KR20030031828A

KR20030031828A - Colored photosensitive resin composition

Info

Publication number: KR20030031828A
Application number: KR1020020050428A
Authority: KR
Inventors: 이치카와고지; 이노우에도시야
Original assignee: 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2001-08-28
Filing date: 2002-08-26
Publication date: 2003-04-23
Also published as: KR20090083323A; KR101026642B1; TW574613B

Abstract

PURPOSE: A colored photosensitive resin composition, a formation method of a colored pattern by using the composition and a preparation method of a color filter are provided, to enhance of the thermal stability of a colored pattern and to improve the durability and the quality of a color image of a color filter. CONSTITUTION: The colored photosensitive resin composition comprises a coloring agent; a binder polymer having an acid number of 90-160 and a weight average molecular weight of 20,000-40,000; a photopolymerizable compound; and a photopolymerization initiator, wherein the content of the binder polymer is 55 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the binder polymer and the photopolymerizable compound. Preferably the photopolymerization initiator contains an acetophenone-based photopolymerization initiator and/or a triazine-based photopolymerization initiator; and the coloring agent contains at least one pigment selected from the group consisting of C. I. pigment red 254, C. I. pigment green 36, C. I. pigment yellow 150 and C. I. pigment blue 15:6.

Description

Colored photosensitive resin composition

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 상세하게는 컬러 필터의 색 화소의 형성에 적합하게 사용되는 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to a coloring photosensitive resin composition. Specifically, It is related with the coloring photosensitive resin composition used suitably for formation of the color pixel of a color filter.

착색 감광성 수지 조성물(컬러 레지스트)은, 착색제에 의해 착색되어 있는 감광성 수지 조성물(레지스트)로서, 컬러 필터를 구성하는 착색 패턴을 형성시키기 위한 원재료로서 유용하다. 여기서, 컬러 필터(1)란, 예를 들면, 컬러 액정 표시 장치에 설치되어 표시 화상을 색채화하기 위해 사용하거나, 컬러 고체 촬상(撮像) 소자에 설치되어 컬러 화상을 얻기 위해 사용되는 광학 소자이다. 착색 패턴(2)이란, 예를 들면, 색 화소, 블랙 매트릭스(2BM) 등이고, 색 화소는 착색된 투명한 층이고, 블랙 매트릭스는 빛을 차폐하는 흑색 층이다. 이들 색 화소 및 블랙 매트릭스는 통상 기판 위에 형성되어, 컬러 필터를 구성한다(도 1). 색 화소는 투명하고 착색되어 있기 때문에, 이것을 투과하는 빛은 각각의 색 화소의 색을 보여, 컬러 화상을 제공한다. 이러한 착색 패턴은 선형이거나(도 1(a)), 모자이크형이다(도 1(b)).A colored photosensitive resin composition (color resist) is useful as a raw material for forming the coloring pattern which comprises a color filter as a photosensitive resin composition (resist) colored with the coloring agent. Here, the color filter 1 is an optical element installed in a color liquid crystal display device, for example, used for colorizing a display image, or installed in a color solid-state image sensor, and used for obtaining a color image. . The colored pattern 2 is, for example, a color pixel, a black matrix 2BM, or the like, the color pixel is a colored transparent layer, and the black matrix is a black layer that shields light. These color pixels and black matrix are usually formed on a substrate to constitute a color filter (Fig. 1). Since the color pixels are transparent and colored, the light passing through them shows the color of each color pixel, providing a color image. This colored pattern is linear (Fig. 1 (a)) or mosaic (Fig. 1 (b)).

이러한 컬러 필터(1)는, 예를 들면, 기판(3) 위에 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층(4)을 형성시키고(도 2(a)), 당해 층(4)을 노광시킨 후(도 2(b)), 현상함으로써 제조할 수 있다(도 2(c)). 이렇게 하여, 사용한 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 착색제(A)에 의해 착색된 착색 패턴(2)을 형성시킬 수 있다. 이렇게 하여 착색 패턴(2)이 형성된 기판(3) 위에, 다른 색의 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층(4')을 형성시키고(도 3(a)), 당해 층(4')을 노광시킨 후(도 3(b)), 현상함으로써(도 3(c)), 또한 착색 패턴(2')을 형성시킬 수 있고, 이후에도 같은 조작을 반복 실시하여, 다른 색의 착색 패턴(2")을 형성시킴으로써, 목적하는 컬러 필터(1)를 얻을 수 있다(도 4).Such color filter 1 forms the layer 4 which consists of a coloring photosensitive resin composition on the board | substrate 3, for example (FIG. 2 (a)), and exposes the said layer 4 (FIG. 2). (b)), it can manufacture by developing (FIG. 2 (c)). In this way, the coloring pattern 2 colored by the coloring agent (A) contained in the used coloring photosensitive resin composition can be formed. In this way, on the board | substrate 3 in which the coloring pattern 2 was formed, the layer 4 'which consists of colored photosensitive resin composition of a different color is formed (FIG. 3 (a)), and after exposing the said layer 4', (FIG. 3B), by developing (FIG. 3C), the colored pattern 2 ′ can be formed, and the same operation is repeated thereafter to form a colored pattern 2 ″ of a different color. By doing so, the desired color filter 1 can be obtained (FIG. 4).

그러나, 종래의 착색 감광성 수지 조성물에는, 현상 후에 잔사가 발생하기 쉬운 문제나, 얻어진 착색 패턴의 열안정성이 떨어지는 문제가 있었다. 잔사가 발생하면, 이것이 컬러 필터의 이물로 되어, 예를 들면, 컬러 액정 표시 장치에 의해 표시되는 컬러 화상이나 컬러 고체 촬상 소자에 의해 촬영되는 컬러 화상 등의 품질을 저하시킨다. 열안정성이 떨어지는 착색 패턴도 컬러 화상 등의 품질을 저하시킨다.However, in the conventional colored photosensitive resin composition, there existed a problem which residues generate | occur | produce easily after image development, and the problem that the thermal stability of the obtained colored pattern was inferior. When a residue generate | occur | produces, this will be a foreign material of a color filter, for example, degrading the quality of the color image displayed by a color liquid crystal display device, the color image picked up by a color solid-state image sensor, etc. Colored patterns with poor thermal stability also degrade the quality of color images.

그래서, 본 발명자는, 잔사를 발생시키지 않고, 열안정성이 우수한 착색 패턴을 형성시킬 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 개발하기 위하여 예의 검토한 결과, 결합제 중합체(B)로서 산가가 90 이상 160 이하이고, 중량 평균 분자량이 20000 이상 40000 이하인 것을 사용하고, 이의 함유량을 광중합성 화합물(C)과의 합계량 100질량부에 대하여 55질량부 이상으로 한 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 형성시키면, 현상 후의 잔사가 없고, 또한 형성된 착색 패턴의 열안정성이 우수함을 밝혀내어, 본 발명에 이르렀다.Therefore, the present inventors earnestly studied to develop a colored photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern having excellent thermal stability without generating residue, and as a binder polymer (B), the acid value is 90 or more and 160 or less, When using a thing with a weight average molecular weight of 20000 or more and 40000 or less, and forming a coloring pattern using the coloring photosensitive resin composition which made its content into 55 mass parts or more with respect to 100 mass parts of total amounts with a photopolymerizable compound (C), after developing There was no residue and it was found that the thermal stability of the formed colored pattern was excellent, and the present invention was reached.

도 1은 컬러 필터의 일례를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram illustrating an example of a color filter.

도 2는 착색 패턴의 형성 공정을 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the formation process of a coloring pattern.

도 3은 착색 패턴의 형성 공정을 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the formation process of a coloring pattern.

도 4는 착색 패턴의 형성 공정을 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the formation process of a coloring pattern.

도 5는 착색 패턴의 단면 형상을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도면에 나타낸 착색 패턴의 단면은 순(順) 테이퍼형이다.It is a figure which shows typically the cross-sectional shape of a coloring pattern, and the cross section of the coloring pattern shown in the figure is a forward taper shape.

