KR20030039502A - Dual surface acoustic wave element - Google Patents
Dual surface acoustic wave element Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030039502A KR20030039502A KR1020010070441A KR20010070441A KR20030039502A KR 20030039502 A KR20030039502 A KR 20030039502A KR 1020010070441 A KR1020010070441 A KR 1020010070441A KR 20010070441 A KR20010070441 A KR 20010070441A KR 20030039502 A KR20030039502 A KR 20030039502A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- resonator
- surface acoustic
- acoustic wave
- substrate
- wave device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/10—Mounting in enclosures
- H03H9/1064—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices
- H03H9/1092—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a cover cap mounted on an element forming part of the surface acoustic wave [SAW] device on the side of the IDT's
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
Abstract
Description
본 발명은 듀얼 표면 탄성파 소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면 하나의 음향 트랙에 두 개의 표면 탄성파 소자가 형성된 경우, 각각의 소자에 의한표면 탄성파가 서로 간섭하지 않도록 한 듀얼 표면 탄성 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a dual surface acoustic wave device, and more particularly, to a dual surface acoustic device in which two surface acoustic wave devices are formed in one acoustic track so that surface acoustic waves by each device do not interfere with each other. .
일반적으로 표면 탄성파 소자는 전자 신호 처리를 위해서 탄성 고체의 표면 상에서 전파되는 웨이브(Wave)를 사용한다. 이러한 표면 탄성파 소자는 빛의 속도로 진행하는 전자기파를 빛의 속도보다 작은 속도로 진행하는 음향파로 변환하여 처리하는 특성을 갖는다. 이러한 특성으로 인하여 전통적인 회로 설계에서 요구되는 공간보다 현저하게 작은 공간에서 소정의 복잡한 신호 처리 기능을 구현할 수 있다. 따라서, 복잡한 신호 처리 기능을 다루도록 설계된 표면 탄성파 소자는 다른 기술들에 비해서 상당한 가격 및 크기상의 장점을 제공할 수 있다. 이러한 표면 탄성파 소자 기술은 필터, 공진기, 발진기, 지연선 및 다른 유사한 소자 등의 응용 분야에서 수요가 증가하고 있다.Generally, surface acoustic wave devices use waves that propagate on the surface of an elastic solid for electronic signal processing. The surface acoustic wave device has a characteristic of converting and processing electromagnetic waves traveling at a speed of light into acoustic waves traveling at a speed smaller than that of light. This feature enables some complex signal processing functions to be implemented in spaces significantly smaller than those required in traditional circuit designs. Thus, surface acoustic wave devices designed to handle complex signal processing functions can provide significant cost and size advantages over other technologies. Such surface acoustic wave device technology is increasing in applications such as filters, resonators, oscillators, delay lines and other similar devices.
상기 표면 탄성파 소자는 통상 압전특성을 갖는 섭스트레이트 상에서 구현되며 음파(이하, 표면 탄성파로 지칭함)를 발생시키고 검출하기 위해 섭스트레이트의 표면상에 배치된 IDT를 사용한다. 상기 섭스트레이트 상의 IDT의 구조(Geometry)(폭, 피치, 개수)는 표면 탄성파 소자의 주파수 응답 및 신호처리 특성에 중요한 역할을 한다.The surface acoustic wave device is usually implemented on a substrate having piezoelectric properties and uses an IDT disposed on the surface of the substrate to generate and detect sound waves (hereinafter referred to as surface acoustic waves). The geometry (width, pitch, number) of IDT on the substrate plays an important role in the frequency response and signal processing characteristics of the surface acoustic wave elements.
또한, 이러한 표면 탄성파 소자는 하나의 섭스트레이트 상에서 독립적으로 작동하도록 다수개가 형성될 수 있다. 예를 들면, 도1에 도시된 바와 같이 듀얼형으로 형성될 수 있으며, 이를 참조하여 종래의 듀얼형 표면 탄성 소자(100')를 설명하면 다음과 같다.In addition, a plurality of such surface acoustic wave elements may be formed to operate independently on one substrate. For example, as shown in FIG. 1, it may be formed in a dual type, and the conventional dual type surface elastic element 100 ′ will be described with reference to the following.
