KR20020035869A - Pressure sensitive adhesives for use with data storage devices - Google Patents

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KR20020035869A
KR20020035869A KR1020027003177A KR20027003177A KR20020035869A KR 20020035869 A KR20020035869 A KR 20020035869A KR 1020027003177 A KR1020027003177 A KR 1020027003177A KR 20027003177 A KR20027003177 A KR 20027003177A KR 20020035869 A KR20020035869 A KR 20020035869A
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양휴이민
다우닝제랄드티
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추후제출
브래디 월드와이드, 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 감압성 접착제(PSA)를 함유하는 컴퓨터 장치 성분에 보다 청결한 PSA를 사용하는 개선된 보다 청결한 컴퓨터 장치의 제조방법을 개시한다. 보다 청결한 PSA는 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및 하나 이상의 점착 수지를 포함한다. 특정 "청결한" 점착 수지와 조합된 수소화 스티렌-에틸렌 부틸렌-스티렌 또는 스티렌-에틸렌 프로필렌-스틸렌 블록 중합체는 액체 피복물로 배합되어 피복되고, 허용가능한 기판 위에서 적절히 건조된다. 이와 같이 제조된 성분은 디스크 드라이브에 사용되기에 이상적으로 적합하다. 기술된 방식으로 제조된 성분은 동일한 설계의 대부분 폴리 아크릴레이트 접착 성분에 비해 공업상 유해한 것으로 여겨지는 물질의 총 응집체 농도가 훨씬 낮다. 또한, 본 발명은 개시된 방법에 의해 제조된 컴퓨터 장치, 바람직하게는 컴퓨터 데이터 저장 장치를 개시한다.The present invention discloses a method of making a cleaner and more clean computer device that uses cleaner PSA for computer device components containing a pressure-sensitive adhesive (PSA). The cleaner PSA comprises at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and at least one adhesive resin. A hydrogenated styrene-ethylene butylene-styrene or styrene-ethylene propylene-styrene block polymer in combination with a specific " clean " adhesive resin is compounded with a liquid coating and covered appropriately on an acceptable substrate. The components thus produced are ideally suited for use in disk drives. The components produced in the manner described are much lower in total agglomerate concentration of the material that is considered industrially harmful compared to most polyacrylate adhesive components of the same design. The present invention also discloses a computer device, preferably a computer data storage device, made by the disclosed method.

Description

데이터 저장 장치에 사용하기 위한 감압성 접착제{PRESSURE SENSITIVE ADHESIVES FOR USE WITH DATA STORAGE DEVICES}[0001] PRESSURE SENSITIVE ADHESIVES FOR USE WITH DATA STORAGE DEVICES [0002]

컴퓨터 디스크 드라이브는 다양한 윤활제 및 접착제를 함유하는 표면 처리 합금, 플라스틱, 엘라스토머 및 세라믹 부품의 복합 조립체이다. 감압성 접착제(PSA)는 현재 컴퓨터 데이터 저장 장치의 밀봉재, 라벨, 완충재 등과 같은 각종 용도로 사용된다. PSA의 사용은 저장 장치의 단가를 낮추는 데에 효과적인 수단으로 인식되어 왔다. 전형적인 드라이브는 디스크 드라이브의 하우징을 함께 유지시킬 목적으로 PSA를 함유하는 성분, 예를 들어 테이프를 하나 이상 포함할 수 있다.Computer disk drives are composite assemblages of surface treated alloys, plastics, elastomers and ceramic components containing various lubricants and adhesives. Pressure sensitive adhesives (PSA) are currently used in various applications such as sealants, labels, cushioning materials and the like in computer data storage devices. The use of PSA has been recognized as an effective means of lowering the cost of storage devices. A typical drive may include one or more PSA containing components, e.g., tape, for the purpose of holding the housing of the disk drive together.

증가된 저장 용량의 디스크 드라이브에 대한 수요로 인해 고도의 접착제 오염 수준을 요구하는 제품이 설계되었다. 디스크 드라이브 성분의 성능 및 용량은 비적 높이를 감소시키는 것, 자기 저항 헤드 기술 및 의사-접촉 레코딩과 같은 신규한 디스크 드라이브 기술에 의해 개선되어 왔다. 그러나, 이러한 신규 기술을 사용하는 경우 환경적 요인에 의한 디스크 드라이브의 손상이 더욱 용이해졌다. 오염되거나 기체를 방출하는 경향이 있는 부품을 사용하여 드라이브를 구성하는 것은 점착/마모 문제, 및 열 어스퍼러티(thermal asperity)로부터의 전기적 오류 문제를 포함하는 기능상의 문제를 야기할 수 있다.Due to the demand for increased storage capacity disk drives, products have been designed that require a high level of adhesive contamination. The performance and capacity of disk drive components has been improved by new disc drive technologies such as reducing the height of the tracks, magnetoresistive head technology and pseudo-contact recording. However, when using this new technology, the damage of the disk drive due to environmental factors becomes easier. Constructing the drive with components that tend to be contaminated or emit gases can cause functional problems, including adhesion / wear problems, and electrical failure problems from thermal asperity.

PSA 물질의 청결도는 디스크 드라이브 기술자들에게 관심의 대상이 되어 왔다. 분진 입자, 표피 박편 및 수분과 같은 물리적 오염 물질은 PSA에 사용되는 물질에 의해 생길 수 있는 화학적 오염 물질과 함께 드라이브의 수명 또는 장치의 신뢰도에 영향을 줄 수 있다. 또한, 접착 물질은 디스크 및 판독 헤드 위에 오염 물질을 침착시킬 수 있고 판독 장애 또는 디스크 파괴를 야기할 수 있다.The cleanliness of PSA materials has been of interest to disk drive technicians. Physical contaminants such as dust particles, epidermal slices, and moisture can affect the lifetime of the drive or the reliability of the device, along with chemical contaminants that may be caused by the materials used in the PSA. In addition, the adhesive material can deposit contaminants on the disk and the read head and can cause read errors or disk failure.

특정 이온 및 유기 주석은 헤드 및 디스크에 특히 유해하다. 낮은 수준의 염소를 함유한 물질이라도 디스크 부식을 일으킬 수 있음이 규명된 바 있다. 중합을 일으킬 수 있는 유기 물질 또한 매우 낮은 수치이더라도 허용되지 않는다. 유기산, 무기 산, 유기 염기 또는 무기 염기는 저장 디스크의 민감층을 부식시킬 수 있다. 디스크 드라이브 공업에서 통상적으로 발견되는 전형적인 유형의 미세오염물은 점착을 야기할 수 있는 유기 오염물; 잔여 음이온(특히, 클로라이드 및 설페이트 이온)으로부터의 부식물; 점착을 야기할 수 있는 기체 방출물; 및 공기 부유 미립자를 포함한다.Certain ions and organotins are particularly harmful to the heads and discs. It has been found that even materials containing low levels of chlorine can cause disc corrosion. Organic materials that can cause polymerization are also not allowed even at very low levels. Organic acids, inorganic acids, organic bases or inorganic bases can corrode sensitive layers of the storage disk. Typical types of fine contaminants commonly found in the disk drive industry include organic contaminants that can cause adhesion; Corrosive substances from residual anions (especially chloride and sulfate ions); Gas emissions that may cause adhesion; And air suspended particulates.

폴리아크릴레이트계 PSA는 디스크 드라이브의 성분으로 광범위하게 사용되어 왔다. 그러나, 선택된 일부만이 사용가능하며; 전체적으로 만족스럽지 못하였다. 아크릴레이트의 초기 중합에 사용되는 개시제로부터 발생되는 화학적 부산물은 비교적 낮은 수준인 경우에도 디스크 드라이브에서 허용될 수 없다. 폴리아크릴레이트 PSA의 용해 및 피복에 사용되는 용매 및 불순물은 마무리 접착제 피복 후 완전히 건조되지 않는 경우에 문제가 될 수 있다. 대부분의 폴리아크릴레이트 감압성 접착제는 필요한 성능 특성을 제공하기 위해 화학적으로 가교결합되어야 한다. 그러나, 가교 결합을 위해 사용되는 화학 물질 또는 가교 결합으로부터 생성되는 부산물로서의 화학 물질은 허용될 수 없거나 허용 불가능한 수준이다. 폴리아크릴레이트 PSA 중의 미반응 단량체 및 불순물의 수준이 드라이브 고장을 일으키는 것으로 알려져 있다.Polyacrylate PSA has been widely used as a component of a disk drive. However, only selected portions are available; Overall, I was not satisfied. The chemical byproducts generated from initiators used in the initial polymerization of acrylates are not acceptable in disc drives even at relatively low levels. Solvents and impurities used in the dissolution and coating of the polyacrylate PSA can be a problem if they are not completely dried after the finish adhesive coating. Most polyacrylate pressure sensitive adhesives must be chemically crosslinked to provide the required performance characteristics. However, the chemicals used for crosslinking or chemicals as by-products resulting from crosslinking are at an unacceptable or unacceptable level. The levels of unreacted monomers and impurities in the polyacrylate PSA are known to cause drive failure.