[부호의 설명][Description of the code]

1: 컬러 필터1: color filter

2: 착색 패턴 2R: 적색 화소2: coloring pattern 2R: red pixel

2': 착색 패턴 2G: 녹색 화소2 ': coloring pattern 2G: green pixel

2": 착색 패턴 2B: 청색 화소2 ": colored pattern 2B: blue pixel

3: 기판 31: 기판의 표면3: substrate 31: surface of substrate

4: 착색 감광성 수지 조성물층4: coloring photosensitive resin composition layer

4': 착색 감광성 수지 조성물층4 ': colored photosensitive resin composition layer

4": 착색 감광성 수지 조성물층4 ": colored photosensitive resin composition layer

5: 포토마스크 51: 유리판5: photomask 51: glass plate

52: 차광층52: light shielding layer

53: 투광부53: floodlight

6: 광선6: rays

즉, 본 발명은That is, the present invention

착색제(A), 산가가 90 이상 160 이하이고, 중량 평균 분자량이 20000 이상 40000 이하인 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D)를 함유하고, 결합제 중합체(B)와 광중합성 화합물(C)과의 합계량 100질량부당 결합제 중합체(B)의 함유량이 55질량부 이상인 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.A binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), and a photoinitiator (D) containing a coloring agent (A) and an acid value of 90 or more and 160 or less, and a weight average molecular weight of 20000 or more and 40000 or less, and contain a binder polymer (B) and light It is providing the coloring photosensitive resin composition whose content of a binder polymer (B) per 100 mass parts of total amounts with a synthetic compound (C) is 55 mass parts or more.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 착색제(A)를 함유한다. 착색제는 유기물인 유기 착색제라도 좋고, 무기물인 무기 착색제라도 좋다.The coloring photosensitive resin composition of this invention contains a coloring agent (A). The colorant may be an organic colorant which is an organic substance or an inorganic colorant which is an inorganic substance.

무기 착색제는, 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨의 무기염(체질 안료) 등의 무기 안료라도 좋다. 유기 착색제는 안료라도 좋고, 염료라도 좋다. 착색제는 천연 색소라도 좋고, 합성 색소라도 좋다. 이러한 착색제 중에서도, 내열성, 발색성이 우수한 점에서, 유기 착색제, 그 중에서도 유기 안료가 바람직하게 사용된다.The inorganic colorant may be an inorganic pigment such as a metal oxide, a metal complex salt, or an inorganic salt (constitution pigment) of barium sulfate. The organic colorant may be a pigment or a dye. The colorant may be a natural dye or a synthetic dye. Among these colorants, an organic colorant, especially an organic pigment, is used preferably from the point which is excellent in heat resistance and color development property.

유기 안료로서 구체적으로는, 컬러 인덱스(The Society of Dyers andColourists 출판)에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, C. I. 피그먼트 옐로우 1, C. I. 피그먼트 옐로우 3, C. I. 피그먼트 옐로우 12, C. I. 피그먼트 옐로우 13, C. I. 피그먼트 옐로우 14, C. I. 피그먼트 옐로우 15, C. I. 피그먼트 옐로우 16, C. I. 피그먼트 옐로우 17, C. I. 피그먼트 옐로우 20, C. I. 피그먼트 옐로우 24, C. I. 피그먼트 옐로우 31, C. I. 피그먼트 옐로우 53, C. I. 피그먼트 옐로우 83, 피그먼트 옐로우 86, C. I. 피그먼트 옐로우 93, C. I. 피그먼트 옐로우 94, C. I.피그먼트 옐로우 109, C. I. 피그먼트 옐로우 110, C. I. 피그먼트 옐로우 117, C. I. 피그먼트 옐로우 125, C. I. 피그먼트 옐로우 128, C. I. 피그먼트 옐로우 137, C. I. 피그먼트 옐로우 138, C. I. 피그먼트 옐로우 139, C. I. 피그먼트 옐로우 147, C. I. 피그먼트 옐로우 148, C. I. 피그먼트 옐로우 150, C. I. 피그먼트 옐로우 153, C. I. 피그먼트 옐로우 154, C. I. 피그먼트 옐로우 166, C. I. 피그먼트 옐로우 173 등의 황색 안료, C. I. 피그먼트 오렌지 13, C. I. 피그먼트 오렌지 31, C. I. 피그먼트 오렌지 36, C. I. 피그먼트 오렌지 38, C. I. 피그먼트 오렌지 40, C. I. 피그먼트 오렌지 42, C. I. 피그먼트 오렌지 43, C. I. 피그먼트 오렌지 51, C. I. 피그먼트 오렌지 55, C. I. 피그먼트 오렌지 59, C. I. 피그먼트 오렌지 61, C. I. 피그먼트 오렌지 64, C. I. 피그먼트 오렌지 65, C. I. 피그먼트 오렌지 71, C. I. 피그먼트 오렌지 73 등의 오렌지색의 안료, C. I. 피그먼트 레드 9, C. I. 피그먼트 레드 97, C. I. 피그먼트 레드 105, C. I. 피그먼트 레드 122, C. I. 피그먼트 레드 123, C. I. 피그먼트 레드 144, C. I. 피그먼트 레드 149, C. I. 피그먼트 레드 166, C. I. 피그먼트 레드 168, C. I. 피그먼트 레드 176, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 180, C. I. 피그먼트 레드 192, C. I. 피그먼트 레드 215, C. I. 피그먼트 레드 216, C. I. 피그먼트 레드 224, C. I. 피그먼트 레드 242, C. I. 피그먼트 레드 254, C. I. 피그먼트 레드 264, C. I. 피그먼트 레드 265 등의 적색 안료, C. I. 피그먼트 블루 15, C. I. 피그먼트 블루 15:3, C. I. 피그먼트 블루 15:4, C. I. 피그먼트 블루 15:6, C. I. 피그먼트 블루 60 등의 청색 안료, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, C. I. 피그먼트 바이올렛 19, C. I. 피그먼트 바이올렛 23, C. I. 피그먼트 바이올렛 29, C. I. 피그먼트 바이올렛 32, C. I. 피그먼트 바이올렛 36, C. I. 피그먼트 바이올렛 38 등의 바이올렛색 안료, C. I. 피그먼트 그린 7, C. I. 피그먼트 그린 36 등의 녹색 안료, C. I. 피그먼트 브라운 23, C. I. 피그먼트 브라운 25 등의 브라운색 안료, C. I. 피그먼트 블랙 1, C. I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다. 이중에서도, C. I. 피그먼트 레드 254, C. I. 피그먼트 그린 36, C. I. 피그먼트 옐로우 150, C. I. 피그먼트 블루 15:6으로부터 선택된 안료를 하나 이상 함유하고 있는 것이 바람직하다.Specific examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in the color index (Published by The Society of Dyers and Colourists). Specifically, for example, CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 15, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 53, CI Pigment Yellow 83, Pigment Yellow 86, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 94, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 125, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment Yellow 137, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139 , CI Pigment Yellow 147, CI Pigment Yellow 148, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, C. I Yellow pigments such as Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 173, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 31, CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 42, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 55, CI Pigment Orange 59, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 64, CI Pigment Orange 65, CI Pigment Orange 71, Orange pigments such as CI Pigment Orange 73, CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 105, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 144, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 166, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red pigments such as DE 192, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 216, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 264, CI Pigment Red 265, and CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6, Blue Pigments such as CI Pigment Blue 60, CI Pigment Violet 1, CI Pigment Violet 19 Green pigments such as CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29, CI Pigment Violet 32, CI Pigment Violet 36, CI Pigment Violet 38, CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36, etc. Pigments, brown pigments, such as CI pigment brown 23 and CI pigment brown 25, black pigments, such as CI pigment black 1 and CI pigment black 7, etc. are mentioned. Among these, it is preferable to contain at least one pigment selected from C. I. Pigment Red 254, C. I. Pigment Green 36, C. I. Pigment Yellow 150 and C. I. Pigment Blue 15: 6.

이들 유기 안료는, 각각 단독으로 사용하여도 좋고, 2종 이상을 혼합하여 용하여도 좋은데, 예를 들면, 적색 화소를 형성시키기 위해서는 C. I. 피그먼트 레드 254를 함유하고 있는 것이, 녹색 화소를 형성시키기 위해서는 C. I. 피그먼트 그린 36 및 C. I. 피그먼트 옐로우 150을 함유하고 있는 것이, 청색 화소를 형성시키기 위해서는, C. I. 피그먼트 블루 15:6을 함유하고 있는 것이 각각 바람직하다.These organic pigments may be used alone or in combination of two or more thereof. For example, in order to form a red pixel, one containing CI pigment red 254 may be used to form a green pixel. It is preferable that CI pigment green 36 and CI pigment yellow 150 contain CI pigment blue 15: 6, respectively, in order to form a blue pixel.

