KR20020028374A - method for fabricating In plain switching and the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An IPS(In Plane Switching) LCD(Liquid Crystal Display) device and a method for fabricating the same are provided to employ a transparent material of conductive metal at a back side of an array panel for IPS LCD devices, to radiate static electricity locally generated in a lower panel to an external, so that a spot is not generated upon panel driving. CONSTITUTION: An upper substrate(A) in which a first back electrode that is a transparent conductive metal is formed on one part of a transparent first substrate. A lower substrate(B) in which a switching element, a pixel electrode and a common electrode are formed in one part of a transparent second substrate, and a second back electrode(155) that is a transparent conductive metal is formed in the other part of the transparent second substrate. A liquid crystal is interposed between the upper and lower substrates(A,B). An upper polarizer(131) is formed in an upper part of the first back electrode. A lower polarizer(135) is formed on a lower part of the second back electrode(155). And a light distribution device is formed in a lower part of the lower polarizer(135).

Description

횡전계방식 액정표시장치와 그 제조방법{method for fabricating In plain switching and the same}Transverse electric field type liquid crystal display device and its manufacturing method {method for fabricating In plain switching and the same}

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 하부기판의 배면에 정전기 방지를 위한 도전체를 가지는 횡전계방식 액정표시장치의 구조와 제조 방법에 관한것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a structure and a manufacturing method of a transverse electric field type liquid crystal display device having a conductor for preventing static electricity on the rear surface of the lower substrate.

일반적으로, 액정표시장치는 상부기판과 하부기판을 합착하고, 합착된 상부기판과 하부기판 사이에 액정을 주입하여 형성한다.In general, a liquid crystal display device is formed by bonding an upper substrate and a lower substrate, and injecting a liquid crystal between the bonded upper substrate and the lower substrate.

그리고, 상기 상부기판과 하부기판의 바깥 면에는 편광판(polarizer)과 위상차판(retardation film) 등을 부착한다. 이러한 다수의 구성요소를 선택적으로 구성함으로써 빛의 진행상태를 바꾸거나 굴절률을 변화시켜 높은 휘도(brightness)와 콘트라스트(contrast)특성을 가지는 액정표시장치가 구성된다.A polarizer, a retardation film, and the like are attached to outer surfaces of the upper and lower substrates. By selectively configuring such a plurality of components, a liquid crystal display device having high brightness and contrast characteristics by changing a light propagation state or a refractive index is configured.

액정표시장치로서 근래에 사용되는 액정은 통상 트위스트 네마틱액정(twist nematic LC)을 채택하고 있으며, 상기 트위스트 네마틱액정은 시야각에 따라서 계조표시에서의 광투과율이 달라지는 특성을 보유하므로 그 대면적화에 제한이 있다.Liquid crystals used in recent years as a liquid crystal display generally adopt a twist nematic LC, and the twisted nematic liquid crystal has a property that the light transmittance in gradation display varies depending on the viewing angle. There is a limit.

상기 트위스트 네마틱액정을 포함한 액정셀은 좌우방향의 시야각에 광투과율이 넓은 범위에서 대칭적으로 분포하지만, 상/하 방향에서는 광투과율이 비대칭적으로 분포하기 때문에 상/하 방향에서는 이미지가 반전되는 범위가 발생하여 시야각이 좁아지는 문제가 있었다.The liquid crystal cell including the twisted nematic liquid crystal is symmetrically distributed in a wide range of light transmittance at the viewing angle in the left and right directions, but because the light transmittance is distributed asymmetrically in the up and down directions, the image is reversed in the up and down directions. There was a problem that a range occurs and the viewing angle is narrowed.

이에 반에, 평행한 전기장을 이용하는 횡전계 방식 모드(in plane switching : 이하 "IPS 모드"라 칭함)는 종래의 상기 트위스트네마틱 액정 모드에 비해 콘트라스트(contrast), 그레이인버젼(gray inversion), 컬러시프트(color shift) 등의 시야각 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.On the contrary, the transverse electric field mode (hereinafter referred to as "IPS mode") using a parallel electric field is contrast, gray inversion, compared to the conventional twisted nematic liquid crystal mode. There is an advantage that can improve the viewing angle characteristics such as color shift (color shift).

