KR20040000012A - Manufacturing method of organic electroluminescence device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유기 EL 소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 양전극의 표면 거칠기를 조절하여 정공 수송층과의 접촉 면적을 넓혀서 정공 주입량을 향상시킴으로써 패널의 발광 효율을 증가시키고, 정공 주입층과 같은 유기층 증착 공정이 생략되어 제작 수율을 향상시킬 수 있는 유기 EL 소자의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL device, and more particularly, to improve the light injection efficiency by increasing the hole injection amount by adjusting the surface roughness of the positive electrode to increase the contact area with the hole transport layer, The organic layer deposition process is omitted, and the manufacturing method of the organic electroluminescent element which can improve a manufacturing yield.
근래에, 큰 주목을 받고 있는 유기 EL 소자는 서로 다른 밴드 갭을 가지는 두 가지 이상의 유기 발광 물질을 적층 구조로 하여 각각의 물질에서는 나타나지 않는 새로운 영역의 전계 발광 파장을 얻기 위한 소자이다. 이때 새로운 영역의 발광 파장은 발광층이라 불리는 유기층에서 전자 (electron)와 정공 (hole)이 만나서 재결합할 때 방출되는 에너지가 빛으로 변환되는 것이다.In recent years, the organic EL device attracting great attention is a device for obtaining an electroluminescence wavelength of a new region which does not appear in each material by stacking two or more organic light emitting materials having different band gaps. In this case, the emission wavelength of the new region is that energy emitted when electrons and holes meet and recombine in an organic layer called an emission layer is converted into light.
유기 EL 소자는 1960년대에 연구가 시작되어, 1987년 이스트만 코닥 (Eastman Kodak)사가 발광 유기물 층에 전자와 정공의 주입이 균형을 이루도록 하면서 유기층의 두께를 2000Å 이하로 낮추어서 실용화에 가능한 정도의 10V 이하의 저전압 구동과 고효율, 고휘도를 얻는데 성공한 이후 (Appl. Phys. Lett., 51, 913 (1987), 미합중국 특허 제4,356,429호, 제4,539,507호, 제4,720,432호, 제4,885,211호), 디스플레이 장치에 채용되는 것이 본격적으로 검토되기 시작했다. 이어, 1993년 일본에서 적(R), 녹(G), 청(B) 3색을 동시에 발생시켜서 자연광에 가까운 백색광을 나타내는데 성공한 것을 비롯하여, 고휘도, 저소비 전력, 소자의 장수명화 등이 실현되어 유기 EL 소자는 액정을 대신하는 차세대 평판 디스플레이로서 크게 기대되고 있다.The organic EL device began to be studied in the 1960s, and in 1987, Eastman Kodak, in order to balance the injection of electrons and holes into the light emitting organic material layer, lowering the thickness of the organic layer to 2000 Å or less, which is less than 10 V as practical for practical use. After succeeding in obtaining low voltage driving, high efficiency and high brightness (Appl. Phys. Lett., 51, 913 (1987), US Patent Nos. 4,356,429, 4,539,507, 4,720,432, 4,885,211), It began to be reviewed in earnest. Subsequently, in 1993, Japan produced three colors of red (R), green (G), and blue (B) simultaneously, resulting in white light close to natural light, high brightness, low power consumption, and long life of the device. EL devices are greatly expected as next-generation flat panel displays replacing liquid crystals.
도 1은 일반적인 유기 EL 소자의 기본 구성을 나타낸 개략도인데, 유기 EL 소자는 일반적으로 투명한 재질의 하부 기판(10) 상에, 정공 주입전극인양전극(12)과, 정공 주입층(14; Hole Injection Layer)과, 정공 수송층 (16; Hole Transporting Layer)과, 유기발광층 (18; Emitting Material Layer)과, 전자 수송층(20; Electron Transporting Layer)과, 전자 주입층 (22; Electron Injection Layer) 및 전자주입전극인 음전극(24)이 순차적으로 적층되어 있는 발광 구조를 갖는다.FIG. 1 is a schematic view showing a basic configuration of a general organic EL device. The organic EL device generally includes a hole injection electrode lifting electrode 12 and a hole injection layer 14 on a lower substrate 10 of a transparent material. Layer, Hole Transporting Layer 16, Emitting Material Layer 18, Electron Transporting Layer 20, Electron Injection Layer 22 and Electron Injection The negative electrode 24 as an electrode has a light emitting structure in which the electrodes are sequentially stacked.
