KR20030017673A - 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법 - Google Patents

적외선 흡수 볼로메터 제조 방법 Download PDF

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KR20030017673A
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신광재
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대우전자주식회사
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Abstract

본 발명은 적외선의 흡수 효율을 증진시킬 수 있는 흡수 보강재를 이용하여 적외선 감도를 증진시키고, 검출 레벨에서의 평탄화를 통해 적외선 흡수 효율을 증진시킨다는 것으로, 이를 위하여 본 발명은, 적외선을 흡수하는 흡수층으로서 실리콘 산화막을 사용하는 종래 볼로메터와는 달리, 적외선 흡수율이 상대적으로 높은 흡수 보강 물질을 실리콘 산화막의 상부에 형성함으로써 적외선의 흡수 효율을 증진시킬 수 있고, 포스트의 상부 부분에 형성되는 적외선 흡수 부분을 평탄화하게 함으로써 적외선의 흡수 효율을 더욱 증진시킬 수 있으며, 이를 통해 적외선 흡수 볼로메터의 제품 신뢰도를 대폭 향상시킬 수 있는 것이다.

Description

적외선 흡수 볼로메터 제조 방법{INFRARED BOLOMETER MANUFACTURE METHOD}
본 발명은 볼로메터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 각 물체가 방사하는 각종 적외선(온도)을 흡수하여 검출하는데 적합한 적외선 흡수 볼로메터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
잘 알려진 바와 같이, 볼로메터는 적외선 센서의 일종인 것으로, 물체에서 방사되는 적외선을 흡수하여 열 에너지로 변환할 때 그로 인한 온도 상승으로 전기 저항이 변화하는 것을 측정함으로써, 물체에 직접 접촉하지 않으면서도 물체 표면의 온도를 감지할 수 있는 특성을 갖는다.
일반적으로, 적외선은 그 파장이 가시광선보다 길고 전파보다 짧은 전자파의 일종으로 자연계에 존재하는 모든 물체는 사람을 비롯하여 모두 적외선을 방사하고 있다. 이때, 각 물체에서 방사되는 적외선은 온도에 따라 그 파장이 다르기 때문에 이러한 특성을 통해 온도 검출이 가능하다.
한편, 볼로메터는 금속 또는 반도성 재료를 이용하여 제조되는데, 그 구조는, 일 예로서 도 1에 도시된 바와 같다.
도 1은 전형적인 적외선 흡수 볼로메터의 개략적인 사시도로서, 크게 구분해 볼 때, 상부에 보호막(112)이 피복된 구동 기판 레벨(110), 지지 레벨(120), 포스트(130) 및 검출 레벨(140)을 포함하며, 지지 레벨(120)이 구동 기판 레벨(110)내의 접속단자를 통해 지지되고, 검출 레벨(140)이 지지 레벨(120)의 자유단 측 종단에 형성된 포스트(130)를 통해 고정 지지되는 형상을 갖는다.
도 6은 도 1에 도시된 볼로메터의 I-I선을 따라 절단한 종래 적외선 흡수 볼로메터의 단면도이다.
도 6을 참조하면, 종래의 적외선 흡수 볼로메터는 지지 레벨(620)내의 하부 전도선(624)이 구동 기판 레벨(610)상에 형성된 접속단자(612a)에 전기적으로 연결되고, 지지 레벨(620)은 하부 지지 교각(622), 하부 전도선(624) 및 보호막(626)이 순차 적층된 구조를 가지며, 지지 레벨(620)의 자유단 측 종단에는 하부 전도선(624)에 전기적으로 연결되는 포스트(630)가 형성되어 있다.
여기에서, 구동 기판 레벨(610)은 접속단자(612a) 부분을 제외한 나머지 영역들이 실리콘 질화막 등과 같은 보호막(612)으로 피복되어 있으며, 도면에서의 상세한 도시는 생략하였으나, 구동 기판 레벨(610)의 내부에는 볼로메터를 구동하기 위한 집적회로가 내장되어 있다.
이때, 지지 레벨(620)을 형성하는 하부 지지 교각(622) 및 보호막(626)의 재질로는, 예를 들면 SiO2가 사용되고, 하부 전도선(624)의 재질로는 Ti가 사용될 수 있다.
