KR20030013050A - Wordline Enable Drive Circuit of Semiconductor Memory Device - Google Patents

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KR20030013050A
KR20030013050A KR1020010047337A KR20010047337A KR20030013050A KR 20030013050 A KR20030013050 A KR 20030013050A KR 1020010047337 A KR1020010047337 A KR 1020010047337A KR 20010047337 A KR20010047337 A KR 20010047337A KR 20030013050 A KR20030013050 A KR 20030013050A
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Abstract

PURPOSE: A word line enable driving circuit of semiconductor memory device is provided to be capable of reducing a word line enable time by removing a boosting margin. CONSTITUTION: A boost voltage generating circuit(300) receives an external power supply voltage and generates a high voltage(Vpp) and a boosted voltage. A row decoder(200) is supplied with the boosted voltage from the boost voltage generating circuit as a power supply voltage, and outputs a normal word line enable signal(NWE) of the boosted voltage level in response to row address signals. A row address pre-decoder(40) receives other row address signals and generates four decoded address signals(DRAij). A control signal generating circuit(30) generates a control signal(PX) and an inverted control signal(PXB) in response to output signals of the pre-decoder. A sub-word line driver(100) is connected to a word line, and enables the word line in response to the normal word line enable signal of the boosted voltage level, the control signal, and the inverted control signal.

Description

반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 구동 회로 {Wordline Enable Drive Circuit of Semiconductor Memory Device}Word line enable drive circuit of semiconductor memory device

본 발명은 반도체 메모리 장치의 서브 워드 라인 드라이버(SWD : Sub Wordline Driver, 이하 SWD라 약칭)의 자기 승압(Self Boosting) 동작 없이 워드 라인 인에이블을 가능하도록 하여 승압 마진(Boosting Margin)을 제거함으로써, 워드 라인 인에이블 시간을 단축할 수 있는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 구동 회로에 관한 것이다.The present invention enables word line enablement without a self boosting operation of a sub word line driver (SWD) of a semiconductor memory device, thereby eliminating boosting margins. A word line driving circuit of a semiconductor memory device capable of shortening a word line enable time.

최근 들어, 반도체 메모리 장치의 고집적화 및 고속화 경향이 가속화되면서 적은 면적에 보다 많은 정보를 저장하고 그 속도도 더욱 빠르게 하기 위한 연구들이 다방면으로 이루어지고 있다.Recently, as the trend toward higher integration and higher speed of semiconductor memory devices is accelerated, researches for storing more information in a smaller area and increasing the speed thereof have been conducted in various fields.

특히, 그 설계적 측면, 즉 메모리 회로의 배치 및 배선 그리고, 새로운 개념의 회로의 구현을 통하여 이러한 고집적화 및 고속화 경향을 달성하고 있다.In particular, the design aspect, that is, the arrangement and wiring of the memory circuit, and the implementation of a new concept of circuit to achieve this high integration and high speed trend.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 개략적 구성을 나타내는 블록도이다.1 is a block diagram showing a schematic configuration of a conventional semiconductor memory device.

도시된 바와 같이, 종래의 반도체 메모리 장치는 다수개의 로우어드레스(Row Address) 신호(RA2~RAi)들에 대응하여 다수개의 정상 워드 라인 인에이블(NWE : Normal Wordline Enable) 신호(NWE0~NWEi, 이하 NWE라 통칭)를 발생시키는 로우 디코더(Row Decoder, 50)와, 다수개의 칼럼 어드레스(Column Address) 신호(CA0~CAi)들에 대응하여 다수개의 칼럼 선택 라인 신호(Column Select Line)를 발생시키는 칼럼 디코더(Column Decoder, 60)와, 다수개의 메모리 셀들이 로우 방향과 칼럼 방향으로 배치되는 메모리 셀 어레이(10)와, 또 다른 다수개의 로우 어드레스 신호(RA0, RA0B, RA1, RA1B)의 조합에 의하여 네 개의 디코딩 로우 어드레스(DRAij) 신호, 즉 DRA01, DRA0B1, DRA01B, DRA0B1B를 발생시키는 로우 어드레스 프리 디코딩(Row Address Predecoding)부(40)와, 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)의 출력을 입력으로 하여 제어 신호(PX0~PXi, 이하 PX라 통칭)와 반전 제어 신호(PX0B~PXiB, 이하 PXB라 통칭) 신호를 각각 발생시키는 PX 신호 발생부(30)와, 로우 디코더(50)의 출력인 NWE 신호와 PX 신호 발생부(30)의 출력인 PX 및 PXB 신호를 입력받아 승압한 뒤 워드 라인 인에이블 신호를 출력하는 SWD(20)로 구성된다.As shown in the drawing, a conventional semiconductor memory device may include a plurality of normal wordline enable signals NWE0 to NWEi, corresponding to a plurality of row address signals RA2 to RAi. A row decoder 50 generating a NWE, and a column generating a plurality of column select line signals corresponding to the plurality of column address signals CA0 to CAi. By the combination of a decoder (Column Decoder) 60, a memory cell array 10 in which a plurality of memory cells are arranged in a row direction and a column direction, and another plurality of row address signals RA0, RA0B, RA1, and RA1B. The output of the row address predecoding unit 40 and the row address predecoding unit 40 which generate four decoding row address (DRAij) signals, that is, DRA01, DRA0B1, DRA01B, and DRA0B1B are input. My A PX signal generator 30 for generating signals PX0 to PXi (hereinafter referred to as PX) and an inversion control signal (PX0B to PXiB, hereafter referred to as PXB), respectively, and an NWE signal that is an output of the row decoder 50; It consists of a SWD (20) for receiving the PX and PXB signals that are the output of the PX signal generator 30, boosts and outputs a word line enable signal.

