KR20030055366A - Method Of Fabricating Liquid Crystal Display Device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 특히 원하는 형태의 스페이서를 갖는 액정표시소자의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal display device having a spacer of a desired form.
통상, 액정표시소자(Liquid Crystal Display; LCD)는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. 이를 위하여, 액정표시소자는 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정패널과, 이 액정패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비하게 된다. 액정패널에는 액정셀들 각각에 전계를 인가하기 위한 화소전극들과 기준전극, 즉 공통전극이 마련되게 된다. 통상, 화소전극은 하부기판 상에 액정셀별로 형성되는 반면 공통전극은 상부기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 화소전극들 각각은 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)에 접속된다. 화소전극은 TFT를 통해 공급되는 데이터신호에 따라 공통전극과 함께 액정셀이 구동된다.In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix, and a driving circuit for driving the liquid crystal panel. The liquid crystal panel includes pixel electrodes for applying an electric field to each of the liquid crystal cells and a reference electrode, that is, a common electrode. In general, the pixel electrode is formed for each liquid crystal cell on the lower substrate, while the common electrode is integrally formed on the front surface of the upper substrate. Each of the pixel electrodes is connected to a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") used as a switching element. The liquid crystal cell is driven along with the common electrode in accordance with the data signal supplied through the TFT.
도 1을 참조하면, 종래의 LCD는 상부기판(11) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(32)와 칼라필터(30), 공통전극(28), 컬럼스페이서(26) 및 상부배향막(34)으로 구성되는 상판과, 하부기판(1) 상에 형성된 TFT와 화소전극(22) 및 하부배향막(24)으로 구성되는 하판과, 상판 및 하판과 컬럼스페이서(26)에 의해 마련된 내부공간에 주입되는 액정(40)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a conventional LCD includes a black matrix 32, a color filter 30, a common electrode 28, a column spacer 26, and an upper alignment layer 34 that are sequentially formed on an upper substrate 11. Liquid crystal injected into the inner space provided by the upper plate, the lower plate consisting of the TFT and the pixel electrode 22 and the lower alignment layer 24 formed on the lower substrate 1, the upper plate and the lower plate and the column spacer 26 40.
상판에서 블랙매트릭스(32)는 상부기판(11) 상에 매트릭스 형태로 형성되어 상부기판(11)의 표면을 칼라필터(30)들이 형성되어질 다수의 셀영역들로 나눔과 아울러 인접 셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다. 이 블랙매트릭스(32)가 형성된 상부기판(11) 상에 적, 녹, 청 삼원색의 칼라필터(30)들이 순차적으로 형성된다. 블랙매트릭스(32) 및 칼라필터(30)가 형성된 상부기판(11) 상에 그라운드전위가 공급되는 공통전극(28)을 형성한다. 이 공통전극(28) 상에 블랙매트릭스(32)와 대응되게 컬럼스페이서(26)가 형성된다. 컬럼스페이서(26)는 상판과 하판 사이에 액정(40)을 주입할 수 있는 공간을 마련하는 역할을 하게 된다. 이 컬럼스페이서(26)와 공통전극(28)을 덮도록 상부 배향막(34)이 형성된다.In the upper plate, the black matrix 32 is formed in a matrix form on the upper substrate 11 to divide the surface of the upper substrate 11 into a plurality of cell regions in which the color filters 30 are to be formed, as well as optical interference between adjacent cells. It will act to prevent. The color filters 30 of red, green, and blue primary colors are sequentially formed on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 is formed. The common electrode 28 to which the ground potential is supplied is formed on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 and the color filter 30 are formed. The column spacer 26 is formed on the common electrode 28 to correspond to the black matrix 32. The column spacer 26 serves to provide a space for injecting the liquid crystal 40 between the upper and lower plates. An upper alignment layer 34 is formed to cover the column spacer 26 and the common electrode 28.
