KR20030078480A - Method for treating surface of dental implant - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 치과용 임프란트의 표면 처리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 임프란트의 골유착을 증대시키기 위한 최적의 표면 거칠기를 얻기 위해 임프란트를 칼슘 포스페이트를 이용하여 블라스트 처리한 후 염산과 황산의 혼합 수용액으로 산처리하는 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment method of a dental implant, and more particularly, a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sulfuric acid after blasting the implant using calcium phosphate to obtain the optimum surface roughness for increasing the bone adhesion of the implant It relates to a surface treatment method of acid treatment.
임프란트(implant)는 상실된 치아를 회복하기 위해 개발된 인공 치아로, 단순한 치아의 수복에서 더 나아가 임프란트와 골간의 영구적 결합과 생체의 적합성을 위해 표면 특성이 개선된 임프란트의 개발을 요구하게 된다.Implants are artificial teeth developed to recover lost teeth, and require further development of implants with improved surface properties for permanent coupling between implants and bones and biocompatibility.
최적의 생체 적합 임프란트의 표면 처리에 요구되는 물리화학적 특성들은 표면 에너지, 산화막의 두께, 화학적 조성 및 표면 거칠기 등을 들 수 있으며, 이러한 특성 중 임프란트의 표면 거칠기와 골겹합에 대한 관계를 규명하기 위하여 많은 연구들이 진행되었으며, 임프란트의 표면 거칠기가 증가할수록 골유착은 증가하며, 최대의 골유착을 유발하는 최적의 표면거칠기 범위가 존재한다는 실험 결과들이 보고되고 있다. TiO2와 Al2O3입자를 이용하여 표면 거칠기를 다양하게 조절한 후 표면 거칠기와 임프란트 표면에서의 골유착량을 조사한 결과로부터, Wennerberg et al.은 임프란트 표면에서의 골유착양은 표면 거칠기에 비례하여 증가하지만 특정 값 이상의 범위에서는 오히려 골유착양이 감소하는 결과를 초래하며, 가장 우수한 골유착 특성을 보이는 표면 거칠기의 값은 약 1.5(±0.4) ㎛ 라고 보고되고 있다.The physicochemical properties required for the optimal surface treatment of biocompatible implants include surface energy, oxide thickness, chemical composition and surface roughness. Among these properties, the relationship between surface roughness and bone overlap of implants is investigated. Many studies have been conducted, and experimental results have been reported that as the surface roughness of the implant increases, bone adhesion increases, and there is an optimal range of surface roughness that causes maximum bone adhesion. According to the results of the surface roughness and the amount of adhesion at the implant surface after controlling the surface roughness using TiO 2 and Al 2 O 3 particles, Wennerberg et al. Reported that the amount of adhesion at the implant surface was proportional to the surface roughness. Although it increases in the range above a certain value, the amount of adhesion is rather decreased, and the surface roughness showing the best adhesion characteristics is reported to be about 1.5 (± 0.4) μm.
특히, 임프란트의 표면 거칠기가 증가할수록 골결합이 증가한다는 연구 결과가 나오면서 표면 거칠기를 증가시키기 위한 방법으로 샌드블라스팅(sandblasting) 방법이 사용되며, 매질로는 임프란트와 같은 원소의 산화 물질인 산화티타늄(TiO2)을 이용하여 블라스트(blast) 하는 방법이 가장 많이 사용되고 있다. 그러나 산화티타늄 블라스트 방법만으로는 요구되는 표면 거칠기를 충족시키지 못하기 때문에알루미나(Alumina, Al2O3)를 이용하는 방법도 시도되고 있다. 알루미나를 이용하는 방법은 표면 거칠기를 증가시킬 수 있는 장점이 있으나, 임프란트의 표면에 존재하는 알루미나의 생체에 대한 영향이 완전하게 규명되지 않아 실제로 임상에 많이 사용되지는 않고 있다.In particular, as the surface roughness of the implant increases, as a result of research showing that bone bonding increases, sandblasting is used as a method for increasing the surface roughness, and as a medium, titanium oxide, which is an oxidizing material of an element such as implant, The blasting method using TiO 2 ) is most commonly used. However, since the titanium oxide blasting method alone does not satisfy the required surface roughness, a method using alumina (Alumina, Al 2 O 3 ) has also been attempted. The method using alumina has the advantage of increasing the surface roughness, but since the effect on the living body of the alumina present on the surface of the implant is not fully identified, it is not actually used in clinical practice.
표면 거칠기를 증가시키는 또 다른 방법으로는 티타늄 플라스마 스프레이(titanium plasma spray, TPS) 방법과 하이드록시아파티트(hydroxyapatite, HA) 코팅 방법이 이용되고 있으나, TPS의 경우는 표면 거칠기가 너무 커서 오히려 골유착에 역효과가 있으며, 또한 HA의 경우는 가장 우수한 표면 특성을 가지나, 시간이 지남에 따라 생체 내로 흡수되는 문제가 있다.Titanium plasma spray (TPS) method and hydroxyapatite (HA) coating method are used to increase the surface roughness. There is an adverse effect on the adhesion, and in the case of HA has the best surface properties, but there is a problem that absorbed into the body over time.
또한, 표면 거칠기를 증가시키기 위해 산처리 방법도 시행되고 있으나, 산처리만으로는 요구되는 표면 거칠기를 충족시키지 못하고 있다.In addition, an acid treatment method is also implemented to increase the surface roughness, but the acid treatment alone does not satisfy the required surface roughness.