유기 안료는 필요에 따라, 로진 처리, 산성 그룹 또는 염기성 그룹이 도입된안료 유도체 등을 사용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에의 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리가 시행되어 있어도 좋다.Organic pigments may be treated with rosin treatment, surface treatment with pigment derivatives having acid groups or basic groups introduced therein, graft treatment on the surface of the pigment with a high molecular compound, atomization treatment with sulfuric acid atomization, or the like to remove impurities. The washing treatment with an organic solvent, water or the like may be performed.

착색제의 사용량은, 착색 감광성 수지 조성물의 휘발 성분이 휘발한 후의 고형분에 대하여 질량분율로 통상 5% 이상이고, 충분히 착색된 착색 패턴을 형성시킬 수 있다는 점에서, 10% 이상, 더욱이 20% 이상, 특히 30% 이상이고, 통상 60% 이하, 바람직하게는 50% 이하의 범위이다. 또한, 착색제로서 유기 안료를 사용하는 경우, 당해 유기 안료의 사용량은 착색제의 전체량에 대하여 질량분율로 통상 50% 이상, 바람직하게는 85% 이상이고, 착색제의 전체량(100%)이 유기 안료라도 좋다.The usage-amount of a coloring agent is 5% or more by mass fraction with respect to the solid content after the volatile component of a coloring photosensitive resin composition volatilizes, and since it can form a fully colored coloring pattern, it is 10% or more, Furthermore, 20% or more, In particular, it is 30% or more, and usually 60% or less, preferably 50% or less. In addition, when using an organic pigment as a coloring agent, the usage-amount of this organic pigment is 50% or more normally in mass fraction with respect to the total amount of a coloring agent, Preferably it is 85% or more, and the total amount (100%) of a coloring agent is an organic pigment. It may be.

결합제 중합체(B)로서는, 착색제를 분산시킬 수 있는 중합체가 사용된다. 이러한 결합제 중합체으로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산과 (메트)아크릴산벤질과의 공중합이 사용되고, 이의 (메트)아크릴산 단위 함유량은 몰분율로 통상 25% 이상 40% 이하이다. 여기서 (메트)아크릴산이란 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 나타내고, (메트)아크릴산벤질이란, 아크릴산벤질 및/또는 메타크릴산벤질을 나타낸다.As the binder polymer (B), a polymer capable of dispersing a colorant is used. As such a binder polymer, copolymerization of (meth) acrylic acid and benzyl (meth) acrylic acid is used, for example, and the (meth) acrylic acid unit content thereof is usually 25% or more and 40% or less in mole fraction. Here, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid, and (meth) acrylic acid benzyl refers to benzyl acrylate and / or benzyl methacrylate.

이러한 결합제 중합체는, 산가가 90 이상 160 이하, 바람직하게는 95 이상 140 이하이다. 여기서 산가는, 결합제 중합체 1g을 중화시키는 데 필요한 수산화칼륨(KOH)의 질량(단위는 mg으로 나타낸다)이고, 예를 들면, 산가가 90인 결합제 중합체 1g을 중화시키기 위해서는 90mg의 수산화칼륨이 필요함을 나타내고 있다. 산가는 통상 수산화칼륨 수용액을 사용하여 수중에서 적정하는 방법으로 측정할 수있다.These binder polymers have an acid value of 90 or more and 160 or less, preferably 95 or more and 140 or less. Wherein the acid value is the mass of potassium hydroxide (KOH) required to neutralize 1 g of binder polymer (unit is expressed in mg), for example, 90 mg of potassium hydroxide is required to neutralize 1 g of binder polymer having an acid value of 90. It is shown. The acid value can usually be measured by titration in water using an aqueous potassium hydroxide solution.

결합제 중합체는, 중량 평균 분자량(Mw)이 20000 이상 40000 이하, 바람직하게는 35000 이하이다. 여기서, 중량 평균 분자량은, 폴리스티렌을 기준으로 한 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 값이다. 이러한 결합제 중합체의 함유량은, 결합제 중합체(B)와 광중합성 화합물(C)과의 합계량 100질량부당, 55질량부 이상, 바람직하게는 57질량부 이상, 보다 바람직하게는 59질량부 이상이다. 55질량부 이상으로 함으로써, 현상 후의 잔사를 줄일 수 있다. 또한 결합제 중합체의 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 질량분율로 통상 5% 이상 90 이하, 바람직하게는 20% 이상 70% 이하 정도이다.The weight average molecular weight (Mw) of a binder polymer is 20000 or more and 40000 or less, Preferably it is 35000 or less. Here, a weight average molecular weight is the value measured by the gel permeation chromatography based on polystyrene. Content of such a binder polymer is 55 mass parts or more per 100 mass parts of total amounts of a binder polymer (B) and a photopolymerizable compound (C), Preferably it is 57 mass parts or more, More preferably, it is 59 mass parts or more. By setting it as 55 mass parts or more, the residue after image development can be reduced. The content of the binder polymer is usually 5% or more and 90 or less, preferably 20% or more and about 70% or less by mass fraction with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition.

광중합성 화합물(C)은, 빛이 조사됨으로써 광중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼, 산 등에 의하여 중합시킬 수 있는 화합물로서, 예를 들면, 중합성 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다.The photopolymerizable compound (C) is a compound which can be polymerized by an active radical, an acid or the like generated from a photopolymerization initiator by irradiation with light, and examples thereof include a compound having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond.

이러한 광중합성 화합물은, 4관능 이상의 다관능 광중합성 화합물인 것이 바람직하다. 4관능 이상의 다관능 광중합성 화합물로서는, 예를 들면, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이러한 광중합 개시제는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용하고, 이의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 질량분율로 통상 1% 이상 25% 이하, 바람직하게는 3% 이상 35% 이하 정도이다.It is preferable that such a photopolymerizable compound is a tetrafunctional or more than polyfunctional photopolymerizable compound. As a polyfunctional photopolymerizable compound more than tetrafunctional, for example, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol Hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, etc. are mentioned. These photoinitiators are used individually or in combination of 2 types or more, respectively, The content of these is 1 mass% or more and 25% or less normally in mass fraction with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, Preferably they are 3% or more and about 35% or less to be.

광중합 개시제(D)로서는, 빛을 조사하여 활성 라디칼을 발생시키는 활성 라디칼 발생제, 산을 발생시키는 산 발생제 등을 들 수 있다. 활성 라디칼 발생제로서는, 예를 들면, 아세토페논계 광중합 개시제, 트리아민계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제 등을 들 수 있다.As a photoinitiator (D), the active radical generator which irradiates light and generate | occur | produces an active radical, the acid generator which generate | occur | produces an acid, etc. are mentioned. Examples of the active radical generator include acetophenone photopolymerization initiators, triamine photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, and the like.

아세토페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.As an acetophenone type photoinitiator, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [ 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1- On, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane And oligomers of -1-ones.

벤조인계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르 등을 들 수 있다.As a benzoin type photoinitiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

트리아진계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.As a triazine photoinitiator, it is 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl), for example. -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4 -Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran- 2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5- Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro Romethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(3급 부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.As a benzophenone type photoinitiator, a benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzo phenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra ( Tertiary butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

티오크산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.As a thioxanthone type photoinitiator, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro, for example 4-propoxy thioxanthone etc. are mentioned.

활성 라디칼 발생제로서, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티아노센 화합물 등을 사용할 수 있다.As the active radical generator, for example, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- 1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, thianocene compound, etc. Can be used.

산 발생제로서는, 예를 들면, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.As the acid generator, for example, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate and 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfo Nate, 4-acetoxyphenylmethyl benzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl iodonium p-toluenesulfo Onium salts, such as a nitrate and diphenyl iodonium hexafluoro antimonate, nitrobenzyl tosylates, benzoin tosylate, etc. are mentioned.

또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기한 화합물 중에는, 활성 라디칼과 동시에산을 발생시키는 화합물도 있고, 예를 들면, 트리아진계 광중합 개시제는, 산 발생제로서도 사용된다.Moreover, among the compounds mentioned above as an active radical generating agent, there exist some compounds which generate | occur | produce an acid simultaneously with an active radical, For example, a triazine type photoinitiator is used also as an acid generator.