하판에서 액정셀의 구동을 스위칭하는 TFT는 게이트라인(도시하지 않음)에 연결된 게이트전극(6), 데이터라인(도시하지 않음)에 연결된 소스전극(8) 및 접촉홀을 통해 화소전극(22)에 접속된 드레인전극(10)을 구비한다. 또한, TFT는 게이트전극(6)과 소스전극(8) 및 드레인 전극(10)의 절연을 위한 게이트절연막(12)과, 게이트전극(6)에 공급되는 게이트전압에 의해 소스전극(8)과 드레인전극(10)간에 도통채널을 형성하기 위한 반도체층(14,16)을 더 구비한다. 이러한 TFT는 게이트라인으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(22)에 공급한다. 화소전극(22)은 데이터라인과 게이트라인에 의해 분할된 셀영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 화소전극(22)은 하부기판(1) 전면에 도포되는 보호막(18) 위에 형성되며, 보호막(18)에 형성된 접촉홀을 통해 드레인전극(10)과 전기적으로 접속된다. 화소전극(22)이 형성된 하부기판(1) 상에 하부배향막(24)을 도포한 후 러빙공정을 수행하여 하판이 완성된다.The TFT for switching the driving of the liquid crystal cell on the lower plate includes the gate electrode 6 connected to the gate line (not shown), the source electrode 8 connected to the data line (not shown), and the pixel electrode 22 through the contact hole. And a drain electrode 10 connected to it. Further, the TFT is formed by the gate insulating film 12 for insulating the gate electrode 6, the source electrode 8, and the drain electrode 10, and the source electrode 8 by the gate voltage supplied to the gate electrode 6; The semiconductor layers 14 and 16 are further provided to form a conductive channel between the drain electrodes 10. This TFT selectively supplies the data signal from the data line to the pixel electrode 22 in response to the gate signal from the gate line. The pixel electrode 22 is formed of a transparent conductive material having a high light transmittance and positioned in a cell region divided by a data line and a gate line. The pixel electrode 22 is formed on the passivation layer 18 coated on the entire surface of the lower substrate 1, and is electrically connected to the drain electrode 10 through a contact hole formed in the passivation layer 18. After applying the lower alignment layer 24 on the lower substrate 1 on which the pixel electrode 22 is formed, a rubbing process is performed to complete the lower plate.
끝으로, 전술한 바와 같이 별도로 만들어진 상판과 하판을 정위치시켜 합착한 후 컬럼 스페이서(26)에 의해 마련된 액정공간에 액정(40)을 주입하여 봉지함으로써 액정표시소자를 완성하게 된다.Finally, the liquid crystal display device is completed by injecting and encapsulating the liquid crystal 40 into the liquid crystal space provided by the column spacer 26 after attaching the upper and lower plates separately prepared as described above.
이러한 구성을 가지는 상판의 제조공정을 도 2a 내지 도 2g를 결부하여 설명하기로 한다.A manufacturing process of the upper plate having such a configuration will be described with reference to FIGS. 2A to 2G.
먼저, 상부기판(11) 상에 불투명수지 또는 크롬 등의 불투명금속을 증착한 후 패터닝함으로써 도 2a에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(32)가 형성된다. 블랙매트릭스(32)가 형성된 상부기판(11) 상에 백색광원을 흡수하여 특정파장(적색, 녹색, 또는 청색)의 광만을 투과시키는 물질을 도포한 후 패터닝함으로써 도 2b에 도시된 바와 같이 삼원색의 칼라필터(30A,30B,30C)가 형성된다. 블랙매트릭스(32) 및 칼라필터(30A,30B,30C)가 형성된 상부기판(11) 상에 투명금속층을 증착함으로써 도 2c에 도시된 바와 같이 공통전극(28)이 형성된다.First, a black matrix 32 is formed as shown in FIG. 2A by depositing an opaque metal such as opaque resin or chromium on the upper substrate 11 and patterning the same. By absorbing the white light source on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 is formed to transmit only a light having a specific wavelength (red, green, or blue), a material is patterned and then patterned, as shown in FIG. 2B. Color filters 30A, 30B, 30C are formed. The common electrode 28 is formed as shown in FIG. 2C by depositing a transparent metal layer on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 and the color filters 30A, 30B, and 30C are formed.
도 2d를 참조하면, 공통전극(28)이 형성된 상부기판(11) 상에 용매, 바인더, 모노머(monomer), 광개시제(photoinitiator)를 혼합한 물질을 인쇄하고 건조하면 용매가 증발되어 바인더, 모노머 및 광개시제가 혼합된 페이스트(26a)가 형성된다.Referring to FIG. 2D, a material mixed with a solvent, a binder, a monomer, and a photoinitiator is printed and dried on the upper substrate 11 on which the common electrode 28 is formed. The paste 26a in which the photoinitiator is mixed is formed.