디스크 드라이브 공업은 디스크 드라이브의 주위 환경에서 미세 오염 물질을 최소화하기 위하여 두 가지의 방법을 채택하고 있다. 첫번째 방법은 마무리된 디스크 드라이브 부품에서 미세 오염 물질을 제거하기 위해 다양한 세정 방법 중 한 가지를 채택하는 것이다. 전형적으로, 이러한 세정 방법은 수 세정, 용매 세정 또는 이산화탄소 세정이다. 이러한 세정 방법은 모두 나름대로의 이점 및 난점을 갖고 있다. 그러나, 어느 세정 방법도 모든 오염 물질을 제거할 수는 없다. 세정은 비율적인 제거 공정이고, 특정한 오염 물질을 목표로 한다. 오염 물질의 초기 수준이 높을수록 마무리된 제품에의 오염 물질의 최종 수준은 높아진다.The disk drive industry adopts two methods to minimize the micro pollutants in the environment of the disk drive. The first method employs one of a variety of cleaning methods to remove fine contaminants from the finished disk drive component. Typically, such a cleaning method is water cleaning, solvent cleaning or carbon dioxide cleaning. These cleaning methods all have their advantages and disadvantages. However, no cleaning method can remove all contaminants. Cleaning is a proportional removal process and targets specific contaminants. The higher the initial level of pollutant, the higher the final level of pollutant in the finished product.

디스크 드라이브 공업에 사용되는 두번째 방법은 더 적은 오염 물질을 함유하거나 생성하는 부품 및 공정을 사용하는 것이다. 이는 디스크 드라이브 공업의 성분 공급업체에 대하여 더욱 엄격한 세부 요건을 요구한다. 특정한 요건은 낮은 기체 방출물 수준 및 낮은 이온성 오염물 수준을 포함한다. 예를 들어, 기체 방출 물질을 위한 전형적인 한도는 2500 ng/cm2일 수 있고; 음이온의 한도는 최대 800 ng/cm2일 수 있다.A second method used in the disk drive industry is to use components and processes that contain or produce less pollutants. This requires more stringent requirements for component suppliers of the disk drive industry. Specific requirements include low gas emission levels and low ionic contaminant levels. For example, a typical limit for gas emissive material may be 2500 ng / cm 2 ; The limit of the anion may be up to 800 ng / cm 2 .

디스크 드라이브 공업의 미세 오염 물질에 대한 추가적인 설명은 피터 미(Peter Mee) 등의 문헌[Management of Disk drive Component Microcontamination, IDEMAR(등록상표) Insite, Vol. Ⅸ, No. 2(1997년 3월/4월)]에 개시되어 있다.Further descriptions of the micro-contaminants of the disk drive industry can be found in Peter Mee et al., Management of Disk Drive Component Microcontamination , IDEMA R (InSite), Vol. IX, No. 2 (March / April 1997).

본 발명은 컴퓨터 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 컴퓨터 장치에 사용하기 위한 감압성 접착제 및 보다 청결한 데이터 저장 장치와 같은 컴퓨터 장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a computer apparatus. More particularly, the present invention relates to a method of making a computer device, such as a pressure sensitive adhesive and a cleaner data storage device, for use in a computer device.

접착제 공업 분야에서 폴리아크릴레이트 접착제에 대한 디스크 드라이브 기술자의 요건을 만족시키는데 어려움이 있었다. 본 발명은 디스크 드라이브 주변에 보다 낮은 수준의 미세 오염 물질이 존재하도록 컴퓨터 장치를 제조하는 방법에 관한 것이다.There has been a difficulty in meeting the requirements of disk drive technicians for polyacrylate adhesives in the adhesive industry. The present invention relates to a method of manufacturing a computer device such that there is a lower level of fine contamination around the disk drive.

특정 "청결한" 또는 "청결가능한" 점착 수지와 결합된 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 중합체는 액상 피복물 내로 배합되고, 허용가능한 기판 위에 피복되고 적당히 건조된다. 이와 같이 제조된 성분, 예를 들어 테이프, 라벨, 밀봉재 등은 디스크드라이브에 사용하기에 이상적으로 적합하다. 상기 방식으로 제조된 성분은 동일하게 설계된 대부분의 폴리 아크릴레이트 접착 성분과 비교시 공업상 유해한 것으로 여겨지는 총 응집체 농도가 훨씬 낮다.A hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block polymer in combination with a particular "clean" or "cleanable" adhesive resin is compounded into a liquid coating, . The components thus produced, such as tapes, labels, encapsulants, etc., are ideally suited for use in disk drives. The components prepared in this manner have a much lower total aggregate concentration that is considered to be industrially harmful compared to most similarly designed polyacrylate adhesive components.

한 양태에서, 본 발명은 PSA를 함유하는 성분을 하나 이상 포함하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법을 포함하며, 상기 방법은,In one aspect, the invention includes an improved method of making a computer device comprising at least one component containing a PSA,

A. 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및A. at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and

B. 하나 이상의 점착 수지를 포함하는 개선된 PSA를 PSA 함유 성분에 적용하는 것을 포함한다.B. applying an improved PSA comprising at least one adhesive resin to the PSA containing component.

또다른 양태에서, 본 발명은In another aspect,

A. 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및A. at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and

B. 하나 이상의 점착 수지를 포함하는 PSA 함유 성분을 하나 이상 포함하는 컴퓨터 장치를 포함한다.B. A computer device comprising at least one PSA containing component comprising at least one adhesive resin.

"블록 공중합체"라 함은 하나의 사슬에 서로 교호하도록 화학적 원자가에 의해 결합된 둘 이상의 단량체 단위의 장쇄분지를 함유하는 중합체를 의미한다. "디블록 공중합체"는 A-B의 일반적인 구조를 갖는 블록 공중합체이고, 여기서 A는 제 1 공중합체의 장쇄분지이고 B는 제 2 공중합체의 장쇄분지이다. "트리블록 공중합체"는 A-B-A의 일반적인 구조를 갖는 블록 공중합체이고, 여기서 A는 제 1 공중합체의 장쇄분지이고 B는 제 2 공중합체의 장쇄분지이다.&Quot; Block copolymer " means a polymer containing a long chain branch of two or more monomeric units bonded by a chemical valence to alternate with one another in a chain. "Diblock copolymer" is a block copolymer having the general structure of A-B, where A is the long chain branch of the first copolymer and B is the long chain branch of the second copolymer. &Quot; Triblock copolymer " is a block copolymer having the general structure of A-B-A, wherein A is the long chain branch of the first copolymer and B is the long chain branch of the second copolymer.

"점착 수지"는 고무 또는 엘라스토머에 첨가되는 경우 생성되는 조성물이 감압성 접착제의 특성을 갖는 수지이다. "감압성 접착제"는 2개의 물질에 압력이 가해지는 경우 즉시 결합을 형성하는 영구적이고 응집성 점착(접착) 고체이다. 감압성 접착제에서, "점착성"이란 접착제가 작은 압력하에서 접촉되는 경우에도 표면에 견고하게 부착하는 특성을 의미한다. 결합 강도는 압력이 증가하면 더욱 커질 것이고, 이에 따라 감압성이란 용어가 정의된다. 점착성은 짧은 시간 동안 가벼운 부하하에서 신속하게 접촉된 직후에 계면에서 부착물과 접착제를 분리시키는데 요구되는 힘으로 평가된다. 점착성은 ASTM D-2979 과정을 사용하여 측정될 수 있다.The " adhesive resin " is a resin having properties of a pressure-sensitive adhesive when the composition is added to a rubber or an elastomer. A " pressure sensitive adhesive " is a permanent, cohesive, tacky (adhesive) solid that forms a bond immediately upon application of pressure to the two materials. In the pressure-sensitive adhesive, " tacky " means a property of firmly adhering to the surface even when the adhesive is contacted under a small pressure. The bond strength will become even greater as the pressure increases, thereby defining the term pressure-reducing. Tackiness is assessed as the force required to separate the adhesive from the adhesive at the interface immediately after being quickly contacted under light load for a short time. Tackiness can be measured using the ASTM D-2979 procedure.

"탄화수소 수지"는 수백 내지 6,000 또는 8,000의 분자량을 갖는 수지이고, 석유, 석탄, 타르, 테레빈유 등과 같은 기본적인 탄화수소성 물질로부터 얻어지거나 합성된다.&Quot; Hydrocarbon resin " is a resin having a molecular weight of several hundreds to 6,000 or 8,000 and is obtained or synthesized from basic hydrocarbonaceous materials such as petroleum, coal, tar, turpentine oil, and the like.

개선된 컴퓨터 장치는 이하 기술되는 접착제를 하나 이상 제조하고 컴퓨터 장치의 성분 중 하나 이상에 접착제를 부착함으로써 제조된다. 바람직하게는, 상기 성분은 컴퓨터 장치의 하나 이상의 성분을 봉인하거나 확인하는데 사용되는 필름, 테이프 또는 라벨이다. 컴퓨터 장치는 바람직하게는 디스크 드라이브 또는 기타 데이터 저장 장치이다.An improved computer device is made by manufacturing one or more of the adhesives described below and attaching the adhesive to one or more of the components of the computer device. Preferably, the component is a film, tape, or label used to seal or identify one or more components of a computer device. The computer device is preferably a disk drive or other data storage device.

접착제glue

본 발명에 사용되는 접착제는 접착제의 전체 중량을 기준으로, 약 10 중량% 이상, 바람직하게는 약 40 중량% 이상 내지 약 90 중량% 이하, 바람직하게는 약 75 중량% 이하의 블록 공중합체, 및 약 10 중량% 이상, 바람직하게는 약 25 중량% 이상 내지 약 90 중량% 이하, 바람직하게는 약 60 중량% 이하의 점착 수지를 포함한다.The adhesive used in the present invention comprises at least about 10% by weight, preferably at least about 40% by weight and up to about 90% by weight, preferably up to about 75% by weight, of a block copolymer, based on the total weight of the adhesive, More preferably at least about 10 weight percent, and preferably at least about 25 weight percent to about 90 weight percent, and preferably no more than about 60 weight percent.