이하 도 1을 참조하여 횡전계방식 액정표시장치용 어레이기판의 개략적인 구성을 설명한다.Hereinafter, a schematic configuration of an array substrate for a transverse electric field type liquid crystal display device will be described with reference to FIG. 1.

도시한 바와 같이, 어레이기판은 기판 상에 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 교차하여 형성되며, 특히 IPS모드는 상기 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 교차하여 정의되는 화소영역(P)상에 화소전극(17)과 공통전극(19)이 동일 평면 상에 형성되는 형태이며, 액정(21)은 동일기판 상에 구성된 화소전극(17)과 공통전극(19)의 수평전계(23)에 의해 동작한다.As shown, the array substrate is formed by crossing the gate wiring 13 and the data wiring 15 on the substrate. In particular, in the IPS mode, a pixel in which the gate wiring 13 and the data wiring 15 cross each other is defined. The pixel electrode 17 and the common electrode 19 are formed on the same plane in the region P. The liquid crystal 21 is horizontal of the pixel electrode 17 and the common electrode 19 formed on the same substrate. It is operated by the electric field 23.

이때, 상기 공통전극(19)과 화소전극(17) 사이에 위치한 액정(21)은 상기 공통전극(19)과 화소전극(17) 사이에 분포하는 수평전계(23)에 의해 동일한 방향으로 배열되어 하나의 도메인을 이루며, 횡전계방식에서는 단일 화소영역에 다수의 멀티도메인을 구성할 수 있으므로 보다 넓은 시야각을 가지는 액정표시장치의 제작이 가능하다.In this case, the liquid crystal 21 positioned between the common electrode 19 and the pixel electrode 17 is arranged in the same direction by a horizontal electric field 23 distributed between the common electrode 19 and the pixel electrode 17. In the transverse electric field method, a plurality of multi-domains can be configured in a single pixel area, and thus a liquid crystal display having a wider viewing angle can be manufactured.

도 2는 전술한 바와 같은 구조를 포함하는 어레이기판인 하부기판과 상부기판이 합착되어 완성된 횡전계방식 액정표시장치의 개략적인 단면도이다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a transverse electric field type liquid crystal display device in which a lower substrate and an upper substrate, which are array substrates having the above-described structure, are bonded to each other.

도시한 바와 같이, 횡전계방식 액정표시장치는 상부기판(29)과 전술한 어레이기판(33)이 합착되어 형성되며, 상기 상부기판(29)의 배면에는 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide)와 같은 투명한 도전성 금속층을 증착하여 배면전극(27)을 형성하며, 상기 배면전극의 상부에는 상부 평관판(31)을 구성한다.As shown, the transverse electric field type liquid crystal display device is formed by bonding the upper substrate 29 and the above-described array substrate 33 to each other, and an indium-tin-oxide is formed on the rear surface of the upper substrate 29. The back electrode 27 is formed by depositing a transparent conductive metal layer such as oxide), and an upper flat plate 31 is formed on the back electrode.

상기 상부편광판(31)에 대응되는 상기 하부기판(33)의 하부에는 하부 편광판(35)을 구성한다.A lower polarizing plate 35 is formed under the lower substrate 33 corresponding to the upper polarizing plate 31.

상기 하부 편광판(35)의 하부에는 배면광원인 백라이트(back light)(37)가 위치하며, 상기 백라이트(37)에는 빛을 하부기판의 전면으로 통과하도록 하기 위해확산시트와 프리즘 시트 등의 다수의 필름(39)이 구성된다.A backlight (back light) 37, which is a back light source, is positioned below the lower polarizer 35, and the backlight 37 includes a plurality of diffusion sheets, a prism sheet, and the like to pass light to the front of the lower substrate. The film 39 is constructed.

상기 배면전극(27)은 외부로부터 인가되는 정전기를 차단하는 역할을 한다.The back electrode 27 serves to block static electricity applied from the outside.

