KR20030024675A - Ink jet printhead having a moving nozzle with an externally arranged actuator - Google Patents

Ink jet printhead having a moving nozzle with an externally arranged actuator Download PDF

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KR20030024675A
KR20030024675A KR1020027015684A KR20027015684A KR20030024675A KR 20030024675 A KR20030024675 A KR 20030024675A KR 1020027015684 A KR1020027015684 A KR 1020027015684A KR 20027015684 A KR20027015684 A KR 20027015684A KR 20030024675 A KR20030024675 A KR 20030024675A
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/015Ink jet characterised by the jet generation process
    • B41J2/04Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
    • B41J2/045Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

잉크 젯 프린트헤드용 노즐 조립체(10)는 기판(16)을 포함한다. 노즐 개구부를 형성하는 적어도 하나 이상의 노즐(22)이 상기 기판(16)상에 배치된다. 상기 노즐 개구부(24)는 노즐챔버(34)와 연결되어 있다. 상기 노즐(22)은 필요시 상기 노즐 개구부(24)를 통해 상기 노즐챔버(34)로 부터 잉크를 분출하기 위해 상기 기판(16)에 대해 상대적으로 움직일 수 있다. 액츄에이터(28)가 상기 노즐(22)의 외부에 배열되어 있으며 상기 노즐(22)의 변위를 제어하기 위해 상기 노즐(22)과 연결되어 있다.The nozzle assembly 10 for an ink jet printhead includes a substrate 16. At least one nozzle 22 forming a nozzle opening is disposed on the substrate 16. The nozzle opening 24 is connected to the nozzle chamber 34. The nozzle 22 may be moved relative to the substrate 16 to eject ink from the nozzle chamber 34 through the nozzle opening 24 as needed. An actuator 28 is arranged outside the nozzle 22 and is connected with the nozzle 22 to control the displacement of the nozzle 22.

Description

이동 노즐 및 외부에 배열된 액츄에이터를 구비한 잉크 젯 프린트헤드{INK JET PRINTHEAD HAVING A MOVING NOZZLE WITH AN EXTERNALLY ARRANGED ACTUATOR}INJ JET PRINTHEAD HAVING A MOVING NOZZLE WITH AN EXTERNALLY ARRANGED ACTUATOR}

본 출원인이 동시출원한 미국 특허출원 제 09/112,821호는 이동 노즐을 일반적으로 보여주고 있다. 그러한 이동 노즐 기구는 이동 노즐을 변위시킴으로써 잉크가 분사되도록 자기적으로 응답하는 수단에 의해 구동된다.US patent application Ser. No. 09 / 112,821, co-filed by the applicant, generally shows a moving nozzle. Such moving nozzle mechanism is driven by means for magnetically responding to eject ink by displacing the moving nozzle.

이러한 구성의 문제점은 잉크가 액츄에이터의 부분으로 진입되는 것을 방지하기 위해 상기 기구의 부품들이 소수성(疏水性, Hydrophobicity))을 갖도록 처리되어야 한다는 것이다.The problem with this configuration is that the parts of the instrument must be treated to be hydrophobic to prevent ink from entering the part of the actuator.

상기의 소수성 처리를 회피할 필요가 있는 경우 이동 노즐 타입 기구가 제안되고 있다.When it is necessary to avoid the hydrophobic treatment described above, a moving nozzle type mechanism has been proposed.

본 발명은 잉크 젯 프린트헤드에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 노즐 배열을 갖는 잉크 젯 프린터에 있어서 각 노즐은 외부에 배열된 액츄에이터 및 이동 노즐을 구비하는 잉크 젯 프린트헤드에 관한 것이다.The present invention relates to an ink jet printhead. More particularly, the present invention relates to an ink jet printhead having a nozzle array, each nozzle having an actuator and a moving nozzle arranged externally.

(함께 출원된 출원들)(Applications filed together)

본 발명과 관련된 다양한 방법, 시스템 및 장치들이 동시에 출원중인 아래의 출원서에 기재되어 있다. 아래의 출원들은 본 발명의 출원인 또는 양수인에 의해 본 출원과 동시에 출원된 것이다Various methods, systems and apparatuses associated with the present invention are described in the following pending applications. The following applications are filed concurrently with the present application by the applicant or assignee of the present invention

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상기의 동시출원된 출원서에 개시된 내용은 교차 참조되어 본 발명과 통합된다.The contents disclosed in these co- filed applications are cross-referenced and incorporated into the present invention.

이하 첨부된 개략도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying schematic drawings.

도 1은, 본 발명에 따른 잉크 젯 프린트헤드용 노즐 조립체의 3차원 개략도이고;1 is a three-dimensional schematic diagram of a nozzle assembly for an ink jet printhead according to the present invention;

도 2 내지 도 4는, 도 1의 노즐 조립체의 동작을 설명하기 위한 3차원 개략도이며;2 to 4 are three-dimensional schematics for explaining the operation of the nozzle assembly of FIG. 1;

도 5는, 잉크 젯 프린트헤드를 형성하는 노즐 배열의 3차원 도이고;5 is a three dimensional view of the nozzle arrangement forming the ink jet printhead;

도 6은, 도 5 배열의 부분 확대도이며;FIG. 6 is a partial enlarged view of the FIG. 5 arrangement; FIG.

도 7은, 노즐 가드를 포함하는 잉크 젯 프린트헤드의 3차원 도이고;7 is a three dimensional view of an ink jet printhead including a nozzle guard;

도 8a 내지 8r은, 잉크 젯 프린트헤드의 노즐 조립체의 제작과정을 도시한 3차원도이며;8A to 8R are three-dimensional views showing the fabrication process of the nozzle assembly of the ink jet printhead;

도 9a 내지 9r은, 제작과정을 도시한 측단면도이고;9a to 9r are side cross-sectional views showing the fabrication process;

도 10a 내지 10k는, 제작 프로세스의 다양한 과정에 사용되는 마스크의 배치도이며;10A-10K are layout views of masks used in various processes of the fabrication process;

도 11a 내지 11c는, 도 8 및 도 9의 방법에 따라 제작된 노즐 조립체의 동작을 도시한 3차원도이고;11A-11C are three-dimensional views illustrating the operation of a nozzle assembly constructed in accordance with the methods of FIGS. 8 and 9;

도 12a 내지 12c는, 도 8 및 도 9의 방법에 따라 제작된 노즐 조립체의 동작을 도시한 측 단면도이다.12A-12C are side cross-sectional views illustrating the operation of nozzle assemblies fabricated in accordance with the methods of FIGS. 8 and 9.