블록 공중합체Block copolymer

본 발명의 조성물에는 미국 특허 제 3,239,478 호 및 제 3,917,607 호(둘다 본원에 참고로 인용되어 있음)에 상세하게 기술된 조성물을 포함하는 익히 공지되어 있는 다양한 블록 공중합체가 포함될 수 있다. 이러한 구체적인 블록 공중합체는 전형적으로 A-B-A 또는 A-B-A-B의 일반적인 배열을 취하고, 여기서 일반적으로 말단 블록으로서 특성화되는 각각의 블록 "A"는 스티렌, α-메틸-스티렌, 3급-부틸-스티렌 및 비닐-톨루엔과 같은 모노-알케닐-아렌의 중합에 의해 제조된 열가소성 중합체 블록이다.The compositions of the present invention may include various well known block copolymers, including those described in detail in U.S. Patent Nos. 3,239,478 and 3,917,607, both of which are incorporated herein by reference. Such specific block copolymers typically take the general configuration of ABA or ABAB, wherein each block " A ", which is generally characterized as an end block, is selected from the group consisting of styrene, alpha -methyl-styrene, ≪ RTI ID = 0.0 > mono-alkenyl-allene < / RTI >

특징적으로 "중간 블록"으로서 규정되는 엘라스토머 "B" 블록은 미리 합성된 말단 블록의 말단으로부터 부타디엔 또는 이소프렌과 같은 공액 디엔의 중합체 사슬을 전달시킴으로써 제조된다. 그 다음, 순차적인 단량체 첨가 또는 커플링제를 사용함으로써, 원하는 블록 공중합체인 A-B-A 또는 A-B-A-B가 생성된다. A-B-A 또는 A-B-A-B의 블록 공중합체가 수소화되는 경우, 포화 중간 블록이 생성될 것이다. 공지된 과정을 통해 제조되는 이러한 블록 공중합체는 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체(SBS), 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체(SIS), 스티렌-에틸렌 부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SEBS), 스티렌-에틸렌 프로필렌-스티렌(SEPS) 및 메틸스티렌-에틸렌 프로필렌-a-메틸스티렌을 포함한다. 이러한 블록 공중합체의 전형적인 분자량은 약 10,000 내지 약 500,000(수 평균 분자량으로 표현됨)이다.An elastomeric " B " block, characteristically defined as an "intermediate block," is prepared by transferring a polymer chain of conjugated diene such as butadiene or isoprene from the end of a previously synthesized end block. Then, by using a sequential monomer addition or coupling agent, the desired block copolymer A-B-A or A-B-A-B is produced. When the block copolymer of A-B-A or A-B-A-B is hydrogenated, a saturated midblock will be produced. These block copolymers, which are prepared through known processes, can be prepared by copolymerizing styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), styrene- Styrene-ethylene propylene-styrene (SEPS) and methyl styrene-ethylene propylene-a-methyl styrene. Typical molecular weights of such block copolymers are from about 10,000 to about 500,000 (expressed as number average molecular weight).

바람직하게는, 본 발명의 블록 공중합체는 수소화 블록 공중합체이다. 수소화는 컴퓨터 장치 성분에서 중합하여 기체 방출 물질을 생성할 수 있는 잠재적인 기체 방출 물질에서 2중 또는 3중 결합의 수를 최소화시킨다. 이러한 중합은 컴퓨터 데이터 저장 장치에서 데이터의 기록, 저장 또는 판독을 방해할 수 있다.Preferably, the block copolymer of the present invention is a hydrogenated block copolymer. Hydrogenation minimizes the number of double or triple bonds in a potential gas-releasing material that can polymerize in a computer device component to produce a gas-releasing material. Such polymerization can interfere with the recording, storing or reading of data in a computer data storage device.

수소화 블록 공중합체는 바람직하게는 폴리스티렌과 폴리디엔의 블록 공중합체(폴리부타디엔 또는 폴리이소프렌의 불포화 중간 블록은 수소화되어 포화 중간 블록을 수득한다)이며, 상기 폴리디엔은 전형적으로 폴리부타디엔 및 폴리이소프렌으로 구성된 군으로부터 선택된다. 수소화 블록 공중합체의 포화 중간 블록은 폴리(에틸렌-프로필렌), 폴리(에틸렌-부틸렌) 또는 둘 모두의 구조를 갖는다.The hydrogenated block copolymers are preferably block copolymers of polystyrene and polydiene (the unsaturated midblock of polybutadiene or polyisoprene is hydrogenated to yield a saturated midblock), which is typically a polybutadiene and a polyisoprene Lt; / RTI > The saturated midblock of the hydrogenated block copolymer has a structure of poly (ethylene-propylene), poly (ethylene-butylene), or both.

보다 바람직하게는, 본 발명의 블록 공중합체는 스티렌 말단 블록 및 수소화 부타디엔 및/또는 수소화 폴리이소프렌 중간 블록을 포함한다. 이러한 블록 공중합체는 또한 미국 특허 제 4,136,699 호; 제 4,361,672 호; 제 4,460,364 호; 제 4,714,749 호 및 제 5,459,193 호(모두 본원에 참고로 인용되어 있음)에 개시되어 있고, 쉘 케미칼 컴파니(Shell Chemical Company)에 의해 출판된 문헌[KRATONR Thermoplastic Rubbers)에 개시되어 있다.More preferably, the block copolymers of the present invention comprise styrene end blocks and hydrogenated butadiene and / or hydrogenated polyisoprene intermediate blocks. Such block copolymers are also described in U.S. Patent Nos. 4,136,699; 4,361,672; 4,460, 364; 4,714,749 and 5,459,193, all of which are incorporated herein by reference, and disclosed in KRATON R Thermoplastic Rubbers , published by Shell Chemical Company.

가장 바람직하게는, 블록 공중합체는 10,000 내지 30,000의 수 평균 분자량을 갖는 스티렌의 말단 블록을 갖고, 중간 블록은 약 125,000의 수 평균 분자량을 갖는 수소화 폴리이소프렌의 블록이다. 이러한 수소화 블록 공중합체는 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌(SEPS) 공중합체로서 공지되어 있다. 이러한 블록 공중합체는 상표 KRATONRG의 쉘 케미칼 컴파니에서 구입 가능하다.Most preferably, the block copolymer has a terminal block of styrene having a number average molecular weight of 10,000 to 30,000, and the middle block is a block of hydrogenated polyisoprene having a number average molecular weight of about 125,000. Such hydrogenated block copolymers are known as styrene-ethylene-propylene-styrene (SEPS) copolymers. Such block copolymers are available from Shell Chemical Company of the KRATON R G trademark.

KRATONRG 수소화 블록 공중합체는 약 25,000 내지 약 300,000의 수 평균 분자량(겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정됨)을 갖는다. KRATONRG 중합체 중에서, 가장 바람직한 것은 KRATONRG1650, KRATONRG1652, KRATONRG1654, KRATONRG1657 및 KRATONRG1730 또는 이들의 조합물이다. KRATONRG 중합체에 대한 보다 많은 정보는 쉘 케미칼 컴파니에서 구입 가능한 문헌[Polymer for Adhesives and Sealants KRATON R G 중합체]에 개시되어 있다.KRATON R G hydrogenated block copolymers have a number average molecular weight (measured by gel permeation chromatography (GPC)) of from about 25,000 to about 300,000. KRATON G polymers from R, and most preferably R G1650 KRATON, KRATON G1652 R, R KRATON G1654, KRATON G1657 and KRATON R R G1730, or combinations thereof. More information about KRATON R G polymers is disclosed in Polymer for Adhesives and Sealants KRATON R G Polymers available from Shell Chemical Company.

본 발명의 한 양태에서, 블록 공중합체는 "청결한 블록 공중합체"이다. 청결한 블록 공중합체는 개질된 EPA 방법 300.0 개정 2.1(이후에 기술됨)로 측정시 200 ng/cm2이하, 바람직하게는 100 ng/cm2이하, 보다 바람직하게는 50 ng/cm2이하의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 200 ng/cm2미만, 바람직하게는 약 100 ng/cm2미만, 보다 바람직하게는 약 50 ng/cm2미만의 암모늄을 함유한다. 또한, 점착 수지와 조합된 청결한 블록 공중합체는 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)로 측정시 1500 ng/cm2미만을 기체 방출한다.In one aspect of the invention, the block copolymer is a " clean block copolymer ". The clean block copolymer has a combination of not more than 200 ng / cm 2 , preferably not more than 100 ng / cm 2 , more preferably not more than 50 ng / cm 2 as measured by the modified EPA method 300.0 Revision 2.1 (described hereinafter) a bromide, chloride, nitrate, nitrite, phosphate, and sulfate anions, and from about 200 ng / cm 2 or less, preferably less than about 100 ng / cm 2, more preferably ammonium less than about 50 ng / cm 2 . In addition, a clean block copolymer in combination with an adhesive resin releases less than 1500 ng / cm 2 of gas when measured with a modified IDEMA M11-98 (described below).

본 발명의 또다른 양태에서, 블록 공중합체는 "청결가능한 블록 공중합체"이다. 청결가능한 공중합체는 청결한 블록 공중합체보다 많은 기체 방출성 오염 물질 및 음이온을 함유하지만, 기체 방출성 오염 물질 및 음이온은 이들의 잔여 수준이 청결한 블록 공중합체에서의 수준보다 크지 않도록 제거 수단을 통하여 실질적으로 제거될 수 있다. 제거 수단은 초고온 건조, 분무 건조, 수세정, 용매 세정 또는 CO2세정을 포함할 수 있다. 실용상의 이유로, 이온 제거에 바람직한 수단은 수세정이다.In another embodiment of the present invention, the block copolymer is a " cleanable block copolymer ". The cleanable copolymer contains more gas-releasing contaminants and anions than the clean block copolymer, but the gas-releasing contaminants and anions are substantially < RTI ID = 0.0 > As shown in FIG. The removal means may comprise ultra-high temperature drying, spray drying, water washing, solvent washing or CO 2 cleaning. For practical reasons, a preferred means for ion removal is water rinsing.

