KR200207309Y1 - Regeneration apparatus of etching solution - Google Patents

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박춘용
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주식회사탑코리아
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Abstract

본 고안은 ABS합성수지 도금시 이 ABS합성수지에 전도성을 부여하기 위하여 에칭작업을 수행 할때 에칭액의 재생사용을 위한 에칭액 재생장치에 관한 것으로, 무수크롬(CrO3)의 에칭액이 담겨진 에칭탱크(1)와 에칭액에서 노화된 삼가크롬(Cr+3)만이 전리되어 들어가는 전해액(H2SO4)이 담겨진 -전극(4a)을 갖춘 세라믹격막(2)을 구비하고 +전극(4b)이 설치된 에칭액 재생전해 탱크(3)와, 이들 탱크들 사이를 파이프(5)와 펌프(6)를 매개로 연결하는 배관라인(7)으로 이루어진 도금 크롬액 재생장치에 있어서, 상기 세라믹격막(2)들은 에칭액 재생전해탱크(3)내에서 에칭액이 흐르는 흐름방향과 동일한 방향을 따라 길이방향으로 등간격 배치되고, 이 에칭액 재생전해탱크(3)는 에칭액 유입구(8)와 배출구(9)가 댐구조를 형성되면서 상기 배출구(9)에 이웃하여 하단이 바닥면(10)과 이격 설치되는 차단판(11)에 의하여 에칭액 안내통로(12)를 갖추며, 상기 세라믹격막(2)들은 전해액 탱크(13)와 공급 및 배출파이프(14a,14b)들을 매개로 병렬연결되어 이루어져 있다.The present invention relates to an etching solution regeneration device for regeneration of an etching solution when performing an etching operation to impart conductivity to the ABS resin when plating ABS synthetic resin, an etching tank (1) containing an etching solution of chromium anhydrous (CrO 3 ) And the etching solution regeneration electrolyte having a ceramic diaphragm 2 having a negative electrode 4a containing an electrolytic solution (H 2 SO 4 ) in which only trivalent chromium (Cr +3 ) aged in the etching solution is ionized. In the plating chromium liquid regeneration device consisting of a tank (3) and a pipe line (7) connecting the tanks (5) and the pump (6) between them, the ceramic diaphragms (2) are used as etching liquid regeneration electrolytes. The tank 3 is equally spaced in the longitudinal direction along the same direction as the flow direction of the etchant flows. The etchant regeneration electrolytic tank 3 is formed by forming the dam structure of the etchant inlet 8 and the outlet 9. Bottom adjacent to outlet (9) An etching solution guide passage 12 is provided by a blocking plate 11 spaced apart from the bottom surface 10. The ceramic diaphragms 2 are connected to the electrolyte tank 13 and the supply and discharge pipes 14a and 14b. It is connected in parallel.

Description

에칭액 재생장치{Regeneration Apparatus of Etching Solution}Etching solution regeneration device {Regeneration Apparatus of Etching Solution}

본 고안은 플라스틱 도금시 전도성을 부여하기 위하여 에칭(Etching)작업을 수행할 때 에칭액의 주성분인 무수크롬산(CrO3)의 노화액을 재생시키어 도금폐수의 비용절감과 에칭작업의 효율화 및 자동화가 이루어지는 에칭액 재생장치에 관한 것이다.The present design is more efficient and automated to reduce costs and the etching operation of the plating wastewater sikieo play the aging solution etching (Etching) of chromic anhydride main component of the etching solution (C r O 3) to perform the operation in order to impart conductivity during plastic coated An etching solution regeneration device is provided.

주지된 바와 같이 아크릴로 니트릴 부타디엔 스티렌(Acrylonitrile- Butadiene-Styrene, 이하 ABS라 칭함)재질로 이루어진 합성수지를 금속도금을 할때먼저 전도성을 부여하기 위하여 에칭작업을 수행 하게 되는 바, 이때 에칭액으로 주로 무수크롬산(CrO3)과 황산(H2SO4)의 혼산을 이용하여 합성수지에 전도성을 부여하게 되는데, 이는 다음과 같은 화학식 1에 의해서 설명된다.As is well known, when a resin is made of acrylonitrile-butadiene-styrene (hereinafter referred to as ABS) material, metal is plated, an etching operation is first performed to impart conductivity. A mixed acid of chromic acid (CrO 3 ) and sulfuric acid (H 2 SO 4 ) is used to impart conductivity to the synthetic resin, which is described by the following Chemical Formula 1.