이로 인해 현재는 블라스트 방법과 산처리 방법을 병행하는 표면 처리 방법을 선호하고 있으며, 이렇게 처리된 임프란트의 표면이 가장 우수한 표면 거칠기를 갖는다고 보고되고 있다[Buser D, Schenk R, Steinemann S, Fiorelline J, Fox C, Stich H.,J. Biomedical materials Research,1991,25, 889∼902].For this reason, the surface treatment method which combines the blast method and the acid treatment method is currently preferred, and it is reported that the surface of the implant thus treated has the best surface roughness [Buser D, Schenk R, Steinemann S, Fiorelline J]. , Fox C, Stich H., J. Biomedical materials Research , 1991 , 25 , 889-902].
그러나, 상술한 바와 같이, 여러 가지 표면 처리와 산처리에 대한 상세한 표면 분석이 이루어지지 않은 상태이며, 정확한 실험적 조건이 확립되어 있지 않다.However, as described above, detailed surface analysis of various surface treatments and acid treatments has not been performed, and precise experimental conditions have not been established.
이에, 본 발명자들은 상기한 문제점을 해결하고자, 기계 가공된 임프란트를칼슘 포스페이트를 이용하여 블라스트 처리한 후 염산과 황산의 혼합 수용액으로 산처리하여 임프란트의 표면을 처리한 결과, 종래의 임프란트 보다 우수한 표면 거칠기와 균일한 표면 현상을 나타내어 가장 효과적인 골결합을 유도할 수 있는 임프란트의 표면을 얻을 수 있음을 알아내어 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the present inventors, in order to solve the above problems, after blasting the machined implant using calcium phosphate and acid treatment with a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sulfuric acid to treat the surface of the implant, the surface superior to the conventional implant The present invention was completed by finding that the surface of the implant, which exhibits roughness and uniform surface phenomena, can induce the most effective bone bonding, can be obtained.
본 발명의 목적은 임프란트의 골유착을 증대시키기 위해 최적의 표면 거칠기를 얻기 위한 치과용 임프란트의 표면 처리 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method for surface treatment of dental implants to obtain optimum surface roughness in order to increase bone adhesion of the implant.
도 1은 본 발명의 각 단계 및 산처리 방법으로 표면 처리한 임프란트의 광학 사진이며, 1 is an optical photograph of an implant surface-treated by each step and the acid treatment method of the present invention,
(a) 기계 가공된 임프란트,(a) machined implants,
(b) 칼슘 포스페이트 블라스트 처리한 임프란트(b) Calcium Phosphate Blast-treated Implants
(c) 블라스트 처리 후 질산/불산 혼합 수용액으로 처리한 임프란트(c) Implants treated with nitric acid / fluoric acid aqueous solution after blasting
(d) 블라스트 처리 후 염산/황산 혼합 수용액으로 처리한 임프란트(d) Implants treated with an aqueous hydrochloric acid / sulfuric acid solution after blasting
도 2는 기계 가공된 임프란트의 표면 거칠기 곡선을 나타낸 그래프이며, 2 is a graph showing the surface roughness curve of a machined implant,
도 3은 본 발명의 캄슘 포스페이트 블라스트 처리한 임프란트의 주사 전자 현미경 사진이며, 3 is a scanning electron micrograph of a calcium phosphate blasted implant of the present invention,
(a) 2000 배 배율, (b) 4000 배 배율(a) 2000 times magnification, (b) 4000 times magnification
도 4는 본 발명의 칼슘 포스페이트 블라스트 처리한 임프란트의 표면 거칠기 곡선을 나타낸 그래프이며, 4 is a graph showing the surface roughness curve of the calcium phosphate blasted implant of the present invention,
도 5는 본 발명의 염산/황산 혼합 수용액의 농도에 따른 임프란트의 표면 거칠기(Ra) 값을 나타낸 그래프이며, 5 is a graph showing the surface roughness (Ra) value of the implant according to the concentration of the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed aqueous solution of the present invention,
도 6은 본 발명의 블라스트 처리 후 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 주사 전자 현미경 사진이며, 6 is a scanning electron micrograph of an implant acid treated with an aqueous hydrochloric acid / sulfuric acid solution after the blast treatment of the present invention,
(a) 2000 배 배율, (b) 4000 배 배율(a) 2000 times magnification, (b) 4000 times magnification
도 7은 본 발명의 블라스트 처리 후 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면 거칠기 곡선을 나타낸 그래프이며, 7 is a graph showing the surface roughness curve of the implant acid treated with hydrochloric acid / sulfuric acid mixed aqueous solution after the blast treatment of the present invention,
도 8은 블라스트 처리 후 질산/불산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 주사 전자 현미경 사진이며, 8 is a scanning electron micrograph of an implant acid treated with an aqueous solution of nitric acid / fluoric acid mixed after blasting,
(a) 2000 배 배율, (b) 4000 배 배율(a) 2000 times magnification, (b) 4000 times magnification
도 9는 블라스트 처리 후 질산/불산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면 거칠기 곡선을 나타낸 그래프이며, FIG. 9 is a graph showing surface roughness curves of implants treated with nitric acid / fluoric acid mixed solution after blasting;
도 10은 종래의 산처리 과정만으로 표면 처리한 임프란트(Ossetite?, 비교예 2)의 2000배 배율의 주사 전자 현미경 사진이며, 10 is a scanning electron micrograph at 2000 times magnification of an implant (Ossetite ?, Comparative Example 2) surface-treated only by a conventional acid treatment process,
도 11은 종래의 티타늄 플라스마 스프레이(TPS) 방법으로 표면 처리한 임프란트(TPS?, 비교예 3)의 2000배 배율의 주사 전자 현미경 사진이다. 11 is a scanning electron micrograph at 2000 times magnification of an implant (TPS ?, Comparative Example 3) surface-treated with a conventional titanium plasma spray (TPS) method.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 임프란트를 칼슘 포스페이트를 이용하여 블라스트 처리한 후 염산과 황산의 혼합 수용액으로 산처리하는 과정으로 이루어진 치과용 임프란트의 표면 처리 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a surface treatment method of a dental implant consisting of a process of blasting the implant with calcium phosphate and then acid treatment with a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sulfuric acid.
