KR20030050577A - liquid crystal display, color filter plate and method for fabricating the plate - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display, a color filter substrate of the display and a method for fabricating the substrate are provided to maintain a narrow cell gap uniformly and simplify a process of fabricating the color filter substrate. CONSTITUTION: A liquid crystal display includes the first insulating substrate(10), the second insulating substrate(100) combined with the first substrate, a plurality of conductive lines(25) formed on the inner side of the first substrate to define pixel regions in a matrix form, a plurality of switching elements formed on the inner side of the first substrate and connected to the conductive lines, and a plurality of pixel electrodes(102) formed on the inner side of the first substrate and connected to the switching elements respectively. The display further includes a color filter(200) formed on the inner side of the second substrate, a passivation layer(300) covering the color filter, and a plurality of column spacers(350) that are integrated with the passivation layer and support a distance between the first and second substrates.

Description

액정 표시 장치, 그의 색 필터 기판 및 그 제조 방법{liquid crystal display, color filter plate and method for fabricating the plate}Liquid crystal display device, color filter substrate and its manufacturing method {liquid crystal display, color filter plate and method for fabricating the plate}

본 발명은 액정 표시 장치, 그의 색 필터 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, a color filter substrate thereof and a manufacturing method thereof.

액정 표시 장치는 일반적으로 공통 전극과 컬러 필터(color filter) 등이 형성되어 있는 상부 기판과 박막 트랜지스터와 화소 전극 등이 형성되어 있는 하부 기판 사이에 액정 물질을 주입해 놓고 화소 전극과 공통 전극에 서로 다른 전위를 인가함으로써 전계를 형성하여 액정 분자들의 배열을 변경시키고, 이를 통해 빛의투과율을 조절함으로써 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device injects a liquid crystal material between an upper substrate on which a common electrode, a color filter, and the like are formed, and a lower substrate on which a thin film transistor and a pixel electrode are formed. By applying a different potential to form an electric field to change the arrangement of the liquid crystal molecules, and through this to adjust the transmittance of light to express the image.

이러한 액정 표시 장치에서는, 두 기판 사이의 간격을 균일하게 유지하도록 기판 간격재를 사용하는데, 기판 간격재는 탄성을 가지는 구형의 스페이서로 사용하는 것이 일반적이다.In such a liquid crystal display device, a substrate spacer is used to maintain a uniform gap between two substrates, but the substrate spacer is generally used as a spherical spacer having elasticity.

하지만, 두 기판의 간격이 좁아짐에 따라 유동성을 가지는 구형의 스페이서를 사용하여 셀 간격을 균일하게 유지하는데는 한계가 있으며, 접촉 방식으로 액정 표시 장치를 적용하는 경우에는 눌림이 심하게 발생하여 구형의 스페이서는 얼룩 또는 잔상이 심하게 남을 수 있다.However, as the spacing between two substrates becomes narrower, there is a limit in maintaining cell spacing evenly by using a spherical spacer having fluidity. May cause severe stains or afterimages.

또한, 컬러 필터 기판을 제조할 때 컬러 필터에 의한 단차를 최소화하기 위해 컬러 필터를 덮는 보호막을 평탄화해야 하기 때문에 제조 공정이 복잡한 문제점이 있다.In addition, when manufacturing the color filter substrate, the manufacturing process is complicated because the protective film covering the color filter must be flattened to minimize the step by the color filter.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 좁은 셀 간격을 균일하게 유지할 수 있는 동시에 접촉 방식에 적용하는 경우에는 얼룩의 발생을 최소화할 수 있는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a liquid crystal display device capable of maintaining a narrow cell gap uniformly and minimizing spots when applied to a contact method.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 과제는 제조 공정을 단순화할 수 있는 색 필터 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a color filter substrate and a method of manufacturing the same that can simplify the manufacturing process.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.1 is a layout view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에서 Ⅱ-Ⅱ' 선에 대한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 액정 표시 장치용 색 필터 기판을 제조하는 첫 단계에서의 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이다.3 is a cross-sectional view of a color filter substrate in a first step of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 도 3 다음 단계에서의 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이다.4 is a view showing a cross section of the color filter substrate in the next step of FIG.

도 5는 완성된 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이다.5 is a view showing a cross section of the completed color filter substrate.

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는 컬러 필터 기판에 컬러 필터를 덮는 보호막을 형성할 때에, 두 기판을 균일한 간격으로 지지하는 기둥 스페이서를 동시에 형성한다.In order to achieve this object, in the present invention, when forming a protective film covering the color filter on the color filter substrate, pillar spacers for supporting the two substrates at uniform intervals are simultaneously formed.