도시된 바와 같이 압전특성을 갖는 대략 판상의 섭스트레이트(19')가 구비되어 있다. 상기 섭스트레이트(19')의 일측에는 상호 일정거리 이격된 채 수평하게 연장된 전극라인(11')이 형성되어 있고, 상기 각 전극라인(11')으로부터는 다수의 IDT(12')가 연장되어 형성되어 있다. 또한, 상기 전극라인(11')의 양측에는 상기 섭스트레이트(19') 및 IDT(12')로부터 발생된 중심주파수가 공진(또는 반사)될 수 있도록 리플렉터(15')가 형성되어 있다. 상기 리플렉터(15')는 통상 1/2 파장(λ)의 정수배 거리만큼 이격되어 있다. 더불어, 상기 전극라인(11')에는 라인(13')이 각각 연결되어 외부 전기 신호원(14')에 연결되어 있다. 여기서, 이러한 구조를 제1공진부(10')로 정의하며, 상기 제1공진부(10')와 같은 음향 트랙에는 또다른 제2공진부(20')가 형성될 수 있다. 즉, 듀얼형 표면 탄성 소자(100')를 구성할 수 있다. 이러한 종래 표면 탄성파 소자(100')는 상기 제1공진부(10') 및 제2공진부(20')의 중심 주파수가 상호 다르게 동작될 수 있는 특성을 갖는다.As shown, a substantially plate-shaped substrate 19 'having piezoelectric properties is provided. One side of the substrate 19 ′ is formed with electrode lines 11 ′ extending horizontally at a predetermined distance from each other, and a plurality of IDTs 12 ′ extend from the electrode lines 11 ′. It is formed. In addition, reflectors 15 'are formed at both sides of the electrode line 11' such that the center frequency generated from the substrate 19 'and the IDT 12' can be resonated (or reflected). The reflectors 15 'are usually spaced apart by an integer multiple of one-half wavelength [lambda]. In addition, lines 13 'are connected to the electrode line 11', respectively, and are connected to an external electric signal source 14 '. The structure may be defined as a first resonator 10 ', and another second resonator 20' may be formed on an acoustic track such as the first resonator 10 '. That is, the dual surface elastic element 100 'can be configured. The conventional surface acoustic wave device 100 'has a characteristic that the center frequencies of the first resonator 10' and the second resonator 20 'may be operated differently from each other.
즉, 제1공진부(10') 및 제2공진부(20')에 형성된 IDT(12') 및/또는 리플렉터(15')의 폭, 피치 또는 간격 등을 각각 다르게 형성함으로써, 서로 다른 중심 주파수를 갖는 두 개의 탄성 소자(100')를 하나의 섭스트레이트(19')에 구비할 수 있다.That is, by forming different widths, pitches or spacings of the IDT 12 'and / or the reflector 15' formed in the first resonator 10 'and the second resonator 20', the centers are different from each other. Two elastic elements 100 'having a frequency may be provided in one substrate 19'.
상기 제1공진부(10') 또는 제2공진부(20')의 작동예는 주지된 바와 같이 외부 전기 신호원(14')으로부터 라인(13')을 따라 각 전극라인(11')에 소정의 전기적 신호가 인가되면, 상기 IDT(12') 및 섭스트레이트(19')의 상호 작용에 의해 소정의 전자기파 신호가 표면 탄성파 신호로 변환된다. 이러한 표면 탄성파 신호는 상기 리플렉터(15')에 의해 결국 정지파(Standing Wave)를 형성하게 되며, 따라서, 이러한 제1공진부(10') 및 제2공진부(20')는 오실레이터 또는 필터 응융분야에 높은 Q(공진의 예민도, Q값이 높을수록 전파를 분리하는 능력이 강함) 값을 갖는 소자(100')로서 사용될 수 있는 것이다.An example of the operation of the first resonator 10 'or the second resonator 20' is known from the external electrical signal source 14 'to each electrode line 11' along the line 13 '. When a predetermined electrical signal is applied, the predetermined electromagnetic wave signal is converted into a surface acoustic wave signal by the interaction of the IDT 12 'and the substrate 19'. This surface acoustic wave signal eventually forms a standing wave by the reflector 15 ', and thus, the first resonator 10' and the second resonator 20 'are formed by oscillator or filter coalescence. It can be used as an element 100 'having a high Q (a sensitivity of resonance, the higher the Q value, the stronger the ability to separate radio waves).