이들 광중합 개시제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. 이러한 광중합 개시제로서는, 아세토페논계 광중합 개시제, 이중에서도 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온이나, 트리아진계 광중합 개시제, 이중에서도 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진 등이 바람직하게 사용된다.These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As such a photoinitiator, an acetophenone series photoinitiator, double 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, a triazine photoinitiator, double 2,4- Bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine and the like are preferably used.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 광중합 개시 조제를 함유하고 있어도 좋다. 광중합 개시 조제는, 광중합 개시제와 조합시켜 사용되고, 광중합성 화합물의 중합을 촉진시키기 위해 함유되는 화합물이다. 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 아민계 광중합 개시 조제, 알콕시안트라센계 광중합 개시 조제 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may contain the photoinitiator starting adjuvant. A photoinitiator is a compound used in combination with a photoinitiator, and is contained in order to accelerate superposition | polymerization of a photopolymerizable compound. As photopolymerization start adjuvant, an amine photoinitiation start adjuvant, an alkoxy anthracene type photoinitiation start adjuvant, etc. are mentioned, for example.

아민계 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미히라즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(「EAB-F」, 호도가야가가쿠고교(주) 제품)으로서 시판되고 있다), 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the amine photopolymerization initiation aid include triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylbenzoic acid. Aminoethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (collectively Mihirazketone), 4,4'-bis (diethyl Amino) benzophenone (commercially available as "EAB-F" and the product made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, etc. are mentioned.

알콕시안트라센계 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.As an alkoxy anthracene type photoinitiator, it is 9,10- dimethoxy anthracene, 2-ethyl-9,10- dimethoxy anthracene, 9,10- diethoxy anthracene, 2-ethyl-9, 10- diethoxy, for example. Anthracene and the like.

이러한 광중합 개시 조제를 사용하는 경우, 이의 사용량은, 광중합 개시제 1몰당 통상 10몰 이하, 바람직하게는 0.01몰 이상 5몰 이하이다.When using such a photoinitiator, the usage-amount thereof is 10 mol or less normally, Preferably it is 0.01 mol or more and 5 mol or less per mol of photoinitiators.

광중합 개시제(D) 및 광중합 개시 조제의 함유량은, 이의 합계량이 결합제 중합체(B)와 광중합성 화합물(D)과의 합계량 100질량부에 대하여 통상 3질량부 이상 48질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이상 36질량부 이하이다.Content of a photoinitiator (D) and a photoinitiator adjuvant is 3 mass parts or more and 48 mass parts or less normally with respect to 100 mass parts of total amounts of the total amount of a binder polymer (B) and a photopolymerizable compound (D), Preferably it is 5 It is 36 mass parts or more by mass parts or more.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 용제(E)에 의하여 희석되어도 좋다. 통상은 용제로 희석된 상태로 제조되고, 보존되어 사용된다. 이러한 용제로서는, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 것과 같은 용제, 예를 들면, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르 및 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르류, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디프로필 에테르 및 디에틸렌 글리콜 디부틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜 디알킬 에테르류, 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에틸 아세테이트류, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트 및 메톡시펜틸 아세테이트 등의 알킬렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸 케톤, 아세톤, 메틸아밀 케톤, 메틸이소부틸 케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 사이클로헥산올, 에틸렌 글리콜, 글리세린 등의 알콜류, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류, γ-부티로락톤 등의 사이클릭 에스테르류 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may be diluted with a solvent (E). Usually, it is manufactured in the state diluted with a solvent, and is preserve | saved and used. As such a solvent, solvents such as those used in ordinary colored photosensitive resin compositions, for example, ethylene glycol monoalkyl such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol dialkyl ethers such as ethers, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate Alkyl such as ethylene glycol alkylethyl acetates, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate Aromatic hydrocarbons such as glycol alkyl ether acetates, benzene, toluene, xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexane Alcohols such as ol, ethylene glycol and glycerin, esters such as 3-ethoxypropionate ethyl and 3-methoxy methyl propionate, and cyclic esters such as γ-butyrolactone.

이러한 용제는, 각각 단독으로 또는 2종류 이상을 조합시켜 사용할 수 있고, 이의 사용량은, 용제로 희석된 상태의 착색 감광성 조성물에서의 용제의 함유량이 질량분율로 통상 50% 이상 90% 이하, 바람직하게는 60% 이상 85% 이하로 되는 정도이다.These solvents can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively, The usage-amount of the solvent in the coloring photosensitive composition of the state diluted with the solvent is 50 mass% or more normally 90% or less by mass fraction, Preferably Is about 60% or more and 85% or less.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 착색제(A)로서 안료를 함유하는 경우에는, 안료 분산제를 함유하고 있어도 좋다. 안료 분산제를 함유함으로써, 안료를 균일하게 분산시킨 상태로 함유할 수 있고, 균일하게 착색된 착색 패턴을 형성시킬 수 있다. 이러한 안료 분산제로서는, 예를 들면, 폴리에스테르계 고분자 분산제, 아크릴계 고분자 분산제, 폴리우레탄계 고분자 분산제 등의 분산제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용한다. 안료 분산제를 함유하는 경우, 이의 함유량은 착색제 1질량부당 통상 0.01질량부 이상, 바람직하게는 0.05질량부 이상이고, 통상 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may contain the pigment dispersant, when it contains a pigment as a coloring agent (A). By containing a pigment dispersant, a pigment can be contained in the state disperse | distributed uniformly, and the coloring pattern colored uniformly can be formed. Examples of such pigment dispersants include dispersants such as polyester polymer dispersants, acrylic polymer dispersants, polyurethane polymer dispersants, surfactants such as cationic surfactants, anionic surfactants, and nonionic surfactants. Each of them is used alone or in combination of two or more thereof. When it contains a pigment dispersant, its content is 0.01 mass part or more normally per 1 mass part of coloring agents, Preferably it is 0.05 mass part or more, Usually 1 mass part or less, Preferably it is 0.5 mass part or less.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 충전제, 결합제 중합체(B) 이외의 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화제 등의 첨가제를 함유하고 있어도 좋다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may contain additives, such as a filler and polymeric compounds other than a binder polymer (B), an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, an organic acid, an organic amino compound, and a hardening | curing agent.

충전제로서는, 예를 들면, 유리, 알루미나 등의 미립자를 들 수 있다. 고분자 화합물로서는, 예를 들면, 폴리비닐 알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르, 폴리플루오로알킬 아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a filler, microparticles | fine-particles, such as glass and alumina, are mentioned, for example. As a high molecular compound, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, etc. are mentioned, for example.

밀착 촉진제로서는, 예를 들면, 비닐 트리메톡시실란, 비닐 트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸 디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필 트리메톡시실란, 3-아미노프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시메틸 디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸 디메톡시실란, 3-클로로프로필 트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-머캅토프로필 트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyl dimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane, 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane, 3-glycidoxymethyl dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyl dimethoxysilane, 3-chloropropyl trimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 3-mercaptopropyl tri Methoxysilane, etc. are mentioned.

산화 방지제로서는, 예를 들면, 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. 응집 방지제로서는, 예를 들면, 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다.As antioxidant, 2, 2- thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2, 6- di-t- butylphenol, etc. are mentioned, for example. As a ultraviolet absorber, 2- (3-t- butyl- 5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chloro benzotriazole, alkoxy benzophenone, etc. are mentioned, for example. As an aggregation inhibitor, sodium polyacrylate etc. are mentioned, for example.