이때, 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)에 의하여 출력되는 네 개의 DRAij 신호 즉, DRA01, DRA0B1, DRA01B, DRA0B1B는 대기 상태 즉, 반도체 메모리 장치의 비활성화 시에는 하이 레벨(High Level) 상태를 유지하다가, 반도체 메모리 장치가 활성화되면 네 개의 DRAij 신호 중 하나만 로우 레벨 상태(Low Level)로 천이한다.At this time, the four DRAij signals output by the row address pre-decoding unit 40, that is, DRA01, DRA0B1, DRA01B, and DRA0B1B, are in a standby state, that is, maintain a high level when the semiconductor memory device is deactivated. When the semiconductor memory device is activated, only one of the four DRAij signals transitions to the low level.

또한, PX 신호 발생부(30)로부터 출력되는 PX 신호 및 PXB 신호는 반도체 메모리 장치의 대기 상태에서 각각 로우 레벨 및 하이 레벨 상태를 유지하다가, 반도체 메모리 장치가 활성화되어 네 개의 DRAij 신호 중 하나가 로우로 천이하면 천이된 DRAij 신호에 대응하는 PX와 PXB 신호가 각각 로우 레벨에서 하이 레벨로, 하이 레벨에서 로우 레벨로 천이하게 된다.In addition, the PX signal and the PXB signal output from the PX signal generator 30 maintain the low level and the high level in the standby state of the semiconductor memory device, respectively, and the semiconductor memory device is activated so that one of the four DRAij signals is low. Transitioning to the PX and PXB signals corresponding to the transitioned DRAij signal transitions from the low level to the high level and from the high level to the low level, respectively.

한편, SWD(20)는 앞서 언급한 바와 같이 NWE 신호와 PX 및 PXB 신호를 입력받은 뒤, 자기 승압을 통하여 충분한 고전압(VPP) 레벨을 워드 라인에 전달하기 위한 장치로서, 그 구성은 도 2와 같다.On the other hand, SWD (20) is a device for transmitting a sufficient high voltage (VPP) level to the word line through the self-boosting after receiving the NWE signal and the PX and PXB signal as mentioned above, the configuration is shown in FIG. same.

도시된 바와 같이, SWD(20)는 네개의 NMOS 트랜지스터, 즉 제 1 NMOS 트랜지스터(21), 제 2 NMOS 트랜지스터(22), 제 3 NMOS 트랜지스터(23) 및 제 4 NMOS 트랜지스터(24)로 구성된다.As shown, the SWD 20 is composed of four NMOS transistors, namely a first NMOS transistor 21, a second NMOS transistor 22, a third NMOS transistor 23, and a fourth NMOS transistor 24. .

반도체 메모리 장치가 대기 상태일 때, NWE, PX 및 PXB 신호는 각각 로우 레벨, 로우 레벨, 하이 레벨 상태이므로 상기 제 4 NMOS 트랜지스터(24)를 턴온(Turn ON)시켜, 워드 라인의 전압 레벨을 접지 전압(Vss) 레벨로 유지한다.When the semiconductor memory device is in the standby state, the NWE, PX, and PXB signals are in a low level, a low level, and a high level, respectively, so that the fourth NMOS transistor 24 is turned on to ground the voltage level of the word line. Maintain at the voltage (Vss) level.