본 발명에 의하면,다음의 구성요소를 포함하는 잉크 젯 프린프헤드가 제공된다.According to the present invention, there is provided an ink jet printhead comprising the following components.

기판(Substrate);Substrate;

노즐 개구부(Opening)를 형성하며, 상기 기판상에 배치되어 있고, 상기 노즐 개구부는 노즐챔버와 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 노즐이 필요시 상기 노즐챔버로 부터 상기 노즐 개구부로 잉크를 분사시키기 위해 상기 기판에 대해 움직일 수 있도록 된 적어도 하나 이상의 노즐; 및A nozzle opening is formed on the substrate, the nozzle opening is connected to the nozzle chamber, and at least one nozzle is required to eject ink from the nozzle chamber to the nozzle opening if necessary. At least one nozzle adapted to be movable relative to the substrate; And

상기 노즐의 외부에 배치되어 있고 상기 노즐의 변위를 제어하기 위해 상기 노즐에 연결되어 있는 액츄에이터.An actuator disposed outside the nozzle and connected to the nozzle for controlling the displacement of the nozzle.

본 명세서에서 "노즐(Nozzle)" 이라는 용어는 개구부 그 자체가 아니고 개구부를 형성하는 요소로 이해되어야 한다.The term "nozzle" is to be understood herein as not the opening itself but as an element forming the opening.

상기 노즐은 개구부를 형성하는 크라운부(Crown portion)와 상기 크라운부와 연결되며 노즐챔버 주변벽의 첫 부분을 형성하는 스커트부(Skirt portion)를 포함할 수 있다.The nozzle may include a crown portion forming an opening and a skirt portion connected to the crown portion and forming a first portion of a peripheral wall of the nozzle chamber.

상기 프린프헤드는 노즐챔버의 바닥을 형성하는 잉크 입구 구멍과 상기 구멍을 에워싸며 상기 노즐챔버 주변벽의 두번째 부분을 형성하는 돌출벽을 포함할 수 있다. 상기 스커트부는 기판에 대해 움직일 수 있고, 특히, 잉크 분사와 노즐챔버의 충전을 각기 행하기 위해 기판을 향하여 그리고 기판으로 부터 움직일 수 있음을 이해하여야 한다. 그리하여 상기한 돌출벽은 상기 노즐챔버로 부터의 잉크 누설을 방지하기 위한 방지 수단으로서의 기능을 수행 할 수 있다. 바람직하게, 상기 돌출벽은 누설방지 기능을 수행하며 내부로 향하는 가장자리부 또는 와이퍼부(Wiper portion)부를 구비하고 있다. 이는 상기 노즐이 상기 기판을 향해 움직일때, 잉크의 점성 및 상기 가장자리부와 상기 스커트부의 간격에 기인하여 잉크가 분출되는 것을 방지하기 위한 것이다.The print head may include an ink inlet hole forming a bottom of the nozzle chamber and a protrusion wall surrounding the hole and forming a second portion of the peripheral wall of the nozzle chamber. It should be understood that the skirt portion can be moved relative to the substrate, and in particular can be moved towards and away from the substrate to effect ink injection and filling of the nozzle chamber, respectively. Thus, the protruding wall can function as a prevention means for preventing ink leakage from the nozzle chamber. Preferably, the protruding wall performs a leakage preventing function and has an edge portion or a wiper portion facing inwardly. This is to prevent the ink from being ejected due to the viscosity of the ink and the gap between the edge portion and the skirt portion when the nozzle moves toward the substrate.

바람직하게, 상기 액츄에이터는 열 벤드(Thermal Bend) 액츄에이터이다. 상기 열 벤드 액츄에이터는 능동 빔(Beam)과 수동 빔의 두 빔으로 구성될 수 있다. "능동 빔"에 의해서라 함은 상기 수동 빔을 통해서는 전류가 흐르지 않는 반면, 액츄에이터의 작동에 의해 전류가 상기 능동 빔을 통해 흐르기 위해 발생되는 것을 의미한다. 상기 액츄에이터의 구조상, 전류가 상기 능동 빔을 통해 흐를때 저항열에 의해 팽창되는 현상이 발생하는 것이 이해 될 것이다. 상기 수동 빔이 구속되어있으므로, 상기 노즐을 변위시키기 위해서는 연결부재에 굽힘 작용이 발생된다.Preferably, the actuator is a thermal bend actuator. The thermal bend actuator may be composed of two beams, an active beam and a passive beam. By "active beam" is meant that no current flows through the passive beam, while current is generated by the actuation of the actuator to flow through the active beam. It will be understood that due to the structure of the actuator, a phenomenon in which current is expanded by the heat of resistance occurs when flowing through the active beam. Since the passive beam is constrained, a bending action occurs in the connecting member in order to displace the nozzle.

상기 빔 들은 한쪽이 상기 기판에 고정되고 그로부터 상부로 연장된 앵커(Anchor)에, 반대쪽 끝은 연결부재에 고정될 수 있다. 상기 연결부재는 상기 액츄에이터에 연결된 한쪽 끝과 아암(Arm)의 반대쪽 끝단에 외팔보(Cantilever)형태로 연결된 노즐을 구비한 아암을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 아암의 한쪽 끝에서의 벤딩 모우멘트(Bending Moment)는 상기 노즐을 필요한 만큼 이동시키기 위해 반대쪽 끝에서 확대된다.The beams may be fixed to an anchor, one end of which is fixed to the substrate and extends upwardly therefrom, the other end of which is fixed to the connecting member. The connecting member may include an arm having a nozzle connected to one end connected to the actuator and an opposite end of the arm in a cantilever shape. Thus, the bending moment at one end of the arm is enlarged at the opposite end to move the nozzle as needed.

상기 프린트헤드는 기판상에 배열되며 각각 연결된 액츄에이터와 연결부재를 갖는 복수개의 노즐들을 포함할 수 있다. 각 노즐은 그와 연결된 액츄에이터와 연결부재와 함께 노즐 조립체를 형성할 수도 있다.The printhead may comprise a plurality of nozzles arranged on a substrate and each having an actuator and a connecting member connected thereto. Each nozzle may form a nozzle assembly with an actuator and connecting member connected thereto.