유기산으로서는, 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프르산 등의 지방족 모노카복실산류, 옥살산, 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 프라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸석신산, 테트라메틸석신산, 사이클로헥산디카복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산 등의 지방족 디카복실산류, 트리카르팔릴산, 아고니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카복실산류, 벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산등의 방향족 모노카복실산류, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카복실산류, 트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카복실산류 등을 들 수 있다. 유기 아미노 화합물로서는, 예를 들면, n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 사이클로헥실아민, 2-메틸사이클로헥실아민, 3-메틸사이클로헥실아민, 4-메틸사이클로헥실아민 등의 모노(사이클로)알킬아민류, 메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸-n-프로필아민, 에틸-n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디-t-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 메틸사이클로헥실아민, 에틸사이클로헥실아민, 디사이클로헥실아민 등의 디(사이클로)알킬아민류, 디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸-n-프로필아민, 디에틸-n-프로필아민, 메틸디-n-프로필아민, 에틸디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 디메틸사이클로헥실아민, 디에틸사이클로헥실아민, 메틸디사이클로헥실아민, 에틸디사이클로헥실아민, 트리사이클로헥실아민 등의 트리(사이클로)알킬아민류, 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-사이클로헥산올 등의 모노(사이클로)알칸올아민류, 디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민, 디-n-펜탄올아민, 디-n-헥산올아민, 디(4-사이클로헥산올)아민 등의 디(사이클로)알칸올아민류, 트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올아민, 트리-i-부탄올아민, 트리-n-헵탄올아민, 트리-n-헥산올아민, 트리(4-사이클로헥산올)아민 등의 트리(사이클로)알칸올아민류, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-사이클로헥산디올, 4-아미노-1,3-사이클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노(사이클로)알칸디올류, 1-아미노사이클로펜타논메탄올, 4-아미노사이클로펜타논메탄올, 1-아미노사이클로헥사논메탄올, 4-아미노사이클로헥사논메탄올, 4-디메틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노사이클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노사이클로헥산메탄올 등의 아미노 그룹 함유 사이클로알칸메탄올류, β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소아세트산, 3-아미노이소아세트산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노사이클로프로판카복실산, 1-아미노사이클로헥산카복실산, 4-아미노사이클로헥산카복실산 등의 아미노카복실산류, 아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등의 방향족 아민류, o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등의 아미노벤질알콜류, o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀,p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류, m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등의 아미노벤조산류 등을 들 수 있다.Examples of the organic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, and capric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, and gluconate. Tartaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, prasylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, ita Aliphatic dicarboxylic acids such as cholic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid, aliphatic tricarboxylic acids such as tricarpallylic acid, agonite acid and camphoronic acid, benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemelic acid, Aromatic monocarboxylic acids such as mesitylene acid, aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid and pyromellitic acid . As an organic amino compound, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n, for example -Heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, 4 Mono (cyclo) alkylamines such as methylcyclohexylamine, methylethylamine, diethylamine, methyl-n-propylamine, ethyl-n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, Di-n-butylamine, di-i-butylamine, di-sec-butylamine, di-t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexyl Di (cyclo) alkylamines such as amines and dicyclohexylamine, dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl-n-propylamine, diethyl-n-propylamine, methyldi-n-propyla , Ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri-i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-t-butylamine Tri (cyclo) alkylamines such as tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, and tricyclohexylamine , 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4- Mono (cyclo) alkanolamines such as amino-1-cyclohexanol, diethanolamine, di-n-propanolamine, dii-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine, di- di (cyclo) alkanolamines such as n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di (4-cyclohexanol) amine, triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine,Tri (cyclo) alkanolamines such as li-n-butanolamine, tri-i-butanolamine, tri-n-heptanolamine, tri-n-hexanolamine, and tri (4-cyclohexanol) amine, 3 -Amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2-cyclo Hexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propane Amino (cyclo) alkanediols, such as diol and 2-diethylamino-1,3-propanediol, 1-aminocyclopentanonemethanol, 4-aminocyclopentanonemethanol, 1-aminocyclohexanonemethanol, 4- Amino groups such as aminocyclohexanonemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, and 4-diethylaminocyclohexanemethanol Containing cycloalkanethanols, β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisoacetic acid, 3-aminoisoacetic acid, 2-aminovaleric acid, 5-amino valeric acid, 6 Aminocarboxylic acids such as aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, 4-aminocyclohexanecarboxylic acid, aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p- Ethylaniline, pn-propylaniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, aromatic amines such as p-methyl-N, N-dimethylaniline, amino such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol and p-diethylaminobenzyl alcohol Benzyl alcohol, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethyla Aminophenols, such as a minophenol and p-diethylaminophenol, Aminobenzoic acids, such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid, etc. are mentioned.

경화제로서는, 예를 들면, 가열됨으로써 결합제 중합체(B) 중의 카복실 그룹과 반응하여 결합제 중합체를 가교시킬 수 있는 화합물을 들 수 있다. 또한, 이것 단독으로 중합시켜 착색 패턴을 경화시킬 수 있는 화합물도 들 수 있다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.As a hardening | curing agent, the compound which can crosslink a binder polymer by reacting with the carboxyl group in a binder polymer (B) by heating, for example is mentioned. Moreover, the compound which can superpose | polymerize by this and harden a coloring pattern is also mentioned. As such a compound, an epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned, for example.

에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 기타의 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 에폭시화유 등의 에폭시 수지나, 이들의 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 이의 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족의 에폭시 화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트를 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, novolac epoxy resins, other aromatic epoxy resins, and alicyclic epoxy resins. Aliphatic, alicyclic, or other epoxy resins such as resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, epoxidized oils, and brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and brominated derivatives thereof; Aromatic epoxy compounds, the epoxide of the (co) polymer of butadiene, the epoxide of the (co) polymer of isoprene, the (co) polymer of glycidyl (meth) acrylate, and triglycidyl isocyanurate are mentioned. .

옥세탄 화합물로서는, 예를 들면, 카보네이트비스옥세탄, 크실릴렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 사이클로헥산디카복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.As an oxetane compound, carbonate bis oxetane, xylylene bis oxetane, adipate bis oxetane, a terephthalate bis oxetane, a cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 경화제로서 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 함유하는 경우에는, 에폭시 화합물의 에폭시 그룹, 옥세탄 화합물의 옥세탄골격을 개환 중합시켜 얻는 화합물을 포함하고 있어도 좋다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카복실산류, 다가 카복실산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.When the coloring photosensitive composition of this invention contains an epoxy compound, an oxetane compound, etc. as a hardening | curing agent, the coloring photosensitive composition may contain the compound obtained by ring-opening-polymerizing the oxetane skeleton of an epoxy group of an epoxy compound, an oxetane compound. As such a compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, etc. are mentioned, for example.

다가 카복실산류로서는, 예를 들면, 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 등의 방향족 다가 카복실산류, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 지방족 다가 카복실산류, 헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로이소프탈산, 헥사하이드로테레프탈산, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산, 사이클로펜탄테트라카복실산, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 등의 지환족 다가 카복실산류 등을 들 수 있다.Examples of the polyvalent carboxylic acids include phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4, Aliphatic polyhydric carboxylic acids such as aromatic polyhydric carboxylic acids such as 4'-benzophenone tetracarboxylic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid , Hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, Alicyclic polyhydric carboxylic acids, such as 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic acid, etc. are mentioned.

다가 카복실산 무수물류로서는, 예를 들면, 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 2무수물 등의 방향족 다가 카복실산 무수물류, 무수 이타콘산, 무수 석신산, 무수 시트라콘산, 무수 도데세닐석신산, 무수 트리카바릴산, 무수 말레산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산 2무수물 등의 지방족 다가 카복실산 무수물류, 무수 헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산 무수물, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산 무수물, 사이클로펜탄테트라카복실산 2무수물, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 2무수물, 무수 하이믹산, 무수 나진산 등의 지환족 다가 카복실산 무수물류, 에틸렌글리콜비스트리멜리테이트산, 글리세린트리스트리멜리테이트 무수물 등의 에스테르 그룹 함유 카복실산 무수물류 등을 들 수 있다.As polyhydric carboxylic anhydride, For example, aromatic polyhydric carboxylic anhydrides, such as phthalic anhydride, a pyromellitic dianhydride, trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, itaconic anhydride , Aliphatic polyhydric carboxylic acid anhydrides such as succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarbaric anhydride, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, hexahydrophthalic anhydride , 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5- Esters such as cycloaliphatic polycarboxylic anhydrides such as cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, high anhydride anhydride, and anhydrous nazinic acid, ethylene glycol bistrimellitate acid, and glycerin tristrimellitate anhydride And the like containing carboxylic acid anhydrides.

카복실산 무수물류로서, 에폭시 수지 경화제로서 시판되고 있는 것을 사용하여도 좋다. 이러한 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명「아데카하도나 EH-700」(아사히덴카고교 가부시키가이샤), 상품명「리카시드 HH」(신니혼리카 가부시키가이샤), 상품명「MH-700」(신니혼리카 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.As carboxylic anhydrides, you may use what is marketed as an epoxy resin hardening | curing agent. As such an epoxy resin hardening | curing agent, a brand name "adekahadona EH-700" (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), a brand name "Lica seed HH" (Shin-Nihon Rika Co., Ltd.), a brand name "MH-700" are mentioned, for example. (Shin-Nihon Rika Kabushiki Kaisha) etc. are mentioned.

이러한 경화제는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.These hardeners can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 원재료로 하여 착색 패턴(2)을 형성시키기 위해서는, 예를 들면, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 패터닝하면 좋고, 구체적으로는, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층(4)을 기판(3)의 위에 형성시키고(도 2(a)), 당해 층(4)을 노광한 후(도 2(b)), 현상하면 좋다(도 2(c)).In order to form the coloring pattern 2 using the coloring photosensitive resin composition of this invention as a raw material, what is necessary is just to pattern the coloring photosensitive resin composition of this invention, for example, and consists of the coloring photosensitive resin composition of this invention specifically, The layer 4 may be formed on the substrate 3 (FIG. 2A), and the layer 4 may be exposed (FIG. 2B), and then developed (FIG. 2C).