CrO3+ H2O ↔H2CrO4 CrO 3 + H 2 O ↔H 2 CrO 4

2H++ CrO4 -2(Cr+6)2H + + CrO 4 -2 (Cr +6 )

여기서, Cr+6+ 3e →Cr+3 Where Cr +6 + 3e → Cr +3

즉, 에칭시 에칭액의 삼가크롬(Cr+3) 허용은 10g/l 까지 허용되나 이 이상치를 초과하게 되면, ABS수지의 에칭효과가 저하되어 도금완료 후, 온도차에 의한 열팽창계수로 인하여 ABS수지와 도금된 금속이 박리되어 이탈되는 현상이 발생함에 따라 에칭액의 삼가크롬(Cr+3) 농도조정이 상당히 중요한 실정이다.In other words, the allowance of trivalent chromium (Cr +3 ) in the etching solution is allowed up to 10g / l, but if it exceeds this value, the etching effect of the ABS resin is reduced, after completion of plating, due to the thermal expansion coefficient due to the temperature difference and ABS resin and As the plated metal is peeled off and separated, the trivalent chromium (Cr + 3 ) concentration of the etching solution is very important.

한편, 노화된 전해액의 교체는 한정된 체적을 갖춘 세라믹 격막에 의해 수시로(약 8시간정도)교체함에 따라 작업의 중단성과 도금효율의 저감을 수반하는 단점도 있었다.On the other hand, the replacement of the aged electrolyte solution has a disadvantage in that it is frequently replaced (about 8 hours) by the ceramic diaphragm having a limited volume and the interruption of work and reduction of plating efficiency.

또한, 노화된 에칭액을 부분적으로 연속해서 교체하거나, 노화된 에칭액 전체를 일시에 교체해야 되므로, 폐수(노화된 에칭액) 처리에 대한 부담이 크게 발생되는 문제점이 있었다.In addition, since the aging etchant must be partially or continuously replaced, or the entire aging etchant must be replaced at one time, there is a problem in that the burden on waste water (aging etchant) treatment is largely generated.

이에 본 고안은 상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, ABS수지의 크롬도금시 사용된 전체 무수크롬산을 폐기처분하지 않고 에칭액에서 노화된 삼가크롬(Cr+3)만을 전해조에서 선별적으로 받아들여 일정량이 모아지게 되면, 자동으로 폐수처리함에 따라 도금의 효율성을 향상시키면서 장비의 자동화가 이루어질 뿐만 아니라, 결국 도금제조단가를 낮출수 있는 에칭액 재생장치를 제공함에 그 목적이 있다.Therefore, the present invention was devised to solve the conventional problems as described above. Only trivalent chromium (Cr +3 ) aged in the etching solution was selectively removed from the electrolyzer without disposing of the entire chromic anhydride used in the chromium plating of ABS resin. If a certain amount is collected, the purpose of the present invention is to provide an etching solution regeneration apparatus capable of lowering the cost of plating as well as automating the equipment while improving the efficiency of plating by automatically treating wastewater.

도 1은 본 고안에 따른 에칭액 재생장치의 전체 배치개략도,1 is an overall layout of the etching solution regeneration apparatus according to the present invention,

도 2(a),(b)는 본 고안의 요부인 재생전해탱크의 평면도와 측단면도들,Figure 2 (a), (b) is a plan view and side cross-sectional views of the regeneration electrolysis tank, which is the main part of the present invention,

도 3은 본 고안에 따른 세라믹격막의 확대도이다.3 is an enlarged view of a ceramic diaphragm according to the present invention.

- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 --Explanation of symbols for the main parts of the drawings-

1 : 에칭탱크, 2 : 세라믹격막,1: etching tank, 2: ceramic diaphragm,

3 : 에칭액 재생전해탱크, 4a,4b : -전극 및 +전극,3: etching solution regeneration electrolytic tank, 4a, 4b: -electrode and + electrode,

5 : 파이프, 6 : 펌프,5: pipe, 6: pump,

7 : 배관라인, 8 : 유입구,7: piping line, 8: inlet,

9 : 배출구, 10 : 바닥면,9: outlet, 10: bottom,

11 : 차단판, 12 : 안내통로,11: blocking plate, 12: guide passage,

13 : 전해액탱크, 14a,14b : 공급 및 배출파이프,13: electrolyte tank, 14a, 14b: supply and discharge pipe,