이때, 발광층으로의 전자와 정공 주입이 쉬워야 하며, 전자 주입을 쉽게 하기 위해서는 전자 수송층과 음전극인 금속층 사이에 일함수가 낮은 전자 주입층을 사용한다. 일반적으로 양전극(12)의 재료로는 유리, 석영 또는 유연한 플라스틱이나 필름 등이 주로 사용되고, 음전극(24)의 재료로는 작은 일함수를 갖는 금속인 Ca, Mg 또는 Al 등이 사용된다. 또한 유기발광층(18)의 재료로는 Alq3또는 안트라센 등의 단분자 유기 화합물이나 PT (polythiophene) 등의 고분자 유기 화합물이 사용되며, 전자 수송층(20)으로는 옥시다졸 유도체 등이 주로 사용되며, 전자 주입층으로는 Al-Li 등이 이용되고 있고, 낮은 일함수를 가지는 알칼리 금속에 대한 연구 성과들도 발표되고 있다. 금속 도핑층이 가져야 하는 조건들은 유기물과의 접착력이 우수하고, 음전극 재료인 알루미늄이 유기물로 침투하는 것을 막으면서, 그 자체도 유기물에 침투하지 않아야 한다. 이러한 재료들은 모두 진공 증착방법을 이용하여 증착된다.In this case, electron and hole injection to the light emitting layer should be easy, and in order to facilitate electron injection, an electron injection layer having a low work function is used between the electron transport layer and the metal layer, which is the negative electrode. Generally, glass, quartz, or a flexible plastic or film is mainly used as the material of the positive electrode 12, and Ca, Mg, Al, or the like, which is a metal having a small work function, is used as the material of the negative electrode 24. As the material of the organic light emitting layer 18, a monomolecular organic compound such as Alq 3 or anthracene or a high molecular organic compound such as PT (polythiophene) is used. As the electron transport layer 20, an oxidazole derivative or the like is mainly used. Al-Li is used as the electron injection layer, and research results on alkali metals having a low work function have been published. The conditions that the metal doped layer should have are excellent in adhesion with the organic material, and should not penetrate the organic material itself while preventing the negative electrode material aluminum from penetrating into the organic material. All of these materials are deposited using a vacuum deposition method.
여기서, 상기 유기 EL 소자의 동작을 살펴보면, 상기 양전극(12)에 양의 전압을 인가하고, 음전극(24)에 음의 전압을 인가하면 양전극(12)에서는 정공(h)이주입되고, 음전극(24)에서는 전자(e)가 주입되어 정공(h)은 정공 주입층(14), 정공 수송층(16)을 지나고, 전자(e)는 전자 주입층(22), 전자 수송층(20)을 지나 발광층(18)에서 전자(e)와 정공(h)이 만나게 되어, 이들의 재결합에 의해 발광하게 되며, 발광층의 재료에 따라, 즉 재결합하는 위치와 유기물의 재료에 따라 각기 다른 파장대의 빛을 발하게 된다. 이때 전자와 정공의 밴드 갭 (band gap) 차이로 인하여 발광층에서 정공은 전자 수송층 쪽으로 못 넘게 되고, 전자는 정공 수송층 쪽으로 못 넘게 되어, 발광층에서의 재결합 효율이 높아져서 발광에 기여하는 전자/정공의 수가 많게 되어 외부 효율을 높이는 원리를 이용한다.Here, referring to the operation of the organic EL device, when a positive voltage is applied to the positive electrode 12 and a negative voltage is applied to the negative electrode 24, holes h are injected from the positive electrode 12, and a negative electrode ( At 24, electrons (e) are injected so that holes (h) pass through the hole injection layer (14) and the hole transport layer (16), and electrons (e) pass through the electron injection layer (22) and the electron transport layer (20). At (18), electrons (e) and holes (h) meet and emit light by recombination, and emit light of different wavelengths depending on the material of the light emitting layer, that is, the position of recombination and the material of the organic material. . At this time, due to the difference in the band gap between the electron and the hole, the hole in the light emitting layer cannot pass over the electron transport layer, and the electron cannot pass over the hole transport layer, thus increasing the recombination efficiency in the light emitting layer, thereby increasing the number of electrons / holes that contribute to light emission. More and uses the principle of increasing external efficiency.