상기 프린트헤드는 평면상의 일체형 석출, 석판인쇄와 에칭 프로세스 그리고 좀더 상세하게, 상기 노즐 조립체는 이러한 프로세스들에 의해 상기 프린트헤드상에 형성될 수 있다.The printhead may be a planar integral deposition, lithography and etching process, and more particularly, the nozzle assembly may be formed on the printhead by these processes.

상기 기판은 집적 구동회로층(Integrated drive circuit layer)을 포함할 수 있다. 상기 집적 구동회로층은 CMOS 제작 프로세스를 이용하여 형성될 수 있다.The substrate may include an integrated drive circuit layer. The integrated driver circuit layer may be formed using a CMOS fabrication process.

먼저 도 1을 참조하면, 본 발명에 의한 노즐 조립체는 일반적으로 참조부호 10으로 표시되어 있다. 잉크 젯 프린트헤드는 실리콘 기판(16)상의 배열부(14)에 배치된 복수개의 노즐 조립체(10)를 구비하고 있다. 상기의 배열부(14)는 아래에서 더욱 상세하게 기술될 것이다.Referring first to FIG. 1, a nozzle assembly according to the present invention is generally indicated by reference numeral 10. The ink jet printhead has a plurality of nozzle assemblies 10 arranged in an array 14 on a silicon substrate 16. The arrangement 14 will be described in more detail below.

상기 조립체(10)는 유전체층(Dielectric layer,18)이 피복된 실리콘 기판 또는 웨이퍼(16)를 포함한다. CMOS 부동태층(Passivation layer, 20)은 상기 유전체층(18)에 피복된다.The assembly 10 includes a silicon substrate or wafer 16 coated with a dielectric layer 18. A CMOS passivation layer 20 is coated on the dielectric layer 18.

각 노즐 조립체(10)는 노즐 개구부(24)를 구비한 노즐(22), 레버 아암(26) 형태의 연결부재 및 액츄에이터(28)를 포함한다. 상기 레버 아암(26)은 상기 액츄에이터(28)를 상기 노즐(22)에 연결한다.Each nozzle assembly 10 includes a nozzle 22 having a nozzle opening 24, a connecting member in the form of a lever arm 26, and an actuator 28. The lever arm 26 connects the actuator 28 to the nozzle 22.

도 2 내지 도 4에 상세하게 도시된 바와 같이, 상기 노즐(22)은 크라운부(Crown portion, 30) 및 상기 크라운부에 연결된 스커트부(Skirt portion, 32)를 포함한다. 상기 스커트부(32)는 노즐챔버(34)의 주변벽 일부를 형성한다(도2 내지 도4 참조). 상기 노즐 개구부(24)는 유체가 흐를수 있도록 상기 노즐챔버(34)와 연결되어 있다. 상기 노즐 개구부(24)는 상기 노즐챔버(34)내에서 잉크(40) 표면의 메니스커스 (Meniscus, 38, 도2참조)를 "구속하는" 돌출된 림(36)으로 둘러싸여 있다는 점을 주목해야 한다.As shown in detail in FIGS. 2 to 4, the nozzle 22 includes a crown portion 30 and a skirt portion 32 connected to the crown portion. The skirt portion 32 forms a part of the peripheral wall of the nozzle chamber 34 (see Figs. 2 to 4). The nozzle opening 24 is connected to the nozzle chamber 34 to allow fluid to flow. Note that the nozzle opening 24 is surrounded in the nozzle chamber 34 by a protruding rim 36 that "constrains" a meniscus (see FIG. 2) on the surface of the ink 40. Should be.

잉크 입구 구멍(42, 도6에 가장 명확히 도시됨)은 노즐챔버(34)의 플로어(Floor, 46)에 형성되어 있다. 상기 구멍(42)은 기판(16)을 통과하여 형성된 잉크 입구 채널(48)과 함께 유체가 흐를수 있도록 형성되어 있다.An ink inlet hole 42 (shown most clearly in FIG. 6) is formed in the floor 46 of the nozzle chamber 34. The hole 42 is formed to allow fluid to flow with the ink inlet channel 48 formed through the substrate 16.

벽부(50)는 상기 구멍(42)에서 돌출되어 상기 플로어부(46)에서 상방향으로 연장되어 있다. 상기 노즐(22)의 스커트부(32)는, 위에서 설명한 바와 같이, 노즐챔버(34) 주변벽의 첫부분을 형성하고 상기 벽부(50)는 상기 노즐챔버(34) 주변벽의 두번째 부분을 형성한다.The wall portion 50 protrudes from the hole 42 and extends upwardly from the floor portion 46. As described above, the skirt portion 32 of the nozzle 22 forms the first portion of the peripheral wall of the nozzle chamber 34 and the wall portion 50 forms the second portion of the peripheral wall of the nozzle chamber 34. do.

상기 벽(50)은 그의 자유단에 내부로 향한 립(52)을 구비하고 있는데, 이는 상기 노즐(22)이 변위될 때 잉크의 이탈을 방지하는 유체 씨일의 역할을 하며, 이에 대해서는 아래에서 더욱 상세하게 설명될 것이다. 상기 잉크(40)의 점성 및 상기 립(52)과 스커트부(32) 간의 좁은 간격으로 인하여, 상기 내부로 향한 립(52)과 표면장력이 잉크가 상기 노즐챔버(34)로부터 이탈되는 것을 방지하는 씨일의 역할을 하게 되는 것을 이해할 수 있을 것이다.The wall 50 has an inwardly directed lip 52 at its free end, which acts as a fluid seal that prevents the escape of ink when the nozzle 22 is displaced, as described further below. It will be described in detail. Due to the viscosity of the ink 40 and the narrow gap between the lip 52 and the skirt portion 32, the inwardly directed lip 52 and surface tension prevent ink from escaping from the nozzle chamber 34. You'll understand the role of the seal.

상기 액츄에이터(28)는 열 벤드 액츄에이터이며 상기 기판(16) 또는, 좀더 상세하게, CMOS 부동태층(20)으로부터 상방향으로 연장된 앵커(54)에 연결되어 있다. 상기 앵커(54)는 상기 액츄에이터(28)와 전기적으로 연결된 전도성의 패드(56)에 고정되어 있다.The actuator 28 is a thermal bend actuator and is connected to the substrate 16 or, more specifically, to the anchor 54 extending upward from the CMOS passivation layer 20. The anchor 54 is secured to a conductive pad 56 electrically connected to the actuator 28.

