KR20020031072A - Photo-curable composition and method for curing thereof - Google Patents

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KR20020031072A
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혼다나오히로
이마하시사토시
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시바타 미노루
도요 보세키 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A photocurable emulsion composition and a method of curing the same are provided which solve problems of a conventional photocurable composition, such as VOC, productivity and labor cost, or those of a cured article consisting of a conventional photocurable emulsion composition, such as water resistance (resistance to boiling water), acid resistance, solvent resistance and a photosensitive characteristic. CONSTITUTION: The photocurable composition contains a reactive monomer and/or a reactive prepolymer, a photoinitiator, emulsion particles and a variable surfactant as an emulsifier. The method of curing the photocurable composition is characterized in that a heat treatment and/or an active energy beam irradiation treatment is implemented after coating with the photocurable composition.

Description

광 경화성 조성물 및 그 경화 방법{PHOTO-CURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR CURING THEREOF}Photocurable composition and its hardening method {PHOTO-CURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR CURING THEREOF}

본 발명은, 광 경화성 조성물에 관한 것이다. 더욱 자세하게는 광 경화성 조성물에 가변성 계면 활성제를 함유함으로써, 열 및/또는 활성 에너지선 조사 처리에 의해서 가변성 계면 활성제가, 예컨대 열 분해 및/또는 광 분해 반응하고, 얻어진 경화물이 내수성(내비수성), 내산성, 내용제성, 감광 특성 등에 뛰어난 특성을 나타내며, 각종 용도, 예컨대, 도료, 인쇄 잉크, 표면 코트제, 포토레지스트 잉크, 접착제 등의 용도에 알맞은 광 경화성 조성물 및 그 경화 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition. More specifically, by including the variable surfactant in the photocurable composition, the variable surfactant is thermally decomposed and / or photolyzed by, for example, thermal and / or active energy ray irradiation treatment, and the resulting cured product is water resistant (non-water resistant). The present invention relates to a photocurable composition exhibiting excellent properties such as acid resistance, solvent resistance, photosensitive properties, and the like, suitable for various uses such as paints, printing inks, surface coating agents, photoresist inks, adhesives, and the like, and a curing method thereof.

종래부터 광 경화성 조성물은, 악취, 독성, 대기 오염 등의 VOC(휘발성 유기 용제) 문제, 생산성이나 설비의 간소화에 의한 절전 에너지화, 노동 비용의 절감에 의한 절력화 등의 과제를 해결할 목적으로 폭 넓은 분야에서 사용되고 있다. 그렇지만 광 경화성 조성물의 특징인 속경화성이나 도공성을 보다 좋게 하기 위해서 비교적 저분자량의 반응성 모노머나 유기 용제를 병용하는 경우가 많고, 이들의 유기 용제나 반응성 모노머의 유독성, 악취, 인화성, 자극성 등이 문제이다.Conventionally, the photocurable composition is wide in order to solve problems such as VOC (Volatile Organic Solvent) problems such as odor, toxicity, air pollution, energy saving energy saving by productivity and simplification of equipment, and energy saving by reducing labor cost. It is used in a wide range of fields. However, in order to improve the fast curing property and coating property, which are the characteristics of the photocurable composition, a relatively low molecular weight reactive monomer or an organic solvent is often used in combination, and the toxicity, odor, flammability, irritability, etc. of these organic solvents and reactive monomers are often used. It is a problem.

그래서, 그러한 문제를 해결할 목적으로, (1) 활성 에너지선 경화성 화합물에 공중합 등에 의해 친수성 부위를 도입하여 자기 수분산성 또는 자기 유화성을 갖게 하는 방법, (2) 종래의 활성 에너지선 경화성 화합물을 저분자형 또는 고분자형의 유화제를 사용하여 분산 또는 유화시키는 방법, 또한 (3) 상기의 방법으로 분산 또는 유화된 활성 에너지선 경화성 화합물과 아크릴 에멀젼이나 수용성 고분자를 병용하는 방법 등에 의해 여러가지 종류의 수용성 활성 에너지선 경화성 화합물이나 활성 에너지선 경화성 에멀젼이 개발되고 있다. 그러나, 이들의 방법으로 얻어지는 에멀젼 등은 분산성이 불충분하거나, 경화막의 내수성, 내용제성, 내산성, 감광 특성, 접착성 등에 문제가 남아 있어 아직도 실용화에 이르지 못하고 있는 것이 현실이다.Therefore, for the purpose of solving such a problem, (1) a method of introducing a hydrophilic site into the active energy ray-curable compound by copolymerization or the like to have self-water dispersibility or self-emulsification, and (2) a low molecular weight of a conventional active energy ray-curable compound A method of dispersing or emulsifying using a type or polymer type emulsifier, and (3) using a combination of an active energy ray-curable compound dispersed or emulsified in the above method with an acrylic emulsion or a water-soluble polymer, or the like. Precurable compounds and active energy radiation curable emulsions are being developed. However, the emulsions obtained by these methods, etc., have insufficient dispersibility, problems with water resistance, solvent resistance, acid resistance, photosensitivity, adhesiveness, etc. of the cured film, and the reality is still not commercialized.