상기 유기 EL 소자의 기본 구성에서, 정공 주입층의 역할은 하기와 같다.In the basic configuration of the organic EL device, the role of the hole injection layer is as follows.
첫째, 양전극 표면은 표면 에너지가 크고, 정공 수송층의 유기층은 표면 에너지가 작으므로, 표면 에너지의 반응성에 의해서 아릴아민 게열인 α-NPD 등과 같은 정공 수송층의 유기 재료가 이들 계면에서 응집되는 현상이 일어나고, 이를 방지하기 위해서 버퍼층이 필요한데, 정공 주입층이 이러한 버퍼 역할을 수행한다.First, since the surface of the positive electrode has a large surface energy and the organic layer of the hole transport layer has a small surface energy, organic materials of the hole transport layer such as α-NPD, which is an arylamine sequence, are aggregated at these interfaces due to the surface energy reactivity. In order to prevent this, a buffer layer is required, and the hole injection layer serves as this buffer.
둘째, 통상적으로 증착된 양전극인 ITO 표면의 일함수는 약 4.6eV이고, 산소 클리닝을 한 양전극 표면의 일함수는 약 4.9eV인데, 일반적으로 정공 수송층의 일함수는 5.3∼5.4eV 정도이므로, 이 사이에 계단 역할을 하는 일함수 5.1∼5.2eV를 가지는 유기층인 정공 주입층을 도입하게 된다. 즉 정공 주입층은 일함수 차이를 줄이는 버퍼 역할을 하게 된다.Second, the work function of the surface of the ITO, which is typically deposited positive electrode, is about 4.6 eV, and the work function of the oxygen-cleaned positive electrode surface is about 4.9 eV. In general, the hole transport layer has a work function of about 5.3 to 5.4 eV. A hole injection layer, which is an organic layer having a work function of 5.1 to 5.2 eV serving as a step between, is introduced. In other words, the hole injection layer serves as a buffer to reduce the work function difference.
셋째, 정공 주입층은 표면 거칠기가 큰 재료이므로, 접촉 면적이 넓어서 접착력이 우수하고, 홀 주입 능력이 뛰어나다. 즉, 정공 주입층은 접촉 면적을 늘려서 홀 주입량을 늘림으로써 발광 휘도를 높이는 역할을 하고, 저전압 구동이 가능하도록 한다.Third, since the hole injection layer is a material having a large surface roughness, the contact area is wide, so that the adhesion is excellent and the hole injection ability is excellent. That is, the hole injection layer increases the emission area by increasing the contact area to increase the light emission luminance and enables low voltage driving.
그러나, 정공 주입층의 상기와 같은 역할에도 불구하고, 유기 EL 소자에서 증착되는 유기층의 수가 많아지면, 증착 공정에서 발생하는 문제점으로 인하여 제작 수율이 낮아지게 된다.However, in spite of the above-mentioned role of the hole injection layer, as the number of organic layers deposited in the organic EL device increases, the production yield decreases due to a problem occurring in the deposition process.