도 2e를 참조하면, 페이스트(26a)가 형성된 상부기판(11) 상에 차단부(38a)와 투과부(38b)를 갖는 포토마스크(38)를 사용하여 자외선광을 페이스트(26a)에 선택적으로 조사하여 노광한다. 이 때, 포토마스크(38)를 통해 광을 조사하면 광개시제가 분해되어 라디칼이 형성된다. 이 라디칼은 바인더사이에 분포된 모노머의 결합들을 중합하여 노광된 페이스트(26a)의 점도를 유지하게 된다.Referring to FIG. 2E, ultraviolet light is selectively irradiated onto the paste 26a by using a photomask 38 having a blocking portion 38a and a transmitting portion 38b on the upper substrate 11 having the paste 26a formed thereon. Exposure. At this time, when light is irradiated through the photomask 38, photoinitiators are decomposed to form radicals. This radical polymerizes the bonds of monomers distributed between the binders to maintain the viscosity of the exposed paste 26a.
도 2f를 참조하면, 페이스트(26a)를 현상액으로 현상한다. 이때, 페이스트(26a)는 비노광된 페이스트는 제거되고 노광된 페이스트는 제거되지 않고 잔류하게 된다. 잔류하는 페이스트(26a)를 소성하면 약 4.5㎛의 길이를 갖는 컬럼스페이서(26)가 형성된다.Referring to Fig. 2F, paste 26a is developed with a developer. At this time, the paste 26a is left without the unexposed paste and the exposed paste. When the remaining paste 26a is fired, a column spacer 26 having a length of about 4.5 mu m is formed.
도 2g를 참조하면, 컬럼스페이서(26)가 형성된 상부기판(11) 상에 폴리이미드를 전면 도포하여 상부배향막(34)을 형성하게 된다.Referring to FIG. 2G, the polyimide is entirely coated on the upper substrate 11 on which the column spacer 26 is formed to form the upper alignment layer 34.
종래 액정표시소자의 컬럼 스페이서(26)는 상부기판(11)의 면적에 2%를 차지하고 있다. 이러한 컬럼 스페이서(26)는 칼라 필터(30A,30B,30C)가 형성된 상부기판(11) 상에 전면 인쇄하여 노광, 현상 및 소성공정을 거치게 된다. 이에 따라, 재료의 손실, 시간의 손실 등이 발생하는 문제점이 있다. 또한, 투명전극(28) 위에 상부배향막(34)을 형성할 경우, 디스크리네이션(disclination)이 발생하는 문제점이 있다.The column spacer 26 of the conventional liquid crystal display device occupies 2% of the area of the upper substrate 11. The column spacer 26 is completely printed on the upper substrate 11 on which the color filters 30A, 30B, and 30C are formed to undergo exposure, development, and baking processes. Accordingly, there is a problem in that loss of material, loss of time, and the like occur. In addition, when the upper alignment layer 34 is formed on the transparent electrode 28, there is a problem in that disclination occurs.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 잉크젯을 이용하여 스페이서를 형성한다. 그러나, 잉크젯을 이용하여 형성되는 스페이서는 스페이서물질을 드로핑시 원하는 형태를 얻기 어려우며, 스페이서 형성위치의 정확도가 떨어지는 문제점이 있다.In order to solve this problem, a spacer is formed using an inkjet. However, a spacer formed by using an inkjet is difficult to obtain a desired shape when dropping the spacer material, there is a problem that the accuracy of the spacer formation position is inferior.
따라서, 본 발명의 목적은 원하는 형태의 스페이서를 갖는 액정표시소자의 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device having a spacer of a desired shape.
도 1은 종래의 액정표시소자를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display device.
도 2a 내지 도 2g는 도 1에 도시된 상판의 제조공정을 나타내는 단면도.2A to 2G are sectional views showing the manufacturing process of the upper plate shown in FIG.
도 3a 내지 도 3h는 본 발명에 따른 액정표시소자의 상판의 제조공정을 나타내는 단면도.3A to 3H are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a top plate of a liquid crystal display device according to the present invention.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>
11,41 : 상부기판26,58 : 스페이서11,41: upper substrate 26, 58: spacer
28,58 : 공통전극30,60 : 컬러필터28,58: common electrode 30,60: color filter
32,62 : 블랙매트릭스34,64 : 상부배향막32,62: Black matrix 34,64: Upper alignment layer
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법은 잉크젯 헤드 노즐 상에 형성된 스페이서물질을 소프트베이킹하는 단계와, 소프트베이킹된 스페이서물질을 기판 상에 안착시키는 단계와, 스페이서물질을 소성하여 기판 상에 스페이서를 형성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of soft-baking the spacer material formed on the inkjet head nozzle, the step of seating the soft-baked spacer material on the substrate, Firing to form spacers on the substrate.