15 : 이격연결통로.15: spaced connecting passage.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안은, 에칭액이 담겨진 에칭탱크와 이 에칭액에서 노화된 삼가크롬(Cr+3)을 받아들이는 전해액(H2SO4)이 담겨진 -전극을 갖춘 세라믹격막을 구비하고 +전극이 장착된 에칭액 재생전해탱크 및 이들 사이를 파이프와 펌프를 매개로 연결하는 배관라인으로 이루어진 에칭액 재생장치에 있어서, 상기 세라믹격막은 에칭액 재생전해탱크내에서 에칭액이 흐르는 흐름방향과 동일한 방향을 따라 길이 방향으로 등간격 배치되고, 에칭액 재생전해탱크는 유입구와 배출구가 댐구조로 형성되면서 상기 배출구에 이웃하여 하단이 바닥면과 이격되게 설치되는 차단판에 의하여 에칭액 안내통로를 갖추며, 상기 세라믹격막등은 전해액 탱크와 공급 및 배출 파이프들을 매개로 병렬 연결되어 이루어져 있다.The present invention for achieving the above object has a ceramic diaphragm having an etching tank containing an etching solution and a -electrode containing an electrolyte solution (H 2 SO 4 ) for receiving trivalent chromium (Cr +3 ) aged in the etching solution. And an etching solution regeneration electrolytic tank equipped with a positive electrode and a piping line connecting pipes and pumps therebetween, wherein the ceramic diaphragm is in the same direction as the flow direction of the etching solution in the etching solution regeneration electrolytic tank. Equally spaced along the longitudinal direction, the etching solution regeneration electrolytic tank is formed with a dam structure inlet and outlet is provided with an etching solution guide passage by a barrier plate is installed adjacent to the outlet spaced apart from the bottom surface, the ceramic The diaphragm lamp is connected in parallel through the electrolyte tank and the supply and discharge pipes.

또한, 상기 각각의 세라믹격막의 내부에는 전해액 탱크에 연결된 공급파이프가 이 세라믹격막의 일측하부까지 연장되고, 배출파이프는 이 공급파이프의 대향된 타측 상부쪽에 배치되어 전해액 탱크에 연결되는 구조로 되어 있다.In addition, inside each ceramic diaphragm, a supply pipe connected to an electrolyte tank extends to one lower side of the ceramic diaphragm, and a discharge pipe is disposed on an upper side of the other side of the ceramic diaphragm and connected to an electrolyte tank. .

그리고 이 에칭액 재생전해탱크에 배치되는 세라믹격막들은 작업용량에 맞추어 복수개 설치할 수 있음은 물론이다.And, of course, a plurality of ceramic diaphragms disposed in the etching solution regeneration electrolytic tank can be installed in accordance with the working capacity.

이하 본 고안을 첨부된 예시도면에 의거 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 고안에 따른 도금크롬액 재생장치의 전체를 나타낸 개략도이고, 도 2는 본 고안의 요부인 재생전해탱크의 평면도와 측단면도이고, 도 3은 세라믹 격막의 확대도이다.1 is a schematic view showing the entire plating chromium liquid regeneration apparatus according to the present invention, Figure 2 is a plan view and a side cross-sectional view of the regeneration electrolytic tank which is the main part of the present invention, Figure 3 is an enlarged view of the ceramic diaphragm.