이하 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명은 임프란트의 골유착을 증대시키기 위해 최적의 표면 거칠기를 갖는 치과용 임프란트의 표면 처리 방법에 있어서, 기계 가공된 임프란트를 칼슘 포스페이트를 이용하여 블라스트 처리한 후 염산/황산 50∼90 % 혼합 수용액으로 산처리하는 방법을 포함한다.The present invention provides a method for surface treatment of a dental implant having an optimum surface roughness to increase the bone adhesion of the implant, a hydrochloric acid / sulfuric acid 50-90% mixed aqueous solution after blasting the machined implant using calcium phosphate Acid treatment method is included.
기계 가공된 임프란트의 칼슘 포스페이트 블라스트 처리는 생체활성 물질인 칼슘 포스페이트 입자를 이용한 블라스트 처리로 표면 처리한다. 상기 칼슘 포스페이트는 각진 구형(angular granules)의 형태를 가지며, 직경이 40∼80 mesh인 것이 바람직하다. 통상적으로 블라스트 처리 시간, 공기 압력 등에 의하여 표면 거칠기에 대한 파라미터가 변화될 수 있으나, 그 차이는 미세하기 때문에 본 발명에서는 10∼15 초, 5∼7 기압으로 제한하였다.Calcium phosphate blast treatment of machined implants is surface treated with blast treatment using calcium phosphate particles, which are bioactive materials. The calcium phosphate has the form of angular granules, preferably 40 to 80 mesh in diameter. Typically, parameters for surface roughness may be changed by blasting time, air pressure, etc., but the difference is limited to 10 to 15 seconds and 5 to 7 atmospheres in the present invention.
상기 블라스트 처리한 임프란트는 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리를 수행한다. 염산/황산 혼합 수용액을 이용한 임프란트의 표면 처리는 염산:황산이 1:1∼5:1(몰/몰)의 비율로 50∼90 %의 농도를 가진 혼합 수용액으로 수행한다.도 5에 따라, 염산/황산 혼합 수용액의 농도가 증가할수록 표면 거칠기 값이 증가하며 상기 범위에서 가장 적합한 표면 거칠기를 나타내며, 90 %를 초과하면 표면 거칠기가 급속히 떨어짐을 알 수 있다. 바람직하게는 70 %의 농도에서 수행한다. 또한 산처리는 70∼90 ℃에서 4∼6 분 동안 처리하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 70 ℃에서 5 분 동안 산처리를 수행한다.The blasted implant is subjected to acid treatment with an aqueous hydrochloric acid / sulfuric acid solution. The surface treatment of the implant using an aqueous hydrochloric acid / sulfuric acid solution is carried out with a mixed aqueous solution having a hydrochloric acid: sulfuric acid having a concentration of 50-90% in a ratio of 1: 1-5: 1 (mol / mol). According to Figure 5 , as the concentration of the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed solution increases, the surface roughness value increases and shows the most suitable surface roughness in the above range, it can be seen that the surface roughness drops rapidly if it exceeds 90%. Preferably at a concentration of 70%. In addition, the acid treatment is preferably performed at 70 to 90 ° C. for 4 to 6 minutes, more preferably at 70 ° C. for 5 minutes.
하기 도를 통하여 표면 처리된 임프란트의 표면 거칠기를 더욱 상세히 설명한다.The surface roughness of the surface-treated implant is described in more detail through the following figures.
임프란트는 각 단계 및 산처리 방법에 따라 표면 처리됨에 따라 임프란트 표면의 색이 변함을 관찰할 수 있다.도 1은 서로 다르게 표면 처리된 임프란트의 현미경 사진을 나타낸 도면으로, (a)는 기계 가공을 거친 임플란트이며, (b)는 칼슘 포스페이트 블라스트 공정을 거친 임프란트이며, (c)는 상기 블라스트 공정을 거친 후 질산/불산 혼합 수용액으로 산처리된 임프란트이며, 또한 (d)는 본 발명의 상기 블라스트 공정을 거친 후 염산/황산 혼합 수요액으로 산처리된 임프란트이다. 이는 각 단계 및 방법 별로 표면의 거칠기 및 형상이 변하여 관찰되는 색의 변화임을 알 수 있다. 각 단계를 거칠 때마다 표면 거칠기가 증대됨으로 인하여 임프란트 표면의 색이 어두워짐을 알 수 있으며, 특히, 질산/불산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면 보다 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면이 더 어두움을 알 수 있다.It can be observed that the color of the implant surface changes as the implant is surface treated according to each step and acid treatment method. 1 is a view showing a micrograph of differently surface-treated implants, (a) is a machined implant, (b) is a calcium phosphate blasting implant, (c) is a blasting process The implant is acid treated with a nitric acid / fluoric acid mixed aqueous solution, and (d) is an implant acid treated with a hydrochloric acid / sulfuric acid mixed demand after the blasting process of the present invention. It can be seen that the change in color observed by changing the roughness and shape of the surface for each step and method. As the surface roughness increases with each step, the color of the implant surface becomes dark. In particular, the surface of the implant acid treated with an aqueous solution of hydrochloric acid / sulfuric acid rather than the surface of the implant acid treated with an aqueous solution of nitric acid / fluoric acid mixed. You can see this darker.