기판(3)으로서는, 예를 들면, 유리 기판, 실리콘 웨이퍼, 프라스틱판 등을 들 수 있다. 기판으로서 실리콘 웨이퍼 등을 사용하는 경우, 당해 실리콘 웨이퍼 등의 표면에는 전하 결합 소자(CCD), 박막 트랜지스터(TFT, Thin Film Transistor) 등이 형성되어 있어도 좋다.As the board | substrate 3, a glass substrate, a silicon wafer, a plastic board, etc. are mentioned, for example. When a silicon wafer or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD), a thin film transistor (TFT), or the like may be formed on the surface of the silicon wafer or the like.

이러한 기판의 위에 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층(4)을 형성시키기 위해서는, 예를 들면, 용제로 희석된 상태의 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 회전 도포법(스핀 코트법) 등의 방법으로 기판 위에 도포하고, 이어서 용제 등의 휘발 성분을 휘발시키면 좋다(도 2(a)). 이렇게 하여, 착색 감광성 수지 조성물층이 형성되지만, 이러한 층은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어지는 층이고, 휘발분을 거의 포함하고 있지 않다.In order to form the layer 4 which consists of colored photosensitive resin composition on such a board | substrate, the colored photosensitive resin composition of this invention of the state diluted with the solvent is, for example, a board | substrate by methods, such as a spin coating method (spin coat method). It is good to apply | coat it and then volatilize volatile components, such as a solvent, (FIG. 2 (a)). In this way, although the coloring photosensitive resin composition layer is formed, such a layer is a layer which consists of solid content of a coloring photosensitive resin composition, and contains little volatile matter.

이어서, 착색 감광성 수지 조성물층을 노광시킨다(도 2(b)). 노광시키기 위해서는, 예를 들면, 포토마스크(5)를 사이에 두고 광선(6)을 조사하면 좋다. 광선(6)으로서는 통상, g선(파장 436nm), i선(파장 365nm)이라고 불리는 자외선 등이 사용된다. 광선은 포토마스크를 사이에 두고 조사되지만, 여기서 포토마스크(5)는, 예를 들면, 유리판(51) 표면에 광선을 차폐하는 차광층(52)이 설치된 것이다. 유리판 중의 차광층이 설치되어 있지 않은 부분은 광선이 투과하는 투광부(53)이고, 이 투광부의 패턴에 따른 패턴으로 착색 감광성 수지 조성물층(4)이 노광되어, 광선이 조사되지 않은 미조사 영역(41)과, 광선이 조사된 조사 영역(42)이 생긴다. 조사 영역(42)에서의 광선의 조사량은, 사용한 착색제(A)의 색이나 함유량, 결합제 중합체(B)의 중량 평균 분자량, 단량체비, 함유량, 광중합성 화합물(C)의 종류나 함유량, 광중합 개시제(D)의 종류나 함유량 등에 의해서 적절히 선택된다.Next, the coloring photosensitive resin composition layer is exposed (FIG. 2 (b)). In order to expose, for example, the light beam 6 may be irradiated with the photomask 5 interposed therebetween. As the light ray 6, ultraviolet rays etc. called g line | wire (wavelength 436nm) and i line | wire (wavelength 365nm) are used normally. Although light rays are irradiated with a photomask interposed here, the photomask 5 is provided with the light shielding layer 52 which shields a light ray in the surface of the glass plate 51, for example. The part in which the light shielding layer is not provided in the glass plate is the light-transmitting part 53 which a light ray transmits, and the colored photosensitive resin composition layer 4 is exposed by the pattern according to the pattern of this light-transmitting part, and the unirradiated area | region to which the light beam was not irradiated (41) and the irradiation area 42 to which the light beam was irradiated are produced. The irradiation amount of light rays in the irradiation region 42 includes the color and content of the used colorant (A), the weight average molecular weight, monomer ratio, content of the binder polymer (B), the type and content of the photopolymerizable compound (C), and the photopolymerization initiator. It is suitably selected by the kind, content, etc. of (D).

노광 후, 현상한다(도 2(c)). 현상하기 위해서는, 예를 들면, 노광 후의 착색 감광성 수지 조성물층(4)을 현상액과 접촉시키면 좋고, 구체적으로는 이의 표면 위에 착색 감광성 수지 조성물층(4)이 형성된 상태의 기판(3)을 현상액에 침지시키면 좋다. 현상액으로서는, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드 등의 알칼리성 화합물의 수용액 등을 들 수 있다. 현상에 의해, 착색 감광성 수지 조성물층 중의 광선이 조사되지 않은 미조사 영역(41)은 제거된다. 이의 한편으로, 광선 조사 영역(42)은 그대로 남아착색 패턴(2)을 구성한다.It develops after exposure (FIG. 2 (c)). In order to develop, it is good to make the coloring photosensitive resin composition layer 4 after exposure contact with a developing solution, for example, and the board | substrate 3 of the state in which the coloring photosensitive resin composition layer 4 was formed on the surface of it to the developing solution is carried out, for example. Dipping is good. As a developing solution, aqueous solution of alkaline compounds, such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, etc. are mentioned, for example. By the image development, the unirradiated area | region 41 in which the light ray in the colored photosensitive resin composition layer was not irradiated is removed. On the other hand, the light irradiation area 42 comprises the remaining colored pattern 2 as it is.

현상후, 통상은 수세하여, 건조시킴으로써, 목적으로 하는 착색 패턴(2)을 얻을 수 있다. 건조후, 가열하여도 좋다.After development, the desired coloring pattern 2 can be obtained by usually washing with water and drying. After drying, you may heat.

착색 패턴을 가열함으로써 경화하여, 이의 기계적 강도가 향상되는 경향이 있고, 착색 감광성 수지 조성물로서 경화제를 함유하는 것을 사용한 경우에는, 기계적 강도를 보다 향상할 수 있다. 가열 온도는 통상 180℃ 이상, 바람직하게는 200℃ 이상이고, 통상 250℃ 이하이다.It hardens | cures by heating a coloring pattern, and its mechanical strength tends to improve, and when using what contains a hardening | curing agent as a coloring photosensitive resin composition, mechanical strength can be improved more. Heating temperature is 180 degreeC or more normally, Preferably it is 200 degreeC or more, and is 250 degrees C or less normally.

이렇게 하여 착색 패턴(2)이 형성된 기판(3) 위에, 또한 다른 색의 착색제를 함유하여 다른 색으로 착색된 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층(4')을 형성시키고(도 3(a)), 당해 층(4')을 노광시킨 후(도 3(b)), 현상함으로써(도 3(c)), 또한 착색 패턴(2')을 형성시킬 수 있다. 또한, 다른 색으로 착색된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기 조작을 반복하여 실시함으로써, 순차 착색 패턴(2")을 형성시킬 수 있고(도 4), 목적하는 컬러 필터(1)를 제조할 수 있다.Thus, on the board | substrate 3 in which the coloring pattern 2 was formed, the layer 4 'which consists of the coloring photosensitive resin composition which contained the coloring agent of a different color, and was colored in the other color was formed (FIG. 3 (a)), After exposing the layer 4 '(FIG. 3 (b)), it can develop further (FIG. 3 (c)), and the coloring pattern 2' can be formed. In addition, by repeating the above operation using a colored photosensitive resin composition colored with a different color, a sequentially colored pattern 2 " can be formed (FIG. 4), and the desired color filter 1 can be produced. have.

이렇게 하여 얻어지는 컬러 필터는, 착색 패턴으로 이루어지는 것이고, 당해 패턴은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 광선이 조사되어 이루어지는 것이다.The color filter obtained in this way consists of a coloring pattern, and the said pattern is a thing by which light rays are irradiated to the coloring photosensitive resin composition of this invention.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 의하면, 현상에 있어서 잔사를 발생시키지 않고, 열안정성이 우수한 착색 패턴을 형성시킬 수 있고, 이러한 착색 패턴으로부터 구성되는 컬러 필터는, 내구성이 우수하고, 양호한 컬러 화상을 제공하기 때문에, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 컬러 필터용 착색 감광성 수지 조성물로서 유용하다.According to the coloring photosensitive resin composition of this invention, the coloring pattern which is excellent in thermal stability can be formed without developing a residue in image development, The color filter comprised from such a coloring pattern is excellent in durability, and a favorable color image is produced. Since it provides, the coloring photosensitive resin composition of this invention is useful as a coloring photosensitive resin composition for color filters.