상세히 설명하면, 상기 액정패널이 외부의 대전된 물체에 접촉할 경우, 상기 상부기판(29)의 대전으로 상기 상부기판(29)의 하부에 위치하는 액정분자(21)의 배열상태에 영향을 미치게 된다.In detail, when the liquid crystal panel contacts an externally charged object, charging of the upper substrate 29 may affect the arrangement state of the liquid crystal molecules 21 positioned below the upper substrate 29. do.

상기 액정을 투과하는 빛의 투과량이 데이터전압으로 제어되지 못하게 되어 화질을 약화시키는 요인으로 작용한다.The amount of light passing through the liquid crystal is not controlled by the data voltage, which serves to deteriorate the image quality.

그러므로, 정전기에 의한 화질의 감소를 방지하기 위해 상기 상부기판(29)의 배면에 배면전극(27)을 형성하는 것이다.Therefore, the rear electrode 27 is formed on the rear surface of the upper substrate 29 to prevent the reduction of the image quality due to static electricity.

이러한 구성은 상기 상부기판(29)에서 발생하는 정전기는 어느 정도 방지할 수 있으나, 하부기판(33)의 경우에는 이후 공정인 모듈공정 진행 및 진동충격 시 상기 백라이트 필름(39)과 편광판(35) 사이에 발생하는 정전기는 방지 할수 없다.In this configuration, the static electricity generated in the upper substrate 29 may be prevented to some extent, but in the case of the lower substrate 33, the backlight film 39 and the polarizing plate 35 may be subjected to a subsequent module process and vibration shock. Static electricity generated in between can not be prevented.

결과적으로, 상기 백라이트에 구성되는 필름(39)과 상기 액정패널간의 접촉부위에 발생하는 정전기에 의해 패널구동 시 검은 얼룩 또는 흰 얼룩이 발생하는 문제가 있다.As a result, there is a problem that black spots or white spots are generated when the panel is driven by the static electricity generated at the contact portion between the film 39 and the liquid crystal panel.

또한, 검은 얼룩 또는 흰 얼룩이 나타나는 것을 방지하기 위한 인위적인 정전기 제거 공정은 오랜 시간이 걸리기 때문에 TAT증가 및 패널 및 백라이트의 외부노출시간의 증가로 이물 노출불량이 증가하는 문제점이 있다.In addition, the artificial static elimination process to prevent the appearance of black stains or white stains takes a long time, there is a problem that the foreign material exposure defects increase due to the increase in the TAT and the increase in the external exposure time of the panel and the backlight.

따라서, 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 횡전계방식 액정표시장치용 어레이기판의 배면에 투명한 재질의 도전성 금속을 구성하여, 상기 하부기판에 국소적으로 발생하는 정전기를 외부로 방출하도록 하여, 패널구동 시 얼룩이 발생하지 않는 횡전계 방식 액정표시장치를 제작하는데 그 목적이 있다.Therefore, in order to solve the above problems, the present invention constitutes a conductive metal of a transparent material on the rear surface of the array substrate for a transverse electric field type liquid crystal display device, thereby releasing static electricity generated locally on the lower substrate to the outside. The purpose of the present invention is to manufacture a transverse electric field type liquid crystal display device which does not generate spots when driving a panel.

도 1은 횡전계방식 액정표시장치용 어레이기판의 일부평면도이고,1 is a partial plan view of an array substrate for a transverse electric field type liquid crystal display device,

도 2는 종래의 횡전계방식 액정표시장치의 개략적인 단면도이고,2 is a schematic cross-sectional view of a conventional transverse electric field type liquid crystal display device;

도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 제작공정을 도시한 단면도이다.3A to 3C are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

