permeability 112 and a material having a low permeability (114: the permeability is about 1/10 of that of a high permeability material). In the case of forming a magnetic field leakage occurs at the junction 116 of the two materials (112, 114) as shown by the arrow, the internal magnetic field is non-uniform, and as a result, the shielding efficiency is reduced (see Fig. 1b).

이에, 성형 마스크 방식 음극선관의 경우를 살펴 보면, 성형 마스크의 초기 투자율(μ0.35)은 600 정도이며, 최대 투자율(μmax)은 3200 정도이고, 성형 마스크를 지지하기 위해 사용하는 마스크 프레임은 초기 투자율(μ0.35)이 800 이상의 수준이며, 최대 투자율(μmax)이 대략 4000 내지 8000의 수준인 소재로 이루어지게 된다.Therefore, in the case of the molded mask type cathode ray tube, the initial permeability (μ 0.35 ) of the molded mask is about 600, the maximum permeability (μ max ) is about 3200, and the mask frame used to support the molded mask is initially The magnetic permeability (μ 0.35 ) is at a level of 800 or more, and the maximum permeability (μ max ) is made of a material having a level of approximately 4000 to 8000.

여기에서, 상기 초기 투자율은 350 밀리가우스(mG)의 자속밀도에서 측정한 값이다.Here, the initial permeability is a value measured at a magnetic flux density of 350 milligauss (mG).

따라서, 인너 실드의 소재를 마스크 프레임과 동일한 수준의 고투자율로 하면 상기 도 1a에 도시한 바와 같이 동일한 수준의 투자율을 갖는 두개의 소재(112,112)들이 접합된 경우와 마찬가지로 자력선 흐름이 원활하게 이루어져 차폐 효율이 증가되고, 이로 인해 전자빔 이동량이 감소된다.Therefore, when the inner shield material has the same high permeability as that of the mask frame, as shown in FIG. 1A, as in the case where two materials 112 and 112 having the same level of permeability are joined, the magnetic line flow is smoothly shielded. The efficiency is increased, which reduces the amount of electron beam movement.

이에, 종래에는 대한민국 공개특허공보 제1998-077085호와 제1998-077088호 및 1999-026171호 등의 선행 특허들이 개시한 바와 같이 열처리를 이용한 인너 실드 소재의 투자율 향상 방법이 주로 연구되어 왔다.Therefore, in the related art, as disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication Nos. 1998-077085, 1998-077088, and 1999-026171, the method of improving permeability of an inner shield material using heat treatment has been mainly studied.

그러나, 성형 마스크 방식 음극선관과는 달리 인장 마스크를 사용하는 음극선관(이하, 인장 마스크 방식 음극선관이라 한다)에 있어서는 인장 마스크 및 이 마스크를 지지하는 마스크 프레임이 높은 강도를 유지해야 하므로, 인장 마스크 및 마스크 프레임을 형성하는 소재의 투자율이 성형 마스크 방식 음극선관에 비해 상대적으로 저하된다.However, unlike a molded mask type cathode ray tube, in a cathode ray tube using a tensile mask (hereinafter referred to as a tensile mask type cathode ray tube), the tensile mask and the mask frame supporting the mask must maintain high strength, so that the tensile mask And the permeability of the material forming the mask frame is relatively lower than that of the molded mask type cathode ray tube.

하기의 표 1은 일반적인 마스크 프레임의 자기적 특성을 나타내는 것으로, 상기 자기적 특성은 마스크 프레임을 460℃의 온도에서 흑화 처리하고, 인장 마스크를 1축 또는 2축 방향으로 15kgf/mm2의 힘으로 인장한 후 음극선관내에 장착한 상태에서 측정한 것이며, Hc 및 Br은 각각 보자력과 잔류자속밀도를 나타낸다.Table 1 below shows the magnetic properties of a typical mask frame, which is characterized by blackening the mask frame at a temperature of 460 ° C., and applying a tensile mask to a force of 15 kgf / mm 2 in one or two axes. It was measured while being mounted in the cathode ray tube after being tensioned, and Hc and Br represent coercive force and residual magnetic flux density, respectively.