또한, 포스트(630)와 일체로 형성되는 검출 레벨(640)은 상부 지지 교각(642), 상부 전도선(644) 및 적외선 흡수층(646)이 순차 적층되는 구조를 가지며, 상부 지지 교각(642)의 재질로는 TiO2가 주로 사용되고, 상부 전도선(644)의 재질로는 Ti가 주로 사용되며, 적외선 흡수층(646)의 재질로는 SiO2가 사용된다.
상술한 바와 같은 구조를 형성하기 위해서는 먼저 보호막(626)의 상부에 소정 두께의 희생층(도시 생략)을 형성하고, 희생층과 보호막(626)의 일부를 제거하여 하부 전도선(624)의 일부를 노출시킴으로써, 포스트 형성용 홀을 형성하며, 상부 지지 교각 물질을 형성한 후 포스트 형성용 홀의 하부 면에 있는 상부 지지 교각 물질의 일부를 제거하여 상부 지지 교각(642)을 형성하고, 다시 상부 표면상에 박막의 상부 전도막(644)을 형성한 후 그 상부에 적외선 흡수층(646)을 형성하는 방식의 제조 공정을 수행하게 된다.
즉, 종래의 적외선 흡수 볼로메터는 적외선 흡수층으로서 실리콘 산화막(SiO2)을 사용하는데, 실리콘 산화막의 경우 그 물리적인 특성상 적외선을 흡수하는 효율이 다소 떨어진다는 문제가 있으며, 이러한 문제는 결국 적외선 감도를 저하시켜 볼로메터 제품의 신뢰도를 저하시키는 요인으로 작용하게 된다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 적외선의 흡수 효율을 증진시킬 수 있는 흡수 보강재를 이용함으로써 적외선 감도를 증진시킬 수 있는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 포스트의 상부 구조를 평탄화 시킴으로써 볼로메터의 적외선 흡수 효율을 증진시킬 수 있는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 내부 회로와 전기적으로 연결되는 다수의 접속단자를 갖는 구동 기판 상에 셀 단위의 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 방법에 있어서, 상기 구동 기판과의 사이에 제 1 희생층을 게재하며, 대응하는 접속단자에 연결되는 하부 전도선이 포함된 지지 레벨 구조를 형성하는 과정; 상기 지지 레벨 구조를 매립하는 형태의 제 2 희생층을 형성하고, 상기 제 2 희생층의 일부를 선택적으로 제거함으로써, 상기 하부 전도선의 상부 일부를 노출시키는 포스트 형성홀을 형성하는 과정; 상기 노출된 하부 전도선의 상부를 제외한 영역의 전반에 걸쳐 상부 지지 교각 물질을 형성하는 과정; 상기 상부 지지 교각 물질의 상부에 상기 노출된 하부 전도선에 연결되는 상부 전도선을 형성하는 과정; 상부 전면에 걸쳐 적외선 흡수층 물질을 형성하는 과정; 상기 적외선 흡수층 물질의 상부에 흡수 보강층을 형성하는 과정; 상기 적외선 흡수층 물질과 상부 지지 교각 물질의 일부를 선택적으로 제거하여 상기 제 2 희생층의 상부 일부를 노출시킴으로써, 셀 단위의 포스트 및 검출 레벨 구조를 형성하는 과정; 및 상기 제 1 및 제 2 희생층을 제거함으로써, 각 셀 단위의 볼로메터 구조를 완성하는 과정으로 이루어진 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법을 제공한다.
도 1은 전형적인 적외선 흡수 볼로메터의 개략적인 사시도,
도 2a 내지 2i는 본 발명의 일 실시 예에 따라 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 주요 공정을 도시한 공정 단면도,
도 3은 본 발명의 일 실시 예의 변형 실시 예에 따라 제조한 적외선 흡수 볼로메터의 단면도,
도 4a 내지 4j는 본 발명의 다른 실시 예에 따라 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 주요 공정을 도시한 공정 단면도,
도 5는 본 발명의 다른 실시 예의 변형 실시 예에 따라 제조한 적외선 흡수 볼로메터의 단면도,
도 6은 종래 적외선 흡수 볼로메터의 단면도.
＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명＞
110 : 구동 기판 레벨 112, 126 : 보호층
112a : 접속단자 120 : 지지 레벨
122 : 하부 지지 교각 124 : 하부 전도선
130 : 포스트 140 : 검출 레벨
142 : 상부 지지 교각 144 : 상부 전도선
148 : 적외선 흡수층 149 : 시드층
150 : 흡수 보강층
본 발명의 상기 및 기타 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 하기에 기술되는 본 발명의 바람직한 실시 예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명의 핵심 기술요지는, 적외선을 흡수하는 흡수층으로서 실리콘 산화막을 사용하는 전술한 종래 볼로메터와는 달리, 적외선 흡수율이 상대적으로 높은 흡수 보강 물질을 실리콘 산화막의 상부에 형성함으로써 적외선의 흡수 효율을 증진시키며, 아울러 포스트의 상부 부분에 형성되는 적외선 흡수 부분에서의 평탄화를 실현함으로써 적외선의 흡수 효율을 더욱 증진시킨다는 것으로, 이러한 기술적 수단을 통해 본 발명에서 목적으로 하는 바를 쉽게 달성할 수 있다.
[실시 예1]
도 2a 내지 2i는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따라 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 주요 공정을 도시한 공정 단면도이다. 즉, 도 2a 내지 2i는 볼로메터를 제조할 때 도 1에 도시된 적외선 흡수 볼로메터의 I-I선에 따라 보여지는 단면에서의 공정도이다.
도 2a를 참조하면, 상부의 소정 부분에 접속단자(112a)가 형성되고 그 이외 부분이 실리콘 질화막 등과 같은 보호층(112)으로 피복된 구동 기판 레벨(110)의 상부에 저온 기상 증착법 등을 통해 후막의 제 1 희생층(114)을 형성한 후에 포토리소그라피 공정, 식각 공정 등을 수행하여 제 1 희생층(114)의 일부를 제거함으로서 접속단자(112a)의 상부를 노출시킨다.
이어서, 상부 표면에 하부 지지 교각 물질을 형성하고 패터닝을 통해 그 일부를 제거하여 접속단자(112a)의 상부를 노출시켜 하부 지지 교각(122)을 형성하며, 하부 지지 교각(122)의 상부에 하부 전도선(124)과 보호막(126)을 순차 형성함으로써, 일 예로서 도 2b에 도시된 바와 같이, 제 1 희생층(114)의 상부에 접속단자(112a)와 전기적으로 연결되는 지지 레벨(120)의 구조를 완성한다.
여기에서, 하부 지지 교각(122) 및 보호막(126)으로는, 예를 들면 SiO2가 사용되고, 하부 전도선(124)으로는, 예를 들면 Ti가 사용될 수 있으며, 제 1 희생층(114)으로는, 예를 들면 폴리머 등이 사용될 수 있다.
다시, 지지 레벨(120)의 상부에 후막의 제 2 희생층(128)을 형성하고 포토리소그라피 공정 및 식각 공정 등을 수행하여 제 2 희생층(128)과 보호막(126)의 일부를 제거함으로써, 일 예로도 도 2c에 도시된 바와 같이, 지지 레벨(120)의 자유단 측 종단 부분에 있는 하부 전도선(124)의 상부 일부를 노출시키는 포스트 형성홀(129)을 형성한다.
이어서, 상부 전면에 걸쳐 소정 두께의 상부 지지 교각 물질을 형성하고, 패터닝 공정을 수행하여 포스트 형성홀(129)의 하부 면에 있는 상부 지지 교각 물질을 선택적으로 제거하여 하부 전도선(124)의 상부 일부를 노출시킴으로써, 일 예로서 도 2d에 도시된 바와 같이, 상부 지지 교각 물질(142a)을 형성한다. 여기에서, 상부 지지 교각 물질(142a)은 검출 레벨의 지지는 물론 적외선 흡수층으로서의 기능도 한다.
다시, 스퍼터링 등과 같은 증착 공정을 수행하여 상부 전면에 걸쳐 박막의 전도성 물질(예를 들면, Ti 등)을 형성하고, 금속 식각 공정을 수행하여 전도성 물질의 일부를 선택적으로 제거함으로써, 일 예로서 도 2e에 도시된 바와 같이, 상부 지지 교각 물질(142a)의 상부에 하부 전도선(124)과 전기적으로 연결되는 상부 전도선(144)을 형성한다.