상기 문제를 해결하기 위해서, 일본 특허 공개 공보 평성 제2-300204호에는, 입자 표면에 중합성 이중 결합을 도입한 에멀젼의 제조 방법이 개시되어 있다. 이 경우, 입자 표면에 중합성 이중 결합을 도입함으로써, 어느 정도 가교 밀도를 높게 할 수 있지만, 경화물의 내수성, 내용제성, 내산성, 감광 특성, 접착성 등의 특성을 만족하는 것은 아니다. 또, 제조 공정이 복잡하고 비용이 높아지는 난점이 있다. 또한 일본 특허 공개 공보 평성 제9-157495호에는, 에멀젼 입자가 삼차원 가교된 고분자 에멀젼 및 그 제조 방법이 개시되어 있다. 이 제조법에서는 간단하고 쉽게 제조할 수 있고 가교 밀도도 향상되어 유효하지만, 경화막의 내수성, 내용제성, 내산성, 감광 특성, 접착성 등의 경화물의 특성을 충분히 만족하는 것은 아니다. 일본 특허 공개 공보 평성 제8-302240호에는, 조성물이 중합 반응에 의해 에멀젼의 미셀 중의 중합성 화합물끼리 화학 결합하는 가교형 에멀젼 방식의 광 경화성 조성물이 개시되어 있다. 그렇지만 경화물끼리의 화학 결합이 너무 강하기 때문에 기재와의 접착성에 뒤떨어지고, 또한 그 밖에 내수성 등의 경화물의 특성을 만족하는 것은 아니다. 또한 특허 제3032851호에는 수용성 고분자를 이용한 광 경화성 에멀젼 수지 조성물이 개시되어 있다. 그러나 수용성 고분자 폴리머를 사용하고 있기 때문에 내수성이 부족하다고 하는 문제가 있다.In order to solve the said problem, Unexamined-Japanese-Patent No. 2-300204 has disclosed the manufacturing method of the emulsion which introduce | transduced the polymerizable double bond into the particle surface. In this case, although a crosslinking density can be made to some extent by introduce | transducing a polymeric double bond into a particle surface, it does not satisfy | fill characteristics, such as water resistance, solvent resistance, acid resistance, photosensitive characteristic, adhesiveness, etc. of hardened | cured material. Moreover, the manufacturing process is complicated and the cost becomes difficult. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-157495 discloses a polymer emulsion in which emulsion particles are three-dimensionally crosslinked and a method for producing the same. In this manufacturing method, it is simple and easy to manufacture, and the crosslinking density is also improved and effective. However, it does not sufficiently satisfy the properties of the cured product such as water resistance, solvent resistance, acid resistance, photosensitive properties, and adhesiveness of the cured film. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 8-302240 discloses a photocurable composition of a crosslinking emulsion method in which a composition chemically bonds polymerizable compounds in micelles of an emulsion by a polymerization reaction. However, since the chemical bond of hardened | cured material is too strong, it is inferior to adhesiveness with a base material, and does not satisfy | fill the characteristic of hardened | cured material, such as water resistance elsewhere. Patent 3030351 discloses a photocurable emulsion resin composition using a water-soluble polymer. However, there is a problem that the water resistance is insufficient because a water-soluble high polymer is used.

따라서 본 발명은, VOC 과제를 할 수 있는 한 저감하고, 생산성도 향상되며, 또한 그 경화물이 내수성(내비수성), 내산성, 내용제성, 감광 특성, 접착성 등에 뛰어난 광 경화성 조성물 및 그 경화 방법을 얻는 것을 과제로 하는 것이다.Accordingly, the present invention reduces the VOC problem as much as possible, improves the productivity, and furthermore, the cured product is a photocurable composition having excellent water resistance (non-water resistance), acid resistance, solvent resistance, photosensitive properties, adhesiveness, and the like, and a curing method thereof. The task is to obtain.

본 발명자들은 광 경화성 조성물 및 그 경화 방법에 관해서, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구, 검토한 결과, 결국 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉 본 발명은, ① 반응성 모노머 및/또는 반응성 프리폴리머, 광 개시제, 에멀젼 입자 및 유화제를 함유하는 광 경화성 조성물에 있어서 유화제로서 가변성 계면 활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물과, ② 에멀젼 입자가 비닐모노머 및 유화제를 반응시켜 얻은 고분자 에멀젼인 상기 ① 기재의 광 경화성 조성물과, ③ 가변성 계면 활성제가 열 가변성 및/또는 광 가변성 계면 활성제인 상기 ① 또는 ② 기재의 광 경화성 조성물과, 그리고 ④ 상기 ①∼③ 중 어느 하나의 광 경화성 조성물을 이용하여 도공한 후, 열 처리 및/또는 활성 에너지선을 조사 처리하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물의 경화 방법에 관한 것이다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching and examining in order to solve the said subject about the photocurable composition and its hardening method, the present inventors finally completed this invention. That is, the present invention provides a photocurable composition comprising a variable surfactant as an emulsifier in a photocurable composition containing (1) a reactive monomer and / or a reactive prepolymer, a photoinitiator, an emulsion particle, and an emulsifier, and (2) an emulsion particle. The photocurable composition according to the above ①, which is a polymer emulsion obtained by reacting a vinyl monomer and an emulsifier, ③ the photocurable composition according to the above ① or ②, wherein the variable surfactant is a thermally variable and / or photovariable surfactant, and ④ the above ① After coating using the photocurable composition in any one of-③, it is related with the hardening method of the photocurable composition characterized by heat-treating and / or irradiating an active energy ray.

본 발명에 있어서 이용되는 에멀젼 입자는, 비닐모노머를 가변성 계면 활성제의 존재하에서 유화 중합시킴으로써 얻어지는 고분자 에멀젼이고, 가교성 에멀젼 입자나 비가교성 고분자 화합물 및 고분자 수지를 가변성 계면 활성제의 존재하에서 강제 유화시키는 방법 등에 의해 얻어지는 비가교성 에멀젼 입자 등이 예시된다.The emulsion particles used in the present invention are polymer emulsions obtained by emulsion polymerization of vinyl monomers in the presence of a variable surfactant, and a method of forcibly emulsifying crosslinkable emulsion particles, non-crosslinkable polymer compounds and polymer resins in the presence of a variable surfactant. Non-crosslinkable emulsion particles and the like obtained by, for example.

상기 비닐모노머로서는, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌, 플루오로스티렌, 비닐피리딘 등의 방향족 모노비닐화합물, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에스테르모노머, (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐화합물, (메타)아크릴산, 말레인산, 이타콘산 등의 모노 혹은 디카르복실산 또는 디카르복실산의 산무수물, (메타)아크릴아미드 등의 아미드계 모노머, 또한 스티렌설폰산나트륨, 설폰화이소프렌 등의 이온성 모노머 등을 이용할 수 있다. 또한, 중합 속도 및 중합 중의 안정성 등의 점에서 허용될 수 있는 범위 내에 있어서 부타디엔, 이소프렌 등의 공역 이중 결합 화합물이나 초산비닐 등의 비닐에스테르류나 4-메틸-1-펜텐 등의 α-올레핀류도 사용할 수 있다. 이들의 비닐모노머는 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 조합시켜 사용하여도 된다.As said vinyl monomer, For example, aromatic monovinyl compounds, such as styrene, (alpha) -methylstyrene, fluorostyrene, and vinylpyridine, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethyl (Meth) acrylic acid ester monomers, such as hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth Amide-based monomers such as vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, acid anhydrides of mono or dicarboxylic acids or dicarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, maleic acid and itaconic acid, and styrene sulfides. Ionic monomers, such as sodium fonate and a sulfonated isoprene, etc. can be used. In addition, within the allowable ranges in terms of polymerization rate and stability during polymerization, conjugated double bond compounds such as butadiene and isoprene, vinyl esters such as vinyl acetate and α-olefins such as 4-methyl-1-pentene Can be used. These vinyl monomers may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.