자기적 특성Magnetic properties 비고Remarks μmax μ max Hc(Oe)Hc (Oe) Br(kG)Br (kG) Hc ×BrHc × Br 소재명Material name 마스크프레임Mask frame 10801080 5.425.42 11.5911.59 62.8262.82 SCM415SCM415

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 인장 마스크 방식의 마스크 프레임은 성형 마스크 방식 음극선관의 부품에 비해 대략 20% 수준의 투자율(μ)을 나타낸다.As shown in Table 1, the mask frame of the tensile mask method has a permeability (μ) of approximately 20% compared to the components of the molded mask method cathode ray tube.

따라서, 인장 마스크 방식 음극선관에 고투자율의 인너 실드를 장착하면 도 1b에 도시한 바와 같은 현상이 발생한다. 즉 고투자율의 인너 실드와 저투자율의마스크 프레임을 사용하므로, 인너 실드 내부의 차폐 효과는 만족스러울 지 모르지만, 인너 실드와 프레임이 용접되는 부분에서의 자계 누출로 인한 국부적인 자계 분포 변화가 발생되고, 이로 인해 전자빔 이동량이 증가하게 되는 결과를 초래한다.Therefore, when a high permeability inner shield is attached to the tensile mask type cathode ray tube, a phenomenon as shown in FIG. 1B occurs. That is, since the high permeability inner shield and the low permeability mask frame are used, the shielding effect inside the inner shield may be satisfactory, but the local magnetic field distribution changes due to the magnetic leakage at the part where the inner shield and the frame are welded. As a result, the amount of electron beam movement increases.

이에, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 지자계에 의한 전자빔의 랜딩 변화량을 최소화할 수 있는 지자계 차폐용 인너 실드를 구비함으로써 품위가 향상된 인장 마스크 방식 음극선관을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention is to solve the above problems, to provide a tensile mask type cathode ray tube with improved quality by providing an inner shield for shielding the geomagnetic field that can minimize the amount of the landing change of the electron beam by the geomagnetic field.

상기한 본 발명의 목적은,The object of the present invention described above,

1축 또는 2축으로 인장력이 가해진 인장 마스크와, 이 마스크를 지지하는 마스크 프레임 및 상기 마스크 프레임에 고정 설치되어 지자계를 차폐하는 인너 실드를 갖는 인장 마스크 방식 음극선관에 있어서, 상기 마스크 프레임의 특성치(Br ×Hc)에 대한 인너 실드의 특성치(Br ×Hc)의 비가 0.94∼2.00배를 만족하는 인장 마스크 방식 음극선관에 의해 달성된다. 여기에서, Br은 잔류자속밀도(kG)이며, Hc는 보자력(Oe)이다.A tensile mask type cathode ray tube having a tensile mask applied with a tensile force in one or two axes, a mask frame supporting the mask, and an inner shield fixed to the mask frame to shield the geomagnetic field, wherein the characteristic value of the mask frame The ratio of the characteristic value (Br x Hc) of the inner shield to (Br x Hc) is achieved by a tensile mask type cathode ray tube satisfying 0.94 to 2.00 times. Here, Br is the residual magnetic flux density (kG) and Hc is the coercive force (Oe).