상기 액츄에이터(28)는 제2 수동빔(60)위에 위치하고 있는 제1 능동빔(58)을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 상기 양 빔(58,60) 들은 질화티타늄(TiN)같은 전도성의 세라믹 재료이거나 이를 포함한다.The actuator 28 includes a first active beam 58 located above the second passive beam 60. In a preferred embodiment, both beams 58, 60 are or comprise a conductive ceramic material such as titanium nitride (TiN).

양 빔(58, 60)의 한쪽 끝은 상기 앵커(54)에 고정되어 있고 다른 한쪽 끝은 상기 아암(26)에 연결되어 있다. 전류가 상기 능동 빔(58)을 통해 흐르게 될 때 상기 빔(58)은 열적으로 팽창하게 된다. 전류의 흐름이 없는 상기 수동 빔(60)은 같은 비율로 팽창하지 않으므로, 상기 아암(26)에 굽힘 모우멘트가 발생하게 되어, 결과적으로 도3에 도시된 바와 같이, 상기 노즐(22)은 상기 기판(16)을 향해 하방향으로 변위하게 된다. 이에 의해, 도 3의 62로 도시된 바와 같이 잉크가 상기 노즐 개구부(24)를 통해 분출된다. 상기 능동 빔(58)에서 열원이 제거될 때, 즉 전류의 흐름을 차단함으로써, 상기 노즐(22)은 도 4에 도시된 바와 같이 정지된 상태로 되돌아 오게 된다. 상기 노즐(22)이 정지된 상태로 되돌아 올때, 도 4에 66으로 도시된 바와 같이 잉크 방울의 목부(Neck)가 파단되어 잉크 방울(64)이 형성된다. 상기 잉크 방울(64)은 그 다음 종이와 같은 인쇄 매체로 이동한다. 상기 잉크 방울(64)이 형성됨에 따라, 도 4의 68에 도시된 바와 같이 "음(Negative)"의 메니스커스(Meniscus)가 형성된다. 상기 "음"의 메니스커스(68)에 의해 잉크(40)가 상기 노즐챔버(34)로 유입되게 되고, 상기 노즐 조립체(10)로부터 다음의 잉크 낙하 분출을 위해 즉시 새로운 메니스커스가 형성되게 된다.One end of both beams 58, 60 is fixed to the anchor 54 and the other end is connected to the arm 26. As current flows through the active beam 58, the beam 58 thermally expands. Since the passive beam 60 without current flow does not expand at the same rate, bending moments are generated in the arm 26, and as a result, as shown in FIG. It is displaced downward toward the substrate 16. Thereby, ink is ejected through the nozzle opening 24, as shown at 62 in FIG. When the heat source is removed from the active beam 58, i.e. by blocking the flow of current, the nozzle 22 is returned to a stationary state as shown in FIG. When the nozzle 22 is returned to the stopped state, the neck of the ink drop is broken as shown at 66 in FIG. 4 to form the ink drop 64. The ink drops 64 then travel to a print medium such as paper. As the ink droplets 64 are formed, “Negative” meniscus is formed as shown at 68 in FIG. 4. The “negative” meniscus 68 causes ink 40 to enter the nozzle chamber 34 and immediately forms a new meniscus for the next ink drop ejection from the nozzle assembly 10. Will be.

이하, 도 5와 도 6을 참조하여 상기 노즐 배열부(14)를 상세하게 설명한다. 상기 배열부(14)는 4가지 색상의 컬러 프린트헤드를 위한 것이다. 따라서, 상기 배열부(14)는 노즐 조립체의 각 컬러를 위한 네 그룹(70)을 포함한다. 각 그룹(70)은 두 열(72,74)로 배열된 노즐 조립체(10)를 구비하고 있다. 상기 그룹(70)들 중의 하나가 도 6에 상세하게 도시되어 있다.Hereinafter, the nozzle arrangement 14 will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6. The arrangement 14 is for four color printheads. Thus, the arrangement 14 includes four groups 70 for each color of the nozzle assembly. Each group 70 has nozzle assemblies 10 arranged in two rows 72, 74. One of the groups 70 is shown in detail in FIG. 6.

상기 노즐 조립체(10)를 두 열(72,74)로 밀착시켜 용이하게 조립할 수 있도록, 한 열(74)의 노즐 조립체(10)는 다른 열(74)의 노즐 조립체(10)에 대해 경사지거나 엇갈리게 배치되어 있다. 또한, 상기 한 열(72)의 노즐 조립체(10)는 다른 열(74)의 노즐 조립체(10)의 레버 아암(26)이 상기 한 열(72)의 노즐 조립체(10)의 노즐(22) 사이로 인접하여 통과되게 하기 위해서 서로 충분히 떨어져서 배치된다. 각 노즐 조립체(10)는 상기 한 열(72)의 노즐(22)이 다른 열(74)의 인접한 노즐 조립체(10)의 액츄에이터(28)와 상기 노즐(22) 사이에 끼워지도록 대체로아령(Dumbbell)형상으로 되어 있다.The nozzle assemblies 10 in one row 74 are inclined relative to the nozzle assemblies 10 in the other row 74 so that the nozzle assemblies 10 can be assembled in two rows 72, 74 to facilitate assembly. Staggered In addition, the nozzle assembly 10 of the one row 72 has a lever arm 26 of the nozzle assembly 10 of the other row 74 and the nozzle 22 of the nozzle assembly 10 of the one row 72. Are spaced far enough apart from one another to allow adjacent passage therebetween. Each nozzle assembly 10 is generally configured so that the nozzles 22 in one row 72 are sandwiched between the actuators 22 and the actuators 28 of adjacent nozzle assemblies 10 in the other row 74. ) Is shaped.

또한, 각 열(72, 74)의 노즐(22)을 밀착시켜 조립하는 것을 용이하게 하기 위해, 각 노즐(22)은 대체로 육각형의 형상을 하고 있다.In addition, in order to facilitate the assembly of the nozzles 22 of the rows 72 and 74 in close contact, each nozzle 22 has a substantially hexagonal shape.