또한, 에멀젼 입자를 삼차원 가교하여 가교 밀도를 높게 하고 싶은 경우에는, 가교성 비닐모노머를 사용할 수 있다. 가교성 비닐모노머로서는, 예컨대 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜(메타)아크릴레이트, 메틸렌비스아크릴아미드 등을 예시할 수 있다. 본 발명에서는, 이들 가교성 비닐모노머 외에도, 특히 비닐벤젠, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트가 바람직하게 사용될 수 있다. 이들 가교성 비닐모노머는 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 조합시켜 사용하여도 된다. 이들의 가교성 비닐모노머는 상기의 단일 관능성 비닐모노머와 혼합하여 사용하여도 되고, 그 사용량은 비닐모노머 전량에 대해 20 몰% 이하, 바람직하게는 0.1∼20 몰%, 보다 바람직하게는 0.5∼10 몰%이다.In addition, when it is desired to increase the crosslinking density by three-dimensionally crosslinking the emulsion particles, a crosslinkable vinyl monomer can be used. Examples of the crosslinkable vinyl monomers include divinylbenzene, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate, and trimethylol ethane tri (meth). An acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, methylenebisacrylamide, etc. can be illustrated. In the present invention, in addition to these crosslinkable vinyl monomers, in particular, vinylbenzene and ethylene glycol dimethacrylate can be preferably used. These crosslinkable vinyl monomers may be used independently, or may be used in combination of 2 or more type. These crosslinkable vinyl monomers may be used in combination with the above-mentioned single functional vinyl monomers, and the amount of the crosslinkable vinyl monomers is 20 mol% or less, preferably 0.1-20 mol%, and more preferably 0.5-20%, based on the total amount of vinyl monomers. 10 mol%.

본 발명에 있어서 사용되는 가변성 계면 활성제는, 처음에는 한 분자 중에 친수부와 소수부를 갖고 있고, 열 및/또는 활성 에너지선 조사 등에 의해, 어떠한 변화가 행해져 소수성이 되는 것이다. 또한, 기능적으로는, 에멀젼 입자의 형성 과정에 있어서 보통 사용되고 있는 유화제로서의 기능(입자의 생성, 입자의 응집, 입자의 안정화 등)을 구비하고 있는 동시에, 열 및/또는 활성 에너지선 조사 등에 의해서, (i) 계면 활성제의 분자 구조(친수부와 소수부)의 친수부가 화학 변화되어 소수부가 되고, (ii) 친수부와 소수부의 일부가 물리적으로 분해되어 소수부가 차지하는 비율이 커지며, (iii) 분해한 화학 물질끼리의 가교 반응에 의해서 소수화되는 등의 성질을 갖는 계면 활성제를 말하는 것이다.The variable surfactant used in the present invention initially has a hydrophilic part and a hydrophobic part in one molecule, and any change is made by heat and / or active energy ray irradiation or the like to become hydrophobic. In addition, it has a function as an emulsifier which is usually used in the process of forming emulsion particles (particle formation, particle aggregation, stabilization of particles, etc.), and by heat and / or active energy ray irradiation, (i) the hydrophilic part of the molecular structure of the surfactant (hydrophilic part and hydrophobic part) is chemically changed to become a hydrophobic part, (ii) the hydrophilic part and a part of the hydrophobic part are physically decomposed to increase the proportion of the hydrophobic part, and (iii) decomposed It refers to surfactants having properties such as hydrophobization by crosslinking reaction between chemical substances.

구체적으로는, 열 처리에 의해 변화되는 가변성 계면 활성제로서는, 예컨대 이온성 친수부가 암모늄염, 피리디늄염, 설포늄염, 알소늄염, 포스포늄염 등의 이온 형성기로 이루어지는 가변성 계면 활성제가 예시되고, 이 이온 형성기가 열 처리에 의해서 열 분해되며, 상기 (i)∼(iii) 중 어느 한 쪽으로 변화함으로써 소수성이 되는 것이다.Specifically, as the variable surfactant changed by heat treatment, for example, a variable surfactant composed of ion-forming groups such as ammonium salt, pyridinium salt, sulfonium salt, alsonium salt, and phosphonium salt may be exemplified. The former is thermally decomposed by heat treatment, and becomes hydrophobic by changing to any one of the above (i) to (iii).

한편, 활성 에너지선 조사에 의한 광 가변성 계면 활성제에는, 활성 에너지선 조사에 의해 화학 물질 그 자체가 광 분해되는 것, 혹은 활성 에너지선 조사에 의해서 화학 물질이 산 발생제 또는 염기성 발생제를 통해 분해되는 것을 들 수 있다. 예컨대, 화학 물질 그 자체가 광 분해되는 것으로서는, α-케토카르복실산염, β-케토카르복실산염, 페닐초산염, 니트로페닐초산염, 아조설포네이트염 등을 계면 활성제의 구조 골격 일부에 갖는 가변성 계면 활성제를 예시할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 조사에 의해서 산 발생제를 통해 분해하는 화학 물질로서는, 예컨대 디옥시란, 1,3-디옥산 고리, 실록산, 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에스테르아세탈 등을 계면 활성제의 구조 골격 일부에 갖는 가변성 계면 활성제를 예시할 수 있고, 염기성 발생제를 통해 분해되는 화학 물질로서는, 예컨대, 아세탈형 비스(암모늄 브로마이드)를 예시할 수 있다.On the other hand, in the photovariable surfactant by active energy ray irradiation, the chemical substance itself is photolyzed by active energy ray irradiation, or the chemical substance is decomposed through an acid generator or a basic generator by active energy ray irradiation. It can be mentioned. For example, as the chemical substance itself is photolyzed, variability having α-ketocarboxylate, β-ketocarboxylate, phenyl acetate, nitrophenyl acetate, azosulfonate salt, and the like in part of the structural skeleton of the surfactant Surfactant can be illustrated. Moreover, as a chemical substance which decomposes | dissolves through an acid generator by active energy ray irradiation, it has dioxirane, a 1, 3- dioxane ring, a siloxane, polyethyleneglycol monomethylester acetal, etc. in a part of structural framework of surfactant, for example. Variable surfactants can be exemplified and acetal bis (ammonium bromide) can be exemplified as a chemical substance decomposed through the basic generator.