구체적으로, 본 발명의 액정 표시 장치는 제1 절연 기판, 제1 기판의 내면과 마주하는 내면을 가지며 제1 기판과 결합되어 있는 제2 절연 기판, 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며, 매트릭스 형태의 화소 영역을 구획하는 다수의 배선, 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며 상기 배선과 연결되어 있는 다수의 스위칭 소자, 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며 스위칭 소자와 연결되어 있는 다수의 화소 전극, 상기 화소 영역의 제2 기판 내면에 순차적으로 형성되어 있는 색 필터, 제2 기판 내면의 상기 색 필터를 덮고 있으며 평탄화되어 있는 보호막, 보호막과 일체로 형성되어 있으며 화소 영역 사이에 배치되고 보호막보다 두꺼운 두께로 형성되어 상기 제1 및 제2 기판의 간격을 지지하는 다수의 기둥 스페이서를 포함하여 이루어진다.Specifically, the liquid crystal display of the present invention is formed on the first insulating substrate, the second insulating substrate having an inner surface facing the inner surface of the first substrate and bonded to the first substrate, the inner surface of the first substrate, and having a matrix form. A plurality of wirings defining a pixel area of the substrate, a plurality of switching elements formed on an inner surface of the first substrate and connected to the wirings, a plurality of pixel electrodes formed on an inner surface of the first substrate and connected to the switching elements, A color filter sequentially formed on an inner surface of the second substrate of the pixel region, a protective film covering the color filter on the inner surface of the second substrate, and integrally formed with a flattened protective film and a protective film and disposed between the pixel regions and thicker than the protective film. It is formed to include a plurality of pillar spacers for supporting the gap between the first and second substrate.

여기서, 제2 기판 내면의 상기 보호막 위에 형성되어 있는 공통 전극을 더 포함하는 것이 바람직하며, 상기 화소 전극 및 상기 공통 전극에는 개구 또는 돌기 형태의 패턴이 형성될 수 있다.The display device may further include a common electrode formed on the passivation layer on the inner surface of the second substrate, and the pixel electrode and the common electrode may have an opening or protrusion pattern.

또한, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 수직 방향으로 배항된 액정을 더 포함할 수 있다.The liquid crystal display may further include a liquid crystal circulated in the vertical direction between the first and second substrates.

또, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 더 포함하며, 상기 액정은 상하 기판 사이에서 꼬여서 배향되고 그 꼬인 각도가 80˚~ 100˚사이의 값을 가질 수 있다.The liquid crystal may further include a liquid crystal between the first and second substrates, and the liquid crystal may be twisted and oriented between the upper and lower substrates, and the twist angle may have a value between 80 ° and 100 °.

상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 더 포함하며, 상기 액정은 상하 기판사이에서 꼬여서 배향되고 그 꼬인 각도가 250˚~ 300˚사이의 값을 가질 수도 있다.The liquid crystal may further include a liquid crystal between the first and second substrates, and the liquid crystal may be twisted and aligned between the upper and lower substrates, and the twist angle may have a value between 250 ° and 300 °.

한편, 본 발명에 따른 색 필터 기판은 절연 기판, 상기 절연 기판 내면에 형성되어 있는 색 필터, 상기 절연 기판 내면의 상기 색 필터를 덮고 있으며 평탄화되어 있는 보호막, 상기 보호막과 일체로 형성되어 있으며, 상기 보호막보다 두꺼운 두께로 형성된 다수의 기둥 스페이서, 상기 보호막 및 상기 기둥 스페이서 위에 전체적으로 형성되어 있는 공통 전극을 포함하여 이루어진다.On the other hand, the color filter substrate according to the present invention is integrally formed with an insulating substrate, a color filter formed on the inner surface of the insulating substrate, a protective film which covers the color filter on the inner surface of the insulating substrate and is flattened, and the protective film. It includes a plurality of pillar spacers having a thickness thicker than the protective film, the common electrode formed on the protective film and the pillar spacer as a whole.

여기서, 상기 색 필터는 다수의 화소 영역의 화소 열마다 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터가 순차적으로 배열되며, 상기 색 필터의 양끝 부분은 각각 이웃하는 상기 화소 열마다 서로 중첩되어 형성된 것이 바람직하다.Herein, the color filters include red (R), green (G), and blue (B) color filters sequentially arranged for each pixel column of a plurality of pixel regions, and both ends of the color filter are adjacent to each other. It is preferable that they are formed to overlap each other.

또한, 상기 색 필터의 상기 중첩된 양끝 부분의 상부에는 상기 보호막과 같은 재질의 기둥 스페이서가 형성된 것이 바람직하며, 상기 기둥 스페이서는 선형으로 형성될 수 있다.In addition, it is preferable that pillar spacers made of the same material as the passivation layer are formed above the overlapping ends of the color filter, and the pillar spacers may be linearly formed.

또, 상기 보호막의 두께는 0.8㎛~1.5㎛이고, 상기 기둥 스페이서의 두께는 2.5㎛~3.5㎛로 형성된 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the thickness of the said protective film is 0.8 micrometer-1.5 micrometers, and the thickness of the said pillar spacer was formed in 2.5 micrometers-3.5 micrometers.