이에 본 발명에서는 전술한 문제점을 해결하기 위하여, 정공 주입층의 역할을 대신할 수 있도록 양전극 표면에 드라이 클리닝 방법을 도입하여 양전극 표면의 모르폴로지를 변화시키고, 정공 주입층과 정공 수송층의 모호한 관계를 하나의 유기층으로 통합하여 증착 유기층의 수를 줄임으로써 증착 공정수를 감소시켜 제작 수율을 높이고자 하였다.Accordingly, in order to solve the above-mentioned problems, the morphology of the surface of the positive electrode may be changed by introducing a dry cleaning method on the surface of the positive electrode to replace the role of the hole injection layer, and the ambiguous relationship between the hole injection layer and the hole transport layer may be improved. By reducing the number of deposition organic layers by integrating one organic layer, the number of deposition processes was reduced to increase the production yield.
본 발명의 목적은 양전극의 표면 거칠기를 조절하여 정공 수송층과의 접촉 면적을 넓혀서 정공 주입량을 향상시킴으로써 패널의 발광 효율을 높이고, 정공 주입층 증착 공정을 생략하여 제작 수율을 향상시킬 수 있는 유기 EL 소자의 제조방법을 제공함에 있다.An object of the present invention is to improve the light emitting efficiency of the panel by improving the hole injection amount by increasing the contact area with the hole transport layer by controlling the surface roughness of the positive electrode, and the organic EL device that can improve the production yield by omitting the hole injection layer deposition process To provide a method of manufacturing.
도 1은 종래의 유기 EL 소자의 기본 구성을 설명하기 위한 개략도.1 is a schematic view for explaining the basic configuration of a conventional organic EL device.
도 2는 본 발명의 유기 EL 소자의 기본 구성을 설명하기 위한 개략도2 is a schematic view for explaining the basic configuration of an organic EL device of the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
10 : 하부 기판12 : 양전극10: lower substrate 12: positive electrode
14 : 정공 주입층16 : 정공 수송층14 hole injection layer 16 hole transport layer
18 : 발광층20 : 전자 수송층18 emitting layer 20 electron transport layer
22 : 전자 주입층24 : 음전극22 electron injection layer 24 negative electrode
26 : 음전극 배선28 : 전원26 negative electrode wiring 28 power supply
30 : 양전극 배선30: positive electrode wiring
e : 주입된 전자h : 주입된 정공e: injected electron h: injected hole
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은 기판 상에 제1전극을 형성하는 공정과, 상기 제1전극이 형성된 제1전극 표면상에 산소 플라즈마를 이용하여 산소의 +이온기가 투명 전극인 제1전극에 부딪쳐서 표면을 크리닝하는 조건에 의해서 제1전극의 표면의 거칠기를 제어하는 공정과, 상기 클리닝된 제1전극 표면에 정공수송층을 형성하는 공정과, 상기 정공 수송층 상에 발광층을 형성하는 공정과; 상기 발광층 상에 제2전극을 형성하는 공정을 포함하는 유기 EL 소자 제조방법을 구비함에 있다.A feature of the present invention for achieving the above object is a process of forming a first electrode on a substrate, and the oxygen ion on the surface of the first electrode on which the first electrode is formed, the first ion of oxygen + ion is a transparent electrode Controlling the roughness of the surface of the first electrode under conditions of hitting the electrode and cleaning the surface; forming a hole transport layer on the cleaned first electrode surface; forming a light emitting layer on the hole transport layer; ; An organic EL device manufacturing method comprising the step of forming a second electrode on the light emitting layer.