이들의 가변성 계면 활성제는, 비가교성 고분자 화합물 및 고분자 수지를 강제 유화함으로써 얻어지는 비가교성 에멀젼 입자에도 사용할 수 있다. 비가교성 고분자 화합물 및 고분자 수지로서는, 구체적으로 에폭시 화합물, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 폴리우레아 수지, 초산비닐 등을 예시할 수 있다. 이들은, 가변성 계면 활성제의 존재하에서 후술하는 반응성 모노머나 광 개시제, 수용성 유기 용제 및 물로 이루어지는 혼합물을 강제 교반함으로써 에멀젼 입자가 얻어지고, 그리고 열 처리 및/또는 활성 에너지선을 조사함으로써 소수성으로 할 수있다. .These variable surfactants can also be used for the non-crosslinkable emulsion particles obtained by forcibly emulsifying the non-crosslinkable polymer compound and the polymer resin. Specific examples of the non-crosslinkable polymer compound and polymer resin include epoxy compounds, epoxy resins, polyester resins, urethane resins, polyurea resins, vinyl acetate, and the like. These can be made hydrophobic by forcibly stirring the mixture which consists of the reactive monomer mentioned later, a photoinitiator, a water-soluble organic solvent, and water in presence of a variable surfactant, and irradiating heat treatment and / or an active energy ray. . .

또, 가변성 계면 활성제를 이용하여 에멀젼 입자를 제조할 때의 사용량은, 에멀젼 입자의 입경, 안정성, 가교 밀도,그리고 경화물의 특성 등에 의해 임의로 함유시킬 수 있지만, 그 배합량은 비닐모노머 전량에 대해 0.01∼80 중량% 정도, 바람직하게는 0.1∼50 중량%이다. 더욱 바람직하게는 0.1∼10 중량%이다. 또, 평균 입경이 100 nm 이상의 에멀젼 입자의 방치 안정성을 좋게 하기 위해서는 가변성 계면 활성제는 5 중량% 이상 사용하는 것이 바람직하다.In addition, although the usage-amount when manufacturing emulsion particle | grains using a variable surfactant can be arbitrarily contained according to the particle size, stability, crosslinking density, and the characteristic of hardened | cured material of an emulsion particle, the compounding quantity is 0.01-0.01 with respect to the vinyl monomer whole quantity. About 80% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight. More preferably, it is 0.1-10 weight%. Moreover, in order to improve the standing stability of the emulsion particle whose average particle diameter is 100 nm or more, it is preferable to use 5 weight% or more of a variable surfactant.

가변성 계면 활성을 이용하여 유화 중합할 때의 온도는, 50∼95℃ 정도, 바람직하게는 65∼85℃이다. 또한 유화 중합시의 농도는, 비닐모노머와 가변성 계면 활성제를 합친 고형분의 비율이 10∼50 중량% 정도, 바람직하게는 15∼40 중량%의 범위에서 행해진다.The temperature at the time of emulsion polymerization using a variable surfactant is about 50-95 degreeC, Preferably it is 65-85 degreeC. In addition, the density | concentration at the time of emulsion polymerization is performed in the range of about 10-50 weight%, Preferably it is 15-40 weight% of the ratio of solid content which combined the vinyl monomer and a variable surfactant.

또한, 본 발명의 가변성 계면 활성제를 이용하여 유화 중합으로 가교성 에멀젼 입자를 얻는 데 사용되는 중합 개시제로서는, 보통의 유화 중합으로 이용되는 것이면 특별히 제한을 받지 않는다. 예컨대, 과황산칼륨, 과황산나트륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 과산화수소, 유기과산화물, 수성의 아조계 개시제 등의 수용성 라디칼 중합 개시제 등을 단독으로, 또는 상기 과황산염 등과 아황산수소나트륨, 티오황산수소나트륨, 아스코르빈산 등의 각종 환원제와 조합시킨 산화환원계 중합 개시제 등을 사용할 수 있다. 중합 개시제의 사용량은, 비닐모노머 전량에 대해 0.005∼5 몰%의 범위로 하는 것이 바람직하다.Moreover, as a polymerization initiator used for obtaining crosslinkable emulsion particle | grains by emulsion polymerization using the variable surfactant of this invention, if it is used by normal emulsion polymerization, there will be no restriction | limiting in particular. For example, water-soluble radical polymerization initiators such as persulfates such as potassium persulfate, sodium persulfate and ammonium persulfate, hydrogen peroxide, organic peroxides and aqueous azo initiators, or the like, or the persulfate and sodium hydrogen sulfite, hydrogen thiosulfate Redox-based polymerization initiators combined with various reducing agents such as sodium and ascorbic acid can be used. It is preferable to make the usage-amount of a polymerization initiator into the range of 0.005-5 mol% with respect to vinyl monomer whole quantity.

이상 설명한 본 발명의 광 경화성 조성물은, 일본 특허 공개 공보 평성제9-157495호 등에 기재된 제조 방법 등에 의해 가교성 에멀젼 입자를 제조할 수 있다. 이 방법으로 얻어진 가교성 에멀젼 입자의 평균 입경은 0.05∼500 ㎛ 정도의 입자를 얻을 수 있다.The photocurable composition of this invention demonstrated above can manufacture crosslinkable emulsion particle by the manufacturing method etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 9-157495, etc. The average particle diameter of the crosslinkable emulsion particle obtained by this method can obtain the particle about 0.05-500 micrometers.

본 발명에서는, 경화물의 내수성, 내산성, 내용제성, 감광 특성을 향상시키기 위해서 상기 에멀젼 입자 내부 및 외부로 이하의 반응성 프리폴리머나 반응성 모노머를 함유시킬 수가 있다. 구체적으로는, 반응성 프리폴리머로서 에폭시(메타)아크릴레이트, 폴리우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 실리콘(메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔(메타)아크릴레이트, 폴리아미드(메타)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 또한, 반응성 모노머로서는, 스티렌, 초산비닐, N-비닐피롤리온 등의 비닐모노머, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, n-도데실아크릴레이트, 이소포로닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트 등의 단일 관능성 모노머, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 비스페놀A 디에톡시디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 다관능성 모노머를 예시할 수 있다. 이들의 반응성 모노머 또는 반응성 프리폴리머의 사용량은, 광 경화성 조성물에 보통 0.1∼200 중량% 정도, 바람직하게는 1∼100 중량%의 범위이다.In the present invention, in order to improve the water resistance, acid resistance, solvent resistance, and photosensitivity of the cured product, the following reactive prepolymer or reactive monomer can be contained inside and outside the emulsion particles. Specifically, epoxy (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, polybutadiene (meth) as a reactive prepolymer Acrylate, polyamide (meth) acrylate, etc. can be illustrated. Moreover, as a reactive monomer, vinyl monomers, such as styrene, vinyl acetate, and N-vinyl pyrrolion, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n-dodecyl acrylate Monofunctional monomers such as isophoronyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate and phenoxyethyl acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol Diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, bisphenol A diethoxy diacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate And polyfunctional monomers such as dipentaerythritol hexaacrylate. The usage-amount of these reactive monomers or reactive prepolymers is about 0.1-200 weight% normally in a photocurable composition, Preferably it is the range of 1-100 weight%.