점착 수지Adhesive resin

본 발명의 점착 수지는 엘라스토머 블록 또는 중간 블록과 우세하게 결합하고, 비-엘라스토머 또는 말단 블록과는 실질적으로 비상용성인 수지이다. 중간 블록과 결합하는 수지는, 특정한 중간 블록과 결합하는 수지가 블록 공중합체의 중간 블록 100부와 조합되고 톨루엔 중의 용액으로 주조되는 경우 약 100 내지 약 200 중량부 이상의 중간 블록과 결합하는 수지가 투명 필름을 나타낸다는 점에서 중간 블록과 상용성이다.The adhesive resin of the present invention is a resin that predominantly binds to an elastomeric block or an intermediate block and is substantially non-compatible with the non-elastomeric or terminal block. The resin that binds to the intermediate block is such that when the resin that binds to a particular intermediate block is combined with 100 parts of the middle block of the block copolymer and is cast into solution in toluene, It is compatible with the intermediate block in that it represents a film.

본 발명의 한 양태에서, 본 발명에서 유용한 점착 수지는 "청결"해야 한다. "청결한 점착 수지"는 개질된 EPA 방법 300.0 개정 2.1(이후에 기술됨)로 측정시 약 200 ng/cm2이하, 바람직하게는 약 100 ng/cm2이하, 보다 바람직하게는 약 50 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 200 ng/cm2미만, 바람직하게는 약100 ng/cm2미만, 보다 바람직하게는 약 50 ng/cm2미만으로 암모늄을 함유한다. 추가로, 상기 블록 공중합체와 조합된 청결한 점착 수지는 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)로 측정시 1500 ng/cm2미만으로 기체 방출한다.In one aspect of the invention, the tackifier resin useful in the present invention must be " clean ". The " clean adhesive resin " is about 200 ng / cm 2 or less, preferably about 100 ng / cm 2 or less, more preferably about 50 ng / cm 2 or less as measured by Modified EPA Method 300.0 Revision 2.1 And less than about 200 ng / cm 2 , preferably less than about 100 ng / cm 2 , more preferably less than about 50 ng / cm 2 , and most preferably less than about 2 ng / cm 2 of the combined bromide, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, phosphate and sulfate anions. / cm < 2 >. In addition, the clean adhesive resin in combination with the block copolymer releases gas at less than 1500 ng / cm 2 as measured by modified IDEMA M11-98 (described below).

본 발명의 또다른 양태에서, 점착 수지는 "청결가능한 점착 수지"이다. 청결가능한 점착 수지는 청결한 점착 수지보다 더 많은 기체 방출성 오염 물질 및 음이온을 함유하지만, 오염 물질은 잔여 오염 물질의 수준이 청결한 점착 수지에서의 수준보다 크지 않도록 제거 수단을 통하여 실질적으로 제거될 수 있다. 제거 수단은 초고온 건조, 분무 건조, 수세정, 용매 세정 또는 CO2세정을 포함할 수 있다. 실용상의 이유로 이온 제거에 바람직한 수단은 수세정이다.In another embodiment of the present invention, the adhesive resin is a " cleanable adhesive resin ". The cleanable adhesive resin contains more gas-releasing contaminants and anions than the clean adhesive resin, but the contaminants can be substantially removed through the removal means so that the level of residual contaminants is not greater than the level in the clean adhesive resin . The removal means may comprise ultra-high temperature drying, spray drying, water washing, solvent washing or CO 2 cleaning. For practical reasons, a preferred means for ion removal is water rinsing.

본 발명에서 유용할 수 있는 점착 수지의 예는 송진의 폴리하이드릭 에스테르 또는 수소화 송진 에스테르, 예를 들면 수소화 송진 및 매우 안정화된 송진의 글리세롤 및 펜타에리트리톨 에스테르, 합성 폴리테르펜, 테르펜-올레핀 공중합체, 테르펜-페놀, 톨오일 송진(tall oil rosin), 합성 포화 탄화수소 수지, 예를 들면 포화 지환족 탄화수, 올레핀 수지, 방향족 함유 수지, 페놀-알데하이드 수지, α-피넨 수지, β-피넨 수지, 테르펜-페놀 수지, 및 1,3-펜타디엔 및 2-메틸-2-부텐과 같은 공중합체, 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 점착 수지의 다른 예는 미국 특허 제 4,361,663 호 및 제 4,399,249 호(둘다 본원에 참고로 인용되어 있음); 및 미국 특허 제 4,136,699 호 및 제 4,361,672 호; 제 4,714,749 호; 및 제 5,459,193 호에 개시되어 있다.Examples of adhesive resins that may be useful in the present invention include polyhydric esters or hydrogenated rosin esters of rosin, such as glycerol and pentaerythritol esters of hydrogenated rosin and highly stabilized rosin, synthetic polyterpenes, terpene-olefin copolymers , Terpene-phenol, tall oil rosin, synthetic saturated hydrocarbon resins such as saturated alicyclic hydrocarbon, olefin resin, aromatic containing resin, phenol-aldehyde resin,? -Pinene resin,? -Pinene resin, Terpene-phenolic resins, and copolymers such as 1,3-pentadiene and 2-methyl-2-butene, or mixtures thereof. Other examples of adhesive resins are described in U.S. Patent Nos. 4,361,663 and 4,399,249, both of which are incorporated herein by reference; And U.S. Patent Nos. 4,136,699 and 4,361,672; 4,714,749; And 5,459,193.

본 발명의 바람직한 점착 수지는 "탄화수소 수지"로 공지된 유형이다. 탄화수소 수지에 대해서는 키르크-오트머(Kirk-Othmer)의 문헌[Encyclopedia of Chemical Technology, 2nd Edition, Vol. 11, Interscience, New York, 1966, p.242]에서 상세하게 설명되어 있다. 최근 시판되고 있는 탄화수소 수지중 다수는 테르펜 수지 즉, (반복적인)이소프렌(C5H8) 또는 C10H16단위의 중합체이다. 상기 중합체는 천연 상태이거나 합성된 물질일 수 있고, 이소프렌은 다른 올레핀과 공중합될 수 있는 올레핀이므로 상기 중합체는 공중합체(삼원중합체 등을 포함한다)일 수 있다. 테르펜-페놀이 또한 생성된다.A preferred adhesive resin of the present invention is of the type known as " hydrocarbon resin ". For hydrocarbon resins, see Kirk-Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology, 2nd Edition, Vol. 11, Interscience, New York, 1966, p. 242). Many of the hydrocarbon resins currently on the market are terpene resins, i.e. (repeated) isoprene (C 5 H 8 ) or C 10 H 16 units of polymer. The polymer may be a natural or synthetic material, and isoprene is an olefin copolymerizable with other olefins, so the polymer may be a copolymer (including a terpolymer or the like). Terpene-phenol is also produced.

본 발명의 방향족 함유 수지 조성물을 형성하는데 유용한 방향족 단량체는 실질적인 방향족 특성 및 중합성 불포화 그룹을 함유한 임의의 단량제로부터 제조될 수 있다. 이러한 방향족 단량체의 전형적인 예는 스티렌계 단량체, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐 톨루엔, 메톡시 스티렌, 3급 부틸 스티렌, 클로로스티렌 등; 인덴, 메틸 인덴 및 그 밖의 다른 물질을 포함하는 인덴 단량체를 포함한다. 지방족 단량체는 전형적으로 추가로 다양한 실질적인 방향족 고리 치환체를 추가로 함유할 수 있는 C6및 C5사이클로헥실 또는 사이클로펜틸 포화 그룹을 함유하는 천연 및 합성 테르펜이다.The aromatic monomers useful for forming the aromatic containing resin composition of the present invention may be prepared from any monomers containing substantial aromatic character and polymerizable unsaturated groups. Typical examples of such aromatic monomers are styrene-based monomers such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, methoxystyrene, tertiary butylstyrene, chlorostyrene and the like; And indene monomers including indene, methyl indene, and other materials. The aliphatic monomers are typically natural and synthetic terpenes containing C 6 and C 5 cyclohexyl or cyclopentyl saturated groups which may additionally contain a variety of further substantial aromatic ring substituents.

지방족 점착 수지는 생성된 수지가 지방족 특성을 나타내도록 충분한 지방족 단량체를 함유하는 공급 스트림을 중합함으로써 제조될 수 있다. 공급 스트림은 1,3-부타디엔, 시스-1,3-펜타디엔, 트랜스-1,3-펜타디엔, 2-메틸-1,3-부타디엔, 2-메틸-2-부텐, 사이클로펜타디엔, 디사이클로펜타디엔, 테르펜 단량체, 테르펜 페놀계 수지 및 그 밖의 물질과 같은 다른 지방족 불포화 단량체를 함유할 수 있다. 혼합된 지방족 방향족 수지는 충분한 방향족 단량체 및 충분한 지방족 단량체를 함유하여 지방족 및 방향족 특성을 모두 갖는 수지를 생성한다. 데이비스(Davis)의 문헌["The Chemistry of C5Resins"]에서는 합성 C5수지 기술을 논의하고 있다. 바람직한 점착제는 수소화 C5내지 C12수지, 바람직하게는 C9수지이다.The aliphatic tackifier resin may be prepared by polymerizing a feed stream containing sufficient aliphatic monomers so that the resulting resin exhibits aliphatic properties. The feed stream can be selected from the group consisting of 1,3-butadiene, cis-1,3-pentadiene, trans-1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, Other aliphatic unsaturated monomers such as cyclopentadiene, terpene monomers, terpene phenolic resins and other materials. Mixed aliphatic aromatic resins contain sufficient aromatic monomers and sufficient aliphatic monomers to produce resins having both aliphatic and aromatic properties. Davis " The Chemistry of C 5 Resins " discuss synthetic C 5 resin technology. A preferred tackifier is a hydrogenated C 5 to C 12 resin, preferably a C 9 resin.