또한, 본 발명의 다른 특징은 제1전극 표면의 산소 플라즈마를 이용한 드라이 클리닝 조건을 파워 (power) 80W, 압력 50mTorr, 클리닝 시간 30초∼1분 30초로 하여 제1전극 표면의 거칠기를 20∼100Å로 함으로써, 정공 주입층을 증착하는 공정을 생략한 유기 EL 소자 제조방법을 구비함에 있다.In addition, another feature of the present invention is that the dry cleaning condition using oxygen plasma on the surface of the first electrode is set to 80 W of power, a pressure of 50 mTorr, and a cleaning time of 30 seconds to 1 minute 30 seconds, and the roughness of the surface of the first electrode is 20 to 100 kPa. The organic EL element manufacturing method which omits the process of depositing a hole injection layer is provided by setting it as this.
또한, 본 발명의 또다른 특징은 상기 발광층과 제2전극 사이에 전자 수송층을 형성하고, 상기 제2전극과 전자 수송층 사이에 전자 주입층을 형성하는 공정을 구비함에 있다.In addition, another feature of the present invention is to provide an electron transport layer between the light emitting layer and the second electrode, and to form an electron injection layer between the second electrode and the electron transport layer.
또한, 본 발명의 또다른 특징은 전술한 제조방법으로 제조된 유기 EL 소자를 제공함에 있다.Further, another feature of the present invention is to provide an organic EL device manufactured by the above-described manufacturing method.
이하, 본 발명의 일실시예를 도 2를 참고로 하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
먼저, 투명 기판(10) 상에, 정공 주입전극인 양전극(12)을 형성시키고, 양전극의 표면을 산소 플라즈마를 이용하여 드라이 클리닝한 후에 산소 분위기 하에서 노출시킴으로써 양전극 표면 거칠기를 조절한다.First, the positive electrode surface 12 is formed on the transparent substrate 10, and the surface of the positive electrode is dry-cleaned using oxygen plasma and then exposed in an oxygen atmosphere to control the surface roughness of the positive electrode.
상기 공정에서 드라이 클리닝의 조건은 파워 80W, 압력 50mTorr, 클리닝 시간 30초∼1분 30초이다.Dry cleaning conditions in the above process are 80 W of power, 50 mTorr of pressure, and 30 seconds to 1 minute 30 seconds of cleaning time.
상기 드라이 클리닝 공정 후의 제1전극, 즉 양전극의 표면 거칠기는 20∼100Å 정도인 것이 바람직한데, 보다 바람직하게는 30∼50Å 정도이다.It is preferable that the surface roughness of the first electrode, that is, the positive electrode, after the dry cleaning process is about 20 to 100 GPa, more preferably about 30 to 50 GPa.
양전극 표면의 거칠기가 불균일하면, 표면의 스파이크 (spike)로 인하여 불량 셀이 발생할 확률이 높지만 스파이크를 줄여주면서 유기층과의 접촉 면적을 높이면, 정공 주입 확률을 높일 수 있다. 스파이크를 줄이면서, 정공 주입 확률을 높이기 위한 양전극의 적절한 표면 거칠기가 전술한 20∼100Å의 범위인데, 표면 거칠기가 20Å 이하이면 접촉 면적을 높이는데 그다지 큰 효과가 없으며, 100Å 이상이면 스파이크로 인한 불량 셀이 발생할 확률이 높아진다.If the roughness of the positive electrode surface is uneven, there is a high probability of defective cells due to spikes on the surface, but increasing the contact area with the organic layer while reducing the spikes may increase the hole injection probability. The appropriate surface roughness of the positive electrode for increasing the hole injection probability while reducing the spike is in the range of 20 to 100 GPa. If the surface roughness is 20 GPa or less, there is no significant effect in increasing the contact area. The probability of cell occurrence increases.