또한, 본 발명의 광 경화성 조성물을 자외선에 의해 경화시키기 위해서는, 광 중합성 개시제를 함유시킨다. 한편, 전자선으로 경화시키는 경우에는 광 개시제는 불필요해진다. 광 개시제로서는, 보통 자외선 경화성 화합물에 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예컨대, 아세토페논, 벤조페논, 벤조인에테르, 클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논, α-아미노아세토페논, 벤질메틸케탈, 티오크산톤, α-아실옥심에스테르, 아실포스핀옥시드, 글리옥시에스테르, 3-케토쿠마린, 2-에틸안트라퀴논, 캄파퀴논, 미히라(Michler) 케톤 등을 예시할 수 있다. 이들의 광 개시제는, 에멀젼 조성물 중에 보통 O.1∼20 중량%, 바람직하게는 1∼10 중량% 범위로 사용된다.Moreover, in order to harden | cure the photocurable composition of this invention with an ultraviolet-ray, a photopolymerizable initiator is contained. On the other hand, when hardening with an electron beam, a photoinitiator becomes unnecessary. As a photoinitiator, what is normally used for an ultraviolet curable compound can be used. For example, acetophenone, benzophenone, benzoin ether, chloroacetophenone, diethoxyacetophenone, α-aminoacetophenone, benzylmethyl ketal, thioxanthone, α-acyl oxime ester, acylphosphine oxide, glycoxy ester, 3-ketocoumarin, 2-ethylanthraquinone, campaquinone, Michler ketone, etc. can be illustrated. These photoinitiators are usually used in the emulsion composition in an amount of 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

본 발명의 광 경화성 조성물에는, 수용성 유기 용제를 혼합하여도 된다. 수용성 유기 용제로서는, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 물과 친화성이 좋은 유기 용제를 이용할 수 있다. 특히 에멀젼 조성물을 공비 등으로 제거할 수 있는 것이 바람직하다. 수용성 유기 용제의 배합량은 조성물 중에 0.1∼50 중량%, 바람직하게는 1∼10 중량%의 범위로 배합할 수 있다.You may mix a water-soluble organic solvent with the photocurable composition of this invention. As the water-soluble organic solvent, for example, an organic solvent having good affinity with water such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, dioxane or the like can be used. In particular, it is preferable that an emulsion composition can be removed by azeotropy. The compounding quantity of a water-soluble organic solvent can be mix | blended in the range of 0.1-50 weight%, Preferably it is 1-10 weight%.

이상, 상기의 광 경화성 조성물은, 수분산액으로서 사용할 수 있다. 수분산액의 에멀젼 입자로의 첨가 방법은, 일괄 첨가, 연속 첨가 또는 간헐 첨가 또는 이들을 조합시킬 수 있다. 또한, 수분산액을 첨가할 때의 에멀젼 입자의 농도는, 10∼50 중량% 정도, 바람직하게는 15∼40 중량%이다. 첨가시의 온도는 20∼70℃ 정도이고, 바람직하게는 30∼50℃이다.As mentioned above, said photocurable composition can be used as an aqueous dispersion. The addition method to the emulsion particles of the aqueous dispersion may be batch addition, continuous addition or intermittent addition, or a combination thereof. Moreover, the density | concentration of the emulsion particle at the time of adding an aqueous dispersion is about 10-50 weight%, Preferably it is 15-40 weight%. The temperature at the time of addition is about 20-70 degreeC, Preferably it is 30-50 degreeC.

또, 가변성 계면 활성제의 존재하에서 비가교성 고분자 화합물 및 고분자 수지를 이용하여 비가교성 에멀젼 입자를 제작하는 경우는, 비가교 고분자 화합물 및 고분자 수지와 상기 가변성 계면 활성제, 반응성 모노머, 광 개시제, 수용성 유기 용제 및 물을 혼합하여 강제 교반함으로써 에멀젼 입자를 제작할 수 있다.In addition, when preparing a non-crosslinkable emulsion particle using a noncrosslinkable high molecular compound and a polymer resin in presence of a variable surfactant, a noncrosslinkable high molecular compound and a polymer resin, the said variable surfactant, a reactive monomer, a photoinitiator, and a water-soluble organic solvent And emulsion particles can be produced by mixing water and forcibly stirring.

다음에 본 발명의 광경화성 조성물을 이용하여 경화물을 얻는 경화 방법으로서는, 열 처리 및/또는 활성 에너지선 조사에 의한 경화 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 상기 열 가변성 계면 활성제를 이용하는 경우의 열 처리 온도로서는, 120∼200℃의 범위, 바람직하게는 130∼150℃의 범위로 처리함으로써 이온 형성기가 분해된다. 120℃ 이하의 온도에서는 열 분해가 불충분해져 목적하는 경화물을 얻기가 어렵다. 또한, 상기 광 가변성 계면제를 이용한 경우의 활성 에너지선으로서의 자외선은 150∼500 mμ의 파장, 특히 300∼400 mμ의 파장 영역인 것이 유효하다. 사용되는 광원으로서는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 자외선 형광등, 케미컬 램프, 크세논 램프, 지르코늄 램프 등이 바람직하다. 또한, 본 발명에서 이루어지는 광 경화성 조성물을 이용하여 경화물을 얻는 방법으로서는, 60∼110℃ 범위의 온도로 예비 건조시킨 후, 자외선에 의해서 조사하고, 또한 120∼200℃의 범위의 온도로 건조시키는 방법도 채용할 수 있다.Next, as a hardening method of obtaining hardened | cured material using the photocurable composition of this invention, the hardening method by heat processing and / or active energy ray irradiation is mentioned. Specifically, as the heat treatment temperature in the case of using the thermally variable surfactant, the ion former is decomposed by treatment in the range of 120 to 200 ° C, preferably 130 to 150 ° C. Thermal decomposition becomes inadequate at the temperature below 120 degreeC, and it is difficult to obtain a target hardened | cured material. Moreover, it is effective that the ultraviolet-ray as an active energy ray in the case of using the said light-variable surfactant is a wavelength of 150-500 mmicro, especially the wavelength range of 300-400 mmicro. As a light source to be used, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a chemical lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, etc. are preferable. Moreover, as a method of obtaining hardened | cured material using the photocurable composition which consists of this invention, after preliminary drying at the temperature of 60-110 degreeC, it irradiates with an ultraviolet-ray and further dries to the temperature of 120-200 degreeC. The method can also be adopted.