그런데, 반도체 메모리 장치가 활성화되어 NWE 신호가 하이 레벨로 인에이블되면 PX 및 PXB 신호가 각각 로우 레벨에서 하이 레벨로, 하이 레벨에서 로우 레벨로 천이되므로, 제 2 NMOS 트랜지스터(22)가 NWE를 승압 노드 B로 드라이브하고, 제 1 NMOS 트랜지스터(21)는 자체에서 발생하는 기생 커패시터를 통하여 승압 노드 B의 전압을 자기 승압하여, 이를 워드 라인으로 전달한다.However, when the semiconductor memory device is activated and the NWE signal is enabled at the high level, the PX and PXB signals transition from the low level to the high level and the high level to the low level, respectively, so that the second NMOS transistor 22 boosts the NWE. Driven to node B, the first NMOS transistor 21 self-boosts the voltage of boosted node B via a parasitic capacitor generated by itself and transfers it to the word line.

이렇게 SWD(20)를 통하여 승압하는 이유는, 각 메모리 셀은 커패시터와 트랜지스터로 이루어져 커패시터에 데이터를 저장하고 트랜지스터로 입출력을 제어하도록 구성되는데, 상기 트랜지스터의 고유한 성질인 문턱 전압의 영향으로 커패시터의 데이터가 완전히 입출력되지 못하므로, 인에이블 신호를 고전압 레벨(VPP)보다 더 높은 전압 레벨(Vpp + NMOS 트랜지스터에 의한 승압치)로 워드 라인에 공급하여야 하기 때문이다.The reason why the voltage is boosted through the SWD 20 is that each memory cell is composed of a capacitor and a transistor to store data in the capacitor and to control the input and output to the transistor. This is because the data cannot be completely inputted and outputted, and therefore the enable signal must be supplied to the word line at a voltage level higher than the high voltage level VPP (a boost value by the Vpp + NMOS transistor).

따라서, SWD(20)를 통하여 승압된 워드 라인 인에이블 전압을 워드 라인에 공급함으로써, 커패시터와 트랜지스터로 이루어진 메모리 셀에 데이터를 입출력할 때, 커패시터에 데이터가 완전히 입출력되지 못하는 단점을 보완할 수 있는 것이다.Therefore, by supplying the word line enable voltage boosted through the SWD 20 to the word line, when the data input and output to the memory cell consisting of the capacitor and the transistor, the data can not be completely input and output to the capacitor can be compensated for will be.

도 3은 이러한 SWD(20)의 동작 과정에 관여하는 신호들의 상태를 나타내는 타이밍도이다.3 is a timing diagram illustrating states of signals involved in the operation of the SWD 20.

NWE 신호가 하이 레벨로 인에이블되면, 승압 노드 B의 전압이 일정 수준으로 올라가고, PX가 하이 레벨로 인에이블되면 승압 노드 B의 전압이 워드 라인 인에이블에 충분할 만큼의 전압으로 승압됨으로써, 워드 라인이 인에이블되게 된다.When the NWE signal is enabled at high level, the voltage at boost node B rises to a certain level, and when PX is enabled at high level, voltage at boost node B is boosted to a voltage sufficient to enable word lines, thereby providing a word line. This will be enabled.

이때, NWE 신호의 인에이블 시점과 PX 신호의 인에이블 시점에는 일정한 시간 지연이 존재하여야 하며 이를 승압 마진이라 칭하는데, 워드 라인 인에이블이 정확히 수행되기 위해서는 충분한 승압 마진이 확보되어야 한다.At this time, a certain time delay must exist between the enable time of the NWE signal and the enable time of the PX signal, which is called a boost margin. In order to perform word line enable correctly, sufficient boost margin must be secured.

왜냐 하면, 승압 마진이 충분히 확보되지 않을 경우, 승압 노드 B가 워드 라인 인에이블이 충분할 정도의 전압으로 승압되지 않고 워드 라인으로 전달되므로, 워드 라인 인에이블 시간이 길어지거나, 메모리 셀의 데이터가 샌스 앰프(Sense Amp)와 충분한 전하 공유를 수행하지 못하여 데이터 페일(Data Fail) 등을 발생시킬 수 있기 때문이다.This is because if the boost margin is not sufficiently secured, the boost node B is transferred to the word line without being boosted to a voltage sufficient for the word line enable, so that the word line enable time is long or the data of the memory cell is sansed. This is because data failing may occur due to insufficient charge sharing with the amplifier (Sense Amp).