해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 사용시 상기 노즐(22)이 상기 기판(16)을 향해 변위될 때, 상기 노즐 통로(24)가 상기 노즐챔버(34)에 대해 약간의 각도를 갖고 있음으로써 잉크가 수직방향에서 약간 벗어나서 분출되는 것을 이해할 수 있을 것이다. 도 5와 도 6에 도시된 바와 같,이 상기 각 열(72, 74)의 노즐 조립체(10)의 액츄에이터(28)가 상기 각 열(72, 74) 측면에 대해 같은 방향으로 배열된 것이 본 발명의 장점이다. 따라서, 상기 한 열(72)의 노즐(22)로부터 분출된 잉크와 상기 다른 열(74)의 노즐(22)로부터 분출된 잉크가 서로에 대해 평행하게 됨에 따라 인쇄의 질을 향상시키게 된다.Those skilled in the art will appreciate that the nozzle passage 24 has a slight angle to the nozzle chamber 34 when the nozzle 22 is displaced toward the substrate 16 in use. It will be appreciated that the ink is ejected slightly away from the vertical direction. As shown in FIGS. 5 and 6, it is seen that the actuators 28 of the nozzle assemblies 10 of these rows 72, 74 are arranged in the same direction with respect to the sides of the rows 72, 74. It is an advantage of the invention. Therefore, the ink ejected from the nozzles 22 of the one row 72 and the ink ejected from the nozzles 22 of the other row 74 become parallel to each other to improve the printing quality.

또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 기판(16)은 상기 패드(56)를 통해 상기 노즐 조립체(10)의 액츄에이터(28)와 전기적으로 연결시켜주는 결합패드(76)를 상기 기판상에 구비하고 있다. 이러한 전기적인 연결은 CMOS층(미도시)을 통해 형성된다.In addition, as shown in FIG. 5, the substrate 16 has a coupling pad 76 on the substrate that electrically connects to the actuator 28 of the nozzle assembly 10 through the pad 56. Equipped. This electrical connection is made through a CMOS layer (not shown).

도 7은 본 발명을 상세히 도시하고 있다. 앞의 도면과 관련하여, 달리 명시되지 않는 한, 동일한 참조부호는 동일한 부품을 나타낸다.7 illustrates the invention in detail. In the context of the preceding figures, unless otherwise specified, like reference numerals refer to like parts.

여기서 노즐 가드(80)는 상기 배열부(14)의 기판(16)상에 장착되어 있다. 상기 노즐 가드(80)는 관통하는 복수개의 통로(84)를 구비한 몸체부(82)를 포함한다. 상기 통로(84)는, 잉크가 어느 하나의 노즐 개구부(24)로부터 분출될 때, 상기 잉크가 인쇄매체에 도달하기 전에 관련된 통로(84)를 통과하도록, 상기 배열부(14)의 노즐 조립체(10)의 노즐개구부(24)와 일치된다.The nozzle guard 80 is mounted on the substrate 16 of the arrangement 14. The nozzle guard 80 includes a body portion 82 having a plurality of passages 84 therethrough. The passageway 84 allows the nozzle assembly of the arrangement 14 to pass through the associated passageway 84 before the ink reaches the print medium when the ink is ejected from any one of the nozzle openings 24. Coincides with the nozzle opening 24 of FIG.

상기 몸체부(82)는 다리(Limb) 또는 지주(86)에 의해 상기 노즐 조립체(10)에 대해 간격을 가지고 장착된다. 상기 지주(86)중의 하나는 공기 입구부(88)를 구비하고 있다.The body portion 82 is mounted at intervals with respect to the nozzle assembly 10 by limbs or struts 86. One of the struts 86 has an air inlet 88.

사용시, 즉 상기 배열부(14)가 작동할 때, 상기 통로(84)를 통과하는 잉크와 함께 상기 통로(84)를 통과할 수 있도록 공기가 상기 공기 입구부(88)를 통해 공급된다.In use, ie when the arrangement 14 is activated, air is supplied through the air inlet 88 so that it can pass through the passage 84 with ink passing through the passage 84.

상기 잉크는, 공기가 상기 잉크방울(64)과 다른 속도로 상기 통로(84)를 통해 공급되기 때문에 공기중에 부유되지 않는다, 예를 들면, 상기 잉크 방울(64)은 상기 노즐(22)로부터 약 3 m/s의 속도로 분출된다. 상기 공기는 상기 통로(84)를 통해 약 1 m/s의 속도로 공급된다.The ink is not suspended in the air because air is supplied through the passageway 84 at a different speed than the ink droplets 64, for example, the ink droplets 64 are weak from the nozzle 22. Ejected at a speed of 3 m / s. The air is supplied through the passageway 84 at a rate of about 1 m / s.

공기 공급의 목적은 상기 통로(84)에 이물질이 혼입되지 않도록 하기 위한 것이다. 먼지 입자와 같은 외부의 이물질은 상기 노즐 조립체(10)에 떨어져 그 작동에 악영향을 미칠 위험이 있다. 상기 노즐 가드(80)에 상기 공기 입구부(88)를 형성함으로써 이러한 문제가 상당히 방지될 수 있다.The purpose of the air supply is to prevent foreign matter from entering the passageway 84. Foreign particles, such as dust particles, fall into the nozzle assembly 10 and there is a risk of adversely affecting its operation. By forming the air inlet 88 in the nozzle guard 80 this problem can be significantly avoided.

이하 도 8 내지 도 10을 참조하여 상기 노즐 조립체(10)의 제작과정을 설명한다.Hereinafter, a manufacturing process of the nozzle assembly 10 will be described with reference to FIGS. 8 to 10.

먼저 실리콘 기판 또는 웨이퍼(16)의 표면상에 유전체층(18)이 피복된다. 상기 유전체층(18)은 약 1.5 마이크론의 CVD 산화물로 형성된다.레지스트(Resist)가 상기 유전체층(18)위에 스핀 코팅되고, 상기 층은 마스크(100)로 노출된 뒤, 계속해서 현상된다.First, a dielectric layer 18 is coated on the surface of the silicon substrate or wafer 16. The dielectric layer 18 is formed of about 1.5 micron CVD oxide. A resist is spin coated over the dielectric layer 18, and the layer is exposed to the mask 100 and then developed.

현상된 후, 상기 유전체층(18)은 상기 실리콘 층(16)을 향해 아래방향으로 플라즈마 에칭된다. 그 다음, 상기 레지스트가 제거되고, 상기 층은 깨끗이 청소된다. 이 과정에서 상기 잉크 입구 구멍(42)을 형성한다.After being developed, the dielectric layer 18 is plasma etched downward toward the silicon layer 16. The resist is then removed and the layer is cleaned thoroughly. In this process, the ink inlet hole 42 is formed.

