KR20020083473A - Material with High Refractive Index and Anti-Reflective Laminate Using the Same - Google Patents

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KR20020083473A
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: To provide a high refractive index material which has excellent stability in preservation and antistatic performance, and a laminate for preventing reflection which has excellent antireflection performance and antistatic performance. CONSTITUTION: The high refractive index material 10 consists of (1) 100 pts.wt. electroconductive metal oxide particles the average particle size of which ranges 0.01-2 μm, (2) 1-70 pts.wt. polymer containing hydroxyl group, (3) 1-70 pts.wt. hardener containing a functional group reacting with hydroxyl group, and its refractive index after setting is 0.60 or more. The laminate for preventing reflection 16 is obtained by using the same.

Description

고굴절률 재료 및 그것을 사용한 반사 방지용 적층체{Material with High Refractive Index and Anti-Reflective Laminate Using the Same}High refractive index material and anti-reflective laminate using the same {Material with High Refractive Index and Anti-Reflective Laminate Using the Same}

본 발명은, 고굴절률 재료 및 그것을 사용한 반사 방지용 적층체에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 보존 안정성 및 대전 방지성이 우수한 고굴절률 재료 및 그것을 사용한 반사 방지성 및 대전 방지성이 우수한 반사 방지용 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a high refractive index material and an antireflection laminate using the same. More specifically, it is related with the high refractive index material excellent in storage stability and antistatic property, and the antireflective laminated body excellent in antireflection and antistatic property using the same.

반사 방지막의 형성 재료로서, 예를 들면 열경화형 폴리실록산 조성물이 알려져 있고, 일본 특허 공개소 61-247743호 공보, 일본 특허 공개평 6-25599호 공보, 일본 특허 공개평 7-331115호 공보 및 일본 특허 공개평 10-232301호 공보 등에 개시되어 있다.As a material for forming an antireflection film, for example, a thermosetting polysiloxane composition is known, and Japanese Patent Laid-Open No. 61-247743, Japanese Patent Laid-Open No. 6-25599, Japanese Patent Laid-Open No. 7-331115 and Japanese Patent It is disclosed in Unexamined-Japanese-Patent No. 10-232301.

그러나, 이러한 열경화형 폴리실록산 조성물로부터 얻어지는 반사 방지막은, 고온에서 장시간에 걸쳐 가열 처리를 할 필요가 있고, 생산성이 낮거나 또는 적용 기재의 종류가 한정된다는 문제가 있었다. 또한, 이러한 열경화형 폴리실록산 조성물은 보존 안정성이 부족하기 때문에 일반적으로 주제와 경화제가 분리된 이액성 타입으로 취급이 번잡하다는 문제가 있었다.However, the antireflective film obtained from such a thermosetting polysiloxane composition needs to heat-process at high temperature for a long time, and there existed a problem that productivity was low or the kind of application base material was limited. In addition, these thermosetting polysiloxane compositions have a problem in that handling is complicated by a two-component type in which a main body and a curing agent are separated because of poor storage stability.

그래서 일본 특허 공개평 8-94806호 공보에 개시되어 있는 것과 같이, 기재상에, 미립자를 고굴절률 바인더 수지 중에 극재(極在)화시킨 고굴절률막 (굴절률=1.6 이상)과, 불소계 공중합체를 포함하는 저굴절률막 (굴절률=1.6 미만)을 순차 적층한 광학 기능성 필름이 제안되고 있다.Therefore, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-94806, a high refractive index film (refractive index = 1.6 or more) and a fluorine-based copolymer obtained by polarizing fine particles in a high refractive index binder resin on a substrate are used. The optical functional film which laminated | stacked the low refractive index film (refractive index = less than 1.6) containing sequentially is proposed.

보다 구체적으로는, 고굴절률막을 형성하는데, 200 nm 이하의 금속 산화물 입자 등의 미립자층을 공정지 상에 미리 형성하여 두고, 그것을 기재 상의 고굴절률 바인더 수지에 대하여 압력 접합시킴으로써 고굴절률 바인더 수지 중에 미립자층을 매설하여 극재화시키고 있다.More specifically, although a high refractive index film is formed, microparticles | fine-particles in high refractive index binder resin are formed by previously forming fine particle layers, such as 200 nm or less metal oxide particles, on a process paper, and pressure-bonding it with respect to the high refractive index binder resin on a base material. The floor is buried and dramatized.

또한, 저굴절률막에 대해서는, 불화 비닐리덴 30 내지 90 중량% 및 헥사플루오로프로필렌 5 내지 50 중량%를 함유하는 단량체 조성물을 공중합시켜 얻은 불소 함유 비율이 60 내지 70 중량%인 불소 함유 공중합체 100 중량부와, 에틸렌성불포화기를 갖는 중합성 화합물 30 내지 150 중량부와, 이들 합계량을 100 중량부로 하였을때 0.5 내지 10 중량부의 중합 개시제를 포함하는 수지 조성물을 경화시켜, 막 두께 200 nm 이하의 박막을 제조한다.Moreover, about the low refractive index film, the fluorine-containing copolymer 100 whose fluorine content ratio obtained by copolymerizing the monomer composition containing 30-90 weight% of vinylidene fluoride and 5-50 weight% of hexafluoropropylene is 60-70 weight%. A thin film having a thickness of 200 nm or less by curing a resin composition comprising a weight part, a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group, 30 to 150 parts by weight, and a total amount of 100 parts by weight, and a polymerization initiator of 0.5 to 10 parts by weight. To prepare.

그러나 일본 특허 공개평 8-94806호 공보에 개시된 광학 기능성 필름은 저굴절률 재료에 있어서 중합 개시제를 사용하고 있기 때문에 경화 반응이 주위에 존재하는 산소 (공기)의 영향을 받기 쉽고, 결과로서 경화 불량이 생기기 쉽다는 문제점을 볼 수 있었다.However, since the optical functional film disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 8-94806 uses a polymerization initiator in a low refractive index material, the curing reaction is susceptible to the influence of oxygen (air) present in the surroundings. It was easy to see the problem.

또한, 고굴절률막에 대해서도 제조시의 제조 공정이 복잡하고, 결과로서 안정된 광학 기능성 필름을 제조하는 것이 곤란하였다. 또한, 고굴절률 재료에 있어서 사용하는 고분자체의 종류나 경화제의 종류가 적당하지 않기 때문에, 고굴절률 재료의 보존 안정성이 부족하다는 문제점이 보였다.Moreover, the manufacturing process at the time of manufacture is also complicated about a high refractive index film, and as a result, it was difficult to manufacture stable optical functional film. Moreover, since the kind of polymer body used for a high refractive index material and the kind of hardening | curing agent are not suitable, the problem that the storage stability of a high refractive index material is lacking was seen.

또한, 일본 특허 공개평 8-94806호 공보에 개시된 광학 기능성 필름은, 저굴절률막과, 고굴절률막과의 상용성이 양호하지 않고, 반사 방지성이 불충분하거나 또는 계면에서 쉽게 박리된다는 문제점이 보였다.Moreover, the optical functional film disclosed in Unexamined-Japanese-Patent No. 8-94806 has the problem that compatibility with a low refractive index film and a high refractive index film is not good, and an antireflection is inadequate or it peels easily at an interface. .

그래서, 상기 문제점을 해결하기 위해 일본 특허 공개 2000-186216호 공보에서는 평균 입경이 0.1 ㎛ 이하인 금속 산화물 입자를 포함하는 고굴절 재료 및 이 고굴절률 재료를 사용한 반사 방지용 적층체가 제안되고 있다.Then, in order to solve the said problem, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-186216 has proposed the high refractive material containing the metal oxide particle whose average particle diameter is 0.1 micrometer or less, and the antireflection laminated body using this high refractive index material.

그러나, 상기 공보에서는 고굴절률 재료 중에 포함되는 금속 산화물 입자로서 비도전성의 산화 지르코늄 등을 적합하게 사용하고 있기 때문에, 이러한 고굴절 재료로부터 얻어지는 반사 방지용 적층체는, 반사 방지성이나 투명성이 우수하지만대전 방지성이 부족하다는 과제가 있었다.However, in the above publication, since nonconductive zirconium oxide or the like is suitably used as the metal oxide particles contained in the high refractive index material, the antireflective laminate obtained from such a high refractive material is excellent in antireflection property and transparency, but antistatic There was a problem of lack of sex.

본 발명의 발명자들은 예의 검토한 결과, 고굴절률 재료에 있어서, 특정한 평균 입경을 갖는 도전성 금속 산화물 미립자를 소정의 범위 내의 첨가량으로 혼합함으로써, 상술한 과제를 해결할 수 있다는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명은 도포성 및 투명성에 문제가 생기는 일이 없고, 우수한 보존 안정성 및 대전 방지성을 갖는 고굴절률 재료 및 그것을 사용한 우수한 반사 방지성 및 대전 방지성을 갖는 반사 방지용 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.As a result of earnestly examining, the inventors of the present invention have found that the above-described problems can be solved by mixing conductive metal oxide fine particles having a specific average particle diameter in an additive amount within a predetermined range. That is, this invention does not produce a problem with applicability | paintability and transparency, and provides the high refractive index material which has the outstanding storage stability and antistatic property, and the antireflective laminated body which has the outstanding antireflective property and antistatic property using the same The purpose.

도 1은 본 발명의 적층체의 단면을 나타낸다.1 shows a cross section of a laminate of the present invention.

도 2는 본 발명의 적층체의 단면을 나타낸다.2 shows a cross section of the laminate of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10, 20 고굴절률층10, 20 high refractive index layer

12 기재12 description

14, 22 저굴절률층14, 22 Low Refractive Index Layer

16, 24 반사 방지용 적층체16, 24 anti-reflective laminate

18 하드 코팅층18 hard coating layers

본 발명은 고굴절률 재료에 관한 것이며,The present invention relates to a high refractive index material,

(1) 평균 입경이 0.01 내지 2 ㎛인 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부와,(1) 100 parts by weight of conductive metal oxide fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 2 µm,

(2) 수산기 함유 중합체 1 내지 70 중량부와,(2) 1 to 70 parts by weight of a hydroxyl group-containing polymer,

(3) 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제 1 내지 70 중량부(3) 1 to 70 parts by weight of a curing agent having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group

로 구성되고, 경화 후의 굴절률이 1.60 이상인 것을 특징으로 한다.The refractive index after hardening is 1.60 or more, It is characterized by the above-mentioned.

도전성 금속 산화물 미립자를 사용함으로써, 대전 방지성이 우수한 고굴절률 재료를 얻을 수 있다.By using electroconductive metal oxide fine particles, the high refractive index material excellent in antistatic property can be obtained.

또한, 이와 같이 구성함으로써 우수한 보존 안정성, 예를 들면 실온 (25 ℃ )에서 30 일 이상 보관하여도, 도전성 금속 산화물 미립자의 침강이 없고, 또한 보관시에 있어서의 수산기 함유 중합체와 경화제와의 반응을 유효하게 방지할 수 있다. 또한, 이러한 고굴절률 재료로부터 형성된 고굴절률막은 저굴절률막과의 상용성이 양호하고, 우수한 반사 방지성 또는 밀착력을 얻을 수 있다.In this way, even when stored for 30 days or more at an excellent storage stability, for example, at room temperature (25 ° C.), there is no sedimentation of the conductive metal oxide fine particles, and the reaction between the hydroxyl group-containing polymer and the curing agent during storage is achieved. It can prevent effectively. In addition, the high refractive index film formed from such a high refractive index material has good compatibility with the low refractive index film, and can obtain excellent antireflection property or adhesion.