상기 마스크 프레임은 3.0 Oe 이상의 보자력(Hc)을 갖는 소재로 형성된다. 즉, 인장 마스크 방식 음극선관에서는 인장 마스크에 일정량(15kgf/㎣)의 인장력을 가해야 하며, 특히 흑화 공정과 봉착 공정 등 고온(450℃ 이상)에서의 강성이 요구되므로 마스크 프레임의 소재로 고온 항복강도가 높은 소재를 사용해야 하며, 이러한 소재는 탄소함량이 높고, 결정립 크기가 작아서 보자력(Hc)이 3.00e 이상의 값을 갖는다. 만약 보자력이 3.00e 이하의 소재를 프레임으로 사용하는 경우에는 상술한 고온 강도 특성을 만족하지 못함으로써, 인장 마스크 방식 음극선관에서 요구되는 일정량의 인장력을 인장 마스크에 인가할 수 없게 된다.The mask frame is formed of a material having a coercive force (Hc) of 3.0 Oe or more. In other words, in the tensile mask type cathode ray tube, a certain amount (15 kgf / 인장) of tensile force must be applied to the tensile mask, and in particular, the rigidity at high temperature (above 450 ° C) such as blackening process and sealing process is required, so that the high temperature yield as a material of the mask frame High strength materials should be used, and these materials have a high carbon content and a small grain size, and thus have a coercive force (Hc) of 3.00 e or more. If a material having a coercive force of 3.00 e or less is used as a frame, the above-described high temperature strength characteristics are not satisfied, and thus a certain amount of tensile force required in the tensile mask type cathode ray tube cannot be applied to the tensile mask.

그리고, 인너 실드의 경우, 종래의 성형 마스크 방식의 음극선관에서는 0.15㎜ 두께의 소재가 널리 사용되고 있으나, 인장 마스크 방식 음극선관의 경우 마스크와 프레임 구조체의 중량이 대략 6㎏ 이상으로써 성형 마스크 방식 음극선관의 경우에 비해 2배 이상 무겁다. 따라서, 상기 인너 실드는 음극선관의 제조 공정중 마스크와 프레임 구조체를 지탱해야 하므로, 일정 수준 이상의 강도 확보가 가능한 0.20∼0.50㎜의 두께로 이루어진다.In the case of the inner shield, a material of 0.15 mm thickness is widely used in a conventional cathode ray tube of a molded mask, but in the case of a tensile mask type cathode ray tube, the weight of the mask and the frame structure is about 6 kg or more, and thus the molded mask type cathode ray tube 2 times more heavy than Therefore, since the inner shield must support the mask and the frame structure during the manufacturing process of the cathode ray tube, the inner shield has a thickness of 0.20 to 0.50 mm to secure a certain level or more.

한편, 상기 인장 마스크는 중앙 대비 주변이 더욱 큰 인장력으로 인장될 수도 있고, 이와는 반대로 주변 대비 중앙이 더욱 큰 인장력으로 인장될 수도 있으며, 본 발명의 음극선관은, 형광막 스크린이 형성된 패널과 이 패널에 봉착되는 펀넬 및 상기 펀넬에 연결되는 넥부를 포함하는 진공 튜브와, 상기 넥부에 설치되는 전자총과, 상기 전자총에서 방출된 전자빔을 편향시키는 편향장치를 더욱 포함한다.Meanwhile, the tensile mask may be tensioned with a greater tensile force around the center, and conversely, the tension mask may be tensioned with a greater tensile force than the center, and the cathode ray tube of the present invention may include a panel and a panel on which a fluorescent film screen is formed. And a deflection apparatus for deflecting a vacuum tube including a funnel sealed to the neck and a neck portion connected to the funnel, an electron gun installed on the neck portion, and an electron beam emitted from the electron gun.

도 1은 인너 실드 소재에서 발생되는 내부 자계의 방향 및 크기를 나타내는 도면으로서, 도 1a는 동일한 투자율을 갖는 2종류의 소재를 접합하여 형성한 경우이고, 도 1b는 서로 다른 투자율을 갖는 2종류의 소재를 접합하여 형성한 경우이다.1 is a view showing the direction and size of the internal magnetic field generated in the inner shield material, Figure 1a is a case formed by joining two kinds of materials having the same permeability, Figure 1b is a two kinds of different permeability This is the case where the raw materials are joined together.

도 2는 본 발명의 인너 실드가 장착된 인장 마스크 방식 음극선관의 평단면도.Figure 2 is a plan sectional view of a tension mask type cathode ray tube equipped with an inner shield of the present invention.