한편, 본 발명의 액정 표시 장치용 색 필터 기판의 제조 방법은 다음과 같다.On the other hand, the manufacturing method of the color filter substrate for liquid crystal display devices of this invention is as follows.

우선, 투명 기판 위에 색 필터를 형성한다. 다음, 색 필터 상부에 보호막 및 기둥 스페이서를 형성한다. 보호막 및 기둥 스페이서 상부에 투명 도전물질로 이루어진 공통전극을 형성한다. 이때, 보호막 및 상기 스페이서는 부분적으로 다른 투과율을 가지는 마스크를 이용하여 동시에 형성한다.First, a color filter is formed on a transparent substrate. Next, a protective film and pillar spacers are formed on the color filter. A common electrode made of a transparent conductive material is formed on the passivation layer and the pillar spacer. At this time, the protective film and the spacer are formed at the same time using a mask having a partially different transmittance.

여기서, 보호막 및 기둥 스페이서는 네가티브(negative) 또는 포지티브(positive)의 감광 수지를 이용하여 형성할 수 있다.Here, the protective film and the pillar spacer may be formed using a negative or positive photosensitive resin.

색 필터는 스트라이프 형태의 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터가 순차적으로 배열되며, 색 필터의 양끝 부분은 서로 중첩시켜 형성하는 것이 바람직하다.In the color filter, stripe-shaped red (R), green (G), and blue (B) color filters are sequentially arranged, and both ends of the color filter are preferably overlapped with each other.

이때, 기둥 스페이서는 색 필터의 중첩된 양끝 부분의 상부에 형성하는 것이 바람직하다.At this time, the column spacer is preferably formed on the upper part of the overlapping both ends of the color filter.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치 및 그 색 필터 기판의 제조 방법에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Then, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention and the manufacturing method of the color filter substrate will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention. do.

먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 구조에 대하여 상세히 설명한다.First, the structure of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 2는 도 1에서 Ⅱ-Ⅱ' 선에 대한 단면도이다.1 is a layout view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 1.

우선, 액정 표시 장치의 "하부 기판"의 구조에 대하여 설명한다.First, the structure of the "lower board | substrate" of a liquid crystal display device is demonstrated.

도 1 및 도 2에서와 같이, 하부 기판에는 유리 등의 투명한 절연 기판(10) 위에 알루미늄(Al) 또는 알루미늄 합금(Al alloy), 몰리브덴(Mo) 또는 몰리브덴-텅스텐 합금(MoW), 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 등의 금속 또는 도전체로 이루어진 게이트 배선(22, 25)이 형성되어 있다. 게이트 배선은 가로 방향으로 뻗어 있으며 외부로부터 주사 신호를 인가받는 게이트선(22), 게이트선(22)의 일부인 게이트 전극(25)을 포함한다.1 and 2, the lower substrate includes aluminum (Al) or aluminum alloy, molybdenum (Mo) or molybdenum-tungsten alloy (MoW), chromium (Cr) on a transparent insulating substrate 10 such as glass. ) And gate wirings 22 and 25 made of a metal or a conductor such as tantalum (Ta) are formed. The gate wiring includes a gate line 22 extending in the horizontal direction and receiving a scan signal from the outside, and a gate electrode 25 that is a part of the gate line 22.

게이트 배선(22, 25)은 단일층으로 형성할 수도 있지만, 이중층이나 삼중층으로 형성할 수도 있다. 이중층 이상으로 형성하는 경우에는 한 층은 저항이 작은 물질로 형성하고 다른 층은 다른 물질과의 접촉 특성이 좋은 물질로 만드는 것이 바람직하며, 그 예로 Cr/Al(또는 Al 합금)의 이중층 또는 Al/Mo의 이중층을 들 수 있다.The gate wirings 22 and 25 may be formed in a single layer, but may be formed in a double layer or a triple layer. In the case of forming more than two layers, it is preferable that one layer is made of a material having a low resistance and the other layer is made of a material having good contact properties with other materials. For example, a double layer of Cr / Al (or an Al alloy) or Al / A bilayer of Mo can be mentioned.

게이트 배선(22, 25) 위에는 질화 규소(SiNX) 따위로 이루어진 게이트 절연막(30)이 형성되어 있다.A gate insulating film 30 made of silicon nitride (SiN X ) is formed on the gate wires 22 and 25.

게이트 절연막(30) 위에는 비정질 규소 따위의 반도체로 이루어진 반도체층 (42)이 섬 모양으로 형성되어 있으며, 반도체층(42) 위에는 인(P)과 같은 n형 불순물이 도핑되어 있는 비정질 규소 따위의 반도체로 이루어진 저항성 접촉층(55, 56)이 게이트 전극(25)을 중심으로 양쪽으로 분리되어 형성되어 있다.A semiconductor layer 42 made of a semiconductor such as amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 30, and a semiconductor such as amorphous silicon doped with n-type impurities such as phosphorus (P) is formed on the semiconductor layer 42. The ohmic contacts 55 and 56 may be formed on both sides of the gate electrode 25.