칼슘 포스페이트 블라스트 처리한 임프란트의 표면 거칠기는도 2에 나타낸 바와 같이, 블라스트 처리시 임프란트 표면에 박혀 있는 깨진 칼슘 포스페이트 입자들이 주로 표면을 형성하고 있으며, 이러한 입자들은 초음파 세척으로도 표면으로부터 떼어낼 수 없다. 표면 거칠기는 이러한 표면의 구조에 영향을 받는 것을 알 수 있으며, 칼슘 포스페이트로 표면이 형성되어 있기 때문에 골유착에 미치는 임프란트 표면의 여러 인자 중에 산화막에 기인하는 영향이 커질 것으로 보인다.As shown in FIG . 2 , the surface roughness of the calcium phosphate blasted implant is mainly formed of broken calcium phosphate particles embedded in the implant surface during blasting, and these particles cannot be removed from the surface by ultrasonic cleaning. . It can be seen that the surface roughness is affected by the structure of the surface, and since the surface is formed of calcium phosphate, the effect due to the oxide film is expected to increase among various factors of the implant surface on the bone adhesion.
또한,도 4에서 보는 바와 같이, 블라스트 처리 후 임프란트의 거칠기 값(Ra)이도 2의 기계 가공된 임프란트 보다 2 배 이상 증가한 것을 알 수 있으며, 자승 평균 거칠기(Rq), 최대 높이(Rt) 및 1 % 값에서의 피크의 개수를 나타내는 S 도 표면 거칠기 값과 같은 경향을 보이고 있다.In addition, as shown in FIG. 4 , it can be seen that the roughness value Ra of the implant after the blast treatment is increased by more than two times than the machined implant of FIG. 2 , and the mean square roughness Rq, the maximum height Rt, and S, which indicates the number of peaks at 1%, also shows the same tendency as the surface roughness value.
상기 블라스트 처리 후 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리된 임프란트는도 6에서 보는 바와 같이 약 2∼4 ㎛ 정도의 분화구 모양의 형상이 임프란트 표면 전체에 균일하게 형성되어 있으며, 표면 거칠기 값(Ra)는도 7에 따라 골유착의 최적 조건과 유사한 1.30 ㎛이며, 블라스트 처리 후의 표면 거칠기 값 보다 약 2 배 이상 증가함을 알 수 있다. 자승 평균 거칠기(Rq) 및 최대 높이(Rt)도 표면 거칠기 값과 같은 경향을 보이고 있으며, 임프란트 표면에 형성되어 있는 도메인(domain)들의 크기와 표면의 균일성을 예측할 수 있는 값인 S 는 1015 개를 검출하였다.이는 약 1 ㎛ 간격으로 하나의 도메인들이 임프란트의 표면에 형성됨과 가장 균일한 표면 구조를 보이고 있음을 알 수 있다.The implant treated with the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed solution after the blasting treatment has a crater shape of about 2 to 4 μm uniformly formed on the entire implant surface as shown in FIG. 6 , and the surface roughness value Ra is According to FIG. 7 , it is 1.30 μm, which is similar to the optimum condition for bone adhesion, and it can be seen that the surface roughness value after blasting is increased by about 2 times or more. The squared mean roughness (Rq) and the maximum height (Rt) also tend to be the same as the surface roughness values, and S, which is a value that predicts the size and uniformity of the domains formed on the implant surface, is 1015 pieces. This shows that one domain is formed on the surface of the implant at about 1 μm intervals and shows the most uniform surface structure.
질산/불산 혼합 수용액으로 산처리된 임프란트(비교예 1)의 표면은도 9에서 보는 바와 같이 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리된 임프란트의 표면과 매우 다른 표면 형상으로 물결 모양의 이방성(anisotropic) 표면 형상을 갖는 것을 알 수 있다. 또한, 표면 거칠기 값은 본 발명의 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리된 것에 대해 75 % 정도의 값을 나타낸다. 하기 실시예에 따라 S 값은 599 개로 본 발명의 블라스트 처리된 임프란트 보다 작은 값으로 불균일한 표면의 식각에 기인한다.The surface of the implant (Comparative Example 1) acid-treated with the nitric acid / fluoric acid aqueous solution is very different from the surface of the implant acid-treated with the hydrochloric acid / sulfuric acid solution, as shown in FIG. 9 . It can be seen that it has a shape. In addition, a surface roughness value shows the value of about 75% with respect to the acid treatment with the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed aqueous solution of this invention. According to the examples below, the S value is 599, which is less than the blasted implant of the present invention, due to the etching of the non-uniform surface.