상기 소프트베이킹은 200℃이하의 온도에서 실행되는 것을 특징으로 한다.The soft baking is characterized in that it is carried out at a temperature of 200 ℃ or less.
상기 소성온도는 200~250℃이하인 것을 특징으로 한다.The firing temperature is characterized in that less than 200 ~ 250 ℃.
상기 노즐의 직경은 5~50㎛인 것을 특징으로 한다.The diameter of the nozzle is characterized in that 5 ~ 50㎛.
상기 노즐 상에 형성되는 스페이서물질의 직경은 10~50㎛인 것을 특징으로 한다.The diameter of the spacer material formed on the nozzle is characterized in that 10 ~ 50㎛.
상기 액정표시소자의 제조방법은 기판 상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와, 기판 상에 컬러필터를 형성하는 단계와, 컬러필터 상에 공통전극을 형성하는 단계와, 공통전극 상에 배향막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing the liquid crystal display device includes forming a black matrix on a substrate, forming a color filter on the substrate, forming a common electrode on the color filter, and forming an alignment layer on the common electrode. Characterized in that it comprises a step.
상기 잉크젯 헤드노즐은 블랙매트릭스와 대응되는 영역에 얼라인되는 것을 특징으로 한다.The inkjet head nozzle may be aligned to a region corresponding to the black matrix.
상기 목적들 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
이하, 도 3a 내지 도 3h를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3A to 3H.
도 3a 내지 도 3h는 본 발명에 따른 스페이서 형성방법을 나타내는 단면도이다.3A to 3H are cross-sectional views illustrating a spacer forming method according to the present invention.
도 3a를 참조하면, 상부기판(41) 상에 불투명금속층이 증착된다. 불투명금속층은 불투명수지 또는 크롬(Cr) 등으로 이루어진다. 이어서, 불투명금속층을 식각공정을 포함하는 포토리쏘그래피 공정으로 패터닝함으로써 블랙매트릭스(62)가 형성된다.Referring to FIG. 3A, an opaque metal layer is deposited on the upper substrate 41. The opaque metal layer is made of opaque resin or chromium (Cr). Subsequently, the black matrix 62 is formed by patterning the opaque metal layer by a photolithography process including an etching process.
도 3b를 참조하면, 블랙매트릭스(62)가 형성된 상부기판(41) 상에 백색광원을 흡수하여 특정파장(적색, 녹색, 또는 청색)의 광만을 투과시키는 물질을 도포한 후 패터닝함으로써 삼원색의 칼라필터(60A,60B,60C)가 형성된다.Referring to FIG. 3B, a color of three primary colors is formed by applying a material that absorbs a white light source and transmits only a light having a specific wavelength (red, green, or blue) on the upper substrate 41 on which the black matrix 62 is formed. Filters 60A, 60B, 60C are formed.
도 3c를 참조하면, 블랙매트릭스(62) 및 칼라필터(60A,60B,60C)가 형성된 상부기판(41) 상에 투명금속층을 증착함으로써 투명전극(58)이 형성된다. 투명전극(58)은 투명금속층인 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide), 인듐-징크-옥사이드(Indium-Zinc-Oxide) 또는 인듐-틴-징크-옥사이드(Indium-Tin-Zinc-Oxide) 등으로 형성된다.Referring to FIG. 3C, the transparent electrode 58 is formed by depositing a transparent metal layer on the upper substrate 41 on which the black matrix 62 and the color filters 60A, 60B, and 60C are formed. The transparent electrode 58 is an indium-tin-oxide, indium-zinc-oxide, or indium-tin-zinc-oxide, which is a transparent metal layer. ) And the like.
도 3d를 참조하면, 투명전극(58)이 형성된 상부기판(41) 상에 상부 배향막(64)이 형성된다. 상부배향막(64)은 폴리이미드를 도포하여 러빙공정을 실행하여 형성된다.Referring to FIG. 3D, an upper alignment layer 64 is formed on the upper substrate 41 on which the transparent electrode 58 is formed. The upper alignment film 64 is formed by applying a polyimide to perform a rubbing process.