저항성 접촉층(55, 56) 위에는 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 몰리브덴 또는 몰리브덴-텅스텐 합금, 크롬, 탄탈륨 등의 금속 또는 도전체로 이루어진 데이터 배선(62, 65, 66)이 형성되어 있다. 데이터 배선은 세로 방향으로 뻗어 있으며 외부로부터 화상 신호를 인가받는 데이터선(62), 데이터선(62)의 일부인 소스 전극 (65), 게이트 전극(25)을 중심으로 소스 전극(65)과 마주하는 드레인 전극(66)을 포함한다.On the ohmic contacts 55 and 56, data lines 62, 65 and 66 made of a metal or a conductor such as aluminum or an aluminum alloy, molybdenum or molybdenum-tungsten alloy, chromium and tantalum are formed. The data line extends in the vertical direction and faces the source electrode 65 centering on the data line 62 to which an image signal is applied from the outside, the source electrode 65 which is a part of the data line 62, and the gate electrode 25. And a drain electrode 66.

데이터 배선(62, 65, 66)도 게이트 배선(22, 26)과 마찬가지로 단일층으로형성될 수 있지만, 이중층이나 삼중층으로 형성될 수도 있다. 이중층 이상으로 형성하는 경우에는 한 층은 저항이 작은 물질로 형성하고 다른 층은 다른 물질과의 접촉 특성이 좋은 물질로 형성하는 것이 바람직하다.The data lines 62, 65, and 66 may be formed in a single layer like the gate lines 22 and 26, but may be formed in a double layer or a triple layer. In the case of forming more than two layers, it is preferable that one layer is formed of a material having a low resistance and the other layer is formed of a material having good contact properties with other materials.

데이터 배선(62, 65, 66) 및 게이트 절연막(30) 위에는 질화 규소로 이루어진 보호막(90)이 형성되어 있다. 보호막(90)은 드레인 전극(66)을 드러내는 접촉 구멍(92)을 가지고 있다.A protective film 90 made of silicon nitride is formed on the data lines 62, 65, 66 and the gate insulating film 30. The protective film 90 has a contact hole 92 exposing the drain electrode 66.

보호막(90) 위에는 게이트선 및 데이터선으로 구분되는 화소 영역에 ITO(indium tin oxde) 또는 IZO(indium zinc oxide)와 같은 투명 도전막으로 이루어진 화소 전극(102)이 형성되어 있다.On the passivation layer 90, a pixel electrode 102 made of a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is formed in a pixel area divided into a gate line and a data line.

화소 전극(102)은 접촉 구멍(92)을 통하여 드레인 전극(66)과 연결되어 화상 신호를 전달받는다.The pixel electrode 102 is connected to the drain electrode 66 through the contact hole 92 to receive an image signal.

다음은, 이러한 구조를 가지는 액정 표시 장치용 "하부 기판"에 대향하고 있는 액정 표시 장치용 "상부 기판"의 구조에 대하여 설명한다.Next, the structure of the "upper board | substrate" for liquid crystal display devices which opposes the "lower board | substrate" for liquid crystal display devices which have such a structure is demonstrated.

도 1 및 도 2에서와 같이, 상부 기판에는 유리 등의 투명한 절연 기판(100)위에 상기 "하부 기판"에서 게이트선(22) 및 데이터선(62)의 교차로 정의되는 매트릭스 형태의 화소 영역에 대응하여 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터(200)가 순차적으로 배열되어 있다. 이때, 화소 영역마다 순차적으로 배열된 색 필터(200)는 각각 이웃하는 화소 영역의 색 필터(200)와 가장자리 부분이 서로 중첩되어 있다. 이는, 화소 사이에서 불필요하게 누설되는 빛을 차단하기 위한 것으로, 이렇게 함으로써 색 필터(200)가 중첩된 부분에는 블랙 매트릭스를 따로 형성하지 않을 수있다.1 and 2, the upper substrate corresponds to a pixel region in the form of a matrix defined by the intersection of the gate line 22 and the data line 62 in the "lower substrate" on a transparent insulating substrate 100 such as glass. The color filters 200 of red (R), green (G), and blue (B) are sequentially arranged. In this case, in the color filters 200 sequentially arranged for each pixel region, the color filters 200 and the edges of neighboring pixel regions overlap with each other. This is to block unnecessarily leakage of light between the pixels. In this way, the black matrix may not be separately formed at the overlapped portion of the color filter 200.