도 3a 및 도 3b는 인장 마스크에 가해지는 인장력 분포도.3A and 3B are tensile force distributions applied to a tensile mask.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 인너 실드가 장착된 인장 마스크 방식 음극선관의 평단면도를 도시한 것이고, 도 3a 및 도 3b는 인장 마스크에 가해지는 인장력 분포도를도시한 것이다.Figure 2 shows a cross-sectional plan view of a tensile mask type cathode ray tube equipped with the inner shield of the present invention, Figures 3a and 3b shows a tensile force distribution applied to the tensile mask.

도시한 바와 같이, 음극선관은 패널(12)과 펀넬(14) 및 넥크부(16)가 일체로 결합하여 진공 튜브(18)를 구성하고, 패널(12) 내면에 다수의 R, G, B 형광막으로 이루어지는 형광막 스크린(20)이 형성되며, 펀넬(14)의 외주면과 넥크부(16)의 내주면으로 각각 편향 요크(22)와 전자총(24)이 일체로 장착된다.As shown, the cathode ray tube is a panel 12, the funnel 14 and the neck portion 16 is integrally combined to form a vacuum tube 18, a plurality of R, G, B on the inner surface of the panel 12 A fluorescent film screen 20 made of a fluorescent film is formed, and the deflection yoke 22 and the electron gun 24 are integrally mounted to the outer circumferential surface of the funnel 14 and the inner circumferential surface of the neck portion 16, respectively.

그리고 다수의 전자빔 통과공이 형성된 인장 마스크(26)가 마스크 프레임(28)에 고정되어 형광막 스크린(20)과 마주하도록 튜브(18) 내부에 설치된다.In addition, a tensile mask 26 having a plurality of electron beam through holes formed therein is fixed to the mask frame 28 and installed inside the tube 18 so as to face the fluorescent screen 20.

이때, 상기 인장 마스크(26)는 1축(장축) 또는 2축(장축과 단축)으로 인장된 상태에서 마스크 프레임(28)에 고정되는데, 상기 인장 마스크(26)는 도 3a에 도시한 바와 같이 중앙 대비 주변이 큰 인장력으로 인장될 수도 있고, 도 3b에 도시한 바와 같이 주변 대비 중앙이 큰 인장력으로 인장될 수도 있다.At this time, the tension mask 26 is fixed to the mask frame 28 in a state in which the tension mask 26 is tensioned in one axis (long axis) or two axes (long axis and short axis), and the tension mask 26 is shown in FIG. 3A. Peripheral relative to the center may be stretched with a large tensile force, or as shown in FIG.

상기한 구성에 따라, 전자총(24)에서 화면 신호에 대응하는 세줄기 전자빔을 방출하면, 전자빔은 편향 요크(22)가 발생한 자계에 의해 편향되어 화면상에 라스터를 형성하면서 인장 마스크(26)에 의해 해당 R, G, B 형광막으로 분리되어 정확한 색과 화면을 구현하게 된다.According to the above-described configuration, when the electron gun 24 emits a three-stem electron beam corresponding to the screen signal, the electron beam is deflected by the magnetic field in which the deflection yoke 22 is generated to form a raster on the screen, and thus the tension mask 26. By the R, G, B fluorescent film is separated by the correct color and the screen is implemented.

이와 같이 전자빔은 편향 자계에 의해 지정된 라스터를 형성하고, 세줄기 전자빔이 한곳의 전자빔 통과공에서 정확하게 일치(즉, 양호한 컨버젼스 특성을 구현)하는 등, 지정된 경로를 따라 이동하여야 정확한 화면을 구현할 수 있다.In this way, the electron beam forms a raster designated by the deflection magnetic field, and the three-beam electron beam exactly moves in one electron beam passing hole (that is, achieves good convergence characteristics). have.