유용한 지방족 수지의 대표적인 예는 수소화 합성 C9수지, 합성 분지 및 비분지 C5수지 및 이들의 혼합물을 포함한다.Representative examples of useful aliphatic resins include hydrogenated synthetic C 9 resins, synthetic branches and unbranched C 5 resins and mixtures thereof.

방향족 점착 수지의 대표적인 예는 스티렌화 테르펜 수지, 스티렌화 C5수지 또는 이들의 혼합물이다.Representative examples of aromatic adhesive resins are styrenated terpene resins, styrenated C 5 resins, or mixtures thereof.

바람직하게는, 점착 수지는 순수한 단량체 탄화수소 공급 원료(탄화수소 단량체는 탄소수가 약 5 또는 약 9이다)의 중합 및 수소화에 의하여 유도된다. 이러한 탄화수소 수지는 매우 안정하고 연하게 착색되는 낮은 분자량의 무극성 수지이고, 플라스틱, 접착제, 피복물, 밀봉재 및 코크의 용도로 제안된다. 수소화는 컴퓨터 장치 성분에서 중합하는 기체 방출 물질을 생성할 수 있는 잠재적인 기체 방출 물질에서 2중 또는 3중 결합의 존재를 최소화시킨다. 이러한 중합은 컴퓨터 데이터 저장 장치의 기록, 저장 또는 판독을 방해할 수 있다.Preferably, the tackifier resin is derived by polymerization and hydrogenation of the pure monomeric hydrocarbon feedstock (the hydrocarbon monomers have a carbon number of about 5 or about 9). Such hydrocarbon resins are low molecular weight nonpolar resins that are very stable and softly colored and are proposed for use as plastics, adhesives, coatings, sealants and coke. Hydrogenation minimizes the presence of double or triple bonds in potential gas-releasing materials capable of producing gas-releasing materials that polymerize in the computer device components. Such polymerization can interfere with the recording, storing or reading of computer data storage devices.

보다 바람직하게는, 본 발명의 점착 수지는 헤라클레스인코포레이티드(Hercules Incorporated)로부터 REGALREZR로 시판된 저분자량 무극성 탄화수소 수지이다. 가장 바람직하게는, 점착 수지는 하나 이상의 REGALREZR1018, REGALREZR1085, REGALREZR1094 및 REGALREZR1126이다.More preferably, the adhesive resin of the present invention is a low molecular weight non-polar hydrocarbon resin sold under the REGALREZ R from (Hercules Incorporated) Hercules, Inc.. Most preferably, the tackifying resin is at least one REGALREZ R 1018, REGALREZ R 1085, REGALREZ R 1094, and REGALREZ R 1126.

임의 성분Optional ingredient

본 발명의 PSA는 당해 분야에 공지된 다른 성분을 선택적으로 포함할 수 있다. 이러한 성분은 가소화 오일, 수지 개질제 및 산화방지제를 포함할 수 있다.The PSA of the present invention may optionally comprise other components known in the art. These components may include plasticizing oils, resin modifiers, and antioxidants.

신장 오일(extending oil)로도 알려진 "가소화 오일"은 고분자 중합체에 첨가되어 중합체 분자의 내부 변형(용매화)에 의해 가공을 용이하게 하고 최종 생성물의 가요성 및 강인성을 증가시키는 유기 화합물이다. 최종 생성물의 가요성 및 강인성의 증가는 2차 원자가 결합에 의해 함께 유지되는데 가소화 오일은 이중 일부를 가소화 오일 대 중합체 결합으로 대체하여 중합체 쇄 단편의 이동을 돕는다. 보다 중요한 가소화 오일 중에 비휘발성 유기 액체 및 저용융 고체(예를 들어, 프탈레이트, 아디페이트 및 세바케이트 에스테르, 폴리올, 예를 들면 에틸렌 글리콜 및 그의 유도체, 트리크레실 포스페이트, 피마자유 등)이다.&Quot; Plasticizing oil ", also known as extending oil, is an organic compound that is added to a polymeric polymer to facilitate processing by internal modification (solvation) of the polymeric molecule and to increase the flexibility and toughness of the final product. The increase in flexibility and toughness of the final product is maintained together by secondary valence bonding, wherein the plasticizing oil replaces some of the plasticized oil to polymer linkage to assist in the movement of the polymer chain fragments. Among the more important plasticizing oils are nonvolatile organic liquids and low melting solids (e.g., phthalates, adipates and sebacate esters, polyols such as ethylene glycol and its derivatives, tricresyl phosphate, castor oil, etc.).

이러한 임의 성분은 바람직하지 않은 이온을 함유하고/하거나 PSA로부터의 기체 방출을 일으킨다는 점에서 "더러워지는" 경향이 있다. 특히, 산화방지제는 디스크 드라이브 시스템 속으로 기체 방출되는 경우 유해할 수 있다. 따라서, 본 발명의 최근의 바람직한 양태는 이러한 선택적인 성분을 함유하지 않는다. 그러나, 본 발명은 이러한 성분을 함유한 PSA가 개질된 EPA 방법 300.0 개정 2.1(이후에 기술됨)을 통해 측정시 약 200 ng/cm2이하, 바람직하게는 약 100 ng/cm2미만, 보다 바람직하게는 약 50 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 200 ng/cm2미만, 바람직하게는 약 100 ng/cm2미만, 보다 바람직하게는 약 50 ng/cm2미만의 암모늄을 함유하는 수준으로 상기 성분의 사용을 고려한다. 추가로, 이러한 PSA는 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)을 통해 측정시 1500 ng/cm2미만으로 기체 방출한다.These optional components tend to be " dirty " in that they contain undesirable ions and / or cause gas release from the PSA. In particular, antioxidants may be harmful if released into the disk drive system. Thus, the presently preferred embodiment of the present invention does not contain such an optional component. However, the present invention contemplates that the PSA containing such components is less than about 200 ng / cm 2 , preferably less than about 100 ng / cm 2 , more preferably less than about 100 ng / cm 2 , as measured through modified EPA Method 300.0 Revision 2.1 Advantageously a combination of bromide and less than about 50 ng / cm 2, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, phosphate, and sulfate anions, and from about 200 ng / cm 2 or less, preferably less than 2 from about 100 ng / cm, More preferably less than about 50 ng / cm < 2 > of ammonium. In addition, such PSAs release less than 1500 ng / cm < 2 > of gas when measured through the modified IDEMA M11-98 (described below).

PSA의 형성방법How to form PSA

수소화 블록 공중합체와 점착 수지의 PSA 조성물은 미국 특허 제 4,361,672 호에 개시된 기술과 같이 당해 분야에서 잘 알려진 기술을 통해 형성될 수 있다. 적합한 PSA의 형성방법의 예는 (ⅰ) 고온 이중 롤 밀에서의 배합; (ⅱ) 블록 공중합체 및 점착 수지의 용융 및 용융 성분이 균일해질 때까지 혼합; (ⅲ) 플라스틱 및 엘라스토머 공업에서 사용되는 다른 방법, 예를 들어 고전단 강도 혼합, 이축 스크류 압출 또는 탠덤 압출 기술; 및 (ⅳ) 톨루엔 및 헵탄과 같은 적합한 유기 혼합물을 용해시키고 균일한 용액을 형성시켜 이것을 용매가 증발하기 전 기판 위에 피복시키는 단계를 포함한다.PSA compositions of hydrogenated block copolymers and adhesive resins can be formed through techniques well known in the art, such as those described in U.S. Patent No. 4,361,672. Examples of suitable methods of forming PSA include (i) blending in a high temperature dual roll mill; (Ii) mixing until the melting and melting components of the block copolymer and the pressure-sensitive adhesive resin become uniform; (Iii) other methods used in the plastics and elastomer industries, such as high shear strength mixing, biaxial screw extrusion or tandem extrusion techniques; And (iv) dissolving a suitable organic mixture such as toluene and heptane and forming a homogeneous solution, which is then coated onto the substrate before the solvent evaporates.

고온 용융 배합(상기 (ⅰ) 내지 (ⅲ)의 방법)은 본 발명에서 선호되는 양태가 아니다. 상기 방법에서 가열은 PSA의 성분을 분해시킬 수 있고, 그로 인하여PSA로부터 잠재적으로 기체 방출할 수 있는 물질이 더 많이 생성된다. 그러나, 본 발명은 생성된 PSA가 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)로 측정시 1500 ng/cm2미만을 기체 방출하는 방법의 사용을 고려한다.High temperature melt blending (methods (i) to (iii) above) are not preferred embodiments of the present invention. In the process, heating can decompose the components of the PSA, thereby producing more material that is potentially capable of releasing gas from the PSA. However, the present invention contemplates the use of a process wherein the resulting PSA releases less than 1500 ng / cm 2 of gas when measured with a modified IDEMA M11-98 (described hereinafter).

바람직하게는, 본 발명의 PSA는 적합한 유기 용매에서 혼합물을 용해시켜 균일한 용액을 형성하고 이 용액을 용매가 증발하기 전에 컴퓨터 장치의 성분 위에 피복시킴으로써 형성된다. 바람직하게는, 이러한 용액은 용액의 전체 중량을 기준으로 약 10 중량% 미만, 보다 바람직하게는 약 20 중량% 미만, 가장 바람직하게는 약 30 중량% 내지 바람직하게는 약 80 중량% 이하, 보다 바람직하게는 약 60 중량% 이하, 가장 바람직하게는 약 50 중량% 이하의 고체를 함유한다.Preferably, the PSA of the present invention is formed by dissolving the mixture in a suitable organic solvent to form a homogeneous solution and coating the solution onto the components of the computer apparatus before the solvent evaporates. Preferably, such a solution is present in an amount of less than about 10% by weight, more preferably less than about 20% by weight, most preferably from about 30% by weight to preferably about 80% by weight, By weight, up to about 60% by weight, most preferably up to about 50% by weight solids.