131 : 상부 편광판 135 : 하부 편광판131: upper polarizer 135: lower polarizer

153 : 접착제(sealant) 155 : 제 2 배면전극153: adhesive 155: second back electrode

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 횡전계방식 액정표시장치는 투명한 제 1 기판의 일면에 투명 도전성 금속인 제 1 배면전극이 구성된 상부기판과; 투명한 제 2 기판의 일면에 스위칭 소자와, 화소전극과 공통전극이 구성되고, 타면에는 투명 도전성금속인 제 2 배면전극이 구성된 하부기판과; 상기 상부기판과 하부기판 사이에 위치한 액정과; 상기 제 1 배면전극의 상부에 구성된 상부 편광판과; 상기 제 2 배면전극의 하부에 구성된 하부 편광판과; 상기 하부 편광판의 하부에 구성된 배광장치를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a transverse electric field type liquid crystal display device comprising: an upper substrate having a first back electrode formed of a transparent conductive metal on one surface of a transparent first substrate; A lower substrate having a switching element, a pixel electrode and a common electrode formed on one surface of the second transparent substrate, and a second back electrode formed of a transparent conductive metal on the other surface thereof; A liquid crystal located between the upper substrate and the lower substrate; An upper polarizing plate formed on the first rear electrode; A lower polarizing plate formed under the second back electrode; It includes a light distribution device configured under the lower polarizing plate.

상기 제 1 배면전극과 제 2 배면 전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나로 형성한다.The first back electrode and the second back electrode are formed of one selected from a transparent conductive metal group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

상기 스위칭소자는 게이트전극과 소스전극 및 드레인 전극과 액티브층으로 구성된 박막트랜지스터이다.The switching element is a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and an active layer.

본 발명의 특징에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법은 투명한 제 1기판의 일면에 투명 도전성 금속인 제 1 배면전극을 위치하여 상부기판을 형성하는 단계와; 투명한 제 2 기판의 일면에 스위칭 소자와, 화소전극과 공통전극을 위치하여 하부 어레이기판을 형성하는 단계와; 상기 상부기판과 하부기판을 합착하여 액정패널을 형성하는 단계와; 상기 액정패널의 하부면에 투명도전성 금속인 제 2 배면전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 배면전극의 상부에 상부 편광판과, 상기 제 2 배면전극의 하부에는 하부 편광판을 구성하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a transverse electric field liquid crystal display device, comprising: forming an upper substrate by placing a first back electrode of a transparent conductive metal on one surface of a transparent first substrate; Forming a lower array substrate by placing a switching element, a pixel electrode, and a common electrode on one surface of the transparent second substrate; Bonding the upper substrate and the lower substrate to form a liquid crystal panel; Forming a second back electrode of a transparent conductive metal on a lower surface of the liquid crystal panel; And forming an upper polarizing plate on an upper portion of the first rear electrode and a lower polarizing plate on a lower portion of the second rear electrode.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

-- 실시예 --Example

본 발명은 상기 횡전계방식 액정패널과 백라이트 필름간에 발생하는 정전기를 제거하기 위해, 상기 액정패널의 하부에 도전체를 구성하는 방법을 제안한다.The present invention proposes a method of forming a conductor in the lower portion of the liquid crystal panel to remove the static electricity generated between the transverse electric field type liquid crystal panel and the backlight film.

이하, 도 3a 내지 3c를 참조하여 본 발명에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 제조공정을 설명한다.Hereinafter, a manufacturing process of the transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3A to 3C.

액정표시장치를 제작하기 위해서는 상부기판과 스위칭소자와 어레이배선이 형성되는 하부기판을 각각 제작해야 한다.In order to manufacture a liquid crystal display, an upper substrate, a lower substrate on which switching elements and array wiring are formed must be fabricated, respectively.

도 3a 내지 도 3c는 상부기판을 제작하는 공정을 도시한 개략적인 공정단면도이다.3A to 3C are schematic cross-sectional views illustrating a process of manufacturing the upper substrate.

먼저, 도 3a는 상부기판을 도시한 평면도로서, 투명한 기판(124) 상에 인듐-틴-옥사이드(Indium-tin-oxide : ITO)와 인듐-징크-옥사이드(Indium-zinc-oxide : IZO)로 구성된 투명도전성 금속그룹 중 선택된 하나를 증착하여 제 1배면전극(127)을 형성한다.First, FIG. 3A is a plan view illustrating an upper substrate, and includes indium-tin-oxide (ITO) and indium-zinc-oxide (IZO) on a transparent substrate 124. One selected from among the configured transparent conductive metal groups is deposited to form the first back electrode 127.