따라서, 진공 튜브(18)의 내측에는 전자빔 이동에 영향을 미치는 지자계를일정 수준 차폐시키는 역할을 하는 인너 실드(30)가 그의 일단이 마스크 프레임(28)에 고정되어 전자빔 경로를 둘러싸도록 장착된다.Therefore, inside the vacuum tube 18, an inner shield 30, which serves to provide a certain level of shielding of the magnetic field affecting the electron beam movement, is mounted so that one end thereof is fixed to the mask frame 28 to surround the electron beam path. .

그런데, 인장 마스크 방식의 음극선관에서는 상기 인너 실드(30)의 소재 선별에 특별한 주의를 기울여야 한다.However, in the tensile mask type cathode ray tube should pay special attention to the material selection of the inner shield (30).

이에, 본 발명은 상기 인너 실드의 소재 선별에 사용 가능한 새로운 특성치를 제안함으로써 인장 마스크 방식 음극선관의 품위를 향상시키고자 한다.Accordingly, the present invention intends to improve the quality of the tensile mask type cathode ray tube by proposing a new characteristic value that can be used to select the material of the inner shield.

전술한 바와 같이, 인너 실드 - 마스크 프레임 - 인장 마스크로 이어지는 자계 흐름에서 원활한 자계 흐름에 영향을 미치는 가장 중요한 인자는 투자율로 표현할 수 있다. 그러나, 투자율이 낮은 재료의 투자율을 정밀하게 측정하여 평가 자료로 활용하는 것은 불가능하다. 특히, 초기 투자율은 측정 설비, 측정 조건에 민감하게 변화함으로써 평가 기준으로 하기는 어렵다.As described above, the most important factor influencing smooth magnetic flow in the magnetic flow leading to the inner shield-mask frame-tensile mask can be expressed as permeability. However, it is impossible to accurately measure the permeability of materials with low permeability and use them as evaluation data. In particular, the initial permeability is difficult to be used as an evaluation criterion because it changes sensitively to the measurement equipment and the measurement conditions.

따라서, 본 발명인은 '최대 투자율(μmax)'과 일정한 함수 관계에 있는 '잔류자속밀도(Br) ×보자력(Hc)'을 특성치로 규정하고, 인너 실드와 마스크 프레임의 특성치간의 상관 관계를 적절히 설정하여 랜딩 에러를 감소시킬 수 있는 인너 실드의 소재를 선별한다.Therefore, the present inventors define 'residual magnetic flux density (Br) x coercive force (Hc)', which has a constant function relation with the 'maximum permeability (μ max )', as a characteristic value, and properly correlate the correlation between the characteristic value of the inner shield and the mask frame. By selecting the material of the inner shield can reduce the landing error.

하기의 표 2는 인너 실드(30)를 형성하는 여러 소재들의 자기적 특성을 비교한 것이고, 표 3은 상기 소재들을 사용하여 형성한 인너 실드의 전자빔 이동량을 측정한 것이다.Table 2 below is a comparison of the magnetic properties of the various materials forming the inner shield 30, Table 3 is a measure of the electron beam movement of the inner shield formed by using the materials.

흑화온도(℃)Blackening temperature (℃) 자기적 특성Magnetic properties 비고Remarks Hc(Oe)Hc (Oe) Br(kG)Br (kG) Hc ×BrHc × Br 비율ratio 비교재 1Comparative material 1 460℃460 ℃ 5.005.00 13.3513.35 66.7566.75 0.940.94 Posco 700ppmPosco 700ppm 비교재 2Comparative material 2 460℃460 ℃ 4.034.03 15.1015.10 60.8560.85 1.031.03 극저탄FH재Ultra Low Carbon FH Ash 비교재 3Comparative material 3 460℃460 ℃ 3.463.46 14.2814.28 49.4149.41 1.271.27 저탄CR재Low Carbon CR Material 비교재 4Comparative material 4 460℃460 ℃ 2.692.69 10.9010.90 29.3229.32 2.142.14 극저탄CR재Ultra low carbon CR material 비교재 5Comparative material 5 460℃460 ℃ 2.842.84 11.0511.05 31.4131.41 2.002.00 Posco 800ppmPosco 800ppm 비교재 6Comparative Material 6 460℃460 ℃ 3.873.87 14.7514.75 57.1157.11 1.101.10 저탄 FH재Low carbon FH ash 비교재 7Comparative material 7 460℃460 ℃ 2.652.65 10.7910.79 28.5528.55 2.202.20 Posco 900ppmPosco 900ppm