본 발명에서 이루어지는 광 경화성 조성물은, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리이미드 동(銅) 피복 적층판, 리지드(rigid)판, 유리판, 종이 등의 기재에 도공하고 상기 방법으로 경화시켜 경화물을 얻을 수 있으며, 상기 기재로 한정되는 것은 아니다.The photocurable composition which consists of this invention is a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polystyrene film, a polyimide film, a polyamideimide film, a polyimide copper clad laminated board, a rigid board, a glass plate, for example. It can apply to the base materials, such as paper and harden | cure by the said method, and can obtain a hardened | cured material, It is not limited to the said base material.

도공 방법으로서는, 예컨대 그라비아 코트 방식, 키스 코트 방식, 딥 방식, 스프레이 코트 방식, 커튼 코트 방식, 에어 나이프 코트 방식, 블레이드 코트 방식, 리버스 롤 코트 방식, 스크린 인쇄 방식, 정전 스프레이 코트 방식 등의 방법을 채용할 수 있지만 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of coating methods include methods such as a gravure coat method, a kiss coat method, a dip method, a spray coat method, a curtain coat method, an air knife coat method, a blade coat method, a reverse roll coat method, a screen printing method, and an electrostatic spray coat method. Although it can employ | adopt, it is not limited to these.

또, 본 발명의 광 경화성 조성물에는 임의의 색소, 안료, 레벨링제, 소포제(消泡劑), 충전제 등을 첨가할 수가 있지만 특별히 한정되는 것은 아니다.Moreover, although arbitrary pigment | dye, a pigment, a leveling agent, an antifoamer, a filler, etc. can be added to the photocurable composition of this invention, it is not specifically limited.

본 발명의 광 경화성 조성물 및 그 경화 방법의 일실시 형태에 의하면, (I) 주로 반응성 모노머, 광 개시제 및 가변성 계면 활성제로 이루어지는 광 경화성 에멀젼을 얻는다. (Ⅱ) 이 에멀젼을 폴리이미드 필름 동 피복 적층판의 동박 표면에 건조 처리 후의 두께가 약 10 g/m2가 되도록 도공하고, 80℃에서 20분간 건조시킨다. (Ⅲ) 얻어진 도공막면을 3 KW 초고압 수은등을 이용하여 500 mj/cm2의 조도로 광 경화시킨다. (IV) 또한, 150℃에서 30분간 건조시킨다. (V) 이들의 경화법에 의해서 얻어진 경화막을 평가 항목에 따라 평가한다.According to one Embodiment of the photocurable composition of this invention and its hardening method, (I) the photocurable emulsion mainly consisting of a reactive monomer, a photoinitiator, and a variable surfactant is obtained. (II) The emulsion is coated on the copper foil surface of the polyimide film copper clad laminate so that the thickness after the drying treatment is about 10 g / m 2 , and dried at 80 ° C. for 20 minutes. (III) The obtained coating film surface is photocured with the illuminance of 500 mj / cm <2> using a 3KW ultrahigh pressure mercury lamp. (IV) Furthermore, it dries at 150 degreeC for 30 minutes. (V) The cured film obtained by these hardening methods is evaluated according to an evaluation item.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예를 이용하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또 실시예에서, 부(部)라는 것은 중량부를 의미한다. 또한, 실시예 중에 있어서의 평가 항목과 방법은, 하기 방법에 의한다.Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely using an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, in an Example, a part means a weight part. In addition, the evaluation item and method in an Example depend on the following method.

1) 내수성(내비수성) : 폴리이미드 필름 동 피복 적층판의 동박상에 경화막을 갖는 시료를 80℃∼90℃의 비수 중에 1시간 침지시킨 후, 경화막의 표면의 물방울을 닦아내고, JISK5400 크로스 컷 테스트(cross cut test)에 의해 동박과의 접착성을 평가하였다.1) Water resistance (non-water resistance): After immersing the sample which has a cured film on the copper foil of the polyimide film copper clad laminated board in non-aqueous water of 80 degreeC-90 degreeC for 1 hour, the water droplet of the surface of a cured film is wiped off, and JISK5400 cross cut test ( Adhesion with copper foil was evaluated by cross cut test).

100/100 : O 80/100 : △ 80 이하/100 : ×로 하였다.100/100: O 80/100: (triangle | delta) 80 or less / 100: It was set as x.

2) 내산성 : 10% 염산액과 10% 황산액을 이용하여 시료를 상온에서 30분간 침지시키고, 1)과 마찬가지 방법으로 평가하였다.2) Acid resistance: The sample was immersed at room temperature for 30 minutes using 10% hydrochloric acid and 10% sulfuric acid solution, and evaluated in the same manner as in 1).

3) 내용제성 : 톨루엔과 아세톤을 이용하여 시료를 상온 30분간 침지시켜 1)과 마찬가지 방법으로 평가하였다.3) Solvent resistance: The sample was immersed for 30 minutes at room temperature using toluene and acetone and evaluated in the same manner as in 1).

4) 연필 경도 : 동박상의 경화막을, JISK5400 연필 스크래치 시험법에 의해 평가하였다. 이 측정치로 경화막의 감광성의 양부를 판단하였다.4) Pencil hardness: The copper foil-shaped cured film was evaluated by the JISK5400 pencil scratch test method. The measured value of the photosensitive property of the cured film was judged by this measured value.

≥H : O ≥B : △ F < : ×≥H: O ≥B: △ F <: ×

5) 에멀젼 입경 : 컬터 모델 N4SD(COULTER ELECTRONICS, INC 제품)를 이용하여 에멀젼 입경을 측정하였다.5) Emulsion particle size: Emulsion particle size was measured using Culter Model N4SD (product of COULTER ELECTRONICS, INC).

6) 전기 절연 저항 : 동박을 에칭하여 만든 IPC 패턴상에 상기 방법에 의해 경화막을 형성하고, JIS C0022 고온 고습 시험법에 의해, 50℃ 및 85% RH에서 160시간 처리하고, 고저항 측정기(HIGH RESISTANCE METER; 요코가와·휴렛·팩커드(주) 제품)를 이용하여 500 V로 1분간 인가한 후의 절연 저항을 측정하였다.6) Electrical insulation resistance: A cured film is formed on the IPC pattern made by etching copper foil by the above method, and it is processed by 50 degreeC and 85% RH for 160 hours by JIS C0022 high temperature and high humidity test method, and high resistance measuring instrument (HIGH The insulation resistance after applying for 1 minute at 500 V using RESISTANCE METER (manufactured by Yokogawa Hewlett Packard Co., Ltd.) was measured.