도면에 도시된 바와 같이 본 고안은 무수크롬산의 에칭액이 담겨진 에칭탱크(1)와 에칭액에서 노화된 삼가크롬만을 받아들이는 전해액(H2SO4)이 담겨진 -전극(4a)을 갖춘 세라믹 격막(2)을 구비하고 +전극(4b)이 설치된 에칭액 재생전해 탱크(3) 및, 이들 탱크들 사이를 파이프(5)와 펌프(6)를 매개로 연결하는 배관라인(7)으로 이루어진 에칭액 재생장치에 있어서, 상기 세라믹 격막(2)들은 에칭액 재생전해탱크(3)내에서 에칭액이 흐르는 흐름방향과 동일한 방향을 따라 길이방향으로 등간격 배치되고, 이 에칭액 재생전해탱크(3)는 에칭액 유입구(8)와 배출구(9)가 댐구조를 형성되면서 상기 배출구(9)에 이웃하여 하단이 바닥면(10)과 이격 설치되는 차단판(11)에 의하여 에칭액 안내통로(12)를 갖추며, 상기 세라믹격막(2)들은 전해액 탱크(13)와 공급 및 배출파이프(14a,14b)들을 매개로 병렬연결되어 있다.As shown in the figure, the present invention is a ceramic diaphragm 2 having an etching tank 1 containing an etching solution of chromic anhydride and an -electrode 4a containing an electrolyte solution H 2 SO 4 which receives only trivalent chromium aged in the etching solution. And an etching solution regeneration electrolytic tank 3 having a positive electrode 4b and a pipe line 7 connecting the tanks via a pipe 5 and a pump 6 to each other. The ceramic diaphragms 2 are equally spaced in the longitudinal direction along the same direction as the flow direction of the etchant flow in the etchant regeneration electrolysis tank 3, and the etchant regeneration electrolysis tank 3 is the etchant inlet 8. And the discharge port 9 is formed with a dam structure and has an etching solution guide passage 12 by a blocking plate 11 installed at a lower side of the discharge port 9 and spaced apart from the bottom surface 10, and the ceramic diaphragm ( 2) the electrolyte tank 13 and the supply and discharge pie It is parallel connected with the (14a, 14b) intermediate.

또한 상기 각각의 세라믹격막(2)의 내부에는 전해액 탱크(13)에 연결된 공급파이프(14a)가 이 세라믹격막(2)의 일측 하부까지 연장되고, 상기 배출파이프(14b)는 이 공급파이프(14a)의 대향된 타측 상부쪽에 배치되어 전해액 탱크(13)에 연결되어 있다.In addition, a supply pipe 14a connected to the electrolyte tank 13 extends to one lower side of the ceramic diaphragm 2 in the ceramic diaphragm 2, and the discharge pipe 14b is supplied to the supply pipe 14a. It is arranged at the upper side opposite to the other side and is connected to the electrolyte tank 13.

그리고 도면에는 상기 에칭액 재생전해탱크(3) 내에 장착되는 납과 주석으로 이루어진 -전극(4a)을 구비한 세라믹격막(2)의 둘레에 +전극(4b)이 배치되며, 이 세라믹 격막(2)은 일예로 4개가 배치되어 있지만 도금 작업 용량이나 탱크구조에 따라 다양한 갯수로 설치 할 수 있음은 물론이다.In the figure, a + electrode 4b is disposed around the ceramic diaphragm 2 having the -electrode 4a made of lead and tin mounted in the etching solution regeneration electrolytic tank 3, and the ceramic diaphragm 2 For example, four are arranged, but it can be installed in various numbers depending on the plating capacity and tank structure.

이어 본 고안에 따른 에칭액 재생장치의 작용을 살펴 보면, 도 1에 도시된 바와 같이 ABS수지를 금속도금하기 위하여 무수크롬산이 녹아있는 에칭액이 담겨진 에칭탱크(1)내에서 펌프(6)를 이용하여 배관라인(7)의 파이프(5)쪽으로 에칭액을 빨아들이면, 이 에칭액은 화살표 방향을 따라 에칭액 재생전해탱크(3)로 공급되는데, 이때 상기 에칭액은 도 2의(a)와 (b)에 도시된 바와 같이 에칭액 유입구(8)를 거쳐 유입될때 이 유입구(8)가 댐구조로 되어 있기 때문에 공급되는 에칭액은 유입구(8)의 안내벽(8a)을 따라 균일하게 공급되는데, 이 공급되는 에칭액의 흐름방향을 따라 길이방향으로 배치되는 세라믹 격막(2)들 사이를 통하여 일정하게 흘러서 차단판(11)과 바닥면(10)사이에 형성된 이격연결통로(15)를 거쳐 에칭액 안내통로(12)를 통하여 댐구조의 배출구(9)로 균일하게 배출되어 에칭액 에칭탱크(1)로 공급되도록 되어 있다.Next, look at the action of the etching solution regeneration apparatus according to the present invention, by using the pump (6) in the etching tank (1) containing the etching solution in which chromic anhydride is dissolved in order to metal plate the ABS resin as shown in FIG. When the etchant is sucked into the pipe 5 of the pipe line 7, the etchant is supplied to the etchant regeneration electrolytic tank 3 along the direction of the arrow, which is shown in FIGS. 2A and 2B. Since the inlet 8 has a dam structure when it flows in through the etchant inlet 8 as described above, the etchant supplied is uniformly supplied along the guide wall 8a of the inlet 8. The etching solution guide passage 12 is uniformly flowed through the ceramic diaphragms 2 disposed in the longitudinal direction along the flow direction, and is separated by a separation connecting passage 15 formed between the blocking plate 11 and the bottom surface 10. Through the outlet of the dam structure (9) Is uniformly discharged is supplied to the etching solution so that the etching tank (1).