상기 표 2에서 FH(full hard)재는 냉간 압연후 소둔 열처리를 생략한 소재이고, CR(cold rolled)재는 냉간 압연후 소둔 열처리 및 조질압연을 실시한 소재를 나타낸다. 그리고, 상기 각 소재들의 자기적 특성들은 인장 마스크 방식의 음극선관에서 인너 실드를 흑화 처리하는 온도(460℃)에서 측정하였으며, 비율은 마스크 프레임의 특성치(Br ×Hc)에 대한 인너 실드의 특성치(Br ×Hc)의 비를 나타낸다.In Table 2, the FH (full hard) material is a material in which annealing heat treatment is omitted after cold rolling, and the CR (cold rolled) material is a material in which annealing heat treatment and temper rolling are performed after cold rolling. The magnetic properties of the materials were measured at a temperature (460 ° C.) of blackening the inner shield in the tensile mask type cathode ray tube, and the ratio was the characteristic value of the inner shield with respect to the characteristic value (Br × Hc) of the mask frame. The ratio of Br x Hc) is shown.

즉, 마스크 프레임의 특성치를 'A'라 하고, 인너 실드의 특성치를 'B'라 하면, 상기 비율은 A/B를 나타낸다.That is, if the characteristic value of the mask frame is referred to as 'A' and the characteristic value of the inner shield is referred to as 'B', the ratio represents A / B.

흑화온도(℃)Blackening temperature (℃) 전자빔 이동량(㎛)Electron beam shift amount (㎛) 대각지점 EWDiagonal Point EW 대각지점 NSDiagonal Branch NS (1/2)NS(1/2) NS 수직지점 NSVertical point NS TOTALTOTAL 비교재 1Comparative material 1 460℃460 ℃ 4343 7272 7171 7070 114114 비교재 2Comparative material 2 460℃460 ℃ 5858 4040 3939 4141 9797 비교재 3Comparative material 3 460℃460 ℃ 4141 2929 4444 4141 8585 비교재 4Comparative material 4 460℃460 ℃ 6464 3030 4545 4040 109109 비교재 5Comparative material 5 460℃460 ℃ 5555 4141 5050 4545 105105 비교재 6Comparative Material 6 460℃460 ℃ 4747 4343 4545 4242 9292 비교재 7Comparative material 7 460℃460 ℃ 7575 4040 5555 5151 130130

상기 표 3에서 (1/2)NS는 음극선관의 대각부위 끝단으로부터 수직 끝단으로 1/2만큼 이동한 지점의 (NS)량을 의미하는 것이다.In Table 3, (1/2) NS refers to the amount of (NS) at the point moved by 1/2 from the diagonal end of the cathode ray tube to the vertical end.

상기 표 2 및 표 3을 참조하면 전자빔 이동량이 일정 수준(100㎛) 이하를 만족하는 인너 실드 소재는 비교재 2,3,6인 것을 알 수 있으며, 마스크 프레임의 특성치(Hc ×Br)에 대한 상기 비교재 2,3,6의 특성치(Hc ×Br)의 비(A/B)는 0.94를 초과하고 2.00 미만인 것을 알 수 있다.Referring to Tables 2 and 3 above, it can be seen that the inner shield material satisfying the electron beam movement amount below a predetermined level (100 μm) is a comparative material 2, 3, 6, and the characteristics of the mask frame (Hc × Br) It turns out that ratio (A / B) of the characteristic value (Hc * Br) of the said comparative materials 2,3,6 exceeds 0.94 and is less than 2.00.