다음에, 도 2f를 참조하면, 상부 전도선(144)이 형성된 상부 전면에 걸쳐 적외선 흡수층 물질(148a)(예를 들면, SiO2등)을 형성(증착)하고, 이어서 적외선 흡수층 물질(148a)의 상부 전면에 걸쳐 흡수 보강 물질, 예를 들면 골드-블랙(Gold-Black) 또는 실버-블랙(Silver-Black) 물질 등을 형성한 후 포토리소그라피 공정, 식각 공정 등을 통해 흡수 보강 물질의 일부를 선택적으로 제거함으로써, 일 예로서 도 2g에 도시된 바와 같이, 적외선 흡수층 물질의 상부에 흡수 보강층(150)을 형성한다.
이어서, 포토리소그라피 공정, 식각 공정 등을 통해 적외선 흡수층 물질(148a)과 상부 지지 교각 물질(142a)의 일부를 선택적으로 제거하여 제 2 희생층(128)의 상부 일부를 노출시킴으로써, 일 예로서 도 2h에 도시된 바와 같이, 상부 지지 교각(142), 상부 전도선(144), 적외선 흡수층(148) 및 흡수 보강층(150)이 순차 적층된 형태를 갖는 검출 레벨(140)의 구조를 완성한다. 즉, 이러한 과정을 통해 볼로메터를 각 셀 단위로 분리한다.
마지막으로, 셀 단위로 분리된 볼로메터 구조에서 제 1 및 제 2 희생층(114, 128)을 제거함으로써, 일 예로서 도 2i에 도시된 바와 같이, 셀 단위의 볼로메터를 완성한다.
따라서, 본 실시 예에 따른 적외선 흡수 볼로메터는 적외선 흡수층의 상부에 적외선의 흡수율이 양호한 흡수 보강층, 예를 들어 골드-블랙을 더 형성함으로써, 볼로메터의 적외선 흡수 효율을 증진시킬 수 있으며, 이를 통해 적외선 감도를 높일 수 있어 적외선 흡수 볼로메터 제품의 신뢰도를 증진시킬 수 있다.
[실시 예1의 변형 실시 예]
도 3은 본 발명의 일 실시 예의 변형 실시 예에 따라 제조한 적외선 흡수 볼로메터의 단면도이다.
도 3을 참조하면, 본 변형 실시 예는 포스트(130)가 형성된 부분의 상부에 소정 크기의 개구가 형성된 구조를 갖는 전술한 실시 예1과는 달리, 포스트(130)가 형성된 부분의 상부에 개구가 형성되지 않는다는 점이 다르며, 그 이외의 구조는 전술한 실시 예1에서의 구조와 실질적으로 동일하다. 따라서, 이하에서는 불필요한 기재를 피하기 위하여 구조적으로 다른 부분에 대해서만 주로 설명하고자 한다.
즉, 본 변형 실시 예에서는 적외선 흡수층(148)의 상부에 흡수 보강층(149)을 형성할 때 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 흡수 보강 물질로 매립하는 방식으로 검출 레벨(140)의 상부 표면을 평탄하게 형성한다.
이와 같이, 검출 레벨의 상부 표면을 평탄하게 하는 방법으로는 아래와 같이 두 가지 방법을 고려할 수 있다.
첫 번째 방법은 적외선 흡수층(148)의 상부에 스퍼터링 등의 방법을 이용하여 흡수 보강층(149)을 형성한 후에 전해 도금, 증착 등의 방법을 통해 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 흡수 보강층(149)과 동일 또는 유사한 계열의 물질로 매립하는 것이고, 두 번째 방법은 전해 도금, 선택적인 증착 방법 등을 통해 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 완전히 매립(즉, 적외선 흡수층(148)의 높이까지 매립)하여 상부 표면을 평탄화한 후에 그 상부에 흡수 보강층(149)을 형성하는 것이다.
즉, 본 변형 실시 예에서는 상술한 바와 같은 방식을 통해 검출 레벨의 상부 표면을 전체적으로 평탄하게 형성할 수 있다.
따라서, 본 변형 실시 예에 따르면, 전술한 실시 예1에서와 동일한 효과를 얻을 수 있을 뿐만 아니라 검출 레벨의 상부 표면을 평탄하게 함으로써, 볼로메터의 적외선 흡수 효율을 더욱 증진시킬 수 있다.