그러나, 이러한 종래의 듀얼형 표면 탄성 소자(100')는 동일한 음향 트랙에 제1공진부(10') 및 제2공진부(20')가 형성됨으로써, 상기 제1공진부(10') 및 제2공진부(20')로부터의 표면 탄성파가 상호 간섭되는 단점이 있다. 비록, 각각의 공진부에 리플렉터(15')가 형성되어 있기는 하나, 미소한 표면 탄성파가 각각의 공진부를 벗어나서 인접한 다른 공진부에 영향을 미치기 때문이며, 이러한 현상으로 인하여 각 공진부의 특성이 저하되는 단점이 있다.However, the conventional dual surface elastic element 100 ′ is formed with the first resonator 10 ′ and the second resonator 20 ′ on the same sound track, so that the first resonator 10 ′ and Surface acoustic waves from the second resonator 20 'have a disadvantage of mutual interference. Although the reflector 15 'is formed in each of the resonators, a small surface acoustic wave affects the other resonators adjacent to the other resonators, which causes the characteristics of each resonator to deteriorate. There are disadvantages.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 하나의 음향 트랙에 두 개의 표면 탄성파 소자가 형성된 경우, 각각의 소자에 의한 표면 탄성파가 서로 간섭하지 않도록 한 듀얼 표면 탄성 소자를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and when two surface acoustic wave elements are formed in one acoustic track, a dual surface elastic element which prevents surface acoustic waves by each element from interfering with each other. To provide.
도1은 종래의 듀얼 표면 탄성파 소자를 도시한 평면도이다.1 is a plan view showing a conventional dual surface acoustic wave device.
도2a는 본 발명에 의한 듀얼 표면 탄성파 소자를 도시한 평면도이고, 도2b는 도2a의 I-I선 단면도이다.FIG. 2A is a plan view showing a dual surface acoustic wave device according to the present invention, and FIG. 2B is a sectional view taken along line II of FIG. 2A.
- 도면중 주요 부호에 대한 설명 --Description of the main symbols in the drawings-
100; 본 발명에 의한 표면 탄성파 소자100; Surface acoustic wave device according to the present invention
10; 제1공진부20; 제2공진부10; First resonator 20; 2nd resonance part
11; 전극라인11; Electrode line
12; IDT(interdigital Transducer)12; Interdigital Transducer (IDT)
13; 라인14; 외부 전기 신호원13; Line 14; External electrical signal source
15; 리플렉터17; 탄성파 진행 방지홈15; Reflector 17; Seismic Progression Groove
19; 섭스트레이트(Substrate)19; Substrate
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 압전특성을 갖는 대략 판상의 섭스트레이트와, 상기 섭스트레이트의 상면에 다수의 IDT(Interdigital Transducer)가 형성되고, 상기 IDT의 양측부에는 리플렉터가 형성되어 있는 제1공진부와, 상기 제1공진부와 동일한 음향트랙에 다수의 IDT가 형성되고, 상기 IDT의 양측부에는 리플렉터가 형성되어 있는 제2공진부로 이루어진 표면 탄성파 소자에 있어서, 상기제1공진부와 상기 제2공진부 사이의 섭스트레이트 상면에는 일정깊이의 탄성파 진행 방지홈이 형성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substantially plate-shaped substrate having piezoelectric properties, and a plurality of IDTs are formed on the upper surface of the substrate, and reflectors are formed on both sides of the IDT. A surface acoustic wave device comprising a first resonator and a second resonator having a plurality of IDTs formed on the same sound track as the first resonator, and reflectors formed on both sides of the IDT. A seismic wave progress prevention groove having a predetermined depth is formed on the upper substrate between the second resonators.
여기서, 상기 탄성파 진행 방지홈의 깊이는 제1공진부 및 제2공진부에서 발생하는 공진 주파수의 파장(λ)보다 깊게 형성됨이 바람직하다.Here, the depth of the elastic wave traveling prevention groove is preferably formed deeper than the wavelength (λ) of the resonance frequency generated in the first resonator and the second resonator.
상기와 같이 하여 본 발명에 의한 듀얼 표면 탄성 소자에 의하면, 제1공진부와 제2공진부에서 발생되는 공진 주파수의 파장보다 큰 깊이의 탄성파 진행 방지홈이 형성됨으로써, 각 공진부에서 발생하는 표면 탄성파에 의한 간섭 현상을 방지할 수 있게 된다.According to the dual surface elastic element according to the present invention as described above, the surface of the acoustic wave propagation preventing grooves having a depth larger than the wavelength of the resonance frequency generated in the first resonance portion and the second resonance portion is formed, the surface generated in each resonance portion It is possible to prevent the interference phenomenon caused by the acoustic wave.
이하 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings such that those skilled in the art can easily implement the present invention.
도2a는 본 발명에 의한 듀얼 표면 탄성파 소자(100)를 도시한 평면도이고, 도2b는 도2a의 I-I선 단면도이다.FIG. 2A is a plan view showing a dual surface acoustic wave device 100 according to the present invention, and FIG. 2B is a sectional view taken along line II of FIG. 2A.