그러므로, 상술한 반도체 메모리 장치의 워드 라인 구조에 의하면 승압 마진은 필수적인 요소라 할 수 있겠다.Therefore, according to the word line structure of the semiconductor memory device described above, the boost margin is an essential element.

그런데, 이러한 승압 마진은 충분한 워드 라인 인에이블을 보장하기도 하지만, 일종의 시간 지연이기도 하므로, 워드 라인 인에이블 속도를 감소시키는 문제점을 발생시킨다.However, such boosting margins ensure sufficient word line enablement, but are also a kind of time delay, resulting in a problem of reducing the word line enable rate.

따라서, 이러한 승압 마진을 제거하여 워드 라인 인에이블 속도를 증대시키면서, 워드 라인 인에이블을 위한 충분한 승압을 보장하는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로가 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is a need for a word line enable circuit of a semiconductor memory device which eliminates such a boost margin to increase the word line enable rate while ensuring sufficient boost for the word line enable.

본 발명은 이러한 배경에서 창안된 것으로, 승압 전압을 별도로 생성하여 로우 디코더의 전원 전압으로 공급하고, 로우 디코더에서는 승압 전압 레벨의 NWE 신호를 출력하여 SWD에 공급하고, SWD에서는 별도의 승압 과정 없이 워드 라인 인에이블을 수행하도록 하는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로를 제공함으로써, 승압 마진을 제거하여 워드 라인 인에이블 시간을 단축시키는데 그 목적이 있다.The present invention was devised in this background, and generates a boosted voltage separately and supplies it to the power supply voltage of the low decoder, and the low decoder outputs the NWE signal of the boosted voltage level to the SWD, and in the SWD, a word without a separate boosting process. It is an object of the present invention to provide a word line enable circuit of a semiconductor memory device to perform line enable, thereby eliminating the boost margin to shorten the word line enable time.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 개략적 구성을 나타내는 블록도이다.1 is a block diagram showing a schematic configuration of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 종래의 서브 워드 라인 드라이버 구성을 나타내는 회로도이다.2 is a circuit diagram showing a conventional sub word line driver configuration.

도 3은 종래의 서브 워드 라인 드라이버의 동작 과정에 관여하는 신호들의 상태를 나타내는 타이밍도이다.3 is a timing diagram illustrating states of signals involved in an operation of a conventional sub word line driver.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로를 설명하기 위한 블록도이다.4 is a block diagram illustrating a word line enable circuit of a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서브 워드 라인 드라이버의 구성을 나타내는 회로도이다.5 is a circuit diagram illustrating a configuration of a sub word line driver according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로의 동작을 나타내는 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating an operation of a word line enable circuit of a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 워드 라인 인에이블 회로의 동작에 따른 신호의 상태를 나타내는 타이밍도이다.7 is a timing diagram illustrating a state of a signal according to an operation of a word line enable circuit.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