여기서 상기 에칭액이 에칭액 재생전해탱크(3)를 통과할 때 에칭후 노화된 삼가크롬(Cr+3)은 공지의 방식대로 세라믹격막(2)의 황산전해액에 들어가게 되는 바, 이 전해액은 약 10%황산(H2SO4)으로서 일정한 전해액이 담겨진 전해액탱크(13)에서 세라믹격막(2)에 각각 병렬로 연결된 공급파이프(14a)를 통하여 균등하게 공급되어 배출파이프(14b)를 통하여 전해액 탱크(13)로 유입된다.Here, when the etching solution passes through the etching solution regeneration electrolytic tank 3, the aged trivalent chromium (Cr +3 ) is etched into the sulfuric acid electrolyte of the ceramic diaphragm 2 in a known manner, and this electrolyte is about 10%. In the electrolyte tank 13 in which a constant electrolyte is contained as sulfuric acid (H 2 SO 4 ), it is evenly supplied through the supply pipe 14a connected in parallel to the ceramic diaphragm 2, respectively, and the electrolyte tank 13 through the discharge pipe 14b. Flows into).

이때 본 고안에서는 각각의 세라믹격막(2)들과 병렬 연결되는 상기 전해액 탱크(13)에는 일정한 시간동안 지속적으로 노화된 삼가크롬(Cr+3)을 받아들이는 전해액이 담겨 지기 때문에 종래와 같이 단일 구조로 된 복수개의 세라믹격막의 한정된 전해액의 교체를 위해 작업의 중단 및 불연속성을 개선시키어 자동화가 가능할 뿐만 아니라 노동력의 절약으로 생산성을 향상시킬 수 있다.At this time, in the present invention, the electrolyte tank 13 connected in parallel with each ceramic diaphragm 2 contains an electrolyte that receives trivalent chromium (Cr +3 ) that is continuously aged for a predetermined time, so that a single structure as in the related art In order to replace the limited electrolyte of a plurality of ceramic diaphragms, it is possible to improve the interruption and discontinuity of the work and to improve productivity by saving labor.

즉 본 고안에서는 에칭액 에칭탱크(1)에서 무수크롬산액에서 도금작업후 에칭액 재생전해탱크(3)에 있는 노화된 삼가크롬을 받아들인 다음, 에칭액 회수탱크(4)를 거쳐 다시 에칭탱크(1)로 공급하게 되는데, 이때 상기 에칭액 재생전해탱크(3)의 세라믹격막(2)의 전해액에서 받아들인 노화된 삼가크롬(Cr+3)은 일정량 저장하는 전해액탱크(13)에서 일정한 농도가 될때까지 계속 순환시키기 때문에 장기간의 작업 수행이 가능하여 자동화할 수 있을 뿐만 아니라 에칭액재생 사용효율도 상당히 개선된다.In other words, in the present invention, the aged trivalent chromium in the etching solution regeneration electrolytic tank 3 is received after the plating operation in the etching solution etching tank 1 in the chromic anhydride solution, and then the etching tank 1 is again passed through the etching solution recovery tank 4. In this case, the aged trivalent chromium (Cr +3 ) received from the electrolyte solution of the ceramic diaphragm 2 of the etching solution regeneration electrolytic tank 3 continues until a constant concentration is achieved in the electrolyte tank 13 storing a predetermined amount. Because of the circulation, long-term work can be performed and automated, and the efficiency of etching solution regeneration is significantly improved.

한편, 상기 에칭액 재생전해 탱크(3)내에서 등간격으로 배치되는 세라믹 격막(2)들의 갯수와 이들에 공급 및 배출파이프(14a,14b)를 매개로 병렬 연결되는 전해액 탱크(13)의 용량은 작업 용량 및 탱크의 크기등에 따라 다양하게 변경 적용할 수 있음은 물론이다.Meanwhile, the number of ceramic diaphragms 2 arranged at equal intervals in the etching solution regeneration electrolytic tank 3 and the capacity of the electrolyte tank 13 connected in parallel through the supply and discharge pipes 14a and 14b are Of course, it can be variously applied according to the working capacity and the size of the tank.