다음으로, 상기 제 1 배면 전극에 대응되는 위치인 상기 투명한 기판의 타면에 배향막(141)을 형성한다. 배향막을 형성하는 물질은 다양한 종류가 있으나, 일반적으로 폴리이미드(polyimid)계의 투명 고분자 물질을 사용한다.Next, an alignment layer 141 is formed on the other surface of the transparent substrate, which is a position corresponding to the first back electrode. There are various kinds of materials for forming the alignment layer, but generally a polyimide-based transparent polymer material is used.

이와 같은 공정으로 횡전계방식 액정표시장치의 제 1 기판인 상부기판(A)을 제작한다. 만약 컬러액정표시장치일 경우에는 상기 배향막(141)과 기판(124)사이에 블랙매트릭스(미도시)와, 상기 블랙매트릭스 사이에 적/녹/청을 나타내는 서브 컬러필터(미도시)를 포함하는 컬러필터를 구성하면 된다.In this manner, an upper substrate A which is the first substrate of the transverse electric field type liquid crystal display device is manufactured. If the color liquid crystal display device includes a black matrix (not shown) between the alignment layer 141 and the substrate 124 and a sub color filter (not shown) indicating red, green, and blue between the black matrix. It is enough to configure the color filter.

도 3b는 횡전계방식 액정표시장치의 제 2 기판인 하부기판을 도시한 단면도이다.3B is a cross-sectional view illustrating a lower substrate as a second substrate of the transverse electric field liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 투명한 기판(133)상에 횡전계를 유도하는 공통전극(119)과 화소전극(117)을 이격하여 형성하며, 상기 화소전극(117)과 연결된 스위칭소자(T)를 형성한다. 상기 스위칭 소자(T)는 게이트전극(143)과 소스전극(145) 및 드레인 전극(147)과 액티브채널(149)로 구성한다.As illustrated, the common electrode 119 and the pixel electrode 117 which induce a transverse electric field are spaced apart from each other on the transparent substrate 133, and the switching element T connected to the pixel electrode 117 is formed. . The switching element T includes a gate electrode 143, a source electrode 145, a drain electrode 147, and an active channel 149.

다음으로, 상기 화소전극(117)과 스위칭 소자(T)가 구성된 기판(133)의 전면에 배향막(151)을 형성한다.Next, an alignment layer 151 is formed on the entire surface of the substrate 133 on which the pixel electrode 117 and the switching element T are formed.

이와 같은 단계로 개략적인 하부기판(B)을 완성할 수 있다.In this step it is possible to complete the rough lower substrate (B).

도 3c는 상기 상부기판(A)과 하부기판(B)이 합착된 횡전계 방식 액정표시장치의 단면도이다.3C is a cross-sectional view of a transverse electric field type liquid crystal display device in which the upper substrate A and the lower substrate B are bonded to each other.

상기 상부기판과 하부기판(A)을 실런트(sealant)(153)에 의해 합착하는 합착공정이 끝나면, 상기 하부기판(B)의 배면에 전술한 바와 같은 투명도전성 금속을 증착하여 제 2 배면적극(155)을 형성한다.After the bonding process of bonding the upper substrate and the lower substrate (A) by the sealant (153), the transparent conductive metal as described above is deposited on the bottom of the lower substrate (B) to form a second rear positive electrode ( 155).

이때, 상기 제 2 배면적극(155)을 형성하기 위한 투명전극은 상온 또는 저온에서 증착하여 형성한다.At this time, the transparent electrode for forming the second back surface electrode 155 is formed by depositing at room temperature or low temperature.

다음으로, 상기 상부기판(A)의 상부와 하부기판(B)의 하부에 각각 상부 편광판(131)과 하부 편광판(135)을 부착한다.Next, the upper polarizer 131 and the lower polarizer 135 are attached to the upper part of the upper substrate A and the lower part of the lower substrate B, respectively.

도시한 바와 같이, 상기 하부 어레이기판(B)의 배면에 투명도전성 금속을 증착하여 제 2 배면전극(155)을 형성하게 되면, 하부 어레이기판(B)과 백라이트 필름(139)사이에 정전기가 발생하더라도 상기 제 2 배면전극(155)을 통해 정전기를 외부로 방출할 수 있다.As shown in the drawing, when the transparent conductive metal is deposited on the rear surface of the lower array substrate B to form the second rear electrode 155, static electricity is generated between the lower array substrate B and the backlight film 139. Even though the static electricity may be emitted to the outside through the second back electrode 155.