즉, 이웃하는 색 필터(200)의 두 가장자리부가 중첩하고 있어 화소 영역 사이에서 색 필터(200)는 두 가지의 색이 서로 중첩하기 때문에 이 부분을 통과하는 빛의 대부분을 흡수 또는 차단하여 광차단막으로서의 기능을 할 수 있다.That is, since two edge portions of neighboring color filters 200 overlap each other, the color filter 200 absorbs or blocks most of the light passing through the portions because the two colors overlap each other. Can function as

여기서, 색 필터(200)는 화소 열마다 선형으로 형성되어 있지만, 그렇지 않을 수도 있다.Here, the color filter 200 is linearly formed for each pixel column, but may not be.

또한, 기판의 상부에는 평탄화된 보호막(300)이 형성되어 색 필터(200)를 덮고 있으며 색 필터(200)가 중첩된 화소 영역 사이에는 색 필터(200)가 중첩되지 않은 부분보다 돌출되어 보호막(300)과 같은 재질로 이루어진 기둥 스페이서(350)가 형성되어 있다.In addition, a planarization passivation layer 300 is formed on the substrate to cover the color filter 200, and the color filter 200 protrudes from the non-overlapping portion between pixel regions where the color filter 200 is overlapped to form a passivation layer ( A pillar spacer 350 made of the same material as 300 is formed.

구체적으로, 색 필터(200) 상부에는 색 필터(200)의 층 전체를 평탄화하는 보호막(300)이 형성되어 있으며, 색 필터(200)가 중첩되어 있는 화소 경계의 상부는 보호막(300)과 같은 재질로 기둥 스페이서(350)가 형성되어 있다. 이때, 기둥 스페이서(350)는 색 필터(200)가 중첩된 부분을 따라 선형으로 형성되어 있다. 본 발명의 실시예에서는 기둥 스페이서(350)가 선형으로 형성되어 있으나 일정한 간격을 두고 도트형으로 형성될 수 있다.Specifically, a passivation layer 300 is formed on the color filter 200 to planarize the entire layer of the color filter 200. An upper portion of the pixel boundary where the color filter 200 overlaps is formed as the passivation layer 300. The pillar spacer 350 is formed of a material. In this case, the column spacer 350 is linearly formed along the overlapped portion of the color filter 200. In the embodiment of the present invention, the pillar spacer 350 is formed in a linear shape, but may be formed in a dot shape at regular intervals.

여기서, 보호막의 두께는 0.8㎛~1.5㎛로 형성되고, 기둥 스페이서는 2.5㎛~3.5㎛의 두께로 형성된 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the thickness of a protective film is formed in 0.8 micrometer-1.5 micrometers, and the pillar spacer is formed in the thickness of 2.5 micrometers-3.5 micrometers.

보호막(300) 및 기둥 스페이서(350)의 상부에는 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전막으로 이루어진 공통 전극(400)이 형성되어 있다.A common electrode 400 made of a transparent conductive film such as ITO or IZO is formed on the passivation layer 300 and the pillar spacer 350.

한편, 본 발명의 실시예에서는 도시하지 않았지만, "상부 기판"의 공통 전극(400)에는 개구 패턴 또는 돌기 패턴이 형성되고, 상기 "하부 기판"의 화소 전극(102)에도 개구 패턴 또는 돌기 패턴이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 "상부 기판" 과 "하부 기판" 사이에는 액정이 수직 방향으로 배향되어 있으며, 상기 개구 패턴 또는 돌기 패턴은 수직 방향으로 배향된 액정의 기울어짐을 제어하는 역할을 하여 광시야각을 구현한다.On the other hand, although not shown in the embodiment of the present invention, the opening pattern or the projection pattern is formed in the common electrode 400 of the "upper substrate", and the opening pattern or the projection pattern is also formed in the pixel electrode 102 of the "lower substrate". It is preferable that it is formed. The liquid crystal is aligned in the vertical direction between the “upper substrate” and the “lower substrate”, and the opening pattern or the projection pattern serves to control the inclination of the liquid crystal oriented in the vertical direction to implement a wide viewing angle.

또한, 상기 액정은 꼬여서 배향되어 있고, 그 꼬인 각도가 80˚~ 100˚사이의 값을 가지거나 250˚~ 300˚도 사이의 값을 가질 수 있다.In addition, the liquid crystal is twisted and aligned, and the twist angle may have a value between 80 ° and 100 °, or a value between 250 ° and 300 °.

다음은 도 3 내지 도 4를 참고로 하여, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 색 필터 기판의 제조방법을 설명한다.Next, a method of manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 4.

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 액정 표시 장치용 색 필터 기판을 제조하는 첫 단계에서의 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이고, 도 4는 도 3 다음 단계에서의 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이고, 도 5는 완성된 색 필터 기판의 단면을 나타내는 도이다.3 is a view showing a cross section of the color filter substrate in the first step of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view of the color filter substrate in the next step of FIG. 5 is a diagram showing a cross section of the completed color filter substrate.