이하, 실시예에 의하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 이러한 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these Examples.

실시예 1Example 1

[적색의 착색 감광성 수지 조성물의 제조][Production of Red Colored Photosensitive Resin Composition]

메타크릴산과 벤질메타크릴산과의 공중합체(B)[메타크릴산 단위와 벤질메타크릴산 단위와의 비는 몰 질량비(몰 비)로 27:73, 산가는 105, 중량 평균 분자량은 30000] 0.830질량부,Copolymer (B) of methacrylic acid with benzyl methacrylic acid [The ratio between the methacrylic acid unit and the benzyl methacrylic acid unit is 27:73 in molar mass ratio (molar ratio), the acid value is 105, the weight average molecular weight is 30000] 0.830 Mass Part,

광중합성 화합물(C)[디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트] 0.553질량부,0.553 mass part of photopolymerizable compounds (C) [Dipentaerythritol hexaacrylate],

광중합 개시제(D)[2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온] 0.083질량부,0.083 parts by mass of a photopolymerization initiator (D) [2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one],

광중합 개시제(D)[2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진] 0.083질량부, 광중합 개시제[2,4디에틸티오크산톤] 0.083질량부 및0.083 mass part of photoinitiators (D) [2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine], 0.083 mass of photoinitiators [2,4 diethyl thioxanthone] Wealth and

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(E) 6.619질량부를 혼합하여 혼합물 1을 얻었다.6.619 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetates (E) were mixed, and the mixture 1 was obtained.

별도로,Separately,

안료(A)[C. I. 피그먼트 레드 254] 0.782질량부,Pigment (A) [C. I. Pigment Red 254] 0.782 parts by mass,

안료(A)[C. I. 피그먼트 옐로우 150] 0.208질량부, 비이온계 계면활성제 0.376질량부 및Pigment (A) [C. I. Pigment Yellow 150] 0.208 parts by mass, 0.376 parts by mass of nonionic surfactant, and

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(E) 5.383질량부를 혼합하여 혼합물 2를 얻었다.5.383 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (E) was mixed to obtain mixture 2.

상기에서 얻은 혼합물 1과 혼합물 2를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물(적색)을 얻었다.The mixture 1 and mixture 2 obtained above were mixed to obtain a colored photosensitive resin composition (red).

[적색 화소의 형성][Formation of red pixel]

유리 기판[코닝사 제품, 「7059」](3) 위에, 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코트법으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 건조시켜 휘발분을 휘발시켜, 착색 감광성 수지 조성물층(4)을 형성시켰다(도 2(a)).After apply | coating the coloring photosensitive resin composition obtained above to the glass substrate [Corning Corporation make, "7059") (3) by spin-coating method, it dries at 100 degreeC for 3 minutes, volatilizes a coloring photosensitive resin composition layer (4 ) Was formed (FIG. 2 (a)).

냉각 후, 당해 착색 감광성 수지 조성물층(4)에 포토마스크(5)를 사이에 두고 i선[파장 365nm](6)을 조사하여 노광하였다(도 2(b)). i선의 광원으로서는, 초고압 수은 램프를 사용하고, 조사광량은 150mJ/㎤로 하였다. 포토마스크로서는, 선폭 3μm, 4μm, 5μm, 6μm, 7μm, 8μm, 9μm, 10μm, 20μm, 30μm, 40μm, 50μm 및 100μm의 선형의 색 화소를 형성시키기 위한 포토마스크를 사용하였다.After cooling, the colored photosensitive resin composition layer 4 was exposed by irradiating i-line (wavelength 365 nm) 6 with a photomask 5 therebetween (Fig. 2 (b)). As a light source of i line | wire, the ultrahigh pressure mercury lamp was used and the irradiation light quantity was 150 mJ / cm <3>. As the photomask, photomasks for forming linear color pixels having line widths of 3 μm, 4 μm, 5 μm, 6 μm, 7 μm, 8 μm, 9 μm, 10 μm, 20 μm, 30 μm, 40 μm, 50 μm and 100 μm were used.

이어서, 노광 후의 유리 기판[표면에는 착색 감광성 수지 조성물층이 형성되어 있다](3)을 현상액[질량분율로 수산화칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌설폰산나트륨을 0.2% 각각 포함하는 수용액]에 침지하여 현상하고, 정제수로 세정하였다. 그 후, 220℃로 20분간 가열하여, 투명하고 적색으로 착색된 색 화소(2)를 형성시켰다(도 2(c)).Subsequently, the glass substrate [the coloring photosensitive resin composition layer is formed in the surface] after exposure (3) is immersed in the developing solution [an aqueous solution containing 0.05% of potassium hydroxide and 0.2% of sodium butylnaphthalene sulfonates in mass fraction, respectively] It was developed and washed with purified water. Then, it heated at 220 degreeC for 20 minutes, and formed the color pixel 2 which was transparent and colored in red (FIG. 2 (c)).

[평가][evaluation]

얻어진 색 화소는, 이하의 방법으로 평가한 바, 각각 이하대로의 평가 결과였다.The color pixels obtained were evaluated by the following methods, and were the following evaluation results.

(1) 열안정성(1) thermal stability

적색 화소가 형성된 기판을 230℃에서 2시간 방치하고, 냉각 후의 적색 화소의 표면 형태를 반사방 광학 현미경(관찰 배율 2500배)으로 관찰한 바, 평활하였다.The board | substrate with a red pixel was left to stand at 230 degreeC for 2 hours, and the surface shape of the red pixel after cooling was observed with the reflection room optical microscope (observation magnification 2500 times), and it was smooth.

(2) 잔사의 유무(2) presence of residue

적색 화소가 형성된 기판을 육안으로 관찰한 바, 미조사 영역(41)은, 착색 감광성 수지 조성물층이 완전히 제거되어 있고, 기판(3)의 표면[유리면](31)이 노출되어 있어, 잔사의 부착은 보이지 않았다.When the board | substrate with a red pixel was observed visually, in the unirradiated area 41, the colored photosensitive resin composition layer was completely removed, the surface [glass surface] 31 of the board | substrate 3 was exposed, and the residue No attachment was seen.

(3) 단면 형상(3) cross-sectional shape

얻어진 적색 화소(2)의 단면 형상을 광학 현미경으로 관찰한 바, 이의 기판측의 폭이 반대측의 폭보다도 넓은 순(順) 테이퍼형이었다(도 5).When the cross-sectional shape of the obtained red pixel 2 was observed with the optical microscope, the width | variety of the board | substrate side was a forward taper type wider than the width of the opposite side (FIG. 5).

비교예 1Comparative Example 1

메타크릴산과 벤질메타크릴산과의 공중합체(B)[메타크릴산 단위와 벤질메타크릴산 단위와의 비는 몰 질량비(몰 비)로 25:75, 산가는 82.5, 중량 평균 분자량은 15000] 0.692질량부,Copolymer (B) of methacrylic acid with benzyl methacrylic acid [The ratio between the methacrylic acid unit and the benzyl methacrylic acid unit is 25:75 in molar mass ratio (molar ratio), the acid value is 82.5, the weight average molecular weight is 15000] 0.692 Mass Part,

광중합성 화합물(C)[디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 「KAYARAD DPHA」, 니혼가야쿠 가부시키가이샤 제품] 0.692질량부,0.692 mass parts of photopolymerizable compounds (C) [Dipentaerythritol hexaacrylate, "KAYARAD DPHA", the Nippon Kayaku Co., Ltd. product),

광중합 개시제(D)[2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페롤-1,3,5-트리아진] 0.083질량부, 광중합 개시 조제[2,4-디에틸티오크산톤] 0.083질량부 및0.083 mass part of photoinitiators (D) [2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperole-1,3,5-triazine], photoinitiator [2,4-diethyl thioxanthone] 0.083 Parts by mass and

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(E) 6.610질량부를 혼합하여 혼합물 3을 얻었다.6.610 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetates (E) were mixed, and the mixture 3 was obtained.

실시예 1에서 얻은 혼합물 1에 대신하여, 상기에서 얻은 혼합물 3을 사용하는 이외는, 실시예 1과 같이 조작하여, 착색 감광성 수지 조성물(적색)을 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that Mixture 3 obtained above was used instead of Mixture 1 obtained in Example 1, a colored photosensitive resin composition (red) was obtained.