한편, 상기 기판 상의 제1전극은 투명 전극인 ITO를 통상 사용하는데, 기판 위의 ITO의 표면 거칠기를 ITO 박막 두께의 10% 이하로 제어하는 것은 불가능하다. 즉, 이는 ITO 전극의 두께가 2000Å이면, 표면 거칠기가 200Å 이상임을 의미한다. 본 발명에서는 이렇게 준비된 기판의 표면 거칠기를, 전술한 클리닝 조건 즉, 파워 80W, 압력 50mTorr, 클리닝 시간 30초∼1분 30초로 산소 플라즈마 처리하여, 20-100Å으로 제어할 수 있다. 즉 상기 조건상에서는 초기 거칠기의 50% 정도를 향상시킬 수 있다.On the other hand, the first electrode on the substrate is commonly used ITO as a transparent electrode, it is impossible to control the surface roughness of the ITO on the substrate to less than 10% of the thickness of the ITO thin film. That is, if the thickness of the ITO electrode is 2000 kPa, the surface roughness is 200 kPa or more. In the present invention, the surface roughness of the substrate thus prepared can be controlled to 20-100 kPa by oxygen plasma treatment with the above-described cleaning conditions, that is, a power of 80 W, a pressure of 50 mTorr, and a cleaning time of 30 seconds to 1 minute 30 seconds. That is, on the above conditions, it is possible to improve about 50% of the initial roughness.
양전극의 표면 클리닝이 완료된 후에는 일반적인 유기 EL 소자와는 달리 정공 주입층을 증착하지 않고, 바로 양전극 표면에 정공 수송층(16)을 증착시킨다. 이때, 정공 수송층 재료는 50∼500Å 두께로 진공 증착하는 것이 바람직하다.After the surface cleaning of the positive electrode is completed, unlike the general organic EL device, the hole transport layer 16 is directly deposited on the surface of the positive electrode, without depositing the hole injection layer. At this time, the hole transport layer material is preferably vacuum deposited to a thickness of 50 to 500 kPa.
그런 다음, 정공 수송층(16) 상에 유기발광층(18)을 증착시키고, 그 위에 전자 수송층(20) 및 전자 주입층(22)을 순차적으로 형성하고, 그 상부에 전자주입전극인 음전극(24)을 형성시킨다.Then, the organic light emitting layer 18 is deposited on the hole transport layer 16, and the electron transport layer 20 and the electron injection layer 22 are sequentially formed thereon, and the negative electrode 24, which is an electron injection electrode, is formed thereon. To form.
이때 전자 수송층(20)이나 전자 주입층(22)은 증착시키지 않을 수도 있다.In this case, the electron transport layer 20 or the electron injection layer 22 may not be deposited.
한편, 본 발명의 유기 EL 소자 제조방법에 사용되는 재료들은 일반적인 유기 EL 소자의 재료들은 무엇이나 사용될 수 있는데, 예를 들어 양전극으로서는 ITO (Indium Tin Oxide) 막을; 정공 주입층 재료로는 포르피린 (porphyrin)계 화합물인 CuPc (Phthalocyanine copper) 또는 MTDATA (4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenylamino)triphenylamine)을; 정공 수송층으로서는 α-NPD (N,N-Diphenyl-N,N-di(m-naphthyl)benzidine) 또는 TPD (N,N-Diphenyl-N,N-di(m-tolyl)benzidine)를 사용할 수 있으며; 발광층 유기 재료로서는 적 (R), 녹 (G), 청 (B) 각각에 대하여 적절한 호스트/도판트를 사용할 수 있다. 그리고 전자 수송층으로서는 Alq3를 사용할 수 있으며, 전자 주입층으로는 Al-Li 또는 LiF 등이 이용될 수 있다. 상기 재료들은 모두 진공 증착방법을 이용하여 증착하는데, 그 이유는 이들 유기물들이 H2O 또는 O2에 치명적으로 약하기 때문이다. 구체적으로 수분은 서서히 유기 박막을 공격하여 흑점 (dark spot)을 형성시키고, 산소가 존재할 경우 광학적, 열적, 또는 전기적인 힘에 의하여 산소가 촉매 작용을 하거나 직접 반응에 참여하여 유기 박막을 열화 또는 분해시킨다.On the other hand, the materials used in the method of manufacturing the organic EL device of the present invention can be used any materials of the general organic EL device, for example, an ITO (Indium Tin Oxide) film as a positive electrode; For the hole injection layer, porphyrin-based compound, CuPc (Phthalocyanine copper) or MTDATA (4,4 ', 4 "-Tris (N-3-methylphenyl-N-phenylamino) triphenylamine); α- as the hole transport layer NPD (N, N-Diphenyl-N, N-di (m-naphthyl) benzidine) or TPD (N, N-Diphenyl-N, N-di (m-tolyl) benzidine) can be used; Suitable host / dopants may be used for red (R), green (G), and blue (B), and Alq 3 may be used as the electron transport layer, and Al-Li or LiF may be used as the electron injection layer. All of these materials are deposited using a vacuum deposition method, since these organics are deadly weak to H 2 O or O 2. Specifically, moisture gradually attacks the organic thin film, causing dark spots (dark spots). spots, and oxygen is catalyzed by optical, thermal, or electrical forces in the presence of oxygen Act or participate in a direct reaction to degrade or decompose the organic thin film.