실시예 1Example 1

교반기, 질소 도입관, 온도계, 환류 냉각관을 부착한 1리터 반응기에 이온교환수 440 g, 황산 동 0.24 mg, α-케토카르복실산염형 계면 활성제 22 g을 넣어 교반한 후, 28% 암모니아 수용액으로 PH를 3.5로 조정하였다. 이어서, 메틸메타크릴레이트 28.8 g, 부틸아크릴레이트 12.3 g과 티오황산나트륨 0.4 g을 더하여 질소 가스를 통하면서 30℃에서 교반, 혼합하였다. 이어서 5% 과황산암모늄 수용액 14 g을 첨가함으로써 중합을 개시시켰다. 중합에 의한 발열이 개시된 단계에서 메틸메타크릴레이트 131 g, 부틸아크릴레이트 56.1 g의 혼합액을 2시간 적하하였다. 이 때, 온도가 60℃를 넘지 않도록 적하 속도를 조정하였다. 적하 종료 후, 60℃에서 3시간 보온하여 평균 입경 90 nm의 에멀젼 입자를 얻었다.Into a 1 liter reactor equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, 440 g of ion-exchanged water, 0.24 mg of copper sulfate, and 22 g of an α-ketocarboxylate-type surfactant were stirred, followed by a 28% aqueous ammonia solution. PH was adjusted to 3.5. Subsequently, 28.8 g of methyl methacrylate, 12.3 g of butyl acrylate, and 0.4 g of sodium thiosulfate were added, and the mixture was stirred and mixed at 30 ° C. through nitrogen gas. The polymerization was then initiated by adding 14 g of 5% aqueous ammonium persulfate solution. In the step where exothermic by polymerization was initiated, a mixed solution of 131 g of methyl methacrylate and 56.1 g of butyl acrylate was added dropwise for 2 hours. At this time, the dropping rate was adjusted so that the temperature would not exceed 60 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was kept at 60 ° C for 3 hours to obtain emulsion particles having an average particle diameter of 90 nm.

다음에, 얻어진 에멀젼에 이온 교환수를 963.8 g을 첨가하여 농도를 15%로 조정한 후, 40℃까지 냉각하였다. 이 15% 농도의 에멀젼에 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 PE-4A(교에이샤 카가쿠(주) 제품) 50 g, 광 개시제 달큐어 1173(메르크(주) 제품) 1.5 g, α-케토카르복실산염형 계면 활성제 0.1 g 및 이온 교환수 91.2 g을 균질화기(Homogenizer; JANKE & KUNKEL(주) 제품)로 유화(10000 rpm, 5분)시킨 분산액을 첨가하고, 실온에서 5시간 교반함으로써 평균 입경 95 nm의 광 가변성 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.Next, 963.8 g of ion-exchanged water was added to the obtained emulsion to adjust the concentration to 15%, and then cooled to 40 ° C. 50 g of pentaerythritol tetraacrylate PE-4A (manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.), 1.5 g of photoinitiator Dalcure 1173 (Merck Co., Ltd.), α-ketocarboxyl in this 15% concentration emulsion 0.1 g of an acidic surfactant and 91.2 g of ion-exchanged water were added to a dispersion obtained by emulsifying (10000 rpm, 5 minutes) with a homogenizer (manufactured by Homogenizer; manufactured by JANKE & KUNKEL Co., Ltd.), and stirred at room temperature for 5 hours to obtain an average particle diameter of 95 The photocurable composition containing nm photovariable surfactant was obtained.

실시예 2Example 2

실시예 1에서 사용한 광 가변성 계면 활성제 대신에, 광 가변성 계면 활성제로서 디아조 설폰산염형 계면 활성제를 사용한 것 이외에는 모두 같은 방법으로 평균 입경 95 nm의 광 가변성 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.A photocurable composition containing a photovariable surfactant having an average particle diameter of 95 nm was obtained in the same manner except that a diazo sulfonate type surfactant was used as the photovariable surfactant instead of the photovariable surfactant used in Example 1.

실시예 3Example 3

실시예 1에서 사용한 광 가변성 계면 활성제 대신에, 페닐초산염형 계면 활성제를 사용한 것 이외에는 모두 같은 방법으로 평균 입경 97 nm의 광 가변성 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.A photocurable composition containing an optically variable surfactant having an average particle diameter of 97 nm was obtained in the same manner except that the phenylacetic acid type surfactant was used instead of the optically variable surfactant used in Example 1.

실시예 4Example 4

실시예 1에서 사용한 광 가변성 계면 활성제 대신에, 활성 에너지선의 조사에 의해서 산 발생제를 통해 분해하는 산 분해형 계면 활성제로서, 특수한 소수기와 산화 에틸렌 쇄의 친수기로 이루어지는 계면 활성제 TRITON SP(유니온·카바이드 일본(주) 제품)를 이용한 것 이외에는 모두 같은 방법으로 평균 입경 97 nm의 산 분해형 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.Instead of the photovariable surfactant used in Example 1, an acid-decomposable surfactant that decomposes through an acid generator by irradiation with an active energy ray, and a surfactant TRITON SP (union carbide composed of a special hydrophobic group and a hydrophilic group of ethylene oxide chain) A photocurable composition containing an acid-decomposable surfactant having an average particle diameter of 97 nm was obtained in the same manner except that the product was manufactured by Japan Co., Ltd.).

실시예 5Example 5

실시예 4에서 사용한 산 분해형 계면 활성제 대신에, 활성 에너지선의 조사에 의해서 염기성 발생제를 통해 분해하는 염기성 분해형 계면 활성제로서, 아세탈형 비스(암모늄 브로마이드)계의 계면 활성제를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 마찬가지 방법으로 평균 입경 100 nm의 염기성 분해형 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.Instead of the acid-decomposable surfactant used in Example 4, as a basic decomposable surfactant that decomposes through a basic generator by irradiation with an active energy ray, except that an acetal bis (ammonium bromide) -based surfactant is used. In the same manner as in Example 1, a photocurable composition containing a basic decomposition surfactant having an average particle diameter of 100 nm was obtained.

실시예 6Example 6

다음에, 열 가변성 계면 활성제로서, 암모늄염형 계면 활성제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지 방법으로 평균 입경 95 nm의 열 가변성 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.Next, a photocurable composition containing a thermally variable surfactant having an average particle diameter of 95 nm was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ammonium salt type surfactant was used as the thermally variable surfactant.