도 3에서와 같이, 유리 등으로 이루어진 투명한 기판(100) 위에 색 필터(200)를 형성한다.As shown in FIG. 3, the color filter 200 is formed on the transparent substrate 100 made of glass or the like.

색 필터(200)를 형성하는 과정은 다음과 같다.The process of forming the color filter 200 is as follows.

먼저, 투명한 기판(100) 위에 적색 필터 형성용 적색 감광성 유기막을 도포한 후 마스크를 사용하여 노광하고 현상하여 적색 필터(R)를 형성한다.First, a red photosensitive organic film for forming a red filter is coated on the transparent substrate 100, and then exposed and developed using a mask to form a red filter R.

다음, 적색 필터(R)가 형성된 기판 전면에 녹색의 감광성 유기막을 도포하고마스크를 사용한 사진 공정으로 녹색 필터(G)를 형성한다.Next, a green photosensitive organic film is coated on the entire surface of the substrate on which the red filter R is formed, and the green filter G is formed by a photographic process using a mask.

다음, 적색 및 녹색 필터(R, G)가 형성된 기판 전면에 청색의 감광성 유기막을 도포하여 마스크를 사용한 사진 공정으로 청색 필터(B)를 형성한다.Next, a blue photosensitive organic film is coated on the entire surface of the substrate on which the red and green filters R and G are formed to form a blue filter B by a photo process using a mask.

상기와 같이, 색 필터(200)는 화소 열마다 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터(200)가 순차적으로 배열되도록 하고, 이때, 각 화소 열의 이웃하는 색 필터(200)의 양끝 부분이 서로 중첩되도록 한다. 따라서, 각 화소 열의 경계 부분에서 양끝이 중첩되어 형성된 색 필터(200)는 빛 투과를 막아주는 역할을 하므로, 이 부분에는 따로 블랙 매트릭스를 형성할 필요는 없다.As described above, the color filter 200 arranges the red (R), green (G), and blue (B) color filters 200 in sequence for each pixel column. In this case, the neighboring color filters of each pixel column ( Both ends of 200) overlap each other. Therefore, since the color filter 200 formed by overlapping both ends at the boundary portion of each pixel column prevents light transmission, it is not necessary to form a black matrix separately.

다음, 도 4에서와 같이, 색 필터(200) 위에 보호막(300) 및 기둥 스페이서 (350)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 4, the passivation layer 300 and the pillar spacer 350 are formed on the color filter 200.

구체적으로, 네가티브(negative) 또는 포지티브(positive) 감광 수지인 고분자 재료를 적층하고, 하나의 마스크를 사용하여 한번의 사진 공정으로 보호막(300) 및 기둥 스페이서(350)를 동시에 형성한다.Specifically, the polymer material which is a negative or positive photosensitive resin is laminated, and the protective film 300 and the pillar spacers 350 are simultaneously formed in one photo process using one mask.

이때, 색 필터의 양끝 부분이 중첩되어 돌출된 부분에 기둥 스페이서(350)를 형성하고 나머지 보호막(300)은 평탄하도록 형성한다.At this time, both ends of the color filter are overlapped to form the pillar spacer 350 in the protruding portion, and the remaining passivation layer 300 is formed to be flat.

이와 같이, 부분적으로 다른 두께를 가지는 보호막(300) 및 기둥 스페이서(350)는 부분적으로 다른 투과율을 가지는 마스크를 이용하여 동시에 형성하는데, 그 원리는 다음과 같다.As described above, the passivation layer 300 and the pillar spacers 350 having partially different thicknesses are simultaneously formed using masks having partially different transmittances. The principle is as follows.

빛 투과량을 조절하기 위하여 주로 슬릿(slit)이나 격자 형태의 패턴, 혹은 반투명막이 있는 마스크를 사용한다. 이때, 슬릿 사이에 위치한 패턴의 선 폭이나패턴 사이의 간격, 즉 슬릿의 폭은 노광시 사용하는 노광기의 분해능보다 작은 것이 바람직하며, 반투명막을 이용하는 경우에는 마스크를 제작할 때 투과율을 조절하기 위하여 다른 투과율을 가지는 박막을 이용하거나 두께가 다른 박막을 이용할 수 있다.In order to control the light transmission, a slit or lattice pattern or a mask with a translucent film is used. In this case, the line width of the pattern or the interval between the patterns, that is, the width of the slit, is preferably smaller than the resolution of the exposure machine used for exposure. A thin film having a thickness or a thin film may be used.