상기와 같은 본 고안에 따른 에칭액 재생장치는 ABS수지 도금시 노화된 삼가크롬만을 일정한 장시간 동안 받아들인후 무수그롬산 에칭액을 재사용함에 따라 종래의 에칭액 재생장치에 비해 재생 효율의 향상뿐만 아니라, 장비의 전체 크기도 축소하고 자동화가 가능하며, 결국 도금단가를 저감시키는 효과를 갖게 된다.Etching liquid regeneration device according to the present invention as described above, by receiving only the trivalent chromium aged in ABS resin plating for a certain long time and reuse the chromic anhydride etching solution as well as the improvement of the regeneration efficiency as compared to the conventional etching liquid regeneration device, The overall size can also be reduced and automated, resulting in reduced plating costs.

Claims (3)

무수크롬산의 에칭액이 담겨진 에칭탱크(1)와 에칭액에서 노화된 삼가크롬(Cr+3)을 받아들이는 전해액(H2SO4)이 담겨진 -전극(4a)을 갖춘 세라믹격막(2)을 구비하고 +전극이 장착된 에칭액 재생전해탱크(3) 및, 이들 탱크들 사이를 파이프(5)와 펌프(6)를 매개로 연결하는 배관라인(7)으로 이루어진 에칭액 재생장치에 있어서,Equipped with an etching tank 1 containing an etching solution of chromic anhydride and a ceramic diaphragm 2 having an -electrode 4a containing an electrolytic solution (H 2 SO 4 ) that receives trivalent chromium (Cr +3 ) aged in the etching solution. In the etching solution regeneration apparatus consisting of an etching solution regeneration electrolytic tank (3) equipped with an electrode and a pipe line (7) connecting the tanks (5) and the pump (6) between them. 상기 세라믹격막(2)들은 에칭액 재생전해탱크(3)내에서 에칭액이 흐르는 흐름방향과 동일한 방향을 따라 길이방향으로 등간격 배치되고, 이 에칭액 재생전해탱크(3)는 에칭액 유입구(8)와 배출구(9)가 댐구조를 형성되면서 상기 배출구(9)에 이웃하여 하단이 바닥면(10)과 이격 설치되는 차단판(11)에 의하여 에칭액 안내통로(12)를 갖추며, 상기 세라믹격막(2)들은 전해액 탱크(13)와 공급 및 배출파이프(14a,14b)들을 매개로 병렬연결되어 이루어진 것을 특징으로 하는 에칭액 재생장치.The ceramic diaphragms 2 are equally spaced in the longitudinal direction along the same direction as the flow direction of the etchant flow in the etchant regeneration electrolysis tank 3, and the etchant regeneration electrolysis tank 3 is an etchant inlet 8 and an outlet. Equipped with an etching solution guide passage (12) by a blocking plate (11), the lower end of which is spaced apart from the bottom surface (10) adjacent to the outlet (9) while forming a dam structure, the ceramic diaphragm (2) Etching liquid regeneration apparatus, characterized in that made in parallel connection via the electrolyte tank 13 and the supply and discharge pipes (14a, 14b). 제 1항에 있어서, 상기 각각의 세라믹격막(2)의 내부에는 전해액탱크(13)에 연결된 공급파이프(14a)가 이 세라믹격막(2)의 일측 하부까지 연장되고, 상기 배출파이프(14b)는 이 공급파이프(14a)의 대향된 타측 상부쪽에 배치되어 전해액 탱크(13)에 연결되어 이루어진 것을 특징으로 하는 에칭액 재생장치.The inside of each ceramic diaphragm 2, the supply pipe (14a) connected to the electrolyte tank 13 extends to the lower side of one side of the ceramic diaphragm (2), the discharge pipe (14b) Etching solution regeneration apparatus, characterized in that the supply pipe (14a) is arranged on the other upper side opposite to the electrolyte tank (13). 제 1항에 있어서, 상기 차단판(11)과 바닥면(12)사이에는 이격 연결통로(15)가 형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 에칭액 재생장치.The etching solution regeneration apparatus according to claim 1, wherein a spaced connecting passage (15) is formed between the blocking plate (11) and the bottom surface (12).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9647233B2 (en) 2015-03-09 2017-05-09 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting display device
KR102561393B1 (en) 2023-01-30 2023-07-31 주식회사 지씨이 Etchant suction recovery circulation device of non-contact type vertical continuous etching equipment

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