도 10및도 11은 현재 시판되고 있는 임프란트의 표면 거칠기를 나타낸 것으로,도 10은 산처리 과정으로만 표면 처리한 임프란트(Osseitite?, 3i, USA, 비교예 2)의 표면 거칠기를 나타낸 주사 전자 현미경 사진으로, 약 10 ㎛ 정도의 간격으로 원형의 골이 존재하며 작은 크기의 식각된 형상이 관찰될 뿐 전체적으로 균일한 요철의 형성은 관찰되지 않았다. 표면 거칠기는 하기 실시예에 따라 1.06 ㎛로 본 발명의 표면 거칠기 값 보다 2.4 ㎛ 감소하였으며, 최적의 표면 거칠기 조건에 약간 부족함을 알 수 있다. 또한,도 11은 티타늄 플라즈마 스프레이(titanium plasma spray) 과정으로 제조된 임프란트(TPS?, Life-Core, USA, 비교예 3)의 표면 거칠기를 나타낸 주사 전자 현미경 사진으로, 20 ㎛ 이상의 큰 도메인(domain)들이 표면에 많이 존재하나, 전체적으로 균일성은 떨어진다. 표면 거칠기 값(Ra)은 하기 실시예에 따라 2.97 ㎛로 매우 큰 값을 보이고 있으며,이는도 11에서 보는 바와 같이, 약 20 ㎛ 크기의 도메인들이 존재하기 때문이며, 이러한 도메인들의 높이는 최대 약 22 ㎛(Rt) 정도를 보이고 있다. 또한 이러한 불균일한 표면 형상은 S 값에도 영향을 주어 두 경우 모두 약 480 개 정도의 매우 낮은 값을 보이고 있다. 10 and 11 are surface roughnesses of currently available implants, and FIG . 10 is a scanning electron microscope showing surface roughnesses of implants (Osseitite ?, 3i, USA, Comparative Example 2) surface-treated only by an acid treatment process. In the photograph, circular bones exist at intervals of about 10 μm, and only small etched shapes are observed, and overall uniform irregularities are not observed. Surface roughness was 1.06 μm according to the following example was 2.4 μm less than the surface roughness value of the present invention, it can be seen that the surface roughness slightly lacks. 11 is a scanning electron micrograph showing the surface roughness of the implant (TPS ?, Life-Core, USA, Comparative Example 3) prepared by a titanium plasma spray (titanium plasma spray) process, a large domain of 20 ㎛ or more ) Are present on the surface, but the overall uniformity is poor. The surface roughness value Ra is very large, 2.97 μm, according to the following example, as shown in FIG. 11 , because there are domains of about 20 μm in size, and the height of these domains is up to about 22 μm ( Rt) degree. In addition, this nonuniform surface shape also affects the S value, resulting in very low values of about 480 in both cases.
이하 본 발명의 실시예를 다음에 의하여 설명한다.An embodiment of the present invention will be described below.
그러나 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.However, the present invention is not limited by the examples.
<실시예 1><Example 1>
칼슘 포스페이트를 이용하여 블라스트 처리한 임프란트를 염산과 황산을 2.65:1(몰:몰)의 비율로 농도 1 %∼100 % 의 수용액을 10 % 간격으로 서로 다르게 제조한 후 80 ℃에서 5 분간 처리한 후 증류수에 3회씩 세척하여 불활성 질소로 건조하였으며, 임플란트의 평균 거칠기를 측정하였다.Blast-treated implants using calcium phosphate were prepared differently at 10% intervals in aqueous solutions with concentrations of 1% to 100% in hydrochloric acid and sulfuric acid at a ratio of 2.65: 1 (mol: mol) and then treated at 80 ° C for 5 minutes. After washing three times in distilled water and dried with inert nitrogen, the average roughness of the implant was measured.
하기도 1및표 1을 통하여 가장 바람직한 염산/황산 혼합 수용액의 농도를 알 수 있다.도 1및 하기표 1은 염산/황산 혼합 수용액의 농도에 따른 임프란트의 표면 거칠기(Ra) 값을 나타낸 것으로, 표면 거칠기 값은 70%의 수용액에서 최대값을 가지며, 농도가 증가하면서 표면 거칠기 값이 증가하다가 70 % 이상으로 농도가 증가하면서 표면 거칠기가 감소하는 결과를 보인다. 또한 60∼90 % 의 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면 거칠기는 최적의 표면 거칠기 범위(1.1∼1.7 ㎛)에 속함을 알 수 있다. 1 and Table 1 below it can be seen the concentration of the most preferable aqueous solution of hydrochloric acid / sulfuric acid. Figure 1 and Table 1 shows the surface roughness (Ra) value of the implant according to the concentration of the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed solution, the surface roughness value has a maximum value in the aqueous solution of 70%, the surface roughness value as the concentration increases As the concentration increases to more than 70%, the surface roughness decreases. In addition, it can be seen that the surface roughness of the implant acid-treated with an aqueous solution of 60 to 90% belongs to an optimum surface roughness range (1.1 to 1.7 mu m).
<실시예 2> 치과용 임프란트의 표면 처리 방법Example 2 Surface Treatment Method of Dental Implant
기계 가공된(machined surface) 티타늄 임프란트(AVANA self-Tapping Fixture, 길이 13 ㎜, 직경 3.5 ㎜, 오스템임프란트(주)의 제품)에 대하여 칼슘 포스페이트 블라스트와 연속적인 산 처리 방법으로 표면 처리를 실시하였다.The machined surface titanium implant (AVANA self-Tapping Fixture, 13 mm in length, 3.5 mm in diameter, product of Osstem Implant Co., Ltd.) was subjected to surface treatment by calcium phosphate blast and continuous acid treatment method.