[실시 예2]
도 4a 내지 4j는 본 발명의 다른 실시 예에 따라 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 주요 공정을 도시한 공정 단면도이다.
본 실시 예에 있어서, 도 4a 내지 도 4f까지의 제조 과정은 전술한 실시 예1에서 기술하고 있는 도 2a 내지 2f까지의 제조 과정과 실질적으로 동일, 즉 검출 레벨의 상부 전면에 걸쳐 적외선 흡수층 물질(142a)을 형성하는 과정까지는 실질적으로 동일하다. 따라서, 불필요한 중복기재를 피하기 위하여 이하에서는 그 이후의 과정에 대해서만 주로 설명하고자 한다.
도 4g를 참조하면, 스퍼터링 등의 방법을 수행하여 적외선 흡수층 물질(148a)의 상부에 박막, 예를 들면 200 - 300Å 정도의 시드 물질(149a)을 형성하고, 이어서 시드 물질(149a)의 상부에, 예를 들면 실버-블랙 또는 골드-블랙 등과 같은 흡수 보강 물질(150a)을 형성한다. 여기에서, 시드 물질(149a)은 일종의접착제 기능을 수행하는 것으로, 하부의 적외선 흡수층 물질(148a)과 상부의 흡수 보강 물질(150a)간의 접착력을 강화시켜 주기 위한 것이다.
다음에, 금속 식각 공정 등을 통해 흡수 보강 물질(150a)과 시드 물질(149a)의 일부를 선택적으로 제거함으로써, 일 예로서 도 4h에 도시된 바와 같이, 적외선 흡수층 물질(148a)의 상부에 시드층(149)과 흡수 보강층(150)을 형성한다.
이어서, 포토리소그라피 공정, 식각 공정 등을 통해 적외선 흡수층 물질(148a)과 상부 지지 교각 물질(142a)의 일부를 선택적으로 제거하여 제 2 희생층(128)의 상부 일부를 노출시킴으로써, 일 예로서 도 4i에 도시된 바와 같이, 상부 지지 교각(142), 상부 전도선(144), 적외선 흡수층(148), 시드층(140) 및 흡수 보강층(150)이 순차 적층된 형태를 갖는 검출 레벨(140)의 구조를 완성한다. 즉, 이러한 과정을 통해 볼로메터를 각 셀 단위로 분리한다.
마지막으로, 셀 단위로 분리된 볼로메터 구조에서 제 1 및 제 2 희생층(114, 128)을 제거함으로써, 일 예로서 도 4j에 도시된 바와 같이, 셀 단위의 볼로메터를 완성한다.
따라서, 본 실시 예에 따른 적외선 흡수 볼로메터는 적외선 흡수층의 상부에 적외선의 흡수율이 양호한 흡수 보강층, 예를 들어 실버-블랙을 더 형성함으로써, 볼로메터의 적외선 흡수 효율을 증진시킬 수 있으며, 이를 통해 적외선 감도를 높일 수 있어 적외선 흡수 볼로메터 제품의 신뢰도를 증진시킬 수 있다.
더욱이, 본 실시 예에 따른 적외선 흡수 볼로메터는 적외선 흡수층과 흡수 보강층 사이에 접착력 강화를 위한 시드층을 형성하여 접착력을 높여 줌으로써 적외선 흡수 볼로메터의 제품 신뢰도를 더욱 증진시킬 수 있다.
[실시 예2의 변형 실시 예]
도 5는 본 발명의 다른 실시 예의 변형 실시 예에 따라 제조한 적외선 흡수 볼로메터의 단면도이다.
도 5를 참조하면, 본 변형 실시 예는 포스트(130)가 형성된 부분의 상부에 소정 크기의 개구가 형성된 구조를 갖는 전술한 실시 예2와는 달리, 포스트(130)가 형성된 부분의 상부에 개구가 형성되지 않는다는 점이 다르며, 그 이외의 구조는 전술한 실시 예2에서의 구조와 실질적으로 동일하다. 따라서, 이하에서는 불필요한 기재를 피하기 위하여 구조적으로 다른 부분에 대해서만 주로 설명하고자 한다.