또한, 본 발명의 고굴절률 재료를 구성함에 있어서, 상기 도전성 금속 산화물미립자가, 안티몬 함유 산화 주석 또는 인듐 함유 산화 주석인 것이 바람직하다.Moreover, in forming the high refractive index material of this invention, it is preferable that the said electroconductive metal oxide fine particle is antimony containing tin oxide or indium containing tin oxide.

안티몬 함유 산화 주석 또는 인듐 함유 산화 주석을 사용함으로써, 경화시켰을 때, 반사 방지성 및 대전 방지성이 우수한 고굴절률막이 얻어지는 고굴절률 재료를 쉽게 얻을 수 있다.By using antimony-containing tin oxide or indium-containing tin oxide, it is easy to obtain a high refractive index material which, when cured, yields a high refractive index film excellent in antireflection and antistatic properties.

또한, 본 발명의 다른 형태는, 기판과, 상기 기판상의, 상기 고굴절률 재료를 경화시켜 얻은 고굴절률막 및 저굴절률막을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지용 적층체이다.Another aspect of the present invention is a reflection preventing laminate comprising a substrate and a high refractive index film and a low refractive index film obtained by curing the high refractive index material on the substrate.

또한, 이 경우, 기판과 고굴절률막의 사이에 다른 층을 포함할 수도 있고, 또한 고굴절률막과 저굴절률막 사이에 다른 층을 포함할 수도 있다.In this case, another layer may be included between the substrate and the high refractive index film, and another layer may be included between the high refractive index film and the low refractive index film.

도전성 금속 산화물 미립자를 포함하는 고굴절률막을 설치함으로써 대전 방지성이 우수한 반사 방지용 적층체를 얻을 수 있다.By providing a high refractive index film containing conductive metal oxide fine particles, an antireflection laminate excellent in antistatic properties can be obtained.

또한, 이와 같이 구성한 고굴절률막을 포함함으로써 저굴절률막과 조합한 경우에, 우수한 반사 방지성, 예를 들면 반사율로서 1 %이하의 값을 얻을 수 있으며, 저굴절률막과의 상용성이 양호하고, 우수한 밀착력을 얻을 수 있다.In addition, by including the high refractive index film constituted as described above, when combined with the low refractive index film, an excellent antireflection property, for example, a value of 1% or less as a reflectance can be obtained, and compatibility with the low refractive film is good. Excellent adhesion can be obtained.

또한, 본 발명의 반사 방지용 적층체를 구성함에 있어서, 상기 저굴절률막이 경화성 불소 함유 공중합체를 포함하는 저굴절률 재료를 경화시켜 얻어지고, 굴절률이 1.60 미만의 값인 것이 바람직하다.Moreover, in forming the anti-reflective laminated body of this invention, it is preferable that the said low refractive index film is obtained by hardening the low refractive index material containing a curable fluorine-containing copolymer, and it is preferable that refractive index is a value of less than 1.60.

이와 같이 구성하면, 고굴절률막과 저굴절률막의 밀착력이 보다 양호해 지고, 보다 우수한 반사 방지성, 예를 들면 1.0 % 이하의 반사율을 얻을 수 있다.If comprised in this way, the adhesive force of a high refractive index film and a low refractive index film will become more favorable, and the outstanding antireflection property, for example, the reflectance of 1.0% or less can be obtained.

또한, 바람직한 경화성 불소 함유 공중합체의 한 예로서, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체와, 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제를 포함하는 경화성 조성물을 들 수 있다.Moreover, as an example of a preferable curable fluorine-containing copolymer, the curable composition containing the fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group, and the hardening | curing agent which has a functional group which can react with a hydroxyl group is mentioned.

본 발명의 고굴절률 재료에 관한 실시의 형태 (제1의 실시 형태) 및 반사 방지용 적층체에 관한 실시의 형태 (제2 및 제3의 실시 형태)를 구체적으로 설명한다.Embodiment (1st embodiment) regarding the high refractive index material of this invention, and embodiment (2nd and 3rd embodiment) regarding the antireflective laminated body are demonstrated concretely.

<제1의 실시 형태><1st embodiment>

본 발명의 제1의 실시 형태는, 고굴절률 재료에 관한 것이며,A first embodiment of the present invention relates to a high refractive index material,

(1) 평균 입경이 0.01 내지 2 ㎛인 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부,(1) 100 parts by weight of conductive metal oxide fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 2 μm,

(2) 수산기 함유 중합체 1 내지 70 중량부,(2) 1 to 70 parts by weight of a hydroxyl group-containing polymer,

(3) 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제 1 내지 70 중량부,(3) 1 to 70 parts by weight of a curing agent having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group,

(4) 경화 촉매 0.1 내지 30 중량부,(4) 0.1 to 30 parts by weight of the curing catalyst,

(5) 유기 용매 100 내지 20,000 중량부,(5) 100 to 20,000 parts by weight of an organic solvent,

로 구성되어 있고, 또한 경화 후의 굴절률을 1.60 이상의 값으로 한다.The refractive index after hardening is made into the value of 1.60 or more.

(1) 도전성 금속 산화물 미립자(1) conductive metal oxide fine particles

고굴절률 재료에 사용하는 도전성 금속 산화물 미립자가 구형인 경우, 그 평균 입경 (수평균 입경, 이하 동일)은 0.01 ㎛ 내지 0.5 ㎛인 것이 바람직하다. 또한, 도전성 금속 산화물 미립자가 침상인 경우, 그 평균 입경은 0.01 ㎛ 내지 2 ㎛인 것이 바람직하다. 여기에서 도전성 금속 산화물 미립자가 침상인 경우의 평균 입경은, 침상 입자의 장축 직경을 말한다.When the electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles used for a high refractive index material are spherical, it is preferable that the average particle diameter (number average particle diameter, the same below) is 0.01 micrometer-0.5 micrometer. In addition, when electroconductive metal oxide fine particle is needle shape, it is preferable that the average particle diameter is 0.01 micrometer-2 micrometers. Here, the average particle diameter when electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles are needle shape means the major axis diameter of needle shape particle | grains.

이 이유는, 도전성 금속 산화물 미립자의 수평균 입경이 0.01 ㎛ 미만이 되면 경화 도포막 중에 도전로가 형성되기 어려워지기 때문에, 대전 방지성이 현저히 손상되는 경우가 있기 때문이고, 2 ㎛을 초과하면, 고굴절률 재료에 있어서 도전성 금속 산화물 미립자를 균일하게 분산시키는 것이 곤란하고, 또한 도전성 금속 산화물 미립자가 침강되기 쉬워지며, 보존 안정성이 부족하기 때문이다. 또한, 도전성 금속 산화물 미립자의 수평균 입경이 2 ㎛을 초과하면 얻어지는 반사 방지막의 투명성이 저하되거나 탁도 (Haze치)가 상승할 경우가 있기 때문이다.This is because, when the number average particle diameter of the conductive metal oxide fine particles is less than 0.01 μm, it is difficult to form a conductive path in the cured coating film, and thus, the antistatic property may be remarkably impaired. This is because it is difficult to uniformly disperse the conductive metal oxide fine particles in the high refractive index material, the conductive metal oxide fine particles are easily precipitated, and the storage stability is insufficient. Moreover, when the number average particle diameter of electroconductive metal oxide fine particle exceeds 2 micrometers, transparency of the antireflective film obtained may fall, or haze (Haze value) may increase.

따라서, 도전성 금속 산화물 미립자의 수평균 입경을 0.01 내지 2 ㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.01 내지 1 ㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the number average particle diameter of electroconductive metal oxide fine particle into the value within the range of 0.01-2 micrometers, and it is more preferable to set it as the value within the range which is 0.01-1 micrometer.

또한, 도전성 금속 산화물 미립자의 종류는, 입자의 체적 고유 저항치나 굴절률 조정의 용이함을 고려하여 결정하는 것이 바람직하지만, 보다 구체적으로는 안티몬 함유 산화 주석 (ATO, 굴절률 1.95), 인듐 함유 산화 주석 (ITO, 굴절률 1.95), 산화 주석 (SnO2, 굴절률 2.00), 산화 티탄 (TiO2, 굴절률 2.3 내지 2.7), 산화 아연 (ZnO, 굴절률 1.90), 산화 인듐 (I2O5), 산화 안티몬 (Sb2O5, 굴절률 2.1), 황화 아연 (ZnS, 굴절률 2.4) 산화셀레늄 (SeO5, 굴절률 1.75), 산화 텅스텐 (W2O5), 안티몬산 아연 (AZO, 굴절률 1.90), 유리 세라믹스, 산화 바나듐 (V2O5, 굴절률 1.76) 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.The type of the conductive metal oxide fine particles is preferably determined in consideration of the volume resistivity of the particles and the ease of adjusting the refractive index, but more specifically, the antimony-containing tin oxide (ATO, refractive index 1.95) and the indium-containing tin oxide (ITO). , Refractive index 1.95, tin oxide (SnO 2 , refractive index 2.00), titanium oxide (TiO 2 , refractive index 2.3 to 2.7), zinc oxide (ZnO, refractive index 1.90), indium oxide (I 2 O 5 ), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index 2.1), zinc sulfide (ZnS, refractive index 2.4) selenium oxide (SeO 5 , refractive index 1.75), tungsten oxide (W 2 O 5 ), antimony acid (AZO, refractive index 1.90), glass ceramics, vanadium oxide ( V 2 O 5, refractive index 1.76) may be mentioned singly or in combination of two or more of such.

단, 이들 도전성 금속 산화물 미립자 중, 비교적 소량의 첨가로 경화 후의 굴절률 값을 1.6 이상의 값으로 쉽게 조절할 수가 있고, 또한 대전 방지 기능을 부여할 수 있다는 점에서, 굴절률이 1.9 이상인 도전성 금속 산화물 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 도전성 금속 산화물 미립자로서는 안티몬 함유 산화 주석 및 인듐 함유 산화 주석이 특히 바람직하다.However, among these conductive metal oxide fine particles, conductive metal oxide fine particles having a refractive index of 1.9 or more are used in that the refractive index value after curing can be easily adjusted to a value of 1.6 or more by a relatively small amount of addition, and an antistatic function can be provided. It is desirable to. As such conductive metal oxide fine particles, antimony-containing tin oxide and indium-containing tin oxide are particularly preferable.

또한, 도전성 금속 산화물 미립자의 표면을 커플링제 처리하는 것이 바람직하다. 이와 같이 커플링제 처리함으로써, 도전성 금속 산화물 미립자의 분산성을 향상시켜 고굴절률 재료의 보존 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.Moreover, it is preferable to process a coupling agent on the surface of electroconductive metal oxide fine particle. By treating the coupling agent in this manner, the dispersibility of the conductive metal oxide fine particles can be improved, and the storage stability of the high refractive index material can be further improved.

여기서, 커플링제 처리에 있어서 바람직한 커플링제로서는 이소프로필트리이소스테아로일티타네이트, 티탄n-부톡시드, 티탄에톡시드, 티탄2-에틸헥시옥시드, 티탄이소부톡시드, 티탄이소프로폭시드, 티탄메톡시드, 티탄메톡시프로폭시드, 티탄n-노닐옥시드, 티탄n-프로폭시드, 티탄스테아릴옥시드, 트리이소프로폭시헵타데시네이트티탄, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시티탄, γ-아미노프로필트리에톡시알루미늄 등을 들 수 있다.Here, as a preferable coupling agent in a coupling agent process, isopropyl triisostearoyl titanate, titanium n-butoxide, titanium ethoxide, titanium 2-ethylhexoxide, titanium isobutoxide, titanium isopropoxide Seed, titanium methoxide, titanium methoxy propoxide, titanium n-nonyloxide, titanium n-propoxide, titanium stearyl oxide, triisopropoxyheptadecsinate titanium, γ-aminopropyltriethoxysilane γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxytitanium, γ-aminopropyltriethoxyaluminum and the like Can be mentioned.

(2) 수산기 함유 중합체(2) hydroxyl group-containing polymer

수산기 함유 중합체로서는, 분자 내에 수산기를 갖는 중합체이면 적합하게 사용할 수가 있다. 보다 구체적으로는 폴리비닐아세탈 수지 (폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐포르말 수지), 폴리비닐알코올 수지, 폴리아크릴계 수지, 폴리페놀계수지, 페녹시 수지 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.As a hydroxyl-containing polymer, if it is a polymer which has a hydroxyl group in a molecule | numerator, it can be used conveniently. More specifically, one kind or a combination of two or more kinds of polyvinyl acetal resin (polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin), polyvinyl alcohol resin, polyacrylic resin, polyphenol resin, phenoxy resin and the like Can be mentioned.

단, 이들 수산기 함유 중합체 중, 기재에 대한 밀착력이나 기계적 특성이 우수하고 또한 도전성 금속 산화물 미립자의 균일 분산이 비교적 용이하다는 점에서, 폴리비닐부티랄 수지 (변성 폴리비닐부티랄 수지를 포함한다.)가 가장 바람직하다. 또한, 폴리비닐부티랄 수지 중에서도 평균 중합도가 1,000 이하이고, 한 분자 중의 폴리비닐알코올 단위가 18 중량% 이상이고, 또한 유리 전이점이 70 ℃ 이상인 물성을 갖는 것이 보다 바람직하다.However, among these hydroxyl-containing polymers, polyvinyl butyral resins (including modified polyvinyl butyral resins) include excellent adhesion to a substrate and mechanical properties and relatively easy uniform dispersion of conductive metal oxide fine particles. Most preferred. Moreover, it is more preferable that the average degree of polymerization among polyvinyl butyral resin is 1,000 or less, the polyvinyl alcohol unit in one molecule is 18 weight% or more, and has a physical property whose glass transition point is 70 degreeC or more.

또한, 수산기 함유 중합체의 첨가량을, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여 1 내지 70 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는 수산기 함유 중합체의 첨가량이 1 중량부 미만이 되면 얻어지는 반사 방지막의 기재에 대한 밀착력이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 수산기 함유 중합체의 첨가량이 70 중량부를 초과하면 상대적으로 도전성 금속 산화물 미립자량이 감소하고, 경화 후에 반사 방지막의 굴절률의 조정이 곤란해지고 또한 대전 방지성이 손상될 경우가 있기 때문이다.Moreover, it is preferable to make the addition amount of a hydroxyl-containing polymer into the value within the range of 1-70 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles. This is because when the amount of the hydroxyl group-containing polymer is less than 1 part by weight, the adhesion to the substrate of the antireflective film obtained may decrease. On the other hand, when the amount of the hydroxyl group-containing polymer is more than 70 parts by weight, the conductive metal oxide fine particles are relatively This is because the amount decreases, the adjustment of the refractive index of the antireflection film after curing is difficult, and the antistatic property may be impaired.

따라서, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여, 수산기 함유 중합체의 첨가량을 3 내지 50 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 5 내지 30 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the addition amount of a hydroxyl-containing polymer into the value within the range of 3-50 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles, and it is more preferable to set it as the value within the range which is 5-30 weight part.

(3) 수산기와 반응할 수 있는 경화제(3) curing agents that can react with hydroxyl groups

수산기와 반응할 수 있는 경화제로서는, 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 것이면, 적합하게 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는 멜라민 화합물, 우레아 화합물, 구아나민 화합물, 페놀 화합물, 에폭시 화합물, 이소시아네이트 화합물, 다염기산 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.As a hardening | curing agent which can react with a hydroxyl group, if it has a functional group which can react with a hydroxyl group, it can be used suitably. More specifically, single 1 type, or 2 or more types of combinations, such as a melamine compound, a urea compound, a guanamine compound, a phenol compound, an epoxy compound, an isocyanate compound, a polybasic acid, are mentioned.

단, 이들 경화제 중, 보존 안정성이 비교적 우수한 한편, 비교적 저온 경화가 가능하다는 점에서, 분자 내에 메틸올기 및 알콕시화메틸기 또는 어느 한쪽을 2 개 이상 갖는 멜라민 화합물이 가장 바람직하다. 또한, 이들 멜라민 화합물 중에서도 헥사메틸에테르화메틸올멜라민 화합물, 헥사부틸에테르화메틸올멜라민 화합물, 메틸부틸 혼합 에테르화메틸올멜라민 화합물, 메틸에테르화메틸올멜라민 화합물, 부틸에테르화메틸올멜라민 화합물 등의 메틸화멜라민 화합물이 보다 바람직하다.However, among these curing agents, the melamine compound having a methylol group and an alkoxylated methyl group or two or more in the molecule is most preferred in view of relatively excellent storage stability and relatively low temperature curing. Among these melamine compounds, hexamethyl ether methylol melamine compound, hexabutyl ether methylol melamine compound, methyl butyl mixed ether methylol melamine compound, methyl ether methylol melamine compound, butyl ether methylol melamine compound, etc. The methylated melamine compound of is more preferable.

또한, 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제의 첨가량을, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여 1 내지 70 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는 경화제의 첨가량이 1 중량부 미만이면, 수산기 함유중합체의 경화가 불충분해지는 경우가 있기 때문이고, 한편 경화제의 첨가량이 70 중량부를 초과하면, 고굴절률 재료의 보존 안정성이 저하될 경우가 있기 때문이다.Moreover, it is preferable to make the addition amount of the hardening | curing agent which has a functional group which can react with a hydroxyl group into the value within the range of 1-70 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles. This is because when the amount of the curing agent added is less than 1 part by weight, curing of the hydroxyl group-containing polymer may be insufficient. On the other hand, when the amount of the curing agent exceeds 70 parts by weight, the storage stability of the high refractive index material may decrease. Because.

따라서, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여, 경화제의 첨가량을 5 내지 60 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 10 내지 40 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the addition amount of a hardening | curing agent into the value within the range of 5-60 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles, and it is more preferable to set it as the value within the range which is 10-40 weight part.

(4) 경화 촉매(4) curing catalyst

또한, 고굴절률 재료 중에, 경화 촉매를 첨가하는 것이 바람직하다. 이러한경화 촉매로서는 수산기 함유 중합체와 경화제의 사이의 반응을 촉진하는 것이면 적합하게 사용할 수가 있다. 보다 구체적으로는 지방족 술폰산, 지방족 술폰산염, 지방족 카르복실산, 지방족 카르복실산염, 방향족 술폰산, 방향족 술폰산염, 방향족 카르복실산, 방향족 카르복실산염, 금속염, 인산에스테르 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.Moreover, it is preferable to add a hardening catalyst in a high refractive index material. As such a hardening catalyst, if it promotes reaction between a hydroxyl-containing polymer and a hardening | curing agent, it can be used conveniently. More specifically, 1 type or 2 types, such as aliphatic sulfonic acid, aliphatic sulfonate, aliphatic carboxylic acid, aliphatic carboxylate, aromatic sulfonic acid, aromatic sulfonate, aromatic carboxylic acid, aromatic carboxylate, metal salt, and phosphate ester The above combination is mentioned.

단, 이들 경화 촉매 중, 수산기 함유 중합체에 대한 메틸화멜라민 화합물 등의 경화제의 경화 속도를 보다 향상시킬 수 있다는 점에서 방향족 술폰산이 가장 바람직하다.However, among these curing catalysts, aromatic sulfonic acid is most preferable at the point which can improve the hardening rate of hardening | curing agents, such as a methylation melamine compound with respect to a hydroxyl-containing polymer.

또한, 경화 촉매의 첨가량에 대해서도 특별히 제한되는 것은 아니지만, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여 해당 경화 촉매의 첨가량을 0.1 내지 30 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는 경화 촉매의 첨가량이 0.1 중량부 미만이 되면, 경화 촉매의 첨가 효과가 발현되지 않는 경우가 있기 때문이며, 한편 경화 촉매의 첨가량이 30 중량부를 초과하면 고굴절률 재료의 보존안정성이 저하되는 경우가 있기 때문이다.The addition amount of the curing catalyst is not particularly limited, but the amount of the curing catalyst added is preferably within a range of 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive metal oxide fine particles. This is because when the addition amount of the curing catalyst is less than 0.1 part by weight, the effect of adding the curing catalyst may not be expressed. On the other hand, when the addition amount of the curing catalyst exceeds 30 parts by weight, the storage stability of the high refractive index material is lowered. Because there is.

따라서, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여 경화 촉매의 첨가량을 0.5 내지 20 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 내지 10 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the addition amount of a hardening catalyst into the value within the range of 0.5-20 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles, and it is more preferable to set it as the value within the range which is 1-10 weight part.

(5) 유기 용매(5) organic solvent

또한, 고굴절률 재료 중에, 유기 용매를 첨가하는 것이 바람직하다. 이와 같이 유기 용매를 첨가함으로써, 박막의 반사 방지막을 균일하게 형성할 수 있다.이러한 유기 용매로서는 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, t-부탄올, 이소프로판올 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.In addition, it is preferable to add an organic solvent in a high refractive index material. By adding an organic solvent in this manner, an antireflection film of a thin film can be uniformly formed. As such an organic solvent, one kind or two kinds of methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, t-butanol and isopropanol The above combination is mentioned.

또한, 유기 용매의 첨가량에 대해서도 특별히 제한되는 것이 아니지만, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여 해당 유기 용매의 첨가량을 100 내지 20,000 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는, 유기 용매의 첨가량이 100 중량부 미만이 되면, 고굴절률 재료의 점도 조정이 곤란해지는 경우가 있기 때문이고, 한편, 유기 용매의 첨가량이 20,000 중량부를 초과하면 점도가 지나치게 저하되어 취급이 곤란해지는 경우가 있기 때문이다.The addition amount of the organic solvent is not particularly limited, but the amount of the organic solvent added is preferably within a range of 100 to 20,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive metal oxide fine particles. This is because when the amount of the organic solvent added is less than 100 parts by weight, it may be difficult to adjust the viscosity of the high refractive index material. On the other hand, when the amount of the organic solvent added exceeds 20,000 parts by weight, the viscosity is excessively lowered. This is because it may become difficult.

따라서, 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부에 대하여, 유기 용매의 첨가량을 300 내지 10,000 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 500내지 5,000 중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the addition amount of an organic solvent into the value within the range of 300-10,000 weight part with respect to 100 weight part of electroconductive metal oxide fine particles, and it is more preferable to set it as the value within the range of 500-5,000 weight part.

(6) 첨가제(6) additive

고굴절률 재료에는 본 발명의 목적이나 효과를 손상시키지 않은 범위에서, 라디칼성 광중합 개시제, 광증감제, 중합 금지제, 중합 개시 조제, 레벨링제, 습윤성 개량제, 계면 활성제, 가소제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 실란 커플링제, 무기 충전제, 안료, 염료 등의 첨가제를 또한 함유시키는 것도 바람직하다.In the high refractive index material, a radical photopolymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization initiation aid, a leveling agent, a wettability improving agent, a surfactant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and an antioxidant without departing from the object or effect of the present invention. It is also preferable to further contain additives such as an antistatic agent, a silane coupling agent, an inorganic filler, a pigment and a dye.

(7) 굴절률(7) refractive index

고굴절률 재료의 경화막 형성 후에 있어서의 굴절률 (Na-D선의 굴절률, 측정 온도 25 ℃), 즉, 고굴절률막의 굴절률을 1.6 이상의 값으로 할 필요가 있다. 이이유는, 고굴절률막의 굴절률이 1.6 미만이 되면 저굴절률막과 조합한 경우에, 반사 방지 효과가 현저히 저하되는 경우가 있기 때문이다.It is necessary to make refractive index (refractive index of Na-D line | wire, 25 degreeC of measurement temperature), ie, the refractive index of a high refractive index film after cured film formation of a high refractive index material into a value 1.6 or more. This is because when the refractive index of the high refractive index film is less than 1.6, when combined with the low refractive index film, the antireflection effect may be remarkably lowered.

따라서, 고굴절률막의 굴절률을 보다 바람직하게는 1.6 내지 2.0의 범위 내의 값으로 하는 것이고, 1.6 내지 1.9의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 고굴절률 재료의 경화 후의 굴절률이 2.0을 초과하면 사용 가능한 재료의 종류가 과도하게 제한될 경우가 있다.Therefore, the refractive index of the high refractive index film is more preferably set to a value within the range of 1.6 to 2.0, and more preferably to a value within the range of 1.6 to 1.9. Moreover, when the refractive index after hardening of a high refractive index material exceeds 2.0, the kind of material which can be used may be restrict | limited excessively.

또한, 고굴절률막을 복수층 설치할 경우에는, 그 중의 적어도 한층이 상기한 범위 내의 굴절률의 값을 가질 수 있고, 따라서 그 밖의 고굴절률막은 1.6 미만의 굴절률의 값을 가질 수 있다.In the case where a plurality of high refractive index films are provided, at least one of them may have a value of the refractive index within the above range, and the other high refractive index film may have a value of the refractive index of less than 1.6.

(8) 표면 저항치(8) surface resistance

고굴절률 재료의 경화막 형성 후에 있어서의 표면 저항치를 1010Ω/□이하의 값으로 하는 것이 바람직하고, 108Ω/□이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 한편 고굴절률막의 표면 저항치가 1012Ω/□이상이 되면, 대전 방지성이 실용상 충분히 발현되지 않고 먼지 등의 부착이 현저해 진다.It is preferable to make the surface resistance value after the cured film formation of a high refractive index material into the value of 10 <10> ohm / square or less, and it is more preferable to set it as 10 <8> ohm / square or less. On the other hand, when the surface resistance of the high refractive index film is 10 12 Ω / square or more, antistatic property is not sufficiently developed in practical use, and adhesion of dust and the like becomes remarkable.

<제2의 실시 형태><2nd embodiment>

본 발명의 제2의 실시 형태는, 도 1에 나타내는 것과 같이 기재 (12) 상에, 고굴절률 재료로부터 얻어진 고굴절률막 (10)과, 저굴절률 재료로부터 얻어진 저굴절률막 (14)를 순차 포함하는 반사 방지용 적층체 (16)이다. 이 반사 방지용 적층체 (16)에 있어서는, 하드 코팅층을 설치하지 않고, 고굴절률막 (10)이 하드 코팅층의 기능을 맡고 있다. 따라서, 반사 방지용 적층체 (16)의 구성이 간단해지고, 또한 반사 방지용 적층체 (16)을 정밀하게 형성할 수가 있다. 이하, 제2의 실시 형태에 대해서 구체적으로 설명한다.As shown in FIG. 1, the second embodiment of the present invention includes a high refractive index film 10 obtained from a high refractive index material and a low refractive index film 14 obtained from a low refractive index material, on a base 12. The antireflection laminate 16 is provided. In the antireflection laminate 16, the high refractive index film 10 plays the function of the hard coating layer without providing a hard coating layer. Therefore, the structure of the anti-reflective laminated body 16 becomes simple, and the anti-reflective laminated body 16 can be formed precisely. Hereinafter, 2nd Embodiment is described concretely.

(1) 고굴절률 재료(1) high refractive index material

제2의 실시 형태에 사용하는 고굴절률 재료 및 그것으로부터 얻어진 고굴절률막에 있어서의 굴절률의 값 등은, 제1의 실시 형태의 내용과 마찬가지이다. 따라서 여기서의 구체적인 설명은 생략한다.The values of the refractive index in the high refractive index material and the high refractive index film obtained therefrom are the same as those in the first embodiment. Therefore, detailed description thereof will be omitted.

(2) 저굴절률 재료(2) low refractive index material

또한, 저굴절률막을 형성하기 위한 저굴절률 재료는,Further, the low refractive index material for forming the low refractive index film,

① 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체 100 중량부,① 100 parts by weight of a fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group,

② 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제 1 내지 70 중량부,② 1 to 70 parts by weight of a curing agent having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group,

③ 경화 촉매 0.1 내지 15 중량부,③ 0.1 to 15 parts by weight of the curing catalyst,

④ 유기 용매 500 내지 10,000 중량부,④ 500 to 10,000 parts by weight of organic solvent,

로 구성되고, 또한 경화 후의 굴절률을 1.60 미만의 값으로 하고 있다.The refractive index after hardening is made into the value less than 1.60.

① 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체① Fluorine-containing copolymer having hydroxyl group

수산기를 갖는 불소 함유 공중합체로서는, 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 공중합이면 적합하게 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는 불소 원자를 함유하는 단량체 (a 성분)과, 수산기 또는 에폭시기를 함유하는 단량체 (b 성분)을 공중합하여 얻을 수 있다. 또한, 필요에 따라서, a 성분 및 b 성분 이외의 에틸렌성 불포화 단량체 (c 성분)를 첨가하는 것이 바람직하다.As a fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group, if it is a fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group in a molecule | numerator, it can be used conveniently. More specifically, it can obtain by copolymerizing the monomer (component a) containing a fluorine atom, and the monomer (component b) containing a hydroxyl group or an epoxy group. Moreover, it is preferable to add ethylenically unsaturated monomers (component c) other than a component and b component as needed.

a 성분인 불소 원자를 함유하는 단량체로서는, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 불화비닐리덴, 클로로트리플루오로에틸렌, 트리플루오로에틸렌, 테트라플루오로에틸렌, (플루오로알킬)비닐에테르, (플루오로알콕시알킬)비닐에테르, 퍼플루오로(알킬비닐에테르), 퍼플루오로(알콕시비닐에테르), 불소 함유 (메트)아크릴산에스테르 등의 일종 단독 또는 이종 이상의 조합을 들 수 있다.As a monomer containing the fluorine atom which is a component, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, (fluoroalkyl) vinyl ether, ( Fluoroalkoxyalkyl) vinyl ether, perfluoro (alkyl vinyl ether), perfluoro (alkoxy vinyl ether), fluorine-containing (meth) acrylic acid esters and the like.

또, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체에 있어서의 a 성분의 배합량은 특히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 10 내지 99 몰%의 범위 내의 값인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 내지 97 몰%의 범위 내의 값이다.Moreover, although the compounding quantity of the a component in the fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group is not specifically limited, For example, it is preferable that it is a value within the range of 10-99 mol%, More preferably, it is the range of 15-97 mol% Is a value within.

또한, b 성분인 수산기 또는 에폭시기를 함유하는 단량체로서는, 히드록시에틸비닐에테르, 히드록시프로필비닐에테르, 히드록시부틸비닐에테르, 히드록시펜틸비닐에테르, 히드록시헥실비닐에테르, 히드록시에틸알릴에테르, 히드록시부틸알릴에테르, 글리세롤모노알릴에테르, 알릴알코올, 히드록시에틸(메트)아크릴산에스테르, 비닐글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, (메트)아크릴산글리시딜에스테르, 크로톤산글리시딜에스테르, 말레인산메틸글리시딜에스테르 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.Moreover, as a monomer containing the hydroxyl group or epoxy group which is a b component, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, hydroxypentyl vinyl ether, hydroxyhexyl vinyl ether, hydroxyethyl allyl ether, Hydroxybutyl allyl ether, glycerol monoallyl ether, allyl alcohol, hydroxyethyl (meth) acrylic acid ester, vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, (meth) acrylic acid glycidyl ester, crotonic acid glycidyl ester And single 1 type, or 2 or more types of combinations, such as methyl maleic acid methylglycidyl ester, are mentioned.

또한, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체에 있어서의 b 성분의 배합량은 특별히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 1 내지 40 몰%의 범위 내의 값인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 내지 30 몰%의 범위 내의 값이다.In addition, the compounding quantity of the b component in the fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group is not specifically limited, For example, it is preferable that it is a value within the range of 1-40 mol%, More preferably, it is the range of 3-30 mol%. Is a value within.

다음으로, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체의 중합도에 대해서 설명한다. 이러한 중합도는, 저굴절률막의 기계적 강도나 도포성을 고려하여 정하는 것이 바람직하지만, 예를 들면 고유 점도 (N,N-디메틸아세트아미드 용매 사용, 측정 온도 25 ℃)를 0.05 내지 2.0 dl/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하고, 0.1 내지 1.5 dl/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 범위 내의 값으로 함으로써, 저굴절률막에 있어서 우수한 기계적 강도나 도포성을 얻을 수 있다.Next, the polymerization degree of the fluorine-containing copolymer which has a hydroxyl group is demonstrated. The degree of polymerization is preferably determined in consideration of the mechanical strength and the applicability of the low refractive index film. For example, the intrinsic viscosity (using N, N-dimethylacetamide solvent, measurement temperature of 25 ° C.) is in the range of 0.05 to 2.0 dl / g. It is preferable to set it as the value within, and it is more preferable to set it as the value within the range of 0.1-1.5 dl / g. By setting it as the value within such a range, the outstanding mechanical strength and applicability | paintability in a low refractive index film can be obtained.

또한, 이러한 고유 점도를 얻기 위한 중합 방법은 특별히 제한되는 것이 아니고, 라디칼 중합 개시제를 사용한 용액 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법, 괴상 중합법 등을 이용할 수가 있다.In addition, the polymerization method for obtaining such an intrinsic viscosity is not restrict | limited, The solution polymerization method, suspension polymerization method, emulsion polymerization method, block polymerization method etc. which used a radical polymerization initiator can be used.

② 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제② curing agent having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group

수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제로서는, 고굴절률 재료에 있어서의 경화제와 마찬가지의 경화제를 사용할 수 있다. 예를 들면 분자 내에 메틸올기 및 알콕시화메틸기 또는 어느 한쪽을 2 개 이상 갖는 멜라민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.As a hardening | curing agent which has a functional group which can react with a hydroxyl group, the hardening | curing agent similar to the hardening | curing agent in a high refractive index material can be used. For example, it is preferable to use the melamine compound which has a methylol group and an alkoxylated methyl group, or two or more in a molecule | numerator.

또한, 저굴절률 재료에 있어서의 경화제를, 고굴절률 재료에 있어서의 경화제와 동종으로 하는 것이 바람직하다. 즉, 고굴절률막과 저굴절률막이 각각 동종의 경화제에 의해 경화되어 얻어지는 것이 바람직하다. 이와 같이 구성하면 고굴절률막과 저굴절률막의 상용성이 보다 양호해지고, 보다 우수한 반사 방지성이나 밀착력을 얻을 수 있다.Moreover, it is preferable to make the hardening | curing agent in a low refractive index material the same as the hardening | curing agent in a high refractive index material. That is, it is preferable that a high refractive index film and a low refractive index film are respectively hardened and obtained by the same kind of hardening | curing agent. With this arrangement, the compatibility between the high refractive index film and the low refractive index film is better, and more excellent antireflection property and adhesion can be obtained.

또한, 동종의 경화제로서 상술한 멜라민 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 히드록실알킬화아미노기 함유 멜라민 화합물이나 알콕시알킬화아미노기 함유 멜라민 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, the melamine compound mentioned above is mentioned as a homogeneous hardening | curing agent, More specifically, a hydroxylalkylated amino group containing melamine compound, an alkoxyalkylated amino group containing melamine compound, etc. are mentioned.

③ 경화 촉매 및 유기 용매③ curing catalyst and organic solvent

경화 촉매 및 유기 용매의 종류나 첨가량은, 고굴절률 재료에 있어서의 내용과 동일하다. 따라서 이들에 대한 설명은 생략한다.The kind and addition amount of a curing catalyst and an organic solvent are the same as the content in a high refractive index material. Therefore, description thereof is omitted.

(3) 저굴절률막의 굴절률(3) the refractive index of the low refractive index film

저굴절률막에 있어서의 굴절률의 값 (Na-D선의 굴절률, 측정 온도 25 ℃)는 낮은 정도, 고굴절률막과 조합한 경우에 우수한 반사 방지 효과가 얻어지는 정도, 구체적으로 1.6 미만의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는 굴절률이 1.6을 초과하면 고굴절률막과 조합한 경우에, 반사 방지 효과가 현저히 저하되는 경우가 있기 때문이다. 따라서, 저굴절률막의 굴절률을, 보다 바람직하게는 1.3 내지 1.6의 범위 내의 값으로 하는 것이고, 1.3 내지 1.5의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 저굴절률막의 굴절률이 1.3 미만이면, 사용 가능한 재료의 종류가 과도하게 제한되는 경우가 있다.The value of the refractive index in the low refractive index film (the refractive index of the Na-D line and the measurement temperature of 25 ° C.) is a low degree, the degree to which an excellent antireflection effect is obtained when combined with the high refractive index film, specifically, a value of less than 1.6. desirable. This is because when the refractive index exceeds 1.6, in combination with the high refractive index film, the antireflection effect may be significantly reduced. Therefore, the refractive index of the low refractive index film is more preferably set to a value within the range of 1.3 to 1.6, and more preferably set to a value within the range of 1.3 to 1.5. Moreover, when the refractive index of a low refractive index film is less than 1.3, the kind of material which can be used may be excessively restrict | limited.

또한, 저굴절률막을 복수 설치할 경우에는, 그 중 적어도 한층이 상술한 범위 내의 굴절률의 값을 가질 수 있고, 따라서 그 밖의 저굴절률막은 1.6을 초과할 경우가 있을 수 있다.In the case where a plurality of low refractive index films are provided, at least one of them may have a value of the refractive index within the above-described range, and thus the other low refractive index films may exceed 1.6.

또한, 저굴절률막을 설치할 경우, 보다 우수한 반사 방지 효과를 얻을 수 있다는 점에서, 고굴절률막과의 굴절률의 차이를 0.05 이상의 값으로 하는 것이 바람직하다. 이 이유는 저굴절률막과 고굴절률막 사이의 굴절률 차이가 0.05 미만의 값이 되면 이러한 반사 방지막층에서의 상승 효과가 얻어지지 않고, 오히려 반사 방지 효과가 저하되는 경우가 있기 때문이다.In addition, when providing a low refractive index film, since the outstanding reflection prevention effect can be acquired, it is preferable to make the difference of refractive index with a high refractive index film into 0.05 or more value. This is because when the difference in refractive index between the low refractive index film and the high refractive index film is less than 0.05, the synergistic effect in such an antireflection film layer is not obtained, but the antireflection effect may be lowered.

따라서, 저굴절률막과 고굴절률막 사이의 굴절률 차이를 0.1 내지 0.5의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.15 내지 0.5의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, the refractive index difference between the low refractive index film and the high refractive index film is more preferably set to a value within the range of 0.1 to 0.5, and more preferably to a value within the range of 0.15 to 0.5.

(4) 두께(4) thickness

다음으로, 고굴절률막 및 저굴절률막의 두께에 대해서 설명한다. 우선, 고굴절률막의 두께는 특별히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 50 내지 30,000 nm의 범위 내의 값인 것이 바람직하다. 이 이유는 고굴절률막의 두께가 50 nm 미만이면 저굴절률막과 조합한 경우에, 반사 방지 효과나 기재에 대한 밀착력이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 두께가 30,000 nm을 초과하면, 광 간섭이 생기지 않고, 반사 방지 효과가 저하되는 경우가 있기 때문이다.Next, the thicknesses of the high refractive index film and the low refractive index film will be described. First, the thickness of the high refractive index film is not particularly limited, but is preferably a value within the range of 50 to 30,000 nm, for example. This is because when the thickness of the high refractive index film is less than 50 nm, in combination with the low refractive index film, the antireflection effect and the adhesion to the substrate may be lowered. On the other hand, when the thickness exceeds 30,000 nm, the optical interference is reduced. It is because it does not produce and the antireflection effect may fall.

따라서, 고굴절률막의 두께를 50 내지 1,000 nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 60 내지 500 nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the thickness of a high refractive index film into the value within the range of 50-1,000 nm, and it is more preferable to set it as the value within the range of 60-500 nm.

또한, 보다 높은 반사 방지성을 얻기 위해서, 고굴절률막을 복수층 설치하여 다층 구조로 할 경우에는, 그 합계한 두께를 50 내지 30,000 nm의 범위 내의 값으로 할 수 있다.In addition, in order to obtain higher antireflection property, when providing a multi-layered structure by providing two or more layers of high refractive index films, the sum total thickness can be made into the value within the range of 50-30,000 nm.

또한, 고굴절률막과 기재 사이에 하드 코팅층을 설치할 경우에는, 고굴절률막의 두께를 50 내지 300 nm의 범위 내의 값으로 할 수 있다.In addition, when providing a hard-coat layer between a high refractive index film and a base material, the thickness of a high refractive index film can be made into the value within the range of 50-300 nm.

또한, 저굴절률막의 두께에 대해서도 특별히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 50 내지 300 nm의 범위 내의 값인 것이 바람직하다. 이 이유는 저굴절률막의두께가 50 nm 미만이면 하지층으로서의 고굴절률막에 대한 밀착력이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 두께가 300 nm을 초과하면 광 간섭이 발생하지 않고, 반사 방지 효과가 저하되는 경우가 있기 때문이다.The thickness of the low refractive index film is not particularly limited, but is preferably a value within the range of 50 to 300 nm, for example. This is because if the thickness of the low refractive index film is less than 50 nm, the adhesion to the high refractive index film as the underlying layer may be lowered. On the other hand, if the thickness exceeds 300 nm, no optical interference occurs and the antireflection effect is lowered. This is because there is a case.

따라서, 저굴절률막의 두께를 50 내지 250 nm의 범위 내의 값으로 하는 것이보다 바람직하고, 60 내지 200 nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하다.Therefore, it is more preferable to make the thickness of the low refractive index film into the value within the range of 50 to 250 nm, and more preferably to the value within the range of 60 to 200 nm.

또한, 보다 높은 반사 방지성을 얻기 위해서 저굴절률막을 복수층 설치하여 다층 구조로 할 경우에는, 그 합계한 두께를 50 내지 300 nm의 범위 내의 값으로 하면 좋다.In order to obtain a higher antireflection property, when a plurality of low refractive index films are provided in a multi-layered structure, the total thickness may be a value within a range of 50 to 300 nm.

(5) 기재(5) mention

다음으로, 고굴절률막 또는 하드 코팅층 등을 설치하기 위한 기재에 대해서 설명한다. 이러한 고굴절률막 등을 설치하는 기재의 종류는 특별히 제한되는 것이 아니지만 예를 들면 유리, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지 (TAC) 등을 포함하는 기재를 들 수 있다. 이러한 기재를 포함하는 반사 방지용 적층체를 제조함으로써, 카메라의 렌즈부, 텔레비젼 (CRT)의 화면 표시부 또는 액정 표시 장치에 있어서의 칼라 필터 등의 광범한 반사 방지막의 이용 분야에 있어서, 우수한 반사 방지 효과를 얻을 수 있다.Next, the base material for providing a high refractive index film, a hard coating layer, etc. is demonstrated. Although the kind of base material which provides such a high refractive index film | membrane etc. is not restrict | limited, For example, the base material containing glass, a polycarbonate resin, polyester resin, acrylic resin, triacetyl cellulose resin (TAC), etc. are mentioned. have. By producing an antireflection laminate comprising such a substrate, an excellent antireflection effect is used in a wide range of antireflection films such as a lens part of a camera, a screen display part of a television (CRT), or a color filter in a liquid crystal display device. Can be obtained.

(6) 형성 방법(6) forming method

고굴절률 재료나 저굴절률 재료로부터 각각 고굴절률막이나 저굴절률막을 형성할 경우, 기재 (적용 부재)에 대하여 코팅하는 것이 바람직하다. 이러한 코팅 방법으로서는 디핑법, 스프레이법, 바 코트법, 롤 코트법, 스핀 코팅법, 커튼 코트법, 그라비아 인쇄법, 실크스크린법, 또는 잉크 젯트법 등의 방법을 사용할 수 있다.When forming a high refractive index film or a low refractive index film from a high refractive index material or a low refractive index material, respectively, it is preferable to coat with respect to a base material (application member). As such a coating method, methods such as a dipping method, a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a spin coating method, a curtain coating method, a gravure printing method, a silk screen method, or an ink jet method can be used.

또한, 고굴절률 재료나 저굴절률 재료를 경화시키는 수단도 특별히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 가열하는 것이 바람직하다. 그 경우 30 내지 200 ℃의 범위 내의 온도로, 1 내지 180 분간 가열하는 것이 바람직하다. 이와 같이 가열함으로써 기재나 형성되는 반사 방지막을 손상시키는 일이 없이, 보다 효율적으로 반사 방지성이 우수한 반사 방지용 적층체를 얻을 수 있다. 따라서, 50 내지 180 ℃의 범위 내의 온도로, 2 내지 120 분간 가열하는 것이 보다 바람직하고, 80 내지 150 ℃의 범위 내의 온도로, 5 내지 60 분간 가열하는 것이 보다 바람직하다.The means for curing the high refractive index material and the low refractive index material is not particularly limited, but heating is preferable, for example. In that case, it is preferable to heat for 1 to 180 minutes at the temperature within the range of 30-200 degreeC. By heating in this manner, an antireflection laminate excellent in antireflection can be obtained more efficiently without damaging the substrate or the antireflection film formed. Therefore, it is more preferable to heat 2 to 120 minutes at the temperature within the range of 50-180 degreeC, and to heat for 5 to 60 minutes at the temperature within the range of 80-150 degreeC.

또한, 고굴절률 재료나 저굴절률 재료의 경화 정도는, 경화제로서 멜라민 화합물을 사용한 경우, 멜라민 화합물에 있어서의 메틸올기 또는 알콕시화메틸기의 양을 적외 분광 분석하거나 또는 겔화율을 속슬렛 (Soxhlet) 추출기를 사용하여 측정함으로써 정량적으로 확인할 수가 있다.In addition, when the melamine compound is used as a curing agent, the degree of curing of the high refractive index material or the low refractive index material is determined by infrared spectroscopic analysis of the amount of the methylol group or the alkoxylated methyl group in the melamine compound or the gelation rate of the Soxhlet extractor. It can be confirmed quantitatively by measuring using.

<제3의 실시 형태><Third embodiment>

제3의 실시 형태는, 도 2에 나타낸 것과 같이, 기재 (12)와 고굴절률막 (20) 사이에 하드 코팅층 (18)을 개재시킨 반사 방지용 적층체 (24)이다. 이와 같이 하드 코팅층 (18)을 개재시킴으로써 고굴절률막 (20)의 기재 (12)에 대한 밀착력을 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 하드 코팅층 (18)의 기계적 특성에 의하여, 반사 방지용 적층체 (24)의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 2, 3rd Embodiment is the anti-reflective laminated body 24 through which the hard-coat layer 18 was interposed between the base material 12 and the high refractive index film 20. As shown in FIG. Thus, the adhesive force with respect to the base material 12 of the high refractive index film 20 can be improved further through the hard-coat layer 18. In addition, the durability of the antireflective laminate 24 can be further improved by the mechanical properties of the hard coat layer 18.

이하, 제3의 실시 형태의 특징인 하드 코팅층에 대하여 중심으로 설명하지만, 기재, 고굴절률막 및 저굴절률막 또는 이들의 형성 방법에 대해서는 제2의 실시 형태에서 설명한 내용과 동일하기 때문에, 여기에서의 설명은 생략한다.Hereinafter, although the hard-coat layer which is the characteristic of 3rd Embodiment is demonstrated centeringly, since a base material, a high refractive index film, a low refractive index film, or these formation methods are the same as the content demonstrated in 2nd Embodiment, it is here. Will be omitted.

제3의 실시 형태에 있어서의 하드 코팅층은, 예를 들면 Si02, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지 등의 재료로 구성하는 것이 바람직하다.The hard coat layer according to the third embodiment, for example, it is preferable that a material such as Si0 2, an epoxy resin, an acrylic resin, a melamine-based resin.

또한, 그 두께에 대해서도 특별히 제한되는 것은 아니지만, 구체적으로 1 내지 50 ㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 10 ㎛의 범위 내의 값이다. 이 이유는 하드 코팅층의 두께가 1 ㎛ 미만이면 반사 방지막의 기재에 대한 밀착력을 향상시킬 수 없는 경우가 있고, 한편 두께가 50 ㎛을 초과하면, 균일하게 형성하는 것이 곤란해지는 경우가 있기 때문이다.In addition, the thickness is not particularly limited, but it is particularly preferable to set the value within the range of 1 to 50 µm, and more preferably the value within the range of 5 to 10 µm. This reason is because when the thickness of the hard coating layer is less than 1 m, the adhesion of the antireflection film to the substrate may not be improved. On the other hand, when the thickness exceeds 50 m, it may be difficult to form uniformly.

이하, 본 발명의 실시예를 상세히 설명하지만 본 발명의 범위는 이들 실시예의 기재에 한정되는 것이 아니다. 또한, 실시예 중, 각 성분의 배합량은 특별한 기재가 없는 한 중량부를 의미한다.Hereinafter, although the Example of this invention is described in detail, the scope of the present invention is not limited to description of these Examples. In addition, in the Example, the compounding quantity of each component means a weight part, unless there is particular notice.

<실시예 1><Example 1>

(고굴절률 재료의 조제)(Preparation of high refractive index material)

평균 입경이 0.01 ㎛인 안티몬 함유 산화 주석 (이시하라 테크노(주) 제조 SN-100P) 16 중량부와, 덴카부티랄 #2000-L (덴끼 가가꾸 고교(주) 제조, 폴리비닐부티랄 수지, 평균 중합도 약 300, 한 분자 중의 폴리비닐알코올 단위 21 중량% 이상, 유리 전이점 71 ℃) 4 중량부와, 메틸이소부틸케톤 48 중량부와, t-부탄올 32 중량부로 구성된 용제 분산 안티몬 함유 산화 주석 졸 (고형분 농도 20 중량%)100 중량부를 교반기가 부착된 용기 내에 넣고, 교반하면서 사이멜 303 (미쓰이 사이텍(주) 제조, 메틸화메틸올멜라민 화합물) 4 중량부와, 캬탈리스트 4050 (미쓰이 사이텍(주) 제조, 방향족 술폰산 화합물) 2.25 중량부 (유효 성분 0.72 중량부)를 순차 첨가하고, 10 분간 교반하여 점도 8 cps (측정 온도 25 ℃), 고형분 농도 23.3 중량%의 고굴절률 재료 (고농도품: A 타입)을 얻었다.16 parts by weight of antimony-containing tin oxide (SN-100P manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd.) having an average particle diameter of 0.01 µm, and Denkabutyral # 2000-L (manufactured by Denki Chemical Co., Ltd., polyvinyl butyral resin, average A solvent-dispersed antimony-containing tin oxide sol comprising a polymerization degree of about 300, 21 parts by weight or more of polyvinyl alcohol units in one molecule, 71 parts by weight of glass transition point), 48 parts by weight of methyl isobutyl ketone, and 32 parts by weight of t-butanol. (Solid content concentration 20% by weight) 4 parts by weight of Cymel 303 (Mitsui Cytec Co., Ltd. product, methylated methylolmelamine compound) was added to 100 parts by weight of a container with a stirrer, and a catalyst 4050 (Mitsui Scitech Co., Ltd.) was stirred. ), Aromatic sulfonic acid compound) 2.25 parts by weight (active ingredient 0.72 parts by weight) were added sequentially, followed by stirring for 10 minutes to give a high refractive index material having a viscosity of 8 cps (measurement temperature of 25 ° C) and a solid content concentration of 23.3% by weight (high concentration product: A Type).

계속해서, 얻어진 고굴절률 재료 (A 타입) 100 중량부를 교반기 부착 용기 내에 넣고, 교반하면서 메틸이소부틸케톤 219.2 중량부와, t-부탄올 146.2 중량부를 또한, 넣은 후, 10 분간 교반하고, 점도 3 mpaㆍs (측정 온도 25 ℃), 고형분 농도 5.0 중량%의 고굴절률 재료 (저농도품: B 타입)을 얻었다.Subsequently, 100 parts by weight of the obtained high refractive index material (type A) was placed in a container with a stirrer, and 219.2 parts by weight of methyl isobutyl ketone and 146.2 parts by weight of t-butanol were added while stirring, followed by stirring for 10 minutes, and a viscosity of 3 mpa. S (measurement temperature 25 degreeC) and the high refractive index material (low concentration product: B type) of 5.0 weight% of solid content concentration were obtained.

얻어진 고굴절률 재료 (A 및 B 타입)의 보존 안정성 및 도포성, 및 이러한 고굴절률 재료를 경화시켜 얻은 고굴절률막의 굴절률 및 대전 방지성을 각각 이하의 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The storage stability and applicability | paintability of the obtained high refractive index material (A and B type), and the refractive index and antistatic property of the high refractive index film obtained by hardening such a high refractive index material were respectively evaluated on the following references | standards. The results are shown in Table 1.

(1) 보존 안정성(1) storage stability

○: 고굴절률 재료를 실온에서 30 일간 정치한 후에도, 도전성 금속 산화물 미립자의 침강이 관찰되지 않고, 또한 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열 경화시킬 수 있다.(Circle): Even after leaving a high refractive index material at room temperature for 30 days, sedimentation of electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles is not observed and can be heat-hardened on 120 degreeC and the conditions for 10 minutes.

△: 고굴절률 재료를 실온에서 30 일간 정치한 후, 도전성 금속 산화물 미립자의 약간의 침강이 관찰되지만, 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열 경화시킬 수가 있다.(Triangle | delta): Although settling a high refractive index material at room temperature for 30 days, although some sedimentation of electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles is observed, it can heat-harden on 120 degreeC and the conditions for 10 minutes.

×: 고굴절률 재료를 실온에서 30 일간 정치한 후, 도전성 금속 산화물 미립자의 현저한 침강이 관찰되거나, 또는 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열 경화시킬 수 없다.X: After leaving a high refractive index material at room temperature for 30 days, remarkable sedimentation of electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles is observed, or cannot heat-harden on 120 degreeC and the conditions for 10 minutes.

(2) 도포성(2) applicability

○: 고굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, 균일한 두께로 도포할 수가 있었다.(Circle): High refractive index material was able to apply | coat with uniform thickness using the wire bar coater (# 3).

△: 고굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, 거의 균일한 두께로 도포할 수가 있었다.(Triangle | delta): The high refractive index material was able to be apply | coated to substantially uniform thickness using the wire bar coater # 3.

×: 고굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, 균일한 두께로 도포할 수가 없었다.X: The high refractive index material could not be apply | coated to a uniform thickness using the wire bar coater # 3.

(3) 굴절률(3) refractive index

얻어진 고굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, 실리콘 웨이퍼 (두께 1 mm) 상에 도포하고, 실온에서 5 분간 풍건하여, 도포막을 형성하였다. 계속해서 오븐을 사용하여 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열하고, 0.1 ㎛ 두께의 고굴절률막을 경화 형성하였다. 얻어진 고굴절률막에 있어서의 Na-D선의 굴절률을, 측정 온도 25 ℃의 조건으로, 엘립소 미터를 사용하여 측정하였다.The obtained high refractive index material was apply | coated on the silicon wafer (thickness 1mm) using the wire bar coater (# 3), and it air-dried at room temperature for 5 minutes, and formed the coating film. Then, it heated on 120 degreeC and the conditions of 10 minutes using oven, and the high refractive index film of 0.1 micrometer thickness was hardened and formed. The refractive index of Na-D line | wire in the obtained high refractive index film was measured on the conditions of 25 degreeC of measurement temperature using the ellipsometer.

(4) 대전 방지성(4) antistatic

얻어진 고굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, PET 미처리면에 막으로 형성하고, 얻어진 고굴절률막의 표면 저항 (Ω/□)를 하이레지스턴스 미터 (휴렛ㆍ팩커드사 제조 HP4339)를 사용하여 주전극 직경 26 mmΦ, 인가 전압 100 V의 조건으로 측정하고, 이하의 기준으로 대전 방지성을 평가하였다.The obtained high refractive index material was formed into a film on the PET untreated surface using a wire bar coater (# 3), and the surface resistance (Ω / □) of the obtained high refractive index film was obtained by using a high resistance meter (HP4339 manufactured by Hewlett-Packard Co., Ltd.). It measured on the conditions of 26 mm (phi) electrode diameters, and the applied voltage 100V using the following, and antistatic property was evaluated on the following references | standards.

◎: 표면 저항이 108Ω/□ 이하의 값이다.(Double-circle): Surface resistance is a value of 10 <8> ohm / square or less.

○: 표면 저항이 1010Ω/□ 이하의 값이다.○: The surface resistance is a value of 10 10 Ω / □ or less.

△: 표면 저항이 1012Ω/□ 이하의 값이다.(Triangle | delta): Surface resistance is a value of 10 <12> ohm / square or less.

×: 표면 저항이 1015Ω/□을 초과하는 값이다.X: Surface resistance is the value over 10 <15> ohm / square.

(저굴절률 재료의 조제)(Preparation of low refractive index material)

내용적 1.5 L의 전자 교반기 부착 스테인레스제 오토클레이브 내를 질소 가스로 충분히 치환시킨 후, 아세트산에틸 500 g과, 에틸비닐에테르 (EVE) 57.2 g과, 히드록시부틸비닐에테르 (HBVE) 10.2 g 및 과산화라우로일 3 g을 넣고, 드라이 아이스-메탄올로 -50 ℃까지 냉각한 후, 재차 질소 가스로 계내의 산소를 제거하였다. 계속해서, 헥사플루오로프로필렌 (HFP) 146 g을 넣고, 승온을 개시하였다. 오토클레이브 내의 온도가 60 ℃에 도달하였을 시점에서의 압력은 5.2 ×105Pa를 나타내었다. 그 후, 60 ℃에서 20 시간 교반하에 반응을 계속하고, 압력이 1.5 ×105Pa로 저하된 시점에서 오토클레이브를 수냉하고 반응을 정지시켰다. 실온에 달한 후, 미반응 가스 단량체를 방출하고, 오토클레이브를 개방하여 고형분 농도가 28.1 중량%인 중합체 용액을 얻었다. 이 중합체 용액을 메탄올에 투입하여 중합체를 석출시킨 후, 또한, 중합체를 메탄올로 세정하여 50 ℃에서 진공 건조하여 193 g의 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체를 얻었다.After fully replacing the interior autoclave made of stainless steel with an internal volume of 1.5 L with nitrogen gas, 500 g of ethyl acetate, 57.2 g of ethyl vinyl ether (EVE), 10.2 g of hydroxybutyl vinyl ether (HBVE), and peroxide 3 g of lauroyl was added, cooled to -50 ° C with dry ice-methanol, and oxygen in the system was removed again with nitrogen gas. Then, 146 g of hexafluoropropylene (HFP) was put in, and temperature rising was started. The pressure at the point when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.2 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued under stirring at 60 ° C. for 20 hours, and the autoclave was water-cooled and the reaction was stopped when the pressure was reduced to 1.5 × 10 5 Pa. After reaching room temperature, the unreacted gas monomer was released and the autoclave was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 28.1 wt%. The polymer solution was poured into methanol to precipitate the polymer, and the polymer was then washed with methanol and dried in vacuo at 50 ° C. to obtain a fluorine-containing copolymer having 193 g of hydroxyl groups.

얻어진 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체에 대하여, 고유 점도 (N,N-디메틸아세트아미드 용매 사용, 측정 온도 25 ℃)가 0.26 dl/g이고, 유리 전이 온도 (DSC측정, 승온 속도 5 ℃/분, 질소 기류 중)가 20 ℃이고, 불소 함량 (알리자린콤플렉슨법)이 53.4 중량%이고, 수산기값 (무수 아세트산을 사용한 아세틸값법)이 27.1 mg KOH/g인 것을 확인하였다.The intrinsic viscosity (using N, N-dimethylacetamide solvent, measurement temperature of 25 ° C) was 0.26 dl / g with respect to the obtained fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group, the glass transition temperature (DSC measurement, heating rate of 5 ° C / min, It was confirmed that the nitrogen stream was 20 ° C, the fluorine content (Alizarin complexson method) was 53.4% by weight, and the hydroxyl value (acetyl value method using acetic anhydride) was 27.1 mg KOH / g.

계속해서, 교반기 부착 용기 내에, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체 100 중량부와, 사이멜 303 (미쓰이 사이텍(주) 제조, 알콕시화메틸멜라민 화합물) 10 중량부와, 메틸이소부틸케톤 900 중량부를 각각 첨가하여, 교반하면서, 100 ℃, 5 시간의 조건으로, 수산기를 갖는 불소 함유 공중합체와 사이멜 303을 반응시켰다. 계속해서, 캬탈리스트 4050 (미쓰이 사이텍(주) 제조, 방향족 술폰산 화합물) 2 중량부를 또한, 첨가하여, 10 분간 교반하여, 점도 2 mpaㆍs (측정 온도 25 ℃)의 저굴절률 재료를 얻었다.Subsequently, in a container with a stirrer, 100 parts by weight of a fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group, 10 parts by weight of Cymel 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., an alkoxylated methylmelamine compound), and 900 parts by weight of methyl isobutyl ketone, respectively While adding and stirring, the fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group and cymel 303 were reacted under conditions of 100 ° C. and 5 hours. Subsequently, 2 parts by weight of Catalyst 4050 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., aromatic sulfonic acid compound) was further added, followed by stirring for 10 minutes to obtain a low refractive index material having a viscosity of 2 mpa · s (measurement temperature of 25 ° C.).

또한, 얻어진 저굴절률 재료를 경화시켜 얻은 저굴절률막의 굴절률을, 고굴절막과 동일하게 측정하였다. 즉, 저굴절률 재료를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여, 실리콘 웨이퍼 (두께 1 mm) 상에 도포하고, 실온에서 5 분간 풍건하여, 도포막을 형성하였다. 계속해서, 오븐을 사용하여 120 ℃, 60 분의 조건으로 가열하고 두께 0.1 ㎛의 저굴절률막을 경화 형성하였다. 얻어진 저굴절률막에 있어서의 Na-D선의 굴절률을 측정 온도 25 ℃의 조건으로, 엘립소 미터를 사용하여 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.In addition, the refractive index of the low refractive index film obtained by hardening the obtained low refractive index material was measured similarly to the high refractive film. That is, the low refractive index material was apply | coated on the silicon wafer (thickness 1mm) using the wire bar coater # 3, and it air-dried for 5 minutes at room temperature, and formed the coating film. Subsequently, it heated on 120 degreeC and the conditions of 60 minutes using oven, and the low refractive index film of 0.1 micrometer thickness was hardened and formed. The refractive index of the Na-D ray in the obtained low refractive index film was measured using an ellipsometer on the conditions of 25 degreeC of measurement temperature. The obtained results are shown in Table 1.

(반사 방지용 적층체의 형성 및 평가)(Formation and Evaluation of Antireflection Laminate)

얻어진 고굴절률 재료 (A 타입)를, 와이어 바코터 (# 20)를 사용하여, 폴리카보네이트판 (두께 1 mm, 데이진 카세이(주) 제조) 상에 도포하고, 실온에서 5 분간 풍건하여, 도포막을 형성하였다. 계속해서 오븐을 사용하여 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열하고, 두께 4 ㎛의 고굴절률막 (A 타입)을 경화 형성하였다. 얻어진 고굴절률막의 굴절률을 측정 온도 25 ℃의 조건으로, 엘립소 미터를 사용하여 측정하였더니 1.63이었다.The obtained high refractive index material (Type A) is applied onto a polycarbonate plate (thickness 1 mm, manufactured by Teijin Kasei Co., Ltd.) using a wire bar coater (# 20), and air-dried at room temperature for 5 minutes to apply A film was formed. Subsequently, it heated on 120 degreeC and the conditions of 10 minutes using oven, The high refractive index film (type A) of 4 micrometers in thickness was hardened and formed. It was 1.63 when the refractive index of the obtained high refractive index film was measured using the ellipsometer on the conditions of 25 degreeC of measurement temperature.

또한, 얻어진 대전 방지 고굴절률 재료 (B 타입)를, 와이어 바코터 (# 3)를 사용하고, 하드 코팅 부착 폴리카보네이트판 (하드 코팅의 굴절률 1.55, 폴리카보네이트판의 두께 1 mm, 데이진 카세이(주) 제조) 상에 도포하여, 실온에서 5 분간 풍건하여 도포막을 형성하였다. 계속해서 오븐을 사용하여 120 ℃, 10 분의 조건으로 가열하고, 두께 0.12 ㎛의 대전 방지 고굴절률막 (B 타입)을 경화 형성하였다. 얻어진 고굴절률막의 굴절률을 동일하게 측정하였더니 1.63이었다.In addition, using the obtained antistatic high refractive index material (B type) using a wire bar coater (# 3), a polycarbonate plate with a hard coating (refractive index of 1.55 of the hard coating, a thickness of 1 mm of the polycarbonate plate, Teijin Kasei ( It was applied to the production), and air-dried at room temperature for 5 minutes to form a coating film. Then, it heated on 120 degreeC and the conditions of 10 minutes using oven, and the antistatic high refractive index film (type B) of 0.12 micrometer thickness was hardened and formed. It was 1.63 when the refractive index of the obtained high refractive index film was measured similarly.

계속해서, 저굴절률 재료를 각각의 고굴절률막 (A 및 B 타입) 상에 와이어 바코터 (# 3)를 사용하여 도포하고 실온에서 5 분간 풍건하여, 도포막을 형성하였다. 계속해서 오븐을 사용하여 120 ℃, 60 분의 조건으로 가열하고, 두께 0.10 ㎛의 저굴절률막을 경화 형성하여, 기재상의 고굴절률막과 합쳐서 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)를 제조하였다. 즉, 하드 코팅을 갖지 않은 반사 방지용 적층체가 I타입이고, 하드 코팅이 부착된 반사 방지용 적층체가 II 타입이다.Subsequently, a low refractive index material was applied onto each of the high refractive index films (types A and B) using a wire bar coater (# 3) and air dried at room temperature for 5 minutes to form a coating film. Subsequently, it heated on 120 degreeC and the conditions for 60 minutes using oven, the low refractive index film of thickness 0.10micrometer was hardened, and it combined with the high refractive index film on the base material, and produced the reflection prevention laminated bodies (I and II type). That is, the anti-reflective laminate which does not have a hard coating is type I, and the anti-reflective laminate which has a hard coating is type II.

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)에 있어서의 반사 방지성, 투명성, 탁도 (Haze치), 대전 방지성 및 경도를 하기에 나타내는 측정법에 의하여 측정하였다. 또한, 아울러 반사 방지막과 기재 사이의 밀착성을 이하의 기준으로 평가하였다.The antireflection, transparency, haze (Haze value), antistatic property and hardness in the obtained antireflection laminates (types I and II) were measured by the measuring method shown below. In addition, the adhesiveness between an antireflection film and a base material was evaluated based on the following criteria.

(1) 반사 방지성(1) antireflection

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)에 있어서의 반사 방지성을 분광 반사율 측정 장치 (대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조합한 자기 분광 광도계 U-3410, 히타찌 세이사꾸쇼(주) 제조)에 의해, 파장 340 내지 700 nm의 범위에서 반사율을 측정하여 평가하였다. 즉, 알루미늄의 증착막에 있어서의 반사율을 기준 (100 %)으로 하고, 각 파장에 있어서의 반사 방지용 적층체 (반사 방지막)의 반사율을 측정하고, 그 중 파장 550 nm에서의 광의 반사율로부터 이하의 기준으로 반사 방지성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Magnetic spectrophotometer U-3410, Hitachi Seisakusho Co., Ltd. combining spectroscopic reflectance measuring device (large sample chamber integrating sphere accessory 150-09090) in the obtained antireflective laminates (types I and II) Manufacture), and evaluated the reflectance in the range of wavelength 340-700 nm. That is, the reflectance in the aluminum vapor deposition film is made into the reference | standard (100%), and the reflectance of the antireflective laminated body (antireflection film) in each wavelength is measured, and the following reference | standard from the reflectance of the light in wavelength 550nm among these is measured. The antireflection was evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

◎: 반사율이 1 % 이하의 값이다.(Double-circle): A reflectance is a value of 1% or less.

○: 반사율이 2 % 이하의 값이다.○: The reflectance is a value of 2% or less.

△: 반사율이 3 % 이하의 값이다.(Triangle | delta): A reflectance is a value of 3% or less.

×: 반사율이 3 %를 초과하는 값이다.X: The reflectance is a value exceeding 3%.

(2) 투명성(2) transparency

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)에 있어서의 파장 550 nm의 광 투과율 (T %)을, 분광 광도계를 사용하여 측정하고, 얻어진 광 투과율로부터 이하의 기준으로 투명성을 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.The light transmittance (T%) of wavelength 550nm in the obtained antireflective laminated body (types I and II) was measured using the spectrophotometer, and transparency was evaluated on the following references | standards from the obtained light transmittance. The obtained results are shown in Table 1.

○: 광 투과율이 95 % 이상의 값이다.○: The light transmittance is a value of 95% or more.

△: 광 투과율이 80 내지 95 %미만의 값이다.(Triangle | delta): The light transmittance is a value below 80 to 95%.

×: 광 투과율이 80 % 미만의 값이다X: The light transmittance is a value of less than 80%.

(3) 탁도(3) turbidity

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)에 있어서의 탁도 (Haze치)를, Haze계를 사용하여 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.Haze (Haze value) in the obtained antireflection laminates (I and II types) was measured using a Haze system. The obtained results are shown in Table 1.

(4) 대전 방지성(4) antistatic

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)의 표면 저항 (Ω/□)를, 하이레지스탄스 미터 (휴렛ㆍ팩커드사 제조 HP4339)를 사용하여 주전극 직경 26 mmΦ, 인가 전압 100 V의 조건으로 측정하고, 이하의 기준으로 대전 방지성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The surface resistance (Ω / □) of the obtained antireflective laminates (types I and II) was subjected to a main electrode diameter of 26 mm Φ and an applied voltage of 100 V using a high resistance meter (HP4339 manufactured by Hewlett-Packard). It measured and evaluated antistatic property on the following references | standards. The results are shown in Table 1.

◎: 표면 저항이 108Ω/□ 이하의 값이다.(Double-circle): Surface resistance is a value of 10 <8> ohm / square or less.

○: 표면 저항이 1010Ω/□ 이하의 값이다.○: The surface resistance is a value of 10 10 Ω / □ or less.

△: 표면 저항이 1012Ω/□ 이하의 값이다.(Triangle | delta): Surface resistance is a value of 10 <12> ohm / square or less.

×: 표면 저항이 1015Ω/□을 초과하는 값이다.X: Surface resistance is the value over 10 <15> ohm / square.

(5) 경도(5) hardness

기재의 유연성에 영향을 주지 않도록 폴리카보네이트판 대신에, 경도값이 큰 석영판을 사용하여, 하측에서부터 고굴절률막 및 저굴절률막을 순차로 적층하고, 경도 측정용의 반사 방지용 적층체 (하드 코팅층 없음)를 제조하였다. 얻어진 반사 방지용 적층체에 있어서의 연필 경도를 JIS K5400에 준거하여 측정하였다. 또한, 연필 경도의 판정은 흠 발생의 유무를 육안으로 관찰함으로써 행하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.Instead of the polycarbonate plate, a high-refractive index film and a low-refractive index film were sequentially laminated from the lower side in place of the polycarbonate plate so as not to affect the flexibility of the substrate, and the antireflection laminate for hardness measurement (no hard coating layer) ) Was prepared. The pencil hardness in the obtained antireflection laminated body was measured based on JISK5400. In addition, the determination of the pencil hardness was performed by visually observing the presence or absence of a flaw generation. The obtained results are shown in Table 1.

(6) 밀착성(6) adhesion

얻어진 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)에 대해서, JIS K5400에 준거한 바둑판 눈금 시험을 하여, 이하의 기준으로 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.The obtained antireflection laminates (I and II types) were subjected to a checkerboard scale test in accordance with JIS K5400, and evaluated according to the following criteria. The obtained results are shown in Table 1.

○: 100 개의 바둑판 눈금에 있어서, 박리가 관찰되지 않았다.(Circle): Peeling was not observed in 100 checkerboard scales.

△: 100 개의 바둑판 눈금에 있어서, 1 내지 3 개의 바둑판 눈금의 박리가 관찰되었다.(Triangle | delta): Peeling of 1 to 3 checker scales was observed in 100 checkerboard scales.

×: 100 개의 바둑판 눈금에 있어서, 4 개 이상의 바둑판 눈금의 박리가 관찰되었다.X: In 100 checkerboard scales, peeling of 4 or more checkerboard scales was observed.

<실시예 2 및 3><Examples 2 and 3>

실시예 1의 고굴절률 재료에 있어서의 안티몬 함유 산화 주석에 대한 폴리비닐부티랄 수지 및 경화제의 비율을 변화시킨 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 고굴절률 재료 (A 및 B 타입) 및 저굴절률 재료를 각각 조제하고, 실시예 1과 동일하게 고굴절률 재료 및 반사 방지용 적층체 (I 및 II 타입)을 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.The high refractive index material (types A and B) and the low refractive index material in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the polyvinyl butyral resin and the curing agent to the antimony-containing tin oxide in the high refractive index material of Example 1 was changed. Were prepared, and the high refractive index material and the antireflection laminates (types I and II) were evaluated in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.

<비교예 1>Comparative Example 1

도전성 금속 산화물 미립자 대신에, 비도전성 금속 산화물 미립자로서 산화지르코늄을 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 고굴절률 재료 (C 및 D 타입)을 조제하였다. 즉, C 타입이 고농도품이고 D 타입이 저농도품이다.A high refractive index material (types C and D) was prepared in the same manner as in Example 1 except that zirconium oxide was used as the nonconductive metal oxide fine particles instead of the conductive metal oxide fine particles. That is, type C is a high concentration product and type D is a low concentration product.

계속해서, 각각의 고굴절률 재료 (C 및 D 타입)을, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 하였다. 또한, 각각의 고굴절률 재료로부터 반사 방지용 적층체 (III 및 IV 타입)을 형성하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타내었다.Subsequently, each of the high refractive index materials (types C and D) was evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, antireflection laminates (types III and IV) were formed from the respective high refractive index materials and evaluated in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 2.

<비교예 2 내지 3><Comparative Examples 2 to 3>

경화제의 첨가량을 본 발명의 범위 외 (비교예 2에서는 적고, 비교예 3에서는 많음)로 한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 고굴절률 재료 (C 및 D 타입)을 조제하였다. 계속해서, 각각의 고굴절률 재료를, 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 또한, 각각의 고굴절률 재료를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 반사 방지용 적층체 (III 및 IV 타입)을 형성하여 평가하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타내었다.A high refractive index material (types C and D) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the curing agent was outside the range of the present invention (less in Comparative Example 2, and larger in Comparative Example 3). Subsequently, each high refractive index material was evaluated similarly to Example 1. In addition, the antireflection laminates (types III and IV) were formed and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the respective high refractive index materials were used. The obtained results are shown in Table 2.

본 발명의 고굴절률 재료에 의하면, 우수한 보존 안정성 및 대전 방지성을 얻을 수 있게 되고, 또한 본 발명의 반사 방지용 적층체에 의해 우수한 반사 방지성 및 대전 방지성을 얻을 수 있게 되었다.According to the high refractive index material of the present invention, excellent storage stability and antistatic property can be obtained, and excellent antireflective property and antistatic property can be obtained by the antireflective laminate of the present invention.

또한, 특정한 고굴절률층과 특정한 저굴절률층을 조합한 본 발명의 반사 방지용 적층체에 의하면, 보다 우수한 반사 방지성, 예를 들면 1.0 % 이하의 반사 방지율을 얻을 수 있게 되었다.In addition, according to the antireflection laminate of the present invention in which a specific high refractive index layer and a specific low refractive index layer are combined, more excellent antireflection property, for example, an antireflection rate of 1.0% or less can be obtained.

Claims (4)

(1) 평균 입경이 0.01 내지 2 ㎛인 도전성 금속 산화물 미립자 100 중량부와,(1) 100 parts by weight of conductive metal oxide fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 2 µm, (2) 수산기 함유 중합체 1 내지 70 중량부와,(2) 1 to 70 parts by weight of a hydroxyl group-containing polymer, (3) 수산기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 경화제 1 내지 70 중량부(3) 1 to 70 parts by weight of a curing agent having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group 로 구성되고, 경화 후의 굴절률이 1.60 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 재료.The refractive index after hardening is 1.60 or more, The high refractive index material characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 도전성 금속 산화물 미립자가, 안티몬 함유 산화 주석 또는 인듐 함유 산화 주석인 것을 특징으로 하는 고굴절률 재료.The high refractive index material according to claim 1, wherein the conductive metal oxide fine particles are antimony-containing tin oxide or indium-containing tin oxide. 기판과,Substrate, 상기 기판상의, 제1항 또는 제2항 기재의 고굴절률 재료를 경화시켜 얻은 고굴절률막 및 저굴절률막The high refractive index film and the low refractive film which were obtained by hardening the high refractive index material of Claim 1 or 2 on the said board | substrate. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지용 적층체.Antireflection laminate comprising a. 제3항에 있어서, 상기 저굴절률막이 경화성 불소 함유 공중합체를 포함하는 저굴절률 재료를 경화시켜 얻어지고, 굴절률이 1.60 미만의 값인 것을 특징으로 하는 반사 방지용 적층체.The antireflection laminate according to claim 3, wherein the low refractive index film is obtained by curing a low refractive index material containing a curable fluorine-containing copolymer, and has a refractive index of less than 1.60.
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