(단계 1) 블라스트 처리 단계(Step 1) blast treatment step
블라스트 기기(MIC DUST.4, 우성치재)를 사용하여 블라스트 처리 단계를 수행하였다. 직경 50∼60 mesh의 각진 구형 칼슘 포스페이트를 사용하였으며, 블라스트 처리시간은 12 초, 공기압력은 6 기압으로 블라스트 처리하였다. 블라스팅(blasting)이 완료된 후, 임프란트를 메탄올에 놓고 5 분간 초음파 세척한 후 다시 증류수로 세척하였다.The blast processing step was performed using a blasting machine (MIC DUST.4, dominant material). Angled spherical calcium phosphate with a diameter of 50-60 mesh was used. The blasting time was 12 seconds and the air pressure was blasted at 6 atm. After blasting was completed, the implant was placed in methanol and sonicated for 5 minutes and then washed again with distilled water.
(단계 2) 산처리 단계(Step 2) Acid Treatment Step
상기 블라스트 공정을 거친 임프란트를 염산/황산을 2.65/1(몰/몰)의 비율로 70 % 수용액으로 제조하여 80 ℃에서 5 분 동안 산처리 하였다. 산처리 후에는 증류수에 3회씩 세척하여 불화성 질소로 건조하였다.The implants subjected to the blasting process were prepared in a 70% aqueous solution of hydrochloric acid / sulfuric acid at a ratio of 2.65 / 1 (mol / mol) and acid treated at 80 ° C. for 5 minutes. After acid treatment, the mixture was washed three times with distilled water and dried over fluorinated nitrogen.
<비교예 1>Comparative Example 1
본 발명의 표면 처리 방법과 비교하기 위하여 블라스트 처리 후 질산/불산으로 산처리하는 표면 처리 방법을 수행하였다.In order to compare with the surface treatment method of the present invention, a surface treatment method of acid treatment with nitric acid / fluoric acid after blasting was performed.
(단계 1) 블라스트 처리 단계(Step 1) blast treatment step
상기 실시예 2의 단계 1과 동일하게 수행하였다.The same procedure as in Step 1 of Example 2 was performed.
(단계 2) 산처리 단계(Step 2) Acid Treatment Step
상기 블라스트 공정을 거친 임프란트를 질산/불산을 2.65/1(몰/몰)의 비율로 혼합한 후 17 % 수용액으로 제조하여 80℃에서 5 분 동안 산처리 하였다. 산처리 후에는 증류수에 3회씩 세척하여 불화성 질소로 건조하였다.The implants subjected to the blasting process were mixed with nitric acid / fluoric acid at a ratio of 2.65 / 1 (mol / mol), prepared as a 17% aqueous solution, and acid-treated at 80 ° C. for 5 minutes. After acid treatment, the mixture was washed three times with distilled water and dried over fluorinated nitrogen.
<비교예 2∼3> 종래 시판된 임프란트Comparative Examples 2 to 3 Implants Commercially Available
본 발명의 표면 거칠기 및 표면 형상을 비교하기 위하여 종래 시판되는 나사형 Osseotite?(3i, USA; 비교예 2) 임프란트와 TPS?(Life-Core, USA; 비교예 3) 임프란트를 표면 분석하였다.In order to compare the surface roughness and the surface shape of the present invention, a conventional screw type Osseotite ? (3i, USA; Comparative Example 2) Implant and TPS ? (Life-Core, USA; Comparative Example 3) The implants were surface analyzed.
비교예 2는 산처리만 한 임프란트이며, 비교예 3은 티타늄 플라즈마 스프레이(titanium plasma spray) 처리한 임프란트이다.Comparative Example 2 is an implant treated with acid only, and Comparative Example 3 is an implant treated with titanium plasma spray.
<실험예>Experimental Example
상기 실시예 및 비교예에 의해 제조된 임프란트 및 종래 시판되는 임프란트의 표면 형상 분석 및 표면 거칠기를 측정하였다.Surface shape analysis and surface roughness of the implants prepared by the above Examples and Comparative Examples and conventionally available implants were measured.
(1) 표면 형상 분석(1) surface shape analysis
각 단계 및 방법에 따라, 표면 처리된 임프란트의 표면 형상을 관찰하기 위하여 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope, SEM, S-2400, Hitachi)을 이용하였으며, 배율은 2000 배와 4000 배로 하여 관찰하였다.According to each step and method, a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, SEM, S-2400, Hitachi) was used to observe the surface shape of the surface-treated implant, the magnification was observed at 2000 times and 4000 times.
(2) 표면 거칠기 측정(2) surface roughness measurement
본 발명은 임프란트의 표면 특성을 명확하게 관찰하기 위하여 표면 거칠기의측정은 TopScan 3D UBM 광학 프로파일러(UBM Messtechnik GmbH, Germany)를 이용하여 측정하였으며, 2D에 관한 표면 거칠기 파라미터만을 구하였으며, 또한 각각의 파라미터를 구하기 위하여 가우시안(Gaussian) 필터를 사용하였다.In order to clearly observe the surface properties of the implants, the surface roughness was measured using a TopScan 3D UBM optical profiler (UBM Messtechnik GmbH, Germany), and only the surface roughness parameters for 2D were obtained. Gaussian filters were used to obtain the parameters.