30 : PXi 발생부30: PXi generator

40 : 로우 어드레스 프리디코딩부40: row address predecoding unit

100 : 서브 워드 라인 드라이버100: sub word line driver

200 : 로우 디코더200: low decoder

300 : 승압 전압 생성부300: boosted voltage generation unit

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 반도체 메모리 장치의 워드 라인을 인에이블시키는 워드 라인 인에이블 구동 회로에 있어서, 외부 전원 전압으로부터 전압을 인가받아 고전압 및 승압 전압 레벨의 전압을 생성하는 승압 전압 생성부와, 승압 전압 생성부로부터 생성되는 승압 전압을 전원 전압으로 공급받으며 외부로부터 전송되는 다수개의 로우 어드레스 신호(RA2~RAi)들에 대응하여 NWE 신호를 승압 전압 레벨로 출력하는 로우 디코더와, 상술한 로우 어드레스 신호 외의 또 다른 다수개의 로우 어드레스 신호 조합(RA0, RA0B, RA1, RA1B)을 입력받아 네 개의 디코딩 로우 어드레스 신호(DRAij)를 발생하는 로우 어드레스 프리 디코딩부와, 로우 어드레스 프리 디코딩부로부터 출력된 디코딩 로우 어드레스 신호를 입력받아 제어 신호와 반전 제어 신호를 출력하는 PX 신호 발생부와, 로우 디코더로부터 출력된 승압 전압 레벨의 NWE 신호와 PX 및 PXB 신호를 입력받아 워드 라인을 인에이블시키는 SWD로 구성된다.In order to achieve the above object, the present invention, in the word line enable driving circuit for enabling the word line of the semiconductor memory device, generating a boosted voltage to generate a voltage of a high voltage and a boosted voltage level by receiving a voltage from an external power supply voltage And a row decoder configured to receive a boosted voltage generated by the boosted voltage generator as a power supply voltage and output an NWE signal at a boosted voltage level in response to a plurality of row address signals RA2 to RAi transmitted from the outside. A row address pre-decoding unit for receiving four row row signal combinations RA0, RA0B, RA1, and RA1B other than one row address signal and generating four decoded row address signals DRAij; A control signal and an inverted control signal are received by receiving the output decoded row address signal. Receiving the output signal generation portion and the PX, and the NWE signal PX and PXB signal of the step-up voltage level output from the row decoder is composed of SWD for enabling the word line.

이하, 본 발명이 속하는 분야에 통상의 지식을 지닌자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

또한, 이해의 편의를 위하여 비록 다른 도면에 속하더라도 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하였음을 주의하여야 한다.In addition, it should be noted that the same reference numerals are given to the same components, although belonging to different drawings for convenience of understanding.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로를 설명하기 위한 블록도이다.4 is a block diagram illustrating a word line enable circuit of a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 워드 라인 인에이블 회로는 승압 전압 생성부(300)와, 로우 디코더(200)와, 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)와, PX 신호 발생부(30) 및 SWD(100)로 구성된다.As shown, the word line enable circuit includes a boosted voltage generator 300, a row decoder 200, a row address predecoder 40, a PX signal generator 30, and a SWD 100. It is composed.

승압 전압 생성부(300)는 외부 전원 전압으로부터 전압을 인가받아 고전압(Vpp) 및 승압 전압 레벨의 전압을 생성하는 기능을 수행한다.The boosted voltage generator 300 receives a voltage from an external power supply voltage and generates a voltage having a high voltage Vpp and a boosted voltage level.

이때, 승압 전압은 메모리 셀 내의 트랜지스터의 문턱 전압으로 인한 전압 손실을 보상하여 워드 라인 인에이블이 충분히 수행될 수 있을 정도의 전압 즉, 종래의 SWD(20)에 의하여 승압되는 전압(Vpp + NMOS 트랜지스터에 의한 승압치) 이상으로 설정되는 것이 바람직하다.At this time, the boosted voltage compensates for the voltage loss due to the threshold voltage of the transistor in the memory cell, so that the word line enable can be sufficiently performed, that is, the voltage boosted by the conventional SWD 20 (Vpp + NMOS transistor). It is preferable to set more than the boost value by).

로우 디코더(200)는 승압 전압 생성부(300)로부터 승압 전압을 공급받아 다수개의 로우 어드레스 신호들에 대응하여 NWE 신호를 발생시키는 기능을 수행하는데, 이때 발생되는 NWE 신호는 승압 전압 레벨이며, 출력된 NWE 신호는 SWD(100)로 출력된다.The row decoder 200 receives a boosted voltage from the boosted voltage generator 300 and generates a NWE signal corresponding to a plurality of row address signals. The generated NWE signal is a boosted voltage level and is output. The NWE signal is output to the SWD (100).

로우 어드레스 프리 디코딩부(40)는 상술한 로우 어드레스 신호 외의 또 다른 다수개의 로우 어드레스 신호의 조합에 의하여 네 개의 DRAij 신호, 즉 DRA01, DRA0B1, DRA01B, DRA0B1B를 발생시킨다.The row address pre-decoding unit 40 generates four DRAij signals, that is, DRA01, DRA0B1, DRA01B, and DRA0B1B by a combination of a plurality of row address signals other than the above-described row address signals.

PX 신호 발생부(30)는 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)의 출력을 입력으로 하여 PX와 PXB 신호를 출력한 뒤 SWD(100)에 인가한다.The PX signal generator 30 receives the output of the row address predecoder 40 as an input, outputs the PX and PXB signals, and applies the same to the SWD 100.