따라서, 본 발명에 따른 횡전계방식 액정표시장치는 액정패널을 제작한 후 연속한 공정인 모듈장착 공정이나 진동충격 시험 시 발생하는 정전기를 외부로 방출할 수 있으므로 화질이 개선되는 효과가 있다.Accordingly, the transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention has an effect of improving image quality since the static electricity generated during the module mounting process or the vibration shock test, which is a continuous process after the liquid crystal panel is manufactured, can be emitted to the outside.

또한, 하부기판에 발생하는 정전기를 제거하는 공정시간을 단축할 수 있으므로 제품의 수율을 개선하는 효과가 있다.In addition, since the process time for removing static electricity generated in the lower substrate can be shortened, there is an effect of improving the yield of the product.

Claims (6)

투명한 제 1 기판의 일면에 투명 도전성 금속인 제 1 배면전극이 구성된 상부기판과;An upper substrate having a first back electrode made of a transparent conductive metal on one surface of the first transparent substrate; 투명한 제 2 기판의 일면에 스위칭 소자와, 화소전극과 공통전극이 구성되고, 타면에는 투명 도전성금속인 제 2 배면전극이 구성된 하부기판과;A lower substrate having a switching element, a pixel electrode and a common electrode formed on one surface of the second transparent substrate, and a second back electrode formed of a transparent conductive metal on the other surface thereof; 상기 상부기판과 하부기판 사이에 위치한 액정과;A liquid crystal located between the upper substrate and the lower substrate; 상기 제 1 배면전극의 상부에 구성된 상부 편광판과;An upper polarizing plate formed on the first rear electrode; 상기 제 2 배면전극의 하부에 구성된 하부 편광판과;A lower polarizing plate formed under the second back electrode; 상기 하부 편광판의 하부에 구성된 배광장치Light distribution device configured under the lower polarizer 를 포함하는 횡전계 방식 액정표시장치.Transverse electric field type liquid crystal display device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 배면전극과 제 2 배면 전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나인 횡전계방식 액정표시장치.And the first back electrode and the second back electrode are selected from a group of transparent conductive metals consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위칭소자는 게이트전극과 소스전극 및 드레인 전극과 액티브층으로 구성된 박막트랜지스터인 횡전계방식 액정표시장치.And the switching element is a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and an active layer. 투명한 제 1 기판의 일면에 투명 도전성 금속인 제 1 배면전극을 위치하여 상부기판을 형성하는 단계와;Forming an upper substrate by placing a first back electrode of a transparent conductive metal on one surface of the transparent first substrate; 투명한 제 2 기판의 일면에 스위칭 소자와, 화소전극과 공통전극을 위치하여 하부 어레이기판을 형성하는 단계와;Forming a lower array substrate by placing a switching element, a pixel electrode, and a common electrode on one surface of the transparent second substrate; 상기 상부기판과 하부기판을 합착하여 액정패널을 형성하는 단계와;Bonding the upper substrate and the lower substrate to form a liquid crystal panel; 상기 액정패널의 하부면에 투명도전성 금속인 제 2 배면전극을 형성하는 단계와;Forming a second back electrode of a transparent conductive metal on a lower surface of the liquid crystal panel; 상기 제 1 배면전극의 상부에 상부 편광판과, 상기 제 2 배면전극의 하부에는 하부 편광판을 구성하는 단계를Configuring an upper polarizer on the first back electrode and a lower polarizer on the lower part of the second back electrode; 포함하는 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.Method for manufacturing a transverse electric field type liquid crystal display device comprising. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 1 배면전극과 제 2 배면전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나인 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.And the first back electrode and the second back electrode are selected from a group of transparent conductive metals consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO). 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 스위칭소자는 게이트전극과 소스전극 및 드레인전극과 액티브층으로 구성된 박막트랜지스터인 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.And the switching element is a thin film transistor comprising a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and an active layer.
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