도 3e를 참조하면, 상부배향막(64)이 형성된 상부기판(41)의 블랙매트릭스(62)와 대응되는 영역 상부에 잉크젯(inkjet)(52)이 정렬된다. 이 잉크젯 헤드(52)의 노즐(54) 상에는 소정점도를 가지고 있어 드로핑되지 않는 스페이서물질(56)이 형성된다. 이 때, 스페이서물질(56)은 200℃이하의 온도로 소프트베이킹하여 스페이서 물질(56)에 함유된 솔벤트를 제거하게 된다.Referring to FIG. 3E, an inkjet 52 is aligned on an area corresponding to the black matrix 62 of the upper substrate 41 on which the upper alignment layer 64 is formed. On the nozzle 54 of the inkjet head 52, a spacer material 56 having a predetermined viscosity and not dropping is formed. At this time, the spacer material 56 is softbaked at a temperature of 200 ° C. or less to remove the solvent contained in the spacer material 56.
여기서, 노즐(54)에는 탄성을 가지는 볼 또는 유압장치등이 내장되어 있어 한번 접촉시 방출되는 스페이서물질(56)의 양을 조절하게 된다. 이러한 노즐(54)의 배출구는 5㎛~50㎛의 직경을 갖도록 형성된다. 이 노즐(54) 상에 매달린 상태를 유지하는 스페이서물질(56)은 10㎛~50㎛의 직경을 갖도록 형성된다.Here, the nozzle 54 has a built-in elastic ball or hydraulic device to adjust the amount of the spacer material 56 that is released in one contact. The outlet of this nozzle 54 is formed to have a diameter of 5㎛ ~ 50㎛. The spacer material 56 which is suspended on the nozzle 54 is formed to have a diameter of 10 μm to 50 μm.
도 3f를 참조하면, 잉크젯헤드(52)를 상부배향막(64) 형성된 상부기판(41)쪽으로 하강하여 솔벤트가 제거된 스페이서물질(56)이 상부배향막(64)과 접촉하게 된다. 스페이서물질(56)은 소프트베이킹되어 있어 스페이서의 높이, 직경 및 형상 등이 원하는 형태로 형성되고, 위치를 정확하게 얼라인할 수 있다.Referring to FIG. 3F, the inkjet head 52 is lowered toward the upper substrate 41 on which the upper alignment layer 64 is formed so that the spacer material 56 from which the solvent is removed is in contact with the upper alignment layer 64. The spacer material 56 is soft baked so that the height, diameter, shape, etc. of the spacer can be formed in a desired shape, and the position can be accurately aligned.
도 3g를 참조하면, 상부배향막(64)과 접촉되도록 스페이서물질(56)을 형성한 후 잉크젯 헤드(52)는 상승하게 된다. 이 때, 잉크젯 헤드(52)가 상승하면서 스페이서물질(56)의 높이를 보다 효과적으로 제어하게 된다.Referring to FIG. 3G, the inkjet head 52 is raised after forming the spacer material 56 to contact the upper alignment layer 64. At this time, the inkjet head 52 is raised to more effectively control the height of the spacer material 56.
도 3h를 참조하면, 상부배향막(64) 상에 형성된 스페이서물질(56)을 소프트베이킹 온도보다 상대적으로 높은 온도로 소성하여 스페이서(58)를 형성하게 된다. 소성온도는 바람직하게 200~250℃이다.Referring to FIG. 3H, the spacer material 56 formed on the upper alignment layer 64 is fired at a temperature relatively higher than the soft baking temperature to form the spacer 58. The firing temperature is preferably 200 to 250 ° C.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법은 스페이서물질을 드로핑하기 전에 스페이서물질을 소프트베이킹하게 된다. 소프트베이킹된 스페이서물질이 형성된 잉크젯 헤드노즐과 기판을 접촉시켜 원하는 높이와 넓이 등의 형상을 갖는 스페이서를 형성하게 되며, 스페이서 형성위치에 정확하게 형성된다.As described above, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention soft-bakes the spacer material before dropping the spacer material. By contacting the substrate with the inkjet head nozzle on which the soft-baked spacer material is formed, a spacer having a shape such as a desired height and width is formed, and is accurately formed at the spacer formation position.
또한, 컬럼 스페이서보다 제조공정이 단순하여 비용을 절감할 수 있다. 뿐만 아니라, 러빙된 배향막 상에 형성되므로 디스크리네이션현상을 제거할 수 있다.In addition, the manufacturing process is simpler than that of the column spacer, thereby reducing the cost. In addition, since it is formed on the rubbed alignment layer, the disclination phenomenon can be eliminated.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
Claims (7)
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