SWD(100)는 로우 디코더(200)로부터 승압 전압 레벨의 NWE 신호와 PX 신호 발생부의 출력인 PX 및 PXB 신호를 입력받아 워드 라인을 인에이블시키는 기능을 수행하며, 그 구성은 도 5에 도시된 바와 같이, SWD(100)는 3개의 트랜지스터(제 5 NMOS 트랜지스터(101), 제 6 NMOS 트랜지스터(102) 및 제 7 NMOS 트랜지스터(103))로 구성된다.The SWD 100 receives the NWE signal of the boosted voltage level and the PX and PXB signals, which are outputs of the PX signal generator, from the row decoder 200 to enable word lines, and the configuration thereof is illustrated in FIG. 5. As described above, the SWD 100 is composed of three transistors (a fifth NMOS transistor 101, a sixth NMOS transistor 102, and a seventh NMOS transistor 103).

이때, 제 5 NMOS 트랜지스터(101)는 로우 디코더(200)의 출력단과 게이트 단이 연결되어 NWE 신호에 의하여 제어되며, 소오스 단에는 PX 신호가 인가된다. 또한, 제 6 NMOS 트랜지스터(102)는 PX 신호 발생부의 출력단에 게이트 단이 연결되어 PX 신호에 의하여 제어되며, 소오스 단에 승압 전압 레벨의 NWE 신호가 인가된다. 한편, 제 7 NMOS 트랜지스터(103)는 PX 신호 발생부(30)의 PXB 출력단과 게이트 단이 연결되어 PXB 신호에 의하여 제어되며, PX 신호가 소오스 단에 인가된다.In this case, the fifth NMOS transistor 101 is connected to an output terminal and a gate terminal of the row decoder 200 and controlled by the NWE signal, and a PX signal is applied to the source terminal. In addition, the sixth NMOS transistor 102 has a gate terminal connected to the output terminal of the PX signal generator and controlled by the PX signal, and an NWE signal having a boosted voltage level is applied to the source terminal. Meanwhile, the seventh NMOS transistor 103 is connected to the PXB output terminal and the gate terminal of the PX signal generator 30 and controlled by the PXB signal, and the PX signal is applied to the source terminal.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 회로의 동작을 나타내는 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating an operation of a word line enable circuit of a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저, 승압 전압 생성부(300)는 외부 전원 전압으로부터 전원을 인가받아 승압 전압을 생성한다(단계:S1).First, the boosted voltage generator 300 generates a boosted voltage by receiving power from an external power supply voltage (step: S1).

로우 디코더(200)는 외부로부터 다수개의 로우 어드레스 신호들을 전송받고 이에 대응하여 워드 라인을 인에이블시키기 위한 NWE 신호를 발생시켜(단계:S2) SWD(100)로 전송한다.The row decoder 200 receives a plurality of row address signals from the outside and generates an NWE signal for enabling a word line in response to the row decoder 200 (step S2) and transmits the same to the SWD 100.

이때, 로우 디코더(200)는 그 전원으로 승압 전압 생성부(300)로부터 생성된 승압 전압을 공급받아 사용하므로, 출력되는 NWE는 승압 전압 레벨과 동일한 전압 레벨이다.At this time, since the row decoder 200 receives and uses the boosted voltage generated from the boosted voltage generator 300 as its power source, the output NWE is at the same voltage level as the boosted voltage level.

한편, 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)는 로우 디코더(200)로 입력된 로우 어드레스 신호 외의 또 다른 다수개의 로우 어드레스 신호의 조합을 입력받은 뒤, 네 개의 DRAij 신호(DRA01, DRA0B1, DRA01B, DRA0B1B)를 발생시킨다(단계:S3).Meanwhile, the row address predecoder 40 receives four DRAij signals DRA01, DRA0B1, DRA01B, and DRA0B1B after receiving a combination of a plurality of row address signals other than the row address signal input to the row decoder 200. (Step S3).

이어서, PX 신호 발생부(30)는 로우 어드레스 프리 디코딩부(40)에서 발생된DRAij 신호를 입력받아 PX와 PXB 신호를 출력한 뒤(단계:S4) SWD(100)에 인가한다.Subsequently, the PX signal generation unit 30 receives the DRAij signal generated by the row address pre-decoding unit 40, outputs the PX and PXB signals (step S4), and applies it to the SWD 100.