이와 같은 마스크를 통하여 감광 수지에 빛을 조사하면 감광 수지가 포지티브(positive)일 경우, 빛에 직접 노출되는 부분에서는 고분자들이 완전히 분해되며, 슬릿 패턴이나 반투명막에 대응되는 부분에서는 빛의 조사량이 적으므로 고분자들은 완전 분해되지 않은 상태이며, 차광막으로 가려진 부분에서는 고분자가 거의 분해되지 않는다.When the photoresist is irradiated with light through such a mask, when the photoresist is positive, the polymers are completely decomposed at the portion directly exposed to the light, and the amount of light is less at the portion corresponding to the slit pattern or the translucent film. Therefore, the polymers are not completely decomposed, and the polymers are hardly decomposed at the part covered by the light shielding film.

이와 같이 선택 노광된 감광 수지를 현상하면, 고분자들이 분해되지 않은 부분만이 남고, 빛이 적게 조사된 부분에는 빛에 전혀 조사되지 않은 부분보다 얇은 두께의 감광 수지가 남는다.When developing the photosensitive resin selectively exposed in this manner, only the portions where the polymers are not decomposed remain, and the photosensitive resin having a thickness thinner than the portion not irradiated with light is left in the portion where the light is not irradiated.

이와 같은 방법으로 형성하는 보호막(300) 및 기둥 스페이서(350)의 두께는 각각 1㎛, 3㎛ 정도가 바람직하다.As for the thickness of the protective film 300 and the pillar spacer 350 formed by such a method, 1 micrometer and 3 micrometers are preferable, respectively.

끝으로, 도 5에서와 같이 ITO 또는 IZO 등의 투명 도전막으로 공통전극을 형성하여 색 필터 기판을 완성한다.Finally, as shown in FIG. 5, the common electrode is formed of a transparent conductive film such as ITO or IZO to complete the color filter substrate.

따라서, 같은 재질의 보호막(300) 및 기둥 스페이서(350)를 부분적으로 다른 투과율을 가지는 마스크를 이용하여 동시에 형성할 수 있으며, 이로써 공정 과정을 단순화 할 수 있다.Accordingly, the protective film 300 and the pillar spacer 350 of the same material may be simultaneously formed using a mask having a partially different transmittance, thereby simplifying the process.

본 발명에서와 같이, 기둥 스페이서로 셀갭을 일정히 유지하여 얼룩 발생을 최소화 할 수 있으며 또한, 색 필터의 평탄화를 위한 보호막과 기둥 스페이서를 하나의 마스크로 동시에 형성하여 공정과정을 줄일 수 있고, 따라서 생산성을 증대시킬 수 있다.As in the present invention, it is possible to minimize the occurrence of stains by maintaining a constant cell gap with the column spacer, and also to reduce the process by forming a protective film and the column spacer for the flattening of the color filter as one mask at the same time, Productivity can be increased.

Claims (15)