적합한 유기 용매는 블록 공중합체 및 점착 수지에 불활성이어야 한다. 추가로, 유기 용매는 실질적으로 모든 용매가 PSA로부터 증발될 수 있도록 선택되어야 한다. "실질적으로 모든 용매"란 용매의 잔여 수준이 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)에 따라 전체 기체 방출된 물질의 약 5% 미만이 되도록 용매가 제거되는 것을 지칭한다. 바람직한 유기 용매는 톨루엔, 사이클로헥산 및 헵탄, 보다 바람직하게는 톨루엔이다.Suitable organic solvents should be inert to the block copolymer and the adhesive resin. In addition, the organic solvent should be selected so that substantially all of the solvent can be evaporated from the PSA. &Quot; Substantially all of the solvent " refers to the solvent being removed such that the residual level of the solvent is less than about 5% of the total gas released material in accordance with the modified IDEMA M11-98 (described below). Preferred organic solvents are toluene, cyclohexane and heptane, more preferably toluene.

용매는 진공 건조 또는 바람직하게는 건조 오븐에서 고온의 공기에 노출시키는 것과 같은 당해 분야에 공지된 모든 기술을 통해 PSA로부터 증발될 수 있다. 고온 공기의 온도는 용매의 자연 발화점 이하로 유지되어야 한다. 적당한 건조 조건은 PSA가 적용되는 기판 및 건조에 사용되는 공정 시간에 따라 좌우된다. 예를들어, S 유형 폴리에스터 필름(듀퐁(DuPont)에서 구입 가능함)을 포함하는 기판을 사용하는 경우 본 발명의 PSA로부터 톨루엔을 증발시키는데 바람직한 고온 공기 온도는 2 내지 3분의 건조 시간 동안 약 250℉ 내지 약 350℉, 보다 바람직하게는 3분의 건조 시간 동안 약 325℉ 내지 약 350℉이다. 건조 시간의 실제 상한은 사용가능한 장치 및 원하는 생산 속도를 고려하여 결정된다.The solvent may be evaporated from the PSA via any technique known in the art such as vacuum drying or preferably exposing to hot air in a drying oven. The temperature of the hot air should be kept below the natural ignition point of the solvent. The proper drying conditions depend on the substrate to which the PSA is applied and the processing time used for drying. For example, when using a substrate comprising an S type polyester film (available from DuPont), the preferred hot air temperature for evaporating toluene from the PSA of the present invention is about 250 < RTI ID = 0.0 > Deg.] F to about 350 [deg.] F, more preferably about 325 [deg.] F to about 350 [deg.] F for a drying time of 3 minutes. The actual upper limit of the drying time is determined in consideration of the usable apparatus and the desired production speed.

본 발명의 PSA의 특징은 PSA가 개질된 IDEMA M11-98(이후에 기술됨)로 측정시 1500 ng/cm2미만, 바람직하게는 700 ng/cm2미만, 보다 바람직하게는 50 ng/cm2미만으로 기체 방출한다는 것이다.A feature of the PSA of the present invention is that the PSA is less than 1500 ng / cm 2 , preferably less than 700 ng / cm 2 , more preferably less than 50 ng / cm 2 as measured by modified IDEMA M11-98 Gas is released.

본 발명의 PSA의 또다른 특징은 PSA가 개질된 EPA 방법 300.0 개정 2.1(이후에 기술됨)로 측정시 약 200 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 200 ng/cm2미만으로 암모늄을 함유한다는 것이다.Another feature of the PSA of the present invention is that the PSA is less than about 200 ng / cm < 2 > of the combined bromide, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, Phosphate and sulfate anions, and ammonium at less than about 200 ng / cm 2 .

다음의 구체적인 실시예는 본 발명을 보다 정확하게 기술할 것이며 본 발명에 의해 실현되는 개선점 및 이점 뿐만 아니라 현재 사용되는 바람직한 과정을 교시할 것이다. 이러한 실시예는 본 발명의 목적을 예시하기 위해 제공될 뿐이며 본 발명의 주제의 범주를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.The following specific embodiments will more accurately describe the present invention and will teach the improvements and advantages realized by the present invention as well as the currently preferred process. These embodiments are provided to illustrate the objects of the present invention and should not be construed as limiting the scope of the present invention.

실시예 1 - 기체 방출 물질의 측정Example 1 - Measurement of gas releasing substance

기체 방출 물질은 하기 상세한 방법 또는 예외(개질된 IDEMA M11-98)에 따라 IDEMA M11-98 다이나믹(5/28/99DRAFT) 헤드스페이스 기체 방출 과정(Headspace Outgas Procedure)(본원에 참고로 인용됨)을 사용하여 측정된다.The gaseous effluent was subjected to the IDEMA M11-98 Dynamic (5/28/99 DRAFT) Headspace Outgas Procedure (referred to herein as the reference) according to the method detailed below or modified (IDEMA M11-98) .

영구적 및 소모적 장치(섹션 2)는 (a) 303 유형 스테인레스 강재 원통형 챔버(대략적인 내부 치수: 약 1.25 in.(깊이) × 2.25 in.(직경); (b) 서펠코(Supelco:미국 펜실베니아주 16823-0048 벨레폰트 서펠코 파크 소재의 서펠코) 스테인레스 강재 열 탈착 튜브(다음의 흡수제로 패킹됨; A층 = 100 mmg Tenax TA, B층 = 250 mmg Carbotrap B); (c) 휴렛-패커드(Hewlett-Packard:미국 델러웨이주 19808-1610 윌밍턴 센터빌 로드 소재의 휴렛 패커드 화학 분석 그룹) 기체 크로마토그래프/5973 질량 분광계; (d) 퍼킨 엘머(Perkin Elmer:미국 코네티컷주 06859-0019 노워크 메인 애비뉴 761 소재의 퍼킨스-엘머 코포레이션) ATD-400 자동화 열 탈착 유니트; (e) 레즈텍(Reztek:미국 펜실베니아주 벨레폰트 베너 서클 110 소재의 레즈텍 코포레이션) XTI(레즈텍 코포레이션의 등록상표) 기체 크로마토그래프 컬럼, Reztek pn# 12223; 및 반-정량을 위한 외부 표준으로서 사용되는 디클로로메탄에서의 n-헥사데칸(피셔 사이언티픽(Fisher Scientific:미국 펜실베니아주 15219-4785 피츠버그 포베스 애비뉴 711 소재의 피셔 사이언티픽) pn# 03035)으로 구성된다.Permanent and consumable devices (Section 2) shall be constructed from: (a) a 303 type stainless steel cylindrical chamber with approximate internal dimensions of approximately 1.25 in. (Depth) x 2.25 in. (Diameter); (b) Supelco 16823-0048 Westpelco, Belle Font, West Pelco Park) Stainless steel thermal desorption tubes (packed with the following absorbent: A layer = 100 mmg Tenax TA, B layer = 250 mmg Carbotrap B); c) Hewlett-Packard Hewlett-Packard: Hewlett-Packard Chemical Analysis Group, Wilmington Center, Wilmington 19808-1610 USA) Gas chromatograph / 5973 mass spectrometer; (d) Perkin Elmer (06859-0019, ATD-400 automated thermal desorption unit; (e) Reztek (Reztech Corporation, Belle Font Banners Circle 110, Pennsylvania, USA) XTI (registered trademark of Reztech Corporation) gas chromatograph Graph column, Reztek pn # 122 Hexadecane (Fisher Scientific, Fisher Scientific, pn # 03035, 711, Pittsburgh, Fowdes Avenue, Pittsburgh, PA 15219-4785, USA) in dichloromethane, used as an external standard for semi-quantitation, .

샘플 수거 및 분석(섹션 3)은 다음과 같이 수행한다. 열 탈착 튜브는 8분동안 320℃의 조건으로 설정된다. 탈착 튜브를 설치하고 샘플을 샘플 기체 방출 챔버에 놓는다. 샘플 챔버의 유속은 99.99% 질소 기체를 사용하여 약 50 ml/분이 되도록 설정한다. 기체 방출 챔버를 85℃의 온도에서 연속적으로 가열한다. 탈착기를 320℃에서 8분 동안 50 ml/분의 속도로 탈착시키도록 프로그래밍한다. 저온 트랩을 -30℃로 설정한 다음 8분의 대기 시간을 갖고 350℃에서 탈착시키고 밸브 및 라인 온도는 200℃로 설정한다. 배출구 분할부는 54 ml/분으로 설정한다. 샘플 분할비는 약 49:1이다. 기체 크로마토그래프 유속은 약 1 ml/분이다.Sample collection and analysis (section 3) is performed as follows. The heat desorption tube was set at 320 DEG C for 8 minutes. A desorption tube is installed and a sample is placed in the sample gas release chamber. The flow rate of the sample chamber is set to about 50 ml / min using 99.99% nitrogen gas. The gas discharge chamber is continuously heated at a temperature of 85 캜. The desorber is programmed to desorb at 320 ° C for 8 minutes at a rate of 50 ml / min. The cold trap was set at -30 ° C and then desorbed at 350 ° C with a waiting time of 8 minutes and the valve and line temperature set to 200 ° C. The outlet section is set at 54 ml / min. The sample split ratio is about 49: 1. The gas chromatograph flow rate is about 1 ml / min.