SWD(100)는 로우 디코더(200)로부터 승압 전압 레벨의 NWE 신호와 PX 신호 발생부(30)의 출력인 PX 및 PXB 신호를 입력받아 별도의 승압 동작 없이 워드 라인을 인에이블시킨다.The SWD 100 receives the NWE signal having the boosted voltage level and the PX and PXB signals output from the PX signal generator 30 from the row decoder 200 to enable the word line without a separate boost operation.

즉, 반도체 메모리 장치가 대기 상태일 때는, NWE, PX 및 PXB 신호는 각각 로우 레벨, 로우 레벨, 하이 레벨 상태이므로 제 7 NMOS 트랜지스터(103)가 턴온(Turn ON)되어, 워드 라인의 전압 레벨을 접지 전압(Vss) 레벨로 유지하지만, 반도체 메모리 장치가 활성화되어 승압 전압 레벨의 NWE 신호가 하이 레벨로 인에이블되면 PX 및 PXB 신호가 각각 로우 레벨에서 하이 레벨로, 하이 레벨에서 로우 레벨로 천이되므로(단계:S5) 제 5 NMOS 트랜지스터(101) 및 제 6 NMOS 트랜지스터(102)가 턴온되어(단계:S6), 승압 전압이 워드 라인에 전달되게 되어 워드 라인이 인에이블된다.(단계:S7)That is, when the semiconductor memory device is in the standby state, since the NWE, PX, and PXB signals are in the low level, the low level, and the high level, respectively, the seventh NMOS transistor 103 is turned on to turn on the voltage level of the word line. Keep at the ground voltage (Vss) level, but if the semiconductor memory device is enabled and the NWE signal at the boosted voltage level is enabled at high level, then the PX and PXB signals will transition from low level to high level and from high level to low level, respectively. (Step S5) The fifth NMOS transistor 101 and the sixth NMOS transistor 102 are turned on (step: S6), so that the boost voltage is transferred to the word line and the word line is enabled. (Step: S7)

도 7은 이러한 과정의 각 신호 상태를 나타내는 타이밍도로서, NWE 신호가 승압 전압 상태로 인에이블되어 SWD에 입력되고, 동시에 PX 신호가 입력되면 노드 A의 상태가 승압 전압 레벨로 되므로 워드 라인 인에이블이 수행되게 된다.7 is a timing diagram showing the state of each signal in this process. When the NWE signal is enabled in the boosted voltage state and input to the SWD, and at the same time, the state of the node A becomes the boosted voltage level when the PX signal is input, the word line is enabled. This will be done.

이렇게, SWD(100)로 입력되는 NWE 신호는 입력될 때부터 워드 라인을 충분히 인에이블시킬 수 있는 승압 전압 레벨이므로 승압이 불필요하다.As such, since the NWE signal input to the SWD 100 is a boost voltage level capable of sufficiently enabling the word line from the input, the boost is unnecessary.

따라서, SWD(100)에서는 종래와 같이 승압 노드 B를 통한 승압 과정이 필요 없으므로 승압 마진의 확보로 인한 시간 지연을 단축시킬 수 있어 워드 라인 인에이블 속도를 증대시킬 수 있다.Therefore, since the SWD 100 does not need a boosting process through the boosting node B as in the related art, a time delay due to securing a boosting margin can be shortened, thereby increasing the word line enable rate.

이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 기술되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야에 있어서 통상의 지식을 가진 사람이라면, 첨부된 청구 범위에 정의된 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 본 발명을 여러 가지로 변형 또는 변경하여 실시할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 앞으로의 실시예들의 변경은 본 발명의 기술을 벗어날 수 없을 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, those skilled in the art will appreciate that the present invention may be modified without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It will be appreciated that modifications or variations may be made. Therefore, changes in the future embodiments of the present invention will not be able to escape the technology of the present invention.

이상 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면 승압 전압을 생성하여 로우 디코더의 전원 전압으로 공급하고, 로우 디코더에서는 승압 전압 레벨로 NWE 신호를 출력하여 SWD에 공급하므로, SWD에서 별도의 승압 과정이 필요 없이 워드 라인 인에이블이 가능하다.As described above, according to the present invention, since the boosted voltage is generated and supplied to the power supply voltage of the low decoder, and the low decoder outputs the NWE signal at the boosted voltage level and supplies the SWD to the SWD, the word does not need a separate boosting process in the SWD. Line enable is possible.