따라서, 상기 비교재 1 내지 7 중에서 상기 비율(A/B)이 0.94 초과, 2.00 미만에 속하는 소재를 사용하여 인너 실드를 제작하면 지자계에 의한 전자빔의 랜딩 변화량을 최소화할 수 있다.Therefore, when the inner shield is manufactured using a material belonging to the ratio (A / B) of more than 0.94 and less than 2.00 of the comparative materials 1 to 7, it is possible to minimize the amount of change in landing of the electron beam by the geomagnetic field.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range of.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 마스크 프레임의 특성치(Br ×Hc)에 대한 인너 실드의 특성치(Br ×Hc)의 비율이 일정 범위 내에 있는 소재를 사용하여 인너 실드를 제조하면, 보다 정확한 전자빔 경로를 보장하여 퓨리티 특성과 컨버젼스 특성을 향상시키고 정확한 라스터를 구현하는 등, 화면 품질을 향상시키는 장점을 갖는다.As described above, the present invention provides a more accurate electron beam path when the inner shield is manufactured using a material in which the ratio of the characteristic value (Br × Hc) of the inner shield to the characteristic value (Br × Hc) of the mask frame is within a certain range. It has the advantage of improving the quality of the screen, such as to improve the purity characteristics and convergence characteristics to ensure accurate raster.

Claims (5)

형광막 스크린이 형성된 패널과, 이 패널에 봉착되는 펀넬 및 상기 펀넬에 연결되는 넥부를 포함하는 진공 튜브와;A vacuum tube comprising a panel on which a fluorescent film screen is formed, a funnel encapsulating the panel and a neck portion connected to the funnel; 상기 넥부에 설치되는 전자총과;An electron gun installed in the neck portion; 상기 전자총에서 방출된 전자빔을 색선별하는 인장 마스크와;A tensile mask for color-selecting the electron beam emitted from the electron gun; 상기 인장 마스크를 1축 또는 2축으로 인장된 상태에서 지지하는 마스크 프레임과;A mask frame for supporting the tensile mask in a state in which the tensile mask is tensioned in one or two axes; 상기 전자총에서 방출된 전자빔을 편향시키는 편향장치와;A deflecting device for deflecting the electron beam emitted from the electron gun; 상기 진공 튜브의 내측에 설치되어 지자계를 차폐하는 인너 실드를 포함하며,An inner shield installed inside the vacuum tube to shield an earth magnetic field; 상기 마스크 프레임의 특성치(Br/Hc)에 대한 인너 실드의 특성치(Br/Hc)의 비가 0.94∼2.00배를 만족하는 인장 마스크 방식 음극선관.A tensile mask type cathode ray tube satisfying a ratio of the characteristic value (Br / Hc) of the inner shield to the characteristic value (Br / Hc) of the mask frame is 0.94 to 2.00 times. 여기에서, Br은 잔류자속밀도(kG)이며, Hc는 보자력(Oe)이다.Here, Br is the residual magnetic flux density (kG) and Hc is the coercive force (Oe). 제 1항에 있어서, 상기 마스크 프레임의 보자력(Hc)이 3.0 Oe 이상인 것을 특징으로 하는 인장 마스크 방식 음극선관.The tensile mask type cathode ray tube according to claim 1, wherein the coercive force (Hc) of the mask frame is 3.0 Oe or more. 제 1항에 있어서, 상기 인너 실드는 0.20∼0.50㎜의 두께로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 방식 음극선관.The tensile mask type cathode ray tube according to claim 1, wherein the inner shield has a thickness of 0.20 to 0.50 mm. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 인장 마스크는 중앙 대비 주변이 더욱 큰 인장력으로 인장된 인장 마스크 방식 음극선관.The tensile mask type cathode ray tube according to any one of claims 1 to 3, wherein the tensile mask is tensioned with a greater tensile force around the center. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 인장 마스크는 주변 대비 중앙이 더욱 큰 인장력으로 인장된 인장 마스크 방식 음극선관.The tensile mask type cathode ray tube according to any one of claims 1 to 3, wherein the tensile mask is tensioned with a greater tensile force in the center than the surroundings.
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