반-정량화는 n-헥사데칸의 디클로로메탄 용액 200 ng/㎕의 5 ㎕를 가열된 샘플 챔버 속으로 직렬 주입구를 통해 주입하고, 185 분 동안 85℃에서 재설정된 열 탈착 튜브상으로 기체 방출시킴으로써 달성된다. 응답 계수는 6번 이상 반복한 전체 이온 크로마토그램의 피크 면적을 평균내어 계산한다.Semi-quantification was achieved by injecting 5 μl of a 200 ng / μl solution of n-hexadecane in dichloromethane through a serial inlet into a heated sample chamber and releasing the gas onto a thermally desorbed tube reset at 85 ° C for 185 minutes do. The response coefficient is calculated by averaging the peak area of the total ion chromatogram repeated 6 or more times.

표적 화합물 또는 화합물들의 피크에서 전체 이온 카운트를 외부 표준 응답 계수로 나누고 1,000 ng을 곱함으로써 표적 화합물 또는 화합물들의 양을 계산한다. 상기 샘플의 전체 기체 방출은 최대치 20±2 피크를 적분하여 결정한다. 최종 결과는 ng/cm2으로 표현되고 상기 샘플 면적은 필름 샘플의 양쪽 면적을 합하여 결정된다.The total ion count at the peak of the target compound or compounds is divided by the external standard response factor and multiplied by 1,000 ng to calculate the amount of the target compound or compounds. The total gas release of the sample is determined by integrating a maximum of 20 +/- 2 peaks. The final result is expressed in ng / cm < 2 > and the sample area is determined by summing both areas of the film sample.

실시예 2 - 이온의 측정Example 2 - Measurement of ion

이온 분석은 표 1에서 개질된 EPA 방법 300.0 개정 2.1(1993년 8월)(본원에 참고로 인용됨)에 따라 이온 크로마토그래피에 의해 추출된 샘플에서 수행된다.이 방법에서, 작은 부피(전형적으로 2 내지 3 ml)의 샘플은 이온 크로마토그래피에 도입된다. 중요한 이온은 가드 컬럼, 분석 컬럼, 서프레서 장치 및 도전율 검출기로 이루어진 시스템을 사용하여 분리되고 측정된다.Ion analysis is carried out on samples extracted by ion chromatography according to EPA Method 300.0 Rev. 2.1 (August 1993) (modified herein), which is modified in Table 1. In this method, a small volume 2 to 3 ml) is introduced into ion chromatography. Critical ions are separated and measured using a system of guard columns, analytical columns, suppressor devices and conductivity detectors.

상기 방법의 특정 세부 사항은 다음과 같다. 이온 크로마토그래프 시스템은 ED40 전기화학 검출기가 장착된 디오넥스(Dionex) DX500 이온 크로마토그래프, GP40 구배 펌프 및 AS40 자동 샘플러로 구성되며, 모든 장치는 디오넥스 코포레이션에서 구입 가능하다. 샘플은 4.4 cm ×22.6 cm 주형을 사용하여 샘플(한쪽 면)의 100 cm2표면적을 절단하여 추출된다. 샘플로부터 라이너를 제거하고 접착제가 내부에 있는 청결한 200 ml 파이렉스 비커에 놓고, 스트립의 어느 부분도 접착제와 마주하지 않는다. 18.3 MΩ-cm 탈이온수 100 ml를 비커에 첨가하고 80 ×40(No. 3140) 파이렉스 덮개로 비커를 덮는다. 비커를 수욕에 놓고 80℃ ± 5℃의 온도로 가열한다. 샘플의 온도를 1시간 동안 80℃로 유지한다. 1시간 후, 수욕으로부터 비커를 꺼내고 실온으로 냉각시킨다. 이로써, 분석을 위해 추출된 이온을 갖는 물이 제조된다.Specific details of the method are as follows. The ion chromatograph system consists of a Dionex DX500 ion chromatograph equipped with an ED40 electrochemical detector, a GP40 gradient pump and an AS40 autosampler, all available from Dionex Corporation. Samples are extracted by cutting a 100 cm 2 surface area of the sample (one side) using a 4.4 cm x 22.6 cm template. The liner is removed from the sample and the adhesive is placed on a clean 200 ml Pyrex beaker with no adhesive on the part of the strip. Add 100 ml of 18.3 MΩ-cm deionized water to the beaker and cover the beaker with an 80 × 40 (No. 3140) Pyrex cap. The beaker is placed in a water bath and heated to a temperature of 80 ° C ± 5 ° C. The temperature of the sample is maintained at 80 占 폚 for 1 hour. After 1 hour, the beaker is taken out from the water bath and cooled to room temperature. Thereby, water having extracted ions is prepared for analysis.

EPA 방법 300.0의 수정 방법 2.1에 대한 개선점Improvements to Modification Method 2.1 of EPA Method 300.0 방법 섹션Method section 양이온 분석Cation analysis 음이온 분석Anion analysis 6.2.1-6.2.2.26.2.1-6.2.2.2 컬럼:디오넥스 CG12A 4 mm디오넥스 CS12A 4 mmColumn: Dionex CG12A 4 mm Dionex CS12A 4 mm 컬럼:디오넥스 ATC-1디오넥스 AG11 4 mm디오넥스 AS11 4 mmColumn: Dionex ATC-1 Dionex AG11 4 mm Dionex AS11 4 mm 6.2.36.2.3 서프레서:디오넥스 CSRS Ⅱ 4 mmSurfer: Dionex CSRS II 4 mm 서프레서:디오넥스 ASRS 울트라 4 mmSuppressor: Dionex ASRS Ultra 4 mm 6.2.46.2.4 ED40 전기화학 검출기DS3 도전율 전지 검출 안정화기ED40 electrochemical detector DS3 conductivity cell detection stabilizer DE40 전기화학 검출기DS3 도전율 전지 검출 안정화기DE40 electrochemical detector DS3 conductivity battery detection stabilizer 6.36.3 소프트웨어:피크넷(Peaknet) 4.3Software: Peaknet 4.3 소프트웨어:피크넷 4.3Software: PeakNet 4.3 GP40/ED40시간이 정해진 수행 설정:GP40 / ED40 Time Set Performed Settings: 등용매 분석Isocratic analysis 성분 분석:처음 내지 9.50 분90% A 및 10% B9.50 분 주입 샘플13.00분 100% B25.00 분65% B 및 35% CComponent Analysis: Initial to 9.50 min 90% A and 10% B 9.50 min Injection Sample 13.00 min 100% B 25.00 min 65% B and 35% C 샘플 루프 부피:Sample Loop Volume: 100 ㎕100 μl 100 ㎕100 μl SRS 전류:SRS Current: 300 mA300mA 300 mA300mA 펌프 속도:Pump Speed: 1 ml/분1 ml / min 2 ml/분2 ml / min 4 포인트 측정2차 곡선상관 계수4 point measurement quadratic curve correlation coefficient 모든 이온에서 >0.9999> 0.9999 for all ions 모든 이온에서 >0.9999> 0.9999 for all ions 수행 시간:Running time: 11 분11 minutes 25 분25 minutes 7.37.3 용출제:30 mN H2SO4 Solvent: 30 mN H 2 SO 4 용출제:A: 탈이온수(18.3 MΩ-cm)B: 5 mM NaOHC: 100 mM NaOHSolvent: A: deionized water (18.3 M? -Cm) B: 5 mM NaOHC: 100 mM NaOH

실시예 3 - 배합Example 3 - Formulation

다음은 본 발명의 PSA를 포함하는 테이프 성분의 예이다. 실시예 A 내지 D는 수소화 트리블록 S-EB-S 공중합체, 수소화 S-EP-S-EP 블록 공중합체, 탄화수소 수지 및 접착을 위한 선택적인 수지 개질제로 제조된다. 실시예 A 내지 D의 제형은 하기 표 2에 나타낸다.The following is an example of a tape component comprising the PSA of the present invention. Examples A to D are prepared with hydrogenated triblock S-EB-S copolymers, hydrogenated S-EP-S-EP block copolymers, hydrocarbon resins and optional resin modifiers for bonding. The formulations of Examples A to D are shown in Table 2 below.

PSA 제형의 예Examples of PSA formulations 성분ingredient 기능function AA BB CC DD (부)(part) (부)(part) (부)(part) (부)(part) KRATONRG 16501 KRATON R G 1650 1 블록 중합체Block polymer 2.912.91 2.412.41 4.694.69 7.877.87 KRATONRG 16571 KRATON R G 1657 1 블록 중합체Block polymer 4.204.20 6.736.73 3.043.04 3.153.15 KRATONRG 17301 KRATON R G 1730 1 블록 중합체Block polymer 38.9138.91 40.1540.15 39.8339.83 39.4539.45 REGALREZR10852 REGALREZ R 1085 2 점착 수지Adhesive resin 39.2239.22 42.1142.11 42.7342.73 41.8241.82 REGALREZR10182 REGALREZ R 1018 2 점착 수지Adhesive resin 7.757.75 5.915.91 4.744.74 4.654.65 MOR-ESTERR490073 MOR-ESTER R 49007 3 접착 개질제Adhesion modifier 7.017.01 2.702.70 4.974.97 3.073.07 1. KRATONR은 쉘 케미컬 컴파니의 블록 공중합체 상표이다: G-1650은 30% 스티렌 및 0% 디블록을 함유하는 S-EB-S이고; G-1657은 13% 스티렌 및 29% 디블록을 함유하는 S-EB-S이고; G-1730은 22% 스티렌 및 0%의 디블록을 함유하는 S-EP-S-EP이다.2. REGALREZR는 헤라클레스 인코포레이티드의 탄화수소 수지의 상표이다.3. MOR-ESTERR은 접착 수지로 설계된 모튼 인터내셔널 인코포레이티드(Morton International Inc.)의 반-경질 점착 폴리에스테르 수지의 상표이다.1. KRATON R is a block copolymer trademark of Shell Chemical Company: G-1650 is S-EB-S containing 30% styrene and 0% diblock; G-1657 is S-EB-S containing 13% styrene and 29% diblock; G-1730 is S-EP-S-EP containing 22% styrene and 0% diblock. REGALREZ R is a trademark of the hydrocarbon resin of Hercules Inc. 3. MOR-ESTER R is a trademark of Morton International Inc. semi-rigid adhesive polyester resin designed as an adhesive resin.