따라서, 승압 마진을 제거하여 워드 라인 인에이블 시간의 단축을 가능하게 함으로써, 반도체 메모리 장치의 처리 속도를 증대시킬 수 있는 장점이 있다.Accordingly, the word line enable time can be shortened by removing the boost margin, thereby increasing the processing speed of the semiconductor memory device.

Claims (3)

반도체 메모리 장치의 워드 라인을 인에이블시키는 워드 라인 인에이블 구동 회로에 있어서,A word line enable driving circuit for enabling a word line of a semiconductor memory device, 외부 전원 전압으로부터 전압을 인가받아 고전압 및 승압 전압 레벨의 전압을 생성하는 승압 전압 생성부;A boosted voltage generator configured to receive a voltage from an external power supply voltage and generate a voltage having a high voltage and a boosted voltage level; 상기 승압 전압 생성부로부터 생성되는 승압 전압을 전원 전압으로 공급받으며, 외부로부터 전송되는 다수개의 로우 어드레스 신호들에 대응하여 정상 워드 라인 인에이블 신호를 상기 승압 전압 레벨로 출력하는 로우 디코더;A row decoder receiving a boost voltage generated by the boost voltage generator as a power supply voltage and outputting a normal word line enable signal at the boost voltage level in response to a plurality of row address signals transmitted from an external device; 상기 로우 어드레스 신호 외의 다수개의 로우 어드레스 신호 조합을 입력받아 네 개의 디코딩 로우 어드레스 신호를 발생하는 로우 어드레스 프리 디코딩부;A row address predecoding unit configured to receive a plurality of row address signal combinations other than the row address signal and generate four decoded row address signals; 상기 로우 어드레스 프리 디코딩부로부터 출력된 디코딩 로우 어드레스 신호를 입력받아 제어 신호와 반전 제어 신호를 출력하는 제어 신호 발생부;A control signal generator for receiving a decoded row address signal output from the row address pre-decoder and outputting a control signal and an inverted control signal; 상기 반도체 메모리 장치의 워드 라인에 연결되며, 상기 로우 디코더로부터 출력된 승압 전압 레벨의 정상 워드 라인 인에이블 신호와, 상기 제어 신호 및 반전 제어 신호를 입력받아 상기 워드 라인을 인에이블시키는 서브 워드 라인 드라이버를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 구동 회로.A sub word line driver connected to a word line of the semiconductor memory device and receiving the normal word line enable signal of the boosted voltage level output from the row decoder, the control signal, and the inverted control signal to enable the word line; And a word line enable driving circuit of the semiconductor memory device. 제 1항에 있어서, 상기 승압 전압은, 상기 고전압에, 상기 반도체 메모리 장치의 메모리 셀 내의 트랜지스터의 문턱 전압으로 인한 전압 손실을 보상할 수 있는 전압만큼을 더한 전압인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 구동 회로.The semiconductor memory device of claim 1, wherein the boosted voltage is a voltage obtained by adding the high voltage to a voltage capable of compensating for a voltage loss due to a threshold voltage of a transistor in a memory cell of the semiconductor memory device. Word line enable drive circuit. 제 1항에 있어서, 상기 서브 워드 라인 드라이버는,The method of claim 1, wherein the sub word line driver, 상기 로우 디코더의 출력단과 게이트 단이 연결되어 상기 정상 워드 라인 인에이블 신호에 의하여 제어되며, 소오스 단에는 상기 제어 신호가 인가되는 제 1 NMOS 트랜지스터;A first NMOS transistor connected to an output terminal of the row decoder and a gate terminal and controlled by the normal word line enable signal, and to a source terminal of the first NMOS transistor; 상기 제어 신호 발생부의 출력단에 게이트 단이 연결되어 상기 제어 신호에 의하여 제어되며, 소오스 단에 상기 승압 전압 레벨의 정상 워드 라인 인에이블 신호가 인가되는 제 2 NMOS 트랜지스터;A second NMOS transistor connected to an output terminal of the control signal generator and controlled by the control signal, and having a normal word line enable signal of the boosted voltage level applied to a source terminal; 상기 제어 신호 발생부의 출력단에 게이트 단이 연결되어 상기 반전 제어 신호에 의하여 제어되며, 소오스 단에는 상기 제어 신호가 인가되는 제 3 NMOS 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드 라인 인에이블 구동 회로.A gate terminal is connected to an output terminal of the control signal generator and controlled by the inversion control signal, and a source terminal includes a third NMOS transistor to which the control signal is applied. Circuit.
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