도 8b에서, 상기 유전체층(18)에 약 0.8 마이크론의 알루미늄(102)이 도포된다. 레지스트가 스핀(Spin) 코팅되고 상기 알루미늄(102)이 마스크(104)로 노출되어 현상된다. 상기 알루미늄(102)이 유전체층(18)을 향해 아래방향으로 플라즈마 에칭되고, 상기 레지스트는 제거되며 상기 디바이스(Device)가 청소된다. 이 과정에서 결합패드가 제공되며 상기 잉크 젯 액츄에이터(28)에 서로 연결된다. 이 연결에 의해 CMOS층(미도시)상에서 NMOS 드라이브 트랜지스터와 동력 면(Power Plane)이 서로 연결되게 된다.In FIG. 8B, about 0.8 micron aluminum 102 is applied to the dielectric layer 18. The resist is spin coated and the aluminum 102 is exposed to the mask 104 and developed. The aluminum 102 is plasma etched downward toward the dielectric layer 18, the resist is removed and the device is cleaned. In this process a bonding pad is provided and connected to the ink jet actuator 28. This connection causes the NMOS drive transistor and the power plane to be connected to each other on the CMOS layer (not shown).

약 0.5 마이크론의 PECVD 질화물이 CMOS 부동태층(20)으로 피복된다. 레지스트가 스핀 코팅되고, 상기 부동태층(20)이 마스크(106)로 노출된 후 현상된다. 현상 후, 상기 질화물이 알루미늄 층(102)과 입구구멍(42)지역에 있는 상기 실리콘층(16)을 향해 플라즈마 에칭된다. 상기 레지스트는 제거되며 상기 디바이스가 청소된다.About 0.5 micron PECVD nitride is coated with the CMOS passivation layer 20. The resist is spin coated and developed after the passivation layer 20 is exposed to the mask 106. After development, the nitride is plasma etched toward the silicon layer 16 in the region of the aluminum layer 102 and the inlet hole 42. The resist is removed and the device is cleaned.

희생물질의 층(108)이 상기 부동태층(20)위에 스핀(Spin) 코팅된다. 상기 층(108)은 6 마이크론의 감광성 폴리이미드 또는 약 4 ㎛의 고온 레지스트이다. 상기 층(108)은 소프트베이크(Softbake)된 다음 마스크(110)로 노출된 뒤 현상된다. 그 다음 상기 층(108)은, 상기 층(108)이 폴리이미드(Polyimide)를 포함할 때는 400°C 에서 1시간 동안, 또는 상기 층(108)이 고온 레지스트일 경우에는 300°C 이상에서 하드베이크 (Hardbake)된다. 수축으로 인한 상기 폴리이미드 층(108)의 패턴에 따른 변형을 상기 마스크(110) 설계시 고려하여야 하는 것을 도면상에서 주목하여야 한다.A layer 108 of sacrificial material is spin coated on the passivation layer 20. The layer 108 is 6 micron photosensitive polyimide or about 4 μm high temperature resist. The layer 108 is softbaked and then exposed to a mask 110 and then developed. The layer 108 is then hardened at 400 ° C. for 1 hour when the layer 108 comprises polyimide, or at 300 ° C. or higher if the layer 108 is a high temperature resist. Hard bake. It should be noted in the drawings that deformation along the pattern of the polyimide layer 108 due to shrinkage should be considered in the design of the mask 110.

다음 단계로, 도 8e 에 도시된 바와 같이, 제2 희생층(Sacrificial Layor, 112)이 적용된다. 상기 층(112)은 스핀 코팅된 2 ㎛의 감광성 폴리이미드이거나 약 1.3 ㎛의 고온의 레지스트이다. 상기 층(112)은 소프트베이크되고 마스크(114)로 노출된다. 상기 마스크(114)로 노출된 후, 상기 층(112)은 현상된다. 상기 층(112)이 폴리이미드일 경우에, 상기 층(112)은 400°C 에서 약 1시간 동안 하드베이크된다. 상기 층(112)이 레지스트일 경우에는 300°C 보다 고온에서 약 1시간 동안 하드베이크된다.Next, as shown in FIG. 8E, a second sacrificial layer 112 is applied. The layer 112 is spin coated 2 μm photosensitive polyimide or a high temperature resist of about 1.3 μm. The layer 112 is softbaked and exposed with a mask 114. After exposure to the mask 114, the layer 112 is developed. When the layer 112 is polyimide, the layer 112 is hardbaked at 400 ° C. for about 1 hour. If the layer 112 is a resist, it is hardbaked for about 1 hour at a temperature higher than 300 ° C.

그 다음, 0.2 마이크론의 다층 금속층(116)이 피복된다. 상기 층(116)의 일부는 액츄에이터(28)의 수동 빔(60)을 형성한다.Next, a 0.2 micron multilayer metal layer 116 is coated. Part of the layer 116 forms the passive beam 60 of the actuator 28.

상기 층(116)은 1,000Å의 질화티타늄(TiN)을 약 300°C에서 스퍼터링(Sputtering)하고, 50Å의 질화탄탈룸(TaN)을 스퍼터링함으로써 형성된다. 1,000Å의 TiN이 더 스퍼터링 되고, 50Å의 TaN 과 1,000Å의 TiN이 추가로 스퍼터링된다.The layer 116 is formed by sputtering 1,000 nm of titanium nitride (TiN) at about 300 ° C. and sputtering 50 nm of tantalum nitride (TaN). 1,000 ns of TiN are further sputtered, and 50 ns of TaN and 1,000 ns of TiN are further sputtered.

TiN 대신으로 사용될 수 있는 물질로는 TiB₂,MoSi₂,또는 (Ti,Al)N 등이 있다.Materials that can be used instead of TiN include TiB₂, MoSi₂, or (Ti, Al) N.

상기 층(116)은 그 다음 마스크(118)로 노출되고, 현상되며, 상기 층(112)을 향해 아래로 플라즈마 에칭되는데, 상기 층(116)에 적용된 레지스트는 경화된 층(108 또는 112)이 제거되지 않도록 주의하면서 습한 상태에서 벗겨진다.The layer 116 is then exposed to the mask 118, developed, and plasma etched down towards the layer 112, wherein the resist applied to the layer 116 is formed by the cured layer 108 or 112. Peel off in humid conditions, taking care not to remove.