동일 실험에 대하여 3 개씩 임프란트를 무작위로 선택하여 사용하였으며, 각 임프란트에 대한 표면 거칠기의 측정은 나사선 상단과 하단 등 5 곳을 선택하여 측정한 후, 그 평균 값을 취하였다.In the same experiment, three implants were randomly selected and used, and the surface roughness of each implant was measured by selecting five places such as the upper and lower threads and measuring the average.
측정된 표면 거칠기의 파라미터는 평균 거칠기(Ra), 자승 평균 거칠기(Rq), 최대 높이(Rt) 및 평균 거칠기 1 % 값에서의 피크 개수(S)이다.The parameters of the measured surface roughness are the average roughness Ra, the squared average roughness Rq, the maximum height Rt and the number of peaks S at the average roughness 1% value.
임프란트의 표면 특성을 명확하게 관찰하기 위해 표면 특성을 측정하여 하기 도에 나타내었으며, 각 도에 대한 표면 거칠기 파라미터들(Ra, Rq, Rt 및 S)을 하기표 2에 나타내었다.In order to clearly observe the surface properties of the implant, the surface properties were measured and shown in the following figures, and the surface roughness parameters (Ra, Rq, Rt and S) for each degree are shown in Table 2 below.
블라스트 처리 후 임프란트 표면은도 3에 따라, 표면 처리시 임프란트 표면에 박혀 있는 깨진 칼슘 포스페이트 입자들이 주로 표면을 형성하고 있으며, 이러한 입자들은 표면에 강하게 박혀 있어 초음파 세척으로도 떼어낼 수 없음을 알 수있다.After the blasting treatment, the implant surface was formed according to FIG. 3 , and broken calcium phosphate particles embedded in the implant surface during the surface treatment mainly formed the surface, and these particles were strongly embedded in the surface and could not be removed even by ultrasonic cleaning. have.
또한, 표면 거칠기 값(Ra)은도 4에서 보는 바와 같이 0.69 ㎛이며, 이는도 2에 따라 기계 가공된 임프란트의 표면 거칠기 값(0.27 ㎛) 보다 약 2 배 증가됨을 알 수 있다. 자승 평균 거칠기(Rq), 최대 높이(Rt) 및 S 도 표면 거칠기 값(Ra)과 같은 경향을 보이고 있다.The surface roughness value (Ra) is also a 0.69 ㎛ as shown in 4, it can be seen that about two-fold increased than the value (0.27 ㎛) of the machined surface roughness of the implant according to Figure 2; Square average roughness Rq, maximum height Rt, and S also show the same tendency as surface roughness value Ra.
상기 블라스트 처리 후 염산/황산 70 % 혼합 수용액을 이용하여 산처리한 임프란트의 표면은도 6에서 보는 바와 같이 약 2∼4 ㎛ 정도의 분화구 모양의 형상이 임프란트 표면 전체에 균일하게 형성되어 있는 것을 관찰할 수 있다.After the blast treatment, the surface of the implant treated with a 70% aqueous solution of hydrochloric acid / sulfuric acid was observed to have a crater shape of about 2 to 4 μm uniformly formed on the entire surface of the implant as shown in FIG. 6 . can do.
또한, 표면 거칠기 값(Ra)은 1.30 ㎛로 블라스트 처리 후의 표면 거칠기 값 보다 약 2 배의 증가를 나타냈으며, 골유착을 증대시키는 최적의 표면 거칠기 값을 나타내었다. 자승 평균 거칠기(Rq) 및 최대 높이(Rt)도 표면 거칠기 값(Ra)과 같은 경향을 보이고 있으며, 특히 S 값은 임프란트 표면에 형성되어 있는 도메인(domain)들의 크기와 표면의 균일성을 예측할 수 있는 값으로, 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 경우 1015 개의 피크를 검출하였다. 전체 스캔한 길이는 1000 ㎛ 이므로 약 1 ㎛ 간격으로 하나의 도메인들이 임프란트의 표면에 형성됨과 가장 균일한 표면 구조를 보이고 있음을 알 수 있다.In addition, the surface roughness value (Ra) was 1.30 μm, which was about twice as much as the surface roughness value after the blasting treatment, and the optimum surface roughness value was found to increase the adhesion. The squared mean roughness Rq and the maximum height Rt also tend to be the same as the surface roughness value Ra. In particular, the S value can predict the size and uniformity of the domains formed on the implant surface. As a value, 1015 peaks were detected when the acid treatment with a hydrochloric acid / sulfuric acid mixed aqueous solution. Since the total scanned length is 1000 μm, one domain is formed on the surface of the implant at about 1 μm intervals, and the most uniform surface structure is shown.
블라스트 처리 후 질산/불산 혼합 수용액을 이용한 산처리한 임프란트(비교예 1)의 표면은도 8에 따라 물결 모양의 이방성(anisotropic) 표면 형상을 갖는 것을 알 수 있으며, 표면 거칠기 값(Ra)도 9에 따라 0.97 ㎛로, 본 발명의 염산/황산 혼합 수용액으로 처리한 값보다 0.33 ㎛ 감소하였다. S 값은 599 개로 나타났으며, 이 값은 블라스트 처리된 임프란트(664 개)보다 작은 값으로 불균일한 표면의 식각에 기인한다.The surface of the acid treated implant (Comparative Example 1) using a nitric acid / fluoric acid mixed aqueous solution after blasting treatment has a wavy anisotropic surface shape according to FIG. 8 , and the surface roughness value (Ra) is shown in FIG. 9. Accordingly, it was 0.37 µm, 0.33 µm lower than the value treated with the hydrochloric acid / sulfuric acid aqueous solution of the present invention. The S value was found to be 599, which is less than the blasted implants (664) due to the uneven surface etching.