압전특성을 갖는 대략 판상의 섭스트레이트(19)가 구비되어 있다. 상기 섭스트레이트(19)는 주지된 바와 같이 압전특성을 갖는 석영(Quartz), LaTiO3, LaNbO3, ZnO 또는 이의 등가물중 어느 하나를 이용하여 형성할 수 있다.A substantially plate-shaped substratum 19 having piezoelectric properties is provided. The substrates 19 may be formed by using any one of quartz, piezoelectric, LaTiO 3 , LaNbO 3 , ZnO, or equivalent thereof having piezoelectric properties as is well known.
상기 섭스트레이트(19)의 일측에는 상호 일정거리 이격된 채 수평하게 연장된 전극라인(11)이 형성되어 있고, 상기 각 전극라인(11)으로부터는 다수의 IDT(12)가 상,하 방향으로 연장되어 있다.On one side of the substrate 19, electrode lines 11 extending horizontally are spaced apart from each other by a predetermined distance, and a plurality of IDTs 12 are formed from the electrode lines 11 in the up and down directions. It is extended.
상기 전극라인(11), IDT(12)는 주지된 바와 같이 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu)또는 이의 등가물중 어느 하나에 의해 형성될 수 있다.The electrode line 11 and the IDT 12 may be formed by any one of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), or an equivalent thereof.
또한, 상기 전극라인(11)의 양측에는 상기 섭스트레이트(19) 및 IDT(12)로부터 발생된 중심주파수가 공진(또는 반사)될 수 있도록 다수의 리플렉터(15)가 형성되어 있다. 상기 리플렉터(15)는 1/2파장의 정수배 거리만큼 상호 이격되어 있다.In addition, a plurality of reflectors 15 are formed at both sides of the electrode line 11 so that the center frequency generated from the substrate 19 and the IDT 12 can be resonated (or reflected). The reflectors 15 are spaced apart from each other by an integer multiple of 1/2 wavelength.
상기 리플렉터(15)는 주지된 바와 같이 도전성 박막 또는 절연성 박막으로 형성될 수 있다.As described above, the reflector 15 may be formed of a conductive thin film or an insulating thin film.
더불어, 상기 전극라인(11)에는 라인(13)이 각각 연결되어 외부 전기 신호원(14)에 연결되어 있다.In addition, lines 13 are respectively connected to the electrode line 11 to an external electric signal source 14.
이러한 구조는 상술한 바와같이 제1공진부(10)로 정의할 수 있으며, 상기 제1공진부(10)와 같은 음향트랙에는 또다른 제2공진부(20)가 형성되어 있다. 상기 제2공진부(20)의 구성은 상기 제1공진부(10)와 동일한 구성을 가지므로, 동일한 도면 부호로 표시되어 있으며, 더 이상의 설명은 생략한다.Such a structure may be defined as the first resonator 10 as described above, and another second resonator 20 is formed on an acoustic track such as the first resonator 10. Since the configuration of the second resonator 20 has the same configuration as that of the first resonator 10, the same reference numerals are used, and further description thereof will be omitted.
여기서, 상기 제1공진부(10)와 상기 제2공진부(20) 사이의 섭스트레이트(19) 상면에는 일정 깊이의 탄성파 진행 방지홈(17)이 형성되어 있다. 즉, 상기 제1공진부(10) 및 제2공진부(20)의 각 리플렉터(15)와 평행한 방향으로 일정 깊이의 탄성파 진행 방지홈(17)이 더 형성되어 있다. 이러한 탄성파 진행 방지홈(17)은 통상적인 에칭에 의해 형성 가능하다. 즉, 상기 탄성파 진행 방지홈(17)이 형성될 영역을 제외한 영역에 포토레지스트가 형성되도록 한후, 통상적인 웨트 에칭(Wet/Chemical etching) 또는 드라이 에칭(Dry Etching) 방법을 이용하여 일정 깊이의 섭스트레이트(19)를 제거한다.Here, an elastic wave propagation preventing groove 17 having a predetermined depth is formed on an upper surface of the substrate 19 between the first resonator 10 and the second resonator 20. That is, the elastic wave propagation preventing groove 17 having a predetermined depth is further formed in a direction parallel to each of the reflectors 15 of the first resonator 10 and the second resonator 20. The elastic wave propagation preventing groove 17 can be formed by a conventional etching. That is, after the photoresist is formed in a region other than the region where the acoustic wave progression preventing groove 17 is to be formed, a sub-level of a predetermined depth is performed using a conventional wet / chemical etching method or dry etching method. Remove straight 19.