즉, 본 변형 실시 예에서는 적외선 흡수층(148)의 상부에 시드층(149) 및 흡수 보강층(150)을 형성할 때 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 흡수 보강 물질로 매립하는 방식으로 검출 레벨(140)의 상부 표면을 평탄하게 형성한다.
이와 같이, 검출 레벨의 상부 표면을 평탄하게 하는 방법으로는 아래와 같이 두 가지 방법을 고려할 수 있다.
첫 번째 방법은 적외선 흡수층(148)의 상부에 스퍼터링 등의 방법을 이용하여 시드층(149) 및 흡수 보강층(150)을 형성한 후에 전해 도금, 증착 등의 방법을 통해 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 흡수 보강층(150)과 동일 또는 유사한 계열의 물질로 매립하는 것이고, 두 번째 방법은 전해 도금, 선택적인 증착 방법 등을 통해 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 완전히 매립(즉, 적외선 흡수층(148)의 높이까지 매립)하여 상부 표면을 평탄화한 후에 그 상부에 시드층(149) 및 흡수보강층(150)을 형성하는 것이다.
즉, 본 변형 실시 예에서는 상술한 바와 같은 방식을 통해 검출 레벨의 상부 표면을 전체적으로 평탄하게 형성할 수 있다.
따라서, 본 변형 실시 예에 따르면, 전술한 실시 예2에서와 동일한 효과를 얻을 수 있을 뿐만 아니라 검출 레벨의 상부 표면을 평탄하게 함으로써, 볼로메터의 적외선 흡수 효율을 더욱 증진시킬 수 있다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 적외선을 흡수하는 흡수층으로서 실리콘 산화막을 사용하는 전술한 종래 볼로메터와는 달리, 적외선 흡수율이 상대적으로 높은 흡수 보강 물질을 실리콘 산화막의 상부에 형성함으로써 적외선의 흡수 효율을 증진시킬 수 있고, 포스트의 상부 부분에 형성되는 적외선 흡수 부분을 평탄화하게 함으로써 적외선의 흡수 효율을 더욱 증진시킬 수 있으며, 이를 통해 적외선 흡수 볼로메터의 제품 신뢰도를 대폭 향상시킬 수 있다.

Claims (5)

  1. 내부 회로와 전기적으로 연결되는 다수의 접속단자를 갖는 구동 기판 상에 셀 단위의 적외선 흡수 볼로메터를 제조하는 방법에 있어서,
    상기 구동 기판과의 사이에 제 1 희생층을 게재하며, 대응하는 접속단자에 연결되는 하부 전도선이 포함된 지지 레벨 구조를 형성하는 과정;
    상기 지지 레벨 구조를 매립하는 형태의 제 2 희생층을 형성하고, 상기 제 2 희생층의 일부를 선택적으로 제거함으로써, 상기 하부 전도선의 상부 일부를 노출시키는 포스트 형성홀을 형성하는 과정;
    상기 노출된 하부 전도선의 상부를 제외한 영역의 전반에 걸쳐 상부 지지 교각 물질을 형성하는 과정;
    상기 상부 지지 교각 물질의 상부에 상기 노출된 하부 전도선에 연결되는 상부 전도선을 형성하는 과정;
    상부 전면에 걸쳐 적외선 흡수층 물질을 형성하는 과정;
    상기 적외선 흡수층 물질의 상부에 흡수 보강층을 형성하는 과정;
    상기 적외선 흡수층 물질과 상부 지지 교각 물질의 일부를 선택적으로 제거하여 상기 제 2 희생층의 상부 일부를 노출시킴으로써, 셀 단위의 포스트 및 검출 레벨 구조를 형성하는 과정; 및
    상기 제 1 및 제 2 희생층을 제거함으로써, 각 셀 단위의 볼로메터 구조를 완성하는 과정으로 이루어진 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제조 방법은, 상기 흡수 보강층을 형성하기 전에 상기 적외선 흡수층 상에 접착력 강화를 위한 시드층을 형성하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 시드층은, Ti 또는 Ta인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 시드층은, 200 - 300Å의 두께 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 흡수 보강층은, 상기 포스트 형성홀 내부의 빈 공간을 매립하는 형태로 평탄하게 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수 볼로메터 제조 방법.
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