제 3의 희생 층(120)은 4㎛의 감광성 폴리이미드 또는 약 2.6㎛의 고온 레지스트를 스핀 코팅함으로써 적용된다. 상기 층(120)은 소프트베이크된 후에 마스크(122)로 노출된다. 노출된 층은 그 다음 현상되고, 하드베이킹된다. 폴리이미드인 경우, 상기 층(120)은 400℃ 에서 약 1시간 동안, 또는 상기 층(120)이 레지스트를 포함하고 있을 때는 300℃ 이상에서 하드베이크된다.The third sacrificial layer 120 is applied by spin coating 4 μm photosensitive polyimide or about 2.6 μm high temperature resist. The layer 120 is exposed to the mask 122 after softbaking. The exposed layer is then developed and hardbaked. In the case of polyimide, the layer 120 is hardbaked at 400 ° C. for about 1 hour, or at 300 ° C. or higher when the layer 120 contains resist.

제 2의 다층 금속층(124)이 상기 층(120)에 적용된다. 상기 층(124)의 조성물은 상기 층(116)과 동일하며 같은 방법으로 적용된다. 상기 양 층(116, 124)은 전기적으로 전도성을 갖는 층이다.A second multilayer metal layer 124 is applied to the layer 120. The composition of the layer 124 is the same as the layer 116 and is applied in the same way. Both layers 116 and 124 are electrically conductive layers.

상기 층(124)은 마스크(126)로 노출된 다음 현상된다. 상기 층(124)은 폴리이미드 또는 레지스트층(120)을 향해 아래로 플라즈마 에칭된 후에, 상기 층(124)에 적용된 레지스트는 경화된 층(108, 112 또는 120)이 제거되지 않도록 습한 상태에서 조심스럽게 벗겨진다. 상기 층(124)의 남은 부분은 액츄에이터(28)의 능동 빔(58)을 형성한다.The layer 124 is exposed with a mask 126 and then developed. After the layer 124 has been plasma etched down towards the polyimide or resist layer 120, the resist applied to the layer 124 is carefully moistened so that the cured layer 108, 112 or 120 is not removed. Peeled off The remainder of the layer 124 forms the active beam 58 of the actuator 28.

제 4 희생층(128)은 4㎛의 감광성 폴리이미드 또는 약 2.6㎛의 고온 레지스트를 스핀 코팅함으로써 적용된다. 상기 층(128)은 소프트베이크되고, 마스크(130)로 노출되며, 그 다음 도 9k에 도시된 바와 같이 섬 부분(Island Portions)을 남기도록 현상된다. 상기 층(128)의 나머지 부분은, 폴리이미드인 경우 400℃에서 약 1시간 동안, 레지스트인 경우 300℃ 이상에서 하드베이크된다.The fourth sacrificial layer 128 is applied by spin coating 4 μm photosensitive polyimide or about 2.6 μm high temperature resist. The layer 128 is softbaked, exposed to the mask 130 and then developed to leave Island Portions as shown in FIG. 9K. The remaining portion of layer 128 is hardbaked at about 400 ° C. for polyimide for about 1 hour and at least 300 ° C. for resist.

도 8l에 도시된 바와 같이 높은 영률(Young's Modulus)을 갖는 유전체층(132)이 피복된다. 상기 층(132)은 약 1㎛의 질화실리콘이나 산화알루미늄 으로 구성된다. 상기 층(132)은 희생층(108,112,120,128)의 하드베이크되는 온도보다 낮은 온도에서 피복된다. 이 유전체층(132)에 요구되는 주요 특성은 높은 탄성계수, 화학적 불활성(Inertness) 및 TiN에 대한 양호한 접착성이다.As shown in FIG. 8L, a dielectric layer 132 having a high Young's Modulus is coated. The layer 132 is made of silicon nitride or aluminum oxide of about 1 μm. The layer 132 is coated at a temperature lower than the hardbaking temperature of the sacrificial layers 108, 112, 120, and 128. The main properties required for this dielectric layer 132 are high modulus of elasticity, chemical inertness and good adhesion to TiN.

제 5 희생층(134)은 2㎛의 감광성 폴리이미드 또는 약 1.3㎛의 고온 레지스트를 스핀(Spin) 코팅함으로써 적용된다. 상기 층(134)은 소프트베이크되고,마스크(136)로 노출되고 현상된다. 그 다음, 상기 층(134)의 나머지 부분은 폴리이미드인 경우 400℃에서 약 1시간 동안, 레지스트인 경우 300℃ 이상에서 하드베이크 된다.The fifth sacrificial layer 134 is applied by spin coating 2 μm photosensitive polyimide or about 1.3 μm high temperature resist. The layer 134 is softbaked, exposed to the mask 136 and developed. The remainder of the layer 134 is then hardbaked at 400 ° C. for about 1 hour in the case of polyimide and at 300 ° C. or higher in the case of resist.

상기 유전체층(132)은 상기 희생층(134)의 어느 부분도 제거되지 않도록 주의하면서 상기 희생층(128)을 향하여 아래방향으로 플라즈마 에칭된다.The dielectric layer 132 is plasma etched downward toward the sacrificial layer 128 while being careful not to remove any portion of the sacrificial layer 134.

이 단계는 상기 노즐 조립체(10)의 개구부(24), 레버 아암(26) 및 앵커(54)를 형성한다.This step forms the opening 24, lever arm 26 and anchor 54 of the nozzle assembly 10.

높은 영률을 갖는 유전체층(138)이 피복된다. 이 유전체층(138)은 0.2㎛의 질화실리콘 또는 산화알루미늄을 상기 희생층(108,112,120 및 128)의 하드베이크 되는 온도보다 낮은 온도로 피복함으로써 형성된다.Dielectric layer 138 having a high Young's modulus is coated. The dielectric layer 138 is formed by coating 0.2 탆 silicon nitride or aluminum oxide at a temperature lower than the temperature at which the sacrificial layers 108, 112, 120 and 128 are hard baked.

그 다음,도 8p에 도시된 바와 같이, 상기 층(138)은 0.35 마이크론의 깊이로 이방성으로(Anisotropically) 플라즈마 에칭된다. 이러한 에칭은 상기 유전체층(132) 및 상기 희생층(134)의 측벽을 제외한 모든 표면에서 유전성을 제거하기 위한 것이다. 이러한 과정은 위에서 설명한 바와 같이 상기 노즐 개구부(24)의 주위에 잉크의 메니스커스를 "구속하는" 상기 노즐 림(36)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8P, the layer 138 is plasma etched anisotropically to a depth of 0.35 microns. This etching is intended to remove dielectric material from all surfaces except the sidewalls of the dielectric layer 132 and the sacrificial layer 134. This process forms the nozzle rim 36 "restricting" the meniscus of ink around the nozzle opening 24 as described above.