실시예 7Example 7

또, 열 가변성 계면 활성제로서, 설포늄염형 계면 활성제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지 방법으로 평균 입경 95 nm의 열 가변성 계면 활성제를 함유하는 광 경화성 조성물을 얻었다.Moreover, the photocurable composition containing the thermally variable surfactant of 95 nm of average particle diameters was obtained by the method similar to Example 1 except having used sulfonium salt type surfactant as a thermally variable surfactant.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에서 사용한 가변성 계면 활성제 대신에, 유화제로서 통상 사용되는 라우릴 벤젠 설폰산나트륨을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지 방법으로 평균 입경 80 nm의 광 경화성 조성물을 얻었다.A photocurable composition having an average particle diameter of 80 nm was obtained in the same manner as in Example 1 except that instead of the variable surfactant used in Example 1, sodium lauryl benzene sulfonate usually used as an emulsifier was used.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1에서 사용한 가변성 계면 활성제 대신에, 유화제로서 통상 사용되는 라우릴황산나트륨을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지 방법으로 평균 입경 85 nm의 광 경화성 조성물을 얻었다.A photocurable composition having an average particle diameter of 85 nm was obtained in the same manner as in Example 1, except that sodium lauryl sulfate commonly used as an emulsifier was used instead of the variable surfactant used in Example 1.

실시예 1∼ 7 및 비교예 1∼2에 의해서 얻어진 에멀젼 조성물을, 각각 건조 처리 후의 두께가 10 g/m2가 되도록 1OZ의 폴리이미드 필름 동 피복 적층판에 도공하였다. 그리고, 80℃에서 20분간 건조시키고, 3 KW 고압 수은등을 이용하여 500 mj/cm2의 조도로 광 경화시킨 다음, 얻어진 광 경화막을 150℃에서 30분간 열 처리하여 경화막을 얻었다. 이들의 경화막을 평가 항목에 따라 평가하였다. 또, 상기 절연 저항의 측정은, 미리 폴리이미드 필름 동 피복 적층판을 이용하여 IPC 평가 패턴으로 에칭 가공된 배선 패턴을 사용하여 도공·경화시켜서 얻은 것을 사용하여 평가하였다. 그 평가 결과, 실시예 1∼7, 비교예 1∼2의 결과를 표 1에 나타낸다.The emulsion compositions obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were respectively coated on a 10Z polyimide film copper clad laminate so that the thickness after the drying treatment was 10 g / m 2 . Then, the resultant was dried at 80 ° C. for 20 minutes, photocured at a roughness of 500 mj / cm 2 using a 3 KW high pressure mercury lamp, and then the obtained photocured film was heat treated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a cured film. These cured films were evaluated according to the evaluation items. In addition, the measurement of the said insulation resistance was evaluated using what obtained by coating and hardening using the wiring pattern previously etched by the IPC evaluation pattern using the polyimide film copper clad laminated board. As a result of the evaluation, the results of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1.

분해성 계면활성제Degradable surfactants 통상유화제Emulsifier 내수성Water resistance 내산성Acid resistance 내용제성Solvent resistance 감광특성Photosensitive characteristics 절연저항Insulation Resistance 광분해성형Photolysis 열분해성형Pyrolysis Molding (내비수성)(Non-water resistant) 10% 염산10% hydrochloric acid 10% 황산10% sulfuric acid 톨루엔toluene 아세톤Acetone 연필경도Pencil hardness 초기Early 160시간후160 hours later 실시예 1Example 1 α-케토카르복실산염형α-ketocarboxylate type 2.00E+132.00E + 13 2.00E+132.00E + 13 실시예 2Example 2 디아조설폰산염형Diazosulfonic Acid Type 3.00E+133.00E + 13 2.00E+132.00E + 13 실시예 3Example 3 페닐초산염형Phenyl acetate type 2.00E+132.00E + 13 2.00E+132.00E + 13 실시예 4Example 4 TRITON SPTRITON SP 4.00E+134.00E + 13 2.00E+132.00E + 13 실시예 5Example 5 아세탈형비스(암모늄브로마이드)형Acetal type bis (ammonium bromide) type 2.00E+132.00E + 13 2.00E+132.00E + 13 실시예 6Example 6 암모늄염형Ammonium Salt Type 2.00E+142.00E + 14 8.00E+138.00E + 13 실시예 7Example 7 설폰늄염형Sulfonium salt type 2.00E+142.00E + 14 9.00E+139.00E + 13 비교예 1Comparative Example 1 라우릴벤젠설폰산나트륨Sodium laurylbenzenesulfonate ×× ×× ×× 2.00E+122.00E + 12 2.00E+102.00E + 10 비교예 2Comparative Example 2 라우릴황산나트륨Sodium Lauryl Sulfate ×× ×× ×× 2.00E+122.00E + 12 2.00E+102.00E + 10 표1 중 TRITON SP(상품명): 특수한 소수기와 산화에틸렌쇄의 친수성으로 이루어지는 음이온계 활성제TRITON SP (trade name) in Table 1: Anionic activator consisting of hydrophilic properties of special hydrophobic groups and ethylene oxide chains

이상, 표 l에서 분명한 바와 같이, 본 발명의 광 경화성 조성물 및 그 경화 방법으로 형성된 경화물은 내수성(내비수성), 내산성, 내용제성, 감광 특성, 접착성, 전기 절연성이 뛰어나고, 예컨대 도료, 인쇄 잉크, 표면 코트제, 포토레지스트, 접착제 등의 용도로 사용할 수 있어 이들이 산업계에 기여하는 바는 크다.As is apparent from Table 1, the photocurable composition of the present invention and the cured product formed by the curing method are excellent in water resistance (non-water resistance), acid resistance, solvent resistance, photosensitive properties, adhesiveness, and electrical insulation, such as paint, printing, and the like. It can be used for applications such as inks, surface coatings, photoresists, adhesives, etc., which contributes to the industry.

Claims (4)

반응성 모노머 및/또는 반응성 프리폴리머, 광 개시제, 에멀젼 입자 및 유화제를 함유하는 광 경화성 조성물에 있어서, 유화제로서 가변성 계면 활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물.A photocurable composition containing a reactive monomer and / or a reactive prepolymer, a photoinitiator, emulsion particles, and an emulsifier, wherein the photocurable composition contains a variable surfactant as an emulsifier. 제1항에 있어서, 에멀젼 입자가 비닐모노머 및 유화제를 반응시켜 얻은 고분자 에멀젼이고, 유화제로서 가변성 계면 활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the emulsion particles are polymer emulsions obtained by reacting a vinyl monomer and an emulsifier, and contain a variable surfactant as an emulsifier. 제1항 또는 제2항에 있어서, 가변성 계면 활성제가 열 가변성 및/또는 광 가변성 계면 활성제인 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1 or 2, wherein the variable surfactant is a heat variable and / or light variable surfactant. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 의한 광 경화성 조성물을 이용하여 도공한 후, 열 처리 및/또는 활성 에너지선을 조사 처리하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 조성물의 경화 방법.After coating using the photocurable composition in any one of Claims 1-3, heat processing and / or active energy ray irradiation process, The hardening method of the photocurable composition characterized by the above-mentioned.
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