제1 절연 기판,First insulating substrate, 상기 제1 기판의 내면과 마주하는 내면을 가지며 상기 제1 기판과 결합되어 있는 제2 절연 기판,A second insulating substrate having an inner surface facing the inner surface of the first substrate and coupled to the first substrate, 상기 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며, 매트릭스 형태의 화소 영역을 구획하는 다수의 배선,A plurality of wirings formed on an inner surface of the first substrate and partitioning pixel regions in a matrix form; 상기 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며 상기 배선과 연결되어 있는 다수의 스위칭 소자,A plurality of switching elements formed on an inner surface of the first substrate and connected to the wires; 상기 제1 기판의 내면에 형성되어 있으며 상기 스위칭 소자와 연결되어 있는 다수의 화소 전극,A plurality of pixel electrodes formed on an inner surface of the first substrate and connected to the switching elements; 상기 화소 영역의 상기 제2 기판 내면에 순차적으로 형성되어 있는 색 필터,A color filter sequentially formed on an inner surface of the second substrate of the pixel region; 상기 제2 기판 내면의 상기 색 필터를 덮고 있으며 평탄화되어 있는 보호막,A protective film covering and covering the color filter on the inner surface of the second substrate, 상기 보호막과 일체로 형성되어 있으며, 상기 화소 영역 사이에 배치되고 상기 보호막보다 두꺼운 두께로 형성되어 상기 제1 및 제2 기판의 간격을 지지하는 다수의 기둥 스페이서A plurality of pillar spacers formed integrally with the passivation layer and disposed between the pixel areas and formed to a thickness thicker than the passivation layer to support the gap between the first and second substrates. 를 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display comprising a. 제1항에서,In claim 1, 상기 제2 기판 내면의 상기 보호막 위에 형성되어 있는 공통 전극을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a common electrode formed on the passivation layer on the inner surface of the second substrate. 제2항에서,In claim 2, 상기 화소 전극 및 상기 공통 전극에는 개구 또는 돌기 형태의 패턴이 형성된 액정 표시 장치.The pixel electrode and the common electrode have an opening or a projection pattern formed therein. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 수직 방향으로 배항된 액정을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a liquid crystal circulated in the vertical direction between the first and second substrates. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 더 포함하며, 상기 액정은 상하 기판 사이에서 꼬여서 배향되고 그 꼬인 각도가 80˚~ 100˚사이의 값을 가지는 액정 표시 장치.The liquid crystal display further comprises a liquid crystal between the first and second substrates, wherein the liquid crystal is twisted and oriented between the upper and lower substrates, and the twist angle is between 80 ° and 100 °. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 더 포함하며, 상기 액정은 상하 기판 사이에서 꼬여서 배향되고 그 꼬인 각도가 250˚~ 300˚사이의 값을 가지는 액정 표시 장치.The liquid crystal display further comprises a liquid crystal between the first and second substrates, wherein the liquid crystal is twisted and oriented between the upper and lower substrates, and the twist angle is between 250 ° and 300 °. 절연 기판,Insulation board, 상기 절연 기판 내면에 형성되어 있는 색 필터,A color filter formed on an inner surface of the insulating substrate, 상기 절연 기판 내면의 상기 색 필터를 덮고 있으며 평탄화되어 있는 보호막,A protective film covering and covering the color filter on the inner surface of the insulating substrate, 상기 보호막과 일체로 형성되어 있으며, 상기 보호막보다 두꺼운 두께로 형성된 다수의 기둥 스페이서,Is formed integrally with the protective film, a plurality of pillar spacers formed of a thicker than the protective film, 상기 보호막 및 상기 기둥 스페이서 위에 전체적으로 형성되어 있는 공통 전극A common electrode formed entirely on the passivation layer and the pillar spacer; 을 포함하는 색 필터 기판.Color filter substrate comprising a. 제7항에서,In claim 7, 상기 색 필터는 다수의 화소 영역의 화소 열마다 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터가 순차적으로 배열되며, 상기 색 필터의 양끝 부분은 각각 이웃하는 상기 화소 열마다 서로 중첩되어 형성된 색 필터 기판.In the color filter, red (R), green (G), and blue (B) color filters are sequentially arranged for each pixel column of a plurality of pixel regions, and both ends of the color filter are each adjacent to each of the neighboring pixel columns. Color filter substrate formed by overlapping. 제8항에서,In claim 8, 상기 색 필터의 상기 중첩된 양끝 부분의 상부에는 상기 보호막과 같은 재질의 기둥 스페이서가 형성된 색 필터 기판.And a column spacer formed of the same material as the passivation layer on an upper portion of the overlapping both ends of the color filter. 제7항 또는 제9항에서,The method of claim 7 or 9, 상기 기둥 스페이서는 선형으로 형성된 색 필터 기판.The pillar spacers are linearly formed. 제7항, 9항 및 10항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 7, 9 and 10, 상기 보호막의 두께는 0.8㎛~1.5㎛이고, 상기 기둥 스페이서의 두께는 2.5㎛~3.5㎛로 형성된 색 필터 기판.The thickness of the protective film is 0.8㎛ ~ 1.5㎛, the thickness of the pillar spacer is 2.5㎛ ~ 3.5㎛ formed color filter substrate. 액정 표시 장치용 색 필터 기판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the color filter substrate for liquid crystal display devices, 투명 기판위에 색 필터를 형성하는 단계;Forming a color filter on the transparent substrate; 상기 색 필터 상부에 보호막 및 기둥 스페이서를 형성하는 단계;Forming a protective layer and a pillar spacer on the color filter; 상기 보호막 및 상기 기둥 스페이서 상부에 투명 도전물질로 이루어진 공통전극을 형성하는 단계를 포함하고,Forming a common electrode formed of a transparent conductive material on the passivation layer and the pillar spacer; 상기 보호막 및 상기 기둥 스페이서는 부분적으로 다른 투과율을 가지는 마스크를 이용하여 동시에 형성하는 색 필터 기판의 제조 방법.And said protective film and said pillar spacer are formed simultaneously using a mask having a partially different transmittance. 제12항에서,In claim 12, 상기 보호막 및 상기 기둥 스페이서는 네가티브(negative) 또는 포지티브 (positive)의 감광 수지를 이용하여 형성하는 색 필터 기판의 제조 방법.The protective film and the pillar spacers are formed using a negative or positive photosensitive resin. 제12항에서,In claim 12, 상기 색 필터는 스트라이프 형태의 적(R), 녹(G), 청(B)의 색 필터가 순차적으로 배열되며, 상기 색 필터의 양끝 부분은 서로 중첩시켜 형성하는 색 필터 기판의 제조 방법.The color filter is a stripe-shaped red (R), green (G), blue (B) color filters are arranged in sequence, and both ends of the color filter is formed by overlapping each other. 제14항에서,The method of claim 14, 상기 기둥 스페이서는 상기 색 필터의 상기 중첩된 양끝 부분의 상부에 형성하는 색 필터 기판의 제조 방법.The pillar spacer is formed on the upper portion of the overlapping both ends of the color filter manufacturing method of the color filter substrate.
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