[적색 화소의 형성][Formation of red pixel]

실시예 1에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물에 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물을 사용하는 이외는 실시예 1과 같이 조작하여, 적색으로 착색된 색 화소를 형성시켰다. 이 색 화소는, 불투명이었다.The same procedure as in Example 1 was repeated except that the colored photosensitive resin composition obtained above was used in place of the colored photosensitive resin composition obtained in Example 1 to form a color pixel colored in red. This color pixel was opaque.

[평가][evaluation]

상기에서 형성한 적색 화소를 실시예 1과 같이 하여 평가한 바, 230℃에서 2시간 방치한 후의 적색 화소의 표면은 거친면으로 되어 있어 열안정성이 떨어지고 있었다. 또한, 미조사 영역의 유리면(31)은 잔사(적색)가 부착되어 있었다. 또한, 적색 화소의 단면 형상은 순 테이퍼상이었다.When the red pixel formed above was evaluated like Example 1, the surface of the red pixel after leaving for 2 hours at 230 degreeC became a rough surface, and thermal stability was inferior. Moreover, the residue (red) adhered to the glass surface 31 of the unirradiated area | region. In addition, the cross-sectional shape of the red pixel was pure tapered.

실시예 2Example 2

[녹색의 착색 감광성 수지 조성물의 제조][Production of Green Color Photosensitive Resin Composition]

안료(A)[C. I. 피그먼트 그린 36] 2.295질량부,Pigment (A) [C. I. Pigment Green 36] 2.295 parts by mass,

안료(A)[C. I. 피그먼트 옐로우 150] 1.055질량부,Pigment (A) [C. I. Pigment Yellow 150] 1.055 parts by mass,

메타크릴산과 벤질메타크릴레이트와의 공중합체(B)[메타크릴산 단위와 벤질메타크릴레이트 단위와의 조성비는 몰 질량비(몰 비)로 35:65, 산가는 135, 중량 평균 분자량은 35000] 2.441질량부,Copolymer (B) of methacrylic acid with benzyl methacrylate [The composition ratio of methacrylic acid unit and benzyl methacrylate unit is 35:65 in molar mass ratio (molar ratio), acid value is 135, weight average molecular weight is 35000] 2.441 parts by mass,

광중합성 화합물(C)[디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트] 1.464질량부,1.464 parts by mass of a photopolymerizable compound (C) [dipentaerythritol hexaacrylate],

광중합 개시제(D)[2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온] 0.586질량부, 광중합 개시 조제[4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논] 0.195질량부,0.586 mass part of photoinitiators (D) [2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one], photoinitiator adjuvant [4,4'-bis (diethylamino) Benzophenone] 0.195 parts by mass,

에폭시 화합물[오르소크레졸노볼락형 에폭시 수지, 「스미에폭시 ESCN-195XL-80」(스미또모 가가꾸고교 가부시끼가이샤 제품)] 0.976질량부,Epoxy compound [Orsocresol novolak-type epoxy resin, "Sumiepoxy ESCN-195XL-80" (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product)] 0.976 mass parts,

비이온계 계면활성제 0.988질량부 및0.988 parts by mass of nonionic surfactant and

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(E) 약 96.5질량부를 혼합하여, 착색 감광성 수지 조성물(녹색)을 얻었다.About 96.5 mass part of propylene glycol monomethyl ether acetates (E) were mixed, and the coloring photosensitive resin composition (green) was obtained.

[녹색 화소의 형성][Formation of Green Pixels]

실시예 1에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물에 대신하여 상기에서 얻은 착색감광성 수지 조성물을 사용하는 이외는, 실시예 1과 같이 조작하여, 색 화소를 형성시켰다. 얻어진 녹색의 색 화소는 투명하였다.It operated like Example 1 except having used the coloring photosensitive resin composition obtained above instead of the coloring photosensitive resin composition obtained in Example 1, and formed the color pixel. The obtained green color pixel was transparent.

[평가][evaluation]

상기에서 형성한 녹색 화소를 실시예 1과 같이 하여 평가한 바, 230℃에서 2시간 방치한 후의 녹색 화소의 표면은 평활하고 열안정성이 우수하였다. 또한, 미조사 영역의 유리면(31)에는 잔사(녹색)의 부착은 보이지 않았다. 또한, 녹색 화소의 단면 형상은 순 테이퍼형이었다.When the green pixel formed above was evaluated like Example 1, the surface of the green pixel after leaving for 2 hours at 230 degreeC was smooth and was excellent in thermal stability. In addition, adhesion of the residue (green) was not seen on the glass surface 31 of the unirradiated area. In addition, the cross-sectional shape of the green pixel was a forward tapered shape.

비교예 2Comparative Example 2

메타크릴산과 벤질메타크릴레이트와의 공중합체(B)[메타크릴산 단위와 벤질메타크릴레이트 단위와의 조성비는 몰 질량비(몰 비)로 25:75, 산가는 82.5, 중량 평균 분자량은 15000] 1.953질량부,Copolymer (B) of methacrylic acid and benzyl methacrylate [The composition ratio of methacrylic acid unit and benzyl methacrylate unit is 25:75 in molar mass ratio (molar ratio), the acid value is 82.5, the weight average molecular weight is 15000] 1.953 parts by mass,

광중합성 화합물(C)(디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트] 1.953질량부,Photopolymerizable compound (C) (dipentaerythritol hexaacrylate) 1.953 parts by mass,

광중합 개시제(D)[2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온] 0.586질량부,0.586 mass parts of photoinitiators (D) [2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one],

광중합 개시 조제[4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논] 0.195질량부,0.195 mass parts of photopolymerization start adjuvant [4,4'-bis (diethylamino) benzophenone],

에폭시 화합물[오르토크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 「스미에폭시 ESCN-195XL-80」(스미또모 가가꾸고교 가부시끼가이샤 제품)] 0.976질량부,Epoxy compound [orthocresol novolak-type epoxy resin, "Sumiepoxy ESCN-195XL-80" (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product)] 0.976 mass parts,

비이온계 계면활성제(0.988질량부) 및Nonionic surfactant (0.988 parts by mass) and

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(E) 약 36.5질량부를 혼합하여, 착색 감광성 수지 조성물(녹색)을 얻었다.About 36.5 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E) were mixed, and the coloring photosensitive resin composition (green) was obtained.

[녹색 화소의 형성][Formation of Green Pixels]

실시예 1에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물에 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물을 사용하는 이외는 실시예 1과 같이 조작하여, 녹색 화소(2)를 형성시켰다. 얻어진 녹색 화소는 투명하였다.The green pixel 2 was formed like Example 1 except having used the coloring photosensitive resin composition obtained above instead of the coloring photosensitive resin composition obtained in Example 1. The obtained green pixel was transparent.

[평가][evaluation]

상기에서 형성한 녹색 화소를 실시예 1과 같이 하여 평가한 바, 230℃에서 2시간 방치한 후의 녹색 화소의 표면은 평활하게 되어 있어 열안정성은 양호하였다. 또한 미조사 영역의 유리면(31)은 잔사(녹색)가 부착되어 있었다. 또한, 녹색 화소의 단면 형상은 순 테이퍼형이었다.When the green pixel formed above was evaluated like Example 1, the surface of the green pixel after being left to stand at 230 degreeC for 2 hours was smooth, and thermal stability was favorable. Moreover, the residue (green) adhered to the glass surface 31 of the unirradiated area | region. In addition, the cross-sectional shape of the green pixel was a forward tapered shape.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 컬러 필터에 우수한 내구성과 양호한 컬러 화상을 제공한다.The coloring photosensitive resin composition of this invention gives a color filter the outstanding durability and a favorable color image.

Claims

A binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), and a photoinitiator (D) containing a coloring agent (A) and an acid value of 90 or more and 160 or less, and a weight average molecular weight of 20000 or more and 40000 or less, and contain a binder polymer (B) and light Content of binder polymer (B) per 100 mass parts of total amounts with a synthetic compound (C) is 55 mass parts or more, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.

The coloring according to claim 1, wherein the coloring agent (A) contains at least one pigment selected from the group consisting of CI Pigment Red 254, CI Pigment Green 36, CI Pigment Yellow 150 and CI Pigment Blue 15: 6. Photosensitive resin composition.

The colored photosensitive resin composition of Claim 1 or 2 which contains an acetophenone type photoinitiator and / or a triazine type photoinitiator as a photoinitiator (D).

And forming a layer (4) made of the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3 on the substrate (3), exposing the layer (4), and then developing it. The formation method of the coloring pattern to perform.

A method for producing a color filter, comprising the step of forming a colored pattern by the method according to claim 4.