본 발명의 유기 EL 소자 제조 공정의 특징은 이상에서 설명한 바와 같이, 정공 주입층을 증착하는 공정이 생략된 것인데, 본 발명에서는 전술한 양전극 표면의 클리닝 공정으로 정공 주입층의 역할을 수행할 수 있다. 전술한 바와 같이, 정공 주입층은 정공 수송층 유기 재료와 양전극 표면과의 표면 에너지 차이에 대한 버퍼 역할 및 일함수 차이를 줄이는 버퍼 역할을 수행하는데, 본 발명에서는 양전극 표면을 산소 기체를 이용하여 클리닝한 다음 산소 분위기에 기판을 노출시키는 공정을 수행함으로써 양전극 표면의 표면 에너지를 낮추고, 표면 일함수를 약간 증가시켜 정공 주입층의 버퍼 역할을 대신할 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 증착되는 유기층의 수를 감소시켜 유기 EL 소자의 제작 수율을 높이고 제작 단가를 낮추며, 정공 주입층과 정공 수송층의 모호한 관계를 하나의 유기층으로 대신할 수 있다.As a feature of the organic EL device manufacturing process of the present invention, as described above, the process of depositing a hole injection layer is omitted. In the present invention, the above-described cleaning process of the surface of the positive electrode may serve as a hole injection layer. . As described above, the hole injection layer serves as a buffer for the difference in surface energy between the hole transport layer organic material and the surface of the positive electrode and serves as a buffer to reduce the difference in work function. In the present invention, the surface of the positive electrode is cleaned using oxygen gas. Next, by performing a process of exposing the substrate to an oxygen atmosphere, the surface energy of the surface of the positive electrode may be lowered, and the surface work function may be slightly increased to replace the buffer of the hole injection layer. Therefore, in the present invention, the number of organic layers to be deposited can be reduced to increase the manufacturing yield of the organic EL device, lower the manufacturing cost, and replace the ambiguity between the hole injection layer and the hole transport layer with one organic layer.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면 양전극의 표면 거칠기를 조절하여 정공 수송층과의 접촉 면적을 넓혀서 정공 주입량을 향상시킴으로써 패널의 발광 효율을 높이고, 정공 주입층 증착 공정을 생략하여 제작 수율이 향상되고, 제작 단가를 감소시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the surface roughness of the positive electrode is increased to increase the contact area with the hole transport layer, thereby improving the amount of hole injection, thereby improving the luminous efficiency of the panel, and eliminating the hole injection layer deposition process, thereby improving production yield. The manufacturing cost can be reduced.
한편 본 발명은 상술한 실시예로만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 수정 및 변형하여 실시할 수 있고, 이러한 수정 및 변형 등에 의한 기술사상은 다음의 특허청구범위에 속하는 기술사상으로 보아야 한다.Meanwhile, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be modified and modified within the scope not departing from the gist of the present invention, and the technical idea due to such modifications and variations is within the scope of the following claims. Should be seen.
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