또한, 상기한 탄성파 진행 방지홈(17)의 깊이는 제1공진부(10) 및 제2공진부(20)에서 발생하는 공진 주파수의 파장(λ)보다 깊게 형성되어 있다. 즉, 상기 제1공진부(10) 및 제2공진부(20)에서 발생 또는 전달되는 표면 탄성파는 상기 섭스트레이트(19)의 표면을 따라서 진행되고, 또한 그 진행 깊이는 상기 표면 탄성파의 파장 이상까지의 깊이로는 전달되지 않기 때문이다.In addition, the depth of the elastic wave propagation preventing groove 17 is formed deeper than the wavelength? Of the resonance frequency generated in the first resonator 10 and the second resonator 20. That is, surface acoustic waves generated or transmitted in the first resonator unit 10 and the second resonator unit 20 travel along the surface of the substrate 19, and the traveling depth is greater than or equal to the wavelength of the surface acoustic wave. Because it is not delivered to the depth to.
따라서, 상기 제1공진부(10) 및 제2공진부(20)에서 각각 발생 및 전달되는 표면 탄성파는 상호 간섭되지 않음으로써, 상기 제1공진부(10) 및 제2공진부(20)의 특성은 원래의 설계 특성대로 나타나게 된다.Therefore, the surface acoustic waves generated and transmitted in the first resonator 10 and the second resonator 20, respectively, do not interfere with each other, so that the first resonator 10 and the second resonator 20 The properties will appear as the original design features.
이상에서와 같이 본 발명은 비록 상기의 실시예에 한하여 설명하였지만 여기에만 한정되지 않으며, 본 발명의 범주 및 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지로 변형된 실시예도 가능할 것이다.As described above, although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited thereto, and various modified embodiments may be possible without departing from the scope and spirit of the present invention.
따라서, 본 발명에 의한 듀얼 표면 탄성 소자에 의하면, 제1공진부 및 제2공진부에서 발생되는 공진 주파수는 상호 간섭되지 않음으로써, 각 공진부의 특성이 저하되지 않는 효과가 있다.Therefore, according to the dual surface elastic element according to the present invention, the resonance frequencies generated in the first resonator unit and the second resonator unit do not interfere with each other, so that the characteristics of each resonator unit do not deteriorate.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010070441A KR20030039502A (en) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | Dual surface acoustic wave element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010070441A KR20030039502A (en) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | Dual surface acoustic wave element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030039502A true KR20030039502A (en) | 2003-05-22 |
Family
ID=29569200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020010070441A KR20030039502A (en) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | Dual surface acoustic wave element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20030039502A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113810017A (en) * | 2015-12-24 | 2021-12-17 | 株式会社村田制作所 | Elastic wave device |
-
2001
- 2001-11-13 KR KR1020010070441A patent/KR20030039502A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113810017A (en) * | 2015-12-24 | 2021-12-17 | 株式会社村田制作所 | Elastic wave device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101944722B1 (en) | Elastic wave device | |
US3961293A (en) | Multi-resonant surface wave resonator | |
KR100312001B1 (en) | Surface acoustic wave device | |
JP2703891B2 (en) | Surface acoustic wave filter | |
JP6284800B2 (en) | Surface acoustic wave device and filter | |
KR19990013644A (en) | Surface acoustic wave device | |
KR19980070645A (en) | Surface acoustic wave filter | |
JPH0559609B1 (en) | ||
KR0155437B1 (en) | End face reflection type surface wave resonator | |
JP6935220B2 (en) | Elastic wave elements, filters and multiplexers | |
KR100652985B1 (en) | Surface acoustic wave element | |
JP2000183681A (en) | Surface acoustic wave device | |
KR100889231B1 (en) | Boundary acoustic wave device | |
JP2005260484A (en) | Piezoelectric resonator and electronic component equipped with the same | |
KR20030039502A (en) | Dual surface acoustic wave element | |
WO2022204876A1 (en) | Resonator, filter, and electronic device | |
US4602183A (en) | Surface acoustic wave device with a 3-phase unidirectional transducer | |
JPH1168496A (en) | Structure of surface acoustic wave device and its manufacture | |
JPH10276062A (en) | Surface acoustic wave device | |
JP3203796B2 (en) | Multi-mode surface acoustic wave filter | |
RU2195069C1 (en) | Unidirectional surface-acoustic-wave transducer | |
KR100451080B1 (en) | Resonator Type Surface Acoustic Wave Filter | |
WO2023082186A1 (en) | Resonator and preparation method therefor, and filter | |
EP0088493B1 (en) | Surface acoustic wave (saw) devices | |
JPH09326661A (en) | Surface acoustic wave filter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |