KR20020073991A

KR20020073991A - Shadow-mask for color picture tube

Info

Publication number: KR20020073991A
Application number: KR1020010014044A
Authority: KR
Inventors: 박광현
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2001-03-19
Filing date: 2001-03-19
Publication date: 2002-09-28

Abstract

PURPOSE: A shadow mask for color CRT is provided to increase volume of shadow mask by widening cross sections of the strip and real bridge, while reducing doming by increasing thermal capacity of the shadow mask. CONSTITUTION: A shadow mask for color CRT comprises a plurality of strips(71,71') arranged to be spaced apart from each other at a thin plate; a real bridge for forming a slot for passage of electron beams by interconnecting the strips; and a reinforcement unit formed at the edge of the slot so as to widen the cross section of the strip and the cross section of the real bridge, while avoiding disturbance to the advancing of electron beam passing through the slot. The reinforcement unit includes a first section(74) formed at the electron beam emission side of the slot, and a second section(75) formed at the electron beam incidence side of the slot.

Description

Shadow-mask for color picture tube

본 발명은 음극선관용 섀도우마스크에 관한 것으로, 더 상세하게는 전자빔의 진행을 간섭하지 않으면서 보강부를 설치하여 스트립의 단면적과 리얼브리지의 단면적을 넓게 하여 섀도우마스크의 체적을 증가시키기 위하여 슬롯의 구조가 개선된 칼라 음극선관용 섀도우마스크에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask for a cathode ray tube, and more particularly, a slot structure is provided to increase the volume of the shadow mask by increasing the cross-sectional area of the strip and the cross-sectional area of the real bridge by installing a reinforcement without interfering with the progress of the electron beam. An improved shadow mask for color cathode ray tubes.

통상적인 음극선관(cathode ray tube)에는 칼라 음극선관(color CRT)과 모노크롬 음극선관(mono-chrome CRT)이 있으나, 현재는 칼라 음극선관이 대부분을 차지하고 있다. 그 중 거의가 섀도우마스크 방식의 칼라 음극선관이다.Conventional cathode ray tubes include color CRTs and mono-chrome CRTs, but color cathode ray tubes currently dominate. Most of them are colored cathode ray tubes of shadow mask type.

통상적인 컴퓨터의 모니터, 텔레비전 등에 채용된 칼라 음극선관은 전자총으로부터 방출된 세 전자빔이 색 선별기능을 가지는 마스크의 전자빔 통과공을 통하여 패널의 스크린면에 형성되어 있는 형광막의 적, 녹, 청색의 형광체에 부딪침으로써 상기 형광체를 여기 시켜 화상을 형성하게 된다.The color cathode ray tube used in a typical computer monitor, television, etc. is a red, green, and blue phosphor of a fluorescent film formed on the screen surface of a panel through three electron beams emitted from an electron gun through an electron beam through hole of a mask having a color sorting function. The light is excited to excite the phosphor to form an image.

상기와 같이 화상을 형성하는 종래 칼라 음극선관에 있어서, 색 선별기능을가지는 마스크는 모니터에 채용되는 도트 마스크와 텔레비전 등에 이용되는 슬롯 마스크( 또는 슬릿마스크라고도 한다)로 대별된다. 이러한 도트 마스크와 슬롯 마스크는 스크린면이 편향된 전자빔의 랜딩(landing)을 감안하여 소정의 곡율을 갖도록 형성되어 있으므로 스크린면의 곡율과 대응되는 곡율을 갖도록 설계된다.In the conventional color cathode ray tube which forms an image as described above, a mask having a color sorting function is roughly divided into a dot mask employed in a monitor and a slot mask (also called a slit mask) used in a television or the like. Since the dot mask and the slot mask are formed to have a predetermined curvature in consideration of the landing of the deflected electron beam, the dot mask and the slot mask are designed to have a curvature corresponding to the curvature of the screen surface.

상술한 바와 같은 마스크는 두께가 0.1 내지 0.25mm의 박판 소재를 에칭 하여 다수의 슬롯을 형성하고 이 박판 소재를 소정의 곡율로 성형하여 사용하고 있다. 상기 마스크의 곡율이 일정 이상의 곡율을 가지지 못하면 구조적 강도가 약하여 음극선관의 제조공정 중 영구 소성 변형되는 경우가 많으며, 결과적으로 마스크의 고유 기능인 색 선별기능을 수행할 수 없는 경우가 많다.The mask as described above is used by etching a thin sheet material having a thickness of 0.1 to 0.25 mm to form a plurality of slots and molding the thin sheet material to a predetermined curvature. When the curvature of the mask does not have a certain curvature or more, the structural strength is weak, so that the plastic plastic deformation of the cathode ray tube during the manufacturing process is often performed, and as a result, the color selection function, which is a unique function of the mask, is often not performed.

상기와 같은 섀도우마스크는 통상적으로 포토-리소그라피(photo-lithography)를 이용하여 제작된다. 즉, 마스크를 이루는 박판소재의 양면에 감광막을 도포하고 이 감광막을 노광마스크를 이용하여 소정의 패턴으로 노광한 후 식각하여 제조하게 된다.Such shadow masks are typically manufactured using photo-lithography. That is, a photosensitive film is coated on both surfaces of the thin plate material forming the mask, and the photosensitive film is exposed to a predetermined pattern using an exposure mask and then etched.

도 1은 통상적인 섀도우마스크 방식의 음극선관(10)의 일 예를 도시한 것이다.1 illustrates an example of a cathode ray tube 10 of a conventional shadow mask method.

도 1을 참조하면, 상기 음극선관(10)에는 삼색으로 발광하는 형광막(11a)이 내면에 형성된 패널(11)이 마련되고, 상기 패널(11)의 단부에는 네크부(15)에 전자총(electron gun)(16)이 내장된 펀넬(14)이 봉착된다.Referring to FIG. 1, the cathode ray tube 10 is provided with a panel 11 formed on an inner surface of a fluorescent film 11a that emits light in three colors, and at the end of the panel 11, an electron gun (V) is formed at the neck portion 15. A funnel 14 containing an electron gun 16 is sealed.

그리고, 전자빔 통과공이 다수개 형성된 섀도우마스크(12)가 상기 형광막(11a)과 소정간격 이격되어 프레임(13)에 용접되어 고정 설치되고, 상기 패널(11)의 내측면에는 프레임(13)을 지지하는 스터드핀(stud pin)(18)이 고정되어 있다. 또한 상기 프레임(13)의 측부에는 전자빔(16a)의 궤도를 차폐 및 제어하는 인너쉴드(inner shield)(19)가 설치되고, 상기 펀넬(14)의 콘부에는 상기 전자총(16)에서 주사되는 적(R), 녹(G), 청(B), 색의 전자빔(16a)을 편향시키기 위한 편향요오크(deflection yoke)(17)가 설치된다.The shadow mask 12 having a plurality of electron beam through holes is welded to the frame 13 and spaced apart from the fluorescent film 11a by a predetermined distance, and the frame 13 is provided on the inner surface of the panel 11. A supporting stud pin 18 is fixed. In addition, an inner shield 19 for shielding and controlling the trajectory of the electron beam 16a is installed at the side of the frame 13, and the cone portion of the funnel 14 is scanned by the electron gun 16. A deflection yoke 17 is provided for deflecting R, green G, blue B and colored electron beams 16a.

도 2는 상기 음극선관(10)에 있어 전자총(16)으로부터 주사된 전자빔(16a)이 각 형광막에 정확하게 랜딩되도록 색선별 기능을 가진 종래의 섀도우마스크(20)를 도시한 사시도이다. 도 3은 도 2에 도시된 A를 확대 도시한 도면이다. 도 4a는 도 3에 도시한 상기 슬롯(20)을 v-v선에 따른 단면을 도시한 도면이며, 도 4b는 도 3에 도시한 상기 슬롯(20)을 h-h선에 따른 단면을 도시한 도면이다. 동일한 도면부호는 동일부재를 나타낸다.2 is a perspective view showing a conventional shadow mask 20 having a color discrimination function so that the electron beam 16a scanned from the electron gun 16 in the cathode ray tube 10 is accurately landed on each fluorescent film. FIG. 3 is an enlarged view of A illustrated in FIG. 2. 4A is a cross-sectional view taken along the line v-v of the slot 20 shown in FIG. 3, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line h-h of the slot 20 shown in FIG. Like reference numerals denote like elements.

도2를 참조하면, 상기 섀도우마스크(20)는 상호 평행한 스트립(24)(24')과 상기 스트립(24)(24')을 연결하여 전자빔이 통과하는 슬롯(28)을 형성하는 리얼브리지(26)(26')로 이루어진 유공부(21)와, 상기 유공부(21)의 가장자리로부터 소정폭 연장된 무공부(23)를 구비한다. 그리고 상기 무공부(23)에는 상기 섀도우마스크(20)의 열팽창량을 흡수할 수 있는 비딩부(beading)(22)가 형성되어 있다. 여기서 상기 비딩부(22)는 상기 섀도우마스크(20)의 무공부(23)를 따라서 연속적으로 형성된 구조이다.Referring to FIG. 2, the shadow mask 20 connects strips 24 and 24 'parallel to each other and the strips 24 and 24' to form a real bridge through which an electron beam passes. And a hole 21 formed of (26) and 26 'and a hole 23 extending a predetermined width from an edge of the hole 21. The non-porous portion 23 is formed with a beading portion 22 capable of absorbing the thermal expansion amount of the shadow mask 20. Here, the beading portion 22 is a structure continuously formed along the unperforated portion 23 of the shadow mask 20.

도 4a를 참조하면, 상기 슬롯(28)은 인접하는 스트립(24)(24')들로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되어 그 단부에 에칭경계부(44)(44')가 형성되어 있다. 참조부호 44인 상기 에칭경계부는 제1연장부(42)에 포함되고, 참조부호 44'인 상기 에칭경계부는 제3연장부(43)에 포함된다. 여기서, 상기 슬롯(28)의 v-v방향의 폭(W1)은 h-h방향의 폭(W2)보다 좁게 형성되어 있다.Referring to FIG. 4A, the slot 28 extends from the adjacent strips 24 and 24 'in opposite directions to form an etching boundary 44 or 44' at its end. The etching boundary portion 44 is included in the first extension portion 42 and the etching boundary portion 44 'is included in the third extension portion 43. Here, the width W1 in the v-v direction of the slot 28 is formed to be narrower than the width W2 in the h-h direction.

도 4b를 참조하면, 상기 슬롯(28)은 인접하는 리얼브리지(26)(26')들로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되어 그 단부에 에칭경계부(47)(47')가 형성되어 있다. 참조부호 47인 상기 에칭경계부는 제2연장부(45)에 포함되고, 참조부호 47'인 상기 에칭경계부는 제4연장부(46)에 포함된다.Referring to FIG. 4B, the slots 28 extend in mutually opposite directions from adjacent real bridges 26 and 26 ′, and etching boundary portions 47 and 47 ′ are formed at ends thereof. The etching boundary portion 47 is included in the second extension portion 45 and the etching boundary portion 47 'is included in the fourth extension portion 46.

상기와 같이 구성된 음극선관은 상기 전자총(16)으로부터 주사된 전자빔이 형광막(11a)의 주사위치에 따라서 상기 편향요오크(17)에 의하여 편향된다. 이후 상기 섀도우마스크(20)의 슬롯(28)을 통과하여 상기 형광막(11a)에 랜딩(landing)됨으로써 하나의 화소(pixel)를 이루게 되고, 이 화소가 모여 하나의 화면을 이루게 된다.In the cathode ray tube configured as described above, the electron beam scanned from the electron gun 16 is deflected by the deflection yoke 17 according to the dice of the fluorescent film 11a. Thereafter, through the slot 28 of the shadow mask 20, the fluorescent film 11a is landed to form one pixel, and the pixels are gathered to form one screen.

여기서 상기 전자총(16)으로부터 주사된 상기 전자빔은 상기 섀도우마스크(20)의 중앙부로부터 주변부로 갈수록 입사각이 커지게 되어 상기 슬롯(28)을 통과하는 전자빔의 통과면적은 좁아지게 된다. 그러므로 상기 슬롯(28)을 통과되지 못한 전자빔은 상기 섀도우마스크(20)에 부딪히게 되어 상기 섀도우마스크(20)에 전자빔의 열량이 흡수되어 상기 섀도우마스크(20)가 부풀어 오르는 도밍(doming)현상이 발생하게 된다.In this case, the electron beam scanned from the electron gun 16 has a larger incident angle toward the periphery of the shadow mask 20 so that the passage area of the electron beam passing through the slot 28 becomes narrower. Therefore, the electron beam that has not passed through the slot 28 hits the shadow mask 20, and thus the amount of heat of the electron beam is absorbed by the shadow mask 20 so that the shadow mask 20 swells. Will occur.

그런데 도 4a를 참조하면, 상기 스트립(24)(24')들로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되는 에칭선(48)(48')은 곡율이 크게 형성되어 있다. 상기 슬롯(28)을통과하는 전자빔은 상기 에칭경계부(44)(44')사이를 통과하게 되므로 상기 슬롯(28)에 형성된 상기 제1연장부(42)과 상기 제3연장부(43)는 상기 전자빔의 진행을 간섭하지 않는 한 그 면적을 넓게 형성하더라도 전자빔의 진행을 방해하지는 않는다.However, referring to FIG. 4A, the etching lines 48 and 48 ′ extending in directions facing each other from the strips 24 and 24 ′ have a large curvature. The electron beam passing through the slot 28 passes between the etching boundary portions 44 and 44 ', so that the first extension portion 42 and the third extension portion 43 formed in the slot 28 As long as the area is widened, the propagation of the electron beam does not interfere with the propagation of the electron beam.

또한 도 4b를 참조하면, 전자빔은 상기 에칭경계부(47)(47')사이를 통과하게 되므로 제2연장부와 제4연장부의 면적이 전자빔의 진행을 방해하지 않고 넓어지더라도 상관이 없다.Referring to FIG. 4B, since the electron beam passes between the etching boundary portions 47 and 47 ′, the area of the second extension portion and the fourth extension portion may be enlarged without disturbing the progress of the electron beam.

그러므로, 상기 슬롯(28)의 전자빔의 통과하는 면적을 제외한 전체 연장부의 면적은 상기 섀도우마스크(20)의 체적을 감소시키고 있다.Therefore, the area of the entire extension except the passing area of the electron beam of the slot 28 reduces the volume of the shadow mask 20.

이에 의하여 상기 섀도우마스크(20)의 체적감소에 따른 열용량이 감소되게 되어 전자빔의 열에 의한 상기 섀도우마스크(20)의 도밍현상이 증가하게 된다. 또한 상기 섀도우마스크(20)의 체적이 감소함으로써 상기 섀도우마스크(20)의 낙하충격강도가 약화된다.As a result, the heat capacity according to the volume reduction of the shadow mask 20 is reduced, thereby increasing the doming phenomenon of the shadow mask 20 due to the heat of the electron beam. In addition, the drop impact strength of the shadow mask 20 is reduced by decreasing the volume of the shadow mask 20.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 섀도우마스크에 형성된 슬롯의 전자빔의 진행을 간섭하지 않으면서 스트립의 단면적과 리얼브리지의 단면적을 증가시키기 위하여 상기 슬롯의 가장자리에 보강부를 설치함으로써 섀도우마스크의 체적을 증가시켜 섀도우마스크의 도밍현상을 줄이고 또한 브라운관의 낙하충격 강도를 강화시킬 수 있는 칼라 음극선관용 섀도우마스크를 제공함에 있다.The present invention is to solve the above problems, the shadow mask by installing a reinforcement on the edge of the slot to increase the cross-sectional area of the strip and the cross-sectional area of the real bridge without interfering with the progress of the electron beam of the slot formed in the shadow mask The present invention provides a shadow mask for a color cathode ray tube that can reduce the dominant phenomenon of the shadow mask by increasing the volume of the mask and also enhance the drop impact strength of the CRT.

도 1은 통상적인 음극선관을 도시한 입단면도,1 is a cross-sectional view showing a conventional cathode ray tube,

도 2는 종래의 섀도우마스크를 도시한 사시도,2 is a perspective view showing a conventional shadow mask,

도 3은 도 2에 도시된 A를 확대한 평면도,3 is an enlarged plan view of A shown in FIG. 2;

도 4a는 도 3에 도시된 v-v선에 따른 단면도,4A is a cross-sectional view taken along the line v-v shown in FIG. 3;

도 4b는 도 3에 도시된 h-h선에 따른 단면도,4B is a cross-sectional view taken along the line h-h shown in FIG. 3;

도 5는 본 발명에 따른 섀도우마스크의 일부를 도시한 평면도,5 is a plan view showing a part of a shadow mask according to the present invention;

도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 슬롯을 도시한 평면도,6 is a plan view showing a slot according to a first embodiment of the present invention;

도 7a는 도 6에 도시된 슬롯의 v-v선에 따른 단면을 도시한 단면도,7A is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along line v-v of the slot shown in FIG. 6;

도 7b는 도 6에 도시된 슬롯의 h-h선에 따른 단면을 도시한 단면도,FIG. 7B is a cross-sectional view showing a section taken along the line h-h of the slot shown in FIG. 6;

도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 슬롯을 도시한 평면도,8 is a plan view showing a slot according to a second embodiment of the present invention;

도 9a는 도 8에 도시된 슬롯의 v-v선에 따른 단면을 도시한 단면도,9A is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along line v-v of the slot shown in FIG. 8;

도 9b는 도 8에 도시된 슬롯의 h-h선에 따른 단면을 도시한 단면도.FIG. 9B is a sectional view taken along the line h-h of the slot shown in FIG. 8; FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10...음극선관 11...패널10 ... cathode tube 11 ... panel

11a...형광막 12,20,50...섀도우마스크11a ... fluorescent film 12, 20, 50 ... shadow mask

13...프레임 14...펀넬13 ... frame 14 ... funnel

15...네크부 16...전자총15 ... neck 16.

17...편향요오크 18...스터드핀17 ... deflection yoke 18 ... stud pins

19...인너쉴드 24,24',51,51'...스트립19 ... inner shield 24,24 ', 51,51' ... strip

26,26',52,52'...리얼브리지 28,53...슬롯26,26 ', 52,52' ... realbridge 28,53 ... slot

61,65,71,75...제1보강부 62,66,72,76...제2보강부61,65,71,75 ... First reinforcement 62,66,72,76 ... Second reinforcement

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명인, 칼라 음극선관용 섀도우마스크는,In order to achieve the above object, the present inventors, the shadow mask for color cathode ray tube,

박판상에 상호 소정간격 이격 되어 평행한 다수의 스트립들과; 상기 인접하는 스트립들을 연결하여 전자빔이 통과하는 슬롯을 형성하는 리얼브리지;를 포함하며A plurality of strips parallel to each other at a predetermined interval on the thin plate; And a real bridge connecting the adjacent strips to form a slot through which an electron beam passes.

상기 슬롯의 가장자리에 상기 슬롯을 통과하는 전자빔의 진행을 간섭하지 않고 상기 스트립의 단면적과 상기 리얼브리지의 단면적이 넓어지도록 형성된 보강부;를 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다.And a reinforcing part formed at the edge of the slot so as to widen the cross-sectional area of the strip and the cross-sectional area of the real bridge without interfering with the progress of the electron beam passing through the slot.

본 발명에 있어서, 상기 보강부는 상기 슬롯의 전자빔 출사측에 형성된 제1보강부와 전자빔의 입사측에 형성된 제2보강부로 이루어진 것을 특징으로 한다.In the present invention, the reinforcing portion is characterized in that the first reinforcing portion formed on the electron beam exit side of the slot and the second reinforcing portion formed on the incident side of the electron beam.

본 발명에 있어서, 상기 보강부는 전자빔이 진행되지 않는 측에 형성되어 이루어진 것을 특징으로 한다.In the present invention, the reinforcing portion is formed on the side where the electron beam does not proceed.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명에 따른 섀도우마스크의 일부를 도시한 평면도이다. 도5를 참조하면, 상기 섀도우마스크(50)에는 상호 소정간격 이격 되어 평행하게 다수의 스트립(51)(51')들이 형성되어 있다. 상기 스트립(51)(51')들로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되어 전자빔이 통과하는 슬롯(53)을 형성하는 리얼브리지(52)(52')가 마련되어 있다. 인접하는 상기 슬롯(53)들은 상호 엇갈려 형성되어 있다. L은 상기 스트립(51)(51')의 폭을 나타내며, L'은 상기 리얼브리지(52)(52')의 폭을 나타낸다. 이는 종래 새도우마스크(20)의 스트립이나 리얼브리지의 폭 보다는 넓게 형성되어 있다.5 is a plan view showing a part of the shadow mask according to the present invention. Referring to FIG. 5, the shadow mask 50 has a plurality of strips 51, 51 ′ formed in parallel with a predetermined interval therebetween. Real bridges 52 and 52 'are provided which extend from the strips 51 and 51' in opposite directions to form slots 53 through which the electron beam passes. Adjacent slots 53 are alternately formed. L represents the width of the strips 51 and 51 ', and L' represents the width of the real bridges 52 and 52 '. This is wider than the width of the strip or the real bridge of the conventional shadow mask (20).

도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 슬롯을 도시한 평면도이고, 도7a는 도 6에 도시된 슬롯의 v-v선에 따른 단면을 도시한 단면도이고, 그리고 도 7b는 도 6에 도시된 슬롯의 h-h선에 따른 단면을 도시한 단면도이다. 동일한 도면부호는 동일한 부재를 나타낸다.FIG. 6 is a plan view showing a slot according to the first embodiment of the present invention, FIG. 7A is a cross-sectional view showing a cross section taken along line vv of the slot shown in FIG. 6, and FIG. 7B is a slot shown in FIG. 6. It is sectional drawing which shows the cross section along the hh line. Like reference numerals denote like elements.

도 6을 참조하면, 상기 슬롯(63)은 전자빔의 통과면(64)과 상기 통과면(64)의 둘레에 상기 슬롯(63)의 가장자리로부터 연장되어 형성된 연장부(65)를 구비한다. 도면부호 W3는 상기 슬롯(63)의 수평방향 폭을 나타내며, 도면부호 W4는 상기 슬롯(63)의 수직방향 폭을 나타낸다.Referring to FIG. 6, the slot 63 includes a pass face 64 of the electron beam and an extension 65 extending from an edge of the slot 63 around the pass face 64. Reference numeral W3 denotes a horizontal width of the slot 63, and reference numeral W4 denotes a vertical width of the slot 63.

도 7a를 참조하면, 상기 슬롯(63)은 스트립(71)(71')으로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되는 연장부(65)에 전자빔의 출사측에는 제1보강부(74)가 마련되어 있고 전자빔의 입사측에는 제2보강부(75)가 마련되어 있다.Referring to FIG. 7A, the slot 63 is provided with a first reinforcing portion 74 on the output side of the electron beam in an extension portion 65 extending in a direction facing each other from the strips 71 and 71 '. The second reinforcing portion 75 is provided on the incidence side.

또한 도 7b를 참조하면, 상기 슬롯(63)은 리얼브리지(72)(72')로부터 상호 대향하는 방향으로 연장되는 연장부(65)에 전자빔의 출사측에는 제1보강부(74)가 마련되어 있고 전자빔의 입사측에는 제2보강부(75)가 마련되어 있다.In addition, referring to FIG. 7B, the slot 63 has a first reinforcing portion 74 provided at the emission side of the electron beam in an extension portion 65 extending in mutually opposite directions from the real bridges 72 and 72 '. The second reinforcing portion 75 is provided on the incident side of the electron beam.

도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 슬롯을 도시한 평면도이고, 도 9a는 도 8에 도시된 슬롯의 v-v선에 따른 단면을 도시한 단면도이고, 그리고 도 9b는 도 8에 도시된 슬롯의 h-h선에 따른 단면을 도시한 단면도이다. 도면에서 동일 도면부호는 동일부재를 나타낸다.8 is a plan view illustrating a slot according to a second embodiment of the present invention, FIG. 9A is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along line vv of the slot illustrated in FIG. 8, and FIG. 9B is a slot illustrated in FIG. 8. It is sectional drawing which shows the cross section along the hh line. Like reference numerals in the drawings denote like elements.

도면을 참조하면, 제2실시예에 따른 슬롯(83)은 상기 제1실시예에 따른 상기 슬롯(63)과 구조면에서 유사하고 다만 전자빔의 출사측과 입사측에 마련되는 제1보강부(94)와 제2보강부(95)가 전자빔의 진행되지 않는 측에 형성되어 있다는 것이 다르다. 따라서 상기 슬롯(83)의 수평폭(W5)과 수직폭(W6)은 상기 제1실시예에서의 상기 슬롯(63)의 수평폭(W3)과 수직폭(W4)보다는 넓게 형성되어 있다.Referring to the drawings, the slot 83 according to the second embodiment is similar in structure to the slot 63 according to the first embodiment, but has a first reinforcing part provided on the output side and the incident side of the electron beam ( 94) and the second reinforcing portion 95 are formed on the non-progressing side of the electron beam. Therefore, the horizontal width W5 and the vertical width W6 of the slot 83 are wider than the horizontal width W3 and the vertical width W4 of the slot 63 in the first embodiment.

상기와 같은 구성에 있어서, 제1실시예를 나타내는 도 6과 도 7a와 도 7b를 참조하면, 전자빔은 상기 전자빔 통과면(64)을 통하여 입사측에서 출사측으로 진행한다. 이때 전자빔은 상기 통과면(64)을 통과하게 되므로 상기 통과면(64)의 면적이 변동되지 않는 한 상기 슬롯(63)에 일체로 형성되어 있는 스트립(71)(71')의 단면적을 넓게 형성하더라도 문제가 발생되지는 않는다.In the above configuration, referring to FIGS. 6, 7A, and 7B showing the first embodiment, the electron beam travels from the incident side to the exit side through the electron beam passing surface 64. In this case, since the electron beam passes through the pass face 64, the cross sections of the strips 71 and 71 ′ integrally formed in the slot 63 are widened unless the area of the pass face 64 is changed. Even if it does not cause a problem.

그러므로, 전자빔의 진행을 간섭하지 않는 범위 내에서 전자빔의 출사측에 제1보강부(74)를 설치하고 전자빔의 입사측에 제2보강부(75)를 설치하여 상기 슬롯(63)에 일체로 연결되어 있는 스트립(71)(71')의 단면적은 넓게 형성되었다.Therefore, the first reinforcing portion 74 is provided on the emission side of the electron beam and the second reinforcing portion 75 is provided on the incidence side of the electron beam within a range that does not interfere with the progress of the electron beam. The cross-sectional area of the strips 71 and 71 'which are connected is wide.

이때 상기 통과면(64)의 면적은 종래의 슬롯(28)의 전자빔 통과면적과 동일하지만 본 발명에 따른 제1실시예에서는 상기 제1보강부(74)와 상기 제2보강부(75)가 설치되어 있어 상기 섀도우마스크(50)의 체적이 증가하게 된다.At this time, the area of the passage surface 64 is the same as the electron beam passage area of the conventional slot 28, but in the first embodiment according to the present invention, the first reinforcing portion 74 and the second reinforcing portion 75 Installed so that the volume of the shadow mask 50 is increased.

제2실시예에서는 상기 슬롯(83)에 제1보강부(94)와 제2보강부(95)를 전자빔이 진행되지 않는 측의 전자빔의 출사측과 입사측에 설치하여 상기 전자빔의 통과면(84)은 변동되지 않고 상기 스트립(91)(91')의 단면적과 상기 리얼브리지(92)(92')의 단면적을이 넓어지게 되어 상기 섀도우마스크(50)의 체적이넓어지게 된다.In the second embodiment, the first reinforcing portion 94 and the second reinforcing portion 95 are provided in the slot 83 on the exit side and the incidence side of the electron beam on the side where the electron beam does not travel. 84 is unchanged, and the cross-sectional area of the strips 91 and 91 'and the cross-sectional area of the real bridge 92 and 92' are widened, thereby increasing the volume of the shadow mask 50.

그러므로, 상기 섀도우마스크(50)의 체적은 종래의 섀도우마스크(20)의 체적보다 넓어지게 되어 상기 섀도우마스크(50)의 체적증가에 따른 열용량이 증가하게 되어 전자빔의 열화에 의한 도밍현상이 줄어들게 될 뿐만 아니라, 낙하에 의한 충격을 흡수할 수 있는 면적이 넓어지게 되어 외부의 충격을 완화하게 됨으로 상기 섀도우마스크(53)의 충격강도가 높아지게 된다.Therefore, the volume of the shadow mask 50 is wider than the volume of the conventional shadow mask 20 to increase the heat capacity according to the increase of the volume of the shadow mask 50 to reduce the dominant phenomenon due to deterioration of the electron beam. In addition, the area that can absorb the impact of the drop is widened to mitigate the external shock to increase the impact strength of the shadow mask (53).

상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 칼라 음극선관용 섀도우마스크는 상기 슬롯을 통과하는 전자빔을 간섭하지 않고 상기 섀도우마스크의 체적을 증가됨으로써 브라운관의 낙하충격에 대한 강도를 올릴 수 있다. 또한 상기 섀도우마스크의 열용량을 증가시켜 전자빔의 열화에 의한 상기 섀도우마스크의 도밍현상을 줄일 수 있다.The shadow mask for the color cathode ray tube according to the present invention configured as described above can increase the strength against the drop impact of the CRT by increasing the volume of the shadow mask without interfering the electron beam passing through the slot. In addition, by increasing the heat capacity of the shadow mask it is possible to reduce the dominant phenomenon of the shadow mask due to deterioration of the electron beam.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자 라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 것을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해서 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary and will be understood by those skilled in the art that various modifications and variations of the embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims

A plurality of strips parallel to each other at a predetermined interval on the thin plate; And a real bridge connecting the adjacent strips to form a slot through which an electron beam passes.

And a reinforcing part formed at the edge of the slot so as to widen the cross-sectional area of the strip and the cross-sectional area of the real bridge without interfering with the propagation of the electron beam passing through the slot.

The method of claim 1,

And the reinforcing part comprises a first reinforcing part formed on the electron beam exit side of the slot and a second reinforcing part formed on the incident side of the electron beam.

The method according to claim 1 or 2,

The reinforcing portion shadow mask for color cathode ray tube, characterized in that formed on the side that does not proceed electron beam.