현재 시판되는 산처리만으로 표면 처리 된 임프란트(비교예 2, Osseotite?)의 표면은도 10에서 보는 바와 같이 약 10 ㎛ 정도의 간격으로 원형의 골이 존재하며 작은 크기의 식각된 형상이 관찰될 뿐 전체적으로 균일한 요철의 형성은 관찰되지 않았다. 또한, 표면 거칠기는 1.06 ㎛로 최적의 표면 거칠기 보다 약간 작은 값을 보이고 있으며, S 값의 경우 본 발명의 값에 비해 50 % 정도로 떨어져 있다.The surface of the implant (Comparative Example 2, Osseotite ® ), which is surface-treated only with acid treatment currently on the market, has circular bones at intervals of about 10 μm, as shown in FIG. No uniform uneven formation was observed throughout. In addition, the surface roughness is 1.06 ㎛ showing a slightly smaller value than the optimum surface roughness, the S value is separated by about 50% compared to the value of the present invention.
티타늄 플라즈마 스프레이(titanium plasma spray)에 의해 제조된 임프란트(비교예 3, TPS?)의 표면은도 11에서 보는 바와 같이 20 ㎛ 이상의 큰 도메인들이 표면에 많이 존재하나 전체적으로 균일성은 떨어지고 있으며, 큰 도메인들의 표면은 평탄하여 미세한 요철이 존재하지 않는다는 것도 관찰된다.The surface of the implant (Comparative Example 3, TPS ? ) Manufactured by titanium plasma spray has many large domains of 20 μm or more on the surface as shown in FIG. 11 , but the overall uniformity is inferior. It is also observed that the surface is flat and there are no fine irregularities.
표면 거칠기 값(Ra)은 2.97 ㎛로 매우 큰 값을 보이고 있으며, 표면 거칠기가 큰 이유는도 11에서 보는 바와 같이 약 20 ㎛ 크기의 도메인들이 존재하기 때문이며, 이러한 도메인들의 높이는 최대 약 22 ㎛(Rt) 정도를 보이고 있다. 또한 이러한 불균일한 표면 형상은 S 값에도 영향을 주어 약 480 개 정도의 매우 낮은 값을 보이고 있다.The surface roughness value Ra is 2.97 μm, which is very large, and the reason why the surface roughness is large is that there are domains having a size of about 20 μm, as shown in FIG. ) Is showing degree. In addition, this non-uniform surface shape also affects the S value and shows very low values of about 480 pieces.
상기 결과를 정리하면 다음과 같다.The above results are summarized as follows.
(1) 기계 가공, 블라스트 처리 및 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트의 표면 거칠기는 각각 0.27, 0.69 및 1.30 ㎛로 측정되어 Wennerberg et.al. 이 제시한 표면 거칠기 조건(1.5 ±0.4 ㎛)에 가장 부합되었다.(1) The surface roughness of implants treated with machining, blasting and hydrochloric acid / sulfuric acid aqueous solutions were measured to be 0.27, 0.69 and 1.30 μm, respectively, to Wennerberg et.al. The surface roughness condition (1.5 ± 0.4 µm) was best met.
(2) 블라스트 공정 후의 산처리 방법으로는 70 % 염산/황산 혼합 수용액에서 80 ℃, 5 분간 산처리하는 경우가 가장 우수한 표면 거칠기와 균일성을 보였다.(2) As the acid treatment method after the blasting process, the acid treatment at 80 ° C. for 5 minutes in a 70% hydrochloric acid / sulfuric acid aqueous solution showed the best surface roughness and uniformity.
(3) 주사 전자 현미경 사진과 S 값으로부터 확인한 결과, 블라스트 처리 후 염산/황산 혼합 수용액으로 산처리한 임프란트가 가장 균일한 표면 형상을 갖는 것으로 확인되었으며, 하기 실시예에 따라 비교예 1∼3의 임프란트의 표면 특성과 비교하여 더 우수한 골유착 조건을 갖을 것으로 예측된다.(3) From the scanning electron micrograph and the S value, it was confirmed that the implant treated with the hydrochloric acid / sulfuric acid mixed aqueous solution after blasting had the most uniform surface shape, and according to the following examples, Comparative Examples 1 to 3 It is expected to have better osteoadhesion conditions compared to the surface properties of the implant.
상술한 바와 같이, 본 발명의 칼슘 포스페이트 블라스트 처리 후 염산과 황산의 혼합 수용액을 사용하여 산처리 하는 표면 처리 방법을 통하여 종래의 시판되는 임프란트 보다 더 우수한 표면 거칠기와 균일한 표면 형상을 나타내어 골유착이 우수한 임프란트를 제조할 수 있다.As described above, the surface treatment method of acid treatment using a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sulfuric acid after the calcium phosphate blasting treatment of the present invention shows better surface roughness and uniform surface shape than conventional commercially available implants, resulting in osteoadhesion Excellent implants can be produced.
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