자외선(UV) 방출 테이프(140)가 적용된다. 4㎛의 레지스트가 상기 실리콘 웨이퍼(16)의 후면에 스핀 코팅된다. 상기 웨이퍼(16)는 잉크 입구 채널(48)을 형성하도록 상기 웨이퍼(16)를 백 에칭(Back etching)하기 위해 마스크(142)로 노출된다. 그 다음 상기 레지스트는 상기 웨이퍼(16)로부터 벗겨진다.Ultraviolet (UV) emitting tape 140 is applied. A 4 μm resist is spin coated on the backside of the silicon wafer 16. The wafer 16 is exposed with a mask 142 to back etch the wafer 16 to form an ink inlet channel 48. The resist is then stripped from the wafer 16.

추가적인 자외선 방출 테이프(미도시)가 상기 웨이퍼(16)의 후면에 적용되고 상기 테이프(140)는 제거된다. 도 8r 및 도 9r에 도시된 바와 같이, 상기 희생층 (108,112,120,128 및 134)은 최종의 노즐 조립체(10)를 제공하기 위해 산소 플라즈마로 벗겨진다. 참조를 용이하게 하기 위해, 이 두 도면에 도시된 참조부호는 노즐 조립체(10)의 관련 부품을 표시하기 위해 도 1에 도시된 부호와 동일하다. 도 11 및 도 12는, 도 8 및 도 9를 참조하여 위에서 설명한 제조방법에 따라 제작된 상기 노즐 조립체(10)의 작동을 보여주고 있는데, 이들 도면은 도 2 내지 도4와 일치한다.An additional ultraviolet emitting tape (not shown) is applied to the backside of the wafer 16 and the tape 140 is removed. As shown in FIGS. 8R and 9R, the sacrificial layers 108, 112, 120, 128 and 134 are stripped with oxygen plasma to provide the final nozzle assembly 10. For ease of reference, reference numerals shown in these two figures are the same as those shown in FIG. 1 to indicate the relevant parts of the nozzle assembly 10. 11 and 12 show the operation of the nozzle assembly 10 manufactured according to the manufacturing method described above with reference to FIGS. 8 and 9, which are consistent with FIGS. 2 to 4.

해당분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 광범위하게 설명된 본 발명의 사상이나 범위를 벗어나지 않고 상기의 특정 실시예에 나타난 바와 같은 수많은 변형 및/또는 수정이 가능하다는 것을 이해 할 수 있을 것이다. 따라서, 상기 실시예는 모든 면에서 한정적인 것이 아니라 예시적인 것으로 간주되어야 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that many variations and / or modifications as shown in the specific embodiments above are possible without departing from the spirit or scope of the invention as broadly described. Accordingly, the above embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive.

Claims (13)

기판(Substrate);Substrate; 노즐 개구부를 형성하며, 상기 기판상에 배치되어 있고, 상기 노즐 개구부는 노즐챔버와 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 노즐이 필요시 상기 노즐챔버로 부터 상기 노즐 개구부로 잉크를 분출시키기 위해 상기 기판에 대해 움직일 수 있도록 된 적어도 하나 이상의 노즐; 및A nozzle opening formed on the substrate, the nozzle opening being connected to the nozzle chamber, wherein at least one nozzle is required for the substrate to eject ink from the nozzle chamber to the nozzle opening if necessary. At least one nozzle adapted to be movable; And 상기 노즐의 외부에 배치되어 있고 상기 노즐의 변위를 제어하기 위해 상기 노즐에 연결되어 있는 액츄에이터;An actuator disposed outside the nozzle and connected to the nozzle for controlling the displacement of the nozzle; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.Ink jet printhead comprising a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노즐은, 개구부를 형성하는 크라운부(Crown portion) 및 상기 크라운 부에 연결되고 상기 노즐 챔버 주변벽의 제1 부분을 형성하는 스커트부(Skirt portion)를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.The nozzle may include a crown portion forming an opening and a skirt portion connected to the crown portion and forming a first portion of the nozzle chamber peripheral wall. . 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 노즐실의 플로어에 형성된 잉크 입구 구멍 및 상기 구멍을 둘러싸고 상기 노즐챔버 주변벽의 제2 부분을 형성하는 돌출벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And an ink inlet hole formed in the floor of the nozzle chamber and a protruding wall surrounding the hole and forming a second portion of the peripheral wall of the nozzle chamber. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 스커트부는, 상기 기판에 대해 상대적으로 움직일 수 있고 상기 돌출벽은 상기 노즐챔버로 부터 잉크가 누설되는 것을 방지하는 방지수단의 역할을 하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the skirt portion is movable relative to the substrate and the protruding wall serves as a prevention means for preventing ink from leaking from the nozzle chamber. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액츄에이터는, 열 벤드(Thermal Bend) 액츄에이터인 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.The actuator is an ink jet printhead, characterized in that the thermal bend (Thermal Bend) actuator. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 열 벤드 액츄에이터는, 능동 빔(Active Beam) 및 수동 빔(Passive Beam)의 두 빔으로 형성되는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And said thermal bend actuator is formed of two beams, an active beam and a passive beam. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 액츄에이터는, 연결부재에 의해 상기 노즐에 연결되는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the actuator is connected to the nozzle by a connecting member. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 빔들은, 한쪽 끝이 상기 기판상에 장착된 앵커(Anchor)에 고정되고 반대쪽 끝은 상기 연결부재에 연결되는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the beams are fixed at one end to an anchor mounted on the substrate and at the opposite end to the connecting member. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 연결부재는, 한 쪽 끝이 상기 액츄에이터에 연결되어 있는 아암 및 상기 아암의 반대쪽 끝에 외팔보 형태로 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the connecting member comprises an arm having one end connected to the actuator and a nozzle connected to the opposite end of the arm in a cantilevered form. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판상에 배치되어 있고, 각각의 액츄에이터 및 연결부재를 갖는 복수개의 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And a plurality of nozzles disposed on the substrate and having respective actuators and connecting members. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 평면상의 일체형 석출(Planar monolithic deposition), 석판인쇄 (Lithographic) 및 에칭(Etching) 프로세스에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.An ink jet printhead formed by planar monolithic deposition, lithographic, and etching processes. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판은, 집적된 구동회로층(Integrated drive circuit layer)층을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the substrate comprises an integrated drive circuit layer layer. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 집적된 구동회로층은, CMOS 제조 프로세스를 통해 성형되는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트헤드.And the integrated driver circuit layer is molded through a CMOS fabrication process.
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