샘플 A 내지 D의 접착 용액은 상기 성분들을 톨루엔에 용해시켜 약 40% 고체의 농도를 얻도록 제조한다. 역 롤 피복 장치는 듀퐁에서 구입가능한 0.0005" 두께의 S 유형 폴리에스터 필름의 각 면 위에 0.0025" 두께로 용액을 피복하는데 사용된다. 필름의 각 피복된 면을 12-ft, 2-대역 건조 오븐에서 4 ft/분의 속도로 통과시켜 건조시킨다. 생성된 건조 접착층은 0.001" 두께이다. 오븐의 제 1 대역의 기온은 325℉이고, 제 2 피복된 면인 오븐의 제 2 대역의 기온은 350℉이다.The adhesive solutions of Samples A to D were prepared by dissolving the components in toluene to obtain a concentration of about 40% solids. A reverse roll sheeting device is used to coat the solution at 0.0025 " thickness on each side of a 0.0005 " thick S type polyester film available from DuPont. Each coated side of the film is dried by passing it through a 12-ft, 2-band drying oven at a rate of 4 ft / min. The resulting dry adhesive layer is 0.001 " thick. The temperature of the first zone of the oven is 325 [deg.] F and the temperature of the second zone of the second coated surface of the oven is 350 [deg.] F.

개질된 IDEMA M11-98에 따라 사용되는 휴렛-패커드 6890 기체 크로마토그프/5973 질량 분광계는 실시예 A 내지 D의 기체 방출을 측정하는데 사용된다. 기체 방출량 측정 결과치를 제형 A 내지 D의 전형적인 이온 수준과 함께 하기 표 3에서 나타낸다. 표 3에 나타낸 전체 이온 결과는 수차례 측정한 것의 평균이고, 시험 방법 허용치의 정확도 및 정밀도에 따라 보고된다.The Hewlett-Packard 6890 gas chromatograph / 5973 mass spectrometer used in accordance with the modified IDEMA M11-98 is used to measure the gas emissions of Examples A to D. The gas emission measurement results are shown in Table 3 together with the typical ionic levels of Formulas A to D below. The total ion results shown in Table 3 are the average of several measurements and are reported according to the accuracy and precision of the test method tolerances.

(접착 배합물의 전체 이온 측정을 위해 ED40 전기화학 검출기가 장착되고 EPA 방법 300.0 개정 2.1에 따라 사용되는 디오넥스 DX500 이온 크로마토그래프를 사용한다.)(Using Dionex DX500 ion chromatograph equipped with ED40 electrochemical detector and used according to EPA method 300.0 Rev. 2.1 for total ion measurement of adhesive formulations)

기체 방출 및 이온 데이터Gas emission and ion data 실시예Example 기체 방출량(ng/cm2)Gas release (ng / cm 2 ) 이온 총량(ng/cm2)Total amount of ions (ng / cm 2 ) AA 3030 <100<100 BB 1616 <100<100 CC 2828 <100<100 DD 2121 <100<100

표 3에 나타낸 결과는 본 발명의 PSA 성분(실시예 A 내지 D)이 1500 ng/cm2의 전형적인 공업 한계보다 훨씬 낮은 양의 물질을 기체 방출하고 실제로 50 ng/cm2미만으로 기체 방출하도록 제조될 수 있다는 것을 증명한다. 본 발명에 따라 제조된 PSA는 유사한 조건에서 제조된 최근의 폴리아크릴레이트 PSA보다 실질적으로 더 적은 물질을 기체 방출한다.The results shown in Table 3, PSA composition of the present invention (Examples A to D) are prepared emit significantly lower quantities of material than a typical industrial limit of 1500 ng / cm 2 gas and to actually release the gas to less than 50 ng / cm 2 Can be achieved. PSA prepared according to the present invention releases substantially less material than the most recent polyacrylate PSA prepared under similar conditions.

표 3에 보고된 전체 이온 함량은 본 발명의 PSA가 용이하게 800 ng/cm2의 공업 표준과 일치하거나 초과하고 실제로 약 100 ng/cm2이하의 전체 이온 함량을 갖도록 생성될 수 있다는 것을 증명한다.The total ion content reported in Table 3 demonstrates that the PSA of the present invention can easily be produced to meet or exceed the industry standard of 800 ng / cm 2 and indeed to have a total ion content of less than about 100 ng / cm 2 .

Claims (15)

A. 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및A. at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and B. 하나 이상의 점착 수지를 포함하는 개선된 감압성 접착제(PSA)를 PSA 함유 성분에 적용하는 것을 포함하고, PSA 함유 성분을 하나 이상 포함하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.B. An improved method of making a computerized device comprising applying to the PSA containing component an improved pressure sensitive adhesive (PSA) comprising at least one adhesive resin, wherein the improved pressure sensitive adhesive comprises at least one PSA containing component. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 개질된 IDEMA M11-98로 측정시 약 1500 ng/cm2미만으로 기체를 방출하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the PSA emits less than about 1500 ng / cm &lt; 2 &gt; of gas as measured with the modified IDEMA M11-98. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 개질된 IDEMA M11-98로 측정시 약 700 ng/cm2미만으로 기체를 방출하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the PSA emits less than about 700 ng / cm &lt; 2 &gt; of gas when measured with a modified IDEMA M11-98. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 개질된 IDEMA M11-98로 측정시 약 50 ng/cm2미만으로 기체를 방출하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the PSA releases gas at less than about 50 ng / cm &lt; 2 &gt; when measured with a modified IDEMA M11-98. 제 2 항에 있어서,3. The method of claim 2, PSA가 개질된 EPA 방법 300.0의 수정 방법 2.1로 측정시 약 200 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 200 ng/cm2미만으로 암모늄을 함유하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.PSA is modified EPA method modifying the 2.1 about 200 ng / cm 2 less than the combined bromide as measured by the 300.0, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, phosphate, and sulfate anions, and from about 200 ng / cm 2 less than Lt; RTI ID = 0.0 &gt; of ammonium. &Lt; / RTI &gt; 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 개질된 EPA 방법 300.0의 수정 방법 2.1로 측정시 약 100 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 100 ng/cm2미만으로 암모늄을 함유하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.PSA is modified EPA method combined bromide crystal of 300.0 way than about 100 ng / cm 2 as measured at 2.1, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, phosphate, and sulfate anions, and less than about 100 ng / cm 2 Lt; RTI ID = 0.0 &gt; of ammonium. &Lt; / RTI &gt; 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 개정된 EPA 방법 300.0의 수정 방법 2.1로 측정시 약 50 ng/cm2미만의 조합된 브로마이드, 클로라이드, 플루오라이드, 니트레이트, 니트라이트, 포스페이트 및 설페이트 음이온, 및 약 50 ng/cm2미만으로 암모늄을 함유하는 컴퓨터 장치의개선된 제조방법.PSA is revised EPA method modifying the 2.1 about 50 ng / cm 2 less than the combined bromide as measured by the 300.0, chloride, fluoride, nitrate, nitrite, phosphate, and sulfate anions, and less than about 50 ng / cm 2 Lt; RTI ID = 0.0 &gt; of ammonium. &Lt; / RTI &gt; 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체의 엘라스토머 성분이 하나 이상의 폴리(에틸렌-프로필렌) 및 폴리(에틸렌-부틸렌)의 구조를 갖는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.(Ethylene-propylene) and poly (ethylene-butylene) structures of an elastomeric component of a hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene- Gt; 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체의 엘라스토머 성분이 (ⅰ) 이소프렌 또는 (ⅱ) 1,3-부타디엔의 중합에 의해 제조되는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.An improved preparation of a computerized device wherein the elastomeric component of a hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or a hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer is prepared by (i) polymerization of isoprene or (ii) 1,3-butadiene Way. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, PSA가 PSA의 중량을 기준으로 약 5 내지 약 95 중량%의 블록 공중합체 및 약 5 내지 약 95 중량%의 점착 수지를 포함하는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the PSA comprises from about 5 to about 95 weight percent block copolymer and from about 5 to about 95 weight percent adhesive resin based on the weight of PSA. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 점착 수지가 탄화수소 수지인 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the adhesive resin is a hydrocarbon resin. 제 11 항에 있어서,12. The method of claim 11, 점착 수지가 수소화되는 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the adhesive resin is hydrogenated. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 컴퓨터 장치가 데이터 저장 장치인 컴퓨터 장치의 개선된 제조방법.Wherein the computer device is a data storage device. A. 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및A. at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and B. 하나 이상의 점착 수지를 포함하는 PSA를 함유하는 하나 이상의 성분을 포함하는 컴퓨터 장치.B. A computer device comprising one or more components containing a PSA comprising at least one adhesive resin. A. 하나 이상의 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌 블록 공중합체 또는 수소화 스티렌-엘라스토머-스티렌-엘라스토머 블록 공중합체, 및A. at least one hydrogenated styrene-elastomer-styrene block copolymer or hydrogenated styrene-elastomer-styrene-elastomer block copolymer, and B. 하나 이상의 점착 수지를 포함하는 PSA를 함유하는 하나 이상의 성분을 포함하는 컴퓨터 데이터 저장 장치.B. A computer data storage device comprising one or more components containing a PSA comprising at least one adhesive resin.
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